CN103562798B - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

提供一种难以产生图像缺失的电子照相感光构件，以及具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。为此，电子照相感光构件的表面包括多个凹部和除凹部以外的部分，各凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm；当在电子照相感光构件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，500μm×500μm正方形区域中凹部的面积为10000至90000μm2，除凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。
背景技术
将如充电和清洁等的电的外力和机械的外力施加至电子照相感光构件的表面。因此，要求电子照相感光构件对这些外力的耐久性(如耐磨耗性)。
为了满足该要求，在相关领域中使用例如在电子照相感光构件的表面层中使用耐磨耗性高的树脂(如固化性树脂)的改进技术。
另一方面，由提高电子照相感光构件表面的耐磨耗性引起的问题的实例包括图像缺失。认为图像缺失通过如下引起：通过将电子照相感光构件表面充电产生的氧化性气体如臭氧和氮氧化物使电子照相感光构件的表面层用材料劣化，或者由于水分吸附引起的电子照相感光构件表面的低电阻化。电子照相感光构件表面的耐磨耗性越高，越难以恢复电子照相感光构件的表面(除去引起图像缺失的物质如劣化材料和吸附的水分)，更可能产生图像缺失。
作为图像缺失的改进技术，专利文献1公开了通过干式喷射(dry blasting)或湿式珩磨(wet honing)在电子照相感光构件表面上形成浅凹状凹部的技术。根据专利文献1，在电子照相感光构件表面上设置多个浅凹状凹部；由此，从初始阶段至约5000张可抑制图像缺失。
专利文献2公开了抑制图像缺失的技术，其中在电子照相感光构件表面上设置基于每100μm×100μm正方形为76个以上且1,000个以下的具有开口部平均长径为不小于3.0μm且不大于14.0μm的凹部，从而即使在高温高湿环境下也保持从初始阶段至约50000张的高的点再现性。
专利文献3公开了具有图案化表面的成像构件。
引文列表
专利文献
专利文献1：日本专利3938209
专利文献2：日本专利申请特开2007-233355
专利文献3：日本专利申请特开2011-22578
发明内容
发明要解决的问题
然而，专利文献1中公开的技术仅抑制相对初始阶段时的图像缺失。另外，在充电设备附近显著产生的图像缺失方面的技术存在改进余地。此外，在高温高湿环境下电子照相设备放置数天的情况下经常产生的电子照相设备启动后即刻的图像缺失方面的技术存在改进余地。
专利文献2中公开的技术在如下方面也存在改进余地：在充电设备附近显著产生的图像缺失，和在高温高湿环境下电子照相设备放置数天的情况下经常产生的电子照相设备启动后即刻的图像缺失。
即使通过使用专利文献3中公开的技术，也没有获得抑制如下方面的充分效果：在充电设备附近产生的图像缺失，和在高温高湿环境下电子照相设备放置数天的情况下经常产生的电子照相设备启动后即刻的图像缺失。
本发明的目的在于提供难以产生图像缺失的电子照相感光构件，以及具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
用于解决问题的方案
本发明为包括支承体和在支承体上形成的感光层的电子照相感光构件，其中电子照相感光构件的表面包括多个凹部和除凹部以外的部分，各凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm，当在电子照相感光构件表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，500μm×500μm正方形区域 中的凹部的面积为10000至90000μm2，除凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2。
此外，本发明为包括支承体和在支承体上形成的感光层的电子照相感光构件，其中电子照相感光构件的表面的至少与清洁构件的接触区域包括多个凹部和除凹部以外的部分，各凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm，当在与清洁构件的接触区域的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，500μm×500μm正方形区域中的凹部的面积为10000至90000μm2，除凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2。
此外，本发明为可拆卸地安装至电子照相设备主体的处理盒，其包括电子照相感光构件，以及具有与电子照相感光构件接触配置的清洁构件的清洁单元。
此外，本发明为电子照相设备，其包括：电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元、转印单元和具有与电子照相感光构件接触配置的清洁构件的清洁单元。
发明的效果
根据本发明，可提供难以产生图像缺失的电子照相感光构件，以及具有电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
参考附图，从以下示例性实施方案的描述，本发明的进一步将变得显而易见。
附图说明
[图1A和1B]图1A和1B为示意性示出基准面、平坦部和凹部等之间的关系的图。
[图2A、2B、2C、2D、2E、2F和2G]图2A、2B、2C、2D、2E、2F和2G为示出电子照相感光构件表面中的凹部的开口部形状的图。
[图3A、3B、3C、3D、3E、3F和3G]图3A、3B、3C、3D、3E、3F和3G为示出电子照相感光构件表面中的凹部的截面形状实例的图。
[图4]图4为示出电子照相感光构件表面上形成凹部的压接形状转印机器的实例的图。
[图5]图5为示出包括具有根据本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备实例的图。
[图6A、6B、6C和6D]图6A、6B、6C和6D为示出电子照相感光构件的生产例中使用的模具的图。
[图7]图7为示出拟合(fitting)实例的图。
[图8A和8B]图8A和8B为示出在电子照相感光构件的表面层附近的截面的观察结果的图。
[图9]图9为示出干式喷射设备实例的图。
[图10]图10为描述狭小部分的图。
具体实施方式
现将根据附图更详细描述本发明的优选实施方案。
本发明中，电子照相感光构件表面中平坦部的面积具有比专利文献1大的比例。在使用干式喷射或湿式珩磨在电子照相感光构件表面上设置浅凹状凹部的情况下，颗粒随机碰撞电子照相感光构件的表面。出于此原因，除凹部以外的部分中，平坦部的面积的比例极大地降低。
此外，本发明中，电子照相感光构件表面中平坦部的面积具有比专利文献3以及专利文献1中的大的比例。
此外，相对于专利文献2，本发明中，在电子照相感光构件表面中设置具有较大的开口部最长径(长轴径)的凹部，并且凹部的面积率更小。
本发明中，凹部的面积为当从上面观察电子照相感光构件表面时的凹部 的面积，其意指凹部的开口部的面积。平坦部和凸部以相同方式定义。
作为由本发明人研究的结果发现，如果具有大的开口部最长径的凹部(优选地，具有大的开口部最短径以及大的开口部最长径的凹部)在电子照相感光构件表面上疏松地配置，并且特别设置大的除凹部以外的部分的平坦部的面积，则显著改进图像缺失的抑制效果。
将具有大的开口部最长径的凹部疏松地配置。由此，适当地抑制清洁刮板的震动从而在电子照相感光构件表面和清洁刮板之间产生稳定的摩擦状态。此后，清洁刮板对凹部的压力变得相对较低，清洁刮板对除凹部以外的部分的压力变得相对较高。向其施加较高压力的除凹部以外的部分的部分中，平坦部的比例增加，其中容易充分恢复电子照相感光构件的表面。由此，容易除去附着至电子照相感光构件表面的图像缺失原因物质。本发明人认为，此类机制显著改进图像缺失的抑制效果。
具体地，在根据本发明的电子照相感光构件表面上，设置多个凹部，各凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm。下文中，在一些情况下多个具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm的凹部称作"特定凹部"。本发明中，当在电子照相感光构件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域(250000μm2的面积)(即，在电子照相感光构件表面上任何地方配置500μm×500μm正方形区域)时，在电子照相感光构件表面上设置特定凹部以使500μm×500μm正方形区域中特定凹部的面积为10000至90000μm2。本发明中，当清洁构件和电子照相感光构件表面之间接触区域的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域(250000μm2的面积)(即，在清洁构件和电子照相感光构件表面之间接触区域上的任何地方配置500μm×500μm正方形区域)时，在电子照相感光构件表面上设置特定凹部以使500μm×500μm正方形区域中特定凹部的面积为10000至90000μm2。在电子照相感光构件表面具有曲面(例如，在电子照相感光构件为圆筒状的情况下，电 子照相感光构件表面(周面)具有沿圆周方向弯曲的表面)的情况下，"在电子照相感光构件表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域(250000μm2的面积)"意指当将曲面校正为平面时，电子照相感光构件表面的任意位置中配置在平面中为正方形的区域(250000μm2的面积)。类似地，"在清洁构件和电子照相感光构件表面之间接触区域的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域(250000μm2的面积)"意指当将曲面校正为平面时，在清洁构件和电子照相感光构件表面之间接触区域的任意位置中配置在平面中为正方形的区域(250000μm2的面积)。稍后所述的10μm×10μm正方形区域以相同方式定义。
此外，除了特定凹部以外，在根据本发明的电子照相感光构件表面上还设置平坦部。本发明中，当在电子照相感光构件表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，在电子照相感光构件表面上设置平坦部以使500μm×500μm正方形区域中平坦部的面积为80000至240000μm2。
电子照相感光构件表面上的特定凹部和平坦部可使用显微镜如激光显微镜、光学显微镜、电子显微镜和原子力显微镜观察。
作为激光显微镜，可使用例如以下：由Keyence Corporation制造的超深度形状测量显微镜VK-8550、超深度形状测量显微镜VK-9000、超深度形状测量显微镜VK-9500和VK-X200；由Ryoka Systems Inc.制造的表面形状测量***Surface Explorer SX-520DR型；由Olympus Corporation制造的共聚焦扫描激光显微镜OLS3000；和由Lasertec Corporation制造的真彩色共聚焦显微镜OPTELICS C130。
作为光学显微镜，可使用例如以下：由Keyence Corporation制造的数字显微镜VHX-500、数字显微镜VHX-200；和由OMRON Corporation制造的3D数字显微镜VC-7700。
作为电子显微镜，可使用例如以下：由Keyence Corporation制造的3D真表面观察显微镜VE-9800、3D真表面观察显微镜VE-8800；由SII NanoTechnology Inc.制造的扫描型电子显微镜常规/可变压力SEM；和由SHIMADZU Corporation制造的扫描型电子显微镜SUPERSCAN SS-550。
作为原子力显微镜，可使用例如以下：由Keyence Corporation制造的纳米尺度混合显微镜(Hybrid Microscope)VN-8000；由SII NanoTechnology Inc.制造的扫描探针显微镜NanoNavi Station；和由SHIMADZU Corporation制造的扫描探针显微镜SPM-9600。
可以在视野内包括500μm×500μm正方形区域的倍率下观察500μm×500μm正方形区域和稍后所述的10μm×10μm正方形区域；或可以在较高倍率下部分观察正方形区域，可以使用软件连接多个部分图像。
将描述500μm×500μm正方形区域中的特定凹部和平坦部的确定(定义)。
首先，将电子照相感光构件的表面放大并通过显微镜观察。在电子照相感光构件的表面(周面)具有沿圆周方向弯曲的表面的情况下，例如在电子照相感光构件为圆筒状的情况下，提取曲面的截面轮廓，拟合曲线(如果电子照相感光构件为圆筒状则为圆弧)。图7示出拟合的实例。图7中所述的实例为电子照相感光构件为圆筒状的实例。图7中，实线701表示电子照相感光构件的表面(曲面)的截面轮廓，虚线702表示拟合截面轮廓701的曲线。将截面轮廓701校正以使曲线702变为直线，并将通过沿电子照相感光构件的长度方向(沿与圆周方向垂直相交的方向)延伸获得的直线获得的表面定义为基准面。在电子照相感光构件不是圆筒状的情况下，以与在电子照相感光构件为圆筒状的情况下相同的方式获得基准面。
将位于距离获得的基准面0.2μm下方的位置且平行于基准面的表面定义为第二基准面，位于距离基准面0.2μm上方的位置且平行于基准面的表面定义为第三基准面。500μm×500μm正方形区域中，***第二基准面和第三基准面之间的部分定义为正方形区域中的平坦部。位于第三基准面上方的部分定义为正方形区域中的凸部。位于第二基准面下方的部分定义为正方形区域中 的凹部。从第二基准面至凹部的最低点的距离定义为凹部的深度。沿着第二基准面的凹部的截面定义为凹部的开口部。在与开口部相交的线段中，最长线段的长度定义为凹部的开口部最长径。凹部中，如果由此确定的深度在0.5至5μm范围内且由此确定的开口部最长径在20μm至80μm范围内，则具有此类深度和此类开口部最长径的凹部相当于特定凹部。本发明中特定凹部的深度可在1至5μm范围内。***凹部的开口部的两条平行线之间的距离的距离定义为凹部的开口部最短径。本发明中特定凹部的开口部最短径优选范围为20μm至80μm。
图1A和图1B示意性示出基准面1-1、平坦部(***第二基准面1-2和第三基准面1-3之间的部分)、凹部1-4(特定凹部)和凸部1-5之间的关系。图1A和图1B为校正后的截面轮廓。
图2A至图2G示出特定凹部的开口部的形状实例(当特定凹部从上面观察时的形状)。图3A至图3G示出特定凹部的截面形状的实例。
特定凹部的开口部的形状实例如图2A至图2G中所示包括圆形、椭圆形、正方形、长方形、三角形、五边形和六边形。特定凹部的截面形状的实例如图3A至图3G中所示包括具有边的形状如三角形、四边形、多边形，用连续曲线形成的形状如波形，以及在三角形、四边形和多边形的具有边的形状的部分或全部转化成曲线的形状。
在电子照相感光构件表面上设置的多个特定凹部全部可以具有相同的形状、开口部最长径和深度，或可以具有不同的混合的形状、开口部最长径和深度。
特定凹部可以在电子照相感光构件的全部表面上设置，或者可以在电子照相感光构件表面的一部分上形成。在特定凹部在电子照相感光构件表面的一部分上形成的情况下，特定凹部可设置在至少与清洁构件的全部接触区域上。
本发明中，从提高除去图像缺失原因物质的性能的观点，电子照相感光构件表面上设置的平坦部可具有一定程度的面积，狭小的平坦部(狭小部分)的面积可小。具体地，在电子照相感光构件表面的任意位置中设置的500μm×500μm正方形区域中的平坦部中，不能配置10μm×10μm正方形区域的狭小部分的面积的比例可不大于30%，基于500μm×500μm正方形区域中平坦部的总面积。
图10为描述狭小部分的图。图10示出当从上面观察本发明中电子照相感光构件表面的一部分时的形状的实例。图10中，为了方便描述，示出全部除特定凹部以外的部分为平坦部的实例。图10示出电子照相感光构件表面的特定凹部1001，在电子照相感光构件表面的平坦部中配置的10μm×10μm正方形区域1002，和狭小部分1003(图中的实黑部分)。如由图中虚线画出的正方形所示，正方形区域1002可以沿平坦部中的任意方向配置。平坦部中不能沿任意方向配置正方形区域1002的部分为平坦部中的狭小部分1003。
从使除去图像缺失原因物质的性能均匀的观点，在电子照相感光构件表面中平坦部中狭小部分的面积的比例可一定程度地均匀。具体地，当在电子照相感光构件表面的任意50个位置中配置的500μm×500μm正方形区域中测量狭小部分的面积的比例时，50个测量值的标准偏差(狭小部分的标准偏差)可不大于5%。
<电子照相感光构件表面上的凹部的形成方法>
将具有对应于要形成的凹部的凸部的模具与电子照相感光构件表面压接从而转印形状。由此，可在电子照相感光构件表面上形成凹部。
图4示出在电子照相感光构件表面上形成凹部用的压接形状转印机器的实例。
根据图4中所示的压接形状转印机器，在要处理的电子照相感光构件4-1旋转的同时，模具4-2与电子照相感光构件的表面(周面)连续接触，并且施加 压力。由此，可在电子照相感光构件4-1的表面上形成凹部和平坦部。
加压构件4-3用材料的实例包括金属、金属氧化物、塑料和玻璃。这些中，从机械强度、尺寸精度和耐久性的观点，优选不锈钢(SUS)。在加压构件4-3的上面设置模具。通过加压构件4-3的底面侧上的支承构件(未示出)和加压***(未示出)，可将模具4-2在预定压力下与通过支承构件4-4支承的电子照相感光构件4-1的表面接触。支承构件4-4也可以在预定压力下按压加压构件4-3，或支承构件4-4和加压构件4-3可以彼此按压。
图4中所示的实例为加压构件4-3移动从而在电子照相感光构件4-1从动或驱动旋转的同时连续加工电子照相感光构件4-1的表面的实例。此外，将加压构件4-3固定和使支承构件4-4移动，或将支承构件4-4和加压构件4-3二者均移动。由此，电子照相感光构件4-1的表面可连续进行加工。
从有效的形状转印的观点，可加热模具4-2和电子照相感光构件4-1。
模具的实例包括由精细的表面加工金属和树脂膜制成的那些，由具有通过抗蚀剂图案化的表面的硅晶片等制成的那些，以及由分散有细颗粒的树脂膜和具有精细表面形状的树脂膜并且用金属涂布制成的那些。
从施加至电子照相感光构件的压力均匀的观点，可在模具和加压构件之间设置弹性体。
<电子照相感光构件的构成>
根据本发明的电子照相感光构件具有支承体和在支承体上形成的感光层。
电子照相感光构件的形状的实例包括圆筒状、带(环形带)状和片状。
感光层可以为在同一层中包含电荷输送物质和电荷产生物的单层型感光层，或可以为包含电荷产生物质的电荷产生层与包含电荷输送物质的电荷输送层分离的层压型(功能分离型)感光层。从电子照相特性的观点，优选层压型感光层。此外，层压型感光层可以为电荷产生层和电荷输送层从支承体 侧依次层压的顺层型感光层，或电荷输送层和电荷产生层从支承体侧依次层压的逆层型感光层。从电子照相特性的观点，优选顺层型感光层。电荷产生层也可以具有层压层构成，或电荷输送层可以具有层压层构成。
支承体可为显示导电性的支承体(导电性支承体)。支承体用材料的实例包括金属(合金)如铁、铜、金、银、铝、锌、钛、铅、镍、锡、锑、铟、铬、铝合金和不锈钢。也可使用具有通过使用铝、铝合金和氧化铟-氧化锡合金的真空蒸发形成的涂膜的金属支承体和塑料支承体。也可使用通过将导电性颗粒如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒和银颗粒含浸至塑料或纸中获得的支承体，和由导电性粘结剂树脂制成的支承体。
为了抑制由激光的散射引起的干涉条纹，支承体表面可以进行机械加工、表面粗糙化和氧化铝膜处理。
在支承体和稍后所述的底层或感光层(电荷产生层、电荷输送层)之间，为了抑制由激光的散射引起的干涉条纹和涂布支承体的划痕，可以设置导电层。
导电层可如下形成：将炭黑、导电性颜料和电阻控制颜料用粘结剂树脂分散从而获得导电层用涂布液，施涂获得的涂布液，并且将获得的涂膜干燥。此外，可以将通过加热、用紫外线照射和用放射线照射可固化聚合的化合物添加至导电层用涂布液。可使通过将导电性颜料和电阻控制颜料分散形成的导电层的表面粗糙化。
导电层的膜厚度优选0.2至40μm，更优选1至35μm，更优选5至30μm。
导电层用粘结剂树脂的实例包括如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯等的乙烯基化合物的聚合物，聚乙烯醇，聚乙烯醇缩醛，聚碳酸酯，聚酯，聚砜，聚苯醚，聚氨酯，纤维素树脂，酚醛树脂，三聚氰胺树脂，硅酮树脂，和环氧树脂。
导电性颜料和电阻控制颜料的实例包括如铝、锌、铜、铬、镍、银和不 锈钢等金属(合金)的颗粒，和具有用这些金属颗粒涂布的表面的塑料颗粒。此外，可使用如氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化锑、氧化铟、氧化铋、掺杂锡的氧化铟和掺杂锑或掺杂钽的氧化锡等的金属氧化物的颗粒。这些中之一可单独使用，或以其两种以上组合使用。在以其两种以上组合使用的情况下，那些可以仅仅混合，或可以作为固熔体使用或熔融使用。
在支承体或导电层和感光层(电荷产生层、电荷输送层)之间，为了改进感光层的粘合性，涂布性和从支承体的电荷注入性，并且保护感光层不被电击穿，可以设置具有阻挡功能或粘合功能的底层(中间层)。
底层可如下形成：将树脂(粘结剂树脂)在溶剂中溶解从而获得底层用涂布液，施涂获得的涂布液，并且将获得的涂膜干燥。
底层用树脂的实例包括聚乙烯醇、聚-N-乙烯基咪唑、聚氧乙烯、乙烯基纤维素、乙烯-丙烯酸共聚物、酪蛋白、聚酰胺、N-甲氧基甲基化6尼龙、共聚尼龙、胶和明胶。
底层的膜厚度优选0.05至7μm，更优选0.1至2μm。
感光层用电荷产生物质的实例包括吡喃鎓和噻喃鎓染料，具有各种中心金属和各种晶形(α、β、γ、ε和X型等)的酞菁颜料，蒽嵌蒽醌颜料，二苯并芘醌颜料，皮蒽酮颜料，如单偶氮、双偶氮和三偶氮等的偶氮颜料，靛蓝颜料，喹吖啶酮颜料，不对称喹啉菁(quinocyanine)颜料，和喹啉菁颜料。这些电荷产生物质中之一可以单独使用，或可以两种以上组合使用。
感光层用电荷输送物质的实例包括芘化合物、N-烷基咔唑化合物、腙化合物、N,N-二烷基苯胺化合物、二苯胺化合物、三苯胺化合物、三苯基甲烷化合物、吡唑啉化合物、苯乙烯基化合物和芪化合物。
在感光层为层压型感光层的情况下，电荷产生层可如下形成：电荷产生物质用粘结剂树脂和溶剂分散，将获得的电荷产生层用涂布液施涂，并且将获得的涂膜干燥。电荷产生层也可以为电荷产生物质的沉积膜。
电荷产生物质与粘结剂树脂的质量比可在1:0.3至1:4范围内。
分散方法的实例包括使用均化器、超声波分散机、球磨机、振动球磨机、砂磨机、超微磨碎机和辊磨机的方法。
电荷输送层可如下形成：将电荷输送物质和粘结剂树脂在溶剂中溶解从而获得电荷输送层用涂布液，将获得的涂布液施涂，并且将获得的涂膜干燥。在使用自身具有成膜性的电荷输送物质的情况下，也可在不使用粘结剂树脂下形成电荷输送层。
电荷产生层和电荷输送层用粘结剂树脂的实例包括如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯等乙烯基化合物的聚合物，聚乙烯醇，聚乙烯醇缩醛，聚碳酸酯，聚酯，聚砜，聚苯醚，聚氨酯，纤维素树脂，酚醛树脂，三聚氰胺树脂，硅酮树脂，和环氧树脂。
电荷产生层的膜厚度优选不大于5μm，更优选0.1至2μm。
电荷输送层的膜厚度优选5至50μm，更优选10至35μm。
从改进电子照相感光构件的耐久性的观点，电子照相感光构件的表面层可用交联有机高分子形成。
本发明中，例如，电荷产生层上的电荷输送层可作为电子照相感光构件的表面层用交联有机高分子形成。此外，用交联有机高分子形成的表面层可作为第二电荷输送层或保护层在电荷产生层上的电荷输送层上形成。用交联有机高分子形成的表面层需要具有膜强度与电荷输送能力的相容性。从此类的观点，表面层可使用电荷输送物质或导电性颗粒和交联聚合性单体/低聚物形成。
作为电荷输送物质，可使用上述电荷输送物质。交联聚合性单体/低聚物的实例包括具有如丙烯酰氧基和苯乙烯基的链聚合性官能团的化合物，和具有如羟基、烷氧基甲硅烷基和异氰酸酯基的逐次聚合性官能团的化合物。
从膜强度与电荷输送能力的相容性的观点，更优选使用在同一分子中具 有电荷输送性结构(优选地，空穴输送性结构)和丙烯酰氧基的化合物。
交联聚合性单体/低聚物的交联硬化方法的实例包括使用热、紫外线和放射线的方法。
用交联有机高分子形成的表面层的膜厚度优选0.1至30μm，更优选1至10μm。
可将添加剂添加至电子照相感光构件中的各层。添加剂的实例包括劣化防止剂如抗氧化剂和紫外线吸收剂，有机树脂颗粒如包含氟原子的树脂颗粒和丙烯酸类树脂颗粒，以及无机颗粒如二氧化硅、氧化钛和氧化铝。
<处理盒和电子照相设备的构成>
图5示出包括具有根据本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的实例。
图5中，根据本发明的圆筒状电子照相感光构件1围绕轴2沿箭头方向以预定圆周速度(处理速度)旋转驱动。电子照相感光构件1的表面在旋转期间通过充电单元3(一次充电单元：例如充电辊)以预定正或负电位均匀充电。接着，电子照相感光构件1的表面接受从曝光单元(图像曝光单元)(未示出)照射的曝光光(图像曝光光)4。由此，对应于目标图像信息的静电潜像在电子照相感光构件1的表面上形成。
本发明中，在使用利用放电的充电单元的情况下效果特别显著。
接着，将在电子照相感光构件1的表面上形成的静电潜像通过显影单元5中的调色剂(无定形调色剂或球形调色剂)显影(正规显影或反转显影)，从而形成调色剂图像。将在电子照相感光构件1的表面上形成的调色剂图像通过来自转印单元(例如转印辊)6的转印偏压转印至转印材料。此时，与电子照相感光构件1的旋转同步将转印材料P从转印材料进给单元(未示出)取出并供给至电子照相感光构件1和转印单元6之间(抵接部)。将来自偏压电源(未示出)的具有与带电调色剂的极性相反的极性的偏压施加至转印单元。
将转印有调色剂图像的转印材料P与电子照相感光构件表面分离，并且输送至定影单元8从而使调色剂图像定影。由此，将转印材料P作为图像形成物(打印件、复印件)打印出电子照相设备的外部。
调色剂图像转印后，将电子照相感光构件1的表面通过借助于具有与电子照相感光构件1的表面接触配置(抵接)的清洁构件(如清洁刮板)的清洁单元7除去附着物如转印残余调色剂而清洁。此外，将电子照相感光构件1的表面通过来自预曝光单元(未示出)的预曝光光(未示出)除电，并且重复用于图像形成。如图5中所示，在充电单元3为使用充电辊等的接触充电单元的情况下，不总是需要预曝光。
本发明中，在选自电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7的组件中，多个组件可以容纳在容器中并且一体化形成为处理盒。此外，处理盒可以可拆卸地安装至电子照相设备如复印机和激光束打印机的主体。图5中，将电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7一体化支承从而形成盒。使用导向单元10如电子照相设备主体中的导轨，将处理盒9可拆卸地安装至电子照相设备主体。
在电子照相设备为复印机或打印机的情况下，曝光光4为根据通过读取来自原稿的反射光或透射光或者通过传感器读取原稿获得的信号进行的通过用激光束扫描或者LED阵列或液晶快门阵列的驱动而照射的光。
实施例
下文中，使用具体实施例，将更详细描述本发明。实施例中，"份"意指"质量份"。以下电子照相感光构件简称为"感光构件"。所有以下实施例中，在电子照相感光构件表面上形成的凹部的开口部的形状为开口部最长径等同于开口部最短径的圆形。
(感光构件A-1的生产例)
使用直径为30.7mm和长度为370mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承 体)。
接着，将60份用氧化锡涂布的硫酸钡颗粒(商品名：Passtran PC1，由MitsuiMining&Smelting Co.,Ltd.制造)、15份氧化钛颗粒(商品名：TITANIX JR，由TaycaCorporation制造)、43份甲阶型酚醛树脂(商品名：PHENOLITE J-325，由DIC Corporation制造，固成分为70质量%)、0.015份硅油(商品名：SH28PA，由Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)、3.6份硅酮树脂颗粒(商品名：Tospearl120，由Momentive Performance MaterialsInc.制造)、50份2-甲氧基-1-丙醇和50份甲醇放入球磨机中，并且分散20小时从而制备导电层用涂布液。将导电层用涂布液通过浸渍涂布施涂至支承体上。将获得的涂膜在140℃下加热1小时以使其固化。由此，形成膜厚度为15μm的导电层。
接着，将10份共聚尼龙(商品名：由AMILAN CM8000,Toray Industries,Inc.制造)和30份甲氧基甲基化6尼龙树脂(商品名：TORESIN EF-30T，由Nagase ChemteXCorporation制造)在400份甲醇/200份正丁醇的混合溶剂中溶解从而制备底层用涂布液。将底层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层上。将获得的涂膜在100℃下干燥30分钟从而形成膜厚度为0.45μm的底层。
接着，将20份的在CuKα特性X射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为7.4°和28.2°处具有强峰的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)、0.2份由以下结构式(1)表示的杯芳烃化合物、10份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：S-LEC BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)和600份环己酮放入使用直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中，并且分散4小时。然后，添加700份乙酸乙酯从而制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液通过浸渍涂布施涂至底层上。将获得的涂膜在80℃下干燥15分钟从而形成膜厚度为0.17μm的电荷产生层。
接着，将70份由以下结构式(2)表示的化合物(电荷输送物质(空穴输送性化合物))和100份聚碳酸酯(商品名：Iupilon Z400，由Mitsubishi Engineering-PlasticsCorporation制造，双酚Z型聚碳酸酯)在600份单氯苯/200份二甲氧基甲烷的混合溶剂中溶解从而制备电荷输送层用涂布液。将电荷输送层用涂布液通过浸渍涂布施涂至电荷产生层上。将获得的涂膜在100℃下干燥30分钟从而形成膜厚度为15μm的电荷输送层。
接着，将20份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(商品名：ZEORORA H，由制造ZEONCorporation)/20份1-丙醇的混合溶剂通过聚四氟乙烯树脂过滤器(商品名：PF-040，由Advantec Toyo Kaisha,Ltd.制造)过滤。随后，将90份由以下结构式(3)表示的空穴输送性化合物、70份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷和70份1-丙醇添加至混合溶剂。将混合溶液通过聚四氟乙烯树脂过滤器(商品名：PF-020，由Advantec Toyo Kaisha,Ltd.制造)过滤从而制备第二电荷输送层(保 护层)用涂布液。将第二电荷输送层用涂布液通过浸渍涂布施涂至电荷输送层上。将获得的涂膜在大气中在50℃下干燥10分钟。随后，在氮气中，在支承体(要照射)以200rpm旋转的同时，将涂膜在加速电压为150kV和束电流为3.0mA的条件下用电子束照射1.6秒。测量此时电子束的吸收剂量，其为15kGy。随后，在氮气中，将涂膜通过经30秒从25℃升温至125℃加热。用电子束照射和随后加热期间的气氛中的氧浓度不大于15ppm。接着，将涂膜在大气中自然冷却至25℃，并且在大气中在100℃下加热30分钟。由此，形成膜厚度为5μm的第二电荷输送层(保护层)。
由此，生产在其表面上形成凹部前的圆筒状电子照相感光构件(凹部形成前的电子照相感光构件)。
通过模具压接形状转印的凹部的形成
具有图4中概述的构成的压接形状转印机器中，作为模具，设置具有图6A中概述的形状的模具(本实施例中，具有最长径(即当从上面观察模具上的凸部时的最长径；以下同样)Xm：50μm，距离(间隔)Y1：64μm，距离(间隔)Y2：77μm，高度H：2.0μm的圆拱形)。将生产的凹部形成前的电子照相感光构件进行表面加工。加工期间，控制电子照相感光构件和模具的温度以使电子照相感光构件表面的温度为110℃，并且将电子照相感光构件在3.0MPa的压力下按压加压构件的同时，将电子照相感光构件沿圆周方向旋转从而在电子照 相感光构件的全部表面(周面)上形成凹部。
由此，生产其表面上具有凹部的电子照相感光构件。该电子照相感光构件称作"感光构件A-1"。
电子照相感光构件表面的观察
将获得的电子照相感光构件(感光构件A-1)的表面通过使用50倍透镜的激光显微镜(由Keyence Corporation制造，商品名：VK-9500)放大观察，并如上所述评价在电子照相感光构件表面上设置的特定凹部和平坦部。观察期间，进行调整以使电子照相感光构件的长度方向不倾斜，将电子照相感光构件的圆弧的顶点沿圆周方向聚集。通过将放大观察的图像借助于图像连接应用连接成一个图像获得500μm×500μm正方形区域。此外，所得结果中，使用所附的图像分析软件，选择图像处理高度数据，通过中值滤波器过滤。
从所述观察，确定特定凹部的深度、开口部最长径和面积，平坦部的面积，和平坦部中狭小部分的面积的比例和标准偏差。结果示于表1中。
电子照相感光构件(感光构件A-1)的表面使用其它激光显微镜(由KeyenceCorporation制造，商品名：X-200)通过相同方式进行观察。获得与使用激光显微镜(由Keyence Corporation制造，商品名：VK-9500)获得的结果相同的结果。以下实施例中，电子照相感光构件(感光构件)的表面使用激光显微镜(由Keyence Corporation制造，商品名：VK-9500)和50倍透镜进行观察。
(感光构件A-2至A-4的生产例)
除了感光构件A-1的生产例中使用的模具通过表1中所示的模具代替以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-2"至"感光构件A-4"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-5的生产例)
除了使用直径为84mm和长度为370mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承体)，和使用表1中所示的模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的铝筒体和模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-5"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-6至A-22的生产例)
除了感光构件A-1的生产例中使用的模具通过表1中所示的模具代替以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-6"至"感光构件A-22"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-23的生产例)
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将通过将10份氧化铝颗粒(平均粒径：0.1μm，商品名：LS-231，由NipponLight Metal Company,Ltd.制造)与90份氯苯混合获得的混合溶液放入高压分散机(商品名：Microfluidizer M-110EH，由Microfluidics Corporation制造)中，在600kgf/cm2的压力下分散三次。此外，将分散的混合溶液通过聚四氟乙烯树脂过滤器(商品名：PF-040，由Advantec Toyo Kaisha,Ltd.制造)过滤从而制备分散液。
接着，将70份具有由以上结构式(2)表示的结构的化合物、100份聚碳酸 酯(商品名：Iupilon Z400，由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造)、200份分散液、400份单氯苯和200份二甲氧基甲烷混合，从而制备第二电荷输送层(保护层)用涂布液。将第二电荷输送层用涂布液喷涂至电荷输送层上，将获得的涂膜在130℃下干燥20分钟从而形成膜厚度为5μm的第二电荷输送层(保护层)。
因此，生产在凹部形成前的电子照相感光构件。
随后，除了使用表1中所示的模具作为模具以外以与感光构件A-1的生产例中相同的方式在凹部形成前的电子照相感光构件的全部表面(周面)上形成凹部。由此获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-23"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-24的生产例)
除了使用直径为24mm和长度为260.5mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承体)，和使用表1中所示的模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的铝筒体和模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-24"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-25的生产例)
除了感光构件A-1的生产例中使用的模具通过表1中所示的模具代替以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-25"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件 的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-26的生产例)
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，使用表1中所示的模具作为模具，在电荷输送层的表面上形成凹部。然后，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式形成膜厚度为2μm的第二电荷输送层(保护层)。
因此，生产其表面上具有凹部的电子照相感光构件。该电子照相感光构件称作"感光构件A-26"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-27的生产例)
除了使用直径为30mm和长度为260.5mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承体)，和使用表1中所示的模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的铝筒体和模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-27"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-28至A-30的生产例)
除了使用表1中所示的模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具，以及控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表1中所示的温度以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-28"至"感光构件A-30"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-31的生产例)
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，使用表1中所示的模具作为模具，在电荷输送层的表面上形成凹部。然后，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式形成膜厚度为2μm的第二电荷输送层(保护层)。
因此，生产其表面上具有凹部的电子照相感光构件。该电子照相感光构件称作"感光构件A-31"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
(感光构件A-32的生产例)
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将0.5份作为分散剂的包含氟原子的树脂(商品名：GF-300，由TOAGOSEICO.,LTD.制造)在30份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(商品名：ZEORORA H，由ZEONCorporation制造)/30份1-丙醇的混合溶剂中溶解，添加10份作为润滑剂的聚四氟乙烯(商品名：Lubron L-2，由DAIKIN INDUSTRIES,LTD.制造)。将混合溶液放入高压分散机(商品名：Microfluidizer M-110EH，由Microfluidics Corporation制造)中，在600kgf/cm2的压力下分散四次。将获得的分散液通过聚四氟乙烯树脂过滤器(商品名：PF-040，由AdvantecToyo Kaisha,Ltd.制造)过滤从而获得润滑剂分散液。随后，将90份由以上结构式(3)表示的空穴输送性化合物、70份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷和70份1-丙醇添加至润滑剂分散液。将润滑剂分散液通过聚四氟乙烯树脂过滤器 (商品名：PF-020，由Advantec ToyoKaisha,Ltd.制造)过滤从而制备第二电荷输送层(保护层)用涂布液。将第二电荷输送层用涂布液通过浸渍涂布施涂至电荷输送层上，将获得的涂膜在大气中在50℃下干燥10分钟。随后，在氮气中，在支承体以200rpm旋转的同时，在加速电压为150kV和束电流为3.0mA的条件下将涂膜用电子束照射1.6秒。测量此时电子束的吸收剂量，其为15kGy。随后，在氮气中，将涂膜通过经30秒从25℃升温至125℃加热。在用电子束照射和随后加热固化期间的气氛中的氧浓度不大于15ppm。接着，将涂膜在大气中自然冷却至25℃，并且在大气中在100℃下加热30分钟。由此，形成膜厚度为5μm的第二电荷输送层(保护层)。
因此，生产在凹部形成前的电子照相感光构件。
随后，在除了使用表1中所示的模具作为模具以外以与感光构件A-1的生产例中相同的方式在凹部形成前的电子照相感光构件的全部表面上形成凹部。由此获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-32"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表1中。
此外，观察在作为感光构件A-32的表面层的第二电荷输送层附近的截面。如图8A中所示，形成凹部以使凹部不仅对应于第二电荷输送层的表面而且对应于电荷输送层的表面(电荷输送层和第二电荷输送层之间的界面)。在稍后所述的感光构件A-1至A-31、感光构件B-1至B-10、感光构件C-1至C-3、感光构件D-1、感光构件E-1至E-15、感光构件E-17和感光构件E-18至E-25中，形成凹部以使凹部不仅对应于第二电荷输送层的表面而且对应于电荷输送层的表面。感光构件A-32的表面上，形成如图8B中所示的凹部。由图8B中的白线围绕的四边形为500μm×500μm正方形区域。
(感光构件A-33至感光构件A-80的生产例)
除了使用表1至3中所示模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使 用的模具，以及控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表1至3中所示温度以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件A-33"至"感光构件A-80"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表1至3中。
(感光构件B-1的生产例)
除了使用直径为84mm和长度为370mm的铝筒体作为支承体(圆筒状支承体)，和使用随机配置的具有各自具有图6B中概述的形状(通过误差扩散法(Floyd&Steinberg法))的凸部的模具(具体示于表4中)作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的铝筒体和模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件B-1"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表4中。
(感光构件B-2至B-6的生产例)
除了使用随机配置的具有各自具有图6B中概述的形状(通过误差扩散法(Floyd&Steinberg法))的凸部的模具(具体示于表4中)作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件B-2"至"感光构件B-6"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表4中。
(感光构件B-7的生产例)
除了使用随机配置的具有各自具有图6B中概述的形状(通过误差扩散法 (Floyd&Steinberg法))的凸部的模具(具体示于表4中)作为模具来代替感光构件A-24的生产例中使用的模具以外，以与感光构件A-24的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件B-7"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表4中。
(感光构件B-8的生产例)
除了使用随机配置的具有各自具有图6B中概述的形状(通过误差扩散法(Floyd&Steinberg法))的凸部的模具(具体示于表4中)作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件B-8."
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表4中。
(感光构件B-9和感光构件B-10的生产例)
除了使用随机配置的具有各自具有图6B中概述的形状(通过误差扩散法(Floyd&Steinberg法))的凸部的模具(具体示于表4中)作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件B-9"和"感光构件B-10"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表4中。
(感光构件C-1至C-3的生产例)
除了使用不同地配置各自具有图6C中概述的形状的凸部的、以500μm间距具有区域A和B的模具(A区域中的凸部：最长径Xm，距离(间隔)Y1，距离(间 隔)Y2，和B区域中的凸部：最长径Xm，距离(间隔)Y3，距离(间隔)Y4分别如表5中所示配置；具体示于表5中)来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件C-1"至"感光构件C-3"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表5中。
(感光构件D-1的生产例)
除了使用配置的具有各自具有图6D中概述的形状和不同最长径的凸部的模具(分别配置第一凸部：最长径Xm：70μm，距离(间隔)Y1：126μm，距离(间隔)Y2：149μm，第二凸部：最长径Xm：50μm，距离(间隔)Y3：90μm，距离(间隔)Y4：107μm，具体示于表6中)作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件D-1"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表6中。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
(使用实际机器的电子照相感光构件的评价)
实施例1
将感光构件A-1安装在作为评价设备的改造的由Canon Inc.制造的电子照相设备(复印机)(商品名：iR-ADV C7055)中的青色站上，如下进行试验和评价。
首先，在30℃/80%RH的环境下，设定充电设备和图像曝光设备的条件以使电子照相感光构件的暗区电位(Vd)为-700V和亮区电位(Vl)为-200V，并调整电子照相感光构件的初期电位。
接着，进行设定以使由硬度为77°的聚氨酯橡胶制成的清洁刮板与电子照相感光构件的表面在28°抵接角和30g/cm抵接压力下抵接。在电子照相感光构件用的加热器(鼓加热器)关闭的状态下，在30℃/80%RH的环境下连续输出50000张具有A4横向的5%图像的评价图表。将电子照相设备在电源关闭的状态下在30℃/80%RH的环境下放置三天。
电子照相设备放置三天后，启动电子照相设备以形成输出分辨率为600dpi的A4横向的一点一间隔(one dot-one space)图像，对应于充电设备附近的部分中的图像浓度和A4的整个表面的图像再现性评价如下。结果示于表7中。
A：在对应于充电设备附近的部分中没有发现点的不规则(irregularities)和飞散(即，无图像缺失)，图像再现性良好。
B：当放大观察输出图像时，在对应于充电设备附近的部分中轻微发现点的不规则，但没有发现飞散；其它部分中图像再现性良好。
C：当放大观察输出图像时，在对应于充电设备附近的部分中有时产生点的不规则和飞散，但是其它部分中图像再现性良好。
D：当放大观察输出图像时，在对应于充电设备附近的部分中产生点的不规则和飞散，但是其它部分中图像再现性良好。
E：在对应于充电设备附近的部分中发现图像上的白色空白，其它部分中图像再现性有时差。
实施例2至384
除了使用表7至16中所示那些作为电子照相感光构件并且清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)如表7至16中所示以外，以与实施例1中相同的方式通过实际机器评价电子照相感光构件。结果示于表7至16中。
实施例1001至1020
除了使用由Canon Inc.制造的改造的电子照相设备(POD机)(商品名：imagePRESS C7000VP(电晕充电法))作为评价设备(电子照相感光构件安装在青色站上)，使用表17中所示的那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表17中所示以外，以与实施例1中相同的方式通过实际机器评价电子照相感光构件。结果示于表17中。
实施例2001至2019
除了使用由Hewlett-Packard Company制造的改造的电子照相设备(激光束打印机)(商品名：Color LaserJet Enterprise CP4525dn)作为评价设备(电子照相感光构件安装在青色站上)，评价的环境和电子照相设备放置三天的环境从30℃/80%RH环境改变为35℃/85%RH环境，要连续输出的评价图表数从50000张改变为10000张，使用表18中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表18中所示以外，以与实施例1中相同 的方式通过实际机器来评价电子照相感光构件。结果示于表中18。
实施例3001至3009
除了使用由Hewlett-Packard Company制造的改造的电子照相设备(激光束打印机)(商品名：LaserJet Enterprise P3015dn)作为评价设备(电子照相感光构件安装在青色站上)，评价的环境和电子照相设备放置三天的环境从30℃/80%RH环境改变为35℃/85%RH环境，要连续输出的评价图表数从50000张改变为10000张，使用表19中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表19中所示以外，以与实施例1中相同的方式通过实际机器来评价电子照相感光构件。结果示于表19中。
[表7]
[表8]
[表9]
[表10]
[表11]
[表12]
[表13]
[表14]
[表15]
[表16]
[表17]
[表18]
[表19]
(感光构件E-1的生产例)
以与感光构件A-1中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层、电荷输送层和第二电荷输送层(保护层)，从而生产在凹部形成前的电子照相感光构件。
接着，使用具有图9中概述的构成的干式喷射设备，进行干式喷射以使在电子照相感光构件的全部表面(周面)上形成多个浅凹状凹部。图9示出喷射颗粒(研磨颗粒)105用的喷射喷嘴101，固定喷射喷嘴101用的喷嘴固定夹具102，空气(压缩空气)的导入路径103，将容器中贮存的颗粒(研磨颗粒)105导入至喷射喷嘴101的路径104，颗粒(研磨颗粒)105，支承工件107的工件支承构件106，工件107(表面上形成凹部的对象的电子照相感光构件)，支承喷射喷嘴101的喷射喷嘴支承构件108，和固定喷射喷嘴101的喷射喷嘴固定夹具109。
由此，生产其表面上具有凹部的电子照相感光构件。该电子照相感光构件称作"感光构件E-1"。
干式喷射的条件
颗粒(研磨颗粒)：平均粒径为30μm的球形玻璃珠(商品名：UB-01L，由Union K.K.制造)
吹送空气(压缩空气)的压力：0.343MPa(3.5kgf/cm2)
喷射喷嘴移动速度：430mm/秒(图9中垂直箭头的方向)
工件的旋转速度：288Rpm(图9中环形箭头的方向)
喷射喷嘴的喷射口和工件之间的距离：100mm
颗粒(研磨颗粒)的喷射角度：90°
颗粒(研磨颗粒)的供给量：200g/分钟
吹送的次数：单程×两次
干式喷射后，将工件周面上残留附着的颗粒(研磨颗粒)通过吹送压缩空气而除去。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-2至E-9和E-17的生产例)
除了使用表20中所示模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用的模具，以及控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表20中所示温度以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件E-2"至"感光构件E-9"和"感光构件E-17"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-10和E-11的生产例)
除了使用表20中所示模具作为模具来代替感光构件A-5的生产例中使用的模具，以及控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表20中所示温度以外，以与感光构件A-5的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件E-10"和"感光构件E-11"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构 件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-12和E-13的生产例)
除了使用表20中所示模具作为模具来代替感光构件A-24的生产例中使用的模具，以及控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表20中所示温度以外，以与感光构件A-24的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件E-12"和"感光构件E-13"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-14和E-15的生产例)
除了使用表20中所示模具作为模具来代替感光构件A-27的生产例中使用的模具，以及控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表20中所示温度以外，以与感光构件A-27的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件E-14"和"感光构件E-15"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-16的生产例)
以与感光构件A-1中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层、电荷输送层和第二电荷输送层(保护层)，从而生产其表面上不具有凹部的电子照相感光构件。电子照相感光构件称作"感光构件E-16."
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-18至E-25的生产例)
除了使用表20中所示模具作为模具来代替感光构件A-1的生产例中使用 的模具；控制电子照相感光构件和模具的温度以使加工期间电子照相感光构件表面的温度为表20中所示温度；在电子照相感光构件在2.5MPa压力下按压加压构件的同时，将电子照相感光构件沿圆周方向旋转从而在电子照相感光构件的全部表面(周面)上形成凹部以外，以与感光构件A-1的生产例中相同的方式生产各电子照相感光构件。将获得的其表面上具有凹部的电子照相感光构件称作"感光构件E-18"至"感光构件E-25"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的各电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
(感光构件E-26的生产例)
以与感光构件A-1中相同的方式在支承体上形成导电层、底层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将1.5份丙烯酸类多元醇(商品名：JONCRYL-587，由Johnson Polymers Ltd.制造)、2.1份三聚氰胺树脂(商品名：CYMEL-303，由Cytec Industries Inc.制造)、作为电荷输送组分的1.16份N,N,N’,N’-四[(4-羟甲基)苯基]-联苯基-4,4’-二胺(THM-TBD)/1.93份N,N’-二苯基-N,N’-双(3-羟苯基)-三联苯-二胺(DHTER)，和0.05份酸催化剂(商品名：Nacure5225，由King Chemical Industries Inc.制造)在20.9份1-甲氧基-2-丙醇中溶解，从而制备第二电荷输送层(保护层)用涂布液。将第二电荷输送层用涂布液通过浸渍涂布施涂至电荷输送层上。获得的涂膜固化前，使用表20中所示模具，在涂膜的表面温度保持在常温(25℃)下的状态下，将模具的形状转印至涂膜表面上。接着，将涂膜在140℃下热固化40分钟，从而形成膜厚度为6μm的第二电荷输送层(保护层)。
因此，生产其表面上具有凹部的电子照相感光构件。该电子照相感光构件称作"感光构件E-26"。
以与感光构件A-1的生产例中相同的方式观察获得的电子照相感光构件的表面。结果示于表20中。
[表20]
比较例1至25
除了使用表21中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表21中所示以外，以与实施例1中相同的方式通过实际机器来评价电子照相感光构件。结果示于表21中。
比较例26和27
除了使用表21中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度 和设定(抵接角和抵接压力)为表21中所示以外，以与实施例1001中相同的方式通过实际机器评价电子照相感光构件。结果示于表21中。
比较例28和29
除了使用表21中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表21中所示以外，以与实施例2001中相同的方式通过实际机器评价电子照相感光构件。结果示于表21中。
比较例30和31
除了使用表21中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表21中所示以外，以与实施例3001中相同的方式通过实际机器评价电子照相感光构件。结果示于表21中。
比较例32至85
除了使用表21至23中所示那些作为电子照相感光构件，以及清洁刮板的硬度和设定(抵接角和抵接压力)为表21至23中所示以外，以与实施例1中相同的方式通过实际机器来评价电子照相感光构件。结果示于表21至23中。
[表21]
[表22]
[表23]
虽然参考示例性实施方案描述了本发明，但是要理解的是本发明不限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围要符合最宽泛的解释从而涵盖全部该改进和等同的结构与功能。
本申请要求了2011年5月31日提交的日本专利申请2011-122748、2012年2月29日提交的日本专利申请2012-043118、2012年3月2日提交的PCT国际申请PCT/JP2012/056046和2012年5月24日提交的日本专利申请2012-118554的权益，在此将其全部内容引入以作参考。

Claims (8)

1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和在所述支承体上形成的感光层，其特征在于
所述电子照相感光构件的表面包括多个凹部和除所述凹部以外的部分，各所述凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm，和
当在所述电子照相感光构件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，所述500μm×500μm正方形区域中所述凹部的面积为10000至90000μm2，且除所述凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2，
所述深度为从第二基准面至凹部的最低点的距离；
所述开口部最长径为在与开口部相交的线段中，最长线段的长度；
所述开口部为沿着第二基准面的凹部的截面；
所述第二基准面为位于距离基准面0.2μm下方的位置且平行于基准面的表面；
所述基准面为将电子照相感光构件的截面轮廓校正以使曲线变为直线，并通过沿所述电子照相感光构件的长度方向延伸所获得的直线而获得的表面。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述500μm×500μm正方形区域中所述平坦部的不能配置10μm×10μm正方形区域的狭小部分的面积的比例为不大于30％，基于所述500μm×500μm正方形区域中所述平坦部的总面积。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，其中当在所述电子照相感光构件的表面的任意50个位置中配置的各所述500μm×500μm正方形区域中测量所述狭小部分的面积的比例时，50个测量值的标准偏差为不大于5％。
4.一种电子照相感光构件，其包括支承体和在所述支承体上形成的感光层，其特征在于
所述电子照相感光构件的表面的至少与清洁构件的接触区域包括多个凹部和除所述凹部以外的部分，各所述凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm，和
当在与所述清洁构件的接触区域的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，所述500μm×500μm正方形区域中所述凹部的面积为10000至90000μm2，且除所述凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2，
所述深度为从第二基准面至凹部的最低点的距离；
所述开口部最长径为在与开口部相交的线段中，最长线段的长度；
所述开口部为沿着第二基准面的凹部的截面；
所述第二基准面为位于距离基准面0.2μm下方的位置且平行于基准面的表面；
所述基准面为将电子照相感光构件的截面轮廓校正以使曲线变为直线，并通过沿所述电子照相感光构件的长度方向延伸所获得的直线而获得的表面。
5.根据权利要求4所述的电子照相感光构件，其中所述500μm×500μm正方形区域中所述平坦部的不能配置10μm×10μm正方形区域的狭小部分的面积的比例为不大于30％，基于所述500μm×500μm正方形区域中所述平坦部的总面积。
6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件，其中当在与所述清洁构件的接触区域的任意50个位置中配置的各所述500μm×500μm正方形区域中测量所述狭小部分的面积的比例时，50个测量值的标准偏差为不大于5％。
7.一种处理盒，其特征在于，其可拆卸地安装至电子照相设备的主体，并且一体化地支承：
根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件，和
具有与所述电子照相感光构件接触配置的清洁构件的清洁单元。
8.一种电子照相设备，其特征在于，其包括：
根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件，
充电单元，
曝光单元，
显影单元，
转印单元，和
具有与所述电子照相感光构件接触配置的清洁构件的清洁单元。
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