CN103698980A - 描画装置及描画方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种描画装置及描画方法，能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整。在描画装置（1）中，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数规定光学单元（40）所具有的多个调制单位（442）在排列方向上的位置与射出率之间的关系。然后，根据所接受的形状类型，调整多个调制单位（442）的各自的射出率。然后，一边从光学单元（40）射出剖面呈带状的描画光，一边使光学单元（40）相对于基板（W）沿着与描画光的长度方向垂直的方向移动，由此对基板（W）执行描画处理。

Description

描画装置及描画方法

技术领域

本发明涉及一种对半导体基板、印刷基板、液晶显示装置等所具备的彩色滤光片用基板、液晶显示装置或等离子显示装置等所具备的平板显示器用玻璃基板、磁盘用基板、光盘用基板、太阳能电池板等的各种基板等（下面，简称为“基板”）照射光，来在基板上描画图案的技术。

背景技术

近年来，如下的曝光装置（所谓的描画装置）受到关注：当在涂敷在基板上的感光材料上曝光电路等的图案时，不用掩膜等，而是利用调制的光（描画光）对基板上的感光材料进行扫描，由此直接在该感光材料上曝光图案，其中，上述调制的光是基于记录了图案的数据而调制的。描画装置从例如具有用于以像素为单位对光束进行打开/关闭（ON/OFF）调制的空间光调制器（例如，根据控制信号，以像素为单位在打开（ON）状态和关闭（OFF）状态之间进行切换的反射型的空间调制器，其中，打开（ON）状态是指，将从光源供给的光束反射到基板上的状态，关闭（OFF）状态是指，使光束向与打开（ON）状态不同的方向反射的状态）的光学头，对与光学头相对地移动的基板照射描画光，来在基板曝光（描画）图案（例如，参照专利文献1）。

在描画装置中，光学头例如一边照射剖面呈带状的描画光，一边相对于基板沿着与描画光的长度方向垂直的轴（主扫描轴）移动（主扫描）。通过进行该主扫描，来对基板上的沿着主扫描轴的一条带状区域进行图案的曝光。当伴随描画光的照射的主扫描结束时，接着，光学头在相对于基板沿着与主扫描轴垂直的副扫描轴移动之后，再次进行伴随描画光的照射的主扫描。由此，对与通过之前的主扫描曝光了图案的带状区域相邻的带状区域进行图案的曝光。像这样，通过间隔副扫描，反复地进行伴随描画光的照射的主扫描，来在基板的整个区域曝光图案。

在通过上述的方式在基板上曝光图案的情况下，存在在带状区域之间的边界部分容易产生曝光不均匀的问题。边界部分的曝光不均匀还会导致边界部分的图案的不连续性（例如，图案的间断、太粗、太细）等。这种图案的不连续性可能会对成品的电气特性（通电特性）造成不良的影响。

因此，在例如专利文献2中，将副扫描的移动距离设定为比从光学头射出的带状的光的长度短，使带状区域的边界部分处于重合的状态。根据这种结构，光学头的不均等特性带来的影响互相叠加而变得均衡，所以能够缓解带状区域之间的边界部分的曝光不均匀。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本特开2009-237917号公报

专利文献2：日本特开2008-129248号公报

若应用专利文献2等，则在某种程度上能够缓解带状区域之间的边界部分的曝光不均匀。然而，带状区域之间的边界部分的曝光不均匀的出现方式根据处理条件不同而有很大的变化。

即，由于边界部分为在不同时间点被照射光的区域彼此接近的（或重合）区域，所以，例如，若改变感光材料的种类、光学的漫射特性等，则边界部分的曝光不均匀的出现方式也会发生变化。另外，例如，若相对于光学头的基板的相对移动速度变化，则对边界部分照射光的时间差发生变化，因此，该曝光不均匀的出现方式也发生变化。

因此，即使在某种处理条件下，在进行适当的调整之后没有产生边界部分的曝光不均匀，但当处理条件稍有变化时，产生边界部分的曝光不均匀的可能性很大。因此，若改变处理条件，则需要立即重新进行调整，但在以往，不易于进行该调整。因此，不能够灵活地应对处理条件的变更，难以充分确保曝光的均匀性。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供一种能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整的技术。

第一方案是一种描画装置，其通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其具有：光学单元，其一边射出剖面呈带状的描画光，一边相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动；调整部，其调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布，所述光学单元具有：光源部，其射出剖面呈带状的光；空间光调制部，其具有排列成一列的多个调制单位，所述空间光调制部使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与多个所述调制单位的排列方向一致，所述调整部具有：接受部，其接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比；射出率调整部，其根据所述接受部接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调整。

第二方案是第一方案中涉及的描画装置，多个所述形状类型候补包括阶梯型，所述阶梯型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈阶梯状地变化的变化部分。

第三方案是第二方案中涉及的描画装置，在选择了所述阶梯型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分的宽度进行的指定。

第四方案是第二或者第三方案中涉及的描画装置，在选择了所述阶梯型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分的所述射出率进行的指定。

第五方案是第一～第四中任一个方案中涉及的描画装置，多个所述形状类型候补包括梯形型，所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈倾斜状地变化的变化部分。

第六方案是第五方案中涉及的描画装置，在选择了所述梯形型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分内的一个以上的代表位置的各自的所述射出率进行的指定。

第七方案是在第一～第六中任一个方案中涉及的描画装置，所述接受部在显示装置上显示接受画面，并且通过所述接受画面来接受所述选择操作，其中，在所述接受画面上一览显示了多个所述形状类型候补。

第八方案是在第一～第七中任一个方案中涉及的描画装置，所述调整部还具有登记部，所述登记部与在所述基板上描画图案的处理的处理条件相对应地登记所述接受部所接受的信息。

第九方案是一种描画方法，通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其包括：（a）工序，一边从光学单元射出剖面呈带状的描画光，一边使所述光学单元相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动；（b）工序，调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布；所述（a）工序包括：（a1）工序，从光源部射出剖面呈带状的光；（a2）工序，使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与排列成一列的多个调制单位的排列方向一致；所述（b）工序包括：（b1）工序，接受从多个形状类型候补中选择所述射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比；（b2）工序，按照在所述（b1）工序所接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调整。

第十方案是第九方案涉及的描画方法，多个所述形状类型候补包括阶梯型，所述阶梯型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈阶梯状地变化的变化部分。

第十一方案是第十方案中涉及的描画方法，所述（b）工序还包括如下工序：在所述（b1）工序中选择了所述阶梯型的情况下，接受对所述变化部分的宽度进行的指定。

第十二方案是第十或者第十一方案中涉及的描画方法，所述（b）工序还包括如下工序：在所述（b1）工序中选择了所述阶梯型的情况下，接受对所述变化部分的所述射出率进行的指定。

第十三方案是在第九～第十二中任一个方案中涉及的描画方法，多个所述形状类型候补包括梯形型，所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈倾斜状地变化的变化部分。

第十四方案是在第十三方案中涉及的描画方法，所述（b）工序还包括如下工序：在所述（b1）工序中选择了所述梯形型的情况下，接受对所述变化部分内的一个以上的代表位置的各自的所述射出率进行的指定。

第十五方案是在第九～第十四中任一个方案中涉及的描画方法，在所述（b1）工序中，在显示装置上显示接受画面，并且通过所述接受画面来接受所述选择操作，其中，在所述接受画面上一览显示了多个所述形状类型候补。

第十六方案是在第九～第十五中任一个方案中涉及的描画方法，还包括（c）工序，在该（c）工序中，与在所述基板上描画图案的处理的处理条件相对应地登记在所述（b）工序中接受的信息。

根据第一、第九方案，通过从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的简单的选择操作，来对各调制单位的射出率进行调整，从而对入射到基板的带状的描画光的沿着长度方向的光量分布进行调整。因此，能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整。

根据第二、第十方案，多个形状类型候补包括阶梯型。通过选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型，在例如产生在边界部分的比较微小的范围内曝光量变化较大的曝光不均匀的情况下，有效地缓解该曝光不均匀。

根据第五、第十三方案，多个形状类型候补包括梯形型。通过选择梯形型来作为射出率函数的形状类型，在例如产生在边界部分的比较大的范围内曝光量变化得比较平缓的曝光不均匀的情况下，有效地缓解该曝光不均匀。

根据第七、第十五方案，显示一览显示了多个形状类型候补的接受画面，通过该接受画面，来接受选择操作。因此，操作者能够特别简单地进行选择多个形状类型候补中的某一个的选择操作。

根据第八、第十六方案，与描画处理的处理条件相对应地登记从操作者接受的信息。因此，针对相同的处理条件，即使操作者不重新进行输入操作，也能够将入射到基板的带状的描画光的沿着长度方向的光量分布调整为能够缓解边界部分的曝光不均匀的恰当的形状。

附图说明

图1是描画装置的侧视图。

图2是描画装置的俯视图。

图3是表示控制部的硬件构件的框图。

图4是表示矩形型的射出率函数的图。

图5是用于说明在将一组调制单位的射出率的分布调整为矩形型的情况下的调制单位的排列位置与带状区域的关系的图。

图6是表示阶梯型的射出率函数的图。

图7是用于说明在将一组调制单位的射出率的分布调整为阶梯型的情况下的调制单位的排列位置与带状区域的关系的图。

图8是表示梯形型的射出率函数的图。

图9是表示梯形型的射出率函数的图。

图10是用于说明在将一组调制单位的射出率的分布调整为梯形型的情况下的调制单位的排列位置与带状区域的关系的图。

图11是表示与形状登记部相关的结构的框图。

图12是示意性地表示接受画面的结构例的图。

图13是示意性地表示接受画面的结构例的图。

图14是示意性地表示接受画面的结构例的图。

图15是表示登记射出率函数的形状的一连串的处理的流程的图。

图16是表示在描画装置执行的处理的流程的图。

图17是用于说明描画处理的图。

图18是示意性地表示变形例的接受输入画面的结构例的图。

其中，附图标记说明如下：

1 描画装置

40 光学单元

400 射出率调整部

401 光源部

402 头部

441 空间光调制器

442 调制单位

80 控制部

800 形状登记部

801 接受部

802 登记部

9 接受画面

91 形状类型选择区域

92 阶梯型的输入项目区域

93 梯形型的输入项目区域

94 形状显示区域

95 登记图标

100 调整部

W 基板

具体实施方式

下面，一边参照附图，一边针对本发明的实施方式进行说明。此外，下面的实施方式为将本发明具体化的一个例子，而不是限定本发明的技术的范围的事例。另外，在附图中，为了便于理解，有时夸大或简化各部分的尺寸、数量来进行图示。

＜1.装置结构＞

一边参照图1、图2，一边针对第一实施方式的描画装置1的结构进行说明。图1是示意性地表示描画装置1的结构的侧视图。图2是示意性地表示描画装置1的结构的俯视图。

描画装置1是通过向形成有抗蚀剂等感光材料的层的基板W的上表面照射基于CAD数据等来调制之后的光（描画光），来曝光（描画）图案（例如，电路图案）的装置。此外，基板W可以为例如，半导体基板、印刷基板、液晶显示装置等所具备的彩色滤光片用基板、液晶显示装置或等离子显示装置等所具备的平板显示器用玻璃基板、磁盘用基板、光盘用基板、太阳能电池板等中的一种。在图示的例子中，例示了圆形的半导体基板，来作为基板W。

描画装置1具有在主体内部和主体外部配置了各种结构要素的结构，其中，上述主体内部是通过在由主体框架101构成的框架的顶面及周围面安装盖板（图中省略）来形成的，上述主体外部是主体框架101的外侧。

将描画装置1的主体内部划分成处理区域102和交接区域103。在处理区域102主要配置有保持基板W的载物台10、使载物台10移动的载物台驱动机构20、计测载物台10的位置的载物台位置计测部30、向基板W的上表面照射光的两个光学单元40及拍摄基板W上的对位标记的拍摄部50。另一方面，在交接区域103配置有向处理区域102搬入/搬出基板W的搬运装置60和预对位部70。另外，描画装置1具有控制部80，该控制部80与描画装置1所具有的各部分电连接，控制这些各部分的动作。下面，针对描画装置1所具备的各部的结构进行说明。

＜载物台10＞

载物台10具有平板状的外形，是在其上表面上以水平姿势载置并保持圆形的基板W的保持部。在载物台10的上表面形成有多个吸孔（图中省略），通过在该吸孔形成负压（吸引压力），能够将载置在载物台10上的基板W固定保持在载物台10的上表面。

＜载物台驱动机构20＞

载物台驱动机构20是使载物台10相对于基台105移动的机构，其使载物台10沿着主扫描方向（Y轴方向）、副扫描方向（X轴方向）、及旋转方向（围绕Z轴的旋转方向（θ轴方向））移动。具体来说，载物台驱动机构20具有使载物台10旋转的旋转机构21、隔着旋转机构21支撑载物台10的支撑板22、使支撑板22沿着副扫描方向移动的副扫描机构23。载物台驱动机构20还具有隔着副扫描机构23支撑支撑板22的底板24、使底板24沿着主扫描方向移动的主扫描机构25。

旋转机构21使载物台10以穿过载物台10的上表面（基板W的载置面）的中心且与该载置面垂直的旋转轴A为中心旋转。旋转机构21能够构成为包括：例如，旋转轴部211，其上端固定于载置面的背面一侧，并且沿着铅垂轴延伸；旋转驱动部（例如，旋转马达）212，其设置于旋转轴部211的下端，用于使旋转轴部211旋转。在该结构中，通过旋转驱动部212使旋转轴部211旋转，使得载物台10在水平面内以旋转轴A为中心进行旋转。

副扫描机构23具有由安装在支撑板22的下表面的动子和铺设在底板24的上表面的定子构成的线性马达231。另外，在底板24铺设有沿着副扫描方向延伸的一对引导构件232，在各引导构件232与支撑板22之间，设置有球轴承，其能够一边相对于引导构件232滑动，一边沿着该引导构件232移动。即，支撑板22隔着该球轴承来支撑在一对引导构件232上。在该结构中，若使线性马达231动作，则支撑板22在被引导构件232引导的状态下沿着副扫描方向滑动。

主扫描机构25具有由安装在底板24的下表面的动子和铺设在描画装置1的基台105上的定子构成的线性马达251。另外，在基台105铺设有沿着主扫描方向延伸的一对引导构件252，在各引导构件252与底板24之间，设置有例如空气轴承。从实用（utility）设备始终向空气轴承供给空气，利用空气轴承将底板24以不与引导构件252接触的方式漂浮支撑在引导构件252上。在该结构中，若使线性马达251动作，则底板24在被引导构件252引导的状态下沿着主扫描方向无摩擦地滑动。

＜载物台位置计测部30＞

载物台位置计测部30是计测载物台10的位置的机构。具体来说，载物台位置计测部30由干涉式的激光测长仪构成，该干涉式的激光测长仪例如从载物台10外朝向安装于载物台10的-Y侧的侧面的平面镜31射出激光并且接受该激光的反射光，根据该反射光与射出光的干涉来计测载物台10的位置（具体来说，沿着主扫描方向的Y位置及沿着旋转方向的θ位置）。

＜光学单元40＞

光学单元40是用于向保持在载物台10上的基板W的上表面照射描画光，从而在基板W上描画图案的机构。如上所述，描画装置1具有两个光学单元40、40。例如，一个光学单元40负责进行基板W的＋X半侧的曝光，另一个光学单元40负责进行基板W的-X半侧的曝光。这两个光学单元40、40以跨越载物台10及载物台驱动机构20的方式，沿着副扫描方向（X轴方向）间距间隔地固定设置于架设在基台105上的支撑框架107。此外，两个光学单元40、40的间隔并不一定需要固定为恒定的间隔，可以设置能够改变光学单元40、40中的一个或两个的位置的机构来能够调整两者之间的间隔。另外，光学单元40的搭载个数并不一定需要必须为两个，可以为一个，也可以为三个。

两个光学单元40、40具有相同的结构。即，各光学单元40具有配置于形成顶板的箱体的内部的光源部401、容置于安装在支撑框架107的＋Y侧的附设箱体的内部的头部402。光源部401主要具有激光驱动部41、激光振荡器42、照明光学***43。头部402主要具有空间光调制单元44、投影光学***45。

激光振荡器42由激光驱动部41驱动，从输出镜（图中省略）射出激光。照明光学***43将从激光振荡器42射出的光（点光束（spot beam））转换成强度分布均匀的线状的光（即，光束剖面呈带状的光即线光束（line beam））。从激光振荡器42射出并通过照明光学***43转换成线光束的光入射到头部402。此外，还可以构成为在从激光振荡器42射出的光入射到头部402之前的阶段，缩小该光的光圈，调整入射到头部402的光的光量。

在此，在对入射到头部402的光实施了基于图案数据PD的空间调制之后，将该光照射到基板W上。其中，对光进行空间调制意味着使光的空间分布（振幅、相位及偏振光等）发生变化。另外，“图案数据PD”是指，以像素为单位记录了应该照射光的基板W上的位置信息的数据，例如，通过对利用CAD（Computer Aided Design：计算机辅助设计）生成的图案的设计数据进行光栅化处理（rasterize）来生成图案数据PD。通过从例如经由网络等连接的外部终端装置接收图案数据PD，或，从记录介质读取图案数据PD来获取，并保存在控制部80的存储装置84内（参照图3）。

更具体来说，入射到头部402的光经由反射镜46以规定的角度入射到空间光调制单元44。空间光调制单元44具有空间光调制器441，该空间光调制器441通过电气控制对入射光进行空间调制，使得用于描画图案的必要光和不用于描画图案的不必要光向彼此不同的方向反射。空间光调制器441利用例如将作为调制元件的固定带（ribbon）和可动带配设成一维的衍射光栅型的空间调制器（例如，GLV（Grating Light Valve：光栅光阀)（“GLV”是注册商标））等来构成。衍射光栅型的空间调制器为能够改变光栅的深度的衍射光栅，例如，采用半导体装置制造技术来进行制造。

针对空间光调制器441的结构例，进行更具体的说明。空间光调制器441构成为将多个调制单位442排列成一维（参照图5等）。各调制单位442的动作根据例如有无施加电压来得以控制，空间光调制器441具有能够单独地对多个调制单位442的每个调制单位施加电压的驱动电路单元（图中省略）。由此，能够单独地切换各调制单位442的电压。

若使调制单位442处于第一电压状态（例如，没有施加电压的状态），则调制单位442的表面为例如平面。若向表面为平面的调制单位442入射光，则该入射光不发生衍射而发生正反射。由此，产生正反射光（零次衍射光）。作为应该用于描画图案的必要光，该正反射光经由后述的投影光学***45引向基板W的表面。另一方面，若使调制单位442处于第二电压状态（例如，施加电压的状态），则在调制单位442的表面周期性地排列形成一条以上的具有规定的深度（最大深度）的平行的槽。在该状态下，若光入射到调制单位442，则正反射光（零次衍射光）互相抵消而消失，产生其它次数的衍射光（±1次衍射光、±2次衍射光及更高次的衍射光）。在后述的投影光学***45中，遮断作为不应该用于描画图案的不必要光的上述零次以外的次数的衍射光，使其不到达基板W。下面，还将处于第一电压状态的调制单位442称为“打开（ON）状态”，将处于第二电压状态的调制单位442称为“关闭（OFF）状态”。

空间光调制器441还具有能够分别调整其所具有的一组调制单位442的打开（ON）状态的射出率的机构（射出率调整部）400（参照图11）。在此所说的调制单位442的“射出率”是指，调制单位442的射出光量与入射光量的比（射出光量/入射光量）。其中，在此所说的“射出光量”为必要光（即，向到达基板W的方向射出的光）的光量，在此，为正反射光（零次衍射光）的光量。若调制单位442的表面为平面，则调制单位442的射出率为100%。若在调制单位442的表面形成有槽，则射出率下降，该槽的深度越深，则射出率变得越小。射出率调整部400针对各调制单位442，在0以上并且在上述的最大槽深度（即，为形成于关闭（OFF）状态的调制单位442的表面的槽的深度，赋有0%的射出率）以下的范围内调整在该调制单位442处于打开（ON）状态时形成于表面的槽的深度，由此，将打开（ON）状态的调制单位442的射出率调整为0%到100%之间的任意的值。

投影光学***45遮断从空间光调制器441入射的光中的不必要光并且将必要光导向基板W的表面，使必要光在基板W的表面成像。即，从空间光调制器441射出的必要光沿着Z轴朝向-Z方向前进，从空间光调制器441射出的不必要光沿着从Z轴稍微倾向±X方向的轴朝向-Z方向前进，投影光学***45具有例如为了仅使必要光透过而在正中央形成有贯穿孔的遮断板，在该遮断板遮断不必要光。除了该遮断板以外，投影光学***45能够还包括多个透镜、物镜等，其中，多个透镜构成扩大（或缩小）必要光的宽度的变焦部；物镜使必要光以规定的倍率在基板W上成像。

在使光学单元40执行描画动作的情况下，控制部80驱动激光驱动部41，使激光振荡器42射出光。射出的光在照明光学***43转换为线性光束，经由反射镜46入射到空间光调制单元44的空间光调制器441。其中，空间光调制器441配置成多个调制单位442的反射面的法线相对于经由反射镜46入射的入射光的光轴倾斜的姿势。

如上所述，在空间光调制器441中，多个调制单位442配置成沿着副扫描方向（X轴方向）排列，使入射光的线状的光束剖面的长度方向沿着调制单位442的排列方向，并使入射光入射到排列成一列的多个调制单位442。控制部80基于图案数据PD，向驱动电路单元发出指示，驱动电路单元向所指示的调制单位442施加电压。由此，形成包括在各调制单位442分别进行了空间调制的光且剖面呈带状的描画光，并朝向基板W射出该描画光。在一个调制单位442进行了空间调制的光为相当于一个像素的描画光，从空间光调制器441射出的描画光为相当于沿着副扫描方向的多个像素的描画光。从空间光调制器441射出的描画光入射到投影光学***45。在投影光学***45中，遮断入射光中的不必要光，并且仅将必要光导向基板W的表面，必要光以规定的倍率在基板W的表面成像。

各光学单元40一边沿着主扫描方向（Y轴方向）相对于基板W进行移动，一边断续地持续照射相当于沿着副扫描方向的多个像素的描画光（即，反复地向基板W的表面持续地投射脉冲光）。因此，若光学单元40沿着主扫描方向横越基板W，则在基板W的表面上的一条带状区域描画图案组，其中，上述带状区域沿着主扫描方向延伸，并且沿着副扫描方向具有相当于多个像素的宽度（下面，还称为“描画宽度M”）。在进行了伴随描画光的照射的主扫描之后，光学单元40在沿着与主扫描方向垂直的副扫描方向（X轴方向）相对于基板W移动规定距离之后（副扫描），再次进行伴随描画光的照射的主扫描。由此，在通过之前的主扫描来描画的带状区域的旁边描画图案组。以这种方式，间隔副扫描，反复地进行伴随描画光的照射的主扫描，由此对整个描画对象区域描画图案组。

＜拍摄部50＞

拍摄部50固定设置于支撑框架107，对在由载物台10保持的基板W的上表面上形成的对位标记进行拍摄。拍摄部50具有例如镜筒、物镜、例如由区域图像传感器（area image sensor）（二维图像传感器）构成的CCD（电荷耦合器件）图像传感器。另外，拍摄部50经由光纤等与供给拍摄所使用的照明光的照明单元501连接。其中，采用不使基板W上的抗蚀剂等感光的波长的光源，来作为该照明光。将从照明单元501射出的光经由光纤导向镜筒，并经由镜筒导向基板W的上表面。然后，经由物镜在CCD图像传感器接受该射出光的反射光。由此，获取基板W的上表面的拍摄数据。CCD图像传感器根据来自控制部80的指示获取拍摄数据，并且将获取的拍摄数据发送至控制部80。此外，拍摄部50还可以具有能够自动对焦的自动对焦单元。

＜搬运装置60＞

搬运装置60为搬运基板W的装置，具体来说，例如，具有用于支撑基板W的两根搬运手61、61、使搬运手61、61独立地移动（进退移动及升降移动）的搬运手驱动机构62。在描画装置1的主体外部，在与交接区域103相邻的位置配置有用于载置盒体C的盒体载置部104，搬运装置60取出容置在载置于盒体载置部104的盒体C内的未处理的基板W，将其搬入处理区域102，并且，从处理区域102搬出处理完的基板W，并容置到盒体C内。此外，利用外部搬运装置（图中省略）来进行对盒体载置部104的盒体C的交接。

＜预对位部70＞

预对位部70为粗略地修正基板W的旋转位置的装置。预对位部70能够由例如以能够旋转的方式构成的载置台、检测在载置于载置台的基板W的外周边的一部分所形成的切口部（例如，缺口、定向平面（orientation flat）等）的位置的传感器、使载置台旋转的旋转机构构成。在该情况下，首先，利用传感器检测载置在载置台上的基板W的切口部的位置，接着，旋转机构使载置台旋转，使得该切口部的位置旋转至规定的位置，由此来进行预对位部70的预对位处理。

＜控制部80＞

控制部80与描画装置1所具有的各部分电连接，一边执行各种的运算处理，一边控制描画装置1的各部分的动作。

如图3所示，控制部80构成为包括例如CPU（中央处理器）81、ROM（只读存储器）82、RAM（随机存储器）83、存储装置84等彼此经由总线线路85连接的通常的计算机。ROM82保存基础程序等，RAM83供来作为在CPU81进行规定的处理时的作业区域。存储装置84由闪存器或硬盘装置等非易失性的存储装置构成。在存储装置84保存有程序P，作为主控制部的CPU81按照该程序P所记述的顺序进行运算处理，由此实现各种功能。通常，程序P事先保存在存储装置84等存储器内来进行使用，但是还可以以记录在CD-ROM或DVD-ROM、外部的闪存器等记录介质的形式（程序项目）来提供该程序P（或，通过经由网络从外部服务器下载等来提供），并以追加或交换的方式保存在存储装置84等存储器内。此外，还可以通过专用的逻辑电路等来在硬件上实现控制部80所实现的一部分或全部的功能。

另外，在控制部80中，输入部86、显示部87、通信部88也与总线线路85连接。输入部86为由例如键盘及鼠标构成的输入设备，接受来自操作者的各种操作（输入命令或各种数据的操作）。此外，输入部86可以由各种开关、触摸屏等构成。显示部87为由液晶显示装置、灯等构成的显示装置，在CPU81的控制下显示各种信息。通信部88具有经由网络与外部装置之间进行收发命令、数据等的数据通信功能。

＜2.射出率函数的登记＞

＜2-1.射出率函数的形状类型＞

如上所述，在描画装置1中，空间光调制器441具有排列成一列的一组调制单位442，还具有射出率调整部400，该射出率调整部400分别调整该一组调制单位442各自的射出率。当前，若将规定调制单位442在排列方向上的位置与射出率的关系的函数称为“射出率函数”，则在描画装置1中通过设置射出率调整部400，能够将该射出率函数的形状调整为任意的形状。其中，在此，将横轴作为调制单位442在排列方向上的位置，将纵轴作为射出率，来表示射出率函数（例如，参照图4）。

射出率函数的形状规定从空间光调制器441射出的描画光在整个长度方向上的光量分布的轮廓（profile）。本发明的发明人员发现，通过适当地调整射出率函数的形状，能够缓解在带状区域之间的边界部分产生的曝光不均匀，还发现，针对曝光不均匀的不同类型，具有能够有效地缓解该曝光不均匀的射出率函数的不同形状类型。下面，针对射出率函数的形状类型进行说明。

＜矩形型＞

图4是表示作为第一形状类型的“矩形型”的射出率函数的图。另外，图5是用于说明矩形型的射出率函数与带状区域之间的关系的图。

矩形型的射出率函数为所谓的“矩形函数”，其中，射出率恒定的中央部分A1的两端的下降沿为垂直的边沿。具体来说，矩形型的射出率函数由以下的部分构成：射出率以比0大的规定的值（例如，为100%，以下也称为“最大射出率”）Rf恒定地推移的中央部分A1；与中央部分A1两边的端部相连，并且射出率以0恒定地推移的端部部分A0。中央部分A1的中心位置与沿着调制单位442的排列方向的中心位置Q一致。

在射出率函数中，射出率为0的端部部分A0意味着，将配置在该部分的调制单位442的打开（ON）状态的射出率设为0，这种调制单位442不用于形成描画光。换言之，在实质上，仅利用射出率比0大的调制单位442，来形成描画光。因此，在射出率函数中，射出率比0大的区域的宽度（下面，称为“有效宽度d”）相当于上述的描画宽度M。在矩形型的射出率函数中，中央部分A1的宽度d1为有效宽度d。

将与副扫描方向上的移动距离一致的描画宽度M作为矩形型的射出率函数的有效宽度d。因此，在将一组调制单位442的射出率的分布调整为矩形型的情况下（更具体来说，在对各调制单位442的射出率进行调整，以使得一组调制单位442在排列方向上的位置与射出率之间的关系和矩形型的射出率函数一致的情况下），如图5所示，通过各主扫描来描画的带状区域的端部（在副扫描方向上的端部）与通过之前的主扫描来描画的带状区域彼此紧密相邻。在描画装置1中，在默认状态下，一组调制单位442的射出率的分布被调整为矩形型。

下面，还将相当于矩形型的射出率函数的有效宽度d（即，赋予与副扫描方向上的移动距离一致的描画宽度M的有效宽度d）的调制单位442的排列宽度称为“基准宽度T”。在射出率函数的有效宽度d比基准宽度T大的情况下，通过各主扫描进行描画的带状区域，在其端部与通过之前的主扫描进行描画的带状区域重合。

＜阶梯型＞

图6是表示作为第二形状类型的“阶梯型”的射出率函数的图。另外，图7是用于说明阶梯型的射出率函数与带状区域之间的关系的图。

阶梯型的射出率函数为所谓的“阶梯函数”，其中，射出率恒定的中央部分B1的一侧的端的下降沿为阶梯状的边沿。具体来说，阶梯型的射出率函数由以下的部分构成：射出率以最大射出率Rf恒定地推移的中央部分B1；与中央部分B1的一侧的端部相连，并且射出率以0恒定地推移的端部部分B0；与中央部分B1的另一侧的端部相连，并且射出率呈阶梯状变化的变化部分B2；与变化部分B2的另一侧的端部相连，并且射出率以0恒定地推移的端部部分B0。其中，在此也同样地，中央部分B1的中心位置与沿着调制单位442的排列方向的中心位置Q一致。

在此，变化部分B2在中央部分B1的一侧的端的下降沿形成一个台阶，台阶的宽度与变化部分B2的宽度d2一致。另外，台阶的高度与变化部分B2的射出率Rs一致。

阶梯型的射出率函数相当于在矩形型的射出率函数追加了变化部分B2的函数。即，在阶梯型的射出率函数中，中央部分B1的宽度d1与基准宽度T一致，阶梯型的射出率函数的有效宽度d仅比基准宽度T大变化部分B2的宽度d2。因此，阶梯型的射出率函数的有效宽度d为比副扫描方向上的移动距离大相当于变化部分B2的宽度d2的描画宽度M。

因此，在将一组调制单位442的射出率的分布调整为阶梯型的情况下，如图7所示，通过各主扫描来描画的带状区域，在其端部与通过之前的主扫描来描画的带状区域重合。并且，该重合部分的宽度相当于变化部分B2的宽度d2，配置在变化部分B2的调制单位442负责对该重合部分中的上层部分进行曝光。即，该上层部分的曝光量由配置在变化部分B2的调制单位442的射出率Rs规定。

例如，在默认状态（即，将一组调制单位442的射出率的分布调整为矩形型的状态）下对基板W进行描画处理的情况下（参照图5），假设在基板W上形成的图案中，横跨带状区域的边界的图案在该边界部分处间断微小宽度（例如，1～2个像素大小的宽度），或者在该边界部分处缩颈成在微小宽度的范围内极端变窄（细）。推测出，在该情况下，在边界部分的比较微小的范围内，曝光量下降得比较大。在产生这种曝光不均匀的情况下，若将一组调制单位442的射出率的分布调整为阶梯型（更具体来说，对各调制单位442的射出率进行调整，以使得一组调制单位442在排列方向上的位置与射出率的关系与阶梯型的射出率函数一致），则从配置在变化部分B2的调制单位442照射的描画光追加照射至边界部分，由此，能够使边界部分的曝光量增加。其结果为，消除边界部分的图案的间断等。像这样，当产生在边界部分的比较微小的范围内曝光量变化较大的曝光不均匀时，通过将射出率函数的形状从矩形型改变成阶梯型，能够有效地缓解该曝光不均匀。

＜梯形型＞

图8、图9是表示作为第三形状类型的“梯形型”的射出率函数的图。另外，图10是用于说明梯形型的射出率函数与带状区域之间的关系的图。

梯形型的射出率函数为所谓的“梯形函数”，其中，射出率恒定的中央部分C1的两端的下降沿为倾斜状的边沿。具体来说，梯形型的射出率函数由以下的部分构成：射出率以最大射出率Rf恒定地推移的中中央部分C1；分别与中央部分C1的两端部相连，并且射出率呈倾斜状变化的变化部分C2；与变化部分C2的另一端部相连，并且射出率以0恒定地推移的端部部分C0。其中，在此也同样地，中央部分C1的中心位置与沿着调制单位442的排列方向的中心位置Q一致。

在梯形型的射出率函数中，沿着一侧变化部分C2的宽度方向的中心位置P2与沿着另一侧变化部分C2的宽度方向的中心位置P2之间的距离d3，与基准宽度T一致。即，梯形型的射出率函数的有效宽度d仅比基准宽度T大变化部分C2的宽度d2的大小。因此，梯形型的射出率函数的有效宽度d为比副扫描方向上的移动距离大相当于变化部分C2的宽度d2的大小的描画宽度M。

因此，在将一组调制单位442的射出率的分布调整为梯形型的情况下，如图10所示，通过各主扫描来描画的带状区域，在其端部与通过之前的主扫描来描画的带状区域重合。并且，该重合部分的宽度相当于变化部分C2的宽度d2，隔着中央部分C1而配置在一侧的变化部分C2的调制单位442负责对该重合部分中的下层部分进行曝光，配置在另一侧的变化部分C2的调制单位442负责对上层部分进行曝光。

例如，在默认状态下对基板W进行描画处理的情况下（参照图5），假设在基板W上形成的图案中，横跨带状区域的边界的图案在该带状区域的边界部分处在比较大的宽度（例如，20个像素左右的宽度）范围内变得比较细（或粗）。推测出，在该情况下，在边界部分的比较大的范围内，曝光量下降得比较平缓（或，增加得比较平缓）。在产生这种曝光不均匀的情况下，若将一组调制单位442的射出率的分布调节为梯形型（更具体来说，对各调制单位442的射出率进行调整，以使得一组调制单位442在排列方向上的位置与射出率的关系和梯形型的射出率函数一致），则通过使从配置于变化部分C2的调制单位442照射的描画光重合，来对边界部分进行描画，由此，能够对边界部分的曝光量进行微调。其结果为，消除边界部分的图案的线宽的变化等。像这样，当产生在边界部分的比较大的范围内曝光量变化平缓的曝光不均匀时，通过将射出率函数的形状从矩形型改变成梯形型，能够有效地缓解该曝光不均匀。

＜2-2.形状登记部800＞

描画装置1具有功能部（形状登记部）800，该功能部800从操作者接受对射出率函数的形状进行的登记。针对形状登记部800，一边参照图11，一边进行说明。图11是表示与该功能部相关的结构的框图。

形状登记部800具有接受部801、登记部802。在控制部80中，CPU81按照程序P所记述的顺序进行运算处理，由此实现上述各部分。

接受部801将后述的接受画面9显示在显示部87上，并且，经由该接受画面9接受来自操作者的对射出率函数的形状的登记。

登记部802将操作者经由接受画面9登记的射出率函数的形状与描画处理的处理条件相对应地保存在存储于存储装置84内的数据库D内。具体来说，描画处理的处理条件是指，例如，感光材料的种类、在进行描画处理时光学单元40相对于基板W移动的速度（在此，为载物台10的移动速度）、基板W的尺寸、基板W的种类等。但是，与处理条件对应地存储所登记的射出率函数的形状的方式不限于此。例如，登记部802可以与用于确定处理条件的信息（具体来说，例如，描述了处理条件的方法（recipe）的识别信息（例如，方法编号））对应地将该射出率函数的形状存储在存储装置84内，还可以直接将该射出率函数的形状写入该方法。在后者的情况下，射出率函数的形状作为方法信息之一来被保存。

＜2-3.接受画面9＞

一边参照图12～图14，一边针对接受画面9的结构进行说明。图12～图14分别示意性地表示接受画面9的结构例。特别是，在图12中，例示了在选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型的情况下的接受画面9。另外，在图13、图14中，例示了在选择梯形型来作为射出率函数的形状类型的情况下的接受画面9。

接受画面9构成为包括形状类型选择区域91、阶梯型的输入项目区域92、梯形型的输入项目区域93、形状显示区域94、登记图标95。

＜形状类型选择区域91＞

在形状类型选择区域91中，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作。

具体来说，在形状类型选择区域91一览显示多个形状类型候补。另外，一览显示的形状类型的名称部分为选择该形状类型的图标。在此，上述的“阶梯型”（参照图6）和“梯形型”（参照图8、图9）作为形状类型候补，在形状类型选择区域91显示了接受对阶梯型的选择的第一图标911和接受对梯形型的选择的第二图标912。

操作者通过操作第一图标911，能够选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型。另外，通过操作第二图标912，能够选择梯形型来作为射出率函数的形状类型。

＜阶梯型的输入项目区域92＞

在阶梯型的输入项目区域92显示与阶梯型的射出率函数相关的一个以上的输入项目，接受针对各输入项目的输入操作。在此，变化部分B2的宽度d2和变化部分B2的射出率Rs为与阶梯型的射出率函数相关的输入项目（参照图6）。

具体来说，在阶梯型的输入项目区域92显示多个图标921、922，接受对在描画处理中使带状区域重合的线数（其中，一条线意味着宽度为一个像素大小的线）的选择。操作者通过对显示了期望的线数的图标进行操作，能够指定使带状区域重合的线数。如上所述，带状区域彼此重合的宽度，相当于阶梯型的射出率函数中的变化部分B2的宽度d2。即，通过指定重合的线数，来指定阶梯型的射出率函数的变化部分B2的宽度d2。

在此，利用操作者能够直观地理解的“重合的线数”的名称来接受对变化部分B2的宽度d2的指定，由此提高操作的易读性。另外，在阶梯型的射出率函数中，若重合的线数变得过大，则难以确保带状区域的边界部分的曝光量的均匀性，因此，在此，不由操作者输入重合的线数，而是构成为只能够在规定线数以下（优选地，在两条以下）的范围内进行选择，由此避免上述情况。

另外，在阶梯型的输入项目区域92显示用于接受所输入的变化部分B2的射出率Rs的输入框923。但是，只能够向输入框923输入在最大射出率Rf以下并且大于0的范围的值。操作者通过向输入框923输入在容许的范围内的任意的值，能够指定阶梯型的射出率函数的变化部分B2的射出率Rs。

＜梯形型的输入项目区域93＞

在梯形型的输入项目区域93显示与梯形型的射出率函数相关的一个以上的输入项目，以接受针对各输入项目的输入操作。在此，在变化部分C2内的一个以上的代表位置各自的射出率为与梯形型的射出率函数相关的输入项目。但是，优选地，代表位置为等间距地划分变化部分C2的位置。另外，优选地，代表位置的个数在三个以下。在图示的例子中，将变化部分C2四等分的三个位置P1、P2、P3作为代表位置。

具体来说，在梯形型的输入项目区域93显示用于接受所输入的代表位置P1、P2、P3各自的射出率的输入框931、932、933。但是，只能够向各输入框931、932、933内输入在最大射出率Rf以下并且在0以上的范围内的值。另外，向输入正中间的代表位置（第二代表位置）P2的射出率的第二输入框932只能够输入特定的值，该特定的值是指，向输入端部部分C0一侧的代表位置（第一代表位置）P1的射出率的第一输入框931输入的输入值以上的值。另外，向输入中央部分C1一侧的代表位置（第三代表位置）P3的射出率的第三输入框933只能输入向第二输入框932输入的输入值以上的值。操作者通过向各输入框931、932、933输入在容许的范围内的任意的值，能够指定梯形型的射出率函数的变化部分C2的变化的形式（即，变化率）。其中，在梯形型的射出率函数中，两个变化部分C2为彼此对称的形状。因此，若规定一边的变化部分C2的变化形式，则也唯一地规定了另一边的变化部分C2的变化形式。

例如，如图13所示，操作者通过指定第一代表位置P1的射出率为25%，指定第二代表位置P2的射出率为50%，指定第三代表位置P3的射出率为75%，能够指定变化部分C3的变化量恒定的射出率函数（参照图8）。另外，例如，如图14所示，操作者通过指定第一代表位置P1的射出率为10%，指定第二代表位置P2的射出率为50%，指定第三代表位置P3的射出率为80%，能够指定变化部分C3的变化量在中途发生变化而呈S字状的射出率函数（参照图9）。如上所述，在描画处理中，通过使从配置于变化部分C2的调制单位442照射的描画光重合，来对带状区域的边界部分进行描画。因此，通过改变变化部分C3的变化形式，能够对边界部分的曝光量进行微调。特别是，若将变化部分C3设为S字状，则射出率在整个射出率函数中相对较平滑地变化，因此，边界部分的曝光量的变化也变得平滑，在大多情况下，特别有效地缓解曝光不均匀。若将使变化部分C2四等分的三个位置P1、P2、P3作为代表位置，则能够简单并且适当地规定这种S字状的变化部分C3。

在此，就变化部分C2的宽度d2而言，不是由操作者来指定，而是将其固定为事先规定的值。在梯形型的射出率函数中也同样地，若重合的线数过大，则难以确保带状区域的边界部分的曝光量的均匀性，因此，在此，不由操作者输入重合的线数，而是将其固定为规定线数（优选地，例如，20条线左右），由此避免这种情况。

＜形状显示区域94＞

在形状显示区域94示意性地显示根据从形状类型选择区域91及各输入项目区域92、93输入的信息来规定的射出率函数的一部分或整体。特别是，由于输入项目与变化部分B2、C2相关联，所以优选地，如图所示，在形状显示区域94中放大显示射出率函数的变化部分B2、C2。

操作者观察形状显示区域94所显示的射出率函数，确认该射出率函数是否为期望的形状，根据需要，能够改变输入值等，以使射出率函数变为期望的形状。

＜登记图标95＞

登记图标95为接受从形状类型选择区域91及各输入项目区域92、93输入的信息的登记的图标。操作者通过操作登记图标95，能够登记从形状类型选择区域91及各输入项目区域92、93输入的信息。

＜2-4.处理的流程＞

在描画装置1中，操作者能够与描画处理的处理条件对应地登记任意的形状的射出率函数。如上所述，在描画装置1中，在默认状态下，一组调制单位442的射出率的分布被调整为矩形型。即，从空间光调制器441射出的描画光的沿着长度方向的光量分布被调整为均匀的状态。例如，操作者确认在默认状态下进行描画处理而获得的曝光结果，在带状区域的边界部分产生曝光不均匀的情况下，操作者能够与处理条件对应地登记能够缓解曝光不均匀的射出率函数的形状。一边参照图15，一边针对与射出率函数的形状的登记相关的一连串的处理的流程进行说明。图15是表示该处理的流程的图。

当接受来自操作者的开始登记射出率函数的形状的意思的指示时，接受部801使显示部87显示接受画面9（步骤S101）。

若显示接受画面9，则操作者从在形状类型选择区域91一览显示的多个形状类型候补中，选择射出率函数的形状类型。例如，在成为对象的处理条件下，在默认状态下进行了描画处理的情况下的曝光结果中，若产生在边界部分的比较微小的范围内曝光量变化较大的曝光不均匀，则操作者选择阶梯型即可。另外，在该曝光结果中，若产生在边界部分的比较大的范围内曝光量变动平缓的曝光不均匀，则选择梯形型即可。若接受部801从操作者接受形状类型的选择（在步骤S102中判断为“是”），则接着，就所选择的形状类型接受对各输入项目进行的输入操作。

在选择了阶梯型的情况下，操作者输入阶梯型的输入项目区域92所显示的各输入项目。另外，在选择了梯形型的情况下，操作者输入梯形型的输入项目区域93所显示的各输入项目。若接受部801从操作者接受所输入的各输入项目（在步骤S103中判断为“是”），则在形状显示区域94上显示根据该所输入的信息而规定的射出率函数（步骤S104）。

例如，在成为对象的处理条件下，操作者根据在默认状态下进行了描画处理的情况下的曝光结果中在边界部分产生的曝光不均匀的状态等，推断能够缓解曝光不均匀的形状的射出率函数的形状，并将该形状作为目标形状，观察形状显示区域94所显示的射出率函数，确认该射出率函数是否为目标形状。然后，根据需要，对各输入项目的输入值进行修正等。然后，若能够确认获得了目标形状，则操作登记图标95。若接受部801接受操作者对登记图标95进行的操作（在步骤S105中判断为“是”），则将该输入的信息通知给登记部802。

若登记部802从接受部801接受信息，则将该信息登记到数据库D（步骤S106）。具体来说，与事先由操作者指定的成为对象的处理条件或用于确定成为对象的处理条件的信息（例如，方法编号）对应地，将操作者所选择的形状及针对各输入项目的输入信息登记到数据库D。由此，与描画处理的处理条件对应地登记规定一个射出率函数的形状的信息。但是，并不一定需要以数据库D的形式登记该信息，例如，还可以通过向成为对象的处理条件的方法写入，来登记该信息。

＜3.描画装置1的动作＞

一边参照图16，一边针对在描画装置1中对基板W执行的一连串的处理的整体流程进行说明。图16是表示该处理的流程的图。在下面说明的一连串的动作在控制部80的控制下进行。

但是，在进行在下面说明的一连串的动作之前，控制部80从存储装置84等读取描述处理条件的方法，根据方法所指定的处理条件，来调整各部分的参数等。

此时，控制部80从存储在存储装置84内的数据库D等中，读取与由该方法指定的处理条件（或，该方法的方法编号）等对应的信息（即，规定射出率函数的形状的信息）。在该信息记录在方法内的情况下，从方法读取该信息。然后，射出率调整部400根据由该信息规定的射出率函数，对两个光学单元40分别具有的空间光调制器441的一组调制单位442的各自的射出率进行调整。具体来说，射出率调整部400对该一组调制单位442的各自的射出率进行调整，以使得各空间光调制器441的一组调制单位442在排列方向上的位置与射出率之间的关系和根据该信息来规定的射出率函数一致。在所登记的射出率函数的形状类型为阶梯型或梯形型的情况下，从空间光调制器441射出的描画光的沿着长度方向的光量的分布被调整为不均匀的状态（即，使得能够在端部形成比中央部的光量小的部分）。

由此，将从空间光调制器441射出的描画光的沿着长度方向的光量的分布调整为，在该处理条件下能够适当地缓解曝光不均匀的光量分布。即，形状登记部800及射出率调整部400起到调整描画光的沿着长度方向的光量分布的调整部100（参照图11）的作用。当该调整结束时，开始对基板W进行处理。

首先，搬运装置60从载置于盒体载置部104的盒体C中取出未处理基板W，并搬入描画装置1（步骤S1）。

接着，搬运装置60将搬入的基板W搬入到预对位部70，在预对位部70，对该基板W进行预对位处理（步骤S2）。例如，利用传感器检测载置于载置台的基板W的切口部的位置，并且以使该切口部的位置旋转到规定的位置的方式使载置台旋转，由此进行预对位处理。由此，在大致对准规定的旋转位置的状态下放置载置于载置台的基板W。

接着，搬运装置60从预对位部70搬出预对位处理完的基板W，将该基板W载置于载物台10（步骤S3）。当将基板W载置于载物台10的上表面时，载物台10吸附保持基板W。

当处于载物台10吸附保持基板W的状态时，接着，精确地进行对位的处理（精密对位）（步骤S4），以使该基板W位于恰当的位置。具体来说，首先，载物台驱动机构20使载物台10移动至拍摄部50的下方位置。若载物台10配置于拍摄部50的下方，则接着，拍摄部50对基板W上的对位标记进行拍摄，获取该拍摄数据。接着，控制部80对由拍摄部50获取的拍摄数据进行图像分析，以检测对位标记的位置，并基于该检测位置，计算基板W相对于恰当位置的偏离量。若计算偏离量，则载物台驱动机构20使载物台10仅移动该计算的偏离量。由此，来进行使基板W位于恰当位置的对位。

当基板W放置到恰当位置之后，接着，进行图案的描画处理（步骤S5）。一边参照图17，一边针对描画处理进行说明。图17是用于说明描画处理的图。

在控制部80的控制下，载物台驱动机构20使载置于载物台10的基板W相对于光学单元40、40移动，并且从每个光学单元40、40向基板W的上表面照射进行了空间调制的光，由此进行描画处理。

具体来说，首先，载物台驱动机构20通过使配置在拍摄部50的下方位置的载物台10沿着主扫描方向（Y轴方向）向＋Y方向移动，来使基板W相对于光学单元40、40沿着主扫描方向相对地移动（主扫描）。从基板W的角度来看，各光学单元40沿着主扫描方向朝向-Y方向横越基板W（箭头AR11）。在进行主扫描的期间内，各光学单元40朝向基板W断续地照射基于图案数据PD形成了空间调制的描画光（即，反复地向基板W的表面持续地投射脉冲光）。即，各光学单元40一边断续地照射描画光，一边沿着主扫描方向横越基板W，其中，描画光包括与沿着副扫描方向的多个像素相对应的进行过空间调制的光。因此，若光学单元40沿着主扫描方向横越一次基板W，则在一条带状区域（沿着主扫描方向延伸并且沿着副扫描方向的宽度相当于描画宽度M的区域）描画图案组。在此，由于两个光学单元40同时横越基板W，所以通过一次主扫描，能够在两条带状区域上分别描画图案组。

当一次主扫描结束时，载物台驱动机构20通过使载物台10沿着副扫描方向（X轴方向）朝向-X方向仅移动规定的距离，来使基板W相对于光学单元40、40沿着副査方向移动（副扫描）。从基板W的角度来看，各光学单元40沿着副扫描方向朝向＋X方向仅移动规定的距离（箭头AR12）。

当副扫描结束时，再次进行主扫描。即，载物台驱动机构20通过使载物台10沿着主扫描方向朝向-Y方向移动，来使基板W相对于光学单元40、40沿着主扫描方向移动。从基板W的角度来看，各光学单元40沿着主扫描方向朝向＋Y方向移动，横越基板W上的通过之前的主扫描进行描画的带状区域的旁边（箭头AR13）。在此也同样地，各光学单元40一边断续地照射基于图案数据PD形成了空间调制的描画光，一边沿着主扫描方向横越基板W。由此，在通过之前的主扫描进行描画的带状区域的旁边的带状区域内，描画图案组。其中，如上所述，在射出率函数的有效宽度d与基准宽度T一致的情况下，各带状区域的端部与通过之前的主扫描进行描画的带状区域彼此紧密相邻（参照图5）。另外，在射出率函数的有效宽度d大于基准宽度T的情况下，各带状区域的端部与通过之前的主扫描进行描画的带状区域重合（参照图7、图10）。

此后，同样地，反复地进行主扫描和副扫描，在描画对象区域的整个区域描画图案之后，描画处理结束。

再次参照图16。若描画处理结束，则搬运装置60搬出处理完的基板W（步骤S6）。由此，对该基板W进行的一连串的处理结束。

＜4.效果＞

根据上述的实施方式，通过从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的简单的选择操作，来对各调制单位442的射出率进行调整，以使得一组调制单位442的射出率的分布与该选择的形状类型的射出率函数一致。由此，调整描画光的沿着长度方向的光量分布。因此，操作者能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整作业。

特别是，在上述的实施方式中，多个形状类型候补包括阶梯型。通过选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型，能够在例如产生在边界部分的比较微小的范围内曝光量变化较大的曝光不均匀的情况下，有效地缓解该曝光不均匀。因此，在产生例如这种曝光不均匀的情况下，操作者能够通过选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型，有效地缓解该曝光不均匀。

特别是，在上述的实施方式中，多个形状类型候补包括梯形型。通过选择梯形型来作为射出率函数的形状类型，能够在例如产生在边界部分的比较大的范围内曝光量变化得比较平缓的曝光不均匀的情况下，有效地缓解该曝光不均匀。因此，在产生例如这种曝光不均匀的情况下，操作者能够通过选择梯形型来作为射出率函数的形状类型，有效地缓解该曝光不均匀。

另外，根据上述的实施方式，操作者能够针对射出率函数的各形状类型，进行输入项目的指定。由此，对射出率函数的形状进行微调，以能够适当地缓解曝光不均匀。具体来说，在选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型的情况下，操作者能够进一步指定变化部分的宽度。由此，例如，能够对重合部分的宽度进行微调，从而能够适当地缓解曝光不均匀。另外，在选择阶梯型来作为射出率函数的形状类型的情况下，操作者能够进一步指定变化部分的射出率。由此，例如，能够对重合部分的描画光的光量进行微调，从而能够适当地缓解曝光不均匀。另外，在选择梯形型来作为射出率函数的形状类型的情况下，操作者能够进一步指定代表位置的射出率。由此，例如，能够对重合部分的描画光的光量进行微调，从而能够适当地缓解曝光不均匀。

另外，根据上述的实施方式，显示一览显示了多个形状类型候补的接受画面9，通过该接受画面9，接受选择操作。因此，操作者能够特别简单地进行选择多个形状类型候补中的某一个的选择操作。

另外，根据上述的实施方式，与描画处理的处理条件相对应地登记接受部801从操作者接受的信息。因此，针对相同的处理条件，即使操作者不重新进行选择射出率函数的形状类型的选择操作，也能够将描画光的沿着长度方向的光量分布调整为能够缓解边界部分的曝光不均匀的适当的形状。

＜5.变形例＞

在上述的实施方式中，在射出率函数的形状类型为梯形型的情况下，如上所述，隔着中央部分C1而配置在一侧的变化部分C2的调制单位442负责对带状区域重合的部分中的下层部分进行曝光，配置在另一侧的变化部分C2的调制单位442负责对上层部分进行曝光。因此，如图18所示，当在接受画面9中选择梯形型来作为射出率函数的形状类型时，可以在形状显示区域94重合显示一边的变化部分C2（实线）和另一边的变化部分C2（虚线）。另外，还可以显示对该一边的变化部分C2和另一边的变化部分C2进行加法运算而得到的函数。根据这些结构，能够直观地掌握提供给带状区域重合的部分的光量，所以操作者能够恰当地决定各代表位置的射出率的恰当值（即，变化部分C2变化的形式）。

另外，与上述的实施方式的阶梯型的射出率函数相关的输入项目或与梯形型的射出率函数相关的输入项目不限于上述的输入项目。例如，除了代表位置的射出率以外（或取代代表位置的射出率），还可以追加变化部分C2的宽度d2来作为与梯形型的射出率函数相关的输入项目。另外，并不一定需要将代表位置固定在等间距地划分变化部分C2的位置，还可以追加指定代表位置的项目，来作为输入项目。另外，还可以构成为操作者能够随意地指定代表位置的个数。

另外，并不一定需要设置输入项目，可以构成为仅接受形状类型的选择操作。

另外，在上述的实施方式中，作为形状类型候补，例示了阶梯型和矩形型，但是除了这些以外（或取代这些），还可以包括其它的形状类型（例如，正态分布型的形状类型等）。

另外，优选地，射出率调整部400在规定的时间点对各空间光调制器441所具有的一组调制单位442进行校准，以确保在各调制单位442实现期望的射出率。优选例如处理条件被变更的时间点、或进行上一次校准之后对规定个数的基板W进行了处理的时间点、或从上一次校准经过了规定的时间的时间点，来作为进行校准的时间点。

另外，在上述的实施方式中，采用衍射光栅型的空间光调制器来作为空间光调制器441，但是，例如，可以利用如反射镜那样调制单位被排列成一维的空间光调制器等。

Claims (16)

1.一种描画装置，其通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其特征在于，

具有：

光学单元，其一边射出剖面呈带状的描画光，一边相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动，

调整部，其调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布；

所述光学单元具有：

光源部，其射出剖面呈带状的光，

空间光调制部，其具有排列成一列的多个调制单位，所述空间光调制部使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与多个所述调制单位的排列方向一致；

所述调整部具有：

接受部，其接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比，

射出率调整部，其根据所述接受部接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调整。

2.如权利要求1所述的描画装置，其特征在于，

多个所述形状类型候补包括阶梯型，

所述阶梯型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈阶梯状地变化的变化部分。

3.如权利要求2所述的描画装置，其特征在于，

在选择了所述阶梯型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分的宽度进行的指定。

4.如权利要求2或3所述的描画装置，其特征在于，

在选择了所述阶梯型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分的所述射出率进行的指定。

5.如权利要求1～3中任一项所述的描画装置，其特征在于，

多个所述形状类型候补包括梯形型，

所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈倾斜状地变化的变化部分。

6.如权利要求5所述的描画装置，其特征在于，

在选择了所述梯形型的情况下，所述接受部接受对所述变化部分内的一个以上代表位置的各自的所述射出率进行的指定。

7.如权利要求1～3中任一项所述的描画装置，其特征在于，

所述接受部在显示装置上显示接受画面，并且通过所述接受画面来接受所述选择操作，其中，在所述接受画面上一览显示了多个所述形状类型候补。

8.如权利要求1～3中任一项所述的描画装置，其特征在于，

所述调整部还具有登记部，所述登记部与在所述基板上描画图案的处理的处理条件相对应地登记所述接受部所接受的信息。

9.一种描画方法，通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其特征在于，

包括：

（a）工序，一边从光学单元射出剖面呈带状的描画光，一边使所述光学单元相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动，

（b）工序，调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布；

所述（a）工序包括：

（a1）工序，从光源部射出剖面呈带状的光，

（a2）工序，使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与排列成一列的多个调制单位的排列方向一致；

所述（b）工序包括：

（b1）工序，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比，

（b2）工序，按照在所述（b1）工序所接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调整。

10.如权利要求9所述的描画方法，其特征在于，

多个所述形状类型候补包括阶梯型，

所述阶梯型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈阶梯状地变化的变化部分。

11.如权利要求10所述的描画方法，其特征在于，

所述（b）工序还包括如下工序：在所述（b1）工序中选择了所述阶梯型的情况下，接受对所述变化部分的宽度进行的指定。

12.如权利要求10或11所述的描画方法，其特征在于，

所述（b）工序还包括如下工序：在所述（b1）工序中选择了所述阶梯型的情况下，接受对所述变化部分的所述射出率进行的指定。

13.如权利要求9～11中任一项所述的描画方法，其特征在于，

多个所述形状类型候补包括梯形型，

所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和与所述中央部分相连且所述射出率呈倾斜状地变化的变化部分。

14.如权利要求13所述的描画方法，其特征在于，

所述（b）工序还包括如下工序：在所述（b1）工序中选择了所述梯形型的情况下，接受对所述变化部分内的一个以上的代表位置的各自的所述射出率进行的指定。

15.如权利要求9～11中任一项所述的描画方法，其特征在于，

在所述（b1）工序中，在显示装置上显示接受画面，并且通过所述接受输入画面来接受所述选择操作，其中，在所述接受画面上一览显示了多个所述形状类型候补。

16.如权利要求9～11中任一项所述的描画方法，其特征在于，

还包括（c）工序，在该（c）工序中，与在所述基板上描画图案的处理的处理条件相对应地登记在所述（b）工序中接受的信息。

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