CN105118393A - 一种抗紫外光的oled结构及制备方法 - Google Patents

一种抗紫外光的oled结构及制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种抗紫外光的OLED结构及制备方法，于OLED结构的TP层与POL层之间设置至少一层能够截止紫外光透射的光学保护膜，并可通过调节该光学保护膜的折射率，以实现阻止紫外光照射至OLED结构中，进而有效减轻紫外线(紫外光)对OLED结构中的偏光板线偏部件PVA所造成的损害，从而大大提高产品品质和延长产品的寿命。

Description

一种抗紫外光的OLED结构及制备方法
技术领域
本发明涉及一种显示装置技术领域，尤其涉及一种抗紫外光的OLED结构及制备方法。
背景技术
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，OLED有机发光二极管)显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，当有电流通过时，这些有机材料就会发光，而且OLED显示屏幕可视角度大，并且能够节省电能。OLED通常有偏光板、液晶玻璃、保护玻璃形成，目前，在OLED中，通常容易受到紫外光(紫外线)光干扰，紫外光，由于其波长短，能量强，对有机材料的伤害很大。现今TP(TouchPanel，触感控制板)层及POL(Polarizer，偏光板)层对紫外光并非100％截止，有部分紫外光余量可能会透过POL层及ENCAP(封装标头)层入射到OLED有机膜层，导致有机膜层特性发生改变，导致屏幕产生Mura(彩晕)或显示效果下降，及寿命降低等各种问题。现有技术中，对于抗紫外光及蓝紫光的手段主要是在POL层上端的TAC(三聚氰酸三烯丙酯)层中掺杂紫外吸收剂来降低紫外及蓝紫光的透过率；或者涂布一层吸收紫外的膜，但有两个问题：1、PVA(聚乙烯酸)层是自然光转换为线偏光的重要部件，里面的偏光子(I离子)被拉伸成型，TAC材料是保护PVA层的重要部件，紫外吸收材料的掺杂会影响TAC的防护功能，降低偏光度及线偏光板的寿命；2、靠材料吸收深蓝光及紫外光，吸收不充分，还是有部分高能紫外余量侵害有机膜层，影响子像素发光，并降低器件寿命。
发明内容
针对现有技术的不足，本发明提供一种有效阻止紫外光的一种抗紫外光的OLED结构及制备方法。
本发明通过以下方案实现：
一种抗紫外光的OLED结构，其中，所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。
上述的抗紫外光的OLED结构，其中，于所述光学保护膜与所述POL层之间还设置有PVA层。
上述的抗紫外光的OLED结构，其中，所述光学保护膜包括调节层和固定层，所述固定层设置于所述调节层与所述POL层之间。
上述的抗紫外光的OLED结构，其中，所述调节层包括第一调节层和第二调节层。
上述的抗紫外光的OLED结构，其中，所述光学保护膜中包括二氧化钛。
上述的抗紫外光的OLED结构，其中，还包括一玻璃防护层，设置于所述光学保护膜的上端或下端。
一种OLED结构的制备方法，其中，包括如下步骤：
步骤S1，提供一玻璃基板，于所述玻璃基板上沉积一POL层；
步骤S2，于所述POL层上端沉积一层覆盖所述POL层的PVA层；以及
步骤S3，于所述PVA层上端沉积一覆盖所述PVA层的光学保护膜。
上述的OLED结构的制备方法，其中，还包括
步骤S4，于所述光学保护膜上端沉积一覆盖所述光学保护膜的防护玻璃膜。
上述的OLED结构的制备方法，其中，所述光学保护膜包括调节层和固定层，通过调整所述调节层的折射率以增大所述OLED结构的反射率。
上述的抗紫外光的OLED结构的制备方法，其中，分别于所述第一调节层和所述第二调节层掺杂纳米级半导体材料，以使得所述调节层根据公式(1)和公式(2)满足工艺要求，
其中R1＝(n1-n2)2/(n1+n2)2公式(1)
R1为所述第一调节层与所述第二调节层接触面的反射率；
n1为所述第一调节层的折射率；
n2为所述第二调节层的折射率；
R2＝(n3-n2)2/(n3+n2)2公式(2)
R2为所述第二调节层与所述固定层接触面的反射率；
n3为所述第三调节层的折射率；
n2为所述第二调节层的折射率。
与现有技术相比，本发明的优点是：
于所述TP层与所述POL层之间设置一光学保护膜，通过调节光学保护膜的折射率实现阻止紫外光的效果。从而减轻紫外光对PVA层的损害，以达到提高产品品质、延长产品寿命的目的。
附图说明
图1为本发明中一种抗紫外光的OLED结构的结构示意图；
图2为本发明中一种抗紫外光的OLED结构的一种实施例的结构示意图；
图3为本发明中一种OLED结构的制备方法工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，但不作为本发明的限定。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，但不作为本发明的限定。
本发明通过以下方案实现：
如图1所示，一种抗紫外光的OLED结构，其中，所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。所述光学保护膜具有可见光高透过的功能，在制备过程中，通过增大光学保护膜的折射率以达到抗紫外光的效果。
本发明的工作原理是：于所述TP层与所述POL层之间设置一光学保护膜，通过调节光学保护膜的折射率实现阻止紫外光的效果。从而减轻紫外光对PVA层的损害，以达到提高产品品质、延长产品寿命的目的。
在实际使用过程中，通过于POL层外界面还设置一个显示装置，于POL层与光学保护膜之间设置一PVA层，PVA层主要用以将线光转化为偏光，在PVA层上端设置一保护PVA层的光学保护膜，该光学保护膜用以阻挡紫外光对PVA层的损坏。
如图2所示，作为进一步优选实施方案，一种OLED结构，包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。所述光学保护膜具有可见光高透过的功能，在制备过程中，通过光学保护膜的折射率以达到抗紫外光的效果。进一步地，所述光学保护膜包括调节层和固定层，所述固定层设置于所述调节层与所述POL层之间，通过增大所述调节层的折射率改变所述OLED结构的反射率。其中调节层也可以作用缓冲层，由于半导体材料的能带区对紫外光的散射和反射作用比较明显，通过增大所述调节层的折射率以实现降低甚至阻止紫外光的目的。
作为进一步优选实施方案，本发明还提供一种OLED结构，包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。所述光学保护膜为纳米级的半导体材料，在制备所述光学保护膜的过程中，可包括二氧化钛等半导体材料，通过加入二氧化钛等半导体材料进一步提高抗紫外光的效果。
作为进一步优选实施方案，本发明还提供一种OLED结构，所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜，所述光学保护膜包括调节层和固定层，进一步地，所述调节层包括第一调节层和第二调节层。其中所述第一调节层和第二调节层在制备过程中按照预定方法调整第一调节层的折射率、第二调节层的折射率，进而增大光学保护膜折射率，吸收紫外光，减少对PVA层的损坏。
一种抗紫外光的OLED结构，于光学保护膜上端为空气时，所述光学保护膜主要由低折射率材料形成，而对于光学保护膜上沉积有一层OCA层(OpticallyClearAdhesive，光学透明胶黏剂)时，所述光学保护膜主要由高折射率材料形成。
本发明提供一种抗紫外光的OLED结构，所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。还包括一玻璃防护层，设置于所述光学保护膜的上端或下端。所述玻璃防护层用以对OLED结构做进一步的保护。
如图3所示，本发明同时一种OLED结构的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1，提供一玻璃基板，于所述玻璃基板上沉积一POL层；
步骤S2，于所述POL层上端沉积一层覆盖所述POL层的PVA层；以及
步骤S3，于所述PVA层上端沉积一光学保护膜用以覆盖所述PVA层。
上述OLED结构的制备方法中，通过沉积一层用以吸收紫外光的光学保护膜，减少紫外光对PVA层的损坏，以达到提高产品品质、延长产品寿命的目的。
上述OLED结构的制备方法，其中，还包括
步骤S4，于所述光学保护膜上端沉积一覆盖所述光学保护膜的防护玻璃膜。所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。还包括一玻璃防护层，设置于所述光学保护膜的上端或下端。所述玻璃防护层用以对OLED结构做进一步的保护。
上述的OLED结构的制备方法，其中，所述光学保护膜包括调节层和固定层，通过调整所述调节层的折射率增大所述OLED结构的反射率。
上述的OLED结构的制备方法，其中，分别于所述第一调节层和所述第二调节层掺杂纳米级半导体材料，以使得所述调节层根据公式(1)和公式(2)满足工艺要求，
其中R1＝(n1-n2)2/(n1+n2)2公式(1)
R1为所述第一调节层与所述第二调节层接触面的反射率；
N1为所述第一调节层的折射率；
n2为所述第二调节层的折射率；
R2＝(n3-n2)2/(n3+n2)2公式(2)
R2为所述第二调节层与所述固定层接触面的反射率；
n3为所述第三调节层的折射率；
n2为所述第二调节层的折射率。
由上述公式(1)、公式(2)可知，通过对第一调节层的折射率；第二调节层的折射率、第三调节层的折射率的调整，可以增大光学保护膜的折射率，使得光学保护膜能够有效降低照射至偏光板的紫外光，从而减少了紫外光对偏光板的PVA层所造成的损坏，以达到提高产品品质、延长产品寿命的目的。
以上所述仅为本发明较佳的实施例，并非因此限制本发明的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本发明说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种抗紫外光的OLED结构，其特征在于：所述OLED结构包括TP层以及POL层，于所述TP层与所述POL层之间设置至少一层用以截止紫外光透射的光学保护膜。
2.根据权利要求1所述的抗紫外光的OLED结构，其特征在于，于所述光学保护膜与所述POL层之间还设置有PVA层。
3.根据权利要求1所述的抗紫外光的OLED结构，其特征在于，所述光学保护膜包括调节层和固定层，所述固定层设置于所述调节层与所述POL层之间。
4.根据权利要求2所述的抗紫外光的OLED结构，其特征在于，所述调节层包括第一调节层和第二调节层。
5.根据权利要求1所述的抗紫外光的OLED结构，其特征在于，所述光学保护膜中包括二氧化钛。
6.根据权利要求1所述的抗紫外光的OLED结构，其特征在于，还包括一玻璃防护层，设置于所述光学保护膜的上端或下端。
7.一种OLED结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1，提供一玻璃基板，于所述玻璃基板上沉积一POL层；
步骤S2，于所述POL层上端沉积一层覆盖所述POL层的PVA层；以及
步骤S3，于所述PVA层上端沉积一光学保护膜覆盖所述PVA层。
8.根据权利要求7所述OLED结构的制备方法，其特征在于，还包括
步骤S4，于所述光学保护膜上端沉积一覆盖所述光学保护膜的防护玻璃膜。
9.根据权利要求7所述OLED结构的制备方法，其中，所述光学保护膜包括调节层和固定层，其特征在于，还包括以下步骤：通过调整所述调节层的折射率以增大所述OLED结构的反射率。
10.根据权利要求9所述OLED结构的制备方法，其特征在于，所述调节层包括第一调节层和第二调节层，分别于所述第一调节层和所述第二调节层掺杂纳米级半导体材料，以使得所述调节层根据公式(1)和公式(2)满足工艺要求，
其中R1＝(n1-n2)2/(n1+n2)2公式(1)
R1为所述第一调节层与所述第二调节层接触面的反射率；
n1为所述第一调节层的折射率；
n2为所述第二调节层的折射率；
R2＝(n3-n2)2/(n3+n2)2公式(2)
R2为所述第二调节层与所述固定层接触面的反射率；
n3为所述第三调节层的折射率；
n2为所述第二调节层的折射率。
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