CN101378001A - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置，能更可靠地防止处理液(雾滴)侵入相邻的处理室。该基板处理装置具有对基板(S)实施药液处理的湿式处理部(2)和对基板(S)实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部(1)。各处理部(1、2)的处理室(10、20)经由开口部(11a)而连通，该开口部(11a)可通过设置在前处理部(1)一侧的闸门装置(14)和设置在湿式处理部(2)一侧的闸门装置(24)进行开闭。此外，在前处理部(1)的处理室(10)内配备有在开口部(11a)处于打开状态时对开口部(11a)向湿式处理部(2)一侧喷出空气的空气喷嘴(19a、19b)。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种向LCD(液晶显示装置)、PDP(等离子显示器)等FPD(平板显示器)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、半导体基板等基板供给各种处理液来实施处理的基板处理装置。

背景技术

一直以来，公知有如下装置，即，具有多个处理室，在运送LCD、PDP用玻璃基板等基板的同时，在各处理室内向基板供给处理液，由此对基板实施预定的工艺处理。例如，在专利文献1中记载有如下装置：相邻地设置通过给基板供给剥离液来剥离抗蚀剂覆膜的剥离处理室和对剥离处理后的基板进行清洗的清洗处理室。

在这种装置中，伴随着处理而充满处理室的雾状的处理液通过基板运送用的开口部侵入到相邻的处理室(称作相邻处理室)，会给该相邻处理室的基板处理带来各种影响。例如，在上述专利文献1的装置中，回收并再使用(循环使用)在剥离处理室中使用的剥离液，但是，此时，若清洗液的雾滴从清洗处理室侵入剥离处理室，则剥离液的质量就会恶化。

因此，通常，例如专利文献2所示，在处理室之间设置闸门，通过仅在运送基板时才打开开口部来防止雾滴侵入相邻处理室。

专利文献1：JP特开2004—146414号公报。

专利文献2：JP特开2000—58501号公报。

但是，即使是在处理室之间设置了闸门的装置，由于在运送基板过程中使开口部开着，所以雾滴依然会容易地通过开口部而侵入相邻处理室，从而，在防止雾滴侵入相邻处理室的问题上还存在改进的余地。

而且，考虑到在开口部关闭时附着于闸门上的雾滴在闸门动作时会飞散到相邻处理室内，特别是，在专利文献2的结构中，由于闸门是绕水平轴转动而倒向处理室内一侧的可倒式结构，所以所附着的雾滴等在闸门动作时(特别是打开时)容易飞散，因此这一点也需要改善。

另外，在多个处理室相邻的装置中，雾滴从其中一侧的处理室向另一侧的处理室侵入会成为问题，而相反却是在某种程度上容许的情况较多。例如，在专利文献1的装置中，在防止剥离液恶化的基础上，必须阻止雾滴从清洗处理室侵入剥离处理室，相反，即剥离液(雾滴)向清洗室的侵入就不会成为什么问题。从而，在防止雾滴侵入的对策方面，优选在考虑了这种情况的基础上来谈对策。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能更有效地防止雾状处理液侵入相邻的处理室的基板处理装置。

为了解决上述问题，本发明的基板处理装置的基本结构具有向基板供给处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室，并且，基板除了装置通过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部，对所述湿式处理室进行基板的运入运出，而且具有：闸门装置，其用于开闭所述开口部；气流形成装置，其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件，并且至少在所述开口部开口状态时，使气体从所述喷嘴构件喷出，由此形成朝向所述开口部的气流。

根据这种基板处理装置，在闸门装置使开口部处于打开状态时，即，主要是在基板通过开口部时，通过使气体从喷嘴构件喷出，在湿式处理室外形成朝向所述开口部的气流，利用其气压防止通过了所述开口部的处理液(雾滴)从湿式处理室内向室外流出。因此，与仅利用闸门装置来开闭开口部的现有装置相比，能够更可靠地防止雾滴流出。

另外，在所述基板处理装置中，作为所述闸门装置具有第一闸门装置和第二闸门装置，所述第一闸门装置具有从所述湿式处理室的室内一侧开闭所述开口部的闸门主体，所述第二闸门装置具有从所述湿式处理室的室外一侧开闭所述开口部的闸门主体，所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述开口部的基板供给气体，由此在该基板的表面上形成从湿式处理室的室外一侧向室内一侧流动的气流。

根据所述结构，由于在湿式处理室内还配备有闸门装置(第一闸门装置)，所以雾滴很难附着在湿式处理室以外的闸门装置(第二闸门装置)的闸门主体上。因此，能够有效地防止附着在第二闸门装置上的雾滴或者干燥物在闸门装置动作时飞散到湿式处理室的室外侧。并且，在基板通过开口部时，通过气流形成装置在基板表面上形成朝向湿式处理室的室内一侧流动的气流，所以更可靠地防止了雾滴从湿式处理室流出。

作为具体的结构，例如具有相邻处理室，所述相邻处理室经由所述开口部而与所述湿式处理室连通，并且对基板实施所述湿式处理的前处理或者后处理；在这种情况下，在该相邻处理室配置有所述第二闸门装置以及所述喷嘴构件。

根据所述结构，能够有效地防止当闸门动作时雾滴飞散到相邻处理室内或者在运送基板过程中雾滴通过所述开口部侵入相邻处理室内。

另外，在所述那样的基板处理装置中，还具有闸门控制装置，所述闸门控制装置在通过所述闸门主体关闭所述开口部的关闭状态和通过使所述闸门主体退避到规定的退避位置而打开所述开口部的打开状态之间切换控制所述各闸门装置的驱动状态，所述闸门控制装置在基板通过所述开口部时，在将所述第一闸门装置从关闭状态切换到打开状态之前，将所述第二闸门装置从关闭状态切换到打开状态。

根据所述结构，在运送基板时，由于与湿式处理室的室内一侧的第一闸门装置相比室外一侧的第二闸门装置总是先切换到打开状态，所以能够有效地防止雾滴附着到第二闸门装置的闸门主体上。

此时，优选地还具有控制所述气流形成装置的气流形成控制装置，所述气流形成控制装置与第一闸门装置从关闭状态向打开状态切换的动作同步而开始供给气体。

根据所述结构，由于在打开开口部的同时开始供给气体，所以能够更有效地防止雾滴从湿式处理室流出。

此外，优选地在上述那样的基板处理装置中，在所述各闸门装置中的至少第二闸门装置构成为通过使所述闸门主体沿所述隔壁的壁面滑动来开闭所述开口部的结构。

这样，根据使闸门主体沿隔壁的壁面滑动的结构，闸门主体不会像所谓的可倒式开闭结构那样剧烈摇动，因此，即使雾滴附着在闸门主体上，也很难引起雾滴等飞散。

此外，在具有与湿式处理室相邻的相邻处理室的基板处理装置的情况下，优选地所述相邻处理室还具有：在该处理室内以包围所述开口部的附近的方式形成的预备室；对预备室内的环境进行排气的预备室排气装置。

根据所述结构，伴随着第二闸门装置打开开口部的打开动作，附着在闸门主体上的雾滴飞散或者雾滴通过开口部从湿式处理室一侧侵入相邻处理室侧的情况下，所述雾滴会迅速地从预备室排出到外部。

另外，在本发明的基板处理装置中，对上述基本结构也可以添加如下的结构。即，作为所述湿式处理室具有在基板运送方向上并列的第一处理室以及第二处理室，在各处理室中使用相互不同的处理液对基板按顺序实施湿式处理，并且所述相互不同的处理液之间的关系是要求在处理基板处理时抑制在其中一种处理液中混入另一种处理液的情况的关系，在所述第一处理室和所述第二处理室之间设置有中间室，作为所述开口部，在所述第一处理室和中间室的隔壁上设置有第一开口部，在所述中间室和第二处理室的隔壁上设置有第二开口部，并且作为所述闸门装置设置有分别开闭所述第一、第二开口部的闸门装置，所述气流形成装置构成为，在所述中间室具有所述喷嘴构件，通过使气体从所述喷嘴构件喷出，从而形成朝向对象开口部的气流，所述对象开口部是所述第一开口部以及第二开口部中的一个的开口部，并且将位于使用所述另一种处理液的处理室与中间室之间的开口部作为该对象开口部，还设置有中间室排气装置，所述中间室排气装置在所述气流形成装置的所述喷嘴构件与所述对象开口部之间的位置处具有排气口，并通过所述排气口对所述中间室进行排气。在此，所谓“相互不同的处理液”除了指性质(属性)相互不同的处理液以外，还指性质相同而种类不同的处理液或者性质和种类相同而仅浓度相互不同的处理液等。

根据该基板处理装置，在第一处理室和第二处理室之间设置有中间室，在使用所述另一种处理液的处理室一侧的开口部(所述对象开口部)处于打开状态时，设置在所述中间室的喷嘴构件朝向所述对象开口部喷射气流，其结果，可以防止雾滴(另一种处理液)从所述对象开口部流出。并且，即使在所述雾滴流出一些的情况下，由于利用中间室排气装置对中间室进行了排气，所以所述雾滴从中间室排气到外部。此时，排气口由于设置在喷嘴构件与所述对象开口部之间的位置，所以流出的雾滴被迅速地排出。因此，有效地阻止了所述雾滴侵入另一侧处理室(即，使用所述一种处理液的处理室)，从而阻止了另一种处理液混入所述一种处理液中。

另外，在所述基板处理装置中，优选地通过在所述中间室设置分隔壁，将所述中间室的内部分隔为含有所述喷嘴构件的喷嘴室和含有所述对象开口部以及排气口的排气室，并且所述喷嘴构件通过设置在所述分隔壁上的基板运送用的开口部而向所述排气室一侧喷出气体。

根据所述结构，即使通过所述对象开口部流出一些雾滴，也能够通过分隔壁有效防止雾滴向另一侧处理室一侧扩散。因此，能够更有效地阻止所述雾滴侵入所述另一侧处理室。

此外，优选地所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述对象开口部的基板供给气体，由此形成沿着所述基板表面从所述中间室一侧向处理室一侧流动的气流。

根据所述结构，由于在基板通过所述对象开口部的期间，在基板表面上形成从中间室一侧向处理室一侧流动的气流，所以能够有效防止雾滴从处理室沿着基板流出。

另外，在上述装置中，所述相互不同的处理液是浓度不同的相同种类的处理液，并且高浓度的处理液在所述第一处理室中使用，所述喷嘴构件将所述第二开口部作为所述对象开口部而向该开口部喷出气体。

在该装置中，虽然在各处理室中实施了相同种类的处理，但由于具有上述装置结构，其结果，能够有效地防止低浓度的雾滴(处理液)从第二处理室流出并侵入第一处理室。因此，能够有效地防止发生如下的现象，即低浓度的雾滴混入高浓度的处理液从而稀释所述处理液。这样的结构特别是对于具有处理室排气装置和收集装置的基板处理装置非常有用，其中，所述处理室排气装置对所述第一处理室内进行排气，所述收集装置为了再使用所述排气中所包含的雾滴而收集该雾滴。就是说，在如此地收集并再使用排气中所包含的雾滴(高浓度的雾滴)的情况下，如果采用上述装置结构，则具有这样的优点，即，能够有效地防止收集并再使用的高浓度处理液被稀释。

根据本发明的基板处理装置，在基板通过开口部等时，从喷嘴构件喷出气体，通过其气压能够防止通过了所述开口部的处理液(雾滴)从湿式处理室内向室外流出。因此，与仅利用闸门装置开闭开口部的现有装置相比，能够更可靠地防止雾滴流出。

根据本发明的基板处理装置，在湿式处理室内也配置有闸门装置，并且雾滴难于附着在湿式处理室外的闸门装置的闸门主体上，因此在闸门动作时，能够有效地防止附着在湿式处理室外的闸门装置上的雾滴或者干燥物在湿式处理室的室外侧飞散。

此外，根据本发明的基板处理装置，在作为湿式处理室的第一处理室和第二处理室之间设置有中间室，在所述中间室设置有喷嘴构件并朝向对象开口部喷出气体，并且通过排气装置对所述中间室进行排气，因此即使在雾滴从对象开口部流出的情况下，也能够将该雾滴从中间室向外部迅速排出，因此，能够有效地防止雾滴从第一、第二处理室中的一侧向另一侧侵入。

附图说明

图1是表示本发明的基板处理装置(第一实施方式)的一个例子的概略结构图。

图2是表示前处理部以及湿式处理部的各闸门装置的结构的立体图。

图3是表示在从前处理部向湿式处理部运送基板时，闸门装置等的动作顺序的图。

图4是表示本发明的基板处理装置的其他例子的概略结构图。

图5A、图5B是表示前处理部以及湿式处理部的各闸门装置的其他结构的侧视图。

图6是表示本发明的基板处理装置(第二实施方式)的概略结构图。

图7是用于说明在从第一剥离处理室向第二剥离处理室运送基板时，闸门等的动作顺序的图。

图8是表示从第一剥离处理室向第二剥离处理室运送基板时的状态的图。

图9是表示本发明的基板处理装置(第三实施方式)的概略结构图。

图10是用于说明在从第一剥离处理室向第二剥离处理室运送基板时，闸门等的动作顺序的图。

具体实施方式

利用附图说明本发明的优选实施方式。

<第一实施方式>

图1表示本发明的基板处理装置的一个例子。该图所示的基板处理装置是一边运送基板S一边按预定的顺序对基板S实施规定的处理的工艺处理装置，该图示意性地表示其中的一部分。

如图所示，基板处理装置具有：向基板S供给药液(处理液)并实施规定的药液处理的湿式处理部2，对基板S实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部1。各处理部1、2分别具有箱形的密闭的处理室10、20。这些处理室10、20共有隔壁11并相邻，并且通过形成在该隔壁11上的用于基板运送的开口部11a相互连通。开口部11a是宽度方向(与基板S的运送方向垂直相交的方向，即在该图中垂直于纸面的方向)呈细长的长方形的形状，并且形成为使基板S通过所需的充足的大小。另外，在以下说明中，当称“上游侧”、“下游侧”时，都是基于基板S的运送方向。

在各处理室10、20的内部以规定间隔配备有多个运送辊5，构成为基板S在这些运送辊5的驱动下以水平姿态被运送的结构。

在前处理部1的处理室10(相当于本发明的相邻处理室)的内部，如该图所示那样，划分形成有包围开口部11a的预备室12。由此，在处理室10内，包括开口部11a的一部分空间与除此之外的空间被隔离开。

在预备室12中与所述隔壁11对置的壁面上形成有基板S的通过口12a，成为基板S通过该通过口12a而通过预备室12的结构。而且，在该预备室12中，其顶部连通连接有排气通路12b。该排气通路12b被导出到处理室10的外部并与负压泵13等连接，由此预备室12内的环境成为总是排气的状态。此外，在该实施方式中，该排气通路12b以及负压泵13等相当于本发明的预备室排气装置。

在预备室12内配备有开闭所述开口部11a的闸门装置14(相当于本发明的第二闸门装置)。

该闸门装置14包括用于从前处理部1一侧开闭开口部11a的闸门主体15和驱动该闸门主体15的驱动机构。

闸门主体15具有在宽度方向上细长的平板形状，而且整体由具有耐药性的材料构成。驱动机构则以使该闸门主体15沿隔壁11的壁面上下移动的方式构成。具体来说，如图2所示，具有：沿隔壁11引导闸门主体15的引导件16、设置在该引导件16上的齿条16a、16b、具备分别与这些齿条16a、16b啮合的小齿轮17a、17b的驱动轴17、驱动该驱动轴17的马达18等，并且其结构为，相应于所述驱动轴17的正反转驱动，使闸门主体15在关闭所述开口部11a的位置(图1中实线所示的位置)和退避到开口部11a的下方而打开该开口部11a的位置(图1中双点划线所示的位置)之间移动。另外，在以下的说明中，将通过闸门主体15而关闭开口部11a的状态称作闸门装置14的“关闭状态”，将闸门主体15退避到开口部11a的下方而打开该开口部11a的状态称作闸门装置14的“打开状态”。

在处理室10内，在预备室12的紧接着的上游侧位置还配备有上下一对的空气喷嘴19a、19b(相当于本发明的喷嘴构件)。这些空气喷嘴19a、19b由具有在宽度方向上连续或者断续延伸的狭缝状的开口的所谓狭缝喷嘴构成，并且其结构为，能够对运送中的基板S的上下各面分别从上游侧向下游侧(也就是说，朝向湿式处理部2一侧)沿倾斜方向呈带状喷出气体。在该实施方式中，喷出将清洁度以及温度、湿度调整为规定级别的所谓的CDA(Clean Dry Air：清洁干燥空气，以下简称为“空气”)。

这些空气喷嘴19a、19b经由具有电磁阀等的空气供给管19连接到图中未示的空气供给源，根据所述电磁阀等的控制在从各空气喷嘴19a、19b进行空气的喷出和停止空气的喷出之间进行切换，以及进行空气喷出量的调整。另外，在该实施方式中，空气喷嘴19a、19b、空气供给管19以及空气供给源等相当于本发明的气流形成装置。

另一方面，在湿式处理部2的处理室20(相当于本发明的湿式处理室)内部，配备有用于对基板S供给药液的多个液体喷嘴22。这些液体喷嘴22由将药液呈雾状喷出的所谓喷溅喷嘴构成，并按规定的排列配置在运送辊5的上部。这些液体喷嘴22经由具有电磁阀等的药液供给管23与未图示的空气供给源连接，并且根据所述电磁阀等的控制在从各液体喷嘴22进行药液的喷雾和停止该药液的喷雾之间进行切换，以及进行药液喷出量的调整。

此外，在处理室20内，与所述闸门装置14分开而另外单独配备有用于从湿式处理部2一侧开闭所述开口部11a的闸门装置24(相当于本发明的第一闸门装置)。

该闸门装置24的结构与前处理部1的闸门装置14的结构相同。即，包括用于开闭开口部11a的闸门主体25和驱动该闸门主体25的驱动机构，并且能够在通过闸门主体25而堵塞开口部11a的“关闭状态”和使闸门主体15退避到开口部11a的下方而打开该开口部11a的“打开状态”之间进行切换(图1中实线以及双点划线所示的状态)。

另外，上述基板处理装置具有将CPU等作为构成要素的控制器6(参照图2)，设置在排气通路12b、各供给管19、23等上的各电磁阀、闸门装置14、24的马达18等都与该控制器6连接，由此利用该控制器6统一进行控制。特别是，在从前处理部1向湿式处理部2运送基板S时，通过控制器6的控制，由闸门装置14，24控制的开口部11a的开闭等动作按照图3所示的顺序进行，由此，防止雾状的药液从湿式处理部2向前处理部1侵入。下面对这一点进行说明。另外，在该实施方式中，该控制器6相当于本发明的闸门控制装置以及气流形成控制装置。

在该装置中，在基板S的处理中，如图1的实线所示那样，各处理部1、2的闸门装置14、24被驱动控制为关闭状态。由此，各处理室10、20处于非连通状态，从而防止了基板S的处理过程中在湿式处理部2一侧产生的雾状的药液(以下仅称为“雾滴”)侵入前处理部1一侧。

若在各处理部1、2中结束了对基板S的处理，则湿式处理部2中的基板S被运送到下一个工序，并且前处理部1中的基板S被运送到湿式处理部2。

此时，在从前处理部1向湿式处理部2运送基板S之际，按图3所示的顺序进行开口部11a的开闭等动作。

首先，若通过图中未示的传感器检测到连续运送来的基板S到达了空气喷嘴19a、19b上游侧的规定位置，则将前处理部1的闸门装置14切换为打开状态。然后，当该闸门装置14变成完全打开状态时，在将湿式处理部2的闸门装置24切换为打开状态的同时，开始从空气喷嘴19a、19b喷出空气。

由此，基板S在通过预备室12，并且通过开口部11a而从前处理部1(处理部10)运入湿式处理部2(处理部20)。

另外，当这样将开口部11a打开时，存在雾滴从湿式处理部2一侧通过开口部11a而侵入前处理部1一侧的情况，但是像上述那样对预备室12内的环境进行吸引排气的结果是，通过排气通路12b将该雾滴导出。此外，在基板S通过预备室12的过程中，利用从空气喷嘴19a、19b排出的空气，沿基板S的上下两个面形成从上游侧向下游侧的气流，其结果，防止雾滴通过开口部11a而侵入到处理室10内，以及防止雾滴通过了通过口12a而向上游侧流动。因此，雾滴不会从预备室12侵入到上游侧，由此能够防止雾滴实质的侵入前处理部1内。

当继续运送基板S从而基板S完全运入到湿式处理部2的处理室20内时，按照与上述顺序相反的顺序关闭开口部11a。即，在将湿式处理部2的闸门装置24切换到关闭状态的同时，停止从空气喷嘴19a、19b喷出空气，其后，将前处理部1的闸门装置14切换到关闭状态。由此以后，在各处理部1、2中分别开始进行基板S的处理。

根据以上的基板处理装置，在前处理部1的处理室10内部划分形成有包围开口部11a的预备室12，对该预备室12的环境进行吸引排气，并且在该预备室12的紧接着的上游侧配备有空气喷嘴19a、19b，在开口部11a的开放中，利用从空气喷嘴19a、19b喷出的空气，沿基板S的上下两个面形成气流。

因此，能够有效地防止雾滴通过开口部11a而侵入(流出)到处理室10内或者雾滴通过了通过口12a而向上游侧流出，此外，即使在雾滴通过了开口部11a而侵入到预备室12内的情况下，该雾滴也会迅速通过排气通路12b而被排出到外部。因此，能够有效地防止雾滴从湿式处理部2实质的侵入前处理部1。

此外，在该基板处理装置中，不仅仅在前处理部1的处理室10内设置有闸门装置，还在湿式处理部2内也设置了闸门装置24，并且利用闸门主体25从湿式处理部2一侧也开闭开口部11a，由此能有效防止雾滴附着在前处理部1一侧的闸门主体15上。也就是说，能够有效地防止在开口部11a处于关闭状态时雾滴附着于前处理部1一侧的闸门主体15上。

特别是，在该装置中，如图3所示，在打开开口部11a时，首先将前处理部1一侧的闸门装置14切换到打开状态，之后将湿式处理部2一侧的闸门装置24切换到打开状态，另一方面，在关闭开口部11a时，首先将湿式处理部2一侧的闸门装置24切换到关闭状态，之后将前处理部1一侧的闸门装置14切换到关闭状态，因此，不存在前处理部1一侧的闸门主体15单独堵塞开口部11a的状态。因此，能够有效地防止雾滴附着于前处理部1一侧的闸门主体15上。

而且，如上所述，各闸门装置14、24由于是通过使闸门主体15、25沿隔壁11上下滑动来开闭开口部11a的结构，所以闸门主体不会像可倒式闸门装置那样大幅摆动，因此，即使雾滴附着在闸门主体15、25上，也很难伴随开闭动作而引起雾滴的飞散。

因此，减少发生在打开开口部11a时附着在闸门主体15上的雾滴飞散到前处理部1的处理室10内的情况，其结果，有效地防止了雾滴从湿式处理部2侵入前处理部1。

另外，在上述的基板处理装置中，作为具体的结构，可以采用以下的结构。

例如，在该实施方式中，虽然针对为了防止雾滴从湿式处理部2侵入前处理部1而采用本发明的例子进行了说明，但是也可以将本发明应用到湿式处理部2与后处理部之间的关系之中。例如，图4表示了其中一个例子。

在该装置中，在湿式处理部2的处理室20与后处理部3的处理室30之间的隔壁11′(交界壁)上形成有基板运送用的开口部11a′，并且通过该开口部11a′从湿式处理部2一侧向后处理部3一侧运送基板S。如该图所示，在湿式处理部2的处理室20内配备有闸门装置24′(相当于本发明的第一闸门装置)，在后处理部3的处理室30内配备有闸门装置14′(相当于本发明的第二闸门装置)。这些闸门装置14′、24′的结构与上述实施方式的闸门装置14、24相同。此外，在后处理部3的处理室30内设置有包围开口部11a′的预备室12′，并且通过排气通路12b′对预备室12′进行吸引排气。此外，在预备室12′(通过口12a′)的紧接着的下游侧配备有空气喷嘴19a′、19b′，在运送基板S的过程中，通过空气喷嘴19a′、19b′所喷出的空气而沿着基板S的上下各面形成朝向湿式处理部2一侧流动的气流。另外，闸门装置14′、24′等的驱动控制是以将图3中的前处理部1的闸门装置14的动作置换为后处理部3的闸门装置14′的动作的顺序来进行的。

根据如图4所示的基板处理装置的结构，能够有效地防止雾滴从湿式处理部2一侧侵入后处理部3一侧，并且能够起到与上述实施方式同样的作用效果。

此外，在上述实施方式的闸门装置14、24中，适用由齿条和小齿轮构成的驱动机构，使闸门主体15、25沿隔壁11滑动，但是闸门主体15、25的驱动机构也可以是其他结构。例如，也可以是如下的结构，即，向闸门主体15、25螺合***沿上下方向延伸的螺旋轴，随着该螺旋轴的旋转使闸门主体15、25沿上下方向移动。

而且，闸门装置14、24不仅限于如上述实施方式那样的闸门主体15、25沿隔壁11滑动的装置，也可以是例如图5A所示那样的装置。如该图所示的闸门装置14(24)具有在一部分上具备与开口部11a的大小大致相等的开口15a(25a)的闸门主体15(25)。该闸门主体15支承在通过平行连杆32、32而分别固定在隔壁11上的支架31上。在平行连杆32、32中的一个上一体地固定有驱动用连杆34，在该连杆34的前端连结着空气气缸36的活塞杆36a。并且，在空气气缸36的活塞杆处于突出的驱动状态，如该图所示那样，在开口部11a和开口15a上下错位的状态下闸门主体15与隔壁11紧密接触，由此，开口部11a由闸门主体15关闭，另一方面，在空气气缸36的活塞杆被拉入的驱动状态下，如图5B所示那样，闸门主体15向着远离隔壁11的方向平行移动，由此打开开口部11a。然后，在开口部11a处于打开的状态下，闸门主体15的开口15a与所述开口部11a在基板运送方向上并排着，由此能够通过开口15a运送基板S。根据这种闸门装置14、24的结构，以保持闸门主体15、25的姿态的状态进行开口部11a的开闭，因此与上述实施方式的闸门装置14等相同，在动作中雾滴很难发生飞散，因此，能够有效地防止伴随该飞散而雾滴侵入前处理部1内。

另外，本发明中，作为闸门装置14、24的具体结构，并不是排除了现有的可倒式装置的结构，但与使闸门主体滑动或者平行移动的结构相比，可倒式的闸门结构使雾滴更容易飞散，因此，就防止在闸门动作时雾滴飞散的方面来说，优选采用如上述实施方式等那样使闸门主体15、25滑动或者平行移动的结构。

此外，在上述实施方式和图4的例子中，在前处理部1和后处理部3设置有预备室12、12′，但这是为了向外部迅速地排出从开口部11a、11a′侵入的雾滴而所作的设计，并且，例如在湿式处理部2内产生的雾滴少且雾滴难以侵入前处理部1和后处理部3内的情况下，也可以省略预备室12、12′以及排气通路12b、12b′等结构，而且也可以在开口部11a、11a′的紧接着的附近配置空气喷嘴19a、19b、19a′、19b′。

此外，在上述实施方式以及图4中，虽然针对将本发明适用于前处理部1或后处理部3与湿式处理部2相邻的基板处理装置的例子进行了说明，但是本发明也可以适用于前处理部1或后处理部3不与湿式处理部2相邻的装置。即，本发明也可适用于如下的基板处理装置，即：在湿式处理部的上游侧以及下游侧仅设置有运送辊，并且在运送基板S的同时在湿式处理部中进行处理，进而在其前后仅运送基板S的基板处理装置；在湿式处理部的隔壁上设置一个基板运入运出兼用的开口部，通过驱动运送辊来运送基板S的同时将基板S从所述开口部运送到湿式处理部内，并进行规定的处理之后，反转驱动运送辊而将基板S从所述开口部运出的基板处理装置。此外，当然，本发明也可以适用于虽然前处理部或后处理部与湿式处理部相邻，但是根据基板的种类而在前处理部或后处理部不进行基板的处理而仅使其通过的基板处理装置。

<第二实施方式>

图6表示第二实施方式的基板处理装置。

该图所示的基板处理装置是一边运送基板S一边按预定顺序对基板S实施规定处理的工艺处理装置的一部分，具体来说示意性地表示将形成在基板S上的抗蚀膜剥离的工序的结构。

如该图所示，基板处理装置包括：向基板S供给剥离液(处理液)而实施剥离处理的第一剥离处理室51(相当于本发明的第一处理室)以及第二剥离处理室53(相当于本发明的第二处理室)、设置在这些处理室51、53之间的中间室52。第一剥离处理室51和中间室52共用隔壁61并相邻，中间室52和第二剥离处理室53共用隔壁63并相邻，并且通过形成在该隔壁61、63上的用于基板运送的开口部61a、63a(分别相当于本发明的第一开口部、第二开口部)而相互连通。各开口部61a、63a是沿宽度方向(与基板S垂直相交的方向，在图中为与纸面垂直的方向)细长的长方形形状，形成为基板S通过所需的足够大小。

在各处理室51、53以及中间室52的内部，以规定间隔配备有多个运送辊5，通过这些运送辊5的驱动，沿着由该辊5构成的运送路径将基板S以水平姿态向图中箭头方向运送。

在各处理室51、53的内部分别设置有用于向基板S供给剥离液的多个液体喷嘴70、80。各液体喷嘴70、80由将剥离液以喷雾的形式喷出的所谓喷溅喷嘴构成，而且都以规定排列配置在运送辊5的上方位置。

第一剥离处理室51的液体喷嘴70经由第一液体供给管71与第一液体罐73连接，并且通过设置在第一液体供给管71上的泵72的驱动以及未图示的电磁阀等的控制，能够从所述第一液体罐73接收剥离液的供给从而向基板S上供给剥离液。另一方面，第二剥离处理室53的液体喷嘴80经由第二液体供给管81与第二液体罐83连接，通过设置在第二液体供给管81上的泵82的驱动以及未图示的电磁阀等的控制，能够从所述第二液体罐83接收剥离液的供给从而向基板S上供给剥离液。即，各液体罐73、83分别收容有不同浓度的相同种类的剥离液，具体来说，在第一液体罐73收容有高浓度的剥离液，由此，在各处理室51、53中分别利用不同浓度的剥离液对基板S进行剥离处理。

在第一剥离处理室51中，在所述隔壁61的附近，配置有用于伴随基板S的运出而除去剥离液的上下一对气刀74、74。各气刀74、74由具有沿上述运送路径的宽度方向细长且在长度方向上连续延伸的细长的喷出口的狭缝喷嘴构成，在所述运送路径的上下两侧，分别以使喷出口位于所述运送路径一侧且稍朝向上游侧的方式配置各气刀74、74。各气刀74、74经由空气供给管76与未图示的空气供给源连接，通过操作未图示的电磁阀等，能够从所述空气供给源接收规定流量的空气的供给并向基板S喷出该空气。

另外，在第一剥离处理室51中设置有开闭所述开口部61a的闸门装置75，在第二剥离处理室53中设置有开闭所述开口部63a的闸门装置85。这些闸门装置75、85整体分别由具有耐药性的材料构成，并且具有形成为在宽度方向上细长的平板形状的闸门主体75a、85a和分别驱动闸门主体75a、85a的将马达作为驱动源的驱动机构，通过利用该驱动机构使闸门主体75a、85a分别沿隔壁61、63的壁面上下移动，从而能够开闭所述开口部61a、63a。另外，虽然省略了图示，但是作为驱动机构，例如可适用与第一实施方式的所述闸门装置14、24相同的机构。

所述中间室52，如该图所示，通过具有基板运送用的开口部62a的分隔壁62而被分为上游侧的喷嘴室52a和下游侧的排气室52b。

在喷嘴室52a设有上下一对的气刀86、86(喷嘴构件)，这些气刀86、86隔着所述运送路径配置。各气刀86、86经由空气供给管87与所述空气供给源连接，通过操作未图示的电磁阀等，能够从所述空气供给源接收规定流量的空气的供给并将该空气喷到基板S上。各气刀86、86由与配置在第一剥离处理室51中的狭缝喷嘴大致相同的狭缝喷嘴构成，而且分别以使喷出口位于所述运送路径一侧且稍朝向下游侧的方式配置。根据该结构，从气刀86、86喷出的空气通过所述开口部62a向第二剥离处理室53一侧、即向开口部63a一侧喷出，在运送基板S的过程中，沿该基板S的上下两个面形成向第二剥离处理室53一侧流动的气流。另外，在该实施方式中，这些气刀86、86、空气供给管87以及空气供给源相当于本发明的气流形成装置。

另一方面，在排气室52b的顶部连接有排气管91。该排气管91经由未图示的过滤器以及电磁阀等与负压泵92连接，由此，能够通过形成在排气室52b的顶部面上的排气口90排出中间室52内的环境气体。另外，在该实施方式中，该排气口90、排气管91以及负压泵92等相当于本发明的中间室排气装置。

在排气室52b还设置有从中间室52一侧开闭所述开口部63a的闸门装置88。该闸门装置88的结构与所述闸门装置75、85大致相同，通过闸门主体88a沿隔壁63在中间室52一侧的壁面上下移动，能够从中间室52一侧开闭所述开口部63a。另外，在该实施方式中，该闸门装置75、85、88相当于本发明的闸门装置。

在所述液体供给管71、81、空气供给管76、87以及排气管91上设置的各电磁阀，以及所述闸门装置75、85、88的各驱动机构的马达等都与作为驱动控制装置的控制器6电连接，通过该控制器6进行统一控制。并且，在运送基板时，通过所述控制器6的控制，由所述闸门装置75、85、88控制的所述开口部61a、63a的开闭、空气的喷出等按照如图7所示的顺序实施，由此防止雾状剥离液(以下简称“雾滴”)从第二剥离处理室53侵入第一剥离处理室51。以下，对这一点进行说明。

在该装置中，在处理基板S的过程中，如图6的实线所示那样，通过各闸门装置75、85、88关闭开口部61a、63a，由此第一剥离处理室51、中间室52以及第二剥离处理室53处于非连通的状态，从而能够防止在各处理部51、53中产生的雾滴向外部扩散。另外，中间室52(排气室52b)通过所述排气口90总是处于被排气的状态。

在各处理室51、53中结束了对基板S的处理时，将第二剥离处理室53的基板S运出到下一个工序，并且第一剥离处理室51的基板S通过中间室52并被运送到第二剥离处理室53。在从该第一剥离处理室51向第二剥离处理室53运送基板S时，按照图7所示的顺序开闭开口部61a、63a等。

首先，在第一剥离处理室51中基板S被运送到规定的位置，当通过未图示的传感器检测到基板S的前端时，气刀74、74开始喷出空气，并且闸门装置75动作而打开开口部61a，由此，基板S通过开口部61a而从第一剥离处理室51运出，并且伴随着该运出，利用从气刀74、74喷出的空气除去基板S上的剥离液等。

然后，在中间室52(喷嘴室52a)，气刀86、86开始喷出空气之后，中间室52一侧的闸门装置88与第二剥离处理室53一侧的闸门装置85按顺序动作，由此打开所述开口部63a，这样，基板S通过中间室52并且被运入第二剥离处理室53。此时，若从气刀86、86开始喷出空气，则该空气通过形成在分隔壁62上的开口部62a被吹向开口部63a，由此抑制雾滴从第二剥离处理室53流出。然后，如图8所示，在基板S通过开口部63a运送到第二剥离处理室53内的期间，通过从气刀86、86喷出的空气，沿基板S的上下两面形成向下游侧流动的气流(图中的实线箭头)，该气流通过开口部63a流入第二剥离处理室53内，从而防止雾滴从第二剥离处理室53流出。另外，在开口部63a打开的期间，虽然一些雾滴会从第二剥离处理室53向中间室52流出，但是通过排气室52b内的排气作用，将这样的雾滴通过排气口90排出到外部(参照图8中的虚线箭头)，由此防止雾滴从中间室52流出即防止雾滴侵入第一剥离处理室51。

这样在运送基板S的过程中，当从第一剥离处理室51运出基板S时，停止从气刀74、74喷出空气，同时闸门装置75动作，关闭开口部61a。然后，继续运送基板S，当完成了将基板S运入第二剥离处理室53的动作时，即，若通过配置在第二剥离处理室53内的未图示的传感器检测到基板S的后端时，通过第二剥离处理室53一侧的闸门装置85的动作而关闭开口部63a，其后，中间室52一侧的闸门装置88动作并定位到关闭位置，同时所述气刀86、86停止喷出空气。由此，在各处理室51、53中分别开始对基板S进行处理。

如上所述，在第二实施方式的基板处理装置中，由于在第一剥离处理室51和第二剥离处理室53之间设置了中间室52，在开口部63a打开的期间，通过设置在中间室52的气刀86、86向所述开口部63a喷出空气，从而能够有效防止雾滴从第二剥离处理室53流出，而且，即使在假设雾滴从第二剥离处理室53通过开口部63a而流到中间室52的情况下，该雾滴也会从中间室52被排出到外部，从而能够防止其侵入第一剥离处理室51。从而，能够防止发生如下的不良现象，即，第二剥离处理室53所产生的低浓度的雾滴侵入第一剥离处理室51，由此稀释了第一剥离处理室51的高浓度的剥离液，进而能够影响到第一剥离处理室51的处理。

特别是，在该基板处理装置中，通过在中间室52内设置分隔壁62，将中间室52分为上游侧的喷嘴室52a和下游侧的排气室52b，使空气从喷嘴室52a一侧通过开口部62a喷出，同时对排气室52b内进行排气，由于是这样的结构，所以能够通过分隔壁62更有效地阻止从第二剥离处理室53流出的雾滴向上游侧扩散，其结果是能够高效地防止雾滴侵入第一剥离处理室51。

<第三实施方式>

图9表示第三实施方式的基板处理装置的一个例子。

第三实施方式的基板处理装置是上述第二实施方式的变形例，并且适用于在第二剥离处理室53中使用比第一剥离处理室51的剥离液浓度高的情况。另外，该基板处理装置的基本结构与第二实施方式相同，所以对与第二实施方式相同的部分标注相同的附图标记并省略其说明，下面，对与第二实施方式的不同点进行说明。

如该图所示，在该处理槽装置中，在中间室52的上游侧设置了排气室52b，同时在下游侧设置了喷嘴室52a，并且将气刀86、86分别以使喷出口位于所述运送路径一侧且稍朝向上游侧的方式配置。而且，在排气室52b设置有闸门装置89，该闸门装置89从中间室52一侧开闭所述隔壁61的开口部61a。该闸门装置89的结构与所述闸门装置75、85大致相同，通过使闸门主体89a沿隔壁61的位于中间室52一侧的壁面上下移动，能够从中间室52一侧开闭所述开口部61a。另外，在该装置中，没有设置从中间室52一侧将隔壁63的开口部63a开闭的所述闸门装置88。

在该装置中，在从第一剥离处理室51向第二剥离处理室53运送基板S时，基于上述控制器6的控制，按照图10所示的顺序进行开口部61a、63a的开闭等动作。

首先，在第一剥离处理室51中，当基板S运送到规定位置时，在气刀74、74开始喷出空气的同时，中间室52一侧的闸门装置89进行动作，将该闸门主体89a定位到可以打开开口部61a的位置(此时开口部61a由闸门装置75关闭)。接着，气刀86、86开始喷出空气，然后，通过闸门装置75动作而打开开口部61a，进而通过闸门装置85动作而打开开口部63a。由此，基板S通过开口部61a而从第一剥离处理室51被运出，伴随该运出，通过从气刀74、74喷出的空气而除去基板S上的剥离液等。此时，当气刀86、86开始喷出空气时，该空气通过在分隔壁62上所形成的开口部62a而吹向开口部61a，由此能够抑制雾滴从第一剥离处理室51流出。并且，在基板S通过开口部61a而从第一剥离处理室51被运出的期间，由从气刀86、86喷出的空气形成沿基板S的上下两个面向上游侧流动的气流，该气流通过开口部61a进入第一剥离处理室51内，从而防止雾滴从第一剥离处理室51流出。另外，在开口部61a处于开放的期间，虽然一些雾滴可能会从第一剥离处理室51向中间室52流出，但是该雾滴在排气室52b内的排气作用下通过排气口90排出到外部，由此防止雾滴从中间室52流出，即防止雾滴侵入第二剥离处理室53。

这样继续运送基板S，当从第一剥离处理室51运出基板S时，通过第一剥离处理室51一侧的闸门装置75动作而关闭开口部61a，同时停止从气刀74、74喷出空气，进而中间室52一侧的闸门装置89动作而置于关闭位置。然后，基板S继续被运送，当完成了将基板S运入第二剥离处理室53的动作时，闸门装置85动作而关闭开口部63a，同时气刀86、86停止喷出空气。

根据这种第三实施方式的基板处理装置，由于从设置在中间室52的气刀86、86朝向开口部61a喷出空气，所以能够有效地防止雾滴从第一剥离处理室51流出，并且，即使在假设雾滴从第一剥离处理室51通过开口部61a流到中间室52的情况下，该雾滴也会从中间室52被排出到外部，从而防止了其侵入第二剥离处理室53。因此，根据该装置能够防止发生如下的情况，即在第一剥离处理室51产生的低浓度的雾滴侵入第二剥离处理室53，进而稀释该第二剥离处理室53的剥离液，由此影响在第二剥离处理室53中的剥离处理。

另外，作为上述第二、第三实施方式的基板处理装置的具体结构也可以采用如下的结构。

例如，在第二、第三实施方式中，通过在中间室52设置分隔壁62，将其内部分为喷嘴室52a和排气室52b，但是也可以省略分隔壁62。可是，如果适用设置了分隔壁62的结构，如上所述，即使在低浓度的雾滴流出到中间室52内的情况下，也能够有效地阻止该雾滴向使用高浓度的剥离液的处理室一侧扩散。因此，能够更可靠地防止低浓度的雾滴向高浓度一侧的剥离处理室侵入，从这点来看优选设置分隔壁62。

此外，第二实施方式的基板处理装置例如还具有对第一剥离处理室51进行排气的排气装置(相当于本发明的处理室排气装置)和收集包含在该排气装置所排出的气体中的雾滴(高浓度雾滴)的收集装置(相当于本发明的收集装置)，并且也可以将收集到的雾滴回收到液体罐73中进行再使用。也就是说，在收集并再使用雾滴的情况下，如果低浓度的雾滴侵入第一剥离处理室51，由于低浓度的雾滴也被收集装置所收集，所以剥离液容易被稀释。针对这一点，如果采用图6所示的装置结构，则能够有效防止低浓度的雾滴侵入第一剥离处理室51，因此，特别适合于将高浓度的雾滴收集并再使用的上述这样的装置。另外，这一点在下述情况下也是相同的，即，针对第三实施方式的基板处理装置，在第二剥离处理室53中收集并再使用高浓度的雾滴。

此外，在第二、第三实施方式中，对分别使用浓度不同的相同种类的处理液在各处理室51、53中实施剥离处理的基板处理装置进行了说明，但是本发明不仅限于此。例如，也可以适用于分别使用不同浓度的蚀刻液在各处理室对基板实施蚀刻处理的基板处理装置。另外，除了像这样在各处理室使用浓度相互不同的相同种类的处理液以外，使用性质(属性，主要是成为对象的处理)相互共通而种类不同的处理液的装置、使用性质(属性)相互不同的处理液的装置、例如在上游侧的处理室使用剥离液来进行剥离处理而在下游侧的处理室使用纯水进行清洗处理这样的装置中，当然也适用本发明。

另外，在上述的第一～第三实施方式中，对将基板S以水平姿态运送，并对该基板S实施处理的情况进行了说明，但是，本发明当然也可以适用于将基板S以倾斜姿态(例如在与基板的运送方向垂直相交的方向上，从一侧向另一侧倾斜的姿态)运送并对该基板S实施处理的装置。

Claims (12)

1.一种基板处理装置，具有向基板供给处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室，通过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部，对所述湿式处理室进行基板的运入运出，其特征在于，具有：

闸门装置，其用于开闭所述开口部；

气流形成装置，其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件，并且至少在所述开口部处于开口状态时，使气体从所述喷嘴构件喷出，由此形成朝向所述开口部的气流。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

作为所述闸门装置具有第一闸门装置和第二闸门装置，所述第一闸门装置具有从所述湿式处理室的室内一侧开闭所述开口部的闸门主体，所述第二闸门装置具有从所述湿式处理室的室外一侧开闭所述开口部的闸门主体，

所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述开口部的基板供给气体，由此在该基板的表面上形成从湿式处理室的室外一侧向室内一侧流动的气流。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

具有相邻处理室，所述相邻处理室经由所述开口部而与所述湿式处理室连通，并且对基板实施所述湿式处理的前处理或者后处理；在该相邻处理室配置有所述第二闸门装置以及所述喷嘴构件。

4.如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，

还具有闸门控制装置，所述闸门控制装置在通过所述闸门主体关闭所述开口部的关闭状态和通过使所述闸门主体退避到规定的退避位置而打开所述开口部的打开状态之间切换控制所述各闸门装置的驱动状态，

所述闸门控制装置在基板通过所述开口部时，在将所述第一闸门装置从关闭状态切换到打开状态之前，将所述第二闸门装置从关闭状态切换到打开状态。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

还具有控制所述气流形成装置的气流形成控制装置，所述气流形成控制装置与第一闸门装置从关闭状态向打开状态切换的动作同步而开始供给气体。

6.如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述各闸门装置中的至少第二闸门装置构成为通过使所述闸门主体沿所述隔壁的壁面滑动来开闭所述开口部的结构。

7.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述相邻处理室还具有：在该处理室内以包围所述开口部的附近的方式形成的预备室；对预备室内的环境进行排气的预备室排气装置。

8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

作为所述湿式处理室具有在基板运送方向上并列的第一处理室以及第二处理室，在各处理室中使用相互不同的处理液对基板按顺序实施规定的湿式处理，并且所述相互不同的处理液之间的关系是要求在处理基板时抑制在其中一种处理液中混入另一种处理液的情况的关系，

在所述第一处理室和所述第二处理室之间设置有中间室，作为所述开口部，在所述第一处理室和中间室的隔壁上设置有第一开口部，在所述中间室和第二处理室的隔壁上设置有第二开口部，并且作为所述闸门装置设置有分别开闭所述第一、第二开口部的闸门装置，

所述气流形成装置构成为，在所述中间室具有所述喷嘴构件，通过使气体从所述喷嘴构件喷出，从而形成朝向对象开口部的气流，所述对象开口部是所述第一开口部以及第二开口部中的一个开口部，并且将位于使用所述另一种处理液的处理室与中间室之间的开口部作为该对象开口部，

还设置有中间室排气装置，所述中间室排气装置在所述气流形成装置的所述喷嘴构件与所述对象开口部之间的位置处具有排气口，并通过所述排气口对所述中间室进行排气。

9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

通过在所述中间室设置分隔壁，将所述中间室的内部分隔为含有所述喷嘴构件的喷嘴室和含有所述对象开口部以及排气口的排气室，并且所述喷嘴构件通过设置在所述分隔壁上的基板运送用的开口部而向所述排气室一侧喷出气体。

10.如权利要求8或9所述的基板处理装置，其特征在于，

所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述对象开口部的基板供给气体，由此形成沿着所述基板表面从所述中间室一侧向处理室一侧流动的气流。

11.如权利要求8或9所述的基板处理装置，其特征在于，

所述相互不同的处理液是浓度不同的相同种类的处理液，并且高浓度的处理液在所述第一处理室中使用，所述喷嘴构件将所述第二开口部作为所述对象开口部而向该开口部喷出气体。

12.如权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，

具有：对所述第一处理室内进行排气的处理室排气装置；为了再使用所述排气中所包含的雾滴而收集该雾滴的收集装置。

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