CN103205696A - 蒸镀掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种蒸镀掩膜板，其特征在于，至少包括两层结构，各层开口尺寸逐层增大。本发明提供的一种蒸镀掩膜板，其制作方式为电铸的方式，提高了OLED蒸镀用掩模板的位置精度；提高了OLED蒸镀用掩模板开口尺寸的精度；能够任意控制上下开口的角度，以满足蒸镀要求，生产效率高、成本低具有广阔的市场前景。
Description
技术领域
本发明涉及一种掩膜板，尤其涉及一种蒸镀掩膜板。
背景技术
有机发光显示器（OLED），由于其宽视角、高对比度以及高相应速度的优点，已被给予高度关注。电致发光装置分为无机电致发光装置和有机电致发光装置。有机发光装置的亮度和响应速度比无机电致发光装置高，并能显示彩色图像。
这种有机电致发光显示器包括有机电致发光装置，有机电致发光装置具有分别堆叠在基底上的阳极、有机材料层和阴极。有机材料层包括有机发射层，有机发射层由于复合空穴和电子得到的激子而发光。此外，为了将空穴和电子平稳地传输到发射层并提高发射效率，电子注入层和电子传输层可设置在阴极和有机发射层之间，空穴注入层和空穴传输层可设置在阳极和有机发射层之间。
上述有机电致发光装置包括第一电极、有机发光层及第二电极。制造有机发光装置时，通过光刻法，通过腐蚀剂在ITO上构图。光刻法再用来制备第二电极时，湿气渗入有机发光层和第二电极之间，会显著地缩短有机发光装置的寿命，降低其性能。为了克服以上问题，采用蒸镀工艺将有机发光材料沉积在基板上，形成有机发光层，该方法需配套高精度蒸镀用掩模板。第二电极的制作同发光层的制作方法。
在蒸镀过程中，随着时间的延长，温度也在不断上升，高温可达到60℃，由于掩模板很薄所以应用时若不经过处理，掩模板会相对其掩模框架产生位置偏差，并下垂，影响有机材料蒸镀质量。
目前OLED制作领域一般采用单层蒸镀用掩模板，如图1所示，有机材料颗粒从各个角度穿过掩模板并贴附于基板上，开口11无锥度，当颗粒倾斜射入角度小于或等于θ时，这部分颗粒会碰到开口壁而被遮蔽，无法到达基板。这种现象会产生以下问题：使倾斜射入的颗粒出现部分缺失，致使辉度下降，并且在基板上不能形成希望的厚度和形状。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种蒸镀掩膜板，其包括多层结构，随着层数递增，开口尺寸递增，形成开口锥度，以满足蒸镀要求，提高精度及OLED的质量。
为了解决上述技术问题，本发明采取的技术方案如下：
一种蒸镀掩膜板，其特征在于，至少包括两层结构，各层开口尺寸逐层增大。
所述蒸镀掩膜板包括两层结构。
第一层厚度为10-20um，开口尺寸为60-80um；第二层厚度为15-25um，开口尺寸为100-120um。
所述蒸镀掩膜板包括三层结构。
第一层厚度为10-20um，开口尺寸为60-80um；第二层厚度为15-25um，开口尺寸为100-120um；第三层厚度为15-25um，开口尺寸为160-180um。
所述蒸镀掩膜板包括四层结构。
第一层厚度为10-20um，开口尺寸为60-80um；第二层厚度为15-25um，开口尺寸为100-120um；第三层厚度为15-25um，开口尺寸为160-180um；第四层厚度为15-25um，开口尺寸为240-260um。
所述各层开口之间形成锥度。
所述锥度在30-50°之间。
所述蒸镀掩膜板因瓦合金、纯镍或镍铁合金。
优选的，将锥度σ开口锥度控制在在30-50°之间。
本发明提供的一种蒸镀掩膜板，其制作方式为电铸的方式，提高了OLED蒸镀用掩模板的位置精度；提高了OLED 蒸镀用掩模板开口尺寸的精度；能够任意控制上下开口的角度，以满足蒸镀要求，生产效率高、成本低具有广阔的市场前景。
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1为单层无锥度蒸镀掩模板开口附近放大图；
图2为三层蒸镀掩模板开口附近放大图；
图3为蒸镀掩模板的正面视图。
图中1为芯膜，2为蒸镀掩模板，3为第一层蒸镀掩模板，4为第二层蒸镀掩模板，5为第三层蒸镀掩模板，6为开口区域，7为定位孔点。
具体实施方式
实施例1：三层蒸镀掩模板
如图2所示，一种OLED 蒸镀用掩模板，他能够克服传统单层掩模板的缺点，而得到质量（厚度、形状、辉度等）更高的OLED；通过LDI曝光机的CCD（电荷耦合器件图像传感器）准确的定位来完成三层板的制作；在芯模1上电铸第一层蒸镀掩模板3，其实际厚度为10-20um的因瓦合金或纯镍，这第一层为OLED 蒸镀用掩模板的开口层，开口尺寸为60-80um；
在做好第一层的同时制作好CCD定位点，制作完第一层之后直接涂布感光膜制作第二层蒸镀掩模板4，第二层厚度设计为15-25um，开口尺寸为100-120um；
第三层蒸镀掩模板5制作通过CCD定位确定开口位置，其制作厚度为15-25um，开口尺寸制作为160-180um；
最后以三层叠加的形式制作成了高精密的OLED 蒸镀用掩模板，开口锥度σ为30°。
实施例2：二层蒸镀掩模板
一种OLED 蒸镀用掩模板，他能够克服传统单层掩模板的缺点，而得到质量（厚度、形状、辉度等）更高的OLED；通过LDI曝光机的CCD（电荷耦合器件图像传感器）准确的定位来完成二层板的制作；在芯模上电铸第一层蒸镀掩模板，其实际厚度为10-20um的因瓦合金或纯镍，这第一层为OLED 蒸镀用掩模板的开口层，开口尺寸为60-80um。
在做好第一层的同时制作好CCD定位点，制作完第一层之后直接涂布感光膜制作第二层蒸镀掩模板，第二层厚度设计为15-25um，开口尺寸为100-120um。
最后以二层叠加的形式制作成了高精密的OLED 蒸镀用掩模板，开口锥度σ为40°。
实施例3：四层蒸镀掩模板
一种OLED 蒸镀用掩模板，他能够克服传统单层掩模板的缺点，而得到质量（厚度、形状、辉度等）更高的OLED；通过LDI曝光机的CCD（电荷耦合器件图像传感器）准确的定位来完成四层板的制作；在芯模上电铸第一层蒸镀掩模板，其实际厚度为10-20um的因瓦合金或纯镍，这第一层为OLED 蒸镀用掩模板的开口层，开口尺寸为60-80um。
在做好第一层的同时制作好CCD定位点，制作完第一层之后直接涂布感光膜制作第二层蒸镀掩模板，第二层厚度设计为15-25um，开口尺寸为100-120um。
第三层蒸镀掩模板制作通过CCD定位确定开口位置，其制作厚度为15-25um，开口尺寸制作为160-180um。
第四层蒸镀掩模板制作通过CCD定位确定开口位置，其制作厚度为15-25um，开口尺寸制作为240-260um。
最后以四层叠加的形式制作成了高精密的OLED 蒸镀用掩模板，开口锥度σ为50°
当然本发明可以是其他多层结构，使各层的开口随着层数递增，开口尺寸递增。
以上实施例目的在于说明本发明，而非限制本发明的保护范围，所有由本发明简单变化而来的应用均落在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种蒸镀掩膜板，其特征在于，至少包括两层结构，各层开口尺寸逐层增大。
2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述蒸镀掩膜板包括两层结构。
3.根据权利要求2所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，第一层厚度为10-20um，开口尺寸为60-80um；第二层厚度为15-25um，开口尺寸为100-120um。
4.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述蒸镀掩膜板包括三层结构。
5.根据权利要求4所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，第一层厚度为10-20um，开口尺寸为60-80um；第二层厚度为15-25um，开口尺寸为100-120um；第三层厚度为15-25um，开口尺寸为160-180um。
6.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述蒸镀掩膜板包括四层结构。
7.根据权利要求6所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，第一层厚度为10-20um，开口尺寸为60-80um；第二层厚度为15-25um，开口尺寸为100-120um；第三层厚度为15-25um，开口尺寸为160-180um；第四层厚度为15-25um，开口尺寸为240-260um。
8.根据权利要求1-7任一项所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述各层开口之间形成锥度。
9. 根据权利要求8所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述锥度在30-50°之间。
10.根据权利要求1-7任一项所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述蒸镀掩膜板为因瓦合金、纯镍或镍铁合金。
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Applications Claiming Priority (1)
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| CN2012100107565A CN103205696A (zh) | 2012-01-16 | 2012-01-16 | 蒸镀掩膜板 |
Publications (1)
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