CN105974509B - 偏振片的制造方法及偏振膜的保管方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种偏振片的制造方法，其是在偏振膜的至少一面具备保护膜的偏振片的制造方法，该方法依次包括以下工序：由聚乙烯醇类树脂层制作偏振膜的偏振膜制作工序、将所述偏振膜在35℃以上的温度下保管20小时以上的保管工序、以及在所述偏振膜的至少一面隔着由活性能量线固化性粘接剂形成的粘接剂层贴合保护膜的贴合工序。

Description

偏振片的制造方法及偏振膜的保管方法

技术领域

本发明涉及一种偏振片的制造方法及偏振膜的保管方法。

背景技术

偏振片被广泛用于液晶显示装置等显示装置、特别是近年来被广泛用于智能手机这样的各种移动设备。作为偏振片，通常为使用粘接剂在偏振膜的一面或两面贴合保护膜而形成的结构，但是随着对移动设备方面的发展，越来越要求构成偏振片的偏振膜、保护膜的薄膜化。

作为上述粘接剂，已知有聚乙烯醇水溶液这样的水系粘接剂、紫外线固化性粘接剂这样的活性能量线固化性粘接剂，但在贴合透湿性较低的保护膜的情况下，难以在保护膜贴合后从粘接剂层中挥发除去水分，因此，多使用活性能量线固化性粘接剂(例如，日本特开2013-205741号公报、日本特开2012-203205号公报、日本特开2012-203108号公报、日本特开2004-245925号公报)。

发明内容

对于在偏振片与保护膜的贴合中使用了活性能量线固化型粘接剂的偏振片而言，在温度大幅变化的环境下有时发生开裂等外观不良而不具有足够的耐久性。

因此，本发明的目的在于提供一种方法，其是在偏振片与保护膜的贴合中使用了活性能量线固化型粘接剂的偏振片的制造方法，该方法能够制造对温度变化显示出良好耐久性的偏振片。

本发明提供一种以下所示的偏振片的制造方法及偏振膜的保管方法。

[1]一种偏振片的制造方法，其是在偏振膜的至少一面具备保护膜的偏振片的制造方法，该方法依次包括以下工序：

由聚乙烯醇类树脂层制作偏振膜的偏振膜制作工序，

将所述偏振膜在35℃以上的温度下保管20小时以上的保管工序，以及

在所述偏振膜的至少一面隔着由活性能量线固化性粘接剂形成的粘接剂层贴合保护膜的贴合工序。

[2]根据[1]所述的偏振片的制造方法，其中，所述保管工序的温度为50℃以下。

[3]根据[1]或[2]所述的偏振片的制造方法，其中，所述保管工序是对在基材膜上设置所述偏振膜而成的偏振性叠层膜进行保管的工序，

所述偏振性叠层膜通过包括以下工序的工序而得到：

在所述基材膜的至少一面涂敷含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液，然后使其干燥，由此形成所述聚乙烯醇类树脂层而得到叠层膜的树脂层形成工序，

拉伸所述叠层膜而得到拉伸膜的拉伸工序，以及

用二色性色素对所述拉伸膜的所述聚乙烯醇类树脂层染色而形成偏振膜的染色工序。

[4]根据[1]～[3]中任一项所述的偏振片的制造方法，其中，所述偏振膜的厚度为10μm以下。

[5]一种偏振膜的保管方法，该方法包括将偏振膜在35℃以上的温度下保管20小时以上的工序。

[6]根据[5]所述的偏振膜的保管方法，其中，所述偏振膜由聚乙烯醇类树脂层制作。

本发明的上述目的及其它目的、特征、方面及优点应当能从与附图关联而理解的本发明的以下详细的说明中得以明确。

附图说明

图1是示出根据本发明的制造方法得到的偏振片的层结构的一个例子的示意剖面图。

图2是示出本发明的偏振片的制造方法的优选的一个例子的流程图。

图3是示出树脂层形成工序中得到的叠层膜的层结构的一个例子的示意剖面图。

图4是示出拉伸工序中得到的拉伸膜的层结构的一个例子的示意剖面图。

图5是示出染色工序中得到的偏振性叠层膜的层结构的一个例子的示意剖面图。

图6是示出第1贴合工序中得到的贴合膜的层结构的一个例子的示意剖面图。

图7是示出剥离工序中得到的带单面保护膜的偏振片的层结构的一个例子的示意剖面图。

符号说明

1 偏振片(带双面保护膜的偏振片)、5 偏振膜、10 第1保护膜、15第1粘接剂层、20第2保护膜、25 第2粘接剂层、6 聚乙烯醇类树脂层、6’ 拉伸后的聚乙烯醇类树脂层、30 基材膜、30’ 拉伸后的基材膜、100 叠层膜、200 拉伸膜、300 偏振性叠层膜、400 贴合膜、500带单面保护膜的偏振片。

具体实施方式

<偏振片的制造方法>

参照图1，本发明的制造方法涉及用于制造偏振片(带双面保护膜的偏振片)1的方法，所述偏振片1具备偏振膜5、在偏振膜5的一面隔着第1粘接剂层15而叠层的第1保护膜10以及在偏振膜5的另一面隔着第2粘接剂层25而叠层的第2保护膜20。本发明的制造方法也可以用于制造带单面保护膜的偏振片的方法。带单面保护膜的偏振片具有作为图1的带双面保护膜的偏振片1的层结构的一部分的如下层结构，该层结构由偏振膜5、第1粘接剂层15和第1保护膜10构成。

以下，示出实施方式对本发明的偏振片的制造方法详细地进行说明。

[第1实施方式]

参照图2，本实施方式的偏振片的制造方法为使用基材膜制造带双面保护膜的偏振片1的方法，该方法依次包括下述工序：

在基材膜的至少一面涂敷含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液而得到涂敷层，然后使涂敷层干燥，由此形成聚乙烯醇类树脂层而得到叠层膜的树脂层形成工序S10，

拉伸叠层膜而得到拉伸膜的拉伸工序S20；

用二色性色素对拉伸膜的聚乙烯醇类树脂层染色而形成偏振膜，由此得到偏振性叠层膜的染色工序S30；

将偏振性叠层膜在35℃以上的温度下保管20小时以上的保管工序S40；

在偏振性叠层膜的偏振膜上隔着第1粘接剂层贴合第1保护膜而得到贴合膜的第1贴合工序S50；

从贴合膜上剥离除去基材膜而得到带单面保护膜的偏振片的剥离工序S60；以及

在带单面保护膜的偏振片的偏振膜面上隔着第2粘接剂层贴合第2保护膜的第2贴合工序S70。

需要说明的是，制造带单面保护膜的偏振片的方法依次包括上述方法中的树脂层形成工序S10、拉伸工序S20、染色工序S30、保管工序S40、第1贴合工序S50、剥离工序S60。

以下，参照图3～图7对各工序进行说明。需要说明的是，在树脂层形成工序S10中，虽然也可以在基材膜的两面形成聚乙烯醇类树脂层，但以下主要对形成于单面的情况进行说明。

(1)树脂层形成工序S10

参照图3对树脂层形成工序S10进行说明。本工序是在基材膜30的至少一面形成聚乙烯醇类树脂层6而得到叠层膜100的工序。该聚乙烯醇类树脂层6是经过拉伸工序S20和染色工序S30而形成偏振膜5的层。聚乙烯醇类树脂层6可以通过如下方式来形成：将含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液涂敷于基材膜30的一面或两面而得到涂敷层，然后使涂敷层干燥。从容易得到薄膜的偏振膜5的观点考虑，通过这样的涂敷来形成聚乙烯醇类树脂层的方法是有利的。

基材膜30可以由热塑性树脂构成，其中，优选由透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优异的热塑性树脂构成。这样的热塑性树脂的具体例子包括：例如，链状聚烯烃类树脂、环状聚烯烃类树脂(降冰片烯类树脂等)这样的聚烯烃类树脂；聚酯类树脂；(甲基)丙烯酸类树脂；三乙酸纤维素、二乙酸纤维素这样的纤维素酯类树脂；聚碳酸酯类树脂；聚乙烯醇类树脂；聚乙酸乙烯酯类树脂；聚芳酯类树脂；聚苯乙烯类树脂；聚醚砜类树脂；聚砜类树脂；聚酰胺类树脂；聚酰亚胺类树脂；及它们的混合物、共聚物。

基材膜30可以是由包含1种或2种以上热塑性树脂的1个树脂层形成的单层结构，也可以是由多个包含1种或2种以上热塑性树脂的树脂层叠层而形成的多层结构。基材膜30优选由如下树脂构成，所述树脂在通过后面叙述的拉伸工序S20拉伸叠层膜100时，在适于拉伸聚乙烯醇类树脂层6的拉伸温度下能够拉伸。

基材膜30可以含有添加剂。添加剂的具体例子包括：紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、着色防止剂、阻燃剂、成核剂、防静电剂、颜料及着色剂。

从强度、操作性等方面考虑，基材膜30的厚度通常为1～500μm，优选为1～300μm，更优选为5～200μm，进一步优选为5～150μm。

涂敷于基材膜30的涂敷液优选为使聚乙烯醇类树脂的粉末溶解于良溶剂(例如水)而得到的聚乙烯醇类树脂溶液。涂敷液还可以根据需要含有增塑剂、表面活性剂等添加剂。作为聚乙烯醇类树脂，可以使用将聚乙酸乙烯酯类树脂皂化而得到的聚乙烯醇类树脂。作为聚乙酸乙烯酯类树脂，除了作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，还可例示乙酸乙烯酯和能与其共聚的其它单体的共聚物。作为能与乙酸乙烯酯共聚的其它单体，可以列举例如：不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。

聚乙烯醇类树脂的皂化度可以为80.0～100.0摩尔％的范围，优选为90.0～99.5摩尔％的范围，更优选为94.0～99.0摩尔％的范围。如果皂化度低于80.0摩尔％，则得到的偏振片1的耐水性和耐湿热性降低。在使用皂化度超过99.5摩尔％的聚乙烯醇类树脂的情况下，有时染色速度变慢、生产率降低，并且无法得到具有足够偏振性能的偏振膜5。

皂化度是指将乙酸基(乙酰氧基：—OCOCH₃)通过皂化工序转变为羟基的比例用单元比(摩尔％)来表示的值，所述乙酸基包含于作为聚乙烯醇类树脂的原料的聚乙酸乙烯酯类树脂中，皂化度用下述式定义。

皂化度(摩尔％)＝100×(羟基数)÷(羟基数+乙酸基数)

皂化度可以根据JIS K 6726(1994)求出。皂化度越高表示羟基的比例越高，因此表示阻碍结晶化的乙酸基的比例较低。

聚乙烯醇类树脂还可以是一部分被改性的改性聚乙烯醇。作为改性聚乙烯醇，可以列举例如将聚乙烯醇类树脂用乙烯、丙烯等烯烃；丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不饱和羧酸；不饱和羧酸的烷基酯、丙烯酰胺等改性而得到。改性的比例优选低于30摩尔％，更优选低于10％。在进行了超过30摩尔％的改性的情况下，改性聚乙烯醇存在难以吸附二色性色素而难以得到具有足够偏振性能的偏振膜5的倾向。

聚乙烯醇类树脂的平均聚合度优选为100～10000，更优选为1500～8000，进一步优选为2000～5000。聚乙烯醇类树脂的平均聚合度可以根据JIS K6726(1994)求出。

作为将上述涂敷液涂敷于基材膜30的方法，可以从以下方法中适当选择：线棒涂布法；反向涂布、凹版涂布这样的辊涂法；模涂法；逗号涂布法(comma coating)；模唇涂布法(lip coating)；旋涂法；丝网涂布法；喷流式涂布法(fountain coating)；浸渍法；喷雾法等。

涂敷层(干燥前的聚乙烯醇类树脂层)的干燥温度和干燥时间可以根据涂敷液中所含的溶剂的种类而设定。干燥温度例如为50～200℃，优选为60～150℃。在溶剂含有水的情况下，干燥温度优选为80℃以上。

聚乙烯醇类树脂层6可以仅形成于基材膜30的一面，也可以形成于两面。如果形成于两面，则能够抑制在制造偏振性叠层膜300(参照图6)时可能发生的膜的卷曲，而且能够由1片偏振性叠层膜300得到2片偏振片，因此，在偏振片的生产效率方面也是有利的。

叠层膜100中的聚乙烯醇类树脂层6的厚度优选为3～60μm，更优选为5～40μm，进一步优选为5～20μm。如果是具有该范围内的厚度的聚乙烯醇类树脂层6，则可以经过后面叙述的拉伸工序S20和染色工序S30得到二色性色素的染色性良好、偏振性能优异、且足够薄的(例如厚度为20μm以下、进一步为10μm以下的)偏振膜5。

在涂敷涂敷液之前，为了提高基材膜30与聚乙烯醇类树脂膜层6的密合性，可以对至少形成了聚乙烯醇类树脂层6一侧的基材膜30的表面实施电晕处理、等离子体处理、火焰(flame)处理等。另外，基于相同的原因，还可以隔着底涂层等在基材膜30上形成聚乙烯醇类树脂层6。

底涂层可以通过将底涂层形成用涂敷液涂敷于基材膜30的表面后使其干燥来形成。该涂敷液含有对基材膜30与聚乙烯醇类树脂层6两者发挥一定程度的较强的密合力的成分，通常含有赋予这种密合力的树脂成分和溶剂。作为树脂成分，优选使用透明性、热稳定性、拉伸性等优异的热塑性树脂，可以列举例如(甲基)丙烯酸类树脂、聚乙烯醇类树脂等。其中，优选使用赋予良好的密合力的聚乙烯醇类树脂。更优选为聚乙烯醇树脂。作为溶剂，通常使用能溶解上述树脂成分的普通的有机溶剂、水系溶剂，优选由以水作为溶剂的涂敷液形成底涂层。

在后面叙述的剥离工序S60中，底涂层有时与基材膜一起从偏振膜5上剥离，有时与偏振膜5一起从基材膜上剥离。如果是前者，则可以由如上所述的容易从偏振膜上剥离的任意热塑性树脂形成底涂层。另一方面，如果是后者，则底涂层需要在后面叙述的染色工序S30中与聚乙烯醇类树脂层一起被染色，并在通过剥离工序S60剥离基材膜之后与聚乙烯醇类树脂层染色得到的层一起形成偏振膜5。例如，如果用聚乙烯醇类树脂形成底涂层，则该底涂层在后面的染色工序S30中与聚乙烯醇类树脂层一起被染色，在剥离工序S60中与偏振膜5一起从基材膜上剥离，成为偏振膜5的一部分。

为了提高底涂层的强度，可以在底涂层形成用涂敷液中添加交联剂。交联剂的具体例子包括：环氧类、异氰酸酯类、二醛类、金属类(例如金属盐、金属氧化物、金属氢氧化物、有机金属化合物)、高分子类的交联剂。在使用聚乙烯醇类树脂作为形成底涂层的树脂成分的情况下，优选使用聚酰胺环氧树脂、羟甲基化三聚氰胺树脂、二醛类交联剂、金属螯合物化合物类交联剂等。

底涂层的厚度优选为0.05～1μm左右，更优选为0.1～0.4μm。如果比0.05μm薄，则基材膜30与聚乙烯醇类树脂层6的密合力提高的效果减小，如果比1μm厚，则不利于偏振片1的薄膜化。

在基材膜30上涂敷底涂层形成用涂敷液的方法可以与聚乙烯醇类树脂层形成用的涂敷液相同。由底涂层形成用涂敷液形成的涂敷层的干燥温度为例如50～200℃，优选为60～150℃。在溶剂含有水的情况下，干燥温度优选为80℃以上。

(2)拉伸工序S20

参照图4对拉伸工序S20进行说明。本工序是对由基材膜30和聚乙烯醇类树脂层6形成的叠层膜100进行拉伸，从而得到由拉伸后的基材膜30’和聚乙烯醇类树脂层6’形成的拉伸膜200的工序。拉伸处理通常为单轴拉伸。

叠层膜100的拉伸倍率可以根据希望的偏振特性而适当选择，优选相对于叠层膜100的原长度为超过5倍且17倍以下，更优选为超过5倍且8倍以下。如果拉伸倍率为5倍以下，则聚乙烯醇类树脂层6’未充分取向，因此有时偏振膜5的偏振度会不够高。另一方面，如果拉伸倍率超过17倍，则存在拉伸时容易产生膜的断裂，并且拉伸膜200的厚度变得比需要的更薄而在后工序中的加工性和操作性降低的隐患。

拉伸处理并不限定于一步拉伸，可以通过多步来进行。在这种情况下，可以在染色工序S30之前连续地进行所有多步拉伸处理，也可以与染色工序S30中的染色处理和/或交联处理同时地进行二步以后的拉伸处理。在这种情况下，预计到在后面叙述的染色工序S30中也进行拉伸，可以将拉伸工序S20中的拉伸倍率设为超过1倍且3.5倍以下。在这样以多步进行拉伸处理的情况下，优选以拉伸处理的所有阶段的拉伸倍率超过5倍的方式进行拉伸处理。

拉伸处理除了可以为沿膜长度方向(膜传送方向)拉伸的纵向拉伸以外，还可以为沿膜宽度方向拉伸的横向拉伸或斜向拉伸等。作为纵向拉伸方式，可以举出：使用辊进行拉伸的辊间拉伸、压缩拉伸、使用卡盘(夹具)的拉伸等，作为横向拉伸方式，可以举出拉幅机法等。拉伸处理可以采用湿润式拉伸方法、干式拉伸方法中的任一种。

拉伸温度设定为在聚乙烯醇类树脂层6和基材膜30整体可拉伸的程度显示流动性的温度以上，优选为基材膜30的相转变温度(熔点或玻璃化转变温度)的-30℃～+30℃的范围，更优选为-30℃～+5℃的范围，进一步优选为-25℃～+0℃的范围。在基材膜30由多个树脂层形成的情况下，上述相转变温度是指该多个树脂层所显示的相转变温度中最高的相转变温度。

如果使拉伸温度低于相转变温度-30℃，则存在难以实现超过5倍的高倍率拉伸或基材膜30的流动性过低而难以进行拉伸处理的倾向。如果拉伸温度超过相转变温度+30℃，则存在基材膜30的流动性过大而难以进行拉伸的倾向。从更容易实现超过5倍的高拉伸倍率的方面考虑，拉伸温度在上述范围内，进一步优选为120℃以上。

作为拉伸处理中的叠层膜100的加热方法，有区域加热法(例如，在吹入热风而调节至给定温度的加热炉这样的拉伸区域内进行加热的方法。)；在使用辊进行拉伸的情况下，对辊自身进行加热的方法；加热器加热法(将红外线加热器、卤素加热器、板式加热器等设置于叠层膜100的上下，并用辐射热进行加热的方法)等。在辊间拉伸方式中，从拉伸温度的均匀性的观点考虑，优选区域加热法。

需要说明的是，所谓拉伸温度，在区域加热法的情况下是指区域内(例如加热炉内)的气体氛围温度，在加热器加热法中，在炉内进行加热的情况下是指炉内的气体氛围温度。另外，在对辊自身进行加热的方法的情况下是指辊的表面温度。

在拉伸工序S20之前，还可以设置对叠层膜100进行预热的预热处理工序。作为预热方法，可以使用与拉伸处理中的加热方法相同的方法。预热温度优选为拉伸温度的-50℃～±0℃的范围，更优选为拉伸温度的-40℃～-10℃的范围。

另外，在拉伸工序S20中的拉伸处理之后，还可以设置热固定处理工序。热固定处理是在利用夹具夹住拉伸膜200的端部的状态下一边保持紧张状态一边在结晶化温度以上进行热处理的处理。通过该热固定处理，可以促进聚乙烯醇类树脂层6’的结晶化。热固定处理的温度优选为拉伸温度的-0℃～-80℃的范围，更优选为拉伸温度的-0℃～-50℃的范围。

(3)染色工序S30

参照图5，本工序为用二色性色素对拉伸膜200的聚乙烯醇类树脂层6’进行染色并使其吸附取向而形成偏振膜5的工序。经过本工序可以得到在基材膜30’的一面或两面叠层有偏振膜5的偏振性叠层膜300。二色性色素可以为碘、二色性有机染料。二色性有机染料的具体例子包括：红BR、红LR、红R、粉红LB、宝石红BL、酒红GS、天蓝LG、柠檬黄、蓝BR、蓝2R、藏蓝RY、绿LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黄3G、黄R、橙LR、橙3R、猩红GL、猩红KGL、刚果红、亮紫BK、斯普拉蓝G、斯普拉蓝GL、斯普拉橙GL、直接天蓝、直接坚牢橙S、坚牢黑。二色性色素可以仅单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

染色工序通常可以通过将拉伸膜200浸渍于含有二色性色素的溶液(染色溶液)中来进行。作为染色溶液，可以使用将二色性色素溶解于溶剂而制成的溶液。作为溶剂，通常可以使用水，还可以添加与水具有相溶性的有机溶剂。染色溶液中的二色性色素的浓度优选为0.01～10重量％，更优选为0.02～7重量％。

在使用碘作为二色性色素的情况下，从能够提高染色效率的方面考虑，优选在染色溶液中进一步添加碘化物。作为碘化物，可以列举例如：碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。染色溶液中的碘化物的浓度优选为0.01～20重量％。在碘化物中，优选添加碘化钾。在添加碘化钾时，碘与碘化钾的比例以重量比计优选为1︰5～1︰100，更优选为1︰6～1︰80。染色溶液的温度优选为10～60℃，更优选为20～40℃。

需要说明的是，可以在拉伸工序S20之前进行染色工序S30，也可以同时进行这些工序，但为了可以使吸附于聚乙烯醇类树脂层的二色性色素良好地取向，优选在对叠层膜100实施至少超过1倍的拉伸处理后实施染色工序S30。

染色工序S30可以包括继染色处理之后实施的交联处理工序。交联处理可以通过在将染色后的膜浸渍于交联剂溶解于溶剂而制成的溶液(交联溶液)中来进行。作为交联剂，可以列举例如：硼酸、硼砂这样的硼化合物、乙二醛、戊二醛等。交联剂可以仅使用1种，也可以组合使用2种以上。作为交联溶液的溶剂，可以使用水，但可以进一步含有与水具有相溶性的有机溶剂。交联溶液中的交联剂的浓度优选为1～20重量％，更优选为6～15重量％。

交联溶液还可以含有碘化物。通过添加碘化物，可以使偏振膜5在面内的偏振性能更均匀化。碘化物的具体例子与上述相同。交联溶液中的碘化物的浓度优选为0.05～15重量％，更优选为0.5～8重量％。交联溶液的温度优选为10～90℃。

需要说明的是，交联处理也可以通过在染色溶液中配合交联剂而与染色处理同时进行。另外，也可以使用组成不同的2种以上的交联溶液进行2次以上浸渍于交联溶液的处理。

优选在染色工序S30之后且后面叙述的第1贴合工序S50之前进行清洗工序和干燥工序。清洗工序通常包括水清洗工序。水清洗处理可以通过在离子交换水、蒸馏水这样的纯水中浸渍染色处理后的或交联处理后的膜来进行。水清洗温度通常为3～50℃，优选为4～20℃。清洗工序还可以是水清洗工序和利用碘化物溶液的清洗工序的组合。作为在清洗工序之后进行的干燥工序，可以采用自然干燥、送风干燥、加热干燥等任意适当的方法。例如，在加热干燥的情况下，干燥温度通常为20～95℃。作为碘化物，可以举出碘化钾，碘化物溶液中的碘化钾的浓度通常为0.5～10重量％。

通过干燥处理，偏振膜的水分率降低至实用程度。其水分率通常为5～20重量％，优选为8～15重量％。如果水分率低于5重量％，则偏振膜的挠性消失，偏振膜有时在其干燥后受损或断裂。另外，如果水分率超过20重量％，则有时偏振膜的热稳定性较差。

(4)保管工序S40(偏振膜的保管方法)

本工序是在35℃以上的温度下将偏振性叠层膜300保管20小时以上的工序。供于本工序的偏振膜优选水分率为20重量％以下，更优选为15重量％以下。通过本工序，可以提高偏振膜的穿刺强度，能够得到对温度变化显示出良好耐久性的偏振片。偏振膜在吸收轴方向的单位膜厚的穿刺强度优选为5.2(g/μm)以上，更优选为5.5(g/μm)以上。在偏振膜的吸收轴方向的穿刺强度为5.2(g/μm)以上的情况下，可以得到对温度变化显示出更好耐久性的偏振片。

该单位膜厚的穿刺强度是将穿刺夹具对偏振膜进行垂直穿刺，在偏振膜沿其拉伸轴(吸收轴)破裂时的强度，例如，可以用具备测力传感器的压缩试验机来测定。作为压缩试验机的例子，可以举出：KATO TECH公司制造的轻便压缩试验机“KES-G5型”、株式会社岛津制作所制造的小型桌上试验机“EZ Test”等。

在开有穿刺夹具能够通过的直径15mm以下的圆形孔的2片样品台之间夹持偏振膜，从而进行测定。穿刺夹具为圆柱状的棒，与该偏振膜相接的前段优选具备球形或半球形的刺针。前端的球形部或半球形部的直径为

以上，优选为

以下。另外，其曲率半径优选大于0R且小于0.7R。压缩试验机的穿刺速度为0.05cm/秒以上，优选为0.5cm/秒以下。

穿刺强度的测定可以将该试验片固定于夹具并从法线方向穿刺，与拉伸方向(吸收轴方向)水平地测定一处破裂时的强度。可以对5个以上的偏振膜的试验片进行测定，求出其平均值作为穿刺强度。用测定得到的穿刺强度除以用于测定的偏振膜的膜厚，由此计算出单位膜厚的穿刺强度。在该方法中，沿透射轴方向拉伸偏振膜，能够定量地测定沿吸收轴方向破裂时的断裂强度，因此，可以测定迄今为止由于偏振膜容易破裂而无法测定的吸收轴方向的强度。

保管工序中的温度优选为50℃以下。在超过50℃的温度下保管时，有时偏振膜的偏振性能降低。从生产率的观点考虑，保管工序的保管时间优选为120小时以下。需要说明的是，在偏振性叠层膜300为长条状的情况下，将其卷绕成卷状而得到偏振性叠层膜卷，以偏振性叠层膜卷的形式保管时操作性良好，从不降低生产率的方面考虑，优选该方式。卷绕长度优选为4000m以下。在卷绕长度超过4000m的情况下，热难以传导至卷内部，熟化的效果有可能产生不均。从这样的观点考虑，卷绕长度更优选为2500m以下，进一步优选为1500m以下。

(5)第1贴合工序S50

参照图6对第1贴合工序S50进行说明。本工序是通过在偏振性叠层膜300的偏振膜5上、即在偏振膜5的与基材膜30’侧相反侧的面上隔着第1粘接剂层15贴合第1保护膜10而得到贴合膜400的工序。需要说明的是，在偏振性叠层膜300在基材膜30’的两面具有偏振膜5的情况下，通常在两面的偏振膜5上分别贴合第1保护膜10。在该情况下，这些第1保护膜10可以是相同种类的保护膜，也可以是不同种类的保护膜。

第1保护膜10可以是由以下组分形成的膜，所述组分为：具有透光性的(优选光学上透明的)热塑性树脂、例如链状聚烯烃类树脂(聚丙烯类树脂等)、环状聚烯烃类树脂(降冰片烯类树脂等)这样的聚烯烃类树脂；三乙酸纤维素、二乙酸纤维素这样的纤维素酯类树脂；聚酯类树脂；聚碳酸酯类树脂；(甲基)丙烯酸类树脂；聚苯乙烯类树脂；或它们的混合物、共聚物等。其中，在本发明中优选使用的第1保护膜10(后面叙述的第2保护膜20也相同)是用水系粘接剂难以粘接的透湿性低的保护膜，例如，由聚烯烃类树脂、聚酯类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、聚苯乙烯类树脂等形成的保护膜。

第1保护膜10也可以是兼具相位差膜、亮度提高膜这样的光学功能的保护膜。例如，通过对由上述热塑性树脂形成的膜进行拉伸(单轴拉伸或双轴拉伸等)、在该上形成液晶层等，可以形成能赋予任意相位差值的相位差膜。

作为链状聚烯烃类树脂，除了聚乙烯树脂、聚丙烯树脂这样的链状烯烃的均聚物以外，还可以举出由2种以上的链状烯烃形成的共聚物。

环状聚烯烃类树脂是以环状烯烃为聚合单元聚合而成的树脂的总称。环状聚烯烃类树脂的具体例子可以列举：环状烯烃的开环(共)聚合物、环状烯烃的加成聚合物、环状烯烃与乙烯、丙烯这样的链状烯烃的共聚物(代表为无规共聚物)、及用不饱和羧酸或其衍生物对这些化合物进行改性而得到的接枝聚合物、以及它们的氢化物等。其中，作为环状烯烃，优选使用利用了降冰片烯、多环降冰片烯类单体等降冰片烯类单体的降冰片烯类树脂。

纤维素酯类树脂是纤维素与脂肪酸的酯。纤维素酯类树脂的具体例子包括：三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、三丙酸纤维素、二丙酸纤维素。另外，还可以使用它们的共聚物、羟基的一部分被其它取代基修饰而成的化合物。其中，特别优选三乙酸纤维素(三乙酰纤维素：TAC)。

聚酯类树脂是具有酯键的除上述纤维素酯类树脂以外的树脂，通常由多元羧酸或其衍生物体与多元醇的缩聚物构成。作为多元羧酸或其衍生物，可以使用二羧酸或其衍生物，可以列举例如：对苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯等。作为多元醇，可以使用二醇，可以列举例如：乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇等。

聚酯类树脂的具体例子包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸环己烷二甲酯、聚萘二甲酸环己烷二甲酯。

聚碳酸酯类树脂是由通过碳酸酯基键合单体单元而成的聚合物构成的。聚碳酸酯类树脂可以是对聚合物骨架进行了修饰的这样的被称为改性聚碳酸酯的树脂、共聚聚碳酸酯等。

(甲基)丙烯酸类树脂是以具有(甲基)丙烯酰基的化合物作为主要结构单体的树脂。(甲基)丙烯酸类树脂的具体例子包括例如：聚甲基丙烯酸甲酯这样的聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等)；甲基丙烯酸甲酯与具有脂环族烃基的化合物的共聚物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。优选使用以聚(甲基)丙烯酸甲酯这样的聚(甲基)丙烯酸C_1-6烷基酯作为主要成分的聚合物，更优选使用以甲基丙烯酸甲酯为主要成分(50～100重量％、优选为70～100重量％)的甲基丙烯酸甲酯类树脂。

需要说明的是，上述举出的各种热塑性树脂的具体例子也是构成上述基材膜30的热塑性树脂的具体例子。

第1保护膜10可以含有1种或2种以上的润滑剂、增塑剂、分散剂、热稳定剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、防静电剂、抗氧化剂这样的添加剂。

从偏振片的薄型化的观点考虑，第1保护膜10的厚度优选为90μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为30μm以下。从强度和操作性的观点考虑，第1保护膜10的厚度通常为5μm以上。

作为形成第1粘接剂层15的粘接剂，可以使用通过紫外线、可见光、电子束、X射线这样的活性能量线的照射而固化的活性能量线固化性粘接剂，所述第1粘接剂层15用于将第1保护膜10贴合于偏振膜5。活性能量线固化性粘接剂优选为紫外线固化性粘接剂。使用活性能量线固化性粘接剂具有如下优点：1)由于能制备成无溶剂型的粘接剂，因此可以不需要干燥工序；2)能够用于透湿度较低的保护膜的贴合，与水系粘接剂相比，能够贴合的保护膜的种类多。

作为活性能量线固化性粘接剂，可以优选使用含有阳离子聚合性的固化性化合物和/或自由基聚合性的固化性化合物的活性能量线固化性粘接剂组合物。活性能量线固化性粘接剂通常还可以含有用于引发上述固化性化合物的固化反应的阳离子聚合引发剂和/或自由基聚合引发剂。

作为阳离子聚合性的固化性化合物，可以列举例如：环氧类化合物(分子内具有1个或2个以上环氧基的化合物)、氧杂环丁烷类化合物(分子内具有1个或2个以上氧杂环丁烷环的化合物)、或它们的组合。作为自由基聚合性的固化性化合物，可以列举例如：(甲基)丙烯酸类化合物(分子内具有1个或2个以上(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、具有自由基聚合性双键的其它乙烯基类化合物、或它们的组合。可以组合使用阳离子聚合性的固化性化合物和自由基聚合性的固化性化合物。

根据需要，活性能量线固化性粘接剂可以含有阳离子聚合促进剂、离子捕捉剂、抗氧化剂、链转移剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调整剂、增塑剂、消泡剂、防静电剂、流平剂、溶剂等添加剂。

隔着形成第1粘接剂层15的活性能量线固化性粘接剂将第1保护膜10叠层在偏振膜5上，然后照射紫外线、可见光、电子束、X射线这样的活性能量线使粘接剂层固化，由此，可以将第1保护膜10粘接贴合于偏振膜5。活性能量线优选为紫外线，作为此时的光源，可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。在得到的偏振片1中，第1粘接剂层15为活性能量线固化性粘接剂的固化物层。

在偏振膜5上贴合第1保护膜10时，为了提高与偏振膜5的粘接性，可以对第1保护膜10和/或偏振膜5的贴合面进行等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(Flame)处理、皂化处理这样的表面处理(易粘接处理)。优选的表面处理为等离子体处理、电晕处理、皂化处理。

第1粘接剂层15的固化后的厚度优选为0.75μm以下，更优选为0.7μm以下，进一步优选为0.5μm以下。从粘接性的观点考虑，第1粘接剂层15的固化后的厚度通常为0.01μm以上，优选为0.1μm以上，更优选为0.2μm以上，进一步优选为0.3μm以上。如果厚度过小，则有时第1保护膜10与偏振膜5的粘接性不足。

将活性能量线固化性粘接剂涂敷于第1保护膜10和/或偏振膜5的贴合面的方法没有特别限制，如第1粘接剂层15一样，为了减小粘接剂层的厚度，优选使用小径凹版等涂敷粘接剂的方法，特别是可以通过提高凹版旋转比(凹版旋转速度对线速度之比)而相对加快凹版的旋转速度的方法、提高凹版的网格的线数等方法来减小粘接剂层的厚度。特别是为了使粘接剂层的厚度为1μm以下，优选使用通过激光雕刻雕刻了网格的凹版，特别优选使用蜂窝形状的凹版辊。例如，可以优选使用蜂窝形状且每1英寸的蜂窝数超过400列的凹版辊。

(6)剥离工序S60

参照图7对剥离工序S60进行说明。本工序是从贴合膜400上剥离除去基材膜30’的工序。经过该工序可以得到在偏振膜5的一面叠层有第1保护膜10的带单面保护膜的偏振片500。偏振性叠层膜300在基材膜30’的两面具有偏振膜5，在这两个偏振膜5上贴合有第1保护膜10的情况下，通过该剥离工序S60，可以由1片偏振性叠层膜300得到2片带单面保护膜的偏振片500。

将基材膜30’剥离除去的方法没有特别限定，可以通过与用通常的带粘合剂的偏振片进行的隔膜(剥离膜)的剥离工序相同的方法进行剥离。基材膜30’可以在第1贴合工序S50之后直接立即剥离，也可以在第1贴合工序S50之后暂时卷绕成卷状，在其后的工序中一边开卷一边剥离。

(7)第2贴合工序S70

本工序是在带单面保护膜的偏振片500的偏振膜5面上、即与用第1贴合工序S50贴合的第1保护膜10相反的面上隔着第2粘接剂层25贴合第2保护膜20，得到图1所示的带双面保护膜的偏振片1的工序。

第2保护膜20与第1保护膜10同样地可以是由上述例示的热塑性树脂形成的膜，也可以是兼具相位差膜、亮度提高膜这样的光学功能的保护膜。关于第2保护膜20可含有的添加剂和膜的厚度等，引用对第1保护膜10进行描述的上述记载。第1保护膜10和第2保护膜20可以是由互相为相同种类的树脂形成的保护膜，也可以是由不同种类的树脂形成的保护膜。

在将带双面保护膜的偏振片1贴合于液晶单元时，可以在位于可视侧的保护膜(第1保护膜10或第2保护膜20)的与偏振膜5相反侧的表面上形成硬涂层、防眩层、防反射层、防静电层、防污层这样的表面处理层(涂布层)。形成表面处理层的方法没有特别限定，可以使用公知的方法。

作为形成第2粘接剂层25的粘接剂，与第1粘接剂层15同样地可以使用活性能量线固化性粘接剂，所述第2粘接剂层25用于将第2保护膜20贴合于偏振膜5。活性能量线固化性粘接剂优选为紫外线固化性粘接剂。在得到的偏振片1中，第2粘接剂层25为活性能量线固化性粘接剂的固化物层。关于活性能量线固化性粘接剂的具体例子，引用对第1粘接剂层15进行描述的上述记载。对于组成而言，形成第1粘接剂层15的粘接剂和形成第2粘接剂层25的粘接剂可以为相同种类，也可以为不同种类。隔着第2粘接剂层25的第2保护膜20的贴合可以与第1保护膜10的贴合同样地进行。

第2粘接剂层25的固化后的厚度引用对第1粘接剂层15进行描述的上述记载。第1粘接剂层25的固化后的厚度和第2粘接剂层25的固化后的厚度可以相同，也可以不同。

[第2实施方式]

第1实施方式是由涂敷在基材膜上的聚乙烯醇类树脂层形成偏振膜并将其供于保管工序后制造偏振片的方法，但并不限定于此，也可以对聚乙烯醇类树脂的卷料膜实施拉伸工序和染色工序而制作偏振膜5(偏振膜制作工序)，将得到的偏振膜5供于保管工序，然后依次在偏振膜5上贴合第1保护膜10和第2保护膜20而制造偏振片1。这样的由聚乙烯醇类树脂的卷料膜得到的偏振膜也包含于由聚乙烯醇类树脂层制作的偏振膜中。偏振膜5的保管方法、隔着第1、第2粘接剂层10、20的第1、第2保护膜10、20的贴合方法可以与第1实施方式相同。

由聚乙烯醇类树脂的卷料膜形成的偏振膜5可以通过包含例如以下工序的方法来制造：通过熔融挤出法、溶剂流延法这样的公知的方法制作聚乙烯醇类树脂膜的工序；将聚乙烯醇类树脂膜进行单轴拉伸的工序；用二色性色素对聚乙烯醇类树脂膜染色并使其吸附的工序；将吸附有二色性色素的聚乙烯醇类树脂膜用硼酸水溶液进行处理的工序；以及在利用硼酸水溶液进行处理后进行水洗的工序。单轴拉伸可以在二色性色素的染色前、染色的同时、或染色之后进行。在染色之后进行单轴拉伸的情况下，该单轴拉伸可以在硼酸处理之前或硼酸处理中进行。另外，也可以在上述多个阶段中进行单轴拉伸。

<偏振片>

在如上所述制造的偏振片1中，在偏振膜是通过在基材膜上涂敷含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液的方式而得到的偏振膜的情况下，偏振膜5的厚度优选为20μm以下，特别是在移动设备用的偏振片中，从偏振片的薄型化的观点考虑，更优选为10μm以下，进一步优选为8μm以下。在将含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液涂敷于基材膜上的方式中，偏振膜5的厚度通常为2μm以上。另外，在偏振膜是由聚乙烯醇类树脂的卷料得到的偏振膜的情况下，偏振膜5的厚度优选为30μm以下，更优选为20μm以下。在偏振膜是由聚乙烯醇类树脂的卷料得到的偏振膜的情况下，偏振膜5的厚度通常为5μm以上。

偏振片的制造方法还可以包括粘合剂层形成工序，所述粘合剂层形成工序包括：在偏振片1所具有的第1保护膜10或第2保护膜20的外表面(与偏振膜5相反侧的面)设置用于将偏振片1贴合于显示用单元的粘合剂层、或设置用于将光学部件贴合于偏振片1的粘合剂层。由此，可以得到带粘合剂层的偏振片。形成粘合剂层的粘合剂通常由以(甲基)丙烯酸类树脂、苯乙烯类树脂、聚硅氧烷类树脂等作为基础聚合物，并在其中加入异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物这样的交联剂而得到的粘合剂组合物构成。另外，还可以形成含有微粒而显示光散射性的粘合剂层。

粘合剂层的厚度可以为1～40μm，优选在不损害加工性、耐久性的特性的范围内较薄地形成，具体而言，优选为3～25μm。在具有良好的加工性且抑制偏振膜5的尺寸变化的方面也优选3～25μm的厚度。如果粘合剂层60薄于1μm，则粘合性降低，如果超过40μm，则容易发生粘合剂渗出等不良情况。

形成粘合剂层60的方法没有特别限定，可以在第1保护膜10或第2保护膜20的表面涂敷含有以上述基础成分为代表的各种成分的粘合剂组合物(粘合剂溶液)，进行干燥而形成，也可以在隔膜(剥离膜)上同样地形成粘合剂层，然后将该粘合剂层转印于第1保护膜10或第2保护膜20。在第1保护膜10或第2保护膜20的表面形成粘合剂层60时，还可以根据需要对第1保护膜10或第2保护膜20的表面、或者粘合剂层60的表面实施表面处理，例如电晕处理等。

偏振片1还可以含有叠层在第1保护膜10或第2保护膜20上的其它光学层。作为其它光学层，可以列举：透射某种偏振光且反射显示与其相反性质的偏振光的反射型偏振膜；表面具有凹凸形状的带防眩功能的膜；带表面防反射功能的膜；表面具有反射功能的反射膜；兼具反射功能和透射功能的半透射反射膜；视场角补偿膜等。

<显示装置>

根据本发明的制造方法制造的偏振片可以设置于显示单元的表面而构成显示装置。显示装置的代表例子是显示用单元为液晶单元的液晶显示装置，也可以是显示用单元为有机EL图像显示元件的有机EL装置这样的其它显示装置。在显示装置中，偏振片只要设置于显示用单元的至少一面即可，也可以设置于两面。

在显示装置为液晶显示装置的情况下，通常将偏振片设置于液晶单元的两面。在该情况下，可以两面的偏振片均为本发明的偏振片，也可以仅一面的偏振片为本发明的偏振片。在后者中，以液晶单元为基准，本发明的偏振片1可以是前侧(可视侧)的偏振片，也可以为后侧(背光源侧)的偏振片。作为液晶单元，可以使用现有公知类型的液晶单元。

由于本发明的偏振片1对温度变化具有良好的耐久性，因此可以用于在温度变化较大的环境下使用的显示装置。

实施例

以下，示出实施例和比较例对本发明进一步具体地进行说明，但本发明并不限定于这些例子。

<实施例1>

(1)底涂层形成工序

将聚乙烯醇粉末(日本合成化学工业株式会社制造的“Z-200”、平均聚合度1100、皂化度99.5摩尔％)溶解于95℃的热水，制备浓度3重量％的聚乙烯醇水溶液。在得到的水溶液中以相对于聚乙烯醇粉末6重量份为5重量份的比例混合交联剂(田冈化学工业株式会社制造的“Sumirez Resin 650”)，得到底涂层形成用涂敷液。

接着，准备厚度90μm的未拉伸聚丙烯膜(熔点：163℃)作为基材膜，对其一面实施电晕处理。电晕处理使用电晕放电装置(具备春日电机株式会社制造的电晕表面处理框“STR-1764”、高频电源“CT-0212”、高压变压器“CT-T02W”)，一边使上述未拉伸聚丙烯膜以10m/分钟的速度移动，一边以280W的输出强度实施电晕处理。电晕处理后，在其电晕处理面使用小径凹版涂布机涂敷上述底涂层形成用涂敷液，在80℃下干燥10分钟，由此形成厚度0.2μm的底涂层。

(2)叠层膜的制作(树脂层形成工序)

将聚乙烯醇粉末(可乐丽股份有限公司制造的“PVA124”、平均聚合度2400、皂化度98.0～99.0摩尔％)溶解于95℃的热水，制备浓度8重量％的聚乙烯醇水溶液，将其作为聚乙烯醇类树脂层形成用涂敷液。

使用模唇涂布机在具有上述(1)中制作的底涂层的基材膜的底涂层表面涂敷上述聚乙烯醇类树脂层形成用涂敷液，然后在80℃下干燥20分钟，由此在底涂层上形成聚乙烯醇类树脂层，得到由基材膜/底涂层/聚乙烯醇类树脂层构成的叠层膜。

(3)拉伸膜的制作(拉伸工序)

使用移动的纵向单轴拉伸装置在160℃下对上述(2)中制作的叠层膜实施5.2倍的自由端单轴拉伸，得到拉伸膜。

(4)偏振性叠层膜的制作(染色工序)

将上述(3)中制作的拉伸膜在含有碘和碘化钾的30℃的染色水溶液(每100重量份水含有碘0.6重量份、碘化钾10重量份。)中浸渍约180秒钟进行聚乙烯醇类树脂层的染色处理，然后用10℃的纯水冲洗多余的染色水溶液。

接着，在含有硼酸的78℃的第1交联水溶液(每100重量份水含有硼酸9.5重量份。)中浸渍120秒钟，接着，在含有硼酸和碘化钾的70℃的第2交联水溶液(每100重量份水含有硼酸9.5重量份、碘化钾4重量份。)中浸渍60秒钟进行交联处理。然后，用10℃的纯水清洗10秒钟，最后在40℃下干燥300秒钟，由此得到由基材膜/偏振膜构成的偏振性叠层膜。偏振膜的厚度为5.6μm。将得到的偏振性叠层膜卷绕成卷状，制作偏振性叠层膜卷。

(5)偏振性叠层膜卷的保管(保管工序)

在设定为表1所示的温度的恒温槽内将上述(4)中制作的偏振性叠层膜卷保管表1所示的时间。

(6)带单面保护膜的偏振片的制作(第1贴合工序和剥离工序)

准备了厚度23μm的环状聚烯烃类树脂膜(日本瑞翁株式会社制造的“Zeonor FilmZF14-023”)作为第1保护膜。对该第1保护膜的贴合面实施电晕处理后，使用小径凹版涂布机在该电晕处理面涂敷紫外线固化性粘接剂(株式会社ADEKA制造的“KR-70T”、MD方向的拉伸弹性模量：2400MPa、TD方向的拉伸弹性模量：2400MPa)，使用贴合辊隔着该粘接剂的涂敷层将第1保护膜贴合于从上述(5)保管的偏振性叠层膜卷中开卷的偏振性叠层膜的偏振膜面。接着，使用安装有紫外线灯(Fusion UV Systems公司制造的“D BULB”)的带有带式输送机的紫外线照射装置从基材膜侧以250mJ/cm²的累积光量照射紫外线，由此使粘接剂固化而形成第1粘接剂层，得到由第1保护膜/第1粘接剂层/偏振膜/底涂层/基材膜的层结构构成的贴合膜(第1贴合工序)。第1粘接剂层的厚度为1.0μm。

接下来，从得到的贴合膜上剥离除去基材膜(剥离工序)。容易地剥离基材膜，得到由第1保护膜/第1粘接剂层/偏振膜/底涂层的层结构构成的带单面保护膜的偏振片。

(7)带双面保护膜的偏振片的制作(第2贴合工序)

准备了与第1保护膜相同厚度的23μm的环状聚烯烃类树脂膜，作为第2保护膜。对该第2保护膜的贴合面实施电晕处理，然后使用小径凹版涂布机在该电晕处理面涂敷紫外线固化性粘接剂(株式会社ADEKA制造的“KR-70T”、MD方向的拉伸弹性模量：2400MPa、TD方向的拉伸弹性模量：2400MPa)，使用贴合辊隔着该粘接剂的涂敷层将第2保护膜贴合于上述(6)得到的带单面保护膜的偏振片的底涂层面。接着，使用与上述(6)中第1粘接剂层形成时同样的装置在同样的条件下自第2保护膜侧使粘接剂固化而形成第2粘接剂层，得到了由第1保护膜/第1粘接剂层/偏振膜/底涂层/第2粘接剂层/第2保护膜的层结构构成的带双面保护膜的偏振片。第2粘接剂层的厚度为1.0μm。

<实施例2、3、比较例1、2>

将上述(5)的保管工序中的恒温槽的温度设为如表1所示的温度，除此以外，与实施例1同样地制作带双面保护膜的偏振片。

<实施例4、5、比较例3>

将上述(5)的保管工序中的保管时间设为如表1所示的时间，除此以外，与实施例1同样地制作带双面保护膜的偏振片。

[穿刺试验]

在实施例和比较例中，从上述(5)中保管的偏振性叠层膜卷中裁切出偏振性叠层膜，并从偏振性叠层膜上剥离基材膜而得到偏振膜，将其作为穿刺试验的试验片。穿刺试验使用安装了前端直径为

0.5R的针头的KATO TECH公司制造的轻便压缩试验机“KES-G5针头贯穿力测定规格”，于温度23±3℃、相对湿度55±10％的环境下，在穿刺速度0.33cm/秒的测定条件下进行。对12个试验片进行穿刺试验，将其平均值作为穿刺试验中测定的穿刺强度。用接触式膜厚计[尼康株式会社制造的商品名“DIGIMICRO MH-15M”]测定偏振膜的厚度，求出单位膜厚的穿刺强度(强度P)。将结果示于表1的“穿刺强度”一栏中。

[热冲击试验]

使用超级切割机，以偏振膜的吸收轴为长边将实施例和比较例中制作的带双面保护膜的偏振片裁切成长边100mm、短边60mm的尺寸，将其作为热冲击试验的试验片。对试验片的第2保护膜侧实施电晕处理，贴合粘合剂(储存弹性模量：390KPa、厚度：20μm)，经粘合剂层侧贴合于无碱玻璃板[Corning公司制造的“Eagle-XG”]，在高压釜中，于温度50℃且压力5MPa的条件下进行20分钟的加压处理，在温度23℃且相对湿度60％的气体氛围中放置1天。然后，用Espec株式会社制造的冷热冲击试验器(TSA-301L-W)在低温侧-40℃下保持30分钟，然后在高温侧85℃下保持30分钟，将此操作设为1循环，实施对其进行100循环的热冲击试验。在热冲击试验中未曝露于常温。

对50片试验片分别进行100循环的热冲击试验，在50片试验片中，将肉眼观察确认了产生裂纹状的外观不良情况的片数示于表1的“热冲击试验”一栏中。例如，实施例1的“0/50”是指评价样品50片中，肉眼观察能够确认产生裂纹状的外观不良情况的片数为0片。

对本发明的实施方式进行了说明，但可以为本次公开的实施方式在所有方面均仅为例示，不应当认为其限制本发明的内容。本发明的范围由权利要求书表示，包含与权利要求书均等的含义及范围内的所有变更。

Claims (5)

1.一种偏振片的制造方法，其是在偏振膜的至少一面具备保护膜的偏振片的制造方法，该方法依次包括以下工序：

由聚乙烯醇类树脂层制作偏振膜的偏振膜制作工序，

将所述偏振膜在35℃以上的温度下保管20小时以上的保管工序，以及

在所述偏振膜的至少一面隔着由活性能量线固化性粘接剂形成的粘接剂层贴合保护膜的贴合工序。

2.根据权利要求1所述的偏振片的制造方法，其中，所述保管工序的温度为50℃以下。

3.根据权利要求1或2所述的偏振片的制造方法，其中，所述保管工序是对在基材膜上设有所述偏振膜的偏振性叠层膜进行保管的工序，

所述偏振性叠层膜通过包括以下工序的工序而得到：

在所述基材膜的至少一面涂敷含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液，然后使其干燥，由此形成所述聚乙烯醇类树脂层而得到叠层膜的树脂层形成工序，

拉伸所述叠层膜而得到拉伸膜的拉伸工序，以及

用二色性色素对所述拉伸膜的所述聚乙烯醇类树脂层染色而形成偏振膜的染色工序。

4.根据权利要求1或2所述的偏振片的制造方法，其中，所述偏振膜的厚度为10μm以下。

5.一种偏振性叠层膜的保管方法，该方法包括：经过下述树脂层形成工序、拉伸工序以及染色工序得到偏振膜，将得到的偏振性叠层膜在35℃以上的温度下保管20小时以上的工序，其中，

所述树脂层形成工序：在基材膜的至少一面涂敷含有聚乙烯醇类树脂的涂敷液而得到涂敷层，然后使涂敷层干燥，由此形成聚乙烯醇类树脂层而得到叠层膜，

所述拉伸工序：拉伸叠层膜而得到拉伸膜，

所述染色工序：用二色性色素对拉伸膜的聚乙烯醇类树脂层染色而形成偏振膜，由此得到偏振性叠层膜。

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