CN103241958B - 一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法 - Google Patents

一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，该蚀刻方法依次通过玻璃基板装夹、一次超声波清洗、一次蚀刻、二次超声波清洗、二次蚀刻、三次超声波清洗以及烘干的步骤完成玻璃基板蚀刻加工，一次超声波清洗时间为1-1.5分钟，一次蚀刻时间为5-8分钟，二次超声波清洗时间为2-3分钟，二次蚀刻时间为3-5分钟，三次超声波清洗时间为2-3分钟，其中，一次蚀刻所使用的蚀刻剂包括20%-35%氢氟酸、10%-25%硫酸以及45%-65%水，二次蚀刻所使用的蚀刻剂包括30%-40%氢氟酸、5%-10%硫酸以及50%-65%水。该蚀刻方法能够有效地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。

Description

一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法
技术领域
本发明涉及液晶显示器玻璃基板加工技术领域，尤其涉及一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法。
背景技术
随着人们对显示器的显示效果的关注程度越来越高，特别是显示器的分辨率的要求不断提升；故而，在显示器的玻璃基板加工过程中，其线距、线宽需要蚀刻得越来越细，均匀性也要求越来越严格。
为了满足市场的要求，必须提供一种高要求的蚀刻方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，该液晶显示器玻璃基板蚀刻方法能够进一步地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。
为达到上述目的，本发明通过以下技术方案来实现。
一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，包括有以下工艺步骤，具体为：
a、将玻璃基板放置于提篮；
b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1-1.5分钟；
c、将经过第一次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第一蚀刻槽内，第一蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第一蚀刻槽内的蚀刻时间为5-8分钟，其中，第一蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸20%-35%
硫酸10%-25%
水45%-65%；
d、将经过第一次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
e、将经过第二次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第二蚀刻槽内，第二蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第二蚀刻槽内的蚀刻时间为3-5分钟，其中，第二蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸30%-40%
硫酸5%-10%
水50%-65%；
f、将经过第二次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第三超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
h、将经过第三次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。
进一步的，所述步骤c所使用的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸25%-30%
硫酸15%-20%
水50%-60%。
更进一步的，所述步骤c所使用的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸28%
硫酸18%
水54%。
进一步的，所述步骤e所使用的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸35%-40%
硫酸5%-8%
水50%-60%。
更进一步的，所述步骤e所使用的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸40%
硫酸5%
水55%。
本发明的有益效果为：本发明所述的一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，该蚀刻方法包括有以下工艺步骤，具体为：a、将玻璃基板放置于提篮；b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1-1.5分钟；c、将经过第一次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第一蚀刻槽内，第一蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第一蚀刻槽内的蚀刻时间为5-8分钟；d、将经过第一次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；e、将经过第二次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第二蚀刻槽内，第二蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第二蚀刻槽内的蚀刻时间为3-5分钟；f、将经过第二次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第三超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；h、将经过第三次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。其中，第一蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：氢氟酸20%-35%、硫酸10%-25%、水45%-65%；第二蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：氢氟酸30%-40%、硫酸5%-10%、水50%-65%。通过上述工艺步骤，该蚀刻方法能够有效地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。
具体实施方式
下面结合具体的实施方式来对本发明进行说明。
实施例一，一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，包括有以下工艺步骤，具体为：
a、将玻璃基板放置于提篮；
b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1-1.5分钟；
c、将经过第一次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第一蚀刻槽内，第一蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第一蚀刻槽内的蚀刻时间为5-8分钟，其中，第一蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸28%
硫酸18%
水54%；
d、将经过第一次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
e、将经过第二次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第二蚀刻槽内，第二蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第二蚀刻槽内的蚀刻时间为3-5分钟，其中，第二蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸40%
硫酸5%
水55%；
f、将经过第二次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第三超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
h、将经过第三次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。
其中，本实施例一的蚀刻方法依次通过玻璃基板装夹、一次超声波清洗、一次蚀刻、二次超声波清洗、二次蚀刻、三次超声波清洗以及烘干的步骤完成玻璃基板蚀刻加工，该蚀刻方法能够有效地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。
实施例二，一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，包括有以下工艺步骤，具体为：
a、将玻璃基板放置于提篮；
b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1-1.5分钟；
c、将经过第一次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第一蚀刻槽内，第一蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第一蚀刻槽内的蚀刻时间为5-8分钟，其中，第一蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸25%
硫酸20%
水55%；
d、将经过第一次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
e、将经过第二次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第二蚀刻槽内，第二蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第二蚀刻槽内的蚀刻时间为3-5分钟，其中，第二蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸35%
硫酸8%
水57%；
f、将经过第二次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第三超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
h、将经过第三次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。
其中，本实施例二的蚀刻方法依次通过玻璃基板装夹、一次超声波清洗、一次蚀刻、二次超声波清洗、二次蚀刻、三次超声波清洗以及烘干的步骤完成玻璃基板蚀刻加工，该蚀刻方法能够有效地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。
实施例三，一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，包括有以下工艺步骤，具体为：
a、将玻璃基板放置于提篮；
b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1-1.5分钟；
c、将经过第一次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第一蚀刻槽内，第一蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第一蚀刻槽内的蚀刻时间为5-8分钟，其中，第一蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸30%
硫酸20%
水50%；
d、将经过第一次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
e、将经过第二次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第二蚀刻槽内，第二蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第二蚀刻槽内的蚀刻时间为3-5分钟，其中，第二蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸40%
硫酸8%
水52%；
f、将经过第二次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第三超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
h、将经过第三次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。
其中，本实施例三的蚀刻方法依次通过玻璃基板装夹、一次超声波清洗、一次蚀刻、二次超声波清洗、二次蚀刻、三次超声波清洗以及烘干的步骤完成玻璃基板蚀刻加工，该蚀刻方法能够有效地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。
以上内容仅为本发明的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (3)

1.一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，包括有以下工艺步骤，具体为：
a、将玻璃基板放置于提篮；
b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1-1.5分钟；
c、将经过第一次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第一蚀刻槽内，第一蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第一蚀刻槽内的蚀刻时间为5-8分钟，其中，第一蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸28%
硫酸18%
水54%；
d、将经过第一次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
e、将经过第二次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于第二蚀刻槽内，第二蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于第二蚀刻槽内的蚀刻时间为3-5分钟，其中，第二蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸30%-40%
硫酸5%-10%
水50%-65%；
f、将经过第二次蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第三超声波清洗槽内，清洗时间为2-3分钟；
h、将经过第三次超声波清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。
2.根据权利要求1所述的一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于：所述步骤e所使用的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸35%-40%
硫酸5%-8%
水50%-60%。
3.根据权利要求2所述的一种液晶显示器玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于：所述步骤e所使用的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：
氢氟酸40%
硫酸5%
水55%。
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