CN101035925B - 在剃须刀片刀口和剃须刀片上沉积涂层的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种在剃须刀片的剃须刀片刀口上沉积涂层的方法,所述刀口具有两侧边,该侧边向末端会聚,其中,该涂层包含两种成分。在由至少第一和第二溅射靶构成的护罩内,该溅射靶主要包含各自的一种沉积在该刀口上的所述成分,并在操作中在该护罩内释放该成分。该方法包括一步骤(a),该步骤(a)中,剃须刀片交替地在各靶的附近移动,且所述末端朝向所述靶。
Description
技术领域
本发明涉及一种在剃须刀片刀口上沉积涂层的方法以及一种剃须刀片。
背景技术
剃须刀片通常由用一种硬质涂层覆盖的陶瓷或者钢衬底制成。在该硬质涂层上通常沉积有机材料的外涂层以在剃须时降低剃须刀片在皮肤上的摩擦。这种有机涂层通常为一种PTFE材料。
硬质涂层通常主要用作加强涂层,以增加刀片的强度并改进其期望寿命。具有非常好的强度性质的诸如铬-铂合金的一些特殊材料,在过去一直通过将剃须刀片刀口放置在铬-铂合金溅射靶前并溅射该靶以在剃须刀片刀口上沉积铬-铂合金,然而,沉积涂层中的铬和铂的比例由靶中的铬和铂的比例限定。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种在剃须刀片上沉积包含至少两种成分的硬质涂层的新方法。
为此,本发明提供了一种在剃须刀片的剃须刀片刀口上沉积涂层的方法,所述刀口具有两侧边,该侧边向末端会聚,该涂层包含至少两种成分,在一种护罩中包含至少第一和第二溅射靶,该溅射靶主要包含各自的一种沉积在该刀口上的所述成分,并且在操作中在该护罩内释放该成分,该方法包括一步骤(a),其中,在操作两种靶时,剃须刀片相对于该第一和第二靶移动,以交替地经过每个靶的附近,且所述末端朝向所述靶。
这种方法可以在涂敷过程中,不需要手工替换溅射靶和/或刀片刀口而将涂层设计具有不同性质。此外,该方法允许一次涂敷许多剃须刀片刀口。
根据本发明的方法的特定实施例中,也可以使用如下的特征:
■所述第一和第二溅射靶通过惰性气体离子轰击进行操作;
■在步骤(a)中,在该靶的附近通过磁铁装置产生一磁场;
■该每个磁铁装置包括至少一设置在两个侧面磁铁之间的具有相反极性的中心磁铁,该侧面磁铁的磁性比该中心磁铁的磁性强;
■该护罩包括第一、第二、第三和第四溅射靶,该第一和第三溅射靶相互对置且携带该第一成分,该第二和第四溅射靶相互对置且携带该第二成分,该第一、第二、第三和第四靶中的每一个都具有一磁铁装置,且该第二、第三和第四溅射靶的磁铁装置具有相同的极性;
■该第一、第二、第三和第四靶固定在护罩中,剃须刀片相对于该护罩旋转,从而连续地经过该第一、第二、第三和第四靶的前方;
■刀片以高于4rpm的旋转速度旋转;
■该第二成分为一金属,该第二和第四靶通过强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作;
■该第一元素为碳,该第一和第三靶包含石墨,且该第一和第三靶通过一强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作;
■该第二成分提供与一有机材料的改进的粘附性,在步骤(a)中,应用到该第一和第二靶上的强度比降低;
■该金属为铬;
■刀片刀口上具有一介于100V至2000V之间的DC电压;
■刀片刀口上具有一脉冲DC电压;
■该涂层具有一定比例的成分,为此,每个靶在给定的操作参数下操作,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择该操作参数以提供该比例;
■在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(carrousel)上;
■该方法进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
■步骤(b)在步骤(a)之前进行;
■该方法进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作含该附加层的成分的靶被沉积;
■步骤(c)在步骤(a)之前进行;
■步骤(a)在步骤(c)之前进行;
■该方法进一步包括一步骤(d),其中,一含有机材料的外层被涂敷到该涂层上。
根据另一方面,本发明涉及一种剃须刀片,其中,该剃须刀片包含一剃须刀片刀口和一涂层,该涂层包括:
■至少一种由至少一第一成分和一第二成分制成的含金属层,其中,该第一成分主要由碳构成,该第二成分主要由金属构成,以及
■至少一与该含金属的层相接触的有机材料的外层,
其中,该金属展现出与该有机材料更好的粘附性,以及
其中,在含金属的层中,离外层越近,金属的比例越大。
在各种实施例中,可以使用一个和/或几个下列的特征:
■该金属为铬;
■该涂层包含至少一种附加层,该附加层由该成分的至少一种构成;
■该刀片由不锈钢制成。
附图说明
本发明的其他的特征和优点在下面的说明、附图和权利要求中变得更为清晰。
附图中:
图1为用于实施根据本发明的一特定实施例的方法的装置的水平截面图;
图2为图1中所示的装置的垂直截面图;
图3为涂敷过程中刀片的示意图;
图4示出了根据本发明的一个实施例的剃须刀片的一部分;以及
图5示出了根据本发明的另一个实施例的剃须刀片的一部分。
在附图中,相应或相似的元件用相同的附图标记表示。
具体实施方式
图1示出了用于实施本发明的方法的溅射装置的水平截面图。溅射装置包括具有内壁1的诸如圆柱形等的护罩,在该护罩中可以形成一低压环境。该护罩包括交叉布置且两两相互面对的溅射靶2、3、4和5。任何其他适当的装置,如具有至少两个溅射靶的串联溅射装置,都可以用于实施根据本发明的方法。
第一和第三溅射靶2和4,两者相互面对,主要包括一沉积在剃须刀片刀口上的第一成分。例如,第一和第三溅射靶2和4包括一具有高硬度和高强度性质的材料。第一和第三溅射靶包括如石墨形式的碳。
第二和第四溅射靶3和5,两者相互面对,主要包括一沉积在剃须刀片刀口上的第二成分。例如,第二和第四溅射靶3和5包括一与剃须刀片刀口或/和有机材料上的第一成分具有良好的粘附性的材料。第二和第四溅射靶包括一种金属,如铬、铌或者钨。
第一、第二、第三和第四溅射靶可以是基本靶,或者含沉积在刀片刀口上的至少两种元素的化合物的复合靶。
溅射靶2、3、4和5分别被附着在位于溅射靶和壁1之间的磁控管12、13、14和15上。磁控管用于加快沉积在剃须刀片刀口上的成分的沉积速度。
在实施例中,三个磁控管具有给定的极性,而第四个磁控管具有与该给定的极性相反的极性。
磁控管可以是诸如包含三个磁铁的不均衡的磁控管,一中心磁铁12a被具有更强磁性且极性相反的侧面磁铁12b和12c包围,如图1所示,磁控管13、14和15也同样为不均衡的磁控管。
与上述类似,四个磁控管中的三个磁控管的中心磁铁具有一给定的极性,而另外一个磁控管的中心磁铁具有与该给定的极性相反的极性。例如,中心磁铁12a、15a和14a的极性被选择为南极,而中心磁铁13a的极性被选择为北极。当然,侧面磁铁的极性也被相应地选择。
溅射靶可以通过在靶上施加DC电流进行操作,该DC电流由一连接到溅射靶的DC电源(图中未示出)提供。每个靶可以二中择一或者同时地连接到该DC电源。
装置包括一真空泵6,用于为护罩提供一定程度的真空。
该装置还包括一氩原子源7,用于在护罩中释放一定压力的氩气。也可以使用其他的惰性气体。
在该装置中,设置一旋转圆盘传送带8,用于移动,如围绕一垂直轴(z)旋转。圆盘传送带是装置的一部分,或者可拆装地设置在装置内部用于沉积处理。该圆盘传送带具有用于固定多个要被涂敷的层叠的剃须刀片的、用于机械式剃须刀的接合销钉(8个接合销钉,如图1所示)。从而在相同的沉积处理中可以涂敷许多剃须刀片刀口。
圆盘传送带连接到一可以在剃须刀片上提供一DC偏压的DC电源11。
剃须刀片10可以由诸如导电材料如不锈钢制成,并可以进行初步研磨,该初步研磨可以提供具有两侧边10a和10b的锋利刀口10,该侧边10a和10b向末端10c会聚(参见图4和图5)。剃须刀片被装载到接合销钉中,使得在该装置中该末端10c朝向护罩壁(和靶)。
如图3所示,根据溅射-沉积的原理,当一溅射靶(例如铬靶3)进行操作时,氩离子轰击该靶以在该护罩中释放靶的成分的原子和离子19。由于从氩离子(磁力线的弹道成分)传递过来的动量而获得的速度以及由于浓度梯度(磁力线的扩散成分)的作用,使得该靶原子向刀片运动。靶离子通过施加的偏压也被吸引到剃须刀片上。它们沉积在刀片刀口9上,其中,在该刀片刀口上,当该剃须刀片分别经过一碳靶(如图1中的碳靶2)和一铬靶(如图1中的铬靶5)的附近区域时,已经沉积了石墨原子20(图3中的黑点)以及其他的铬原子21(图3中的白点)。
一旦剃须刀片刀口被装载到该护罩内,关闭该护罩,并通过泵6抽空使该护罩内达到约10-5托的基压。
可以进行一预先溅射-蚀刻步骤,以从剃须刀片的末端10c和侧边10a、10b清洁和/或移除一些材料。
可以进行两种成分中的至少一个(如铬)的夹层的一预先溅射沉积步骤。内压被设置成3×10-3托。第二溅射靶3和5通过1.5A的DC电流操作,且当圆盘传送带以约5.5rpm的速度旋转时,一300V的DC电压被施加到该剃须刀片上。护罩壁和靶2和4被接地。
操作参数和同时的快旋转速度(通常介于4rpm至40rpm之间)使得在所有的剃须刀片刀口上产生等量的溅射沉积。
通过关闭施加到第二溅射靶的DC电流,施加一DC电流到第一溅射靶2和4,并继续在剃须刀片上施加DC电压并旋转,可以在第二成分的夹层上产生第一成分(如碳)的第二层。
因此,在很少手工操作的情况下,可以在大量剃须刀片刀口上涂敷两均匀的层,其中每一层包括一种成分。
该装置同样可以用于沉积一含给定比例的两种成分的均匀的涂层。选择操作参数以提供该比例。这种涂敷可直接应用于上面所述的成分之一的剃须刀片或夹层。
在夹层沉积完成后,圆盘传送带仍以5.5rpm的速度旋转,含铬溅射靶3和5通过一介于0.5A至20A之间的DC电流操作,含碳溅射靶2和4通过一介于0.5A至20A之间的DC电流操作。一大致介于100V至2000V之间的负DC电压被施加到该刀片上。
选择应用到每个靶上的强度的比率,从而使均匀涂层具有一给定比例的成分。因此,这个方法在生产过程中易于使涂层属性适应不同客户要求。例如,在一些国家需要更多的抗腐蚀属性,处理参数可以很容易地被调节,以在为这些国家制造的剃须刀片中增加抗腐蚀材料的量。
在均匀涂层沉积完成后,可以通过改变应用到各种靶上的强度的比率来改变两种成分的浓度比。如果成分之一提供与外部有机涂层如PTFE的良好的粘附性,如铬,可以增加其相对浓度以改进PTFE涂层的粘附性。
也可以提供仅包含两种成分中的一种例如铬的顶涂层。护罩内的压力为3×10-3托。铬溅射靶3和5通过1.5A的DC电流操作。100-1000V的DC电压施加到刀片上。碳靶2和4被接地。圆盘传送带仍以约5.5rpm的速度旋转。
铬的顶涂层用于提供与外部有机涂层如PTFE的良好的粘附性,其中,PTFE通常在沉积硬质涂层后沉积在剃须刀片上。
在沉积过后,涂敷的剃须刀片可以进行溅射-蚀刻。在设定氩气气压和刀片上的DC电压后,铬溅射靶在碳溅射靶接地的情况下进行操作。
这样,从最顶端的涂层移除材料,从而使刀片重新变得锋利。
最后,一氟化聚合物最终涂层被涂敷到刀片切边上的溅射-沉积薄膜上。聚合物的涂敷可以通过一喷雾方法进行,喷雾后进行烧结。
图4和图5示出了根据本发明的剃须刀片的例子。
在图4中,一不锈钢刀片10被涂敷了一厚度为30-200nm的铬和石墨形式的碳的均匀层16。均匀层16利用PTFE层17进行涂敷。
在图5中,一不锈钢刀片10被涂敷了一厚度为20-30nm的铬夹层18。铬碳层16包含一均匀的碳和铬的第一部分16a。在厚度为10nm的第二部分16b中,铬含量增加到PTFE层17的分界面。
当然,本发明并不局限于仅仅利用两种成分。
除了DC电压外,还可以施加一频率约为50-250kHz的脉冲DC偏压到该剃须刀片上,其中,该脉冲DC偏压由一DC连续成分和一叠加到该DC连续成分上的脉冲成分构成。
下面给出两个详细的处理例子。
例1
在将刀片接合销钉装入到旋转圆盘传送带之后,腔室被抽空至10-5托的基压。随后氩气被注入到该腔室,用于溅射蚀刻步骤。刀片接合销钉开始以11rpm的恒定速度旋转,两个铬靶通过DC电流控制进行操作,并且DC电压被施加到不锈钢刀片上4分钟。
在溅射蚀刻步骤结束后,腔压被调整至3毫托。铬靶1和3在1.5安培的DC电流控制下操作,同时一300V的DC电压被施加到旋转的刀片上。调整沉积时间,一20nm的铬层被沉积到刀片样品的刀口上。
在铬层沉积完成后,碳靶2和4被接通,两个碳靶(2和4)和两个铬靶(1和3)同时进行操作,其中,铬靶上的电流为1.2安培,各碳靶上的电流为6安培,一450V的DC电压被施加到旋转的刀片上。调整沉积时间,一50nm的铬-碳均匀合金薄膜被沉积到该铬层上。在铬-碳层的顶部,一500nm的含氟聚合物最终层(PTFE)被沉积,以主要用于提供刀片表面的较低摩擦。
在相同的沉积批次中的同样成分的不锈钢样品上的成分分析和对不锈钢刀片的热处理得到铬-碳层的70%的碳和30%的铬的组成成分。
上述沉积了总薄膜厚度(铬层+铬-碳层)为100nm的不锈钢样品,还用于使用一XP纳米压头的纳米压痕测量。模拟刀片的最终状况的样品的测量,使得与具有相同涂敷厚度的传统的铬-铂涂敷样品相比,刀片-涂层***的硬度提高了30-50%,其中,该铬-铂涂层从一合金铬-铂溅射靶沉积。
用于研究刀片切割性能和强度的测试结果表明,与标准铬-铂涂敷的刀片相比,涂敷有新的铬-碳薄膜的刀片得到了改进。在一系列试验中,包括利用测压元件固定在移动的毡上的刀片进行重复切割以测量每次切割时刀片上的载荷的特定测试,结果表明前10次切割的载荷范围比具有标准生产的铬-铂涂层的同型刀片的载荷范围低至少5%。这个结果表明具有新的铬-碳涂层的刀片在切割时能够以更有效的方式保持其切割能力(即形状和完整性)(参见表1)。
在上述测试中,10次切割后的刀片刀口上的损伤借助光学显微镜进行评价。刀片刀口上的损伤通过缺失材料(即从刀口上破裂或者去除的材料)的面积进行量化。与具有标准生产的铬-铂涂层的刀片相比,铬-碳涂敷的刀片的缺失材料面积降低了85%。这个结果表明具有新的铬-碳涂层的刀片具有提高的耐用性(参见表1)。
样品 | 第10次的切割力(千 克) | 损伤的面积(μm<sup>2</sup>) |
具有标准生产 涂层的刀片 | 1.761 | 33288 |
刀片样品1 | 1.455 | 4985 |
刀片样品2 | 1.464 | 3739 |
刀片样品3 | 1.455 | 3290 |
刀片样品4 | 1.508 | 3390 |
刀片样品5 | 1.45 | 1741 |
刀片样品6 | 1.447 | 1263 |
刀片样品7 | 1.435 | 1538 |
刀片样品8 | 1.372 | 1280 |
刀片样品9 | 1.345 | 1348 |
刀片样品10 | 1.326 | 1879 |
表1:第一示例刀片的测试结果
由具有剃须性能评估经验的一组人进行的剃须测试表明包含新刀片的剃须刀与目前生产的剃须刀相比,在舒适度、密闭性、刺激性、切口/伤口数量以及总体意见上具有更好的表现。
例2
在将刀片接合销钉装入到旋转圆盘传送带之后,腔室被抽空至10-5托的基压。随后氩气被注入用于溅射蚀刻步骤。刀片接合销钉开始以11rpm的恒定速度旋转,两个铬靶通过DC电流控制进行操作,并且DC电压被施加到不锈钢刀片上4分钟。
在溅射蚀刻步骤结束后,腔压被调整至3毫托。铬靶1和3在1.5安培的DC电流控制下操作,同时一300V的DC电压被施加到旋转的刀片。调整沉积时间,一20nm的铬层被沉积到刀片样品的刀口上。
在铬层沉积完成后,碳靶2和4被接通,两个碳靶(2和4)和两个铬靶(1和3)同时进行操作,其中,铬靶上的电流为2.85安培,各碳靶上的电流为1.5安培,一450V的DC电压被施加到旋转的刀片上。调整沉积时间,一60nm的铬-碳均匀合金薄膜被沉积到该铬层上。在铬-碳层的顶部,一500nm的含氟聚合物最终层(PTFE)被沉积,以主要用于提供刀片表面的较低摩擦。
在相同的沉积批次中的同样成分的不锈钢样品上的成分分析和对不锈钢刀片的热处理得到铬-碳层的17%的碳和83%的铬的组成成分。
上述沉积了总薄膜厚度(铬层+铬-碳层)为100nm的不锈钢样品,还用于使用一XP纳米压头的纳米压痕测量。模拟刀片的最终状况的样品的测量,使得与具有相同涂敷厚度的传统的铬-铂涂敷样品相比,刀片-涂层***的硬度提高了30-60%。
用于研究刀片切割性能和强度的测试结果表明,与具有标准铬-铂涂敷的刀片相比,涂敷有新的铬-碳薄膜的刀片得到了改进。在一系列试验中,包括利用测压元件固定在移动的毡上的刀片进行重复切割以测量每次切割时刀片上的载荷的特定测试,结果表明前10次切割的载荷范围比具有标准生产的铬-铂涂层的同型刀片的载荷范围低至少10%。这个结果表明具有新的铬-碳涂层的刀片在切割时能够以更有效的方式保持其切割能力(即形状和完整性)(参见表2)。
样品 | 第10次的切割力(千 克) | 损伤的面积(μm<sup>2</sup>) |
具有标准生产 涂层的刀片 | 1.635 | 31258 |
刀片样品1 | 1.296 | 1857 |
样品 | 第10次的切割力(千 克) | 损伤的面积(μm<sup>2</sup>) |
刀片样品2 | 1.404 | 2014 |
刀片样品3 | 1.421 | 1664 |
刀片样品4 | 1.4 | 1438 |
刀片样品5 | 1.41 | 1127 |
刀片样品6 | 1.391 | 1121 |
刀片样品7 | 1.325 | 2299 |
刀片样品8 | 1.381 | 1356 |
刀片样品9 | 1.353 | 2486 |
刀片样品10 | 1.356 | 1569 |
表2:第二示例刀片的测试结果
在上述测试中,10次切割后的刀片刀口上的损伤借助光学显微镜进行评价。刀片刀口上的损伤通过缺失材料(即从刀口上破裂或者去除的材料)的面积进行量化。与具有标准生产铬-铂涂层的刀片相比,铬-碳涂敷的刀片的缺失材料面积降低了90%。这个结果表明具有新的铬-碳涂层的刀片具有提高的耐用性(参见表2)。
由具有剃须性能评估经验的一组人进行的剃须测试表明包含新刀片的剃须刀与目前生产的剃须刀相比,在舒适度、密闭性、刺激性、切口/伤口数量以及总体意见上具有更好的表现。
Claims (94)
1.一种在剃须刀片的剃须刀片刀口上沉积涂层的方法,所述刀口具有两侧边,该侧边向末端会聚,该涂层包含至少两种成分,在一种护罩中包含至少第一和第二溅射靶,该溅射靶主要包含各自的一种沉积在该刀口上的所述成分,并且在操作中在该护罩内释放该成分,该方法包括一步骤(a),其中,在操作两种靶时,剃须刀片相对于该第一和第二靶移动,以交替地经过每个靶的附近,且所述末端朝向所述靶。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一和第二溅射靶通过惰性气体离子轰击进行操作。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在步骤(a)中,在该靶的附近通过磁铁装置产生一磁场。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,该每个磁铁装置包括至少一设置在两个侧面磁铁之间的具有相反极性的中心磁铁,该侧面磁铁的磁性比该中心磁铁的磁性强。
5.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于,该护罩包括第一、第二、第三和第四溅射靶,该第一和第三溅射靶相互对置且携带该第一成分,该第二和第四溅射靶相互对置且携带该第二成分,该第一、第二、第三和第四靶中的每一个都具有一磁铁装置,且该第二、第三和第四溅射靶的磁铁装置具有相同的极性。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,该第一、第二、第三和第四靶固定在护罩中,并且其中剃须刀片相对于该护罩旋转,从而连续地经过该第一、第二、第三和第四靶的每个的前方。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,刀片以高于4rpm的旋转速度旋转。
8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,该第二成分为一金属,该第二和第四靶通过强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作。
9.根据权利要求6或7所述的方法,其特征在于,该第二成分为一金属,该第二和第四靶通过强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作。
10.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,该第一成分为碳,该第一和第三靶包含石墨,并且其中该第一和第三靶通过一强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作。
11.根据权利要求6至8中任意一个所述的方法,其特征在于,该第一成分为碳,该第一和第三靶包含石墨,并且其中该第一和第三靶通过一强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作。
12.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,该第一成分为碳,该第一和第三靶包含石墨,并且其中该第一和第三靶通过一强度介于0.5A至20A之间的DC电流操作。
13.根据权利要求8、10或12所述的方法,其特征在于,该第二成分提供与一有机材料的改进的粘附性,在步骤(a)中,应用到该第一和第二靶上的强度比降低。
14.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,该第二成分提供与一有机材料的改进的粘附性,在步骤(a)中,应用到该第一和第二靶上的强度比降低。
15.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,该第二成分提供与一有机材料的改进的粘附性,在步骤(a)中,应用到该第一和第二靶上的强度比降低。
16.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,该金属为铬。
17.根据权利要求14或15所述的方法,其特征在于,该金属为铬。
18.根据权利要求6至8、10、12、14至16中任意一个所述的方法,其特征在于,刀片上具有一介于100V至2000V之间的DC电压。
19.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,刀片上具有一介于100V至2000V之间的DC电压。
20.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,刀片上具有一介于100V至2000V之间的DC电压。
21.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,刀片上具有一介于100V至2000V之间的DC电压。
22.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,刀片上具有一介于100V至2000V之间的DC电压。
23.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,刀片上具有一介于100V至2000V之间的DC电压。
24.根据权利要求6至8、10、12、14至16中任意一个所述的方法,其特征在于,刀片上具有一脉冲DC电压。
25.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,刀片上具有一脉冲DC电压。
26.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,刀片上具有一脉冲DC电压。
27.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,刀片上具有一脉冲DC电压。
28.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,刀片上具有一脉冲DC电压。
29.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,刀片上具有一脉冲DC电压。
30.根据权利要求1至4、6至8、10、12、14至16、19至23、25至29中任意一个所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
31.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
32.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
33.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
34.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
35.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
36.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
37.根据权利要求24所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括一步骤(a)之前的步骤(e),其中,选择每个靶的操作参数以提供该涂层具有的成分的比例。
38.根据前述权利要求1至4、6至8、10、12、14至16、19至23、25至29、31至37中任意一个所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
39.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
40.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
41.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
42.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
43.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
44.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
45.根据权利要求24所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
46.根据权利要求30所述的方法,其特征在于,在步骤(a)之前,剃须刀片层叠在一圆盘传送带(9)上。
47.根据前述权利要求1至4、6至8、10、12、14至16、19至23、25至29、31至37、39至46中任意一个所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
48.根据权利要求中5所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
49.根据权利要求中9所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
50.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
51.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
52.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
53.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
54.根据权利要求24所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
55.根据权利要求30所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
56.根据权利要求38所述的方法,其特征在于,进一步包括一溅射-蚀刻步骤(b),其中,通过同时操作该第二靶和施加一DC电压到刀片上,从刀片上移除材料。
57.根据权利要求47所述的方法,其特征在于,步骤(b)在步骤(a)之前进行。
58.根据权利要求48至56中任意一个所述的方法,其特征在于,步骤(b)在步骤(a)之前进行。
59.根据前述权利要求1至4、6至8、10、12、14至16、19至23、25至29、31至37、39至46、48至57中任意一个所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
60.根据前述权利要求5所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
61.根据前述权利要求9所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
62.根据前述权利要求11所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
63.根据前述权利要求13所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
64.根据前述权利要求17所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
65.根据前述权利要求18所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
66.根据前述权利要求24所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
67.根据前述权利要求30所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
68.根据前述权利要求38所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
69.根据前述权利要求47所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
70.根据前述权利要求58所述的方法,其特征在于,进一步包括一步骤(c),其中,一包含至少一种成分的附加层通过仅操作包含该附加层的成分的靶被沉积。
71.根据权利要求59所述的方法,其特征在于,步骤(c)在步骤(a)之前进行。
72.根据权利要求60至70中任意一个所述的方法,其特征在于,步骤(c)在步骤(a)之前进行。
73.根据权利要求59所述的方法,其特征在于,步骤(a)在步骤(c)之前进行。
74.根据权利要求60至70中任意一个所述的方法,其特征在于,步骤(a)在步骤(c)之前进行。
75.根据前述权利要求1至4、6至8、10、12、14至16、19至23、25至29、31至37、39至46、48至57、60至71、73中任意一个所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
76.根据前述权利要求5所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
77.根据前述权利要求9所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
78.根据前述权利要求11所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
79.根据前述权利要求13所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
80.根据前述权利要求17所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
81.根据前述权利要求18所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
82.根据前述权利要求24所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
83.根据前述权利要求30所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
84.根据前述权利要求38所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
85.根据前述权利要求47所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
86.根据前述权利要求58所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
87.根据前述权利要求59所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
88.根据前述权利要求72所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
89.根据前述权利要求74所述的方法,其特征在于,包括一步骤(d),其中,涂敷一包含一有机材料的外层。
90.一种包括一剃须刀片刀口和一涂层的剃须刀片,该涂层包括:
至少一种由至少一第一成分和一第二成分制成的含金属层,其中,该第一成分主要由碳构成,该第二成分主要由金属构成,以及
至少一与该含金属的层相接触的有机材料的外层,
其中,该金属展现出与该有机材料更好的粘附性,以及
其中,在含金属层中,离外层越近,金属的比例越大。
91.根据权利要求90所述的剃须刀片,其特征在于,该金属为铬。
92.根据权利要求90或91所述的剃须刀片,其特征在于,该涂层包含至少一种附加层(18),该附加层由该成分中的至少一种构成。
93.根据权利要求92所述的剃须刀片,其特征在于,该刀片由不锈钢制成。
94.根据权利要求90或91所述的剃须刀片,其特征在于,该刀片由不锈钢制成。
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