CN105576094A - 一种led外延片加工工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种LED外延片加工工艺,其包括如下步骤:固定:将单晶硅棒固定在加工台上;切片:将单晶硅棒切成薄硅片;退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400-550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;分档检测;研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。本发明不仅工序简单,对设备要求低,而且生产出的LED外延片残次率较低。
Description
技术领域
本发明涉及LED外延片加工技术领域,尤其涉及一种LED外延片加工工艺。
背景技术
LED外延片生长的基本原理是:在一块加热至适当温度的衬底基片上,气态物质InGaAlP有控制的输送到衬底表面,生长出特定单晶薄膜。目前LED外延片生长技术主要采用有机金属化学气相沉积方法。LED外延片衬底材料是半导体照明产业技术发展的基石。不同的衬底材料,需要不同的LED外延片生长技术、芯片加工技术和器件封装技术,衬底材料决定了半导体照明技术的发展路线。但是,传统的LED外延片加工工艺过程复杂,成本较高,残次率较高。
发明内容
本发明的目的在于通过一种LED外延片加工工艺,来解决以上背景技术部分提到的问题。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种LED外延片加工工艺,其包括如下步骤:
S101、固定:将单晶硅棒固定在加工台上;
S102、切片:将单晶硅棒切成薄硅片;
S103、退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400-550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;
S104、倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;
S105、分档检测;
S106、研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;
S107、清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;
S108、RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。
本发明提出的LED外延片加工工艺不仅工序简单,对设备要求低,而且生产出的LED外延片残次率较低。
附图说明
图1为本发明实施例提供的LED外延片加工工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
请参照图1所示,图1为本发明实施例提供的LED外延片加工工艺流程图。
本实施例中LED外延片加工工艺具体包括如下步骤:
S101、固定:将单晶硅棒固定在加工台上。
S102、切片:将单晶硅棒切成具有精确几何尺寸的薄硅片。此过程中产生的硅粉采用水淋,产生废水和硅渣。
S103、退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400-550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层。
S104、倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形,防止硅片边缘破裂及晶格缺陷产生,增加磊晶层及光阻层的平坦度。此过程中产生的硅粉采用水淋,产生废水和硅渣。
S105、分档检测:为保证硅片的规格和质量,对其进行检测。此处会产生废品。
S106、研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层,有效改善单晶硅片的曲度、平坦度与平行度,达到一个抛光过程可以处理的规格。此过程产生废磨片剂。
S107、清洗:通过有机溶剂的溶解作用,结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质。此工序产生有机废气和废有机溶剂。
S108、RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。
本发明的技术方案不仅工序简单,对设备要求低,而且生产出的LED外延片残次率较低。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (1)
1.一种LED外延片加工工艺,其特征在于,包括如下步骤:
S101、固定:将单晶硅棒固定在加工台上;
S102、切片:将单晶硅棒切成薄硅片;
S103、退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至400-550℃,硅片表面和氧气发生反应,使硅片表面形成二氧化硅保护层;
S104、倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形;
S105、分档检测;
S106、研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层;
S107、清洗:通过有机溶剂,并结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质;
S108、RCA清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。
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2014
- 2014-10-16 CN CN201410550913.0A patent/CN105576094A/zh active Pending
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