CN102513306A - 太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，包括步骤：将陶瓷吸片放置到超声波清洗机中；在所述超声波清洗机中放入清洗液，所述清洗液将所述陶瓷吸片全部浸泡；开启所述超声波清洗机，并在加热的同时进行超声；所述超声波清洗机工作结束后，将所述陶瓷吸片取出，自然干燥后，即完成了对陶瓷吸片的清洗。本发明利用了超声波清洗机的清洗功能，完成了对陶瓷吸片的清洗，清洗过程不会对陶瓷吸片的表面造成损伤，也不会产生杂质残留。

Description

太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法

技术领域

本发明涉及太阳能电池生产制造技术领域，更具体地说，涉及一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法。

背景技术

硅是太阳能电池应用中的一种理想材料，硅无毒，是地壳中储量第二大的元素。大量使用时，环境污染和资源耗尽的威胁小。目前绝大多数商业化的太阳能电池都是硅制作的，硅主要分为单晶硅、大晶粒硅(大晶粒的多晶硅)和非晶硅三种形式。

太阳能电池生产过程中，需要对多晶硅电池片进行装载或卸载，现有的生产技术中，使用陶瓷吸片来完成此动作。Tempress公司扩散炉配备的R2D机械手的接头部分的吸片为中空的陶瓷材质，在工作中陶瓷吸片中通过压缩空气，其产生的吸力将电池片吸附在陶瓷吸片表面。由于多晶硅电池片为太阳能电池板的关键部件，外来杂质对晶体硅硅片的电性能和电参数影响非常大，而陶瓷吸片又是与多晶硅电池片直接接触，因此，陶瓷吸片的清洁非常重要。

从材质方面，陶瓷吸片为易碎的中空陶瓷制品，且价格昂贵，不宜使用材质较硬的毛刷或金属刷来进行清洁，以避免对陶瓷吸片表面造成损伤，进而在生产中划伤硅片表面，影响太阳能电池的电性能及电参数。从工艺方面，为了不引入新的杂质，在清洗陶瓷吸片的过程中，也不能使用清洁剂，以避免使用酸性或碱性清洗剂进行清洗在陶瓷吸片内留有杂质残留。

因此，如何提供一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，以实现清洗过程不会对陶瓷吸片的表面造成损伤，也不会产生杂质残留，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，以实现清洗过程不会对陶瓷吸片的表面造成损伤，也不会产生杂质残留。

为了达到上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，包括步骤：

1)将陶瓷吸片放置到超声波清洗机中；

2)在所述超声波清洗机中放入清洗液，所述清洗液将所述陶瓷吸片全部浸泡；

3)开启所述超声波清洗机，并在加热的同时进行超声；

4)所述超声波清洗机工作结束后，将所述陶瓷吸片取出，自然干燥。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述清洗液为工业酒精。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述超声波清洗机内设置有石英罐，所述陶瓷吸片放置于所述石英罐中。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述石英罐的罐口设置有隔离膜。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述石英罐外的清洗液的高度低于所述石英罐的高度。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述石英罐内的清洗液为工业酒精，所述石英罐外的清洗液为水。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述超声波清洗机的工作温度为55～70℃。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述超声波清洗机的工作时间为15～25min。

优选的，在上述陶瓷吸片的清洗方法中，所述超声波清洗机工作结束后，所述陶瓷吸片平铺放置到保护膜上进行干燥。

本发明提供的太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法中，将陶瓷吸片放置到超声波清洗机中，放置完毕后，将清洗液放入到超声波清洗机中，清洗液要将陶瓷吸片全部浸泡，以防止超声过程中存在清洗不干净的地方。清洗液放置完毕后，开启超声波清洗机，超声波内的清洗液需设置在适当的温度，超声波清洗机工作一定时间后，关闭超声波清洗机，将超声波清洗机内的陶瓷吸片取出后进行晾晒，自然干燥后，即完成了对陶瓷吸片的清洗。本发明利用了超声波清洗机的清洗功能，完成了对陶瓷吸片的清洗，清洗过程不会对陶瓷吸片的表面造成损伤，也不会产生杂质残留。

具体实施方式

本发明公开了一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，以实现清洗过程不会对陶瓷吸片的表面造成损伤，也不会产生杂质残留。

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的事实例仅仅是本发明一部分事实例，而不是全部的实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，包括步骤：将陶瓷吸片放置到超声波清洗机中，放入陶瓷吸片前，首先将超声波清洗机内部清洗干净，以防止其内部存有杂质对陶瓷吸片产生二次污染；陶瓷吸片平铺放置到超声波清洗机内部后，将清洗液倒入超声波清洗机中，上述清洗液要求将放置好的陶瓷吸片全部浸泡，这样，在进行超声清洗时，才能对陶瓷吸片的各个部位进行清洗；清洗液倒入完毕后，开启上述超声波清洗机，仪器通过对清洗液加热的同时，完成对仪器内部陶瓷吸片的超声清洗；超声清洗工作结束后，将超声清洗后的陶瓷吸片从仪器中取出，平铺放置后，待其自然干燥完毕，即完成了对上述陶瓷吸片的清洗。

本发明提供的陶瓷吸片的清洗方法中，超声波清洗机的清洗过程如下：

超声波清洗机工作时，通过超声波在清洗液中的空化作用、加速度作用对清洗液和污染物直接或间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。当超声波作用到陶瓷吸片表面时，对陶瓷吸片表面的污物层进行清理，从而完成了对陶瓷吸片的洁净。

通过上述实施例中提供的陶瓷吸片的清洗方法完成清洗过程可以得出，本发明利用了超声波清洗机的清洗功能，完成了对陶瓷吸片的清洗，清洗过程不会对陶瓷吸片的表面造成损伤，也不会产生杂质残留。

为了进一步优化上述技术方案，上述实施例提供的陶瓷吸片的清洗方法，清洗液为工业酒精。工业酒精主要用于进行清洗工作，由于陶瓷吸片在工作过程中洁净程度要求较高，实用工业酒精清洗后自然挥发，不易在陶瓷吸片表面形成残留，无需擦拭，可以有效预防二次污染。

为了进一步优化上述技术方案，上述实施例提供的陶瓷吸片的清洗方法，上述超声波清洗机内设置有石英罐，陶瓷吸片平铺放置于上述石英罐中。超声波清洗机内放置石英罐后，清洗工作在石英罐中进行即可完成，石英罐外的清洗液设置为水，具体的，石英罐外的清洗液为工业纯水。超声清洗时，超声波清洗机通过石英罐外的水将温度传递到石英罐内，完成对石英罐内陶瓷吸片的清洗，具体的，石英罐内清洗液为工业酒精。超声波清洗机只需对石英罐内的陶瓷吸片通过工业酒精即可完成清洗工作，通过该种设置方法，节约了工业酒精的用量，实现了材料功能的最大化利用，完成了陶瓷吸片的清洗工作，同时节约了成本。

石英罐放入超声波内进行超声清洗工作前，将上述石英罐首先用工业酒精进行清洗，保证石英罐的清洁，以避免由石英罐内的污染物而对陶瓷吸片引入新的杂质，同时可以减少石英罐内污染物的含量，使得清洗时，不会引起石英罐内的污染物落入清洗后的陶瓷吸片上，从而降低了清洗的质量。

为了进一步优化上述技术方案，上述实施例提供的陶瓷吸片的清洗方法，石英罐的罐口设置有隔离膜，增加隔离膜后，可以防止超声清洗前后，在整个过程中污染物质的落入石英罐中，从而避免的对石英罐内陶瓷吸片的二次污染。具体的，隔离膜为保鲜膜。

为了进一步优化上述技术方案，上述实施例提供的陶瓷吸片的清洗方法，石英罐外的清洗液的高度低于石英罐的高度，超声波清洗时，通过石英罐内的清洗液对陶瓷吸片进行清洗，石英罐外的液体的高度低于石英罐内液体的高度，可避免石英罐外的清洗液混入石英罐内，从而避免了石英罐外液体中的杂质混入石英罐内，充分利用了石英罐内清洗液的洁净作用。

为了进一步优化上述技术方案，上述实施例提供的陶瓷吸片的清洗方法，超声波清洗机的工作温度设置为55～70℃，超声波清洗机的适宜温度设置与上述清洗温度之间，具体的，清洗温度设置为60℃。超声波清洗机的工作时间设置为15～25min，为了保证超声清洗对陶瓷吸片进行充分的清洗，超声波清洗机的清洗时间设置在上述工作时间之间，具体的，超声波清洗机的工作时间设置为20min。

为了进一步优化上述技术方案，上述实施例提供的陶瓷吸片的清洗方法，上述超声波清洗机工作结束后，陶瓷吸片平铺放置到保护膜上进行干燥。陶瓷吸片取出时，表面会粘附少量未挥发的酒精，需要进行自然烘干，放置到普通工作台时，不可避免的会受到工作台表面污染物的二次污染，为了避免以上事件的发生，进行干燥工作的工作台表面铺上一层保护膜，保证清洁偶的陶瓷吸片不会受到二次污染，具体的，上述保护膜为保鲜膜。

通过以上的过程可以看出，上述实施例中提供的陶瓷吸片的清洗方法，利用了超声波清洗机的超声波清洗作用，完成了对陶瓷吸片的清洗，避免了因使用毛刷或清洁剂，对陶瓷吸片表面产生物理损伤或引入新的杂质，且对陶瓷吸片的清洗达到了洁净的效果。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种太阳能电池片装卸用陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，包括步骤：

1)将陶瓷吸片放置到超声波清洗机中；

2)在所述超声波清洗机中放入清洗液，所述清洗液将所述陶瓷吸片全部浸泡；

3)开启所述超声波清洗机，并在加热的同时进行超声；

4)所述超声波清洗机工作结束后，将所述陶瓷吸片取出，自然干燥。

2.根据权利要求1所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述清洗液为工业酒精。

3.根据权利要求1所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述超声波清洗机内设置有石英罐，所述陶瓷吸片放置于所述石英罐中。

4.根据权利要求3所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述石英罐的罐口设置有隔离膜。

5.根据权利要求3所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述石英罐外的清洗液的高度低于所述石英罐的高度。

6.根据权利要求5所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述石英罐内的清洗液为工业酒精，所述石英罐外的清洗液为水。

7.根据权利要求1所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述超声波清洗机的工作温度为55～70℃。

8.根据权利要求1所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述超声波清洗机的工作时间为15～25min。

9.根据权利要求1所述的陶瓷吸片的清洗方法，其特征在于，所述超声波清洗机工作结束后，所述陶瓷吸片平铺放置到保护膜上进行干燥。