CN105446083B - 一种具有打码功能的曝光机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种具有打码功能的曝光机，包括由光源、掩模、物镜、基板以及工件台组成的曝光***，其特征在于：还包括打码***，所述打码***包括光源，打码***固定模块，液晶数字显示掩模模块，打码位置调整模块以及编码、定位软件模块；所述打码***与所述曝光***同时工作。本发明的曝光机能在曝光的过程中同时进行每个曝光场边缘屏幕的打码，可明显为后续打码机缩短生产时间，以便整条产线提高产能，同时不改变产线设备的配置。

Description

一种具有打码功能的曝光机
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，具体地，涉及一种用于平板显示领域曝光制程的具有打码功能的曝光机。
背景技术
在平板显示的TFT（Thin Film Transistor：薄膜晶体管）面板制造制程中，曝光机用于TFT器件图形的制作，而打码机（Titler）用于面板上每个屏幕的编码制作。这个编码用于在后续生产制造过程中对每个屏幕的品质追踪。在TFT面板制造的第一层图形制作产线上都配有曝光机和打码机。
目前手机屏幕的市场需求很大，许多中大世代的TFT产线开始转做小尺寸的手机屏幕，这样以来，同样世代的玻璃基板上制作的屏幕数量会大大增加，因此，打码机的产能明显不足。
目前为了不增加打码设备，不用提高产线成本和改造产线配置，现行办法多采用设置打码机仅打部分屏幕的编码，来减少基板打码的时间，以便产线提高产率，完成产能。这个方法增加了产品异常追踪的难度，提高了产品异常分析时的难度，使产线的产品质量追踪风险提高。
发明内容
本发明的目的在于提出一种在曝光过程中能实现打码的曝光机，能在TFT器件图形制作的过程中，不影响产率，不占用额外产线制造时间，将每个曝光场的边缘屏幕的编码制作出来，这样可大大减少后续打码机的节拍时间，从而大大提高产率，同时成本增加远小于增加打码设备的价格，产线配置不用作任何改造。
本发明公开一种具有打码功能的曝光机，包括由光源、掩模、物镜、基板以及工件台组成的曝光***，其特征在于：还包括打码***，所述打码***包括光源，打码***固定模块，液晶数字显示掩模模块，打码位置调整模块以及编码、定位软件模块；所述打码***与所述曝光***同时工作。
更进一步地，所述打码***固定模块包括框架和导轨，所述液晶数字显示掩模模块固定于所述导轨上，并沿所述导轨平行于所述工件台移动。
更进一步地，所述打码***固定于所述物镜两侧。
更进一步地，所述打码***固定于所述工件台上方的框架。
更进一步地，还包括分光模块，使所述打码***与所述曝光***共用光源。
更进一步地，所述分光模块包括半透半反棱镜及反射镜。
更进一步地，所述编码、定位软件模块进行曝光场顺序的设置、导轨运动速度的设置与调整、液晶数字显示的计算与输入、打码坐标的输入与计算。
更进一步地，所述曝光、打码过程中，所述液晶数字显示掩模的运动与基板的运动平行。
本专利公布的曝光机能在曝光的过程中同时进行每个曝光场边缘屏幕的打码，可明显为后续打码机缩短生产时间，以便整条产线提高产能，同时不改变产线设备的配置。
附图说明
关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。
图1为本发明具有打码功能的曝光机结构示意图；
图2为本发明具有打码功能的曝光机的打码***的俯视图；
图3为本发明曝光、打码示意图；
图4为本发明另一个实施例中分光装置结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。
如图1所示，本发明具有打码功能的曝光机包括由光源1、掩模2、物镜3、基板4以及工件台5组成曝光***，用于基板图形曝光。还包括由光源6，打码***固定模块7，液晶数字显示掩模8，打码位置调整模块9以及编码、定位软件模块组成的打码***，用于在曝光过程中打码。打码***与曝光***同时工作。打码***固定模块7固定安装在物镜3镜筒的两侧，如图2所示，包括框架10和导轨11，液晶数字显示掩模8固定在导轨11上，导轨11可以携带液晶数字显示掩模8做平行于基板曝光扫描方向的运动，可实现加速，减速或匀速运动。液晶数字显示掩模8可通过设备的编码、定位软件***实现动态的数字编码显示，在不同的屏幕打码时，能实现不同的编码显示。编码、定位软件***可实现各个屏幕不同编码的计算和给出，编码位置坐标的输入和计算，以及导轨运动速度的计算和调节。
图3为本发明曝光、打码示意图。如图3所示，曝光机的载台携带玻璃基板如图示方向运动，同时曝光机开始进行如图所示各个曝光场15的曝光。在每个曝光场15曝光时，镜筒及其物镜3不动，掩模2和下方工件台5作相对的扫描运动。与此同时，导轨11携带液晶数字显示掩模8进行平行于基板的运动，运动速度可以控制。当光源6通过掩模8将编码16曝光在曝光场的边缘屏幕17上时，导轨11运动的速度与下方玻璃基板4的运动速度一致。打码位置调整光学***9可以按照软件***计算的位置进行调整，将编码16的图形准确的定位在所需位置。
在本发明的另一个实施例中，打码***也可安装于工件台上方的框架上。曝光***和打码***可以共用光源，如图4所示。曝光机的光源1经过分光模块12，使所述打码***与所述曝光***共用光源。分光模块12可以为半透半反棱镜13及反射镜14。
本发明的曝光和打码的工艺过程如下：当一片玻璃基板进入曝光机时，基板进行例行的对位调整后，开始进行逐场曝光过程，曝光是按照软件给出的曝光场15的顺序进行的。在每个场内开始曝光时，打码装置也准备就绪。当场内开始进行扫描曝光时，导轨携带液晶数字显示掩模按一定的速度到达第一个所需打码位置进行曝光打码，打码过程中掩模运动与基板运动平行且速度一致。然后导轨携带掩模到达第二个打码位置进行打码，依次将边缘所需打码位置完成。掩模运动速度可在软件中设置，以便场内所有的打码时间总和控制在一个曝光场完成的时间内。
本说明书中所述的只是本发明的较佳具体实施例，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在本发明的范围之内。

Claims (6)

1.一种具有打码功能的曝光机，包括由光源、掩模、物镜、基板以及工件台组成的曝光***，其特征在于：还包括打码***，所述打码***包括光源，打码***固定模块，液晶数字显示掩模模块，打码位置调整模块以及编码、定位软件模块；所述打码***固定模块包括框架和导轨，所述液晶数字显示掩模模块固定于所述导轨上，导轨可以携带液晶数字显示掩模模块做平行于基板曝光扫描方向的运动；所述打码***与所述曝光***同时工作；曝光、打码过程中，所述液晶数字显示掩模的运动与基板的运动平行且速度一致。
2.如权利要求1所述的具有打码功能的曝光机，其特征在于：所述打码***固定于所述物镜两侧。
3.如权利要求1所述的具有打码功能的曝光机，其特征在于：所述打码***固定于所述工件台上方的框架。
4.如权利要求1所述的具有打码功能的曝光机，其特征在于：还包括分光模块，使所述打码***与所述曝光***共用光源。
5.如权利要求4所述的具有打码功能的曝光机，其特征在于：所述分光模块包括半透半反棱镜及反射镜。
6.如权利要求1所述的具有打码功能的曝光机，其特征在于：所述编码、定位软件模块进行曝光场顺序的设置、导轨运动速度的设置与调整、液晶数字显示的计算与输入、打码坐标的输入与计算。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773520A (zh) * 2016-12-30 2017-05-31 武汉华星光电技术有限公司 一种掩膜版、控制器以及利用掩膜版进行动态打码的方法
CN109041441A (zh) * 2018-09-14 2018-12-18 东莞市多普光电设备有限公司 一种pcb板批次管理曝光方法及其曝光设备
CN110842375B (zh) * 2019-11-15 2022-03-08 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示屏的打码区块、打码方法及显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101121221A (zh) * 2006-08-09 2008-02-13 株式会社迪思科 激光光线照射装置及激光加工器
CN101833201A (zh) * 2009-03-12 2010-09-15 北京京东方光电科技有限公司 扫描线序号的标注方法和掩膜板
CN103324037A (zh) * 2013-07-04 2013-09-25 北京京东方光电科技有限公司 一种曝光装置及其曝光方法
CN103969943A (zh) * 2013-01-25 2014-08-06 北京京东方光电科技有限公司 一种对基板进行标记的方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004200221A (ja) * 2002-12-16 2004-07-15 Toray Eng Co Ltd レーザマーキング方法及び装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101121221A (zh) * 2006-08-09 2008-02-13 株式会社迪思科 激光光线照射装置及激光加工器
CN101833201A (zh) * 2009-03-12 2010-09-15 北京京东方光电科技有限公司 扫描线序号的标注方法和掩膜板
CN103969943A (zh) * 2013-01-25 2014-08-06 北京京东方光电科技有限公司 一种对基板进行标记的方法
CN103324037A (zh) * 2013-07-04 2013-09-25 北京京东方光电科技有限公司 一种曝光装置及其曝光方法

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