CN105009041A - 透明导电性薄膜及具备该透明导电性薄膜的触摸面板和显示设备 - Google Patents

透明导电性薄膜及具备该透明导电性薄膜的触摸面板和显示设备 Download PDF

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Abstract

本发明提供具有作为高分子膜的基材与光学调节层之间、光学调节层与作为金属氧化物的透明导电性膜层之间的高密合性、图案的充分不可视性的透明导电性薄膜以及具备该透明导电性薄膜的触摸面板和显示设备。所述透明导电性薄膜为在透明基材的一个面上依次层叠有底涂层和透明导电性膜层的透明导电性薄膜，其中，底涂层的折射率为1.5～2.0的范围内且折射率比透明基材高、比透明导电性膜层低，在使组合物总量为100重量％时，高折射材料的含量为40重量％以下，距离透明导电性膜层为厚度方向30nm以内范围的碳原子的含有率X(C30)(％)与硅原子的含有率X(Si30)(％)为X(Si30)/X(C30)≥0.28，距离透明导电性膜层为厚度方向40nm以上范围的碳原子的含有率X(C40)(％)与硅原子的含有率X(Si40)(％)为X(Si40)/X(C40)≤0.23。

Description

透明导电性薄膜及具备该透明导电性薄膜的触摸面板和显示设备
技术领域
本发明涉及使用触摸面板作为输入设备的显示设备。
背景技术
近年来，用手指触碰显示器画面或者仅通过用笔进行按压即可输入的透明触摸面板得到普及。作为该触摸面板的电极使用的透明导电性薄膜基本上具有在玻璃或高分子膜上层叠有导电膜的构成。特别是近年来从挠性、加工性优异、轻量等方面出发，使用利用了以聚对苯二甲酸乙二醇酯为代表的高分子膜的透明导电性薄膜。
在触摸面板的制造工序中，在透明导电性薄膜上布图成有透明导电性膜层的部分和没有透明导电性膜层的部分，其成为触摸面板的电极的布线，但作为透明导电性薄膜的特性，要求在对该图案进行目视时难以看到。
作为产生该透明导电性薄膜的图案不可视性的方法，通常是在透明导电性膜层与基材之间设置高折射率的光学调节层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2008-7610 号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
光学调节层的成膜工序有干式涂覆和湿式涂覆，为后者时，有将在有机系树脂中添加有高折射率添加剂的材料进行涂饰的方法。但是，为上述的构成时，由于同是有机物，因此可获得与作为高分子膜的基材的密合性，但具有无法充分地获得与作为金属氧化物的透明导电性膜层的密合性的问题。
如专利文献1那样，还提出了设置有机系的层和无机系的层而提高了与基材的密合性和表面硬度的涂覆剂。如果将该涂覆剂配置在基材与透明导电膜之间，将有机系的层设置在基材侧、将无机系的层设置在透明导电膜侧，则认为分别在基材-涂覆剂间、涂覆剂-透明导电性膜层间可获得高的密合性，但仅这样是无法获得作为透明导电性薄膜的光学调节层的功能的。
本发明鉴于这样的现有技术的课题而作出，其目的在于提供即便是通过湿式涂覆在透明导电性薄膜上设置有光学调节层时、在作为高分子膜的基材与光学调节层间、光学调节层与作为金属氧化物的透明导电性膜层间也具有高的密合性、且充分地具有图案的不可视性的透明导电性薄膜、以及具备该透明导电性薄膜的触摸面板和以该触摸面板作为构成部件的显示设备。
用于解决技术问题的方法
用于解决上述课题的本发明的一个方面为一种透明导电性薄膜，其为在透明基材的一个面上依次层叠有底涂层和透明导电性膜层的透明导电性薄膜，其中，底涂层的折射率为1.5～2.0的范围内，底涂层的折射率比透明基材的折射率高且比透明导电性膜层的折射率低，在使底涂层的组合物总量为100重量％时，高折射材料的含量为40重量％以下，底涂层的距离透明导电性膜层为厚度方向30nm以内范围的碳原子的含有率X(C30)(％)与硅原子的含有率X(Si30)(％)为式(1)的关系，底涂层的距离透明导电性膜层为厚度方向40nm以上范围的碳原子的含有率X(C40)(％)与硅原子的含有率X(Si40)(％)为式(2)的关系，
X(Si30)/X(C30)≥0.28  (1)
X(Si40)/X(C40)≤0.23  (2)。
另外，底涂层的膜厚可以为60nm以上。
另外，底涂层的距离透明导电性膜层为厚度方向30nm以内范围的氧原子的含有率可以为45％以上、底涂层的距离透明导电性膜层为厚度方向40nm以上范围的氧原子的含有率可以为30％以下。
另外，透明导电膜可以是金属氧化物。
另外，透明基材可以是折射率为1.45～1.75的范围内的塑料膜。
另外，透明导电性薄膜的面内延迟Re可以为30nm以下、深度方向延迟Rth可以为100nm以下。
另外，在透明导电性薄膜的与透明导电性膜层相反侧的面上还可具有有机化合物的层。
进而，本发明的另一方面是一种触摸面板，其以上述透明导电性薄膜为构成要素。
进而，本发明的再一方面是一种显示设备，其以上述触摸面板为构成部件。
发明效果
根据本发明，可以提供即便是通过湿式涂覆在透明导电性薄膜上设置有光学调节层时、在作为高分子膜的基材与光学调节层间、光学调节层与作为金属氧化物的透明导电性膜层间也具有高的密合性、且充分地具有图案的不可视性的透明导电性薄膜、以及具备该透明导电性薄膜的触摸面板和以该触摸面板为构成部件的显示设备。
附图说明
图1表示本发明的一个实施方式，是带有触摸面板的显示设备的截面图。
图2表示本发明的一个实施方式，是表示透明导电性薄膜的截面图。
图3表示本发明的一个实施方式，是触摸面板的截面图。
图4表示本发明的一个实施方式，是经过了布图的透明导电性膜层的俯视图。
图5表示本发明的一个实施方式，是经过了布图的2个透明导电性膜层的顶视图的俯视图。
图6表示本发明的一个实施方式，是屏蔽层的截面图。
具体实施方式
以下使用说明图对用于实施本发明的方式进行说明。其中，本发明并非限定于以下记载的实施方式，根据本领域技术人员的知识也可加以设计变更等变形，加以这种变形的实施方式也包含在本发明的范围内。
图1用截面图示出本实施方式的带有触摸面板的显示设备60的构成。图1的带有触摸面板的显示设备60由LCD显示面板30、构成于观察侧的触摸面板10、介由粘结剂层50层叠在触摸面板10的更靠观察侧的面上的前面板层40、以及介于LCD显示面板30与触摸面板10之间的屏蔽层20构成。屏蔽层20可以如图1所示与触摸面板10分离，还可以介由粘结剂等粘贴在触摸面板10上。
图2用截面图示出本实施方式的触摸面板10中使用的透明导电性薄膜1的构成。成为如下的构成：在透明基材2的一个面上依次层叠有底涂层3和透明导电性膜层4，在透明基材2的另一个面上设有透明薄膜5。
图3表示对所粘贴的2张透明导电性薄膜1的各透明导电性膜层4进行布图而形成了透明导电性膜层41和42的触摸面板10的截面图。本发明中，由于在粘贴之后实施布图，因此2张透明导电性薄膜1的粘贴必须要用粘结层6将透明导电性膜层4相反侧的面彼此粘贴。透明导电性膜层4的布图例如可经过抗蚀剂涂布、曝光、刻蚀、抗蚀剂剥离的工序形成导电性图案部和非导电性图案部。作为布图方法，也可以使用利用丝网印刷、光刻法、激光进行的布图等方法。另外，抗蚀剂也可以并非是感光性的抗蚀剂而是通过干燥发生固化的抗蚀剂。此时，将曝光工序替换成干燥工序。作为透明导电性膜层4的布图例子，图4示出从上面观察到的将透明导电性膜层41布图为多个菱形状的图。在制作静电电容式触摸面板时，从上面观察触摸面板10时，必须按照透明导电性膜层41和42不重叠的方式来形成图案。在使用如图4所示的多个菱形状的图案时，如果按照透明导电性膜层41和42不重叠的方式来进行布图时，则成为图5。由此，可以实现透明导电性膜层41或42的某一方检测X方向的静电电容变化、另一方检测Y方向的变化。
如图1所示，触摸面板10和LCD显示面板30隔着屏蔽层20组装在一起。屏蔽层20是用于不使来自LCD显示面板30的电噪音赋予至触摸面板10而组装的层，需要透明且具备导电性。
将本发明的屏蔽层20的构成示于图6。在基材21上层叠导电膜层22。在基材21与导电膜层22之间层叠作为涂覆层的UV固化树脂层23。
作为基材21，可使用透明的玻璃和塑料膜。作为塑料膜，只要是面内延迟及深度方向的延迟低、在成膜工序和后工序中具有充分的强度、表面平滑，则无特别限定，例如可举出环烯烃聚合物、环烯烃共聚物等。这些基材21中也可含有抗氧化剂、防静电剂、防紫外线剂、增塑剂、润滑剂、易粘接剂等添加剂。另外，为了使密合性变得良好，还可以实施电晕处理、低温等离子体处理。
作为导电膜层22中使用的导电性材料，本发明中使用导电性聚合物。作为导电性聚合物，可使用π共轭系高分子。例如可举出聚乙炔、聚二乙炔、聚苯胺、聚对苯撑、聚对苯撑乙烯撑、聚噻吩、聚乙撑二氧噻吩、聚呋喃、聚吡咯、聚苯硫醚、聚吡啶基乙烯撑及聚吖嗪等。这些物质可仅使用1种，还可根据目的组合使用2种以上。其中，聚乙撑二氧噻吩的表面电阻值为数百Ω/□左右，透明性较为良好，b*值为负且带有一些蓝色，因此在作为屏蔽层使用时不会使显示面板整体的色调变差，可优选地使用。
作为将导电膜层22层叠在基材21上的方法，可利用旋涂法、辊涂法、棒涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘式淋涂法、模涂法、喷涂法、刮涂法、捏合机涂布法等涂布法或者丝网印刷法、喷雾印刷法、喷墨印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等印刷法涂布等的涂覆来进行涂布。
导电膜层22中使用的导电性聚合物优选在上述涂饰方法之后变成液态。为了形成液态，优选溶解或分散在水或有机溶剂、例如醇、醚、酮、酯、烃、卤代烃、酰胺等中进行使用。其中，从成本上来说也可容易地使用水或甲醇、乙醇、异丙醇等溶剂。此时，为了使聚合物的分散性变得良好，还可添加分散剂或表面活性剂等添加剂，也可为了增强导电膜层22的膜强度而添加添加剂，或者可以添加用于促进膜固化的固化剂。
作为导电膜层22的膜固化方法，根据所使用的π共轭系高分子的种类或者所添加的固化剂的种类，利用热固化或UV固化等使其固化。
π共轭系高分子中，也有时单独并不表现出导电性、但通过添加掺杂剂对π共轭系高分子赋予正或负的电荷从而具有导电性。因此，还优选添加掺杂剂。例如为聚二氧噻吩时，通常添加聚苯乙烯磺酸作为掺杂剂。
导电膜层22的透射b*值在负方向的值越大，透射色的蓝色越强，具有抑制发黄的效果。b*值可通过改变导电性聚合物膜的膜厚来进行控制，可根据触摸面板10的透射色的发黄的程度来涂饰最适当膜厚的导电性聚合物膜。
涂覆层23是为了防止低聚物从其下部的基材21析出而设置的层。通过根据构成屏蔽层20的导电膜层22的材质来选择适当的材料、膜厚、固化方法，可以形成在防止低聚物析出的同时还保持高透射率的屏蔽层20。例如作为导电膜层22使用上述聚乙撑二氧噻吩时，通过利用丙烯酸系的UV固化树脂形成3μm的层而可以实现。
作为涂覆层23的形成方法，与导电性聚合物层的形成同样，可以利用旋涂法、辊涂法、棒涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘式淋涂法、模涂法、喷涂法、刮涂法、捏合机涂布法等涂布法或者丝网印刷法、喷雾印刷法、喷墨印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等印刷法涂布等的涂覆来进行。
作为LCD显示面板30的结构，使用如下的极为常用的LCD显示面板：其是通过配置用于驱动液晶的开关元件并设有电极层的基板(阵列基板)与形成有相向的电极层的滤色器基板夹持液晶层而构成，在阵列基板和滤色器基板上分别安装有偏振片。另外，作为LCD显示面板30的驱动方式并无特别限定，可使用IPS(注册商标)方式、TN方式、VA方式等。
本实施方式的透明基材2可使用塑料膜。作为塑料膜，只要是折射率为1.45～1.75的范围、成膜工序及后工序中具有充分的强度、表面平滑性良好，则无特别限定，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚砜、聚砜、聚芳酯、环状聚烯烃、聚酰亚胺、三乙酰纤维素等。其厚度考虑到透明导电性薄膜1的薄型化和透明基材2的挠性，优选使用10μm以上且200μm以下左右厚度的膜。特别是在触摸面板要求光学各向同性时，可选择环烯烃聚合物、环烯烃共聚物、聚碳酸酯、三乙酰基纤维素等延迟低的膜。透明导电性薄膜1的面内延迟Re优选为30nm以下、深度方向延迟Rth优选为100nm以下。
本实施方式的触摸面板10中使用的透明导电性薄膜1中，如图2所示，在透明基材2的一个面上依次形成底涂层3和透明导电性膜层4。
底涂层3具有调整透明导电性薄膜1的透射率或色调、使布线图案难以被看到的功能。对于这些光学特性，可以通过将底涂层3的折射率和膜厚相对于透明基材2和透明导电性膜层4的折射率和膜厚、调整至合适的条件来进行控制。
对底涂层3除了上述的光学特性之外，还要求与透明基材2及透明导电性膜层4的密合性良好，因此优选作为塑料膜的透明基材2一侧具有有机系的性质、作为金属氧化物的透明导电性膜层4一侧具有无机系的性质。
底涂层3可使用含硅的有机系的硬涂剂。另外，在其中添加有作为用于调节折射率的无机化合物的高折射材料。硬涂剂优选是光固化型的、且是在固化时表层(不接触于透明基材2的面)的碳原子减少的类型，但只要是能够进行在厚度方向上提高透明基材2一侧的碳的含有比率、透明导电性膜层4一侧提高硅的含有比率的控制，则并不限定于此。作为具体的控制方法，除了适当选择硬涂剂的类型的方法之外，还可举出例如适当调节光固化时的光量的方法、适当调整涂布硬涂剂使其干燥时的干燥条件的方法等。
对于底涂层3，通过提高作为塑料膜的透明基材2一侧的碳的含有比率而使其具有有机系的性质、提高作为金属氧化物的透明导电性膜层4一侧的硅的含有比率而使其具有无机系的性质，各个界面的密合性变得良好。具体地说，使底涂层3的距离透明导电性膜层4为厚度方向30nm以内范围的碳原子的含有率X(C30)(％)与硅原子的含有率X(Si30)(％)为式(1)的关系，使底涂层3的距离透明导电性膜层4为厚度方向40nm以上范围的碳原子的含有率X(C40)(％)与硅原子的含有率X(Si40)(％)为式(2)的关系。
X(Si30)/X(C30)≥0.28   (1)
X(Si40)/X(C40)≤0.23   (2)
碳原子的含有率X(C30)(％)及X(C40)(％)以及硅原子的含有率X(Si30)(％)及X(Si40)(％)的测定使用X射线光电子分光法(X-rayPhotoelectron Spectroscopy，也称作ESCA(Electron Spectroscopy forChemical Analysis，化学分析用电子能谱))来进行。X射线光电子分光法可以由其光谱进行从底涂层3的最表面至深度方向的元素的定量。
底涂层3还可以含有光聚合引发剂等添加剂。
添加光聚合引发剂时，作为自由基产生型的光聚合引发剂，有苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苄基甲基缩酮等苯偶姻与其烷基醚类，苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮等苯乙酮类，甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌类，噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮类，苯乙酮二甲基缩酮、苄基二甲基缩酮等缩酮类，二苯甲酮、4,4-双甲基氨基二苯甲酮等二苯甲酮类及偶氮化合物等。这些物质可单独使用或者作为2种以上的混合物进行使用，进而还可以与三乙醇胺、甲基二乙醇胺等叔胺、2-二甲基氨基乙基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物等光引发助剂等组合使用。
上述光聚合引发剂的添加量相对于主成分的树脂为0.1重量％以上且5重量％以下，优选为0.5重量％以上且3重量％以下。小于下限值时，硬涂层的固化变得不充分，从而不优选。另外，超过上限值时，由于会发生硬涂层的黄变或耐光性降低，因此不优选。使光固化型树脂固化时所使用的光是紫外线、电子束或γ射线等，当为电子束或γ射线时，并非必须含有光聚合引发剂或光引发助剂。作为这些射线源，可以使用高压汞灯、氙灯、金属卤化物灯或加速电子等。
作为高折射材料，例如可举出氧化钛(2.4)、氧化锆(2.4)、硫化锌(2.3)、氧化钽(2.1)、氧化锌(2.1)、氧化铟(2.0)、氧化铌(2.3)、氧化钽(2.2)等无机化合物。其中上述括号内的数值表示折射率。
高折射材料的粒径优选为1～30nm，优选为粉体状或溶剂分散溶胶。将其添加在上述硬涂剂中。作为分散介质，例如可举出甲醇、乙醇、异丙醇、仲丁醇、正丁醇、叔丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、甲基戊基酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯等酯类；乙二醇单甲基醚、二乙二醇单丁基醚、丙二醇单甲基醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。其中，优选甲醇、异丙醇、甲乙酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、丙二醇单甲基醚。
作为以氧化钛粒子市售的商品，例如作为溶剂分散品可举出Tayca株式会社制的TS-103、884T、TS-069等。另外，作为氧化锆的甲苯分散品，可举出SUMITOMO OSAKA CEMENT株式会社制的HXU-110JC等。作为氧化锆粉体，可举出第一稀元素化学工业株式会社制的UEP-100、日本电工株式会社制的PCS、JS-01、JS-03、JS-04等。
可通过高折射材料的含量将底涂层3的折射率调整至所希望的值。优选按照底涂层3的折射率为1.5～2.0的范围且比透明基材2的折射率高、比透明导电性膜层4的折射率低的方式来进行调整。但是，添加量在以除去底涂层3的溶剂之外的组合物总量为100重量％时、使其含量达到40重量％以下。其原因在于，如果超过40重量％，则底涂层3整体发生无机化，与作为高分子膜的透明基材2的密合性变差。
另外，底涂层3的厚度对应其折射率进行调整，但当使用光固化型的硬涂剂时，使其达到60nm以上。其原因在于，比60nm薄时，由于光固化、透明基材2一侧的碳原子也减少，与透明基材2的界面的密合性降低。进而优选：底涂层3的氧原子的含有率在距离透明导电性膜层4一侧为厚度方向30nm以内范围时为45％以上，在距离透明导电性膜层4一侧为厚度方向40nm以上范围时含有率为30％以下。氧原子的含有率也可通过上述的X射线光电子分光法进行测定。
底涂层3的形成方法是将作为主成分的树脂等溶解在溶剂中、然后利用模涂机、帘流涂布机、辊涂机、反式辊涂机、凹版涂布机、刮刀涂布机、棒涂机、旋涂机、微凹版涂布机等公知的涂布方法形成。
对于溶剂，只要是溶解上述主成分的树脂等的溶剂则无特别限定。具体地说，作为溶剂，可举出乙醇、异丙醇、异丁醇、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异戊酯、乳酸乙酯、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、甲基溶纤剂醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯等。这些溶剂可单独使用1种，也可并用2种以上。
本实施方式的触摸面板10中使用的透明导电性薄膜1如图2所示，在底涂层3上具备由金属氧化物构成的透明导电性膜层4。
透明导电性膜层4由金属氧化物构成，作为金属氧化物，可举出氧化铟、氧化锌及氧化锡中的任一种；或它们中的2种或3种的混合氧化物；以及进一步添加有其他添加物的物质等，可根据目的、用途使用各种材料，并无特别限定。目前，可靠性最高、具有更多实际成绩的材料是氧化铟锡(ITO)。
作为透明导电性膜层4的材料使用氧化铟锡(ITO)时，掺杂在氧化铟中的氧化锡的含有比例可根据设备所需要的规格任意地进行选择。为透明基材2时，为了提高机械强度而用于使薄膜结晶化的材料优选氧化锡的含有比例小于10重量％，为了对薄膜进行无定形化而赋予挠性，优选氧化锡的含有比例为10重量％以上。另外，当对薄膜要求低电阻时，优选氧化锡的含有比例为2～20重量％的范围。
透明导电性膜层4的制造方法只要是能够控制膜厚，则可以是任何的成膜方法，薄膜的干式涂覆法特别优异。其中可以使用真空蒸镀法、溅射等物理气相沉积法或者CVD法等化学气相沉积法。特别是为了形成大面积均匀的膜质的薄膜，优选工艺稳定、薄膜发生致密化的溅射法。
透明导电性膜层4的厚度并无特别限定，可根据目标特性适当进行调整，例如优选为10nm以上且50nm以下的范围。
对于本实施方式的触摸面板10中使用的透明导电性薄膜1，优选如图2所示在透明基材2的未形成透明导电性膜层4的那个面上形成透明薄膜5以赋予机械强度。这里，透明薄膜5由有机化合物构成。
作为透明薄膜5中使用的树脂并无特别限定，优选具有透明性、适当硬度和机械强度的树脂。具体地说，优选以可期待3维交联的3官能以上的丙烯酸酯为主成分的单体或交联性低聚物那样的光固化性树脂。
作为3官能以上的丙烯酸酯单体，优选三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二(三羟甲基)丙烷四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。特别优选的是异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯。这些物质可单独使用或者并用2种以上。另外，还可以在除了这些3官能以上的丙烯酸酯之外、并用环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、多醇丙烯酸酯等所谓的丙烯酸系树脂。
作为交联性低聚物，优选聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、有机硅(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸低聚物。具体地说有聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A型环氧丙烯酸酯、聚氨酯的二丙烯酸酯、甲醛酚醛清漆型环氧(甲基)丙烯酸酯等。
透明薄膜5除此之外还可含有粒子、光聚合引发剂等添加剂。
作为所添加的粒子，可举出有机或无机的粒子，但考虑到透明性，优选使用有机粒子。作为有机粒子，可举出由丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、聚酯树脂、聚烯烃树脂、聚酰胺树脂、聚碳酸酯树脂、聚氨酯树脂、有机硅树脂及氟树脂等构成的粒子。
粒子的平均粒径随透明薄膜5的厚度而不同，但从雾度等外观上的理由出发，作为下限使用2μm以上、更优选5μm以上、作为上限使用30μm以下、优选15μm以下。另外，粒子的含量也从同样的理由出发，相对于树脂优选为0.5重量％以上且5重量％以下。
添加光聚合引发剂时，作为自由基产生型的光聚合引发剂，有苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苄基甲基缩酮等苯偶姻及其烷基醚类，苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮等苯乙酮类，甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌类，噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮类，苯乙酮二甲基缩酮、苄基二甲基缩酮等缩酮类，二苯甲酮、4,4-双甲基氨基二苯甲酮等二苯甲酮类及偶氮化合物等。这些物质可单独使用或作为2种以上的混合物进行使用，进而还可以与三乙醇胺、甲基二乙醇胺等叔胺、2-二甲基氨基乙基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物等光引发助剂等组合使用。
上述光聚合引发剂的添加量相对于主成分的树脂为0.1重量％以上且5重量％以下、优选为0.5重量％以上且3重量％以下。小于下限值时，硬涂层的固化变得不充分，从而不优选。另外，超过上限值时，由于会发生硬涂层的黄变或耐候性降低，因此不优选。用于使光固化型树脂固化所使用的光是紫外线、电子束或γ射线等，为电子束或γ射线时，并非必须含有光聚合引发剂或光引发助剂。作为这些线源，可使用高压汞灯、氙灯、金属卤化物灯或加速电子等。
另外，透明薄膜5的厚度并无特别限定，优选为0.5μm以上且15μm以下的范围。另外，更优选折射率与透明基材2相同或近似，优选为1.45以上且1.75以下左右。
透明薄膜5的形成方法是使作为主成分的树脂等溶解在溶剂中、然后利用模涂机、帘流涂布机、辊涂机、反式辊涂机、凹版涂布机、刮刀涂布机、棒涂机、旋涂机、微凹版涂布机等公知的涂布方法来形成。
对于溶剂，只要是溶解上述主成分的树脂等的溶剂则无特别限定。具体地说，作为溶剂，可举出乙醇、异丙醇、异丁醇、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异戊酯、乳酸乙酯、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、甲基溶纤剂醋酸酯、丙二醇单甲基醚醋酸酯等。这些溶剂可单独使用1种，也可并用2种以上。
图3的实施方式中，触摸面板10如上所述通过利用粘结层6将2张透明导电性薄膜1的透明薄膜5一侧彼此粘贴后，对每个单面进行布图，由此形成透明导电性膜层41及42。布图工序可以使用丝网印刷、光刻法、激光等。此时形成的图案通过作为光学调节层设置的底涂层3的效果而变得通过目视难以被看到，通过之后的工序可以提供图案的不可视性良好的带有触摸面板的显示设备60。
实施例
对本发明的实施例具体地进行说明。其中，到作成透明导电性薄膜为止的工序是卷对卷的形式。
＜实施例＞
在图2的构成中，作为透明基材使用膜厚为125μm的PET(Toray株式会社制U483-125)。
接着，在透明基材上的一个面上利用凹版涂布法按照固化膜厚达到4μm的方式来涂布硬涂层涂液(组成：氨基甲酸酯丙烯酸酯(共荣社化学株式会社制的UA-510H)100重量份、烷基苯酮系光聚合引发剂(BASFJapan株式会社制的IRGACURE(注册商标)907)4重量份及乙酸乙酯100重量份)并进行干燥，使用金属卤化物灯照射400mJ/cm2的紫外线，形成透明薄膜。
然后，在透明基材上的没有透明薄膜的那个面上利用凹版涂布法涂布硬涂层涂液(日本曹达株式会社制，在表面无机化硬涂剂中添加作为用于折射率调整的高折射材料的氧化锆)并进行干燥，使用金属卤化物灯照射紫外线，形成底涂层。此时，使固化膜厚、X(Si30)/X(C30)、X(Si40)/X(C40)、相对于底涂层的组合物总量100重量％的氧化锆含量的条件如表1的No.1～16所示，作成样品。其中，X(Si30)、X(C30)分别是底涂层的距离透明导电性膜层为厚度方向30nm以内范围的部分的硅原子、碳原子的含有率(％)，X(Si40)、X(C40)分别是底涂层的距离透明导电性膜层为厚度方向40nm以上范围的部分的硅原子、碳原子的含有率(％)。
接着，对于上述的各样品，在透明基材的底涂层上利用DC磁控溅射法形成透明导电性膜层，作成透明导电性薄膜。此时，作为透明导电性膜层用的材料，使用含有10重量％氧化锡的ITO。另外，使透明导电性膜层的厚度为20nm。
此外，在这里所使用的透明基材以上述条件形成底涂层、透明导电性膜层时，当由各层的光学特性模拟对于透明导电性薄膜的图案不可视性为最佳的底涂层膜厚时，可知为100nm。另外，此时的底涂层的氧化锆含量率为30重量％。
然后，对该透明导电性薄膜实施以下的评价。
＜评价内容＞
1.图案不可视性
通过刻蚀在透明导电性膜层上实施布线的布图，对从透明导电性膜层一侧目视时的图案的不可视性进行评价。
2.密合性
根据JIS K5600，在透明导电性膜层一侧的涂膜上切入1mm间隔的切口，纵横各11根，从而作成了100个棋盘格。在各样品上粘贴透明胶带(Cellotape(注册商标))，利用橡皮擦数次使其密合后，将胶带剥离，确认涂膜未剥离而残存的格子的数量。另外，在发生了剥离时，确认剥离是在底涂层与透明导电性膜层的界面上发生、还是在底涂层与透明基材的界面上发生。
将对上述的图案不可视性、密合性进行评价的结果示于表1。对于不可视性，图案未能识别的情况标记为+、被识别到的情况标记为-。另外，对于密合性，将剥离的格子完全没有的情况标记为+，即便只有1个格子被剥离也标记为-，并且在-的情况下标记出发生剥离的界面。
＜评价结果＞
表1
观察表1可知，在底涂层中的氧化锆含量为30重量％、固化膜厚为100nm时，如果X(Si30)/X(C30)为0.28以上，则底涂层与透明导电性膜层的密合性为合格(没有剥离了的格子)。认为这是由于底涂层的透明导电性膜层一侧的硅含有率提高，因此界面发生无机化，与透明导电性膜层的密合性变得良好。同样，在使底涂层中的氧化锆含量为30％、固化膜厚为100nm时，如果X(Si40)/X(C40)为0.23以下，则底涂层与透明基材的密合性为合格(没有剥离了的格子)。认为这是由于在底涂层的透明基材一侧的碳含有率为一定以上而成为界面的有机成分高的状态，因此与透明基材的密合性变得良好。上述中，在底涂层与透明导电性膜层、透明基材的密合性良好的X(Si30)/X(C30)＝0.40、X(Si40)/X(C40)＝0.02的条件下，如No.13～16那样改变固化膜厚或氧化锆含量时，图案不可视性变差。认为其原因在于，折射率、膜厚从作为光学调节层的底涂层相对于透明基材、透明导电性膜层的折射率和膜厚的适当条件发生了偏离。另外，当氧化锆含有添加量超过40重量％时，在底涂层与基材的界面处发生剥离。认为这是由于作为无机化合物的氧化锆的含有率提高、与透明基材的界面的无机化发生，因而密合性变差，因此可以说高折射材料的含量需要为40重量％以下。
鉴于以上的结果，使底涂层的膜厚为60nm以上的适当膜厚、使高折射材料的含量为40重量％以下、使X(Si30)/X(C30)为0.28以上、X(Si40)/X(C40)为0.25以下，作成透明导电性薄膜。然后，使用该透明导电性薄膜构成触摸面板，进而将其作为构成部件制作带有触摸面板的显示设备。
由此，可以提供将以下述透明导电性薄膜为构成要素的触摸面板作为构成部件的显示设备，所述透明导电性薄膜即便是在透明导电性薄膜上通过湿式涂覆设置有光学调节层时、在作为高分子膜的基材与光学调节层之间、光学调节层与作为金属氧化物的透明导电性膜层之间也具有高的密合性、且充分地具有图案的不可视性。
产业上的可利用性
本发明可以适用于电子书阅读器、平板终端、智能手机、手机、电子纸、计算机等的显示器。
符号说明
1 透明导电性薄膜
2 透明基材
3 底涂层
4、41、42 透明导电性膜层
5 透明薄膜
6 粘结层
10 触摸面板
20 屏蔽层
21 基材
22 导电膜层
23 涂覆层
30 LCD显示面板
40 前面板层
50 粘接剂层
60 带有触摸面板的显示设备

Claims (9)

1.一种透明导电性薄膜，其为在透明基材的一个面上依次层叠有底涂层和透明导电性膜层的透明导电性薄膜，其中，
所述底涂层的折射率为1.5～2.0的范围内，所述底涂层的折射率比所述透明基材的折射率高且比所述透明导电性膜层的折射率低，在使所述底涂层的组合物总量为100重量％时，高折射材料的含量为40重量％以下，所述底涂层的距离所述透明导电性膜层为厚度方向30nm以内范围的碳原子的含有率X(C30)与硅原子的含有率X(Si30)为式(1)的关系，所述底涂层的距离所述透明导电性膜层为厚度方向40nm以上范围的碳原子的含有率X(C40)与硅原子的含有率X(Si40)为式(2)的关系，所述X(C30)、X(Si30)、X(C40)、X(Si40)的单位分别为％，
X(Si30)/X(C30)≥0.28   (1)
X(Si40)/X(C40)≤0.23   (2)。
2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其中，所述底涂层的膜厚为60nm以上。
3.根据权利要求1或2所述的透明导电性薄膜，其中，所述底涂层的距离所述透明导电性膜层为厚度方向30nm以内范围的氧原子的含有率为45％以上，所述底涂层的距离所述透明导电性膜层为厚度方向40nm以上范围的氧原子的含有率为30％以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性薄膜，其中，所述透明导电性膜层是金属氧化物。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的透明导电性薄膜，其中，所述透明基材是折射率为1.45～1.75的范围内的塑料膜。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的透明导电性薄膜，其中，所述透明导电性薄膜的面内延迟Re为30nm以下，深度方向延迟Rth为100nm以下。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的透明导电性薄膜，其中，在所述透明导电性薄膜的与所述透明导电性膜层相反侧的面上具有有机化合物的层。
8.一种触摸面板，其以权利要求1～7中任一项所述的透明导电性薄膜作为构成要素。
9.一种显示设备，其以权利要求8所述的触摸面板作为构成部件。
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