CN104731422B - 电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法 - Google Patents

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Abstract

一种电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，包括利用激光蚀刻线将间隙部分的ITO分割成若干ITO段，各个所述ITO段相互独立且互不连接。本发明的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法生产效率高，而且刻蚀后的触摸屏产品显示效果佳。

Description

电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法
技术领域
本发明涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法。
背景技术
现有的电容式触摸屏主要包括电容屏触控面板和柔性电路板，在柔性电路板的上方覆盖有盖板。其中，电容屏触控面板简称为sensor，包括绝缘透明基板、感应线路层和驱动线路层。其中，绝缘透明基板选自玻璃或塑料薄膜的其中一种；感应线路层为具感应线路的透光性导电薄膜或玻璃；驱动线路层为具驱动线路的透光性导电薄膜或玻璃，且驱动线路层和感应线路层分别叠置在该绝缘透明基板的两侧。
在电容屏触控面板的绝缘透明基板上设置有氧化铟锡薄膜（ITO Film），其包括显示区域1和间隙区域2，如图1所示，所述显示区域1和所述间隙区域2相间分布，受电容屏触控面板的控制芯片要求的限制所述间隙区域2的宽度一般为3mm。由于间隙区域的ITO具有寄生电容，在芯片支持功能要求的限制下，如果间隙区域的ITO不刻蚀掉，在产品进行触摸使用时会产生触摸信号漂移，严重影响产品的触摸识别精度，因此间隙区域的ITO必须要刻蚀掉才能保证产品触摸精度。现有的刻蚀方式如图2所示，两条图形激光蚀刻走线3之间的部分为所述间隙区域2，间隙区域激光蚀刻走线4平行于所述图形激光蚀刻走线3进行刻蚀，因为间隙区域的宽度取值范围一般为[0.2mm,0.3mm]mm，所以通常需要几十道激光蚀刻线才能蚀刻掉线所述间隙区域2的ITO。但是，采用这种刻蚀方法加工出来的产品，显示图像时屏幕上会出现明显的刻蚀条纹，即刻蚀掉的部分的透过率大于显示区域图形部分的透过率，所以图像看起来有明显条纹，这就使得触摸屏产品显示效果很差，而且由于需要十几道激光加工工序，生产效率也很低。
发明内容
为此，本发明所要解决的技术问题在于经过现有电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法加工后的产品显示效果差，而且生产效率低的问题，而提供一种显示效果佳、生产效率高的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：
一种电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，包括利用激光蚀刻线将间隙部分的ITO分割成若干ITO段，各个所述ITO段相互独立且互不连接。
上述刻蚀方法中，采用两道激光蚀刻线交叉走线形成若干相互独立且互不连接的所述ITO段,两道激光蚀刻线在所述间隙部分形成间隙区域激光蚀刻走线。
上述刻蚀方法中，两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点过程中的距离小于一道激光蚀刻线的宽度。
上述刻蚀方法中，两道激光刻蚀线在临近交叉点处相互平行且有部分重叠。
上述刻蚀方法中，两道激光刻蚀线相互错位0.01mm。
上述刻蚀方法中，当两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点过程中的距离大于一道激光蚀刻线的宽度时，相邻所述ITO段的间隔在靠近两侧所述ITO段的位置上形成间隔部分ITO段，所述间隔部分ITO段相互独立且互不连接。
上述刻蚀方法中，每段所述ITO段长度的取值范围是[2mm,4mm]。
上述刻蚀方法中，每段所述ITO段的长度选取为3mm。
上述刻蚀方法中，所述间隙区域激光蚀刻走线的中心线与所述电容屏触控面板显示区域的图形激光蚀刻走线的中心线的距离小于一道激光蚀刻线的宽度。
上述刻蚀方法中，所述间隙部分的宽度取值范围是[0.2mm,0.3mm]。
一种电容屏触控面板，包括绝缘透明基板、感应线路层和驱动线路层，所述绝缘透明基板上设置有氧化铟锡薄膜，所述氧化铟锡薄膜包括显示区域和间隙区域，所述间隙部分的氧化铟锡薄膜采用上述刻蚀方法进行刻蚀。
本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
（1）本发明提供的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，利用激光蚀刻线将间隙部分的ITO分割成若干ITO段，各个ITO段相互独立且互不连接。这样刻蚀后，每个ITO段的寄生电容很小，几乎不会对触摸信号的识别精度产生影响，而且由于减少了激光蚀刻线路，蚀刻纹不明显，使得产品显示效果均匀，几乎与未刻蚀产品的显示效果相同，并且由于刻蚀工序简化，刻蚀一片产品节省了50%左右的时间，生产效率得到提高。
（2）本发明提供的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，采用两道激光蚀刻线交叉走线形成若干相互独立且互不连接的ITO段，方法简便且易于实现。
（3）本发明提供的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点过程中的距离小于一道激光蚀刻线的宽度，确保能够将将间隙区域的ITO分开，形成若干ITO段。
（4）本发明提供的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，每段ITO段长度的取值范围是[2mm,4mm]，优选长度为3mm，芯片支持功能要求的限制下，这种长度的ITO段寄生电容很小，几乎不会对触摸信号的识别精度产生影响，确保产品触摸精度。
（5）本发明提供的电容屏触控面板及其间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，间隙区域激光蚀刻走线的中心线与电容屏触控面板显示区域的图形激光蚀刻走线的中心线的距离小于一道激光蚀刻线的宽度，防止激光蚀刻线在同一个位置刻蚀次数过多，导致蚀刻纹明显的问题，确保产品的显示效果。
附图说明
为了使本发明的内容更容易被清楚的理解，下面根据本发明的具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细的说明，其中
图1是现有电容屏触控面板的示意图；
图2是图1中A部分的放大图；
图3是本发明中电容屏触控面板的示意图；
图4是图3中B部分的放大图；
图5是图4中C部分的放大图。
图中附图标记表示为：1-显示区域，2-间隙区域，3-图形激光蚀刻走线，4-间隙区域激光蚀刻走线，5-ITO段，6-间隔，7-交叉点。
具体实施方式
如图3-5所示，是本发明电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法的优选实施例。
电容屏触控面板的绝缘透明基板上设置有氧化铟锡薄膜（ITO），其包括显示区域1和间隙区域2，如图3所示，所述显示区域1和所述间隙区域2相间分布，受控制芯片要求的限制所述间隙区域2的宽度取值范围一般为[0.2mm,0.3mm]，在本实施例中所述间隙区域2的宽度优选为0.3mm。
在刻蚀所述间隙区域2的ITO时，利用激光蚀刻线将所述间隙部分2的ITO分割成若干ITO段5，如图4所示，各个所述ITO段5相互独立且互不连接，即相邻的所述ITO段5之间具有间隔6，而所述间隔6的长度不做具体限定，只需将相邻所述ITO段5分割开即可。由于每个所述ITO段5的寄生电容很小，几乎不会对触摸信号的识别精度产生影响。每段所述ITO段5长度的取值范围是[2mm,4mm]，在本实施例中，每段所述ITO段5的长度优选为3mm。
具体地说，是采用两道激光蚀刻线交叉走线形成若干相互独立且互不连接的所述ITO段5,两道激光蚀刻线在所述间隙部分2形成间隙区域激光蚀刻走线4。两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点7过程中的距离小于一道激光蚀刻线的宽度。并且，所述间隙区域激光蚀刻走线4的中心线与所述电容屏触控面板显示区域1的图形激光蚀刻走线3的中心线的距离也小于一道激光蚀刻线的宽度。
在其他实施例中，两道激光刻蚀线在临近交叉点处相互平行且有部分重叠，两道激光刻蚀线相互错位0.01mm。
在其他实施例中，当两道激光蚀刻线的中心线在趋近交叉点7过程中的距离大于一道激光蚀刻线的宽度时，相邻ITO段5的间隔6在靠近两侧所述ITO段5的位置上会形成间隔部分ITO段，所述间隔部分ITO段相互独立且互不连接，与所述ITO段5类似。
在其他实施例中，每段ITO段5的长度还可选择为2mm、2.5mm、3.8m、4mm等，具体根据产品性能要求进行选取。
在其他实施例中，根据不同控制芯片要求的不同，间隙区域2的宽度还可以选择为0.2mm、0.23mm、0.25mm、0.28mm等。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (9)

1.一种电容屏触控面板间隙部分氧化铟锡薄膜的刻蚀方法，其特征在于：所述刻蚀方法包括利用激光刻蚀线将间隙部分(2)的ITO分割成若干ITO段(5)，各个所述ITO段(5)相互独立且互不连接；所述ITO段(5)采用两道激光刻蚀线交叉走线形成，所述两道激光刻蚀线的中心线在趋近交叉点(7)过程中的距离小于一道激光刻蚀线的宽度。
2.根据权利要求1所述的刻蚀方法，其特征在于：所述两道激光刻蚀线在临近所述交叉点(7)处相互平行且有部分重叠。
3.根据权利要求2所述的刻蚀方法，其特征在于：所述两道激光刻蚀线相互错位0.01mm。
4.根据权利要求1-3任一所述的刻蚀方法，其特征在于：每段所述ITO段(5)长度的取值范围是[2mm,4mm]。
5.根据权利要求4所述的刻蚀方法，其特征在于：每段所述ITO段(5)的长度选取为3mm。
6.根据权利要求1-3任一项所述的刻蚀方法，其特征在于：所述间隙部分(2)的宽度取值范围是[0.2mm,0.3mm]。
7.根据权利要求1所述的刻蚀方法，其特征在于：所述两道激光刻蚀线在所述间隙部分(2)形成间隙区域激光刻蚀走线(4)。
8.根据权利要求7所述的刻蚀方法，其特征在于：所述间隙区域激光刻蚀走线(4)的中心线与电容屏触控面板显示区域(1)的图形激光刻蚀走线(3)的中心线的距离小于一道激光刻蚀线的宽度。
9.一种电容屏触控面板，包括绝缘透明基板、感应线路层和驱动线路层，所述绝缘透明基板上设置有氧化铟锡薄膜，所述氧化铟锡薄膜包括显示区域(1)和间隙区域(2)，其特征在于：所述间隙部分(2)的氧化铟锡薄膜采用上述权利要求1-8任一所述刻蚀方法进行刻蚀。
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