CN103922331A - 一种制备石墨烯粉体的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于纳米材料的制备技术领域,具体涉及一种可大规模制备高质量石墨烯粉体的方法,其技术方案为:首先将石墨加入插层剂,形成石墨插层化合物;然后将石墨插层化合物置于耐高压剥离反应器内,并加入膨胀剂进行高压高速剥离,得到含基团的石墨烯;再将其还原制备得到石墨烯粉体。该制备石墨烯粉体的发明方法并具有生产设备简单、工艺流程少、环保、适合大规模生产的优势,制备得石墨烯粉体缺陷少、导电性好,适用于超级电容器、传感器、海水淡化等应用领域。
Description
技术领域
本发明属于纳米材料的制备技术领域,具体涉及一种制备石墨烯粉体的方法。
背景技术
自2004年发现石墨烯以来,许多科学家都致力于石墨烯制备方法的研究,尤其是要制备出高质量、产率高、成本低、结构稳定的石墨烯的方法这就显得尤为重要。目前制备石墨烯的方法主要有以下几种:剥离法,包括微机械剥离法和溶剂剥离法等方法;生长法,包括晶体向外延生长、取向附生法、化学气相沉积等方法;氧化还原石墨法,包括常用的 Hummers 法、Standenmaier法、Brodie 法等;除此之外,还有电弧放电法、石墨层间化学物途径法、碳纳米管剥开法等。氧化还原石墨法具有简单且多元化的工艺,是制备石墨烯的一种常用的方法,但是,这种方法只适用于实验室少量制备用于研究,且大量制备容易产生大量的废酸、废水等,将引起环境的污染。因此,急需发展一种工艺简单、对环境污染小、易规模化生产的石墨烯制备方法。
发明内容
基于现有技术的问题,本发明的目的在于提供一种大规模制备石墨烯粉体的方法,其技术方案包括以下步骤:
(1)将石墨加入插层剂的溶液中,均匀搅拌,得到石墨插层化合物;
(2)石墨插层化合物置于耐高压剥离反应器内,并加入膨胀剂进行高压高速剥离,得到含有基团的石墨烯;
(3)将含有基团的石墨烯进行还原处理,之后洗涤烘干,得到石墨烯粉体。
其中,步骤(1)中石墨与插层剂的质量比为1:20~100:1,优选10:1~30:1,插层剂为甲酸、乙酸、乙醇、丙醇、甲胺、乙胺、乙二胺中的任意一种或两种以上的混合物,插层剂的浓度为1~120g/L。
其中,步骤(2)中耐高压剥离反应器为高速球磨机、高速搅拌反应器、对辊磨机中的任意一种;所述耐高压剥离反应器的转速为600-6000转/分钟,球磨或搅拌的时间为2~72h。
其中,步骤(2)中膨胀剂为干冰、液氮、液氧、超临界CO2中的任意一种或多种的混合物,膨胀剂与石墨的质量比为1:50~100:1,优先5:1-30:1;加入膨胀剂主要利用其气化或液化过程中体积膨胀,释放高压,催进石墨插层化合物的膨胀,进而更有效的剥离。
其中,步骤(3)中还原处理为高温还原或激光还原,高温还原条件为:纯氮气条件下,还原温度为300-900℃,反应时间为0.5-24 h小时;激光还原的条件为:脉冲激光的波长范围是150-400 nm,频率大于2Hz,脉冲时间为1s-60 min。
本发明的技术效果及优点:制备的石墨烯粉体缺陷少、导电性好,生产设备简单、工艺流程少,适合大规模生产。
附图说明
图1为石墨烯粉体制备过程流程图。
图2为实施例1制备得石墨烯粉体的拉曼图谱。
图3为实施例2制备石墨烯粉体的透射电子显微镜(TEM)图。
图4为实施例2制备石墨烯粉体的原子力显微镜(AFM)图。
具体实施方式
本发明方法制备石墨烯粉体过程的流程图如图1所示,下面结合附图和具体实施例对本发明的技术方案进行详细的说明,但是所述实施例的说明,仅仅是本发明的一部分实施例,其中大部分并不仅限于此。
实施例1
(1)称取20g可膨胀石墨加入浓度为10g/L的200ml的乙醇溶液中,将其搅拌均匀,得到石墨插层乙醇化合物;
(2)将步骤(1)的石墨插层乙醇化合物置于高压球磨机内(球磨罐容积为2L),并加入80g干冰,在转速为2000转/分钟条件下,剥离24小时,即得到含基团的石墨烯;
(3)将步骤(2)中含基团的石墨烯置于高温管式炉,在600℃和N2气氛条件下还原4小时,得到石墨烯,将其用去离子水洗涤5次,并放于80℃烘箱中烘干,得到石墨烯粉体。
将制备的石墨烯样品进行拉曼光谱表征,其结果如图2所示,由图可知,D峰位于1361.94-1,G峰位于1605.93cm-1处,说明利用此技术方案可生成石墨烯。
实施例2
(1)称取15g可膨胀石墨加入浓度为80g/L的180ml的乙酸溶液中,将其搅拌均匀,得到石墨插层乙酸化合物;
(2)将步骤(1)的石墨插层乙酸化合物置于高速搅拌反应器,并加入60g液氮,在转速为18000转/分钟条件下,剥离24小时,即得到含基团的石墨烯;
(3)用波长为248nm的脉冲激光直接照射步骤(2)中含基团的石墨烯溶液2min,还原得到石墨烯,将石墨烯用乙醇洗涤3次,并放于80℃烘箱内烘干,得到石墨烯粉体。
将制备的石墨烯样品进行TEM和AFM表征,其结果分别如图3和图4所示,由图可知,制备的石墨烯呈透明的薄纱状结构,并表面呈褶皱状。
Claims (8)
1.一种制备石墨烯粉体的方法,包括以下步骤:
(1)将石墨加入插层剂的溶液中,均匀搅拌,得到石墨插层化合物;
(2)石墨插层化合物置于耐高压剥离反应器内,并加入膨胀剂进行高压高速剥离,得到含有基团的石墨烯;
(3)将含有基团的石墨烯进行还原处理,之后洗涤、烘干,得到石墨烯粉体。
2.根据权利要求1所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:步骤(1)中石墨与插层剂的质量比为1:20~100:1,优选10:1~30:1。
3.根据权利要求1所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:所述的插层剂为甲酸、乙酸、乙醇、丙醇、甲胺、乙胺、乙二胺中的任意一种或两种以上的混合物;所述插层剂的浓度为1~120g/L。
4.根据权利要求1所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:所述的耐高压剥离反应器为高速球磨机、高速搅拌反应器、对辊磨机中的任意一种;所述耐高压剥离反应器的转速为600-6000转/分钟,球磨或搅拌的时间为2~72h。
5.根据权利要求1所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:所述的膨胀剂为干冰、液氮、液氧、超临界CO2中的任意一种或多种的混合物,膨胀剂与石墨的质量比为1:50~100:1,优先5:1-30:1。
6.根据权利要求1所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:所述的还原处理为高温还原或激光还原。
7.根据权利要求1或6所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:所述的高温还原的条件为:纯氮气条件下,还原温度为300-900℃,反应时间为0.5-24 h。
8.根据权利要求1或6所述的一种制备石墨烯粉体的方法,其特征在于:所述的激光还原的条件为:脉冲激光的波长范围是150-400 nm,频率大于2Hz,脉冲时间为1s-60 min。
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