CN104846338A - 蒸发源装置及蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及蒸镀设备技术领域,公开了一种蒸发源装置及蒸镀装置,用以提高材料受热的均匀性,进而提高材料蒸镀的良率,提高显示器件的性能。其中蒸发源装置包括:一端开口的坩埚;位于坩埚内、对坩埚内的材料进行搅拌的搅拌单元;驱动搅拌单元旋转的驱动装置。本发明提供的蒸发源装置,通过设置的搅拌单元,可以对坩埚内的材料进行搅拌,使得材料与坩埚的侧壁的接触面积一直保持最大,减少材料局部受热较多的情况的发生,进而减少材料分解或劣化的现象的发生。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀设备技术领域,特别是涉及一种蒸发源装置及蒸镀装置。
背景技术
近年来,有机电致发光显示器(OLED)作为一种新型的平板显示逐渐受到更多的关注。由于其具有主动发光、发光亮度高、分辨率高、宽视角、响应速度快、低能耗以及可柔性化等特点,成为有可能代替液晶显示的下一代显示技术。
蒸镀装置是应用于薄膜制备领域的实验和生产设备,在有机电致发光二极管(OLED)、有机太阳能电池(OPV)、有机场效应晶体管(OFET)等有机光电领域被广泛使用。
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)通过蒸镀有机材料来制作构成OLED显示器件的载流子传输层和有机发光层。现今的OLED蒸镀装置的蒸发源分为点形蒸发源和线形蒸发源。在蒸发源装置中蒸镀的有机蒸镀材料主要分两种,一种是升华型有机材料,另一种则是熔融型有机材料。其中,升华型有机材料主要是将有机材料直接加热,有机材料升华为气态再冷却于基板上形成有机膜层;熔融型有机材料在加热后则先融为液态再升温为气态,最后再冷却于基板上形成有机膜层。
如图1所示,图1为现有的蒸发源装置结构示意图,蒸发源装置包括盛放有机材料的坩埚01,对坩埚01进行加热,实现坩埚01内的有机材料的蒸镀,由于对坩埚01加热仅是对坩埚01四周的坩埚壁进行加热,对于坩埚01的坩埚槽内的有机材料而言,有机材料本身的导热性较差,且热传导路径较长,易造成传热不均,特别对于大尺寸的蒸发源来说,温度分布不均的现象更明显,进而造成有机材料的蒸镀的镀率稳定性不足及良率降低等问题。
如图1所述,对于升化型的OLED有机材料,进行蒸镀的过程中,坩埚内贴近坩埚壁的有机材料由于先受热,会比较早的升华掉,而中心部分的有机材料受热较慢会逐渐形成直立岛状结构02,而为了维持稳定的蒸镀速率,蒸发源会不断升高温度,这就会使坩埚内与坩埚的底部接触的有机材料受热较多,导致有机材料分解或劣化,造成材料的浪费和污染,甚至影响OLED器件的性能。
发明内容
本发明的目的是提供一种蒸发源装置及蒸镀装置,用以提高材料受热的均匀性,进而提高材料蒸镀的良率,提高显示器件的性能。
为达到上述目的,本发明提供了如下技术方案:
本发明提供了一种蒸发源装置,包括:
一端开口的坩埚;
位于所述坩埚内、对所述坩埚内的材料进行搅拌的搅拌单元;
驱动所述搅拌单元旋转的驱动装置。
本发明提供的蒸发源装置,通过设置的搅拌单元,可以对坩埚内的材料进行搅拌,使得材料与坩埚的侧壁的接触面积一直保持最大,减少材料局部受热较多的情况的发生,进而减少材料分解或劣化的现象的发生。
所以,本发明提供的蒸发源装置,可以提高材料受热的均匀性,进而提高材料蒸镀的良率,提高显示器件的性能。
在一些可选的实施方式中,所述搅拌单元包括:连接杆和至少两个叶片,所述连接杆的一端与所述驱动装置可旋转连接,另一端与所述至少两个叶片固定连接。
在一些可选的实施方式中,所述连接杆的轴线与所述坩埚的轴线重合,所述至少两个叶片绕所述连接杆的轴线旋转;或所述连接杆的轴线与所述坩埚的轴线不重合,所述至少两个叶片绕所述坩埚的轴线旋转。
在一些可选的实施方式中,上述蒸发源装置还包括:设置于所述坩埚的开口端、用于防止坩埚内的材料喷溅的遮挡网。
在一些可选的实施方式中,所述搅拌单元包括:传动杆,所述传动杆的一端与所述驱动装置可旋转连接,另一端与所述遮挡网的一侧壁固定连接,所述连接杆的一端与所述遮挡网的底部连接。
在一些可选的实施方式中,所述至少两个叶片与所述连接杆之间焊接或通过螺栓连接。
在一些可选的实施方式中,所述至少两个叶片和所述连接杆的材料为金属钛、钨、不锈钢或陶瓷。
在一些可选的实施方式中,所述驱动装置为电机。
在一些可选的实施方式中,所述搅拌单元的转速为0~100转/分钟。
本发明还提供了一种蒸镀装置,包括上述任一项所述的蒸发源装置。由于上述蒸发源装置,可以提高材料受热的均匀性,进而提高材料蒸镀的良率,提高显示器件的性能,所以,本发明提供的蒸镀装置具有较好的使用性能。
附图说明
图1为现有的蒸发源装置结构示意图;
图2为本发明实施例提供的蒸发源装置的第一种结构示意图;
图3为本发明实施例提供的蒸发源装置的第二种结构示意图;
图4为本发明实施例提供的蒸发源装置的第三种结构示意图。
附图标记:
01-坩埚 02-直立岛状结构
1-坩埚 2-搅拌单元
21-连接杆 211-横杆
212-竖杆 22-叶片
23-传动杆 3-驱动装置
4-遮挡网
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明专利保护的范围。
如图2所示,图2为本发明实施例提供的蒸发源装置的第一种结构示意图;本发明实施例提供了一种蒸发源装置,包括:
一端开口的坩埚1;
位于坩埚1内、对坩埚1内的材料进行搅拌的搅拌单元2;
驱动搅拌单元2旋转的驱动装置3。
本发明提供的蒸发源装置,通过设置的搅拌单元2,可以对坩埚1内的材料进行搅拌,使得材料与坩埚1的侧壁的接触面积一直保持最大,减少材料局部受热较多的情况的发生,进而减少材料分解或劣化的现象的发生。
所以,本发明提供的蒸发源装置,可以提高材料受热的均匀性,进而提高材料蒸镀的良率,提高显示器件的性能。
如图2所述,搅拌单元2包括:连接杆21和至少两个叶片22,连接杆21的一端与驱动装置3可旋转连接,另一端与至少两个叶片22固定连接。
一种可选的实施方式中,如图2所述,搅拌单元2包括:连接杆21和至少两个叶片22,连接杆21的一端与驱动装置3可旋转连接,另一端与至少两个叶片22固定连接,至少两个叶片22绕连接杆21的轴线旋转。为了使得坩埚内的材料被充分搅拌,叶片22的设计的可以大些,以便可以对靠近坩埚内壁的材料也能进行充分的搅拌,叶片的具体个数,本领域技术人员可以根据实际需要设定。连接杆21的具体形状可以有多种,可选的,如图2所示,包括竖杆212和横杆211。
另一种可选的实施方式中,如图3所示,图3为本发明实施例提供的蒸发源装置的第二种结构示意图;搅拌单元2包括:连接杆21和至少两个叶片22,连接杆21的一端与驱动装置3可旋转连接,另一端与至少两个叶片22固定连接,连接杆21的轴线与坩埚1的轴线不重合,至少两个叶片22绕坩埚1的轴线旋转。连接杆21的具体形状不限于图3所示形状,这种结构的搅拌单元2在设计时,叶片22可以设计的小些,避免在旋转时,叶片22碰撞到坩埚的内壁,对坩埚的内壁造成伤害,叶片的具体个数,本领域技术人员可以根据实际需要设定。同理,为了保证至少两个叶片绕坩埚的轴线旋转,连接杆的横杆与竖直杆之间可以通过齿轮组连接,且竖直杆部分可以为一根杆,也可以为相互可旋转连接的多根节杆。
上述叶片的具体形状可以为枝状、条状、叶片状等。
进一步的,如图4所示,图4为本发明实施例提供的蒸发源装置的第三种结构示意图,上述可选的实施方式中的蒸发源装置还可以包括:设置于坩埚1的开口端、用于防止坩埚1内的材料喷溅的遮挡网4。遮挡网4可以随着搅拌单元2一起旋转,也可以不一起旋转。
一种具体实施方式中,遮挡网4不与搅拌单元2一起旋转,遮挡网4卡和设置于坩埚内,驱动装置通过传动杆与连接杆连接,遮挡网的底部设有允许连接杆或传动杆穿过的通孔。
另一种具体实施方式中,遮挡网4随着搅拌单元2一起旋转,搅拌单元2包括:传动杆23,驱动装置3与传动杆23的一端可旋转连接,传动杆23的另一端与遮挡网4的一侧壁固定连接,遮挡网4的底部与连接杆21的一端连接。搅拌单元2在旋转时,遮挡网4随着一起旋转,为了避免遮挡网4在旋转时与坩埚1的内壁发生碰撞,同时又不影响遮挡网4的遮挡效果,遮挡网4的面积略小于坩埚开口端的横截面积,具体的尺寸本领域技术人员可以根据实际需要设定,传动杆23可以通过焊接或螺钉与遮挡网连接。
当然遮挡网与叶片和驱动装置的连接结构,并不限于图4所示,也可以采用其它结构和形状,这里就不再一一赘述。
上述遮挡网的材料可以为金属材料。
上述几种结构中的搅拌单元中的至少两个叶片22与连接杆21之间焊接或通过螺栓连接。
由于坩埚内的材料温度较高,为了避免叶片以及连接杆对坩埚内材料的影响,上述至少两个叶片和连接杆采用耐高温且不会对坩埚内的材料产生污染的材料制备而成,例如可以为金属钛、钨、不锈钢或陶瓷等,这里就不再一一赘述。
上述驱动装置3的驱动搅拌单元2旋转的驱动方式可以为机械式驱动、电力驱动、磁力驱动等,这里就不再一一赘述,可选的,驱动装置3可以为电机。
为了提高坩埚内材料的受热均匀性,搅拌单元2的转速为0~100转/分钟。例如,可以为20转/分钟、35转/分钟、45转/分钟、55转/分钟、60转/分钟、70转/分钟、80转/分钟、90转/分钟、100转/分钟等,这里就不再一一赘述,具体的旋转速度本领域技术人员可以根据需要设定。
本发明实施例还提供给了一种蒸镀装置,包括上述任一项所述的蒸发源装置。由于上述蒸发源装置,可以提高材料受热的均匀性,进而提高材料蒸镀的良率,提高显示器件的性能,所以,本发明提供的蒸镀装置具有较好的使用性能。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种蒸发源装置,其特征在于,包括:
一端开口的坩埚;
位于所述坩埚内、对所述坩埚内的材料进行搅拌的搅拌单元;
驱动所述搅拌单元旋转的驱动装置。
2.如权利要求1所述的蒸发源装置,其特征在于,所述搅拌单元包括:连接杆和至少两个叶片,所述连接杆的一端与所述驱动装置可旋转连接,另一端与所述至少两个叶片固定连接。
3.如权利要求2所述的蒸发源装置,其特征在于,所述连接杆的轴线与所述坩埚的轴线重合,所述至少两个叶片绕所述连接杆的轴线旋转;或所述连接杆的轴线与所述坩埚的轴线不重合,所述至少两个叶片绕所述坩埚的轴线旋转。
4.如权利要求2或3项所述的蒸发源装置,其特征在于,还包括:设置于所述坩埚的开口端、用于防止坩埚内的材料喷溅的遮挡网。
5.如权利要求4所述的蒸发源装置,其特征在于,所述搅拌单元包括:传动杆,所述传动杆的一端与所述驱动装置可旋转连接,另一端与所述遮挡网的一侧壁固定连接,所述连接杆的一端与所述遮挡网的底部连接。
6.如权利要求2所述的蒸发源装置,其特征在于,所述至少两个叶片与所述连接杆之间焊接或通过螺栓连接。
7.如权利要求2所述的蒸发源装置,其特征在于,所述至少两个叶片和所述连接杆的材料为金属钛、钨、不锈钢或陶瓷。
8.如权利要求1所述的蒸发源装置,其特征在于,所述驱动装置为电机。
9.如权利要求1所述的蒸发源装置,其特征在于,所述搅拌单元的转速为0~100转/分钟。
10.一种蒸镀装置,其特征在于,包括如权利要求1~9任一项所述的蒸发源装置。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1320172A (zh) * | 1998-11-12 | 2001-10-31 | 福来克斯产品公司 | 线性孔径沉积设备及涂敷工艺 |
CN102794432A (zh) * | 2012-07-24 | 2012-11-28 | 江苏万里活塞轴瓦有限公司 | 铝合金半固态浆料制备装置 |
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-
2016
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1320172A (zh) * | 1998-11-12 | 2001-10-31 | 福来克斯产品公司 | 线性孔径沉积设备及涂敷工艺 |
CN102794432A (zh) * | 2012-07-24 | 2012-11-28 | 江苏万里活塞轴瓦有限公司 | 铝合金半固态浆料制备装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108350556A (zh) * | 2015-10-29 | 2018-07-31 | Posco公司 | 微粒子发生装置及包括该装置的涂覆*** |
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