CN104733367A - 起模销组合件及具有起模销组合件的衬底处理设备 - Google Patents

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Abstract

本申请案涉及一种起模销组合件及一种具有所述起模销组合件的衬底处理设备。提供起模销组合件及衬底处理设备。所述起模销组合件包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销，所述第二起模销通过衬底支撑件升高。

Description

起模销组合件及具有起模销组合件的衬底处理设备
技术领域
本发明涉及一种起模销组合件，且更特定来说涉及一种能够防止起模销被损坏的起模销组合件及一种具有起模销组合件的衬底处理设备。
背景技术
一般来说，一种用于制造半导体装置或液晶显示装置的工艺包含：薄膜沉积工艺，其用于在晶片或玻璃衬底上沉积由电介质材料形成的薄膜；光学光刻工艺，其用于通过使用光敏材料暴露薄膜的选定区；蚀刻工艺，其移除选定区内的薄膜，借此形成所要图案；及清洁工艺，其用于移除剩余物。此处，上文所描述的工艺必须重复执行。而且，可在反应室内执行所述工艺中的每一者，其中形成最佳环境以执行对应工艺。
用于支撑衬底的衬底支撑件及用于注入工艺气体的气体注入单元可在反应室内经安置以彼此面对。此处，多个通孔垂直通过衬底支撑件。起模销耦合到通孔中的每一者。也就是说，起模销从衬底支撑件的下侧***。头部安置于起模销的上部端上且由安置于衬底支撑件的顶部表面上的钩状突出部支撑。起模销可用于将衬底装载于衬底支撑件上或从衬底支撑件卸载衬底。
然而，当衬底支撑件下降时，衬底支撑件可在起模销的下部部分接触反应室的底部表面之后进一步下降预定距离。此处，起模销可倾斜，且因此被在起模销接触通孔时发生的过度力损坏。当起模销被损坏时，恰当地支撑衬底可是困难的。结果是，在等离子体处理装备的情形中，等离子体可是不稳定的。另外，当起模销被损坏时，必须停止所述装备的操作以用于替换受损坏起模销。因此，生产率可能降低，而且坐落于起模销上的衬底可被损坏或折断。而且，当衬底被损坏时，衬底处理设备的其他组件可相继地被等离子体损坏。
为减小起模销的损坏，持久性必须得以改良。结果是，起模销导引件中的结构固定于衬底支撑件的通孔内，且已提议起模销沿着起模销导引件的内侧升高。在登记号为10-1218570的韩国专利中揭示此结构。而且，其为其中最小化起模销导引件与起模销之间的接触区或通过使用直接摩擦减小部件(例如轴承)减小起模销导引件与起模销之间的摩擦力的结构。
发明内容
本发明提供一种能够防止起模销被损坏的起模销组合件及一种使用起模销组合件的衬底处理设备。
本发明还提供一种环绕且保护从衬底支撑件向下突出的起模销中的至少一者以防止所述起模销被损坏的起模销组合件及一种具有起模销组合件的衬底处理设备。
根据示范性实施例，一种起模销组合件包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销，所述第二起模销通过衬底支撑件升高。
其中所述第二起模销导引所述第一起模销的所述升高的区段可大于所述衬底支撑件的厚度。
根据另一示范性实施例，一种起模销组合件包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销可相对于衬底支撑件升高。
其中所述第二起模销导引所述第一起模销的所述升高的区段可大于所述衬底支撑件的厚度。
在与所述第二起模销比较时所述第一起模销可首先从所述衬底支撑件的顶部表面突出。
所述第一起模销及所述第二起模销可相继地从所述衬底支撑件的顶部表面突出。
可同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的所述上升及所述第二起模销相对于所述衬底支撑件的所述下降。
可同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的所述下降及所述第二起模销相对于所述衬底支撑件的所述上升。
所述起模销组合件可进一步包含安置于所述第一起模销的外表面与所述第二起模销的内表面之间的至少一个第一润滑单元。
所述起模销组合件可进一步包含安置于所述第二起模销与所述衬底支撑件的通孔之间的至少一个第二润滑单元。
所述起模销组合件可进一步包含安置于所述第一起模销的下部部分上且具有大于所述第一起模销的直径的长度的接触部件。
所述起模销组合件可进一步包含安置于所述第二起模销的下部部分上且具有大于所述第二起模销的主体的宽度的宽度的接触部件。
所述第二起模销的至少一个部分可由导电材料或绝缘材料形成。
根据又一示范性实施例，一种起模销组合件包含：衬底支撑件；第一起模销，其经配置以支撑坐落于所述衬底支撑件上的衬底，所述第一起模销可相对于所述衬底支撑件升高；第一起模销导引件，其经配置以导引所述第一起模销的所述升高，所述第一起模销导引件可相对于所述衬底支撑件升高。
所述起模销组合件可进一步包含经配置以导引所述第一起模销导引件的所述升高的第二起模销导引件，所述第二起模销导引件安置于所述衬底支撑件与所述第一起模销之间。
其中所述第一起模销导引件导引所述第一起模销的所述升高的区段可大于所述衬底支撑件的厚度。
在与所述第一起模销导引件比较时所述第一起模销可首先从所述衬底支撑件的顶部表面突出。
所述第一起模销及所述第一起模销导引件可相继地从所述衬底支撑件的顶部表面突出。
可同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的所述上升及所述第一起模销导引件相对于所述衬底支撑件的所述下降。
可同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的所述下降及所述第一起模销导引件相对于所述衬底支撑件的所述上升。
可同时执行所述第一起模销导引件相对于所述衬底支撑件的所述上升及所述衬底支撑件的下降。
根据又一示范性实施例，一种衬底处理设备包含：反应室；衬底支撑件，其安置于所述反应室内以支撑衬底，所述衬底支撑件具有多个通孔；及多个起模销组合件，其通过所述衬底支撑件的所述通孔以支撑所述衬底的部分，其中所述起模销组合件中的每一者包含：第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销的所述升高，所述第二起模销可通过所述通孔中的每一者升高。
根据再一示范性实施例，一种衬底处理设备包含：反应室；衬底支撑件，其安置于所述反应室内以支撑衬底，所述衬底支撑件具有多个通孔；及多个起模销组合件，其通过所述衬底支撑件的所述通孔以支撑所述衬底的部分，其中所述起模销组合件中的每一者包含：第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销可相对于所述衬底支撑件升高。
根据甚至再一示范性实施例，一种用于将衬底与所述衬底坐落于其上的衬底支撑件分离的方法包含：制备反应室；制备安置于所述反应室内且具有多个通孔的衬底支撑件；制备通过所述衬底支撑件的所述通孔的多个起模销组合件以支撑所述衬底的部分；允许所述衬底支撑件及所述多个起模销组合件下降；允许所述多个起模销组合件中的每一者的第一起模销接触所述反应室的内壁；通过所述第一起模销将所述衬底的至少一个部分与所述衬底支撑件分离；及允许所述多个起模销组合件中的每一者的第二起模销接触所述反应室的所述内壁，其中所述起模销组合件包含：所述第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及所述第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销的所述升高，所述第二起模销可相对于所述衬底支撑件升高。
根据甚至再一示范性实施例，一种用于将衬底与所述衬底坐落于其上的衬底支撑件分离的方法包含：制备反应室；制备安置于所述反应室内且具有多个通孔的衬底支撑件；制备通过所述衬底支撑件的所述通孔的多个起模销组合件以支撑所述衬底的部分；允许所述衬底支撑件及所述多个起模销组合件下降；允许所述多个起模销组合件中的每一者的第一起模销接触所述反应室的内壁；通过所述第一起模销将所述衬底的至少一个部分与所述衬底支撑件分离；及允许所述多个起模销组合件中的每一者的第二起模销接触所述反应室的所述内壁，其中所述起模销组合件包含：所述第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及所述第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销可相对于所述衬底支撑件升高。
附图说明
可依据结合附图进行的以下说明更详细地理解示范性实施例，在所述附图中：
图1是根据示范性实施例的衬底处理设备的横截面图；
图2是图解说明根据示范性实施例的起模销组合件与衬底支撑件之间的耦合状态的部分横截面图；
图3是根据示范性实施例的起模销组合件的横截面图；
图4到7是用于阐释根据示范性实施例的起模销组合件的操作的横截面图；及
图8到11是根据另一示范性实施例的起模销组合件的横截面图。
具体实施方式
在下文，将参考附图详细描述特定实施例。然而，本发明可以不同形式来体现且不应被解释为限于本文中所陈述的实施例。相反地，提供这些实施例使得本发明将是透彻及完整的，且将向所属领域的技术人员充分地传达本发明的范围。
图1是根据示范性实施例的衬底处理设备的横截面图，图2是图解说明根据示范性实施例的起模销组合件与衬底支撑件之间的耦合状态的部分横截面图，且图3是根据示范性实施例的起模销组合件的横截面图。
参考图1，根据示范性实施例的衬底处理设备可包含：反应室100，其具有预定反应空间；衬底支撑件200，其安置于反应室100的一侧中以支撑衬底10；起模销300，其用于使衬底10坐落于衬底支撑件200上或将衬底10与衬底支撑件200分离；气体注入单元400，其安置于反应室100的面对衬底支撑件200的另一侧中以注入工艺气体；电力供应单元500，其供应用于在反应室100内产生等离子体的电力；及气体供应单元600，其将工艺气体供应到反应室100中。而且，可进一步提供用于在预定压力下排空反应室100的内侧的排气单元700。
反应室100可具有带有预定空间的圆柱形形状。反应室100可根据衬底的形状具有各种形状，举例来说，具有六面体形状。而且，反应室100可包含：主体100a，其包含大致正方形形状平面及从所述平面向上延伸的侧壁且具有预定反应空间；及盖100b，其具有大致正方形形状且安置于主体100a上以密封反应室100。衬底支撑件200及气体注入单元400可安置于反应室100内以彼此面对。而且，反应室100可在第一区域中具有衬底入口110，通过衬底入口110装载或卸载衬底10。而且，连接到将工艺气体供应到反应室100中的气体供应单元600的气体供应孔120界定于反应室100的第二区域中。而且，排气孔130可界定于反应室100的第三区域中以调整反应室100的内压力，且排气单元700可连接到排气孔130。举例来说，衬底入口110可界定于反应室100的一个侧表面的中心区域中且具有足以允许衬底10可通过其进入的大小。气体供应孔120可通过盖100b的预定区域，且排气孔130可在低于衬底支撑件200的位置处通过反应室100的侧表面。
衬底支撑件200可安置于反应室100内，且装载到反应室100中的衬底10可坐落于衬底支撑件200上。衬底支撑件200可经安置处于面对气体注入单元400的位置。举例来说，衬底支撑件200可安置于反应室100的内下侧中，且气体注入单元400可安置于反应室100的内上侧中。此处，衬底10可包含用于制造半导体的硅衬底。或者，衬底10可包含用于制造平板显示器的玻璃衬底。而且，衬底支撑件200可包含静电吸盘以通过使用静电力吸附且维持衬底10使得坐落且支撑衬底10。或者，衬底支撑件200可通过真空吸附或机械力支撑衬底10。而且，衬底支撑件200可具有对应于衬底10的形状的形状，举例来说，圆形或正方形形状。而且，衬底支撑件200可具有大于衬底10的大小的大小。用于使衬底支撑件200升高的衬底升降机210可安置于衬底支撑件200的下部部分上。衬底升降机210可经提供以支撑衬底支撑件200的至少一个区域，举例来说，中心区域。当衬底10坐落于衬底支撑件200上时，衬底支撑件200可移动以接近气体注入单元400。而且，加热器(未展示)可提供于衬底支撑件200中。所述加热器可产生具有预定温度的热以加热衬底10使得容易地对衬底10执行薄膜沉积工艺。另外，冷却水供应通道(未展示)可提供于衬底支撑件200中以供应冷却水，借此降低衬底10的温度。而且，多个起模销组合件300通过的多个通孔220可界定于衬底支撑件200中。而且，支撑所述多个起模销组合件的钩状突出部230安置于通孔220上面。衬底支撑件200可由具有优良导热性的材料形成。举例来说，衬底支撑件200可由碳化硅(SiC)、涂布有SiC的石墨、氮化硅(Si3N4)、氮化铝(AlN)及不透明石英中的一者形成。
多个起模销组合件300可安置于衬底支撑件200的所述多个通孔内以使衬底坐落于衬底支撑件200上或将衬底与衬底支撑件200分离。也就是说，起模销组合件300中的每一者的至少一个部分可从衬底支撑件的顶部表面突出以支撑通过衬底入口110装载的衬底10且将坐落于衬底支撑件200上的衬底10与衬底支撑件200分离。为此，起模销组合件300可在所述工艺期间安置于衬底支撑件200的通孔220内。另一方面，当工艺开始或完成时，起模销组合件300可随着衬底支撑件200下降而向上突出。而且，如图2中所图解说明，根据示范性实施例的起模销组合件300包含：第一起模销310，其至少一个部分接触衬底10；及可升高第二起模销320，其***到衬底支撑件200的通孔220中以接触通孔220的内表面且环绕第一起模销310以导引第一起模销310的升高。下文将详细地描述起模销组合件300。
气体注入单元400可安置于反应室100的内上侧中以将工艺气体注入到衬底10上。气体注入单元400可包含喷头型注入单元及注入型注入单元。在当前实施例中，喷头型注入单元将被描述为气体注入单元400。喷头型气体注入单元400可具有预定空间。而且，喷头型气体注入单元400可具有：上部部分，其连接到气体供应单元600；及下部部分，其中界定用于将工艺气体注入到衬底10上的多个注入孔410。气体注入单元400可具有对应于衬底10的形状的形状，举例来说，大致圆形或正方形形状。而且，用于均匀地分布从气体供应单元600供应的工艺气体的分布板(未展示)可进一步提供于气体注入单元400中。所述分布板可邻近于气体流入单元安置，所述气体流入单元连接到工艺气体供应单元600以通过其将工艺气体引入。所述分布板可具有预定板形状。也就是说，所述分布板可经安置以与气体注入单元400的顶部表面间隔预定距离。而且，所述分布板可具有多个通孔。因此，从气体供应单元600供应的工艺气体可由于提供分布板而均匀地分布于气体注入单元400内。因此，工艺气体可通过注入孔410向下均匀地注入。而且，气体注入单元400可由例如铝的导电材料形成。此处，气体注入单元400可经安置以与反应室100的侧壁及盖100b间隔预定距离。而且，绝缘体420可安置于气体注入单元400与反应室100之间。当气体注入单元400由导电材料形成时，气体注入单元400可用作从电力供应单元500接收电力的上部电极。
电力供应单元500可供应用于激发供应到反应室100中的工艺气体以使工艺气体等离子化的电力。也就是说，电力供应单元500可通过反应室100且接着连接到气体注入单元400以供应高频率电力以用于产生等离子体。电力供应单元500可包含高频率电力源及匹配器。举例来说，高频率电力源可产生大约13.56MHz的高频率电力，且匹配器可检测反应室100的阻抗以产生具有与阻抗的实分量相反的相位的阻抗虚分量，借此将最大电力供应到反应室中使得所述虚分量与为实分量且因此产生最佳等离子体的纯电阻相同。电力供应单元500可将高频率电力施加到气体注入单元400中，且衬底支撑件200可经接地以允许反应室100内的工艺气体等离子化。
气体供应单元600可包含用于供应多个工艺气体中的每一者的气体供应源610及用于将所述工艺气体从气体供应源610供应到反应室100中的气体供应管620。所述工艺气体可包含薄膜沉积气体及蚀刻气体。而且，例如H2、Ar及类似物的惰性气体可与工艺气体一起经供应。用于控制所述工艺气体的供应的阀及质量流量计可安置于气体供应源610与气体供应管620之间。
排气单元700可包含排气装置710及连接到反应室100的排气孔130的排气管720。例如涡轮分子泵的真空泵可用作排气装置710。因此，反应室100的内侧可形成于经降低压力大气中，举例来说，反应室100可经配置以抽吸大约0.1毫托或更少的压力。多个排气孔可界定于反应室100的在衬底支撑件200下方对应的侧表面以及反应室100的底部表面中。因此，可提供多个排气管720，且接着多个排气管720可分别连接到多个排气孔130。而且，为减少排出工艺气体所花费的时间，可进一步提供多个排气管720及排气装置710。
将参考图2及3详细地描述根据示范性实施例的起模销组合件。
根据示范性实施例的起模销组合件300可包含：第一起模销，其至少一个部分支撑衬底10；及第二起模销320，其将第一起模销310容纳于其中且具有接触衬底支撑件200的通孔的侧表面的外部分。也就是说，第二起模销320可***到衬底支撑件200的通孔220中，且第一起模销310可***到第二起模销320中。而且，第一起模销310可具有大于第二起模销320的长度的长度。
第一起模销310可用于在衬底10装载到反应室100中时使衬底10坐落于衬底支撑件200的顶部表面上或在衬底10从反应室100卸载时将衬底10与衬底支撑件200的顶部表面分离。第一起模销310可包含具有大致圆柱形形状的第一头部312及从第一头部312向下突出预定长度的杆314。此处，杆314可具有小于第一头部312的直径的直径，且突出部316可安置于第一头部312与杆314之间的连接部分上。也就是说，具有大于杆314的直径的直径的第一头部312可具有从杆314突出以形成突出部316的底部表面。第一起模销310的突出部316对应于第二销320的钩状突出部326。也就是说，第一起模销310的突出部316可由第二起模销320的钩状突出部326支撑以防止第一起模销310与第二起模销320分离。
第二起模销320可***到衬底支撑件400的通孔220中。而且，第二起模销320可具有大致圆柱形形状使得第一起模销310***于其中。第二起模销320可包含安置于其上部部分上的第二头部322及安置于第二头部下方且具有预定长度的主体324。而且，贯通部分可沿纵向方向垂直通过第二头部322及主体324中的每一者的中心部分，且第一起模销310可***到贯通部分中。第一起模销310的第一头部312容纳到第二头部322中。也就是说，第二头部322可具有对应于第一头部312的外直径的内直径使得第一头部312容纳于其中。此处，第二起模销320的第二头部322可具有大于第一头部312的外直径的内直径以防止第二头部322与第一头部312的侧表面发生摩擦。而且，第一起模销310的杆314可容纳到主体324中以允许杆314垂直移动。举例来说，贯通部分可经提供使得主体具有大于杆314的直径的内直径。此处，主体324可具有小于杆314的长度且大于衬底支撑件200的厚度的垂直长度。也就是说，第二起模销320的第二头部322可具有与第一起模销310的第一头部312相同的垂直长度，且第二起模销320的主体324可具有小于第一起模销310的杆314的长度的长度。因此，当第一头部312由第二起模销320的第二头部322支撑时，杆314可从主体324向下突出。第二起模销320具有在第二头部322的下部部分与主体324的上部部分之间的钩状突出部326。也就是说，第二头部322的贯通部分可具有大于主体324的贯通部分的内直径的内直径。因此，主体324的上部部分可暴露到第二头部322的贯通部分的下侧以形成钩状突出部326。第一起模销310的突出部316可由第二起模销320的钩状突出部326支撑。而且，当第一起模销310的第一头部312由第二起模销320的钩状突出部326支撑时，第一头部312及第二头部322的表面可维持在相同高度。第二起模销320的第二头部322可具有大于主体324的宽度的宽度以从主体324向外突出。突出部328可安置于第二头部322的外侧与主体324的外侧之间。突出部328可由安置于衬底支撑件400的贯通部分220的上部部分上的钩状突出部230支撑。也就是说，衬底支撑件400可具有带有等于或大于第二起模销320的第二头部的宽度的宽度的钩状突出部230以支撑第二起模销320的第二头部322。而且，点接触第一起模销310的润滑单元330可安置于主体324内侧(也就是，贯通部分的内壁上)以最小化在使第一起模销310升高时产生的摩擦力。此处，润滑单元330可包含球。然而，润滑单元330可不限于球。或者，润滑单元330可具有相对于第一起模销310的中心轴垂直安置的圆柱形形状。而且，润滑单元330(也就是，球)坐落于其中的坐落孔可界定于第二起模销320的内壁中。此处，球可经***使得球的一部分突出到坐落孔的外侧(也就是，朝向第二起模销320)以点接触第一起模销310。而且，三个或三个以上球可对称地安置于同一平面上。举例来说，四个球可安置于同一平面上。此处，四个球可以相同距离安置且朝向第一起模销310以相同高度突出。
由于第一起模销310及第二起模销320中的每一者的至少一个部分暴露到工艺气体，因此第一起模销310及第二起模销320可由具有抗腐蚀性的陶瓷或绝缘材料形成。也就是说，第一销310及第二销320可由相同材料形成。然而，第一起模销310及第二起模销320可由彼此不同的材料形成。因此，第一起模销310及第二起模销320可具有彼此不同的机械强度。也就是说，第二起模销320可具有大于或小于第一起模销310的机械强度的机械强度。而且，第二起模销320的至少一个部分可由与衬底支撑件200相同的材料形成以最小化与加热器构建于其中的衬底支撑件200的热不平衡。举例来说，第二起模销320的主体324可由与衬底支撑件200相同的材料形成。而且，第二起模销320可由不导致具有相对较高电势的衬底支撑件200与具有相对较低电势的反应室100的下部部分之间的不正常放电的材料形成。也就是说，第二起模销320可由绝缘材料形成。或者，第二起模销320可用作用于将非均匀地集中到衬底支撑件200中的电荷放电的路径，也就是，接地线。为此，第二起模销320可由导电材料形成。
图4到7是用于阐释根据示范性实施例的起模销组合件的操作的横截面图。
参考图4，当衬底支撑件200上升时，第二起模销320的突出部328可由衬底支撑件200的钩状突出部230支撑，且第一起模销310的突出部316可钩在第二起模销320的钩状突出部326上以上升。也就是说，当衬底支撑件200上升时，第一起模销310及第二起模销320全部都可上升。
参考图5，当衬底支撑件200下降时，第一起模销310的下部部分可接触反应室100的底部表面100c。也就是说，由于第一起模销310的杆314具有大于第二起模销320的主体324的长度的长度，因此当衬底支撑件200下降时，第一起模销310的杆314的底部表面可首先接触反应室100的底部表面100c。此处，由于在第一起模销310接触反应室100的底部表面100c之后第二起模销320的主体324环绕第一起模销310的杆312，因此杆312不可倾斜且还不可接触通孔220的内侧以防止第一起模销310被损坏。
参考图6，当衬底支撑件200在第一起模销310的下部部分接触反应室100的底部表面100c之后连续下降时，第二起模销320的主体324的下部部分可接触反应室100的底部表面100c，且第一起模销310的第一头部312可从衬底支撑件200的表面向上突出。也就是说，在与第二起模销320比较时第一起模销310可首先从衬底支撑件200的顶部表面突出。此处，由于第二起模销320连续下降，因此可同时执行第一起模销310相对于衬底支撑件200的上升及第二起模销320相对于衬底支撑件200的下降。而且，由于第二起模销320接触反应室100的底部表面100c同时环绕第一起模销310，因此第一起模销310不可倾斜。
参考图7，当衬底支撑件200连续下降时，第二起模销320的一部分(也就是，头部322及主体324的一部分)可从衬底支撑件200向上突出。也就是说，第一起模销310及第二起模销320可相继地从衬底支撑件200的顶部表面突出。
如上文所描述，根据示范性实施例的起模销组合件可包含第二起模销320，第二起模销320环绕支撑衬底10的第一起模销310的外侧。而且，由于第二起模销320与第一起模销310一起垂直升高，因此即使第一起模销310接触反应室100的底部表面100c，第一起模销310也不可倾斜且还不可接触衬底支撑件200的通孔的内侧表面。因此，其可防止第一起模销310倾斜及因此被施加到其的压力损坏。在当前实施例中描述其中在衬底S由第一起模销310支撑之后衬底S与衬底支撑件200分离的情形。然而，为支撑所装载衬底S，第二起模销320及第一起模销310可在衬底S由从衬底支撑件200突出的第一起模销310支撑之后相继地向上移动，且接着衬底支撑件200向上移动。此处，可同时执行第二起模销320相对于衬底支撑件200的上升及第一起模销310相对于衬底支撑件200的下降。
可以各种方式修改根据示范性实施例的起模销组合件300。仍参考图8到11描述各种实施例。
图8是图解说明根据另一示范性实施例的起模销组合件与衬底支撑件之间的耦合状态的部分横截面图。润滑单元355可进一步安置于衬底支撑件200的通孔220内侧。也就是说，坐落孔(未展示)可界定于衬底支撑件200的通孔220内侧，且具有球形状的润滑单元335可经提供使得润滑单元335的至少一个部分***到坐落孔中。由于提供润滑单元335，因此第二起模销320不可接触通孔220的内表面以更平稳地上升或下降。
而且，在根据又一示范性实施例的起模销组合件300中，如图9中所图解说明，接触部件340可安置于第一起模销310的下部部分(也就是，杆314的下部部分)上。接触部件340可具有大于第一起模销310的杆314的宽度的宽度。举例来说，接触部件340可具有等于或大于第二起模销320的主体324的宽度的宽度。接触部件340可由不同于第一起模销310的第一头部312及杆314的那些材料的材料形成。也就是说，接触部件340的至少一个部分可由聚合物材料形成以在接触部件340接触反应室100的底部表面100c时吸收冲击力且防止粒子发生。接触部件340可在衬底支撑件200下降时接触反应室100的底部表面100c。此处，由于提供接触部件340，因此第一起模销310的重心可降低。因此，当第一起模销310向下移动时，接触部件340可导引第一起模销310使得第一起模销310垂直移动。
而且，在根据又一示范性实施例的起模销组合件300中，如图10中所图解说明，接触部件350可安置于第二起模销320的下部部分(也就是，主体324的下部部分)上。此处，接触部件350可具有大于第二起模销320的主体324的宽度的宽度。接触部件350可由不同于第二头部322及主体324的那些材料的材料形成。举例来说，接触部件350的至少一个部分可由聚合物材料形成以在接触部件350接触反应室100的底部表面100c时吸收冲击力且防止粒子发生。在起模销组合件300中，当衬底支撑件200下降时，第一起模销310的下部部分可首先接触反应室100的底部表面100c，且接着安置于第二起模销320的下部部分上的接触部件350可接触反应室100的底部表面100c。此处，由于提供接触部件350，因此第二起模销320的重心可降低。因此，第二起模销320可在不摇晃的情况下向下移动。也就是说，第二起模销320可以垂直状态向下移动。
如图11中所图解说明，衬底支撑件200可包含从衬底支撑件200的下部部分向下突出预定高度的突出部250。此处，通孔可界定于突出部250中在与衬底支撑件200的通孔220相同的位置处。润滑单元337可进一步安置于突出部250与第二起模销320之间在通孔内。也就是说，坐落孔(未展示)可界定于突出部250的通孔内侧，且可提供具有球形状的润滑单元337使得润滑单元335的至少一个部分***到坐落孔中。由于提供润滑单元337，因此第二起模销320不可接触突出部250的内表面以更平稳地上升或下降。
在根据各种实施例的起模销组合件中，第二起模销可经提供以环绕其至少一个部分支撑衬底的第一起模销的外侧，且第一起模销可通过第二起模销升高。而且，第二起模销可通过衬底支撑件的通孔升高。当第一起模销接触反应室的底部表面时，由于第二起模销环绕第一起模销，因此第一起模销不可倾斜且不可接触衬底支撑件的通孔的内表面。
因此，可防止起模销的损坏以防止衬底及衬底处理设备的组件被损坏。因此，起模销的替换周期可经延长以改进生产率。
如上文所描述，已关于上述实施例具体描述了本发明的技术理念，但应注意，仅出于图解说明提供前述实施例而非限制本发明。各种实施例可经提供以允许所属领域的技术人员理解本发明的范围，但本发明不限于此。

Claims (25)

1.一种起模销组合件，其包括：
第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及
第二起模销，其用以导引所述第一起模销，所述第二起模销通过衬底支撑件升高。
2.根据权利要求1所述的起模销组合件，其中在其中所述第二起模销导引所述第一起模销的所述升高的区段大于所述衬底支撑件的厚度。
3.一种起模销组合件，其包括：
第一起模销，其至少一个部分支撑衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及
第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销可相对于衬底支撑件升高。
4.根据权利要求3所述的起模销组合件，其中在其中所述第二起模销导引所述第一起模销的所述升高的区段大于所述衬底支撑件的厚度。
5.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其中在与所述第二起模销比较时所述第一起模销首先从所述衬底支撑件的顶部表面突出。
6.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其中所述第一起模销及所述第二起模销从所述衬底支撑件的顶部表面顺序地突出。
7.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其中同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的递升及所述第二起模销相对于所述衬底支撑件的递降。
8.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其中同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的递降及所述第二起模销相对于所述衬底支撑件的递升。
9.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其进一步包括安置于所述第一起模销的外表面与所述第二起模销的内表面之间的至少一个第一润滑单元。
10.根据权利要求9所述的起模销组合件，其进一步包括安置于所述第二起模销与所述衬底支撑件的通孔之间的至少一个第二润滑单元。
11.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其进一步包括安置于所述第一起模销的下部部分上且具有大于所述第一起模销的直径的长度的接触部件。
12.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其进一步包括安置于所述第二起模销的下部部分上且具有大于所述第二起模销的主体的宽度的宽度的接触部件。
13.根据权利要求1到3所述的起模销组合件，其中所述第二起模销的至少一个部分由导电材料或绝缘材料形成。
14.一种起模销组合件，其包括：
衬底支撑件；
第一起模销，其经配置以支撑坐落于所述衬底支撑件上的衬底，所述第一起模销是可相对于所述衬底支撑件升高的；
第一起模销导引件，其经配置以导引所述第一起模销的所述升高，所述第一起模销导引件是可相对于所述衬底支撑件升高的。
15.根据权利要求14所述的起模销组合件，其进一步包括经配置以导引所述第一起模销导引件的所述升高的第二起模销导引件，所述第二起模销导引件安置于所述衬底支撑件与第一起模销导引件之间。
16.根据权利要求14所述的起模销组合件，其中在其中所述第一起模销导引件导引所述第一起模销的所述升高的区段大于所述衬底支撑件的厚度。
17.根据权利要求14所述的起模销组合件，其中在与所述第一起模销导引件比较时，所述第一起模销首先从所述衬底支撑件的顶部表面突出。
18.根据权利要求14所述的起模销组合件，其中所述第一起模销及所述第一起模销导引件从所述衬底支撑件的顶部表面顺序地突出。
19.根据权利要求14所述的起模销组合件，其中同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的递升及所述第一起模销导引件相对于所述衬底支撑件的递降。
20.根据权利要求14所述的起模销组合件，其中同时执行所述第一起模销相对于所述衬底支撑件的递降及所述第一起模销导引件相对于所述衬底支撑件的递升。
21.根据权利要求14所述的起模销组合件，其中同时执行所述第一起模销导引件相对于所述衬底支撑件的所述递升及所述衬底支撑件的递降。
22.一种衬底处理设备，其包括：
反应室；
衬底支撑件，其安置于所述反应室内以支撑衬底，所述衬底支撑件具有多个通孔；及
多个起模销组合件，其通过所述衬底支撑件的所述通孔以支撑所述衬底的部分，
其中所述起模销组合件中的每一者包括：
第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及
第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销的所述升高，所述第二起模销可通过所述通孔中的每一者升高。
23.一种衬底处理设备，其包括：
反应室；
衬底支撑件，其安置于所述反应室内以支撑衬底，所述衬底支撑件具有多个通孔；及
多个起模销组合件，其通过所述衬底支撑件的所述通孔以支撑所述衬底的部分，
其中所述起模销组合件中的每一者包括：
第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及
第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销是可相对于所述衬底支撑件升高的。
24.一种用于将衬底与所述衬底坐落于其上的衬底支撑件分离的方法，所述方法包括：
制备反应室；
制备安置于所述反应室内且具有多个通孔的衬底支撑件；
制备通过所述衬底支撑件的所述通孔的多个起模销组合件以支撑所述衬底的部分；
允许所述衬底支撑件及所述多个起模销组合件递降；
允许所述多个起模销组合件中的每一者的第一起模销接触所述反应室的内壁；
通过所述第一起模销将所述衬底的至少一个部分与所述衬底支撑件分离；及
允许所述多个起模销组合件中的每一者的第二起模销接触所述反应室的所述内壁，
其中所述起模销组合件包括：
所述第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及
所述第二起模销，其经配置以导引所述第一起模销的所述升高，所述第二起模销是可相对于所述衬底支撑件升高的。
25.一种用于将衬底与所述衬底坐落于其上的衬底支撑件分离的方法，所述方法包括：
制备反应室；
制备安置于所述反应室内且具有多个通孔的衬底支撑件；
制备通过所述衬底支撑件的所述通孔的多个起模销组合件以支撑所述衬底的部分；
允许所述衬底支撑件及所述多个起模销组合件递降；
允许所述多个起模销组合件中的每一者的第一起模销接触所述反应室的内壁；
通过所述第一起模销将所述衬底的至少一个部分与所述衬底支撑件分离；及
允许所述多个起模销组合件中的每一者的第二起模销接触所述反应室的所述内壁，
其中所述起模销组合件包括：
所述第一起模销，其至少一个部分支撑所述衬底的底部表面，所述第一起模销是可升高的；及
所述第二起模销，其经配置以在所述第一起模销升高时容纳所述第一起模销的一部分，所述第二起模销是可相对于所述衬底支撑件升高的。
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