CN106104311B - 光学组件、红外线照相机及光学组件的制造方法 - Google Patents
光学组件、红外线照相机及光学组件的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106104311B CN106104311B CN201580012797.XA CN201580012797A CN106104311B CN 106104311 B CN106104311 B CN 106104311B CN 201580012797 A CN201580012797 A CN 201580012797A CN 106104311 B CN106104311 B CN 106104311B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- optical module
- light
- reflection material
- antireflection film
- mentioned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 120
- 239000005387 chalcogenide glass Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims abstract description 11
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 38
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 31
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 12
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/32—Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
- C03C3/321—Chalcogenide glasses, e.g. containing S, Se, Te
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/20—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from infrared radiation only
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
- H04N5/33—Transforming infrared radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/119—Deposition methods from solutions or suspensions by printing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明提供一种硫属化物玻璃与防反射膜的密合性良好的光学组件、以及具备该光学组件的红外线照相机及其制造方法。在锗和硒的组成比为百分之60以上的硫属化物玻璃(2)上形成防反射材料(3A)。防反射材料(3A)相对于10.5μm的光的消光系数为0.01以下，且相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6以下。这种防反射材料(3A)以0.5μm以上且2.0μm以下的间距形成于硫属化物玻璃(2)的表面，从而形成有防反射膜(3)。与在硫属化物玻璃(2)的表面上均匀地涂敷有防反射材料(3A)的情况相比防反射膜(3)的密合性变高。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学组件、红外线照相机及光学组件的制造方法。
背景技术
关于硫属化物玻璃，与以往用作远红外线(波长为8μm至14μm)透镜的 材料的锗晶体、硒化锌等相比价格低廉，并且通过模具成型，能够容易地加工 成所要求的光学要件的形状，为适合的光学部件材料。然而，硫属化物玻璃的 折射率在远红外线中为2.5至2.6，因此表面反射较多，透射率停留在60％左 右。因此，只是将硫属化物玻璃的表面形状加工成透镜等的形状很难获得充分 的摄影光量。因此，为了抑制因表面反射而引起的光量损失而在由红外线用硝 材构成的光学要件的表面设有防反射膜(专利文献1)。
并且，红外线透射光学元件中，也有为了抑制擦伤而使表面强度提高的光 学元件(专利文献2)。另外，也有将来自光波导的光有效地射出的光学元件 (专利文献3)。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-221048号公报
专利文献2：日本特开昭64-56401号公报
专利文献3：日本特开2003-215305号公报
发明的概要
发明要解决的技术课题
当前主流的防反射膜为将半导体与氧化物组合而成的多层膜、类金刚石碳 膜等，但均利用真空工艺来形成。因此，在以往的防反射膜中有时会产生如下 问题，即因较大的膜应力而使光学部件与防反射膜的密合性降低，产生膜剥离。
本发明的目的在于提供一种防反射膜的密合性良好的光学组件、红外线照 相机及光学组件的制造方法。
用于解决技术课题的手段
基于第1发明的光学组件的特征在于，具备：硫属化物玻璃，锗和硒的含 有率(组成比)为百分之60以上；以及防反射膜，相对于10.5μm的波长的 光的消光系数为0.01以下，且包含类金刚石碳粒子或碳粒子，相对于10.5μm 的波长的光的折射率大于1且为2.6以下的防反射材料以0.5μm以上且2.0μ m以下的固定的间距沿着硫属化物玻璃的表面在该表面形成多个，多个防反射 材料的大小以及形状相同，在多个防反射材料之间形成空气层，通过防反射材 料和空气层，由防反射材料在防反射膜的单位面积中所占的面积比决定的相对 于10.5μm的波长的光的等效折射率为1.4以上且1.9以下。
优选防反射材料在与硫属化物玻璃的表面平行的面内为矩形。
优选防反射材料相对于10.5μm的波长的光的折射率为2.6。等效折射率 以防反射材料在防反射膜的单位面积中所占的面积比来确定。若将防反射材料 的折射率设为n1，将防反射材料的体积设为V1，将空气的折射率设为n2(n2＝ 1)，将空气的体积设为V2，则防反射膜的等效折射率n为n＝n1×[V1/(V1+V 2)]+n2×[V2/(V1+V2)]。另外，若将防反射膜的单位面积设为S，将单位面 积S中的防反射材料的面积设为S1，将单位面积S中的空气的面积设为S2， 则n＝n1×(S1/S)+(S2/S)。
优选防反射膜中含有的类金刚石碳粒子或碳粒子的平均粒径为0.3μm。
也可以提供一种具备一个或多个光学组件的红外线照相机。
第2发明的光学组件的制造方法中，将包含类金刚石碳粒子或碳粒子、相 对于10.5μm的波长的光的消光系数为0.01以下，且相对于10.5μm的波长 的光的折射率大于1且为2.6以下，并具有紫外线固化特性或通过特定的波长 的光进行固化的特性的防反射材料以0.5μm以上且2.0μm以下的固定的间距， 沿着锗和硒的含有率(组成比)为百分之60以上的硫属化物玻璃基材的表面 在该表面涂敷多次，对经涂敷的防反射材料照射紫外线或特定波长的光，形成 由防反射膜的单位面积所占的防反射材料的面积比决定的相对于10.5μm的波 长的光的等效折射率为1.4以上且1.9以下的单一层的防反射膜。
基于第3发明的光学组件的制造方法中，将相对于10.5μm的波长的光的 消光系数为0.01以下，且相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6 以下，并具有紫外线固化特性或通过特定的波长的光进行固化的特性的防反射 材料涂敷于锗和硒的含有率(组成比)为百分之60以上的硫属化物玻璃基材 的表面，对经涂敷的防反射材料照射紫外线或特定波长的光而固化，通过以0. 5μm以上且2.0μm以下的间距留有固化的防反射材料并去除防反射材料而形 成防反射膜，或者通过在固化的防反射材料上形成最大宽度为0.5μm以上且2. 0μm以下的孔而形成防反射膜。
发明效果
根据第1发明，由于使用相对于10.5μm的波长的光的消光系数为0.01 以下的防反射材料，因此能够透射红外线。并且，由于使用相对于10.5μm的 波长的光的折射率大于空气的折射率1，且硫属化物玻璃的折射率为2.6以下 的防反射材料，因此作为防反射膜发挥作用。而且，这种防反射材料以0.5μm 以上且2.0μm以下的间距形成于硫属化物玻璃的表面，或者防反射材料形成 于硫属化物玻璃的表面，且在防反射材料上形成有最大宽度为0.5μm以上且2. 0μm以下的孔，因此与在硫属化物玻璃的表面上均匀地涂敷有防反射材料的情 况相比防反射膜的密合性变高。
根据第2发明，能够制造防反射膜的密合性较高的光学组件。
在第3发明中，也能够制造防反射膜的密合性较高的光学组件。
附图说明
图1是光学组件的立体图。
图2是光学组件的俯视图。
图3是光学组件的侧视图。
图4(a)～图4(c)是表示光学组件的制造工序的图。
图5(a)～图5(d)是表示光学组件的制造工序的图。
图6是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图7是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图8是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图9是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图10是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图11是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图12是表示光学组件的反射率特性的曲线图。
图13是表示光学组件的反射率特性的表。
图14是光学组件的立体图。
图15是光学组件的俯视图。
图16是从XV-XV线观察光学组件时的剖视图。
图17是光学组件的俯视图。
图18是光学组件的俯视图。
图19是红外线照相机的立体图。
图20是红外线照相机的立体图。
具体实施方式
图1至图3是表示本发明的第1实施方式的图，且表示光学组件(透镜) 1的一部分。图1是光学组件1的立体图，图2是光学组件1的俯视图，图3 是光学组件1的侧视图。
光学组件1中，包含锗和硒的含有率(组成比)为百分之60以上的硫属 化物玻璃2。该硫属化物玻璃2的表面上，以0.5μm以上且2.0μm以下的间 距w形成有相对于10.5μm的波长的光的消光系数为0.01以下，且相对于10. 5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6以下的防反射材料3A(一边为aμm 的矩形)。这些多个防反射材料3A与在防反射材料3A之间形成的空气层3B 成为防反射膜3。这些防反射材料3A中，优选含有类金刚石碳或碳。而且，在 防反射材料3A中也可以含有Al2O3、Bi、Gd2O3、SiON、Ta2O5、ZnO2、ZnSe、ZnS 等。
将防反射膜3的等效折射率设为n时，优选防反射膜3(防反射材料3A) 的厚度d[μm]为8/4n以上且14/4n以下，以使在8μm至14μm的波长获得防 反射功能。
在将防反射膜的单位面积设为10μm×10μm，防反射材料3A的折射率n1 为2.6，防反射膜3的每单位面积的防反射材料3A的面积比为0.3的情况下， 上述防反射膜3的等效折射率n＝1×0.7+2.6×0.3＝1.48。因此，优选防反射膜 3的厚度d[μm]为8/(4×1.48)＝1.35[μm]以上、14/(4×1.48)＝2.36[μm] 以下。另外，如上所述，等效折射率以防反射材料在防反射膜的单位面积中所 占的面积比来确定。防反射膜3的每单位面积的防反射材料3A的面积比通过 防反射材料3A的一边的长度a及防反射材料3A的间距w来确定。即，防反射材料3A的一边的长度a及间距w根据所期望的等效折射率来确定。
防反射膜3的等效折射率优选为1.4以上且1.9以下，但更优选为1.5以 上且1.8以下。
图4(a)～图4(c)是将光学组件1的第1制造工序按照以空心箭头所 示的时序列的顺序表示的图。
硫属化物玻璃(硫属化物玻璃基材)2装载于喷墨涂敷装置的高精确度平 台(图示省略)上。硫属化物玻璃2中锗和硒的含有率(组成比)为百分之60 以上。如图4(a)所示，硫属化物玻璃2通过电脑控制沿图中黑色箭头所示的 方向精密地移动，并且作为防反射材料3A的原料的紫外线固化树脂4从喷墨 喷嘴11以呈点状的方式以一定间距滴加到硫属化物玻璃2的表面上。第1制 造方法中，紫外线固化树脂4以0.5μm以上且2.0μm以下的间距被滴加到硫 属化物玻璃基材的表面上。关于紫外线固化树脂4，相对于10.5μm的波长的 光的消光系数为0.01以下，且相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且 为2.6以下，并具有通过紫外线进行固化的特性。紫外线固化树脂4例如为在 具有透射10.5μm的波长的光的特性的烯烃系紫外线固化树脂中含有类金刚石 碳或碳的树脂。
接着，如图4(b)及图4(c)所示，以一定间距滴加的紫外线固化树脂4 通过从紫外线照射用喷嘴12照射的紫外线而瞬间固化。由此，紫外线固化树 脂4固化，成为防反射材料3A。同样地，通过在硫属化物玻璃2的表面上的所 期望的范围内形成防反射材料3A，可形成防反射膜3。紫外线固化树脂4的滴 加及固化可以只进行1次，也可以分为多次进行。本实施方式中，通过滴加3 次来形成防反射材料3A。更具体而言，当将紫外线固化树脂4的滴加及基于紫 外线照射的固化设为1次的情况下，将对相同地点的紫外线固化树脂4的滴加 及基于紫外线照射的固化共进行3次，以形成防反射材料3A。在该防反射膜3 的形成中，当然可规定防反射材料3A的厚度d[μm]以成为上述优选的厚度。
另外，上述实施方式中，作为防反射材料使用了紫外线固化树脂，但也可 以将通过特定波长的光进行固化的光固化树脂涂敷于硫属化物玻璃2的表面上， 并照射特定波长的光而使光固化树脂固化，以形成防反射膜。并且，防反射材 料并不限于光固化树脂，也可以使用其他的能量固化型树脂。例如，可以使用 热固化型树脂。
图5(a)～图5(d)是将光学组件1的第2制造工序按照以空心箭头所 示的时序列的顺序表示的图。
如图5(a)所示，硫属化物玻璃2沿图中黑色箭头所示的方向移动，并且 通过喷墨喷嘴11滴加有紫外线固化树脂4，将紫外线固化树脂4涂敷于硫属化 物玻璃2的整个表面。如图5(b)所示，硫属化物玻璃2移动，并且被涂敷的 紫外线固化树脂4通过从紫外线照射用喷嘴12照射的紫外线而瞬间固化。如 此，形成紫外线固化树脂4固化而成的涂敷层5。第2制造方法中，关于紫外 线固化树脂4，相对于10.5μm的波长的光的消光系数为0.01以下，且相对于 10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6以下，并具有通过紫外线进行固 化的特性。并且，本实施方式的硫属化物玻璃2中，锗和硒的含有率(组成比) 为百分之60以上。在该涂敷层5的形成中，可规定涂敷层5的厚度以成为上 述优选的防反射膜3的厚度d。
如图5(c)所示，通过脉冲激光10，对涂敷层5中不需要的部分进行激 光照射，去除不需要的部分。该去除处理在整个涂敷层5中进行。通过在基材 表面的纵方向及横方向上进行该处理，如图5(d)所示，按一定间距以点状形 成有防反射材料3A。本实施方式中，以0.5μm以上且2.0μm以下的间距留有 防反射材料3A，并去除其他的防反射材料3A，从而形成防反射膜。
实施例
以下，通过实施例对本发明的第1实施方式进行说明，但本发明并不限定 于此。
[实施例1]
根据以下所示的条件，使用第1制造方法形成防反射膜并制作了光学组件 的样品。
＜防反射材料＞
使用了烯烃系UV固化树脂中混合了碳粒子(粉碎C膜的粒子的平均粒径0. 3μm)的材料。该防反射材料中，相对于10.5μm的波长的光的折射率为2.6。 并且，该防反射材料的表面张力为30mN/m，粘度为20cps。
＜喷墨涂敷装置＞
作为喷墨涂敷装置，使用了Dimatix公司制IJ头(型号PN700-10701-01) 。该装置的喷嘴直径为20μm，排出量为15p升/次。本实施例中，分3次进行 紫外线固化树脂的排出及固化，形成由点状的防反射材料构成的防反射膜。在 此，使紫外线固化树脂固化的紫外线(UV)使用了波长385nm的光源。光源的 照射强度为2W/cm2。为了促进树脂的固化，形成点状的防反射材料的样品在10 0℃下、在氮气氛中进行2小时退火。
＜点形状＞
将防反射材料的点的平均高度h设为1.75μm，一边的长度a设为1μm。 将每10μm2硫属化物玻璃表面的点的个数设为30个，点彼此的间距w设为1μ m。
＜涂敷后的等效折射率的测定＞
在硫属化物预成型件(Chalcogenide preform)(组成：Ge20Se70Sb10 Opto CreateCo.，Ltd.制)的平板上形成上述防反射材料的点，使用椭圆偏振计( J.A.Woollam Co.，Inc.，型号：IR-VASE)来测定防反射膜的等效折射率。
＜透射率特性测定样品＞
在透镜(最大厚度2mm)上成形硫属化物预成型件(组成：Ge20Se70Sb10 Opt oCreate Co.，Ltd.制)，在其表面上，形成由上述防反射材料的点构成的防 反射膜并制作样品。另外，防反射膜在透镜两面形成。
＜透射率测定＞
使用红外分光光度计(Shimadzu Corporation制FT-IR8500)进行了样品 的透射率的测定。测定光入射到透镜的中心。
图6是表示光学组件1的反射率特性的一例的曲线图。
图6所示的反射率特性为光学组件1的防反射膜3的等效折射率为1.5的 情况。图6中，横轴为入射到光学组件1的光的波长，纵轴为反射率。具体而 言，对如上所述形成防反射膜的透镜入射7000nm～15000nm的波长的光并分别 测定透射率T，接着，根据这些光的透射率T，按照式R＝100-T计算出反射率R， 并计算出图6所示的反射率特性。
从图6明显可知，可获得相对于8μm至14μm的波长的光的平均反射率 约为3％以下，尤其针对约为10.5μm的波长的光的反射率较低且具有良好的反 射率特性的光学组件1。在此，平均反射率以如下的方式计算。首先，以4cm-1间距来测定波长8～14μm的光的透射率T，由R＝100-T式分别计算出各测定波 长的反射率R。接着，将计算出的相对于各波长的光的反射率进行合计，将合 计的值除以测定点数的值设为平均反射率。另外，在光的透射率的测定中，将 未施加防反射膜的硫属化物玻璃基板的透射率作为基准。以下，对于8μm～14 μm波段的光的平均反射率的评价为：小于3％为“良好”；3～4％为“普通”； 大于4％为“较差”。
＜可靠性测试＞
将如上述那样制作的防反射膜的等效折射率为1.5的样品在相对湿度(Re lativeHumidity)90％、90℃的环境下放置240小时之后，进行了外观检查、 剥离测试及光学测定。
＜外观检查＞
使用显微镜确认了防反射膜的剥离，但并无防反射膜的剥离。
＜剥离测试＞
按照JIS K5600规格，实施了剥离测试。其结果，确认到无防反射膜的剥 离。
＜光学特性＞
对该样品以与上述相同的方式进行了反射率特性的测定。其结果，得到与 图6相同的反射率特性。
通过以上可确认到上述样品的防反射膜在使用波长的范围内并无实用上的 问题。
同样地，以等效折射率成为1.3、1.4、1.75、1.8、1.9及2.0的方式， 在平板状的硫属化物(厚度2mm)基板上形成调整了防反射材料3A的一边的长 度a及间距w的点型的防反射膜，并测定这些防反射膜的透射率，进行了反射 率特性的评价。
图7是表示形成有等效折射率为1.75的防反射膜3的光学组件1的反射 率特性的曲线图。并且，图8是表示形成有等效折射率为1.8的防反射膜3的 光学组件1的反射率特性的曲线图。
图7及图8也与图6相同，横轴为入射到光学组件1的光的波长，纵轴为 反射率。
防反射膜3的等效折射率为1.75或1.8时，也可获得具有与等效折射率 为1.5的情况几乎相同的“良好”的反射率特性的光学组件1。
如上所述，可知光学组件1中从使用等效折射率为1.5的防反射膜3至使 用等效折射率为1.8的防反射膜3时的任一条件下均具有良好的反射率特性。 即，可确认到本发明所涉及的防反射膜的制造公差(允许误差)较大。
图9是表示形成有等效折射率为1.4的防反射膜3的光学组件1的反射率 特性的曲线图。图10是表示形成有等效折射率为1.9的防反射膜3的光学组 件1的反射率特性的曲线图。
图9及图10中，横轴也为入射到光学组件1的光的波长，纵轴也为反射 率。
图9及图10所示的例子中，可知相对于8μm至14μm的波长的光的平均 反射率为3％～4％，为“普通”的反射率特性。
图11是表示形成有等效折射率为1.3的防反射膜3的光学组件1的反射 率特性的曲线图。图12是表示形成有等效折射率为2.0的防反射膜3的光学 组件1的反射率特性的曲线图。
在图11及图12中，横轴也为入射到光学组件1的光的波长，纵轴也为反 射率。
图11及图12所示的例子中，可知对于8μm至14μm的波长的光的平均 反射率大于4％，为“较差”的反射率特性。
图13是表示防反射膜3的等效折射率与平均反射率等的关系的表。
防反射膜3的等效折射率为相对于10.5μm的波长的光的值，平均反射率 为相对于8μm至14μm的波长的光的平均反射率[％：百分比]。
等效折射率为1.3时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为2.0μm，每 10μm×10μm的防反射材料3A的个数为25。此时，平均反射率成为5.6％，如 上所述成为“较差”的评价。
等效折射率为1.4时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为1.9μm，每 10μm×10μm的防反射材料3A的个数为25。此时，平均反射率成为3.3％，如 上所述成为“普通”的评价。
等效折射率为1.5时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为1.8μm，每 10μm×10μm的防反射材料3A的个数为36。此时，平均反射率成为2.0％，如 上所述成为“良好”的评价。
等效折射率为1.75时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为1.53μm， 每10μm×10μm的防反射材料3A的个数为49。此时，平均反射率成为2.1％， 如上所述成为“良好”的评价。
等效折射率为1.8时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为1.5μm，每 10μm×10μm的防反射材料3A的个数为49。此时，平均反射率成为2.6％，如 上所述成为“良好”的评价。
等效折射率为1.9时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为1.4μm，每 10μm×10μm的防反射材料3A的个数为64。此时，平均反射率成为3.9％，如 上所述成为“普通”的评价。
等效折射率为2.0时，例如，防反射材料3A的平均厚度d为1.3μm，每 10μm×10μm的防反射材料3A的个数为64。此时，平均反射率成为5.6％，如 上所述成为“较差”的评价。
[实施例2]
根据以下所示的条件，使用第2制造方法，形成防反射膜并制作了光学组 件的样品。
＜防反射材料＞
使用了烯烃系UV固化树脂中混合了碳粒子(粉碎类金刚石碳膜的粒子的 平均粒径0.3μm)的材料。该防反射材料中，相对于10.5μm的波长的光的折 射率为2.6。并且，该防反射材料的表面张力为30mN/m，粘度为20cps。
＜喷墨涂敷装置＞
作为喷墨涂敷装置，使用了Dimatix公司制IJ头(型号PN700-10701-01) 。该装置的喷嘴径为20μm，排出量为15p升/次。本实施例中，如上所述，分 3次进行紫外线固化树脂的排出及固化，形成由点状的防反射材料构成的防反 射膜。在此，使紫外线固化树脂固化的紫外线(UV)使用了波长385nm的光源。 光源的照射强度为2W/cm2。为了促进树脂的固化，形成点状的防反射材料的样 品在100℃下、在氮气氛中进行2小时退火。
＜脉冲激光条件＞
作为照射脉冲激光的装置，使用了KEYENCE CORPORATION制激光装置(型 号MD-V9920)。激光的射束直径设为1μm(1/e2)，强度设为10W/cm2、Q开 关频率设为400kHz。
＜点形状＞
将防反射材料的点的平均高度h设为1.75μm，一边的长度a设为1μm。 将每10μm2硫属化物玻璃表面的点的个数设为30个，点彼此的间距w设为1μ m。
＜涂敷后的等效折射率的测定＞
在硫属化物预成型件(组成：Ge20Se70Sb10 Opto Create Co.，Ltd.制)的平 板上形成由上述防反射材料的点构成的防反射膜，使用椭圆偏振计(J.A.Wool lam Co.，Inc.，型号：IR-VASE)来测定该防反射膜的等效折射率。
＜透射率特性测定样品＞
在透镜(最大厚度2mm)上成形硫属化物预成型件(组成：Ge20Se70Sb10 Opt oCreate Co.，Ltd.制)，在其表面上，形成上述由防反射材料的点构成的防 反射膜并制作样品。另外，防反射膜在透镜两面形成。
＜透射率特性及反射率特性＞
对于如上述那样制作的样品，通过与实施例1相同的方法，测定了透射率 特性及反射率特性。其结果，是与图9所示的曲线图大致相同的反射率特性。 由此，确认到即使使用第2制造方法，也能够制造形成了具有与第1制造方法 相同的反射率特性的防反射膜的光学组件。
图14至图18表示本发明的第2实施方式。第2实施方式中，在防反射膜 形成有孔。该孔可以是任意的形状，只要形成最大宽度(是指最大的孔的长度) L为0.5μm以上且2.0μm以下的孔即可。
图14是光学组件1A的立体图，与图1对应。图15是光学组件1A的俯视 图，与图2对应。图16是从图15的XVI-XVI线观察光学组件1A时的剖视图。
在硫属化物玻璃2的表面上，形成有具有与上述防反射材料3A相同的特 性的防反射材料13A。即，关于防反射材料13A，相对于10.5μm的波长的光 的消光系数为0.01以下，且相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2. 6以下。防反射材料13A上形成有孔14。该孔14为矩形，其最大宽度(此时 为对角线的长度)L为0.5μm以上且2.0μm以下。防反射材料13A与孔14成 为防反射膜13。
防反射材料13A中，与防反射材料3A同样地，优选含有类金刚石碳或碳。 而且，防反射材料13A中也可以含有Al2O3(相对于10.5μm的波长的光的折射 率为1.6)，Bi(相对于10.5μm的波长的光的折射率为1.9)，Gd2O3(相对 于10.5μm的波长的光的折射率为1.9)，SiON(相对于10.5μm的波长的光 的折射率为2至1.6)，Ta2O5(相对于10.5μm的波长的光的折射率为2.1)， ZnO2(相对于10.5μm的波长的光的折射率为2.03)，ZnSe(相对于10.5μm 的波长的光的折射率为2.39)，ZnS(相对于10.5μm的波长的光的折射率为2. 2)等。
并且，与防反射膜3同样地，将防反射膜13的等效折射率设为n时，优 选防反射膜13(防反射材料13A)的厚度d[μm]为8/4n以上且14/4n以下， 以使相对于10.5μm的波长的光获得防反射功能。防反射膜13的等效折射率n 也与防反射膜3同样地，理应以防反射材料13A的面积比来确定。并且，优选 防反射膜13的等效折射率为1.4以上且1.9以下，但更优选为1.5以上且1.8 以下。
图14至图16所示的光学组件1A能够利用参考图5进行说明的方法来制 造。而且，如图4所示，通过按照防反射材料13A的形状涂敷紫外线固化树脂 并使其固化，也能够制造光学组件1A。
图17及图18是光学组件1B及1C的俯视图。
如图17所示，防反射材料13A上形成有椭圆的孔14A。如此，孔14A也可 以不是矩形而是椭圆(或圆)。在防反射材料13A上开孔有椭圆的孔14A时， 最大宽度L成为椭圆的长径(圆时为直径)。
如图18所示，防反射材料13A上形成有不定形的孔14B。开孔有不定形的 孔14B时，最大宽度L成为孔14B的最长的长度。
如此，最大宽度L成为孔的开口尺寸中最大的长度。只要在防反射材料13 A上形成有这样的最大宽度L为0.5μm以上且2.0μm以下的孔即可。孔并不 限于圆、椭圆、矩形、不定形，也可以是五边形，六边形等多边形。并且，孔 无需形成有多个，只要形成至少1个满足上述最大宽度L的孔即可。另外，可 以作为如多个孔由槽连接的整体来形成1个孔。
图19是红外线照相机20的立体图。
红外线照相机20中，利用上述1个光学组件1(也可以是光学组件1A)。 上述光学组件1(1A)具有良好的反射率特性，因此可获得充分的摄影光量。
图20是红外线照相机21的立体图。
红外线照相机21中，利用多个上述光学组件1(也可以是光学组件1A)。 即使在这种红外线照相机21中，也可获得充分的摄影光量。
符号说明
1、1A、1B、1C-光学组件，2-硫属化物玻璃，3、13-防反射膜，3A、13A- 防反射材料，14-孔，L-最大宽度。
Claims (11)
1.一种光学组件，其具备：
硫属化物玻璃，锗和硒的含有率为百分之60以上；以及
防反射膜，相对于10.5μm的波长的光的消光系数为0.01以下，且包含碳粒子，相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6以下的防反射材料以0.5μm以上且2.0μm以下的固定的间距沿着上述硫属化物玻璃的表面在上述表面形成多个，上述多个防反射材料的大小以及形状相同，在上述多个防反射材料之间形成空气层，通过上述防反射材料和上述空气层，由上述防反射材料在防反射膜的单位面积中所占的面积比决定的相对于10.5μm的波长的光的等效折射率为1.4以上且1.9以下。
2.根据权利要求1所述的光学组件，其中，
上述防反射材料在与上述硫属化物玻璃的表面平行的面内为矩形。
3.根据权利要求1或2所述的光学组件，其中，
上述防反射材料相对于10.5μm的波长的光的折射率为2.6。
4.根据权利要求1所述的光学组件，其中，
上述防反射膜中含有的碳粒子的平均粒径为0.3μm。
5.根据权利要求2所述的光学组件，其中，
上述防反射膜中含有的碳粒子的平均粒径为0.3μm。
6.根据权利要求3所述的光学组件，其中，
上述防反射膜中含有的碳粒子的平均粒径为0.3μm。
7.根据权利要求1、4至6中任一项所述的光学组件，其中，
上述碳粒子为类金刚石碳粒子。
8.一种红外线照相机，其具备权利要求1至7中任一项所述的光学组件。
9.一种红外线照相机，其具备多个权利要求1至7中任一项所述的光学组件。
10.一种光学组件的制造方法，其中，
将包含碳粒子、相对于10.5μm的波长的光的消光系数为0.01以下，且相对于10.5μm的波长的光的折射率大于1且为2.6以下，具有紫外线固化特性或通过特定的波长的光进行固化的特性的防反射材料以0.5μm以上且2.0μm以下的固定的间距，沿着锗和硒的组成比为百分之60以上的硫属化物玻璃基材的表面在该表面涂敷多次，
对经涂敷的防反射材料照射紫外线或特定波长的光，形成由上述防反射材料在防反射膜的单位面积中所占的面积比决定的相对于10.5μm的波长的光的等效折射率为1.4以上且1.9以下的单一层的防反射膜。
11.根据权利要求10所述的光学组件的制造方法，其中，
上述碳粒子为类金刚石碳粒子。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014-049613 | 2014-03-13 | ||
| JP2014049613 | 2014-03-13 | ||
| PCT/JP2015/056220 WO2015137197A1 (ja) | 2014-03-13 | 2015-03-03 | 光学部品，赤外線カメラおよび光学部品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN106104311A CN106104311A (zh) | 2016-11-09 |
| CN106104311B true CN106104311B (zh) | 2018-04-10 |
Family
ID=54071645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201580012797.XA Active CN106104311B (zh) | 2014-03-13 | 2015-03-03 | 光学组件、红外线照相机及光学组件的制造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10209408B2 (zh) |
| JP (1) | JP6046860B2 (zh) |
| CN (1) | CN106104311B (zh) |
| WO (1) | WO2015137197A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6817020B2 (ja) * | 2016-02-22 | 2021-01-20 | 株式会社タムロン | 赤外線透過膜、光学膜、反射防止膜、光学部品、光学系及び撮像装置 |
| JP7172024B2 (ja) * | 2017-09-12 | 2022-11-16 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
| JP6727181B2 (ja) * | 2017-11-13 | 2020-07-22 | 株式会社豊田中央研究所 | 反射防止構造体およびその製造方法 |
| CN113703075B (zh) * | 2021-09-17 | 2022-08-26 | 上海天马微电子有限公司 | 显示模组以及显示装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1504809A (zh) * | 2002-11-28 | 2004-06-16 | 阿尔卑斯电气株式会社 | 防止反射结构及照明装置和液晶显示装置以及防止反射膜 |
| JP2010046868A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Hitachi Maxell Ltd | 成形型の製造方法、成形型および光学素子 |
| CN102213777A (zh) * | 2010-04-02 | 2011-10-12 | 富士胶片株式会社 | 抗反射膜和红外线光学元件 |
| JP2011237510A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Nippon Kayaku Co Ltd | 誘電体多層膜及びそれを用いた光学部品 |
| WO2012073791A1 (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線用光学機能膜 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3375700D1 (en) * | 1982-10-12 | 1988-03-24 | Nat Res Dev | Infra red transparent optical components |
| JPS6456401A (en) | 1987-03-11 | 1989-03-03 | Idemitsu Petrochemical Co | Infrared-ray transmission optical element |
| JPS63294501A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-12-01 | Nikon Corp | 赤外用光学薄膜 |
| JPH11281801A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Minolta Co Ltd | 赤外反射防止膜 |
| US20030201241A1 (en) * | 2001-08-27 | 2003-10-30 | Harker Alan B. | Tool for embossing high aspect ratio microstructures |
| JP2003215305A (ja) | 2002-01-23 | 2003-07-30 | Matsushita Electric Works Ltd | 光素子 |
| JP2003262704A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 光学部品及び光学装置 |
| JP4108722B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-25 | シャープ株式会社 | 光学素子および光学素子製造方法 |
| JP5414945B1 (ja) * | 2012-02-06 | 2014-02-12 | パナソニック株式会社 | 光学素子及びそれを備えた撮像装置 |
| JPWO2013154077A1 (ja) * | 2012-04-09 | 2015-12-17 | 旭硝子株式会社 | 微細パターンを表面に有する物品およびその製造方法、ならびに光学物品、その製造方法および複製モールドの製造方法 |
| JP2013231780A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Kuraray Co Ltd | 反射防止構造及び光学部材 |
| JP6316287B2 (ja) * | 2012-07-05 | 2018-04-25 | インテヴァック インコーポレイテッド | 透明な基板のための高度に透明な水素化炭素保護コーティングの生産方法 |
| US10012769B2 (en) * | 2013-03-06 | 2018-07-03 | Element Six Technologies Limited | Synthetic diamond optical elements |
-
2015
- 2015-03-03 JP JP2016507469A patent/JP6046860B2/ja active Active
- 2015-03-03 CN CN201580012797.XA patent/CN106104311B/zh active Active
- 2015-03-03 WO PCT/JP2015/056220 patent/WO2015137197A1/ja active Application Filing
-
2016
- 2016-08-23 US US15/244,299 patent/US10209408B2/en active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1504809A (zh) * | 2002-11-28 | 2004-06-16 | 阿尔卑斯电气株式会社 | 防止反射结构及照明装置和液晶显示装置以及防止反射膜 |
| JP2010046868A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Hitachi Maxell Ltd | 成形型の製造方法、成形型および光学素子 |
| CN102213777A (zh) * | 2010-04-02 | 2011-10-12 | 富士胶片株式会社 | 抗反射膜和红外线光学元件 |
| JP2011237510A (ja) * | 2010-05-07 | 2011-11-24 | Nippon Kayaku Co Ltd | 誘電体多層膜及びそれを用いた光学部品 |
| WO2012073791A1 (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線用光学機能膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN106104311A (zh) | 2016-11-09 |
| US10209408B2 (en) | 2019-02-19 |
| US20160356926A1 (en) | 2016-12-08 |
| JP6046860B2 (ja) | 2016-12-21 |
| JPWO2015137197A1 (ja) | 2017-04-06 |
| WO2015137197A1 (ja) | 2015-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106104311B (zh) | 光学组件、红外线照相机及光学组件的制造方法 | |
| CN105764863B (zh) | 玻璃部件和玻璃部件的制造方法 | |
| Poole et al. | Femtosecond laser damage threshold of pulse compression gratings for petawatt scale laser systems | |
| US20020110639A1 (en) | Epoxy coating for optical surfaces | |
| CN104969095B (zh) | 单片式线性玻璃偏光器和衰减器 | |
| CN105968396B (zh) | 复合膜层、其制备方法及具有其的显示设备 | |
| Hobbs et al. | Laser testing of anti-reflection micro-structures fabricated in ZnSe and chromium-ion doped ZnSe laser gain media | |
| CN109641776A (zh) | 玻璃物品的制造方法及玻璃物品 | |
| JP2006154447A (ja) | フィルム状光導波路の製法 | |
| Reitberger et al. | Aerosol Jet® printing of optical waveguides | |
| Benavides et al. | A comparative study on reflection of nanosecond Nd-YAG laser pulses in ablation of metals in air and in vacuum | |
| DE60334259D1 (de) | Verfahren zur Identifizierung von Glasfaser in einem Kabel | |
| CN107418464A (zh) | 一种uv减粘型胶带及其制备方法 | |
| Vanda et al. | Comparative LIDT measurements of optical components for high-energy HiLASE lasers | |
| US10359544B2 (en) | Long-wave infrared anti-reflective laminate | |
| JP6858216B2 (ja) | 光ファイバ及びその製造方法 | |
| JP2006184773A (ja) | 光導波路およびこれを備えた光電気混載基板 | |
| Zhang et al. | Effect of the interface on femtosecond laser damage of a metal-dielectric low dispersion mirror | |
| US9145610B2 (en) | Method for producing film with coating | |
| CN108369294A (zh) | 防反射光学体的形成方法及显示面板 | |
| US10126239B2 (en) | Optical waveguide, and SPR sensor cell and colorimetric sensor cell each using same | |
| MX2021011411A (es) | Lente antirreflectante y metodo para tratar una lente para reducir los reflejos de luz para los animales y dispositivos que ven a traves del espectro de luz ultravioleta. | |
| Krol et al. | High performances optical coatings with dual ion beam sputtering technique | |
| CN109254332A (zh) | 宽角度宽波段增透膜及其制备方法和应用 | |
| Wilson et al. | Long-duration CW laser testing of optical windows with random antireflective surface structures on both interfaces: preliminary results |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |