CN101776057A - 一种无油润滑气泵 - Google Patents

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Abstract

一种无油润滑气泵,涉及气泵结构。结构由机座、电机、偏心轴套、连杆式活塞、活塞环、活塞缸、供气室组成;其特征在于:活塞缸材质为铝合金6061,经阳极氧化处理;活塞环由聚四氟乙烯、铜粉热固模压成型,配方为聚四氟乙烯80~90%和铜粉10~20%。优点在于:活塞环和气缸均有自润滑效果,所以耐磨,同时活塞环与气缸二者硬度差值相对于聚四氟乙烯、石墨环与钢制汽缸之间的硬度差值小得多,所以会降低磨损量,同时偏心轴套配重得以重心稳,整机不振动,由于振动的衰减,也减小了缸体与活塞环的磨损量。

Description

一种无油润滑气泵
技术领域:
本发明涉及气泵结构,特别是无油润滑气泵活塞缸结构。
背景技术:
无油润滑气泵是指活塞缸中活塞运动没有使用润滑油进行润滑,以保证被压缩气体不受油污污染,这种气泵主要用于牙科钻头动力源、等离子切离机气源等,尤其多用在微型气泵上。其结构由机座、机座上水平设置的电机、电机主轴上套合的偏心轴套、偏心轴套突起偏心轴通过轴承套合在其下端圆孔的连杆式活塞、连杆式活塞上部用压紧圈固定的碗口状活塞环、固定在机座上方的活塞缸、活塞缸上端口固定套合带有进出气口与单向片阀的供气室组成。
这种气泵连杆式活塞下部连杆圆孔端运动轨迹为圆周运动,上部活塞局限在活塞缸内作直线上下运动,因而整体是作摇摆运动。其活塞环则作偏摆运动,因而其外沿与活塞缸接触面时大时小,则要求活塞环弹性大。一般活塞环弹性大则硬度就小,不耐磨,二者兼备较难,目前使用的是由聚四氟乙烯、石墨粉、粘结剂三者热固模压成型的活塞环。由于这种活塞环虽然耐磨、弹性好,但硬度小,而钢制活塞缸硬度大,二者硬度差距越大,则硬度小的材料越容易被磨损,磨损量也越大越快。所以活塞环磨损快、寿命短。
此外偏心轴套结构为圆盘体上凸起一根偏心销,圆盘体下半圆设置有偏心孔与电机主轴套合,并通过下半圆上开设纵向螺孔用螺钉实现偏心轴套与电机主轴紧固,圆盘体上半圆凸起销轴通过套合轴承与连杆式活塞下部圆孔连接。这种偏心轴套运动时由于重心偏移振动大,影响气泵使用寿命。
发明内容:
本发明的目的在于克服上述缺陷,提供一种无油润滑气泵。
本发明的方案是:活塞缸材质为铝合金6061,经阳极氧化处理;活塞环由聚四氟乙烯、铜粉热固模压成型,配方分别为聚四氟乙烯80-90%和铜粉10-20%。
本发明的优点在于:活塞环和气缸均有自润滑效果,所以耐磨,同时活塞环与气缸二者硬度差值相对于聚四氟乙烯、石墨环与钢制汽缸之间的硬度差值小得多,所以会降低磨损量,同时偏心轴套配重得以重心稳,整机不振动,由于振动的衰减,也减小了缸体与活塞环的磨损量。
附图说明:
图1为本发明结构示意图。
图2为图1的左视图。
具体实施方式:
本发明的结构由机座(1)、电机(6)、偏心轴套(3)、连杆式活塞(4)、活塞环、活塞缸、供气室(5)组成;其特征在于:活塞缸材质为铝合金6061,经阳极氧化处理;活塞环由聚四氟乙烯、铜粉热固模压成型,配方为聚四氟乙烯80~90%和铜粉10~20%。
活塞缸材质采用铝合金6061,铝合金6061主要合金无素为镁与硅,具有中等强度、良好的抗腐蚀性、可焊接性,氧化效果好。其硬度在HB30~35左右,比钢质汽缸硬度小且耐磨,经阳极氧化处理,表面光洁接近镜明水平,降低硬度也降低了摩擦系数。由于铜粉比石墨硬度高,而活塞环中聚四氟乙烯与铜粉配比则比与石墨粉配比热固成型后,显然硬度提高了。气缸硬度降低而活塞环硬度提高,二者之间硬度相互靠拢,其硬度差值相对于现有技术材质的气缸与活塞环硬度差值大为缩小,降低了磨损量。
偏心轴套(3)圆盘体下半圆外沿向外凸起延展出扇形块(2),扇形块(2)上下平面与圆盘体平齐,扇形延展体积满足以下条件:形成的偏心轴套(3)整体重心位于偏心孔轴心线上。
偏心轴套(3)延展扇形块使其重心位于偏心孔轴心线上的目的在于:使偏心轴套(3)旋转时不产生离心力,因而不会引发振动。

Claims (2)

1.一种无油润滑气泵,由机座(1)、电机(6)、偏心轴套(3)、连杆式活塞(4)、活塞环、活塞缸、供气室(5)组成;其特征在于:活塞缸材质为铝合金6061,经阳极氧化处理;活塞环由聚四氟乙烯、铜粉热固模压成型,配方为聚四氟乙烯80~90%和铜粉10~20%。
2.根据权利要求1所述的一种无油润滑气泵,其特征在于:偏心轴套(3)圆盘体下半圆外沿向外凸起延展出扇形块(2),扇形块(2)上下平面与圆盘体平齐,扇形延展体积满足以下条件:形成的偏心轴套(3)整体重心位于偏心孔轴心线上。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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