JP6389898B2 - コイルアセンブリ、電磁アクチュエータ、ステージ位置決め装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2014年1月22日に出願された米国仮出願第61/930,343号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
1.ステップモードでは、放射ビームBに付与されたパターン全体が1回の照射で一つの目標部分Cに投影される間、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」は実質的に静止状態とされる(すなわち単一静的露光)。そして基板テーブルWTまたは「基板サポート」はX方向および/またはY方向に移動され、その結果、異なる目標部分Cを露光できる。ステップモードにおいて、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光にて結像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」が同期してスキャンされる(すなわち単一動的露光)。サポート構造(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率および像反転特性により定められてもよい。スキャンモードにおいて、スキャン動作の長さが目標部分の高さ(スキャン方向)を決定する一方で、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における目標部分の幅(非スキャン方向)を制限する。
3.別のモードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」がプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTまたは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードにおいて、一般的にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板サポート」が移動するたびに、または、スキャン中の連続する放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述したような種類のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに直ちに適用できる。
Claims (15)
- 電磁アクチュエータまたはモータのためのコイルアセンブリであって、
少なくとも一つのスロットのペアを有する磁気コアと、
前記少なくとも一つのスロットのペアの内側に少なくとも部分的に取り付けられるコイルと、
前記コイルの表面に取り付けられる冷却部材と、
前記少なくとも一つのスロットのペアの側面に取り付けられる熱絶縁層であって、前記コイルと前記少なくとも一つのスロットのペアの側面との間に設けられ、前記コイルと前記冷却部材との間には設けられない熱絶縁層と、を備えることを特徴とするコイルアセンブリ。 - 前記コイルの表面は、前記少なくとも一つのスロットのペアの内側にあることを特徴とする請求項1に記載のコイルアセンブリ。
- 前記冷却部材は、前記少なくとも一つのスロットのペアの側面に取り付けられ、
前記熱絶縁層は、前記冷却部材と前記少なくとも一つのスロットのペアの側面との間に設けられることを特徴とする請求項1または2に記載のコイルアセンブリ。 - 前記冷却部材は、前記少なくとも一つのスロットのペアの底面または上面に取り付けられることを特徴とする請求項1または2に記載のコイルアセンブリ。
- 前記冷却部材が取り付けられる前記コイルの表面は、前記少なくとも一つのスロットのペアと接触しない表面であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のコイルアセンブリ。
- 前記冷却部材の外表面は、前記少なくとも一つのスロットのペアにより囲われるティースの端面と同一平面上または一直線上となることを特徴とする請求項5に記載のコイルアセンブリ。
- 前記冷却部材は、冷却流体を受けるよう構成される冷却路を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載のコイルアセンブリ。
- 別の冷却部材が磁気ヨークに設けられることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載のコイルアセンブリ。
- 第1部材と第2部材を備える電磁アクチュエータであって、
前記第1部材は、請求項1から8のいずれか一項に記載のコイルアセンブリを備え、
前記第2部材は、使用時に、一以上のコイルに電圧を加えることで、前記第1部材と協働して前記第1部材と前記第2部材の間に力を発生させるよう構成されることを特徴とする電磁アクチュエータ。 - 前記第2部材は、磁気ヨークまたは永久磁石アセンブリを備えることを特徴とする請求項9に記載の電磁アクチュエータ。
- 請求項1から9のいずれか一項に記載のコイルアセンブリと、
磁気ヨークに取り付けられる極性が交互の永久磁石のアレイを有する永久磁石アセンブリと、を備え、
前記コイルアセンブリの一以上のコイルは、多相巻線を有することを特徴とする電磁モータ。 - パターニングデバイスまたは基板といった対象物の位置決めのためのステージ位置決め装置であって、
前記対象物のショートストローク位置決めを与えるための請求項9または10に記載の一以上の電磁アクチュエータと、
前記対象物のロングストローク位置決めを与えるための請求項11に記載の一以上の電磁モータと、を備えることを特徴とするステージ位置決め装置。 - 放射ビームを調整するよう構成される照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するよう構築されるサポートと、
基板を保持するよう構築される基板テーブルと、
パターン放射ビームを基板の目標部分に投影するよう構成される投影システムと、を備え、
請求項12に記載のステージ位置決め装置をさらに備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 放射ビームを調整するよう構成される照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するよう構築されるサポートと、
基板を保持するよう構築される基板テーブルと、
パターン放射ビームを基板の目標部分に投影するよう構成される投影システムと、を備え、
前記サポートまたは前記基板テーブルの位置決めのために、請求項9または10に記載の電磁アクチュエータ、または、請求項11に記載の電磁モータをさらに備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - パターニングデバイスからのパターンを基板に転写することを備え、請求項9または10に記載の電磁アクチュエータ、または、請求項11に記載の電磁モータを用いて、前記基板に対して前記パターニングデバイスを位置決めするステップを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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