CN101124409B - 差动泵吸的真空***及差动抽真空的方法 - Google Patents

差动泵吸的真空***及差动抽真空的方法 Download PDF

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Abstract

一种差动地泵吸的质谱计***,包括一台有多个压力室的质谱计、一个附接于其上的真空泵和一个连接于该泵出口的前级泵;该真空泵包括至少三个泵入口、一第一泵吸区、一在第一泵吸区下游的第二泵吸区、一在第二泵吸区下游的第三泵吸区、一个从一压力相当小的第一压力室来的出口、一个用于该质谱计的压力中等的第二压力室的出口和一个用于该质谱计的压力最高的第三压力室的出口;该第一压力室连接在第一泵入口上,通过该第一泵入口的流体能从第一室进入该泵而向着一个泵出口通过第一、第二、第三泵吸区,该第二压力室连接在第二泵入口上,通过该第二泵入口的流体能进入该泵而在所述各区中只朝该泵出口的方向只通过第二和第三泵吸区,该第三压力室连接在第三泵入口上,通过该第三泵入口的流体能进入该泵而在所述各区中朝该泵出口的方向只通过第三泵吸区的至少一部分;该前级泵使得在使用中从质谱计泵吸的流体质量的至少99%通过该真空泵和前级泵而抽走。

Description

差动泵吸的真空***及差动抽真空的方法
本发明涉及一种真空泵,特别是一种适用于多室差动泵吸的带有多个口的复合式真空泵。 
在一个差动泵吸的质谱计***中,一个试样和载气被引入质量分析器进行分析。图1中给出这样一个例子。参照图1,在这样一个***中有一紧随在第一(取决于***的类型)、第二和第三抽真空的接口室11、12、14之后的高真空室10。第一接口室是该抽真空的质谱计***中压力最高的室并可包含一孔或毛细管,离子通过该孔从离子源抽入第一接口室11中。该任选的第二接口室12可以包括一种离子光学,用于将从第一接口室11来的离子导入第三接口室14,而第三接口室14可以包括附加的离子光学,用于将离子从第二接口室导入高真空室10。在该例子中,使用时,该第一接口室的压力为约1~10mbar,该第二接口室(使用时)的压力为约10-1~1mbar,该第三接口室的压力为约10-2~10-3mbar,而高真空室的压力为约10-5~10-6mbar。 
高真空室10、第二接口室12和第三接口室14可以利用一复合式真空泵16来抽真空。在该例子中,该真空泵有两个两组涡轮分子(turbo-molecular)泵吸级18、20形式的泵吸区和一个Holweck牵引(drag)机构22形式的第三泵吸区;也可以替代使用另一种牵引机构如Sieybahn或Gaede机构。每一组涡轮分子泵吸级包括多对(图1中示出三对,虽然可提供任何合适的数目)已知角度结构的转子19a、21a和定子19b、21b。Holweck机构22以本质上已知的方式包括多个(图1中示出两个,虽然可提供任何合适的数目)转动的圆筒23a和相应的环状定子23b及螺旋状通道。 
在该例子中,第一泵的入口24连接在高压真空室10上,而通过入口24泵吸的流体顺序流过两组涡轮分子泵吸级18、20和Holweck机构22并经过出口30而流出该泵。第二泵的入口26连接在第三接口室14上,而通过入口26泵吸的流体流过涡轮分子泵吸级20和Holweck机构22并经过出口30而流出该泵。在该例子中,泵16还包括一个第三口27,该口27可以选择地打开和关闭,并可以(例如)利用一个内挡板将流体从任选的第二接口室12导入泵16。当第三口打开时,通过 第三口27泵入的流体仅通过Holweck机构并经过出口30而流出该泵。在该例子中,第一接口室11连接在级前泵(backing pump)32上,后者也从复合式真空泵16的出口30泵吸流体。该前级泵通常从第一室11直接泵吸比从次级真空泵的出口30泵吸的更多的质量流。当进入每个泵的流体在从该泵流出之前通过各自的不同数目的级时,泵16能够在室10、12、14中提供所需的真空度,而前级泵32则在室11中提供所需的真空度。 
前级泵通常是一种相当大的立式泵。取决于所用的前级泵的类型,由前级泵在第一接口室11中产生的效能可以受操作频率的显著影响。例如,一台以50Hz运转的直接在线的前级泵在第一室11中产生的效能比由同一泵在60Hz操作时产生的效能小20%之多。当其它室10、12、14均连接在第一室11上时,第一室11中的效能的变化将对其它室中的效能产生显著影响。 
至少在其优选实施例中,本发明寻找解决这些和其它问题的办法。 
在第一方面,本发明提供一种差动泵吸的真空***,该***包括一套至少有第一室和第二室的设备如质谱计与一真空泵,该真空泵用于从这些室差动地泵吸流体,从而在第一室中产生大于0.1mbar最好大于1mbar的第一压力和在第二室中产生小于第一压力的第二压力,该泵包括每个用于接受从一相应的压力室来的流体的至少是第一和第二泵入口与多个相对于这些入口安置的泵吸级,使得从第一室接受的流体通过的泵吸级少于从第二室接受的流体所通过的泵吸级,这些入口附接在该设备上,使得至少99%的从该设备泵吸的流体质量通过该泵的至少一个泵吸级。 
该差动地泵吸的真空泵可以有附加的压力小于上述室的压力室,它们可以用同一泵吸装置或用一独立的泵吸装置泵吸。但是,在任一情况下,通过这些附加的压力较小的压力室泵吸的流体质量通常比总***质量流的1%要小得多。 
每个泵吸级通常包括一个干泵吸级,也即一个其操作不需要液体或润滑油的泵吸级。 
在一个实施例中,该设备包括一个第三室,而该泵包括一个第三入口,用于接受从第三室来的流体,以便在该第三室中产生一个小于 第二压力的第三压力,这些泵吸级这样设置,使得从第三室进入该泵的流体所通过的泵吸级数目大于从第二室进入该泵的流体所通过的泵吸级数目。换句话说,在该实施例中,该泵至少包括三个泵入口、一个连接在第一泵入口上的从压力相当大的第一室来的出口、一个连接在第二泵入口上的用于压力中等的第二室的出口和一个连接在第三泵入口上的压力相当小的第三室的出口。 
最好是,该泵包括至少三个泵吸区,每个区包括至少一个泵吸级,用于差动地泵吸该第一室至第三室。该泵最好包括一个第一泵吸区、一个在第一泵吸区下游的第二泵吸区和一个在第二泵吸区下游的第三泵吸区,这些区相对于这些入口这样安置,使得从第三室进入该泵的流体通过第一、第二和第三泵吸区,从第二室进入该泵的流体只通过所述各区中的第二和第三泵吸区,而从第一室进入该泵的流体只通过所述各区中的第三泵吸区的至少一部分。 
最好是,第一和第二泵吸区中的至少一个包括至少一个涡轮分子泵吸级。第一和第二泵吸区两者均可包括至少一个涡轮分子泵吸级。第一泵吸区的泵吸级的尺寸可以与第二泵吸区的泵吸级的尺寸不同。例如,第二泵吸区的泵吸级可以大于第一泵吸区的泵吸级,以提供选择的泵吸性能。 
任选地,该第三泵吸区这样设置,使得从第二泵入口通过第三泵吸区的流体遵循一条与从第一泵入口通过第三泵吸区的流体不同的路径。例如,第三泵吸区可以这样设置,使得从第一泵入口通过第三泵吸区的流体只遵循从第二泵入口通过第三泵吸区的流体的路径的一部分。或者是,该第三泵吸区可以这样设置,使得从第一泵入口通过第三泵吸区的流体遵循一条与从第二泵入口通过第三泵吸区的流体隔开的路径。例如,该第三泵吸区可以包括多个通道,其中的一个或多个通道与第二泵入口连通,而其余通道与第一泵入口连通。 
该第三泵吸区最好包括至少一个分子牵引泵吸级。在这些优选实施例中,该第三区包括一个带有多个设置成多根螺线的通道的多级Holweck机构。该Holweck机构可以相对于第一和第二泵入口这样安置,使得从第一泵入口通过该Holweck机构的流体只遵循从第二泵入口通过该Holweck机构的流体的路径的一部分。 
在一个实施例中,该第三泵吸区包括至少一个Gaede泵吸级和/或 至少一个空气动力泵吸级,用于接受从每个第一室、第二室和第三室进入该泵的流体。该Holweck机构可以安置在所述至少一个Gaede泵吸级和/或至少一个空气动力泵吸级的上游,从而使得从第一泵入口进入该泵的流体不会通过该Holweck机构。 
该空气动力泵吸级可以是一个再生级。其它类型的空气动力机构可以是侧流、侧通道和周边流机构。最好是,在使用中,从该泵出口排出的流体的压力等于或大于10mbar。 
该设备可以包括一个置于第一室和第二室之间的第四室。在这种情况下,该真空泵最好包括一个任选的第四入口,用于接受从该第四室来的流体,该第四入口这样安置,使得从第四室进入该泵的流体在所述各区中朝该泵出口的方向只通过第三泵吸区,而从第四室进入该泵的流体通过第三泵吸区的泵吸级的数目大于从第一室进入该泵的流体通过第三泵吸区的泵吸级的数目。 
该泵最好包括一根驱动轴,轴上已安装至少一个用于每个泵吸级的转子元件。至少两个泵吸区的转子元件可以安置在一个安置于该驱动轴上的共用叶轮上,最好与其成为一体。例如,用于第一和第二泵吸区的转子元件可以与该叶轮形成一体。在该第三泵吸区包括一个分子牵引泵吸级的场合,一个用于该分子牵引泵吸级的叶轮可以安置在一个与该叶轮形成一体的转子上。例如,该转子可以包括一个基本上与该叶轮正交而最好与叶轮形成一体的圆盘。在第三泵吸区包括一个再生的泵吸级的场合,用于该再生的泵吸级的转子元件最好与叶轮形成一体。 
该***最好包括一个连接在该泵出口上的前级泵,使得在使用中,至少99%的从该设备泵吸的流体质量通过该真空泵和前级泵两者。 
在第二方面,本发明提供一种对一设备的多个室差动地抽真空的方法,该方法包括如下步骤:提供一个真空泵,该泵至少包括每个用于接受从一相应的室来的流体的第一和第二泵入口与多个相对于这些入口这样安置的泵吸级,使得从第一入口进入该泵的流体通过的泵吸级少于从第二入口进入该泵的流体所通过的泵吸级;将该泵的各入口附接到各室上,使得在使用中,至少99%的从该设备泵吸的流体质量通过该泵的至少一个泵吸级,以及操作该泵而在第一室中产生一个大于0.1mbar的第一压力和在第二室中产生一个小于第一压力的第二压 力。 
在第三方面,本发明提供一种差动地泵吸的真空***,该***包括多个压力室和一附接于其上的真空泵,该泵包括多个每个用于接受从一相应的压力室来的流体的泵入口和多个用于差动地泵吸这些室的泵吸级;其中,一个设置成从待产生最高压力的压力室泵吸流体的泵吸级包括一个Gaede泵吸级或一个空气动力泵吸级。该***可以是一个质谱计***、一个涂层***或包括多个差动泵吸室的其它形式的***。本发明的上述与第一方面有关的特点同样适用于本发明的该第三方向。 
在第四方面,本发明提供一种对多个室差动地抽真空的方法,该方法包括下列步骤:提供一个真空泵,该泵包括多个每个用于接受从一相应的压力室来的流体的泵入口和多个用于差动地泵吸这些室的泵吸级;以及将该泵附接在这些室上,使得一个用于泵吸从待产生最高压力的压力室的流体的泵吸级包括一个Gaede泵吸级或一个空气动力泵吸级。 
在第五方面,本发明提供一种复合式多口真空泵,该泵包括第一、第二、第三泵吸区、一个第一泵入口、一个第二泵入口、一个任选的第三泵入口和一个第四泵入口,通过第一泵入口的流体能够进入该泵而向着一泵出口通过每个泵吸区,通过第二泵入口的流体能够进入该泵而朝该泵出口的方向只通过第二和第三泵吸区,通过任选的第三泵入口的流体能够进入该泵而朝该泵出口的方向只通过第三泵吸区,通过第四泵入口的流体能够进入该泵而朝该泵出口的方向只通过第三泵吸区的一部分。 
本发明也提供一种差动地泵吸的真空***,该***包括多个室和一个前述用于对每个室抽真空的泵。该***最好包括一个有一入口连接到该真空泵的出口上的前级泵,用以接受从该真空泵排出的流体。 
上述与本发明的***或泵的各方面有关的特点同样适用于本发明的方法的各方面,反之亦然。 
现在参照附图仅作为例子描述本发明的优选特点,附图中: 
图1是通过一种已知的适用于对一差动泵吸的质谱计***抽真空的多口真空泵的简化截面图; 
图2是通过一种适用于对图1的差动泵吸的质谱计***抽真空的 多口真空泵的第一实施例的简化截面图; 
图3是通过一种适用于对图1的差动泵吸的质谱计***抽真空的多口真空泵的第二实施例的简化截面图; 
图4是通过适用于图3中所示的泵的叶轮的简化截面图;以及 
图5是通过一种适用于对图1的差动泵吸的质谱计***抽真空的多口真空泵的第三实施例的简化截面图。 
图2例示一种适用于对参照图1的上述差动泵吸的质谱计***抽去总质量流的99%以上的复合式多口真空泵100的第一实施例。这是通过除了通常的第二和第三最高压力室以外还将真空泵100设置成能够直接泵吸该最高压力室而达到的。该复合式多口真空泵100包括一个多部件主体102,其内安装一个驱动轴104。轴104的转动是通过一台置于轴104周围的电动机(未示出)如无刷直流电动机而实现的。轴104安装在对置的轴承(未示出)上。例如,驱动轴104可以由一个混合的永久磁体轴承和油润滑的轴承***支承。 
该泵包括至少三个泵吸区106、108、112。第一泵吸区106包括一组涡轮分子泵吸级。在图2所示的实施例中,该组涡轮分子泵吸级106包括已知角度结构的四个转子叶片和三个定子叶片。转子叶片用107a表示,而定子叶片用107b表示。在该例子中,转子叶片107a安装在驱动轴104上。 
第二泵吸区108类似于第一泵吸区106,也包括一组涡轮分子泵吸级。在图2所示的实施例中,该组涡轮分子泵吸级108也包括已知角度结构的四个转子叶片和三个定子叶片。转子叶片用109a表示,而定子叶片用109b表示。在该例子中,转子叶片109a也安装在驱动轴104上。 
在第一和第二泵吸区的下游是分子牵引机构形式的第三泵吸区112,例如是一个Holweck牵引机构。在该实施例中,该Holweck机构包括两个转动的圆筒113a、113b和相应的环状定子114a、114b,其中以本质上已知的方式形成螺旋形通道。转动的圆筒113a、113b最好用一种碳纤维材料制成,并安装在圆盘115上,后者安置在驱动轴104上。在该例子中,该圆盘115也安装在驱动轴104上。 
Holweck机构112的下游是泵的出口116。前级泵150通过出口116而位于泵100的后面。 
如图2中所示,泵120有三个入口120、122、124;虽然该实施例中仅使用三个入口,但该泵可以有一个用126表示的任选的补充入口,该入口126可以选择地打开和关闭,并例如可以使用内挡板来将不同的流体流引向一机构的特定部位。低流体压力入口120置于所有泵吸区的上游。中流体压力入口122置于第一泵吸区106和第二泵吸区108的中间级处。高流体压力入口124可以置于Holweck机构112的各级的上游或如图2中所示地置于机构112的各级之间,使得Holweck机构的所有各级均与其它入口120、122成流体连通,而在图2所示的配置中,这些级仅有一部分(一级或更多)与第三入口124成流体连通。任选的入口126置于第二泵吸区108和Holweck机构112的中间级处,使得Holweck机构112的所有各级均与任选的入口126成流体连通。 
在使用中,每个入口连接在差动泵吸的质谱计***的一个相应的室上。因此,入口120连接在低压室10上,入口122连接在中压室14上,而入口124连接在高压室11上。当另一室12如虚线140所示地存在于高压室11和中压室14之间时,任选的入口126打开而连接在该室12上。附加的低压室可以加在该***上,并可由独立机构泵吸,但是,这些附加室的质量流通常大大小于该质谱计***的总质量流的1%。 
从低压室10通过入口120的流体通过第一泵吸区106、第二泵吸区108、Holweck机构112的所有通道而经泵出口116流出泵100。从中压室14流过入口122的流体进入泵100,通过第二泵吸区108、Holweck机构112的所有通道而经泵出口116流出泵100。从高压室11流过入口124的流体进入泵100,通过Holweck机构的各通道中的至少一部分而经泵出口116流出该泵。如果打开,从室12流过入口126的流体进入泵100,通过Holweck机构112的所有通道而经泵出口116流出泵100。 
在该例子中,在使用中,与参照图1描述的***相似,第一接口室11处于0.1mbar以上的压力,最好为约1~10mbar,第二接口室12(当使用时)处于约10-1~1mbar的压力,第三接口室14处于约10-2~10-3mbar的压力,而高压室10处于约10-5~10-6mbar的压力。 
上述实施例的一个特定优点是,通过使该差动泵吸的质谱计*** 的高压室被泵吸第二和第三高压室的同一复合式多口真空泵100直接泵吸而非由前级泵150泵吸,该复合式多口真空泵能够处理该质谱计***的总流体质量流的99%以上。因此,能够提高该第一室和内连接的质谱计***的其余部分的性能而不会增大前级泵的体积。 
图3是适用于从一个差动泵吸的质谱计***抽去总质量流的99%以上的类似于第一实施例的真空泵200的第二实施例,不同的是第三泵吸区还包括至少一个空气动力泵吸级210,在该例子中为置于Holweck机构212下游的再生的空气动力泵吸级形式。 
再生的泵吸级210包括多个环状阵列凸环形式的转子211,它们安装在Holweck机构212的圆盘215上或与圆盘215整体形成。如图4中所示,在该实施例中,涡轮分子泵吸区106、108的转子107、109,Holweck机构212的转动圆盘215和再生级210的转子211a可以安置在一个共用的叶轮245上,后者安装在驱动轴204上,而Holweck机构212的碳纤维转动圆筒213a在机加工这些整体的转动元件之后安装在转动圆盘215上。但是,这些转动元件中仅仅一个或几个可以与叶轮245整体制造,而其它元件如第一实施例中那样安装在驱动轴204上,或者按照需要安置在另一叶轮上。叶轮245的右端(如图示)可以用一磁轴承支承,而该轴承的永久磁体安置在该叶轮上,驱动轴204的左端(如图示)可以用一润滑轴承支承。 
Holweck机构212的定子214b也可以形成再生级210的定子,并在其中形成一环状通道211b,而转子211a在该通道内转动。如已知的,通道211b的截面积大于单个转子211a的截面积,只有该通道的称作“剥离器”的一小部分具有一个缩小的截面,为转子产生一个紧密的余隙。在泵200的使用中,从该差动泵吸的质谱计***的每个室泵出的流体经过安置在该剥离器一端附近的一个入口而流入环状通道211b,而该流体受到转动盘215上的转子211a沿通道211b的推动,直到它撞击该剥离器的另一端,然后该流体受推动而通过位于该剥离器另一端上的出口216。 
在使用中,真空泵200能像第一实施例中的真空泵100一样地在该差动泵吸的质谱计***的各室中产生相似的性能优点。除了第一实施例提供的可能的性能优点外,该第二实施例也能提供另两个显著的优点。第一个优点是当用不同性能水平的泵如50或60Hz的直接在线 操作的前级泵返回时***性能的一致性。在该第二实施例的情况下可以预言,在参照图3所述的***中,如果前级泵250的操作频率在50Hz~60Hz之间变化,那么***性能的变化将小到1%,从而给用户提供一种***性能稳定的灵活的泵吸装置。该第二实施例的第二附加优点是,通过在Holweck区下游设置一个附加的泵吸级,该真空泵装置能使前级泵250的容量因而其体积比第一实施例显著减小。这是因为,利用附加的泵吸区210,真空泵200可以在大于10mbar的压力下排放流体。相反,第一实施例的真空泵100通常在约1~10mbar的压力下排放流体,因此与第一实施例的前级泵150相比,前级泵250的体积可以大大缩小。可以预言,在某些质谱计***中,该体积的缩小可以高达十分之一而不会对***性能产生坏影响。如图3和图4中所示,再生级210的转子211a受Holweck区212的转动圆筒213a的包围。因此,再生级210可以方便地包括于第一实施例的真空泵100中而很少或不会增加真空泵的总长度。因此,第二实施例的包括真空泵200和前级泵250两者的整个泵吸***可以缩小体积而方便地安置在安装于长柜顶部的机箱中。 
图5是适用于从一个差动泵吸的质谱计***抽去总质量流的99%以上的类似于第一实施例的真空泵260的第三实施例,不同的是从高压室11通过入口124的流体进入泵250,通过空气动力泵吸级210而不通过Holweck机构212,并经过泵出口216而流出该泵。其次,如图5中所示,至少空气动力泵吸级210的一部分可用一Gaede机构或其它分子牵引机构300代替。空气动力泵吸级210用Gaede机构300代替的程度取决于所需的真空泵的泵吸性能。例如,再生级210或者可以全部代替,或者如图所示地仅一部分用Gaded机构代替。 
总起来说,一个差动泵吸质谱计***包括一个具有多个压力室的质谱计和一个附接于其上的真空泵,后者包括多个每个用于接受从一相应的压力室来的流体的泵入口和多个用于从这些压力室差动地泵吸流体的泵吸级;由此,在使用中,从该质谱计泵吸的流体质量的至少99%流过该真空泵的一个或多个泵吸级。 

Claims (25)

1.一种差动泵吸的真空***,包括具有至少第一和第二室的设备和一个真空泵,该真空泵用于从这些室差动地泵吸流体,从而在第一室中产生大于0.1mbar的第一压力和在第二室中产生比第一压力低的第二压力,该泵包括各自用于接受来自一相应的压力室的流体的至少第一和第二泵入口和多个相对于这些入口安置的泵吸级,使得从该第一室接受的流体通过比来自第二室的流体更少的泵吸级,这些入口被附接在该设备上,使得从该设备泵吸的流体质量的至少99%通过该泵的至少一个泵吸级。
2.一种按照权利要求1的***,其特征在于,该第一压力高于1mbar。
3.一种按照权利要求1或2的***,其特征在于,每个泵吸级包括一个干泵吸级。
4.一种按照权利要求1的***,其特征在于,该设备包括一个第三室,而该泵包括一个用于接受来自第三室的流体的第三入口,以便在该第三室中产生比该第二压力低的第三压力,这些泵吸级被这样设置,使得从该第三室流入该泵的流体通过的泵吸级的数目大于从该第二室流入该泵的流体所通过的泵吸级的数目。
5.一种按照权利要求4的***,其特征在于,该泵包括至少三个泵吸区,每个区包括至少一个泵吸级,用于差动地泵吸该第一至第三室。
6.一种按照权利要求5的***,其特征在于,该泵包括一个第一泵吸区、一个在该第一泵吸区下游的第二泵吸区和一个在该第二泵吸区下游的第三泵吸区,这些泵吸区相对于这些入口被这样安置,使得从该第三室流入该泵的流体通过第一、第二和第三泵吸区,从该第二室流入该泵的流体只通过所述各区中的该第二和第三泵吸区,而从该第一室流入该泵的流体只通过所述各区中的该第三泵吸区的至少一部分。
7.一种按照权利要求6的***,其特征在于,该第一和第二泵吸区中的至少一个包括至少一个涡轮分子泵吸级。
8.一种按照权利要求6或7的***,其特征在于,第一和第二泵吸区两者包括至少一个涡轮分子泵吸级。
9.一种按照权利要求6的***,其特征在于,该第三泵吸区相对于该第一和第二泵入口被这样安置,使得从该第二泵入口通过该第三泵吸区的流体所遵循的路径不同于从该第一泵入口通过该第三泵吸区的流体所遵循的路径。
10.一种按照权利要求9的***,其特征在于,该第三泵吸区相对于该第一和第二泵入口被这样安置,使得从该第一泵入口通过该第三泵吸区的流体只遵循从该第二泵入口通过该第三泵吸区的流体路径的一部分。
11.一种按照权利要求6的***,其特征在于,该第三泵吸区包括至少一个分子牵引泵吸级。
12.一种按照权利要求11的***,其特征在于,该第三泵吸区包括一个带有多个被设置成多根螺线的通道的多级Holweck机构。
13.一种按照权利要求12的***,其特征在于,该Holweck机构相对于该第一和第二泵入口被这样安置,使得从该第一泵入口通过该Holweck机构的流体只遵循从该第二泵入口通过该Holweck机构的流体的路径的一部分。
14.一种按照权利要求6的***,其特征在于,该第三泵吸区包括至少一个Gaede泵吸级和/或至少一个空气动力泵吸级,用于接受从该第一、第二和第三室中每一个进入该泵的流体。
15.一种按照权利要求14的***,其特征在于,该第三泵吸区包括一个带有多个被设置成多根螺线的通道的多级Holweck机构,该Holweck机构被安置在所述至少一个Gaede泵吸级和/或至少一个空气动力泵吸级的上游。
16.一种按照权利要求15的***,其特征在于,该Holweck机构相对于该第一和第二入口被这样安置,使得从该第一泵入口进入该泵的流体不通过该Holweck机构。
17.一种按照权利要求14的***,其特征在于,所述至少一个空气动力泵吸级包括至少一个再生级。
18.一种按照权利要求14的***,其特征在于,该第三泵吸区包括至少一个空气动力泵吸级,而且其中,在使用中,自该泵出口排出的流体的压力等于或大于10mbar。
19.一种按照权利要求14的***,其特征在于,该设备包括一个被配置于该第一室和第二室之间的第四室,而该真空泵包括一个第四入口,用于接受来自该第四室的流体。
20.一种按照权利要求19的***,其特征在于,该第四入口被这样安置,使得从该第四室进入该泵的流体在所述各区中,朝该泵出口的方向只通过该第三泵吸区。
21.一种按照权利要求20的***,其特征在于,从该第四室进入该泵的流体通过该第三泵吸区的级数比从该第一室进入该泵的流体通过该第三泵吸区的级数更多。
22.一种按照权利要求1的***,其特征在于,该泵包括一个驱动轴,在该轴上装有至少一个用于各泵吸级的转子元件。
23.一种按照权利要求1的***,其特征在于,包括一个被连接在该泵出口上的前级泵,使得在使用中,至少99%的从该设备泵吸的流体质量通过该真空泵和该前级泵两者。
24.一种按照权利要求1的***,其特征在于,该设备包括一台质谱计。
25.一种对一台设备的多个室差动地抽真空的方法,该方法包括以下步骤:提供一个真空泵,该泵至少包括各自用于接受来自一相应室的流体的第一和第二泵入口与多个相对于这些入口安置的泵吸级,使得从该第一入口进入该泵的流体通过的泵吸级少于从该第二入口进入该泵的流体所通过的泵吸级;将该泵的这些入口附接在这些室上,使得在使用中,至少99%的从该设备泵吸的流体质量通过该泵的至少一个泵吸级;以及操作该泵,从而在第一室中产生一个高于0.1mbar的第一压力,而在第二室中产生一个比该第一压力低的第二压力。
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Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0322883D0 (en) * 2003-09-30 2003-10-29 Boc Group Plc Vacuum pump
GB0409139D0 (en) 2003-09-30 2004-05-26 Boc Group Plc Vacuum pump
DE102006020710A1 (de) * 2006-05-04 2007-11-08 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe mit Gehäuse
US20120027583A1 (en) * 2006-05-04 2012-02-02 Bernd Hofmann Vacuum pump
US8288719B1 (en) * 2006-12-29 2012-10-16 Griffin Analytical Technologies, Llc Analytical instruments, assemblies, and methods
DE102007010068B4 (de) * 2007-02-28 2024-06-13 Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh Vakuumpumpe oder Vakuumapparatur mit Vakuumpumpe
DE102007027352A1 (de) * 2007-06-11 2008-12-18 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Massenspektrometer-Anordnung
WO2009030048A1 (en) * 2007-09-07 2009-03-12 Ionics Mass Spectrometry Group, Inc. Multi-pressure stage mass spectrometer and methods
CN101398406B (zh) * 2007-09-30 2012-03-07 孔令昌 便携式质谱计
DE102008009715A1 (de) * 2008-02-19 2009-08-20 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpump-System und Verwendung einer Mehrstufen-Vakuumpumpe
WO2009142905A1 (en) * 2008-05-20 2009-11-26 Sundew Technologies, Llc Deposition method and apparatus
US8573956B2 (en) 2008-10-10 2013-11-05 Ulvac, Inc. Multiple stage dry pump
GB0901872D0 (en) * 2009-02-06 2009-03-11 Edwards Ltd Multiple inlet vacuum pumps
GB2472638B (en) * 2009-08-14 2014-03-19 Edwards Ltd Vacuum system
GB2474507B (en) 2009-10-19 2016-01-27 Edwards Ltd Vacuum pump
DE102010019940B4 (de) * 2010-05-08 2021-09-23 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpstufe
DE102012003680A1 (de) 2012-02-23 2013-08-29 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
WO2014125238A1 (en) * 2013-02-15 2014-08-21 Edwards Limited Vacuum pump
DE202013005458U1 (de) * 2013-06-15 2014-09-16 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
DE102013214662A1 (de) * 2013-07-26 2015-01-29 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
GB201314841D0 (en) 2013-08-20 2013-10-02 Thermo Fisher Scient Bremen Multiple port vacuum pump system
DE102013109637A1 (de) * 2013-09-04 2015-03-05 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe sowie Anordnung mit einer Vakuumpumpe
DE102014101257A1 (de) 2014-02-03 2015-08-06 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
EP3032106B1 (de) * 2014-12-08 2020-02-12 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
GB2533153B (en) * 2014-12-12 2017-09-20 Thermo Fisher Scient (Bremen) Gmbh Vacuum system
DE102014226038A1 (de) * 2014-12-16 2016-06-16 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Druckreduzierungseinrichtung, Vorrichtung zur massenspektrometrischen Analyse eines Gases und Reinigungsverfahren
US9368335B1 (en) 2015-02-02 2016-06-14 Thermo Finnigan Llc Mass spectrometer
JP6488898B2 (ja) 2015-06-09 2019-03-27 株式会社島津製作所 真空ポンプおよび質量分析装置
EP3112688B2 (de) * 2015-07-01 2022-05-11 Pfeiffer Vacuum GmbH Splitflow-vakuumpumpe sowie vakuum-system mit einer splitflow-vakuumpumpe
JP6578838B2 (ja) * 2015-09-15 2019-09-25 株式会社島津製作所 真空ポンプおよび質量分析装置
EP3327293B1 (de) * 2016-11-23 2019-11-06 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe mit mehreren einlässen
JP7108377B2 (ja) * 2017-02-08 2022-07-28 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、真空ポンプに備わる回転部、およびアンバランス修正方法
GB201715151D0 (en) * 2017-09-20 2017-11-01 Edwards Ltd A drag pump and a set of vacuum pumps including a drag pump
KR101838660B1 (ko) * 2017-12-04 2018-03-14 (주)대명엔지니어링 진공 펌프
GB2569633A (en) * 2017-12-21 2019-06-26 Edwards Ltd A vacuum pumping arrangement and method of cleaning the vacuum pumping arrangement
DE202018000285U1 (de) * 2018-01-18 2019-04-23 Leybold Gmbh Vakuumpumpen-System
DE102018119747B3 (de) * 2018-08-14 2020-02-13 Bruker Daltonik Gmbh Turbomolekularpumpe für massenspektrometer
GB2584603B (en) * 2019-04-11 2021-10-13 Edwards Ltd Vacuum chamber module
EP3623634B1 (de) * 2019-08-13 2022-04-06 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe umfassend eine holweckpumpstufe und zwei seitenkanalpumpstufen
US11710950B2 (en) 2021-01-20 2023-07-25 Te Connectivity Solutions Gmbh Cutting blade and cutting depth control device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5733104A (en) * 1992-12-24 1998-03-31 Balzers-Pfeiffer Gmbh Vacuum pump system
US6193461B1 (en) * 1999-02-02 2001-02-27 Varian Inc. Dual inlet vacuum pumps
CN1292851A (zh) * 1998-05-14 2001-04-25 莱博尔德真空技术有限责任公司 有定子和转子的摩擦式真空泵
EP1101945A2 (en) * 1999-11-19 2001-05-23 The BOC Group plc Vacuum pumps
EP1302667B1 (en) * 2001-10-15 2004-12-22 The BOC Group plc Vacuum pumps

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2409857B2 (de) 1974-03-01 1977-03-24 Leybold-Heraeus GmbH & Co KG, 5000Köln Turbomolekularvakuumpumpe mit zumindest teilweise glockenfoermig ausgebildetem rotor
DE2442614A1 (de) * 1974-09-04 1976-03-18 Siemens Ag Turbomolekularpumpe
JPS6172896A (ja) 1984-09-17 1986-04-14 Japan Atom Energy Res Inst 高速回転ポンプ
JPS62279282A (ja) * 1986-05-27 1987-12-04 Mitsubishi Electric Corp タ−ボ分子ポンプ
JPS6355396A (ja) * 1986-08-21 1988-03-09 Hitachi Ltd タ−ボ真空ポンプ
JPS6375386A (ja) 1986-09-18 1988-04-05 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ハイブリツド真空ポンプ
US5020969A (en) * 1988-09-28 1991-06-04 Hitachi, Ltd. Turbo vacuum pump
JP2585420B2 (ja) 1989-04-04 1997-02-26 株式会社日立製作所 ターボ真空ポンプ
JPH02108895A (ja) 1988-10-17 1990-04-20 Hitachi Ltd ターボ真空ポンプ
JPH02136595A (ja) 1988-11-16 1990-05-25 Anelva Corp 真空ポンプ
DE69016198T2 (de) * 1990-07-06 1995-05-18 Cit Alcatel Zweite Stufe für mechanische Vakuumpumpeinheit und Lecküberwachungssystem zur Anwendung dieser Einheit.
DE4228313A1 (de) * 1992-08-26 1994-03-03 Leybold Ag Gegenstrom-Lecksucher mit Hochvakuumpumpe
EP0603694A1 (de) * 1992-12-24 1994-06-29 BALZERS-PFEIFFER GmbH Vakuumpumpsystem
JP2656199B2 (ja) * 1993-01-11 1997-09-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 真空チャンバの開放方法及びpvd装置
DE4314418A1 (de) * 1993-05-03 1994-11-10 Leybold Ag Reibungsvakuumpumpe mit unterschiedlich gestalteten Pumpenabschnitten
CN1110376A (zh) * 1994-04-16 1995-10-18 储继国 拖动分子泵
DE19508566A1 (de) * 1995-03-10 1996-09-12 Balzers Pfeiffer Gmbh Molekularvakuumpumpe mit Kühlgaseinrichtung und Verfahren zu deren Betrieb
JP3095338B2 (ja) * 1995-06-19 2000-10-03 富士通株式会社 ターボ分子ポンプ
GB9725146D0 (en) * 1997-11-27 1998-01-28 Boc Group Plc Improvements in vacuum pumps
JPH11230036A (ja) * 1998-02-18 1999-08-24 Ebara Corp 真空排気システム
GB9810872D0 (en) 1998-05-20 1998-07-22 Boc Group Plc Improved vacuum pump
US6457954B1 (en) * 1998-05-26 2002-10-01 Leybold Vakuum Gmbh Frictional vacuum pump with chassis, rotor, housing and device fitted with such a frictional vacuum pump
DE19915307A1 (de) * 1999-04-03 2000-10-05 Leybold Vakuum Gmbh Reibungsvakuumpumpe mit aus Welle und Rotor bestehender Rotoreinheit
DE19930952A1 (de) * 1999-07-05 2001-01-11 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
DE10022062A1 (de) * 2000-05-06 2001-11-08 Leybold Vakuum Gmbh Maschine, vorzugsweise Vakuumpumpe, mit Magnetlagern
JP2001323892A (ja) * 2000-05-16 2001-11-22 Shimadzu Corp ターボ型真空機器
DE10032607B4 (de) * 2000-07-07 2004-08-12 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Teilchenstrahlgerät mit einer im Ultrahochvakuum zu betreibenden Teilchenquelle und kaskadenförmige Pumpanordnung für ein solches Teilchenstrahlgerät
US6793466B2 (en) * 2000-10-03 2004-09-21 Ebara Corporation Vacuum pump
JP2002138987A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Seiko Instruments Inc 真空ポンプ
DE10055057A1 (de) * 2000-11-07 2002-05-08 Pfeiffer Vacuum Gmbh Leckdetektorpumpe
JP2002285987A (ja) 2001-03-28 2002-10-03 Chiba Seimitsu:Kk 小型真空ポンプ
CN1399076A (zh) * 2001-07-27 2003-02-26 大晃机械工业株式会社 真空泵
JP3961273B2 (ja) * 2001-12-04 2007-08-22 Bocエドワーズ株式会社 真空ポンプ
GB0229356D0 (en) * 2002-12-17 2003-01-22 Boc Group Plc Vacuum pumping arrangement
GB0229353D0 (en) * 2002-12-17 2003-01-22 Boc Group Plc Vacuum pumping system and method of operating a vacuum pumping arrangement
GB0229355D0 (en) * 2002-12-17 2003-01-22 Boc Group Plc Vacuum pumping arrangement
GB0229352D0 (en) * 2002-12-17 2003-01-22 Boc Group Plc Vacuum pumping arrangement and method of operating same
ITTO20030421A1 (it) * 2003-06-05 2004-12-06 Varian Spa Pompa da vuoto compatta
GB0409139D0 (en) * 2003-09-30 2004-05-26 Boc Group Plc Vacuum pump
GB0411426D0 (en) * 2004-05-21 2004-06-23 Boc Group Plc Pumping arrangement

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5733104A (en) * 1992-12-24 1998-03-31 Balzers-Pfeiffer Gmbh Vacuum pump system
CN1292851A (zh) * 1998-05-14 2001-04-25 莱博尔德真空技术有限责任公司 有定子和转子的摩擦式真空泵
US6193461B1 (en) * 1999-02-02 2001-02-27 Varian Inc. Dual inlet vacuum pumps
EP1101945A2 (en) * 1999-11-19 2001-05-23 The BOC Group plc Vacuum pumps
EP1302667B1 (en) * 2001-10-15 2004-12-22 The BOC Group plc Vacuum pumps

Also Published As

Publication number Publication date
CA2747136A1 (en) 2005-05-06
JP5637919B2 (ja) 2014-12-10
EP1668255B2 (en) 2016-01-13
CA2747137A1 (en) 2005-05-06
US20070116555A1 (en) 2007-05-24
WO2005040615A3 (en) 2005-06-16
EP1668255B1 (en) 2011-11-30
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