CN105992997B - 图案描画装置用的gui装置、图案描画***、作业单更新方法及记录介质 - Google Patents
图案描画装置用的gui装置、图案描画***、作业单更新方法及记录介质 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105992997B CN105992997B CN201580008338.4A CN201580008338A CN105992997B CN 105992997 B CN105992997 B CN 105992997B CN 201580008338 A CN201580008338 A CN 201580008338A CN 105992997 B CN105992997 B CN 105992997B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- job ticket
- design data
- picture
- information
- display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 182
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 57
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 77
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 50
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 39
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000012216 screening Methods 0.000 claims description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 61
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 29
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 241000252254 Catostomidae Species 0.000 description 2
- 241001269238 Data Species 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001141 propulsive effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012062 charged aerosol detection Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001360 collision-induced dissociation Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70525—Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control or prediction of failure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Software Systems (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- User Interface Of Digital Computer (AREA)
- Processing Or Creating Images (AREA)
Abstract
提供能够在随着设计数据的更新而更新作业单时简单地选择期望的作业单来执行更新工作的图案描画装置用的GUI装置、图案描画***、作业单更新方法以及程序。该图案描画装置用的GUI装置在更新作业单时使用，该作业单定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理，GUI装置具有：显示部，具有画面；操作部，操作显示部的画面；显示控制部，控制显示部的画面显示；显示输入更新后的更新设计数据名称的输入部(82)，显示与输入的更新设计数据名称相关的作业单列表(83)，显示用于指示针对从作业单列表(83)中被强调显示的更新对象的作业单将设计数据置换为更新设计数据的更新按钮(91)。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于图案描画装置的图形用户界面(Graphical UserInterface)装置(GUI装置)，该图案描画装置在形成有光致抗蚀剂膜的基板等上描画布线图案等图案。
背景技术
以往，向半导体基板、印刷布线基板、玻璃基板等各种各样的基板照射透过光掩模的光，由此来形成图案。近年来，为了应对形成各种各样的图案，而采用如下一种技术，即，不必使用光掩模，向基板直接照射被空间调制过的光来描画图案，并进行曝光处理。
将如上述进行曝光处理的图案描画装置称为直接描画装置，在例如专利文献1中记载有一种用于直接描画装置的GUI装置(例如，专利文献1中的第0043段以及图1)。该GUI装置在更新作业单时等使用。作业单(Job ticket) 定义了一系列动作，该一系列动作用于对通过CAD(Computer Aided Design，计算机辅助设计)等设计的矢量形式的设计数据进行RIP(Raster Image Processing，光栅图像处理)展开来生成作为描画数据的光栅数据。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：JP特开2013-77718号公报
发明内容
发明要解决的问题
在随着设计数据的更新而更新作业单时，在与该设计数据有关的作业单存在多个的情况下，会发生对不需要更新的作业单也更新设计数据的问题。为了防止发生这种问题，想到在更新了设计数据时创建新的作业单的应对方法，但是这种方法导致作业单数增多。为了减少作业单数，想到删除无用的作业单的应对方法，但是又会发生这种删除处理的工作增多的其他问题。
鉴于如上述的问题，本发明的目的在于，提供一种能够在随着设计数据的更新而更新作业单时简单地选择期望的作业单来执行更新工作的图案描画装置用的GUI装置、图案描画***、作业单更新方法以及记录介质。
用于解决问题的手段
第一发明是一种图案描画装置用的GUI装置，所述GUI装置在更新作业单时使用，所述作业单定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理，其特征在于，
具有：
显示部，具有画面，
操作部，操作所述显示部的所述画面，
显示控制部，控制所述显示部的画面显示；
所述显示控制部具有：
设计数据信息输入部，在所述画面上显示用于输入与更新后的更新设计数据相关的信息的输入部，
作业单信息显示部，在所述画面上显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是与利用所述操作部输入到所述设计数据信息输入部的信息相关的作业单，
作业单强调显示部，在所述画面上强调显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是利用所述操作部从利用所述作业单信息显示部显示的与作业单相关的信息中选择出的作业单，并且该作业单作为应该将设计数据置换为所述更新设计数据的作业单，
置换指示输入显示部，在画面上显示用于输入如下指示的输入部，该指示是针对与利用所述作业单强调显示部在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，将所述设计数据置换为所述更新设计数据的指示。
第二发明在第一发明的基础上，所述显示控制部还具有更新候选显示部，所述更新候选显示部根据与利用所述作业单强调显示部在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，在所述画面上显示与能够用于更新的更新设计数据即更新候选设计数据相关的信息。
第三发明在第二发明的基础上，所述显示控制部还具有筛选信息输入显示部，所述筛选信息输入显示部在画面上显示用于筛选所述更新候选设计数据的筛选信息输入部。
第四发明(图案描画***)具有：
第一发明～第三发明中任一项所述的图案描画装置用的GUI装置；
图案描画装置，基于根据更新设计数据按照利用所述GUI装置更新后的作业单来生成的描画数据，来在基板上描画图案。
第五发明在第四发明的基础上，所述图案描画装置是对在基板上形成的光致抗蚀剂膜扫描被空间调制过的光束来描画图案的直接描画装置。
第六发明是一种作业单更新方法，对定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理的作业单进行更新，其特征在于，包括：
更新设计数据输入工序，利用GUI装置所具有的操作部，向在GUI装置所具有的显示部的画面上显示的设计数据信息输入部输入与更新后的更新设计数据相关的信息，
作业单选择工序，利用操作部从与根据通过所述更新设计数据输入工序输入的信息在所述画面上显示的信息对应的作业单中，选择应该将设计数据置换为更新设计数据的作业单，
置换工序，针对通过所述作业单选择工序选择出的作业单，利用所述操作部将所述设计数据置换为所述更新设计数据。
第七发明是一种记录介质，存储有程序，能够由图案描画装置用的GUI 装置所具有的计算机能够读取，所述GUI装置在更新作业单时使用，该作业单定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理，其特征在于，通过执行所述程序使计算机发挥如下功能：
设计数据信息输入部显示功能，在所述GUI装置所具有的显示部的画面上，显示设计数据信息输入部，所述设计数据信息输入部用于输入与更新后的更新设计数据相关的信息，
作业单信息显示功能，在所述画面上显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是与利用所述GUI装置所具有的操作部输入到所述设计数据信息输入部的信息相关的作业单，
作业单强调显示功能，在画面上强调显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是利用操作部从利用所述作业单信息显示功能在画面上显示的与作业单相关的信息中选择出的作业单，并且该作业单作为应该将利用所述操作部选择出的设计数据置换为所述更新设计数据的作业单，
置换指示输入显示功能，在画面上显示用于输入如下指示的输入部，该指示是针对与利用所述作业单强调显示功能在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，将所述设计数据置换为所述更新设计数据的指示。
第八发明在第七发明的基础上，还使计算机发挥更新候选显示功能，根据与利用作业单强调显示功能在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，在画面上显示与能够用于更新的更新设计数据即更新候选设计数据相关的信息。
第九发明在第八发明的基础上，还使计算机发挥筛选信息输入显示功能，在画面上显示用于筛选所述更新候选设计数据的筛选信息输入部。
发明的效果
若采用第一发明～第九发明中的任一者，则能够提供一种能够在随着设计数据的更新而更新作业单时简单地选择期望的作业单来执行更新工作的图案描画装置用的GUI装置、图案描画***、作业单更新方法以及记录介质。
附图说明
图1是示出包含图案描画***的图形描画***的图。
图2是示出GUI装置的硬件结构的框图。
图3是示出GUI装置的功能结构的框图。
图4是示出从设计数据更新到描画执行为止的流程的流程图。
图5是示出作业单的更新工作的流程的流程图。
图6是用于说明初始画面的图。
图7是示出作业单选择时的GUI画面的图。
图8是示出作业单更新时的GUI画面的图。
图9是直接描画装置的侧视图。
图10是直接描画装置的俯视图。
图11是示出照明光学***以及投影光学***的图。
图12是放大示出空间光调制器的图。
图13是示出直接描画装置的各部分与控制部的连接结构的框图。
图14是示出控制描画动作的控制部的框图。
图15是直接描画装置的动作的流程图。
具体实施方式
以下，针对本发明的实施方式，参照附图进行说明。
＜***的整体结构＞
图1是示出包含作为本发明的一个实施方式的图案描画***4的图形描画***400的图。该图形描画***400是选择性地对例如圆形状的半导体基板(以下，简称为“基板”)上的光致抗蚀剂膜进行曝光，在光致抗蚀剂膜上直接描画与电路图案对应的图形的***。
图形描画***400具有经由LAN等网络N相互连接的设计数据创建装置1、图像处理装置3以及直接描画装置100。图像处理装置3具有GUI装置2。
设计数据创建装置1是创建以及编辑如下的数据的装置，该数据描述了在作为描画对象的基板上应该描画的图案区域。具体地，数据是通过CAD (Computer Aided Design，计算机辅助设计)创建的以矢量形式描述的图形数据。由设计数据创建装置1创建的设计数据D0经由网络N分别被发送至图像处理装置3以及直接描画装置100。另外，设计数据创建装置1变更初始的设计数据D0所表示的图案的形状或者线宽尺寸来创建更新设计数据D1(D2……)。设计数据创建装置1有时也会进一步地更新已经有更新日志的更新设计数据来创建更新设计数据。此外，在本说明书中，有时也会将设计数据D0或者更新设计数据D1等统一简称为“设计数据”。由设计数据创建装置1创建的设计数据D0、D1等经由网络N分别被发送至图像处理装置3 以及直接描画装置100。
图像处理装置3针对经由网络N发送来的设计数据D0或者更新设计数据D1等创建作业单JT。作业单JT定义了用于对设计数据D0或者更新设计数据D1等进行RIP(RasterImage Processing，光栅图像处理)展开来生成作为描画数据的光栅数据的一系列动作。例如，在RIP展开时通过加粗处理或者细化处理变更图案的线宽等尺寸来生成描画数据的情况下，根据处理的不同而存在多个不同的RIP展开处理。作业单JT相关联地定义了，通过多个RIP展开处理中的哪一个RIP展开处理来对设计数据D0或者更新设计数据D1等进行RIP展开。由图像处理装置3创建的作业单JT经由网络N被发送至直接描画装置100。
＜GUI装置的结构＞
GUI装置2设于图像处理装置3，发挥面向操作者的图形用户界面 (GraphicalUser Interface)的功能。图2是示出GUI装置2的硬件结构的框图。
GUI装置2例如是计算机5，并具有CPU230、ROM231、存储器232、介质驱动器233、显示部200和操作部234等。这些硬件分别通过总线235 电连接。
CPU230基于ROM231中存储的程序(或者通过介质驱动器233读入的程序)P控制上述硬件各部分，实现计算机5(GUI装置2)的功能。程序P 能够由计算机5读取，并使计算机5发挥各功能。
ROM231是预先保存有GUI装置2的控制所必需的程序P和数据的读取专用的存储装置。存储器232是能够实现读取和写入的存储装置，暂时地存储在利用CPU230进行运算处理时产生的数据等。存储器232由SRAM、 DRAM等构成。在存储器232中保存有与设计数据D0、更新设计数据D1 等以及作业单JT有关的信息。
介质驱动器233具有读取记录介质M中存储的信息的功能。部。记录介质M例如是CD-ROM、DVD(Digital Versatile Disk，数字多功能盘)或者软盘等便携式记录介质。例如，在记录介质M中预先记录有程序P的情况下，计算机5通过记录介质M读取程序P。
显示部200具有如彩色LCD这样的显示器等，在显示部200的画面上以可变的方式显示GUI操作用的图像、各种的数据以及动作状态等。
操作部234是具有键盘以及鼠标的输入设备，接受比如输入命令或者各种数据这样的用户操作。操作者使用该操作部234对显示部200上显示的 GUI操作画面输入各种信息来操作显示部200的画面。
图3是示出GUI装置2的功能结构的框图。该图3用框图示出GUI装置2的硬件结构通过上述图2所示的程序P发挥的各功能，但是这些功能块能够通过硬件和软件的组合以各种各样的形式实现。
如图3所示，GUI装置2具有显示控制部240。该显示控制部240控制显示部200的画面显示，并具有设计数据信息输入部241、作业单信息显示部242、作业单强调显示部243、置换指示输入显示部244、更新候选显示部 245、筛选信息输入显示部246以及布局显示部247。显示控制部2是通过操作者利用操作部234对显示部200进行操作来实现各部分的功能的，其详细内容在动作的说明中后述。
＜从设计数据更新开始的整体流程＞
图4是示出从设计数据更新到描画执行为止的流程的流程图。首先，在步骤S10中，操作者在更新设计数据D0时，使用设计数据创建装置1修正设计数据D0来创建更新设计数据D1等(设计数据更新工序)。有时也会如上述那样进一步地更新更新设计数据来创建更新设计数据。创建的更新设计数据D1等经由网络N从设计数据创建装置1分别发送至图像处理装置3以及直接描画装置100。
接着，在步骤S20的作业单更新工序中，操作者使用GUI装置2来选择作业单JT，该作业单JT应用被发送至图像处理装置3的更新设计数据D1 等，将作业单中的设计数据置换为更新设计数据D1等来更新作业单JT。该作业单更新工序的详细内容后述。更新后的作业单JT经由网络N被从图像处理装置3发送至直接描画装置100。
接着，在步骤S30的描画数据生成工序中，直接描画装置100对更新设计数据D1等执行由作业单JT定义的RIP展开处理等来生成描画数据。直接描画装置100使用该描画数据对作为描画对象的基板执行描画动作(步骤 S40描画执行工序)。针对直接描画装置100的结构以及动作后述。此外，步骤S30的描画数据生成工序也可以不利用直接描画装置100而是利用图像处理装置3执行。在这种情况下，由图像处理装置3生成的描画数据经由网络N被发送至直接描画装置100。
＜作业单的更新工作＞
参照图5，针对上述的图4所示的作业单更新工序(步骤S20)的详细内容进行说明。图5是示出作业单的更新工作的流程的流程图。
首先，在图5所示的步骤S210中，GUI装置2在显示部200的画面上显示初始画面(初始画面显示工序)。初始画面是例如图6所示的画面。如图6所示，初始画面包含类型输入部81、数据名称输入部82、作业单列表显示部83、After输入部84、Before输入部85、Upper输入部86、Under输入部87、Search按钮88、类型变更部89、日志显示部90、更新按钮91、确认显示部92、OK按钮93以及Cancel按钮94等。
初始画面是利用图3所示的显示控制部240的各功能部来显示的，例如，利用设计数据信息输入部241的功能在画面上显示图6的类型输入部81以及数据名称输入部82。另外，利用作业单信息显示部242的功能在画面上显示作业单列表显示部83。
另外，利用置换指示输入显示部244的功能在画面上显示作为输入部的更新按钮91、OK按钮93以及Cancel按钮94，利用更新候选显示部245在画面上显示日志显示部90。进一步地，利用筛选信息输入显示部246的功能在画面上显示作为输入部的After输入部84、Before输入部85、Upper输入部86、Under输入部87以及Search按钮88，利用布局显示部247的功能在画面上显示确认显示部92。
返回至图5，针对作为下一个工序的步骤S220的更新设计数据输入工序进行说明。在该工序中，操作者使用操作部234向初始画面的类型输入部81 输入更新之前的设计数据D0或者更新设计数据D1等所属的类型(CAD Data Type，CAD数据类型)。此外，这种类型的输入也可以省略。接着，操作者使用操作部234向数据名称输入部82输入设计数据D0或者设计更新数据 D1等数据名称(CAD Data Name，CAD数据名称)。此时，在类型输入部 81中输入有类型的情况下，由于在与数据名称输入部82联动的下拉菜单中显示属于所输入的类型的数据名称的列表，所以也可以从该列表中来选择输入期望的数据名称。上述数据名称是与更新后的更新设计数据D1等相关的信息中的一种。
图7示出在类型输入部81中输入有类型“A”，在数据名称输入部82中输入有数据名称“AAA.gds”的状态。在向数据名称输入部82中输入数据名称“AAA.gds”时，利用作业单信息显示部242的功能在作业单列表显示部 83中显示与该数据名称相关的作业单JT的列表(Ticket(Referenced CAD Data)List，作业单(相关CAD数据)列表)。换言之，在作业单列表显示部 83中显示如下的作业单JT的列表，该作业单JT定义了对标注有上述数据名称的设计数据进行RIP展开等的一系列动作。
在图7中显示有3个作业单“AA1”、“AA2”、“AA3”。列表中的一行示出一个作业单JT。列表的第一列表示作业单名称(Ticket Name)。第二列的芯片布局(Chip Layout)表示是否利用图像处理装置3进行了变更芯片内的图案形状或者线宽等的布局工作，在如图7这样显示“True”的情况下，表示进行了布局工作。在未进行布局工作的情况下显示“False”。
同样地，第三列的基板布局(Wafer Layout)表示是否利用图像处理装置3进行了决定多个芯片在作为描画对象的基板上的配置位置的布局工作，在如图7那样显示“True”的情况下，表示进行了布局工作。在未进行布局工作的情况下显示“False”。
第四列显示RIP名(Rip Name)。RIP名是根据RIP展开处理的种类来标注的。在图7的例子中，第一行的作业单名称是“AA1”的作业单JT定义了对设计数据D0或者更新设计数据D1等执行RIP名标注为“AA1.gds-123”的RIP展开处理。同样地，第二行的“AA2”的作业单JT 定义了执行“AA2.gds-345”的RIP展开处理，第三行的“AA3”的作业单 JT定义了执行“AA3.gds-678”的RIP展开处理。
上述的多个RIP展开处理是例如图案线宽的加粗处理或者细化处理分别不同的RIP展开处理。换言之，多个作业单JT(AA1、AA2、AA3)定义了对相同的设计数据D0或者更新设计数据D1等分别实施不同的RIP展开处理。
第四列的更新日期(Modified Day)显示作业单JT被更新的日期。此外，在作业单JT中定义的项目并不限定于图7所示的项目，例如，也可以包含进行了更新工作的工作者的姓名的项目。
如图7所示，由于利用作业单信息显示部242在作业单列表显示部83 显示与数据名称相关的作业单JT的列表，该数据名称是与更新后的更新设计数据D1等相关的信息，所以能够简单地选择需要随着设计数据的更新而更新的期望的作业单JT。
返回至图5，在步骤S230的作业单选择工序中，操作者从画面上显示的作业单的列表中选择应该更新的作业单。在图7中示出了操作者利用操作部 234从与作业单列表显示部83中显示的信息对应的作业单JT(3个作业单JT) 中选择第二行的作业单JT“AA2”作为更新对象的作业单JT的状态。在图7中，对第二行施加阴影线，但是在实际的画面中利用作业单强调显示部243 的功能，例如以比其他行表现得颜色更深等附加颜色深浅的方式来表现与选择出的作业单JT相关的信息，从而实现强调显示。此外，强调显示的方法只要是在画面上能够识别与选择出的作业单相关的信息和与未被选择的作业单JT相关的信息的区别的方法，无论何种方法均可。
在选择更新对象的作业单JT时，更新候选显示部245与该选择动作联动地发挥功能。通过这样，在在图7的日志显示部90的画面上显示所选择的作业单JT的设计数据的日志，来作为与能够用于更新的更新设计数据即更新候选设计数据相关的信息。在图7的例子中，分4行显示4个更新日志 (更新候选设计数据)，其中，该作业单JT的数据名称为“AAA.gds”的设计数据在更新日期(Date)所表示的日期更新了4次，并分别被标注上序列号(Serial No.)。
此处，初始的设计数据D0是序列号为“1”的设计数据“AAA.gds”，第一次更新之后的更新设计数据D1是序列号为“2”的设计数据“AAA.gds”，并依次将更新设计数据D2的序列号设置为“3”，将更新设计数据D3的序列号设置为“4”。
利用更新候选显示部245的功能，以与利用作业单列表显示部83选择作业单JT的动作联动的方式，在日志显示部90上强调显示与选择出的作业单JT的现状的设计数据相关的信息。在图7的例子中以强调显示的方式示出，选择出的作业单JT的现状的设计数据是日志显示部90中显示的第二行的序列号为“2”的更新设计数据D1。在图7中对第二行施加有阴影线，但是在实际的画面上，例如是以比其他行表现得颜色更深等附加颜色深浅的方式来强调显示与现状的设计数据相关的信息的。由于如此利用更新候选显示部245的功能来强调显示与现状的设计数据相关的信息，所以操作者能够容易地掌握现状的设计数据。
如上述，由于作业单JT的现状的设计数据(更新前设计数据)是序列号为“2”的更新设计数据D1，所以更新候选设计数据是其他的设计数据、即序列号为“1”的设计数据D0、序列号为“3”的更新设计数据D2、序列号为“4”的更新设计数据D3中的任一个。
另外，布局显示部247以与利用作业单列表显示部83选择作业单JT的动作联动的方式来发挥功能。通过这样，如图7所示，在确认显示部92中显示按照该作业单JT进行图案描画的芯片布局的图像。该布局图像包含作为描画对象的圆形状的基板外形95和布局于基板内的多个芯片(块(block)) 96。
在图7中显示在区域97内布局有芯片96的状态，该区域97是在基板内完全包含多个芯片96的区域。另外，也能够利用布局显示部247的功能放大显示芯片96来显示芯片96内的图案。操作者对在确认显示部92中显示的图像进行确认，由此能够容易地掌握按照该作业单JT进行图案描画的芯片96内的图案形状或者芯片96的布局。
以下，针对图5所示的步骤S240的置换工序进行说明。在图7所示的例子中，在利用作业单列表显示部83选择出的第二行的“AA2”的作业单 JT中，现状的设计数据是在日志显示部90中强调显示的序列号为“2”的“AAA.gds”，该设计数据相当于如上述更新设计数据D1。
在将上述更新设计数据D1置换为相当于更新设计数据D3的序列号为“4”的“AAA.gds”的情况下，如图8所示，操作者使用操作部234来选择日志显示部90的第四行的序列号为“4”的“AAA.gds”。选择出的第四行在图8中施加有阴影线，但是在实际的画面中，利用更新候选显示部245的功能，例如以比其他行表现得颜色更深等附加颜色深浅的方式来进行强调显示。
在这种状态下，操作者利用操作部234的鼠标等点击更新按钮91 (Replace CADData，置换CAD数据)，利用置换指示输入显示部244的功能来进行输入指示。其结果是，“AA2”的作业单JT的设计数据从更新设计数据D1被置换为更新设计数据D3。以与该置换动作联动的方式，将在确认显示部92中显示的内容切换为基于更新设计数据D3的内容，例如变更芯片96内的显示内容。
在操作者对确认显示部92的内容等进行了确认之后，决定置换设计数据的情况下，利用操作部234的鼠标等点击OK按钮93来输入指示，完成置换工序，作业单JT的更新工作结束。在决定不置换为某个设计数据，而讨论置换为其他的设计数据的情况下，在操作者利用操作部234的鼠标等点击Cancel按钮94来输入指示之后，返回到选择日志显示部90中显示的其他序列号的设计数据(AAA.gds)的工作。
在对日志显示部90中显示的更新候选的设计数据筛选时，使用After输入部84、Before输入部85、Upper输入部86、Under输入部87以及Search 按钮88，该After输入部84、Before输入部85、Upper输入部86、Under输入部87以及Search按钮88是利用图3所示的筛选信息输入显示部246的功能来显示于画面上的输入部(筛选信息输入部)。例如，若在选中After输入部84的复选框，输入了日期之后，点击Search按钮88，则在日志显示部 90中仅显示与在该日期以后被更新的更新设计数据相关的信息。同样地，若向Before输入部85输入日期，则在日志显示部90中仅显示与在该日期以前被更新的更新设计数据相关的信息。在向After输入部84以及Before输入部 85这两者输入了日期的情况下，在日志显示部90中仅显示与在规定期间内被更新的更新设计数据相关的信息。
另外，例如，若在选中Upper输入部86的复选框，输入了序列号之后，点击Search按钮88，则在日志显示部90中仅显示与具有该序列号以上的序列号的更新设计数据相关的信息。同样地，若向Under输入部87输入序列号，则在日志显示部90中仅显示与具有该序列号以下的序列号的更新设计数据相关的信息。在向Upper输入部86以及Under输入部87这两者输入了序列号的情况下，在日志显示部90中仅显示与具有规定编号内的序列号的更新设计数据相关的信息。若具有如这样的筛选信息输入显示部246的功能，则在可置换的更新设计数据有很多的情况下，由于能够通过筛选来减少该可置换的更新设计数据的数量，所以能够高效地进行更新工作。
在变更被输入至数据名称输入部82的设计数据D0或者更新设计数据 D1所属的类型的情况或者在未设定类型名时设定类型名等情况下等，利用图6等所示的类型变更部89输入变更后的类型名或者初始的类型名。
＜直接描画装置的结构＞
以下，参照图9以及图10，针对直接描画装置100的结构进行说明。图 9是本发明的一个实施方式的直接描画装置100的侧视图，图10是图9所示的直接描画装置100的俯视图。由于直接描画装置100是不使用光掩模的曝光装置，所以能够恰当地应对各种各样的图案描画。另外，在具有直接描画装置100的图案描画***4中，由于为了应对各种各样的图案而频繁地更新设计数据，所以恰当地使用上述GUI装置2。
该直接描画装置100是向表面被赋予了光致抗蚀剂膜(感光性材料)的半导体基板或者玻璃基板等基板W的表面扫描被空间调制过的光束来描画曝光图案的装置。具体地，在多芯片模块的制造工序中，该直接描画装置100 是用于在作为描画对象的支撑基板(以下，简称为“基板”。)W的表面上形成的具有感光性的光致抗蚀剂膜上描画布线图案的装置。基板W是圆形状的，在基板W的外周缘的一部分形成有被称为槽口(notch)的切口。有时也会取代槽口而在基板W的外周缘的一部分设有定向平面(orientation flat)。另外，直接描画装置100是以在基板W内划分出的块(芯片)为单位来施加图案描画处理的图案描画装置。此外，直接描画装置100的描画动作是使用上述的作业单JT来执行的。
如图9以及图10所示，直接描画装置100主要具有保持基板W的载物台10、使载物台10移动的载物台移动机构20、测量与载物台10的位置对应的位置参数的位置参数测量机构30、向基板W的表面照射脉冲光的光学头部50、一个对准摄像头60和控制部70。
另外，在该直接描画装置100中，通过在主体框架101上安装盖102而形成的主体内部配置装置各部分，来构成主体部，并且在主体部的外侧(在本实施方式中，如图9所示是主体部的+Y侧)配置有基板收纳盒110。在该基板收纳盒110中收纳有应该接受曝光处理的未处理基板W，利用配置于主体内部的搬运机械手120将该基板W装载到主体部。另外，在对未处理基板W施加了曝光处理(图案描画处理)之后，利用搬运机械手120将该基板W从主体部卸载下来并放回基板收纳盒110。如此，搬运机械手120发挥搬运部的功能。
如图10所示，在该主体部中，在被盖102包围的主体内部的+Y侧端部配置有搬运机械手120。另外，在该搬运机械手120的-Y侧配置有基台130。该基台130的一端侧区域(图9以及图10的+Y侧区域)作为与搬运机械手120之间交接基板W的基板交接区域。另外，基台130的Y方向中央侧区域作为对基板W进行图案描画的图案描画区域。如图10所示，头支撑部140具有从基台130向上方立设的两条腿构件141和在两条腿构件141的-Y 侧从基台130向上方立设的两条腿构件142。另外，头支撑部140还具有以在两条腿构件141的顶部之间桥接的方式设置的梁构件143和以在两条腿构件142的顶部之间桥接的方式设置的梁构件144。而且，如图9所示，将对准摄像头(摄像部)60固定在梁构件143的-Y侧，如后述那样能够拍摄在载物台10上保持的基板W的表面(被描画面、被曝光面)上的多个对准标记或者下层图案。
利用载物台移动机构20使作为支撑基板W的支撑部的载物台10在基台130上在X方向、Y方向还有θ方向上移动。即，载物台移动机构20以使载物台10在水平面内进行二维移动的方式来定位，并且以使载物台10绕θ轴(铅直轴)旋转来调整相对于后述的光学头部50的相对角度的方式来定位。
另外，光学头部50以可在上下方向上自由移动的方式安装于如此构成的头支撑部140上。如此，对准摄像头60和光学头部50安装于头支撑部140，在XY平面内两者的位置关系被固定。另外，该光学头部50对基板W进行图案描画，被头移动机构(省略图示)在上下方向上移动。而且，通过头移动机构工作，由此光学头部50在上下方向上移动，能够高精度地调整光学头部50与在载物台10上保持的基板W的距离。如此，光学头部50发挥描画头的功能。
而且，以桥接两条梁构件143、144、两条腿构件141的顶部和两条腿构件142的顶部的方式设有收纳了光学头部50的光学***的箱172。
载物台10具有圆筒状的外形，是用于在其上表面以水平姿势放置并保持基板W的保持部。在载物台10的上表面形成有多个吸孔(省略图示)。因此，在将基板W放置于载物台10上时，基板W借助多个吸孔的吸引压而被吸附固定于载物台10的上表面。此外，在本实施方式中，通过旋涂法(旋转式涂敷方法)等预先在作为描画处理的对象的基板W的表面(主面)形成有光致抗蚀剂(感光性材料)膜。
载物台移动机构20是用于使载物台10相对于直接描画装置100的基台 130在主扫描方向(Y轴方向)、在副扫描方向(X轴方向)以及旋转方向 (绕Z轴的旋转方向)上移动的机构。载物台移动机构20具有使载物台10 旋转的旋转机构21、将载物台10支撑为能够旋转的支撑板22、使支撑板22 在副扫描方向上移动的副扫描机构23、经由副扫描机构23来支撑支撑板22 的底板24和使底板24在主扫描方向上移动的主扫描机构25。
旋转机构21具有包括安装于载物台10的内部的转子的马达。另外，在载物台10的中央部下表面侧与支撑板22之间设有旋转轴承机构。因此，在使马达工作时，转子在θ方向上移动，载物台10以旋转轴承机构的旋转轴为中心在规定角度的范围内旋转。
副扫描机构23具有利用安装于支撑板22的下表面的可动件和铺设于底板24的上表面的固定件产生副扫描方向的推进力的线性马达23a。另外，副扫描机构23还具有相对于底板24沿着副扫描方向引导支撑板22的一对导轨23b。因此，在使线性马达23a工作时，支撑板22以及载物台10沿着底板24上的导轨23b在副扫描方向上移动。
主扫描机构25具有利用安装于底板24的下表面的可动件和铺设于头支撑部140的上表面的固定件来产生主扫描方向的推进力的线性马达25a。另外，主扫描机构25还具有相对于头支撑部140沿着主扫描方向引导底板24 的一对导轨25b。因此，在使线性马达25a工作时，沿着基台130上的导轨 25b在主扫描方向上移动底板24、支撑板22以及载物台10。此外，作为如这样的载物台移动机构20，能够使用以往就普遍使用的X-Y-θ轴移动机构。
位置参数测量机构30是用于利用激光的干涉来针对载物台10测量位置参数的机构。位置参数测量机构30主要具有激光出射部31、分束器32、弯束器33、第一干涉仪34以及第二干涉仪35。
激光射出部31是用于射出测量用的激光的光源装置。激光射出部31设置于固定位置，即设置于相对于本装置的基台130或者光学头部50固定的位置。从激光射出部31射出的激光首先入射至分束器32，并分支为从分束器32射向弯束器33的第一分支光和从分束器32射向第二干涉仪35的第二分支光。
第一分支光被弯束器33反射，并入射至第一干涉仪34，并且从第一干涉仪34照射到载物台10的-Y侧的端边的第一部位(此处是-Y侧的端边的中央部)10a。然后，在第一部位10a反射的第一分支光再次入射至第一干涉仪34。第一干涉仪34基于射向载物台10的第一分支光与从载物台10反射的第一分支光的干涉，来测量与载物台10的第一部位10a的位置对应的位置参数。
另一方面，第二分支光入射至第二干涉仪35，并且从第二干涉仪35照射到载物台10的-Y侧的端边的第二部位(与第一部位10a不同的部位)10b。然后，在第二部位10b反射的第二分支光再次入射至第二干涉仪35。第二干涉仪35基于射向载物台10的第二分支光与从载物台10反射的第二分支光的干涉，测量与载物台10的第二部位10b的位置对应的位置参数。第一干涉仪34以及第二干涉仪35将通过各自的测量获取的位置参数发送至控制部 70。
光学头部50是向在载物台10上保持的基板W的表面照射脉冲光的光照射部。梁构件143以跨过载物台10以及载物台移动机构20的方式架设于基台130上，光学头部50设于梁构件143上的副扫描方向的大致中央。光学头部50经由照明光学***53与一个激光振荡器54连接。另外，作为光源的激光振荡器54与驱动激光振荡器54的激光驱动部55连接。在使激光驱动部55工作时，从激光振荡器54射出脉冲光，该脉冲光经由照明光学***53被导入光学头部50的内部。
在光学头部50的内部，从导入部将脉冲光从照明光学***53导入到光学头部50的内部，将导入的脉冲光设置为形成了规定的图案形状的光束，来将脉冲光照射到基板W的表面，通过曝光基板W上的光致抗蚀剂膜(感光层)，来在基板W的表面描画图案。
在图9的直接描画装置100中，作为光源的激光振荡器54设于箱172 内，将来自激光振荡器54的光经由照明光学***53导入光学头部50的内部。在本实施方式的基板W的主面上预先形成有通过紫外线的照射而感光的光致抗蚀剂(感光性材料)膜，激光振荡器54是射出波长λ大约是365nm 的紫外线(i线)的激光源。当然，激光振荡器54也可以射出基板W的感光性材料可以感光的波段中含有的其他波长的光。
图11是示出直接描画装置100的照明光学***53以及投影光学*** 517的图。来自图9所示的激光振荡器54的光经由图11所示的照明光学***53以及反射镜516照射到光调制单元512的空间光调制器511。经空间光调制器511空间调制过的光经由投影光学***517照射到载物台10所支撑的基板W上。
照明光学***53具有望远镜540、聚光镜541、衰减器542以及聚焦透镜543。望远镜540具有在X以及Z方向上扩大光(激光束)的光束直径(截面形状)的功能，由3张透镜构成。聚光镜541具有在X方向上扩大激光束的功能。衰减器542对通过的激光束的能量(透过量)进行调整。聚焦透镜 543具有在Z方向上缩小激光束的截面尺寸的功能。从聚焦透镜543射出的光(激光束)经由镜子516作为在X方向上延伸并且在Y方向上缩小的线状的照明光来照射到空间光调制器511。此外，照明光学***53并非必需如图11所示那样构成，也可以追加其他的光学元件。
为了使从空间光调制器511反射的正反射光(0次光)通过后述的投影光学***的遮挡板521的开口，而从空间光调制器511产生的(±1次)衍射光被遮挡板521遮挡，从照明光学***53照射到空间调制器511的光优选接***行光。因此，照明光学***53的数值孔径NA1大于0(零)，且设定为0.06以下。此外，数值孔径NA1是在将在X方向上延伸的线状的照明光所贯穿的YZ平面中的相对于照明光的光轴的最大角度设置为θ1时，通过NA1＝n·sinθ1求出的。其中，n是介质的折射率，在本实施方式的情况下，由于介质是空气，所以折射率n是1。
投影光学***517具有4张透镜518、519、520、522，遮挡板(光圈构件)521、变焦透镜523以及聚焦透镜524。投影光学***517的透镜518、 519、520、522以及遮挡板521构成两侧远心(telecentric)的纹影(schrieren) 光学***，通过透镜520的光被导入具有开口的遮挡板521，一部分光(正反射光(0次光))通过开口被导入透镜522，剩余的光((±1)次衍射光) 被遮挡板521遮挡。通过透镜522的光被导入变焦透镜523，经由聚焦透镜 524以规定的倍率被导向基板W上的光致抗蚀剂膜(感光性材料)。此外，投影光学***517并非必需如图11所示那样构成，也可以追加其他的光学元件。
为了缩小与焦点位置(聚焦位置)对应的照射到基板W上的光的直径 (宽度)的变化，需要将投影光学***517的景深设定得较长(深)。因此，投影光学***517的数值孔径NA2优选设定得较小，例如设定为0.1。此外，数值孔径NA2在将在X方向上延伸的线状的投影光所贯穿的YZ平面中的相对于投影光的光轴的最大角度设置为θ2时，通过NA2＝n·sinθ2求出。其中，n是介质的折射率，在本实施方式的情况下，由于介质是空气，所以折射率n是1。
如上述，为了使由空间光调制器511反射的正反射光以期望的形状照射到基板W上，照明光学***53的数值孔径NA1除以投影光学***517的数值孔径NA2的值(σ值)优选接近0，例如，设定为大于0，且，在0.6以下。
空间光调制器511与控制光调制单元512的调制的描画控制部515电连接。描画控制部515以及投影光学***517内置于光学头部50。在描画控制部515上分别电连接有曝光控制部514和描画信号处理部513。曝光控制部 514与描画信号处理部513和载物台移动机构20电连接。曝光控制部514以及描画信号处理部513设于图13的控制单元70内。
图12是放大示出空间光调制器511的图。图12所示的空间光调制器511 是利用半导体装置制造技术制造的能够变更格子的深度的衍射光栅。在空间光调制器511中，多个可动带(ribbon)530a以及固定带531b交错地平行排列形成，如后述，可动带530a能够相对于背后的基准面单独地升降移动，固定带531b相对于基准面固定。已知的衍射光栅型的空间光调制器有例如 GLV(Grating Light Valve：光栅光阀)(硅光机(加利福尼亚州圣何塞市)的注册商标)。
在固定带531b的上表面设有固定反射面，在可动带530a的上表面设有可动反射面。向多个可动带530a以及固定带531b上照射光束截面沿着排列方向较长的线状的光。在空间光调制器511中，在以相邻的一条可动带530a 以及一条固定带531b这一个带对作为格子元素时，彼此相邻的3个以上的格子元素与描画的图案的一个像素对应。在本实施方式中，以彼此相邻的4 个格子元素的集合作为与一个像素对应的调制元件，在图13中用标上附图标记535的粗线的矩形包围构成一个调制元件的带对的集合。
驱动器电路单元536向可动带530a与基准面之间施加电压(电位差)，由此使可动带530a向基准面侧挠曲。结果是，以可动带530a在离开基准面的初始位置和与基准面接触的位置之间升降移动的方式，来设定可动带530a 的高度位置。
图9所示的控制部70是用于一边执行各种运算处理，一边控制直接描画装置100内的各部分的动作的信息处理部。图13是示出直接描画装置100 的上述各部分与控制部70之间的连接结构的框图。如图13所示，控制部70 与上述的旋转机构21、线性马达23a、25a、激光射出部31、第一干涉仪34、第二干涉仪35、照明光学***53、激光驱动部55、投影光学***517以及对准摄像头60电连接。控制部70由具有例如CPU和存储器的计算机构成，计算机按照计算机中安装的程序来工作，由此控制上述各部分的动作。
另外，控制部70具有计算机71和曝光控制部514，该计算机71具有 CPU和存储器72等。图14是示出控制描画动作的控制部的框图。计算机 71内的CPU按照规定的程序进行运算处理，实现光栅处理部73以及数据生成部75。
例如与一个半导体封装对应的图案的数据是由外部的CAD等生成的图案数据，预先作为布线图案数据76而准备在存储器72中，基于该布线图案数据76和数据生成部75以如后述的方式在基板W上描画半导体封装的描画图案。此外，此处，计算机71起到图11所示的描画信号处理部513的作用。
上述布线图案数据76相当于从图1所示的设计数据创建装置1经由网络N发送至直接描画装置100的上述的设计数据D0或者更新设计数据D1 等。另外，在存储器72中还保存有从图像处理装置2经由网络N发送至直接描画装置100的上述作业单JT。
光栅处理部73分割由数据生成部75生成的描画数据所表示的单位区域来进行光栅处理，生成光栅数据77并保存于存储器72。从而，在准备好光栅数据77之后或者与准备光栅数据77并行地描画未处理的基板W。上述的光栅处理是按照由上述作业单JT定义的RIP展开处理等来执行的，并生成相当于本发明的描画数据的光栅数据77。
这样生成的描画数据被从数据生成部75发送至曝光控制部514，曝光控制部514控制光调制单元512、载物台移动机构20的各部分，由此进行一条条纹大小的描画。此外，曝光控制部514对光调制单元512的控制如图11 所示那样经由描画控制部515来执行。而且，在对一个条纹的曝光记录结束时，对下一个分割区域进行同样的处理，按各个条纹反复描画。本发明的控制部在本实施方式中通过控制部70、描画控制部515、曝光控制部514以及驱动器电路单元536等实现。
另外，直接描画装置100在进行各个条纹的描画动作时，曝光控制部514 经由图11所示的描画控制部515来执行对光调制单元512的控制，由此基于对将基板W划分出的多个块中的每一个设定的曝光条件，以块为单位执行曝光动作。该块(芯片)相当于在图8所示的确认显示部92中显示的芯片96。
在本实施方式中，将图14所示的计算机71设于直接描画装置100中，但是也可以将该计算机71设于图1所示的图像处理装置3内。在这种情况下，由图像处理装置3执行上述光栅处理(RIP展开)等，将生成的光栅数据(描画数据)经由网络N发送至直接描画装置100。
＜载物台的位置控制＞
该直接描画装置100具有基于上述的第一干涉仪34和第二干涉仪35的各测量结果来控制载物台10的位置的功能。以下，针对这样的载物台10的位置控制进行说明。
如先前所述，第一干涉仪34以及第二干涉仪35分别测量与载物台10 的第一部位10a以及第二部位10b的位置对应的位置参数。第一干涉仪34 以及第二干涉仪35将通过各自的测量而获取的位置参数发送至控制部70。如图14所示，控制部70具有计算机71来作为计算部。该计算机71的功能是通过例如计算机71的CPU按照规定的程序进行动作来实现的。
另一方面，控制部70基于从第一干涉仪34以及第二干涉仪35发送来的位置参数来计算载物台10的位置(Y轴方向的位置以及绕Z轴的旋转角度)。以下，控制部70一边参照计算出的载物台10的位置，一边使载物台移动机构20工作，由此准确地控制载物台10的位置和载物台10的移动速度。此处，控制部70使载物台10绕Z轴旋转，由此也可以修正伴随着主扫描方向的移动而产生的载物台10的倾斜(绕Z轴的旋转角度的偏离)。另外，控制部70一边参照计算出的载物台10的位置，一边使激光驱动部55 工作，由此准确地控制脉冲光对基板W的表面的照射位置。
＜直接描画装置的动作＞
接着，针对上述的直接描画装置100的动作的一个例子，一边参照图15 的流程图一边进行说明。
在直接描画装置100中对基板W进行处理时，首先，进行调整从光学头部50照射的脉冲光的位置和光量的校正处理(步骤S1)。在校正处理中，首先，使底板24移动，由此将未图示的CCD摄像头配置于光学头部50的下方。然后，一边使CCD摄像头在副扫描方向上移动，一边从光学头部50 照射脉冲光，利用CCD摄像头拍摄照射的脉冲光。控制部70基于获取的图像数据，使光学头部50的照明光学***53动作，通过这样，调整从光学头部50照射的脉冲光的位置或者光量。
在完成校正处理时，以下，工作者或者搬运机械手120将基板W搬入并放置于载物台10的上表面(步骤S2)。
接着，直接描画装置100进行调整放置于载物台10上的基板W与光学头部50的相对位置的对准处理(步骤S3)。在上述的步骤S2中，将基板 W放置于载物台10上的大致规定的位置，但是，作为用于描画微细的图案的位置精度而言经常不足。因此，进行对准处理由此对基板W的位置和倾角进行微调整，提高后续的描画处理的精度。
在对准处理中，首先，利用对准摄像头60分别拍摄形成于基板W的上表面的四角的对准标记。控制部70基于由对准摄像头60获取的图像中的各对准标记的位置，计算基板W距理想位置的偏离量(X轴方向的位置偏离量、 Y轴方向的位置偏离量以及绕Z轴的倾斜量)。然后，使载物台移动机构20 向降低计算出的偏离量的方向进行动作，来修正基板W的位置。
接着，直接描画装置100对对准处理后的基板W进行描画处理(步骤 S4)。即，直接描画装置100一边使载物台10在主扫描方向以及副扫描方向上移动，一边从光学头部50向基板W的上表面照射脉冲光，由此针对在基板W内划分出的多个块中的每一个在基板W的上表面描画规则图案。该描画动作是基于上述描画数据来执行的。
在完成描画处理时，直接描画装置100使载物台移动机构20动作来使载物台10以及基板W移动至搬出位置。然后，工作者或者搬运机械手120 将基板W从载物台10的上表面搬出(步骤S5)。
＜变形实施＞
在上述实施方式的直接描画装置100中，基板W相对于光学头部50等移动，但是也可以是使光学头部50等相对于被固定支撑的基板W移动，以实现相对移动。
图案描画装置不限于对如上述那样形成芯片等的基板W描画图案的直接描画装置100，例如，也可以是对应该作为曝光处理所使用的光掩模的基板描画图案的图案描画装置。
附图标记的说明
2 GUI装置
4 图案描画***
5 计算机
82 数据名称输入部
83 作业单列表显示部
90 日志显示部
91 更新按钮
100 直接描画装置(图案描画装置)
200 显示部
234 操作部
240 显示控制部
241 设计数据信息输入部
242 作业单信息显示部
243 作业单强调显示部
244 置换指示输入显示部
245 更新候选显示部
W 基板
P 程序
Claims (9)
1.一种图案描画装置用的GUI装置，所述GUI装置在更新作业单时使用，所述作业单定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理，其特征在于，
具有：
显示部，具有画面，
操作部，操作所述显示部的所述画面，
显示控制部，控制所述显示部的画面显示；
所述显示控制部具有：
设计数据信息输入部，在所述画面上显示用于输入与更新后的更新设计数据相关的信息的输入部，
作业单信息显示部，在所述画面上显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是与利用所述操作部输入到所述设计数据信息输入部的信息相关的作业单，
作业单强调显示部，在所述画面上强调显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是利用所述操作部从利用所述作业单信息显示部显示的与作业单相关的信息中选择出的作业单，并且该作业单作为将设计数据置换为所述更新设计数据的作业单，
置换指示输入显示部，在画面上显示用于输入如下指示的输入部，该指示是针对与利用所述作业单强调显示部在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，将所述设计数据置换为所述更新设计数据的指示。
2.如权利要求1所述的图案描画装置用的GUI装置，其特征在于，
所述显示控制部还具有更新候选显示部，所述更新候选显示部根据与利用所述作业单强调显示部在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，在所述画面上显示与能够用于更新的更新设计数据即更新候选设计数据相关的信息。
3.如权利要求2所述的图案描画装置用的GUI装置，其特征在于，
所述显示控制部还具有筛选信息输入显示部，所述筛选信息输入显示部在画面上显示用于筛选所述更新候选设计数据的筛选信息输入部。
4.一种图案描画***，其特征在于，具有：
权利要求1～3中任一项所述的图案描画装置用的GUI装置；
图案描画装置，基于根据更新设计数据按照利用所述GUI装置更新后的作业单来生成的描画数据，来在基板上描画图案。
5.如权利要求4所述的图案描画***，其特征在于，
所述图案描画装置是对在基板上形成的光致抗蚀剂膜扫描被空间调制过的光束来描画图案的直接描画装置。
6.一种作业单更新方法，对定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理的作业单进行更新，其特征在于，包括：
更新设计数据输入工序，利用GUI装置所具有的操作部，向在GUI装置所具有的显示部的画面上显示的设计数据信息输入部输入与更新后的更新设计数据相关的信息，
作业单选择工序，利用操作部从与根据通过所述更新设计数据输入工序输入的信息在所述画面上显示的信息对应的作业单中，选择将设计数据置换为更新设计数据的作业单，
置换工序，针对通过所述作业单选择工序选择出的作业单，利用所述操作部将所述设计数据置换为所述更新设计数据。
7.一种记录介质，存储有程序，能够由图案描画装置用的GUI装置所具有的计算机能够读取，所述GUI装置在更新作业单时使用，该作业单定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理，其特征在于，通过执行所述程序使计算机发挥如下功能：
设计数据信息输入部显示功能，在所述GUI装置所具有的显示部的画面上，显示设计数据信息输入部，所述设计数据信息输入部用于输入与更新后的更新设计数据相关的信息，
作业单信息显示功能，在所述画面上显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是与利用所述GUI装置所具有的操作部输入到所述设计数据信息输入部的信息相关的作业单，
作业单强调显示功能，在画面上强调显示与如下的作业单相关的信息，该作业单是利用操作部从利用所述作业单信息显示功能在画面上显示的与作业单相关的信息中选择出的作业单，并且该作业单作为将利用所述操作部选择出的设计数据置换为所述更新设计数据的作业单，
置换指示输入显示功能，在画面上显示用于输入如下指示的输入部，该指示是针对与利用所述作业单强调显示功能在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，将所述设计数据置换为所述更新设计数据的指示。
8.如权利要求7所述的记录介质，其特征在于，
还使计算机发挥更新候选显示功能，根据与利用作业单强调显示功能在所述画面上强调显示的信息对应的作业单，在画面上显示与能够用于更新的更新设计数据即更新候选设计数据相关的信息。
9.如权利要求8所述的记录介质，其特征在于，
还使计算机发挥筛选信息输入显示功能，在画面上显示用于筛选所述更新候选设计数据的筛选信息输入部。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014027284A JP6389040B2 (ja) | 2014-02-17 | 2014-02-17 | パターン描画装置用のｇｕｉ装置、パターン描画システム、ジョブチケット更新方法およびプログラム |
| JP2014-027284 | 2014-02-17 | ||
| PCT/JP2015/051355 WO2015122243A1 (ja) | 2014-02-17 | 2015-01-20 | パターン描画装置用のｇｕｉ装置、パターン描画システム、ジョブチケット更新方法およびプログラム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105992997A CN105992997A (zh) | 2016-10-05 |
| CN105992997B true CN105992997B (zh) | 2019-06-07 |
Family
ID=53799991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201580008338.4A Active CN105992997B (zh) | 2014-02-17 | 2015-01-20 | 图案描画装置用的gui装置、图案描画***、作业单更新方法及记录介质 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6389040B2 (zh) |
| KR (1) | KR101800990B1 (zh) |
| CN (1) | CN105992997B (zh) |
| TW (1) | TWI553425B (zh) |
| WO (1) | WO2015122243A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112231039B (zh) * | 2020-10-23 | 2023-09-19 | 岭东核电有限公司 | 工单信息统计方法、装置、计算机设备和存储介质 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002049653A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-15 | Fujitsu Ltd | パターンデータ修正方法及び装置 |
| JP2008197451A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 抽出方法および抽出装置ならびにプログラム |
| CN102681355A (zh) * | 2011-03-18 | 2012-09-19 | 大日本网屏制造株式会社 | 描画数据修正装置及描画装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20060123381A1 (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-08 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Data generating system, patterning data generating apparatus, method of generating patterning data and storage medium carrying patterning data |
| JP2006162956A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成用データ生成装置、パターン形成用データ生成システムおよびパターン形成用データの生成方法 |
| JP2008242356A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 描画データ作成方法および描画データ作成装置 |
| US20080205767A1 (en) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Fujifilm Corporation | Extraction method, extraction apparatus, program, drawing data creation method, and drawing data creation apparatus |
| KR20090063414A (ko) * | 2007-12-14 | 2009-06-18 | 김순필 | 컴퓨터를 이용한 테스트를 위한 프로그램 |
| KR20100077301A (ko) * | 2008-12-29 | 2010-07-08 | 박영미 | 특정 프로그램만 실행 위한 프로그램 |
| KR20120130124A (ko) * | 2011-05-20 | 2012-11-29 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 노광장치, 노광방법, 및 표시용 패널기판의 제조방법, 및 노광장치의 검사방법 |
| JP5852374B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2016-02-03 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 描画装置および描画方法 |
| JP5801674B2 (ja) | 2011-09-30 | 2015-10-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 直接描画装置用の画像表示装置、およびプログラム |
| JP5946620B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2016-07-06 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 直接描画装置用の画像表示装置、およびプログラム |
| TW201314376A (zh) * | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Dainippon Screen Mfg | 直接描繪裝置用之圖像顯示裝置及記錄媒體 |
-
2014
- 2014-02-17 JP JP2014027284A patent/JP6389040B2/ja active Active
-
2015
- 2015-01-20 WO PCT/JP2015/051355 patent/WO2015122243A1/ja active Application Filing
- 2015-01-20 KR KR1020167016862A patent/KR101800990B1/ko active IP Right Grant
- 2015-01-20 CN CN201580008338.4A patent/CN105992997B/zh active Active
- 2015-02-16 TW TW104105415A patent/TWI553425B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002049653A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-15 | Fujitsu Ltd | パターンデータ修正方法及び装置 |
| JP2008197451A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 抽出方法および抽出装置ならびにプログラム |
| CN102681355A (zh) * | 2011-03-18 | 2012-09-19 | 大日本网屏制造株式会社 | 描画数据修正装置及描画装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6389040B2 (ja) | 2018-09-12 |
| TW201543173A (zh) | 2015-11-16 |
| KR101800990B1 (ko) | 2017-11-23 |
| TWI553425B (zh) | 2016-10-11 |
| CN105992997A (zh) | 2016-10-05 |
| WO2015122243A1 (ja) | 2015-08-20 |
| KR20160089483A (ko) | 2016-07-27 |
| JP2015153213A (ja) | 2015-08-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI581068B (zh) | 微影裝置、元件製造方法及將圖案施加於基板之方法 | |
| CN109073986B (zh) | 分段对准建模方法 | |
| US9235127B2 (en) | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image | |
| CN103048885A (zh) | 无掩膜曝光***及方法 | |
| KR20220143743A (ko) | 리소그래피 공정에서 오버레이 오류를 보정하기 위한 시스템 및 방법 | |
| CN109557768A (zh) | 曝光装置以及曝光方法 | |
| TW201628060A (zh) | 圖案形成裝置及圖案形成方法 | |
| WO2019218676A1 (zh) | 数字化光刻***和方法 | |
| CN106716255A (zh) | 光刻设备和制造器件的方法 | |
| JP2009246069A (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
| CN105992997B (zh) | 图案描画装置用的gui装置、图案描画***、作业单更新方法及记录介质 | |
| JPWO2018061811A1 (ja) | 決定方法及び装置、プログラム、情報記録媒体、露光装置、レイアウト情報提供方法、レイアウト方法、マーク検出方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
| CN104991422B (zh) | 曝光装置用的gui装置、曝光***及曝光条件设定方法 | |
| CN105981096B (zh) | 直接描画装置用的gui装置、直接描画***、描画区域设定方法以及记录介质 | |
| US20230040198A1 (en) | Overlaying on locally dispositioned patterns by ml based dynamic digital corrections (ml-ddc) | |
| JP6855008B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法 | |
| KR20160038788A (ko) | 묘화 방법 | |
| JP5379638B2 (ja) | 露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法 | |
| JP2011035333A (ja) | 走査型露光装置、走査型露光方法、半導体装置の製造方法およびプログラム | |
| KR102653607B1 (ko) | 묘화 시스템 | |
| JP2013165091A (ja) | 描画装置、テンプレート作成装置、および、テンプレート作成方法 | |
| US20160284044A1 (en) | Low-latency high bandwidth data path | |
| CN110930316A (zh) | 灰度图像的处理曝光方法、装置、***和设备 | |
| JP2014146014A (ja) | パターン形成装置及びパターン形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |