CN105603364B - 导热装置与蒸镀坩埚 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种导热装置与蒸镀坩埚,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片而呈辐射状,或包括一辐射状的导热筒而呈辐射状,通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热装置的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,有利于提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种导热装置与蒸镀坩埚。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示器,也称为有机电致发光显示器,是一种新兴的平板显示装置,由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、工作温度适应范围广、体积轻薄、响应速度快,而且易于实现彩色显示和大屏幕显示、易于实现和集成电路驱动器相匹配、易于实现柔性显示等优点,因而具有广阔的应用前景。目前实现量产的OLED制造技术均是采用真空蒸镀的方法制备OLED材料薄膜。
真空蒸镀时,将OLED材料放置于坩埚中,通过加热将材料汽化,汽化分子从坩埚盖的喷口飞出沉积到基板上形成固态薄膜。OLED材料一般分为升华型和熔融型,升华型材料受热后直接从固体粉末态升华变为气态,熔融型材料受热后先从固体粉末态变为熔融态,再蒸发变为气态。不论是升华型还是熔融型,OLED有机材料的导热性通常都很差,再加上处于真空状态,没有气体分子作为导热介质,热量由坩埚壁传输到坩埚中部通常都很慢,这就在坩埚中造成较大的温度差,即坩埚内部温度场不均匀。
对于升华型材料,温度场不均匀容易造成如图1所示的情形:接近坩埚壁100的材料200所处的温度高,升华快,远离坩埚壁100的材料200所处的温度低,升华慢,升华一定时间后材料200与坩埚壁100之间形成空隙300,空隙300形成后,材料200需要加热到更高的温度才可以达到升华的速率,这对OLED的性能是不利的。
对于熔融型材料,温度场不均匀容易造成如图2所示的情形:接近坩埚壁100的材料200先达到熔融所需温度,变为熔融态,远离坩埚壁100的材料200还处于固体粉末态,熔融态的材料200由于有一定的流动性,将粉末态的材料200包裹在其中,使得材料200整体处于“半熔融态”,半熔融态的材料200被蒸镀到基板上其成膜均匀性不好,对OLED性能不利。
发明内容
本发明的目的在于提供一种导热装置,放置于蒸镀坩埚内部使用,可以将坩埚壁上的热量均匀的传导至坩埚的内部及中心,使得坩埚内部的材料受热均匀。
本发明的目的还在于提供一种蒸镀坩埚,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,提高坩埚内部材料受热的均匀性。
为实现上述目的,本发明提供一种导热装置,包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片,其中,所述导热筒的侧壁与导热片上均设有数个通孔。
所述导热筒的侧壁上设有位于数个通孔之间的数个条形凹槽,所述数个条形凹槽的延伸方向均平行于所述导热筒的延伸方向,所述数个导热片分别卡合于该数个条形凹槽中。
所述导热筒的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
所述导热筒与导热片的材质为金属。
本发明还提供一种导热装置,包括一导热筒,所述导热筒的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板围成,从而所述导热筒由6个以上相互连接的导热板组成,其中,每个导热板上均设有数个通孔。
本发明还提供一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体、放置于坩埚本体内部的导热装置、及设于所述坩埚本体上方的坩埚盖,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片,其中,所述导热筒的侧壁与导热片上均设有数个通孔。
所述导热筒的侧壁上设有位于数个通孔之间的数个条形凹槽,所述数个条形凹槽的延伸方向均平行于所述导热筒的延伸方向,所述数个导热片分别卡合于该数个条形凹槽中。
所述导热筒的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
所述导热装置的高度小于所述坩埚本体的内部空间的高度,所述导热装置的径向尺寸小于所述坩埚本体的内部空间的径向尺寸。
本发明还提供一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体、放置于坩埚本体内部的导热装置、及设于所述坩埚本体上方的坩埚盖,所述导热装置包括一导热筒,所述导热筒的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板围成,从而所述导热筒由6个以上相互连接的导热板组成,其中,每个导热板上均设有数个通孔。
本发明的有益效果:本发明提供的一种导热装置与蒸镀坩埚,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片而呈辐射状,或包括一辐射状的导热筒而呈辐射状,通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热装置的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中,
图1为现有的蒸镀坩埚中升华型材料由于受热不均匀形成空隙的示意图;
图2为现有的蒸镀坩埚中熔融型材料由于受热不均匀形成半熔融态的示意图;
图3为本发明的导热装置的第一实施例的结构示意图;
图4为本发明的导热装置的第二实施例的结构示意图;
图5为本发明的导热装置的第三实施例的横截面示意图及组成导热筒的一导热板的示意图;
图6为本发明的导热装置的第四实施例的横截面示意图及组成导热筒的一导热板的示意图;
图7为本发明的蒸镀坩埚的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3-4,本发明提供一种放置于蒸镀坩埚中使用的导热装置,包括一导热筒10与安装于该导热筒10上的数个导热片20,其中,所述导热筒10的侧壁与导热片20上均设有数个通孔30,所述通孔30可以使蒸镀坩埚内的材料联通及流动,提高坩埚内部的导热均匀性。
具体的,所述导热筒10的横截面为轴向对称图形,从而提高导热的均匀性。
具体的,所述导热筒10的横截面可以为圆形,也可以为轴向对称的凸多边形,如等腰三角形、等边三角形、矩形、正方形等;如图3所示的导热装置的第一实施例中,导热筒10的横截面为圆形;如图4所示的导热装置的第二实施例中,导热筒10的横截面为正方形。
具体的,所述导热筒10的侧壁上设有位于数个通孔30之间的数个条形凹槽15,所述数个条形凹槽15的延伸方向均平行于所述导热筒10的延伸方向,所述数个导热片20分别卡合于数个条形凹槽15中,从而安装于导热筒10上,且该安装方式拆卸方便。
优选的,所述数个条形凹槽15均匀的分布于所述导热筒10的侧壁上,从而使得所述数个导热片20均匀的分布于所述导热筒10的四周,提高导热装置传热的均匀性。
如图3-4所示的该第一种的导热装置,通过在导热筒10的周围安装数个导热片20,使得该导热装置呈辐射状,从而可提高导热的均匀性。
具体的,所述通孔30的形状可以为圆形、矩形、三角形、凸多边形、或星形等。优选的,所述导热筒10的侧壁上的数个通孔30分布均匀且形状和尺寸相同,所述导热片20上的数个通孔30分布均匀且形状和尺寸相同。
具体的,所述导热筒10与导热片20的材质一般为金属,如钛合金、铝合金、不锈钢等。
通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热筒10与导热片20的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,有利于提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
请参阅图5-6,本发明还提供另一种放置于蒸镀坩埚中使用的导热装置,包括一导热筒10,所述导热筒10的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板11围成,从而使得所述导热筒10由6个以上相互连接的导热板11组成,其中,每个导热板11上均设有数个通孔30,以使蒸镀坩埚内的材料联通及流动;如图5所示的导热装置的第三实施例中,导热筒10的横截面为具有四个角的星形;如图6所示的导热装置的第四实施例中,导热筒10的横截面为具有五个角的星形;该第二种的导热装置中,由于导热筒10本身呈辐射状,因此不需要在导热筒10的周围安装导热片,即可实现良好的导热均匀性。
具体的,组成所述导热筒10的数个导热板11可以一体成型,也可以通过焊接等方式固定连接在一起,甚至可通过可拆卸的方式活动连接在一起。
具体的,所述导热筒10的横截面为轴向对称图形,从而提高导热的均匀性。
具体的,所述导热筒10的材质一般为金属,如钛合金、铝合金、不锈钢等。
进一步的,请参阅图7,同时参阅图3至图6,本发明还提供一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体50、放置于坩埚本体50内部的导热装置60、及设于所述坩埚本体50上方的坩埚盖70,所述导热装置60可以为如图3-4所示的第一种的导热装置,也可以为如图5-6所示的第二种的导热装置。
具体的,所述导热装置60的高度小于所述坩埚本体50的内部空间的高度,所述导热装置60的径向尺寸小于所述坩埚本体50的内部空间的径向尺寸。
综上所述,本发明提供的一种导热装置与蒸镀坩埚,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片而呈辐射状,或包括一辐射状的导热筒而呈辐射状,通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热装置的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种导热装置,其特征在于,包括一导热筒(10)与安装于该导热筒(10)上的数个导热片(20),其中,所述导热筒(10)的侧壁与导热片(20)上均设有数个通孔(30);
所述导热筒(10)的侧壁上设有位于数个通孔(30)之间的数个条形凹槽(15),所述数个条形凹槽(15)的延伸方向均平行于所述导热筒(10)的延伸方向,所述数个导热片(20)分别卡合于该数个条形凹槽(15)中。
2.如权利要求1所述的导热装置,其特征在于,所述导热筒(10)的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
3.如权利要求1所述的导热装置,其特征在于,所述导热筒(10)与导热片(20)的材质为金属。
4.一种导热装置,其特征在于,包括一导热筒(10),所述导热筒(10)的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板(11)围成,从而所述导热筒(10)由6个以上相互连接的导热板(11)组成,其中,每个导热板(11)上均设有数个通孔(30);
所述导热筒(10)的横截面为轴向对称图形。
5.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(50)、放置于坩埚本体(50)内部的导热装置(60)、及设于所述坩埚本体(50)上方的坩埚盖(70),所述导热装置(60)包括一导热筒(10)与安装于该导热筒(10)上的数个导热片(20),其中,所述导热筒(10)的侧壁与导热片(20)上均设有数个通孔(30);
所述导热筒(10)的侧壁上设有位于数个通孔(30)之间的数个条形凹槽(15),所述数个条形凹槽(15)的延伸方向均平行于所述导热筒(10)的延伸方向,所述数个导热片(20)分别卡合于该数个条形凹槽(15)中。
6.如权利要求5所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述导热筒(10)的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
7.如权利要求5所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述导热装置(60)的高度小于所述坩埚本体(50)的内部空间的高度,所述导热装置(60)的径向尺寸小于所述坩埚本体(50)的内部空间的径向尺寸。
8.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(50)、放置于坩埚本体(50)内部的导热装置(60)、及设于所述坩埚本体(50)上方的坩埚盖(70),所述导热装置(60)包括一导热筒(10),所述导热筒(10)的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板(11)围成,从而所述导热筒(10)由6个以上相互连接的导热板(11)组成,其中,每个导热板(11)上均设有数个通孔(30);
所述导热筒(10)的横截面为轴向对称图形。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610150210.8A CN105603364B (zh) | 2016-03-16 | 2016-03-16 | 导热装置与蒸镀坩埚 |
PCT/CN2016/080104 WO2017156827A1 (zh) | 2016-03-16 | 2016-04-25 | 导热装置与蒸镀坩埚 |
US15/108,319 US20180148827A1 (en) | 2016-03-16 | 2016-04-25 | Thermal conduction device and vapor deposition crucible |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610150210.8A CN105603364B (zh) | 2016-03-16 | 2016-03-16 | 导热装置与蒸镀坩埚 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105603364A CN105603364A (zh) | 2016-05-25 |
CN105603364B true CN105603364B (zh) | 2018-11-23 |
Family
ID=55983698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610150210.8A Active CN105603364B (zh) | 2016-03-16 | 2016-03-16 | 导热装置与蒸镀坩埚 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180148827A1 (zh) |
CN (1) | CN105603364B (zh) |
WO (1) | WO2017156827A1 (zh) |
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- 2016-04-25 US US15/108,319 patent/US20180148827A1/en not_active Abandoned
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017156827A1 (zh) | 2017-09-21 |
CN105603364A (zh) | 2016-05-25 |
US20180148827A1 (en) | 2018-05-31 |
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |