CN203834005U - 一种掩模板及掩模组件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例提供了一种掩模板及掩模组件,涉及显示技术领域,可以提高蒸镀的均匀性,从而改善显示效果。该掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸镀孔尺寸相等且完全重叠;其中,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料,且厚度为5~150μm。用于制备显示器中的有机材料层。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩模板及掩模组件。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)是一种有机薄膜电致发光器件,其具有易形成柔性结构、视角宽等优点;因此,利用有机发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。
OLED的全彩显示一般包括R(红)G(绿)B(蓝)子像素独立发光、或白光OLED结合彩色滤光膜等方式。其中,RGB子像素独立发光是目前采用最多的彩色模式,其是利用子像素单元中的有机发光材料独立发光。
目前,有机发光材料层一般都是通过对有机材料进行真空蒸发镀膜形成。其中,对于RGB子像素独立发光的OLED,由于每个RGB子像素单元采用不同的有机发光材料,因而RGB子像素单元的有机发光层需要分别进行蒸镀,在此过程中一般采用金属材料的掩模板来控制有机材料在基板上的镀膜位置,然后依次在每个子像素单元中蒸镀相应的有机材料。
然而,由于金属材料的掩模板有其厚度的限制,当有机材料颗粒以较小的倾斜角度入射时,该部分有机材料颗粒会被蒸镀孔壁遮蔽而无法到达基板,从而使得每个子像素单元的边缘蒸镀厚度会明显低于子像素单元中间的蒸镀厚度,此称为“阴影效应”。
在此基础上,由于金属材料的掩模板材料的特性,在制作上述掩模板的蒸镀孔的过程中,只有在能量聚集到一定程度时,才能在其上形成蒸镀孔,在此过程中,如图1所示,通常会由于能量的聚集,使得蒸镀孔1012的表面不是完全垂直的,而是会存在夹角的问题,这就进一步加重“阴影效应”的产生。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种掩模板及掩模组件,可以提高蒸镀的均匀性,从而改善显示效果。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一方面,提供一种掩模板,包括:第一子掩模板和第二子掩模板;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸镀孔尺寸相等且完全重叠;
其中,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料,且厚度为5~150μm。
优选的,所述掩模板本体的材料包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺中的至少一种。
优选的,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度相等。
进一步优选的,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度为5~20μm。
基于上述,优选的,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板之间的间距为0~5μm。
另一方面,提供一种掩模组件,包括上述的掩模板、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。
优选的,所述掩模框包括位于相对两侧的夹紧部分,所述夹紧部分夹紧所述掩模板的相对两侧边缘。
本实用新型实施提供了一种掩模板及掩模组件,该掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸镀孔尺寸相等且完全重叠;其中,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料,且厚度为5~150μm。
一方面,通过将掩模板本体的材料选定为具有一定刚性的塑胶材料,并合理设置掩模板本体的厚度,相对现有技术中金属材料的掩模板,可以改善形成所述蒸镀孔时,由于能量的聚集而产生的夹角以及掩模板厚度的问题而产生的“阴影效应”;另一方面,通过设置两个子掩模板并将两个子掩模板的蒸镀孔的尺寸设置为相等且完全重叠,可以使远离蒸镀基板的一个子掩模板例如第一子掩模板来保证仅能使较大倾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸镀材料进入并通过第二子掩模板的蒸镀孔,在此过程中由于避免了其余小角度倾斜角入射的蒸镀材料对蒸镀均匀性的影响,从而可以提高蒸镀的均匀性,进而改善了显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的掩模板的蒸镀孔的示意图;
图2为本实用新型实施例提供的一种掩模板的结构示意图一;
图3为本实用新型实施例提供的一种掩模板的结构示意图二;
图4为本实用新型实施例提供的一种掩模组件的结构示意图;
图5为本实用新型实施例提供的制作掩模板的流程示意图。
附图标记:
10-掩模板;101-第一子掩模板;102-第二子掩模板;1011-第一掩模板本体;1012-蒸镀孔;1021-第二掩模板本体;201-掩模框的夹紧部分。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供了一种掩模板10,如图2和图3所示,该掩模板10包括:第一子掩模板101和第二子掩模板102;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔1012;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102上的所述蒸镀孔1012尺寸相等且完全重叠。
其中,所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料,且厚度为5~150μm。
这里,可将所述第一子掩模板101的掩模板本体称为第一掩模板本体1011,将所述第二子掩模板102的掩模板本体称为第二掩模板本体1021。
需要说明的是,第一,位于所述第一子掩模板101的所述蒸镀孔1012和位于所述第二子掩模板102的所述蒸镀孔1012一一对应。
第二,本实用新型实施例中,所述第一掩模板本体1011和所述第二掩模板本体1021的材料为,不宜在进行有机材料蒸镀时,使该掩模板10产生形变的塑胶材料,即:具有低热膨胀系数且具有一定刚性的材料。
第三,不对所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之间的间距(可以直接接触,也可以具有一定的间距)进行限定,以能使通过所述蒸镀孔1012蒸镀到基板上的有机材料层均匀为准。
第四,本实用新型所有实施例的附图均示意性的绘示出与发明点有关的图案层,对于与发明点无关的图案层不进行绘示或仅绘示出部分。
本实用新型实施例提供了一种掩模板10,包括:第一子掩模板101和第二子掩模板102;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔1012;所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102上的所述蒸镀孔1012尺寸相等且完全重叠。其中,所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料,且厚度为5~150μm。
一方面,通过将掩模板本体的材料选定为具有一定刚性的塑胶材料,并合理设置掩模板本体的厚度,相对现有技术中金属材料的掩模板,可以避免形成所述蒸镀孔1012时,由于能量的聚集而产生的夹角的问题,从而改善上述的“阴影效应”;另一方面,通过设置两个子掩模板并将两个子掩模板的蒸镀孔1012的尺寸设置为相等且完全重叠,可以使远离蒸镀基板的一个子掩模板例如第一子掩模板101来保证仅能使较大倾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸镀材料进入并通过第二子掩模板102的蒸镀孔1012,在此过程中由于避免了其余小角度倾斜角入射的蒸镀材料对蒸镀均匀性的影响,从而可以提高蒸镀的均匀性,进而改善了显示效果。
优选的,所述第一掩模板本体1011和所述第二掩模板本体1021的材料包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺中的至少一种。
其中,聚酰亚胺具有热膨胀系数低(可在2×10-5~3×10-5/℃之间)、耐高温(可达400℃),并且其具有优良的机械性能、高刚性等特性。
聚碳酸酯的具有热膨胀系数低(3.8×10-5/℃),135℃的热变形温度,高强度,高刚性等特性。
聚醚酰亚胺具有热膨胀系数低(5.6×10-5/℃),200℃的热变形温度,高强度,高刚性等特性。
由于蒸镀过程中温度一般不会超过60℃度,因此,上述材料均可满足蒸镀过程中,对所述掩模板10不宜变形的需求。
优选的,如图3所示,所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的厚度相等。
这样,可以通过相同的工艺条件,以相同的方法在所述第一掩模板本体1011和所述第二掩模板本体1021的相同位置形成所述蒸镀孔1012,从而形成相同的两块第一子掩模板101和第二子掩模板102,使得制作过程更为简化。
进一步优选的,所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的厚度为5~20μm。
金属材料的掩模板目前能做到70μm的厚度,而本实用新型实施例采用具有一定刚性的塑胶材料作为掩模板时,可以将其厚度设定为5~20μm,这可以大大减小由于掩模板的厚度而导致的“阴影效应”,从而可以进一步提高蒸镀的均匀性。
基于上述,由于塑胶材料的所述第一子掩模板101和第二子掩模板102的表面比较粗糙,所述第一子掩模板101和第二子掩模板102不容易无间隙的完全贴合在一起,因此,本实用新型实施例优选为,所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之间具有间距,且所述间距优选为0~5μm。
这样,既可以避免由于第一子掩模板101和第二子掩模板102的表面比较粗糙而不能完全贴合的问题,也可以避免由于该间距太大而使部分进入第一子掩模板101的蒸镀孔1012的蒸镀材料无法到达第二子掩模板101,从而造成蒸镀材料的浪费。
本实用新型实施例还提供了一种掩模组件,该掩模组件包括上述的掩模板10、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。
需要说明的是,第一,此处不对所述掩模框的具体形状进行限定,以能将所述掩模板10的第一子掩模板101和第二子掩模板102固定并拉平,且在使用过程中不使位于所述第一子掩模板101上的所述蒸镀孔1012和位于所述第二子掩模板102上的所述蒸镀孔1012发生相对移动即可。
第二,当所述掩模板10的第一子掩模板101和第二子掩模板102之间具有间距的情况下,可以通过所述掩模框的特定结构来使第一子掩模板101和第二子掩模板102之间具有间距,具体根据实际情况进行设定。
本实用新型实施例提供了一种掩模组件,包括上述的掩模板10、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。一方面,通过将掩模板本体的材料选定为具有一定刚性的塑胶材料,并合理设置掩模板本体的厚度,相对现有技术中金属材料的掩模板,可以避免形成所述蒸镀孔1012时,由于能量的聚集而产生的夹角的问题,从而改善上述的“阴影效应”;另一方面,通过设置两个子掩模板并将两个子掩模板的蒸镀孔1012的尺寸设置为相等且完全重叠,可以使远离蒸镀基板的一个子掩模板例如第一子掩模板101来保证仅能使较大倾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸镀材料进入并通过第二子掩模板102的蒸镀孔1012,在此过程中由于避免了其余小角度倾斜角入射的蒸镀材料对蒸镀均匀性的影响,从而可以提高蒸镀的均匀性,进而改善了显示效果。
可选的,如图4所示,所述掩模框包括位于相对两侧的夹紧部分201,所述夹紧部分201夹紧所述掩模板10的相对两侧边缘。
由于掩模板通常情况下均会被制作成矩形,因此,在本实用新型实施例中,仅需要通过所述掩模框的位于相对两侧的夹紧部分201便可以拉平固定整个第一子掩模板101和第二子掩模板102,从而使得所述掩模框的制作、以及掩模组件的组装更为简便。
本实用新型实施例还提供了一种掩模板10的制作方法,如图5所示,该方法包括如下步骤:
S10、将具有预定刚性的塑胶薄膜作为第一掩模板本体1011,拉平固定在掩模框上。
所述具有预定刚性的塑胶薄膜可以为聚酰亚胺薄膜,或聚碳酸酯薄膜,或聚醚酰亚胺薄膜。
所述掩模框包括位于相对两侧的夹紧部分201,所述夹紧部分201通过夹紧所述第一掩模板本体1011的相对两侧边缘来使所述第一掩模板本体1011拉平固定。
S11、在所述第一掩模板本体1011的预定区域形成蒸镀孔1012。
S12、将具有预定刚性的塑胶薄膜作为第二掩模板本体1021,拉平固定在所述掩模框上,并在与位于所述第一掩模板本体1011的蒸镀孔1012相对应的位置,在所述第二掩模板本体1021上形成所述蒸镀孔1012。
其中,位于所述第一掩模板本体1011上的所述蒸镀孔1012与位于所述第二掩模板本体1021上的所述蒸镀孔1012完全重叠,且所述第一掩模板本体1011和所述第二掩模板本体1021的厚度为5~150μm。
所述第二掩模板本体1021也通过上述的掩模框的夹紧部分201来固定拉平。
需要说明的是,第一,不对在所述塑胶材料的掩模板本体上形成蒸镀孔1012的方法进行限定,以能快速且精确的形成所述蒸镀孔1012为准。
第二,此处不对所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之间的间距(可以直接接触,也可以具有一定的间距)进行限定,以能使通过所述蒸镀孔1012蒸镀到基板上的有机材料层均匀为准。
本实用新型实施例提供了一种掩模板10的制作方法,包括:将具有预定刚性的塑胶薄膜作为第一掩模板本体1011,拉平固定在掩模框上;在所述第一掩模板本体1011的预定区域形成蒸镀孔1012;将所述具有预定刚性的塑胶薄膜作为第二掩模板本体1021,拉平固定在所述掩模框上,并在与位于所述第一掩模板本体1011的蒸镀孔1012相对应的位置,在所述第二掩模板本体1021上形成所述蒸镀孔1012;其中,位于所述第一掩模板本体1011上的所述蒸镀孔1012与位于所述第二掩模板本体1021上的所述蒸镀孔1012完全重叠,且所述第一掩模板本体1011和所述第二掩模板本体1021的厚度为5~150μm。
一方面,通过将第一掩模板本体1011和第二掩模板本体1021的材料选定为具有一定刚性的塑胶材料,并合理设置第一掩模板本体1011和第二掩模板本体1021的厚度,相对现有技术中金属材料的掩模板,可以避免形成所述蒸镀孔1012时,由于能量的聚集而产生的夹角的问题,从而改善上述的“阴影效应”;另一方面,通过形成两个子掩模板并将两个子掩模板的蒸镀孔1012的尺寸设定为相等且完全重叠,可以使远离蒸镀基板的一个子掩模板例如第一子掩模板101来保证仅能使较大倾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸镀材料进入并通过第二子掩模板102的蒸镀孔1012,在此过程中由于避免了其余小角度倾斜角入射的蒸镀材料对蒸镀均匀性的影响,从而可以提高蒸镀的均匀性,进而改善了显示效果。
基于上述,考虑到激光打孔具有速度快、效率高、精确度高等特定,因而,本实用新型实施例中,优选为,通过激光工艺,在所述第一掩模板本体1011的预定区域形成蒸镀孔1012;通过激光工艺,在所述第二掩模板本体1021上形成所述蒸镀孔1012。
基于上述的描述,本实用新型实施例通过一具体的实施例来描述通过上述的掩模板10制备OLED显示器的有机发光材料的过程,具体包括:
S101、使所述掩模板10的蒸镀孔1012和OLED显示器的其中一种同色子像素单元例如红色子像素单元对位好,并进行有机发光材料的蒸镀。
其中,所述蒸镀孔1012在掩模板10上的分布需与OLED显示器同色子像素单元的排布相同。
S102、完成S101后,使所述掩模板10相对所述OLED显示器向相邻行移动一个子像素单元的距离,然后进行第二种同色子像素单元例如绿色子像素单元的有机发光材料的蒸镀。
S103、完成S102后,使所述掩模板10相对所述OLED显示器沿同一方向向相邻行移动一个子像素单元的距离,然后进行第三种同色子像素单元例如蓝色子像素单元的有机发光材料的蒸镀。
当然,上述步骤S101-S103只体现了制备各子像素单元的有机发光材料的过程,对于有源矩阵型OLED显示器来说,在步骤S101之前还需形成薄膜晶体管,阳极,在S103之后还需形成阴极等,在此不再进行赘述。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (7)
1.一种掩模板,其特征在于,包括:第一子掩模板和第二子掩模板;
所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔;所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸镀孔尺寸相等且完全重叠;
其中,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本体的材料均为具有预定刚性的塑胶材料,且厚度为5~150μm。
2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述掩模板本体的材料包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚酰亚胺中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度相等。
4.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度为5~20μm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的掩模板,其特征在于,所述第一子掩模板和所述第二子掩模板之间的间距为0~5μm。
6.一种掩模组件,其特征在于,包括权利要求1至5任一项所述的掩模板、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。
7.根据权利要求6所述的掩模组件,其特征在于,所述掩模框包括位于相对两侧的夹紧部分,所述夹紧部分夹紧所述掩模板的相对两侧边缘。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015169087A1 (zh) * | 2014-05-07 | 2015-11-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板及其制作方法、掩模组件 |
CN105986225A (zh) * | 2015-02-16 | 2016-10-05 | 上海和辉光电有限公司 | Oled蒸镀用的屏蔽层及其制作方法 |
CN107740042A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-02-27 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 掩膜板 |
US20210036066A1 (en) * | 2019-07-29 | 2021-02-04 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Method and apparatus for determining subpixel arrangement of organic light emitting display panel, and computer readable storage medium |
CN113867043A (zh) * | 2020-06-30 | 2021-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发光基板及其制备方法、显示装置 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015169087A1 (zh) * | 2014-05-07 | 2015-11-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板及其制作方法、掩模组件 |
CN105986225A (zh) * | 2015-02-16 | 2016-10-05 | 上海和辉光电有限公司 | Oled蒸镀用的屏蔽层及其制作方法 |
CN107740042A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-02-27 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 掩膜板 |
US20210036066A1 (en) * | 2019-07-29 | 2021-02-04 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Method and apparatus for determining subpixel arrangement of organic light emitting display panel, and computer readable storage medium |
CN113867043A (zh) * | 2020-06-30 | 2021-12-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发光基板及其制备方法、显示装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CX01 | Expiry of patent term | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20140917 |