CN105400435A - 一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法 - Google Patents
一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105400435A CN105400435A CN201510993006.8A CN201510993006A CN105400435A CN 105400435 A CN105400435 A CN 105400435A CN 201510993006 A CN201510993006 A CN 201510993006A CN 105400435 A CN105400435 A CN 105400435A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- alkaline
- ceramic polished
- polished liquid
- nano
- silicon dioxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 74
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 31
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 31
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 62
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 14
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 14
- 108010053481 Antifreeze Proteins Proteins 0.000 claims description 13
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 13
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 claims description 13
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 13
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 12
- 239000012467 final product Substances 0.000 claims description 8
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 5-nonyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-ol Chemical compound C(CCCCCCCC)C1=C2C(=C(C=C1)O)O2 RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 polyoxyethylene nonylphenol Polymers 0.000 claims description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XYRAEZLPSATLHH-UHFFFAOYSA-N trisodium methoxy(trioxido)silane Chemical group [Na+].[Na+].[Na+].CO[Si]([O-])([O-])[O-] XYRAEZLPSATLHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960004418 trolamine Drugs 0.000 claims description 4
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RNIHAPSVIGPAFF-UHFFFAOYSA-N Acrylamide-acrylic acid resin Chemical compound NC(=O)C=C.OC(=O)C=C RNIHAPSVIGPAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical group OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 3
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 3
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 13
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 abstract description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 abstract 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 230000003245 working effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
本发明涉及一种碱性纳米陶瓷抛光液，包括二氧化硅胶体和水，所述纳米陶瓷抛光液还包括如下组分中的至少一种：防冻型溶剂、有机硅烷偶联剂和表面活性剂；所述表面活性剂为胺类表面活性剂和/或醚类表面活性剂。本发明的碱性纳米陶瓷抛光液，能够避免利用纳米陶瓷抛光液对陶瓷进行超洁亮处理工艺中所产生的划伤和浊点的情况，本发明的制备方法简单、易操作，便于工业生产。
Description
技术领域
本发明涉及抛光液，具体涉及一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法。
背景技术
超洁亮技术是采用一种专用的高精度抛光机将纳米液滴到抛光砖的表面，通过抛光磨头的反复施压、打磨、抛光，将纳米液更好的渗透到抛光砖的毛孔内部，堵塞了抛光砖的毛孔及微裂纹，形成一种特殊的、连续的纳米膜，从而使抛光砖具有亮丽的表面。并且该表面能有效阻止污染物的入侵，具有较好的防污性能。超洁亮技术是目前抛光砖防护处理的最有效方法，需要使用到高精度超洁亮抛光机和纳米材料抛光液。目前，使用的超洁亮纳米抛光液主要为碱性。其中，碱性的抛光液在抛光过程中容易出现表面浊点和轻微划伤的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够解决传统抛光液在超洁亮处理工艺中容易产生浊点和划伤的碱性纳米陶瓷抛光液，本发明还提供该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法。
为解决上述问题，本发明所采用的技术方案如下：
一种碱性纳米陶瓷抛光液，包括二氧化硅胶体和水，所述纳米陶瓷抛光液还包括如下组分中的至少一种：防冻型溶剂、有机硅烷偶联剂和表面活性剂；所述表面活性剂为胺类表面活性剂和/或醚类表面活性剂。
本发明中，优选的方案为所述碱性纳米陶瓷抛光液还包括添加剂，所述添加剂为碱性腐蚀剂、防污剂和防腐剂中的至少一种。
本发明中，优选的方案为所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体30-80％、防冻型溶剂0.1-2％、有机硅烷偶联剂0.1-1.5％、表面活性剂0.1-2％、碱性腐蚀剂0.6-0.9％，余量为水。
本发明中，优选的方案为所述的碱性纳米陶瓷抛光液由由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体40-60％、防冻型溶剂0.3-1％、有机硅烷偶联剂0.5-1％、表面活性剂0.3-1％、碱性腐蚀剂0.6-0.9％，余量为水。
本发明中，优选的方案为所述防冻型溶剂选自乙二醇、丙二醇和丙三醇；所述有机硅烷偶联剂选自甲基硅酸钠、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷和甲基三乙酰氧基硅烷；所述表面活性剂选自二醇***、乙二醇丁醚、二乙二醇二甲基醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、二乙醇胺、三乙醇胺、丙烯酸-丙烯酰胺共聚物和聚氧乙烯醚；所述二氧化硅胶体为碱性硅溶胶。
本发明中，优选的方案为所述二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为5-80nm。
本发明中，优选的方案为所述二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为10-50nm。
本发明中，优选的方案为所述陶瓷抛光液的pH值为8-11。
本发明中，优选的方案为所述陶瓷抛光液的pH值为9-10。
本发明还提供该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法，包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
与现有技术相比，本发明具有如下优点：本发明的纳米陶瓷抛光液，通过各组分的复配，使得得到的纳米陶瓷抛光液性质优良，在后续利用该纳米陶瓷抛光液对陶瓷砖表面的超洁亮处理过程中，能够避免浊点和划伤的问题，并且具有很长的存储时间和使用寿命；此外，本发明的制备工艺简单、易操作，便于工业生产应用。
下面结合具体实施方式对本发明进行详细说明。
具体实施方式
一种碱性纳米陶瓷抛光液，包括二氧化硅胶体和水，所述纳米陶瓷抛光液还包括如下组分中的至少一种：防冻型溶剂、有机硅烷偶联剂和表面活性剂；所述表面活性剂为胺类表面活性剂和/或醚类表面活性剂。其中，胺类表面活性剂可以为胺类物质的单体、也可以为胺类物质的共聚物，胺类物质的共聚物的分子量优选为100-8000；醚类表面活性剂可以为醚类物质的单体、也可以为醚类物质的共聚物，醚类物质的共聚物的分子量优选为100-8000。
本发明中，优选的方案为所述碱性纳米陶瓷抛光液还包括添加剂，所述添加剂为碱性腐蚀剂、防污剂和防腐剂中的至少一种。
本发明中，优选的方案为所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体30-80％、防冻型溶剂0.1-2％、有机硅烷偶联剂0.1-1.5％、表面活性剂0.1-2％、碱性腐蚀剂0.6-0.9％，余量为水。
本发明中，优选的方案为所述的碱性纳米陶瓷抛光液由由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体40-60％、防冻型溶剂0.3-1％、有机硅烷偶联剂0.5-1％、表面活性剂0.3-1％、碱性腐蚀剂0.6-0.9％，余量为水。
本发明中，优选的方案为所述防冻型溶剂选自乙二醇、丙二醇和丙三醇；所述有机硅烷偶联剂选自甲基硅酸钠、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷和甲基三乙酰氧基硅烷；所述表面活性剂选自二醇***、乙二醇丁醚、二乙二醇二甲基醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、二乙醇胺、三乙醇胺、丙烯酸-丙烯酰胺共聚物和聚氧乙烯醚；所述二氧化硅胶体为碱性硅溶胶。
本发明中，优选的方案为所述二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为5-80nm；进一步优选的是，所述二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为10-50nm。
本发明中，优选的方案为所述陶瓷抛光液的pH值为8-11；进一步优选的是所述陶瓷抛光液的pH值为9-10。
本发明的实施例1-10中，二氧化硅胶体为碱性硅溶胶(二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为20-30nm)、表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚、防冻型溶剂为乙二醇、有机硅烷偶联剂为甲基三乙氧基硅烷；各实施例的碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法，包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
实施例1-10
按照下表1中的配方取各组分，混合均匀，分别制得实施例1-10的碱性纳米陶瓷抛光液，然后取市面上某公司生产的同一批次的陶瓷砖，分别采用实施例1-10的陶瓷抛光液对上述陶瓷砖进行超洁亮处理，上述10组采用相同的超洁亮处理工艺，然后观察这10组处理后的陶瓷砖表面，观察是否存在防污性能(通过观察是否存在浊点)、划痕、以及检测瓷砖表面的光度值，具体结果详见下表1：
表1为配制的碱性超洁亮纳米陶瓷抛光液的实施例1～10以及复合效果
从上表1中可以看出，该陶瓷抛光液应用在陶瓷抛光中，所得陶瓷镜面及防污效果较佳。
将上述陶瓷抛光液储存14个月后，将其应用在陶瓷抛光中，所得陶瓷镜面及防污效果较佳，可见该陶瓷抛光液存储时间长。
实施例11
一种碱性纳米陶瓷抛光液，所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体(二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为20-30nm)60％、丙二醇0.1％、甲基硅酸钠0.1％、三乙醇胺0.1％、碱性腐蚀剂0.7％，余量为水。该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
实施例12
一种碱性纳米陶瓷抛光液，所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体(二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为20-30nm)48％、丙三醇2％、甲基三甲氧基硅烷1.5％、二乙醇胺2％、碱性腐蚀剂0.7％，余量为水。该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
实施例13
一种碱性纳米陶瓷抛光液，所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体(二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为20-30nm)40％、乙二醇0.3％、甲基三乙氧基硅烷0.5％、聚氧乙烯醚(分子量500-6000)0.3％、碱性腐蚀剂0.6％，余量为水。该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
实施例14
一种碱性纳米陶瓷抛光液，所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体(二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为20-30nm)60％、丙二醇1％、甲基三乙酰氧基硅烷1％、乙二醇丁醚1％、碱性腐蚀剂0.9％，余量为水。该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
实施例15
一种碱性纳米陶瓷抛光液，所述的碱性纳米陶瓷抛光液由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体(二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为20-30nm)55％、丙三醇0.6％、甲基三乙氧基硅烷0.8％、二乙二醇二甲基醚0.7％、碱性腐蚀剂0.9％，余量为水。该碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
实验例
取本实施例11-15的碱性纳米陶瓷抛光液，以及市面上三个公司生产的纳米陶瓷抛光液，分别为A、B、C三组；然后取市面上某公司生产的同一批次的陶瓷砖，然后分别采用实施例11-15的碱性纳米陶瓷抛光液、以及A、B、C三组的陶瓷抛光液对上述陶瓷砖进行超洁亮处理，上述8组采用相同的超洁亮处理工艺，然后观察这8组处理后的陶瓷砖表面，观察是否存在浊点和划伤，具体结果详见下表2：
表2：陶瓷砖表面浊点和划伤状况记录表
由上表中数据可以看出，本发明的碱性纳米陶瓷抛光液，能够避免利用该碱性纳米陶瓷抛光液后续对瓷砖表面进行超洁亮处理工艺时出现浊点和划伤的状况。
在室温下保存实施例11-15的碱性纳米陶瓷抛光液，保存1.5年，在第3个月、第6个月、第9个月、第12个月、第14个月和第15个月时，分别取这5个实施例的碱性纳米陶瓷抛光液对上述瓷砖进行超洁亮处理。结果发现，在第14个月时，采用上述各实施例碱性纳米陶瓷抛光液对上述瓷砖进行超洁亮处理后，陶瓷表面无浊点、无划伤；在第15个月时，利用实施例14、15的碱性纳米陶瓷抛光液处理的瓷砖表面有轻微划伤、少量浊点，其余实施例均未出现此状况。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围，本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。
Claims (10)
1.一种碱性纳米陶瓷抛光液，包括二氧化硅胶体和水，其特征在于所述纳米陶瓷抛光液还包括如下组分中的至少一种：防冻型溶剂、有机硅烷偶联剂和表面活性剂；所述表面活性剂为胺类表面活性剂和/或醚类表面活性剂。
2.根据权利要求1所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于：所述碱性纳米陶瓷抛光液还包括添加剂，所述添加剂为碱性腐蚀剂、防污剂和防腐剂中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体30-80％、防冻型溶剂0.1-2％、有机硅烷偶联剂0.1-1.5％、表面活性剂0.1-2％、碱性腐蚀剂0.6-0.9％，余量为水。
4.根据权利要求3所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于由按照重量百分数计的如下组分制成：二氧化硅胶体40-60％、防冻型溶剂0.3-1％、有机硅烷偶联剂0.5-1％、表面活性剂0.3-1％、碱性腐蚀剂0.6-0.9％，余量为水。
5.根据权利要求3所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于：所述防冻型溶剂选自乙二醇、丙二醇和丙三醇；所述有机硅烷偶联剂选自甲基硅酸钠、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷和甲基三乙酰氧基硅烷；所述表面活性剂选自二醇***、乙二醇丁醚、二乙二醇二甲基醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、二乙醇胺、三乙醇胺、丙烯酸-丙烯酰胺共聚物和聚氧乙烯醚；所述二氧化硅胶体为碱性硅溶胶。
6.根据权利要求5所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于：所述二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为5-80nm。
7.根据权利要求6所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于：所述二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒的粒径为10-50nm。
8.根据权利要求3所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于：所述陶瓷抛光液的pH值为8-11。
9.根据权利要求8所述的碱性纳米陶瓷抛光液，其特征在于：所述陶瓷抛光液的pH值为9-10。
10.根据权利要求1-9任一项所述的碱性纳米陶瓷抛光液的制备方法，其特征在于包括如下步骤：取配方量的各组分，混合均匀，即得。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510993006.8A CN105400435A (zh) | 2015-12-23 | 2015-12-23 | 一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510993006.8A CN105400435A (zh) | 2015-12-23 | 2015-12-23 | 一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105400435A true CN105400435A (zh) | 2016-03-16 |
Family
ID=55466206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510993006.8A Pending CN105400435A (zh) | 2015-12-23 | 2015-12-23 | 一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105400435A (zh) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106316464A (zh) * | 2016-08-22 | 2017-01-11 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种消光填孔剂及其使用方法 |
| CN108531087A (zh) * | 2018-06-13 | 2018-09-14 | 李秋菊 | 一种防冻型抛光液及其制备方法 |
| CN109111857A (zh) * | 2018-09-06 | 2019-01-01 | 北京保利世达科技有限公司 | 一种抛光液及其用于抛光2.5d氧化锆陶瓷板的用途 |
| CN111117494A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-08 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种仿古砖抛光液及其制备方法、应用 |
| CN111518425A (zh) * | 2020-05-27 | 2020-08-11 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种环保型高效陶瓷防污液及其使用方法 |
| CN111548654A (zh) * | 2020-04-23 | 2020-08-18 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种持久性陶瓷防污液及其使用方法 |
| CN111807871A (zh) * | 2020-06-15 | 2020-10-23 | 张传建 | 一种抛釉抛光型瓷砖专用修复剂及其制备方法 |
| CN112608121A (zh) * | 2020-12-17 | 2021-04-06 | 广东纳德新材料有限公司 | 一种石膏板表面处理剂及其制备方法 |
| CN114250036A (zh) * | 2020-09-20 | 2022-03-29 | 鹤山市新玖新材料科技有限公司 | 一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050081998A1 (en) * | 1997-02-24 | 2005-04-21 | Hampden-Smith Mark J. | Chemical-mechanical planarization slurries and powders and methods for using same |
| CN101096574A (zh) * | 2006-06-30 | 2008-01-02 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 陶瓷研磨液 |
| CN101463229A (zh) * | 2008-11-28 | 2009-06-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 牙科陶瓷材料研磨剂 |
| CN101648360A (zh) * | 2008-08-15 | 2010-02-17 | 广东科达机电股份有限公司 | 一种陶瓷砖抛光方法 |
| CN101838503A (zh) * | 2010-02-26 | 2010-09-22 | 佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司 | 抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂 |
| CN102093820A (zh) * | 2011-01-06 | 2011-06-15 | 清华大学 | 一种高稳定性的硅晶片化学机械抛光组合物 |
| CN102127373A (zh) * | 2011-01-06 | 2011-07-20 | 清华大学 | 一种高去除低划伤的硅片化学机械抛光组合物及制备方法 |
-
2015
- 2015-12-23 CN CN201510993006.8A patent/CN105400435A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050081998A1 (en) * | 1997-02-24 | 2005-04-21 | Hampden-Smith Mark J. | Chemical-mechanical planarization slurries and powders and methods for using same |
| CN101096574A (zh) * | 2006-06-30 | 2008-01-02 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 陶瓷研磨液 |
| CN101648360A (zh) * | 2008-08-15 | 2010-02-17 | 广东科达机电股份有限公司 | 一种陶瓷砖抛光方法 |
| CN101463229A (zh) * | 2008-11-28 | 2009-06-24 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 牙科陶瓷材料研磨剂 |
| CN101838503A (zh) * | 2010-02-26 | 2010-09-22 | 佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司 | 抛光砖、石材、人造石翻新用抛光剂 |
| CN102093820A (zh) * | 2011-01-06 | 2011-06-15 | 清华大学 | 一种高稳定性的硅晶片化学机械抛光组合物 |
| CN102127373A (zh) * | 2011-01-06 | 2011-07-20 | 清华大学 | 一种高去除低划伤的硅片化学机械抛光组合物及制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 姚迎: "《化学知识辞典》", 30 September 1995, 济南出版社 * |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106316464A (zh) * | 2016-08-22 | 2017-01-11 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种消光填孔剂及其使用方法 |
| CN108531087A (zh) * | 2018-06-13 | 2018-09-14 | 李秋菊 | 一种防冻型抛光液及其制备方法 |
| CN109111857A (zh) * | 2018-09-06 | 2019-01-01 | 北京保利世达科技有限公司 | 一种抛光液及其用于抛光2.5d氧化锆陶瓷板的用途 |
| CN111117494A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-08 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种仿古砖抛光液及其制备方法、应用 |
| CN111548654A (zh) * | 2020-04-23 | 2020-08-18 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种持久性陶瓷防污液及其使用方法 |
| CN111548654B (zh) * | 2020-04-23 | 2022-07-29 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种持久性陶瓷防污液及其使用方法 |
| CN111518425A (zh) * | 2020-05-27 | 2020-08-11 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种环保型高效陶瓷防污液及其使用方法 |
| CN111807871A (zh) * | 2020-06-15 | 2020-10-23 | 张传建 | 一种抛釉抛光型瓷砖专用修复剂及其制备方法 |
| CN114250036A (zh) * | 2020-09-20 | 2022-03-29 | 鹤山市新玖新材料科技有限公司 | 一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺 |
| CN112608121A (zh) * | 2020-12-17 | 2021-04-06 | 广东纳德新材料有限公司 | 一种石膏板表面处理剂及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105400435A (zh) | 一种碱性纳米陶瓷抛光液及其制备方法 | |
| JP2016166343A5 (zh) | ||
| CN103965790B (zh) | 一种锆铝铈抛光液及其制备方法 | |
| CN104497731A (zh) | 一种多功能大理石晶面护理剂 | |
| CN104449402B (zh) | 一种纳米抛光液、抛光膏及其制备方法 | |
| CN102002298A (zh) | 一种水性抗污防粘贴涂料及其生产方法 | |
| CN109777223A (zh) | 多彩仿石涂料及其制备方法 | |
| CN112358780A (zh) | 涂料及其制备方法和应用 | |
| CN105084936A (zh) | 一种砂岩石硬化光亮剂 | |
| CN108300299B (zh) | 一种具有防滑功能的保护性涂层组合物、涂布制品及其制备方法 | |
| CN104119802B (zh) | 一种蓝宝石材料表面超精密加工专用纳米浆料 | |
| CN105819861A (zh) | 一种高强度耐腐蚀陶瓷板及其制备工艺 | |
| CN108913036A (zh) | 一种人造石研磨光亮剂及其制备方法和应用方法 | |
| CN103880296B (zh) | 一种软材质光学玻璃锆基抛光液的制备方法 | |
| CN105255292A (zh) | 一种纳米改性真石漆基料 | |
| CN103450772A (zh) | 一种有机硅改性环氧丙烯酸高防腐保温涂料及其生产方法 | |
| KR101687186B1 (ko) | 바닥 시멘트 모르타르의 폴리싱이 가능한 보습성 피막 양생제 조성물 | |
| CN104529239B (zh) | 一种水性环保马莱漆及其制备方法 | |
| CN109233504A (zh) | 一种表面超亲水型外墙抗污涂料及其制备方法 | |
| CN107118646A (zh) | 节能耐用自清洁变色外墙水漆及其制备方法 | |
| CN107298560A (zh) | 一种抗渗防裂混凝土 | |
| CN104513065A (zh) | 一种防污液及采用该防污液的人造石材处理方法 | |
| CN106634378A (zh) | 一种水性自清洁质感漆及其制备方法 | |
| CN109943235B (zh) | 一种陶瓷抛光用水基复合型抛光液及其制备方法 | |
| CN108559350A (zh) | 一种类荷叶型自洁罩面清漆及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 528200, Shishan, Guangdong District, Nanhai District, Foshan Province Applicant after: Guangdong Nade New Materials Co., Ltd. Address before: 528000, Foshan City, Guangdong Province Nanhai District Shishan mu (soil name):Jin Zigang) Applicant before: FOSHAN NAMING PRECISION WORK TECHNOLOGY CO., LTD. |
|
| COR | Change of bibliographic data | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160316 |