CN101661220A - 液晶显示器面板和掩模板 - Google Patents
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102650819A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板和掩膜板的定位方法 |
CN102789126A (zh) * | 2011-03-02 | 2012-11-21 | 株式会社东芝 | 光掩模及其制造方法 |
CN102831850A (zh) * | 2011-06-15 | 2012-12-19 | 广东中显科技有限公司 | 一种用于检测igzo-tft驱动特性的装置 |
CN102867823A (zh) * | 2012-09-27 | 2013-01-09 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN103499902A (zh) * | 2013-08-15 | 2014-01-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板的全距调控方法和装置 |
CN103744214A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法 |
CN104317158A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 |
WO2015010415A1 (zh) * | 2013-07-24 | 2015-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板、显示屏、拼接屏及拼接屏的对位方法 |
CN104570611A (zh) * | 2013-10-21 | 2015-04-29 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 掩模板及其改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
CN105759564A (zh) * | 2016-03-17 | 2016-07-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板及其制作方法 |
CN106502060A (zh) * | 2017-01-03 | 2017-03-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板及显示装置 |
CN107195639A (zh) * | 2017-06-27 | 2017-09-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法 |
CN107505754A (zh) * | 2017-09-20 | 2017-12-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板及液晶显示器 |
CN108254955A (zh) * | 2016-12-29 | 2018-07-06 | 乐金显示有限公司 | 显示装置及其制造方法 |
CN110716359A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板及其制造方法与对准精度检测方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100816340B1 (ko) * | 2001-08-27 | 2008-03-24 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 제조용 노광 마스크와 이를 이용한 액정표시 장치 제조에서의 기판의 노광 방법 |
US7113256B2 (en) * | 2004-02-18 | 2006-09-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method with feed-forward focus control |
-
2008
- 2008-08-27 CN CN2008101191369A patent/CN101661220B/zh active Active
Cited By (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102789126A (zh) * | 2011-03-02 | 2012-11-21 | 株式会社东芝 | 光掩模及其制造方法 |
CN102789126B (zh) * | 2011-03-02 | 2016-04-13 | 株式会社东芝 | 光掩模及其制造方法 |
CN102831850A (zh) * | 2011-06-15 | 2012-12-19 | 广东中显科技有限公司 | 一种用于检测igzo-tft驱动特性的装置 |
CN102650819B (zh) * | 2011-08-03 | 2014-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板和掩膜板的定位方法 |
CN102650819A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板和掩膜板的定位方法 |
CN102867823A (zh) * | 2012-09-27 | 2013-01-09 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN102867823B (zh) * | 2012-09-27 | 2015-05-27 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 |
WO2015010415A1 (zh) * | 2013-07-24 | 2015-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基板、显示屏、拼接屏及拼接屏的对位方法 |
CN103499902A (zh) * | 2013-08-15 | 2014-01-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板的全距调控方法和装置 |
WO2015021717A1 (zh) * | 2013-08-15 | 2015-02-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板的全距调控方法和装置 |
CN103499902B (zh) * | 2013-08-15 | 2015-12-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板的全距调控方法和装置 |
CN104570611A (zh) * | 2013-10-21 | 2015-04-29 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 掩模板及其改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
CN104570611B (zh) * | 2013-10-21 | 2016-06-08 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 掩膜板及其改善拼接曝光姆拉现象的方法 |
CN103744214A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法 |
WO2015100775A1 (zh) * | 2013-12-31 | 2015-07-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法 |
CN103744214B (zh) * | 2013-12-31 | 2016-08-17 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法 |
CN104317158A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 |
CN104317158B (zh) * | 2014-11-14 | 2018-05-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 |
CN105759564B (zh) * | 2016-03-17 | 2020-04-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板及其制作方法 |
CN105759564A (zh) * | 2016-03-17 | 2016-07-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板及其制作方法 |
CN108254955A (zh) * | 2016-12-29 | 2018-07-06 | 乐金显示有限公司 | 显示装置及其制造方法 |
CN108254955B (zh) * | 2016-12-29 | 2021-03-30 | 乐金显示有限公司 | 显示装置及其制造方法 |
CN106502060B (zh) * | 2017-01-03 | 2018-09-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板及显示装置 |
CN106502060A (zh) * | 2017-01-03 | 2017-03-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板及显示装置 |
CN107195639B (zh) * | 2017-06-27 | 2020-04-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法 |
CN107195639A (zh) * | 2017-06-27 | 2017-09-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法 |
US10847554B2 (en) | 2017-06-27 | 2020-11-24 | Beijing Boe Display Technology Co., Ltd. | Method for fabricating array substrate motherboard, array substrate motherboard and detection method |
CN107505754A (zh) * | 2017-09-20 | 2017-12-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板及液晶显示器 |
CN110716359A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板及其制造方法与对准精度检测方法 |
WO2021072930A1 (zh) * | 2019-10-14 | 2021-04-22 | Tcl华星光电技术有限公司 | 阵列基板及其制造方法与对准精度检测方法,及液晶显示面板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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