CN101030764A - 弹性边界波器件、谐振器以及滤波器 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种弹性边界波器件、谐振器以及滤波器。所述弹性边界波器件包括：LiNbO3基板；设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，并且所述弹性边界波器件的参数具有范围中的任意一个，其中，“θ”为所述基板的旋转Y切割角，“a”为铜密度与用作所述电极的材料的密度之比，“λ”为由所述电极激励的弹性波的波长，“h”为所述电极的膜厚度，“H”为所述二氧化硅膜的厚度。
Description
技术领域
本发明总体上涉及弹性边界波器件、谐振器以及滤波器，更具体地涉及一种可以抑制斯通利(Stoneley)波的弹性边界波器件、谐振器以及滤波器。
背景技术
已知表面声波(下文中称作SAW)器件是利用弹性波的器件之一。SAW器件可以用于各种电路中，诸如发送带通滤波器、接收带通滤波器、本地滤波器、天线双工器、中频(IF)滤波器、频率调制(FM)调制器等。这些电路处理的无线信号的范围是例如移动电话通常使用的从45MHz至2GHz的频带。
为了提高温度特性，日本专利申请公报No.2003-209458(下文中称作文献1)公开了一种弹性表面波器件，在该弹性表面波器件中，在压电基板上淀积有具有与该压电基板不同的温度特性代码的二氧化硅膜。在弹性表面波器件中，弹性波集中于基板表面并沿基板表面传播。附着于基板表面上的外物将改变或降低其特性，诸如改变频率、增加损耗等。因此，该弹性表面波器件通常安装在密封的封装上。这使得难以减小器件的尺寸，从而导致产品成本增加。
在“Highly Piezoelectric Boundary Waves in Si/SiO2/LiNbO3 Structure”(Masatsune Yamaguchi，Takashi Yamashita，Ken-ya Hashimoto，TatsuyaOmori，Proceeding of 1998 IEEE International Frequency ControlSymposium(U.S.)IEEE，1998，p.p.484-488页(下文中称作文献2))中公开了一种器件，该器件利用了沿不同介质之间的边界传播的边界波(而不是利用表面波)，以提高温度特性、减小器件的尺寸并降低生产成本。文献2基于计算结果公开了以下结构中的边界波：其中在0°旋转Y板LiNbO3(LN基板)上淀积有二氧化硅膜和硅膜。
应注意，文献2并未描述制造具有适合于实际使用的优异特性的弹性边界波器件的方法。作为针对实际使用的问题，除了在弹性边界波器件中使用的弹性边界波之外，还存在被激励为不必要响应的弹性波。这种不必要响应降低了充当弹性边界波器件的功能的弹性边界波的优异频率特性。作为示例，图1示出了利用弹性边界波器件的单端口谐振器的通带特性。图1的SH表示在弹性边界波器件中使用的以切变水平(ShearHorizontal(SH))波为主分量的波的响应。换言之，SH波用于实现其在弹性边界波器件中的功能。观察图1的SV，其是位于SH的较低频率侧处的响应。将其称作以切变垂直(Shear vertical(SV))波为主分量的斯通利波。如图1所示，被激励为弹性边界波的斯通利波存在于在弹性边界波器件中使用的以SH波为主分量的边界波的最近频率处。
发明内容
鉴于以上情况开发了本发明，本发明提供了一种可以抑制斯通利波的弹性边界波器件、谐振器以及滤波器，该斯通利波存在于用作弹性边界波器件的功能的边界波的最近频率处。
根据本发明的一个方面，提供了一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：LiNbO3基板；设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，并且，该弹性边界波器件的参数具有使得斯通利波的机电耦合系数k2满足等于或小于0.00015的范围，其中“θ”为所述基板的旋转Y切割角，“a”为铜密度与用作所述电极的材料的密度之比，“λ”为由所述电极激励的弹性波的波长，“h”为所述电极的膜厚度，“H”为所述二氧化硅膜的厚度。由于斯通利波的k2等于或小于0.00015，因此斯通利波可以得到抑制。
根据本发明的另一方面，提供了一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：LiNbO3基板；设置在所述基板上并激励弹性波的电极；设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，并且，以SV波为主分量的边界波的机电耦合系数为0.001或更小，该以SV波为主分量的边界波是在以在该弹性边界波器件中使用的SH波为主分量的边界波的最近频率处激励的。由于斯通利波的k2等于或小于晶体的k2，因此斯通利波可以得到抑制。
根据本发明的又一方面，提供了一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：LiNbO3基板；设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，并且，以SV波为主分量的边界波的机电耦合系数为0.00015或更小，该以SV波为主分量的边界波是在该弹性边界波器件中使用的以SH波为主分量的边界波的最近频率处激励的。由此斯通利波可以得到抑制。
在上述弹性边界波器件中，所述以SH波为主分量的弹性波的传播方向可以是所述基板的x轴方向。
所述弹性边界波器件还可以包括设置在所述二氧化硅膜上的介质膜。
在上述弹性边界波器件中，所述介质膜中的声速可以比所述二氧化硅膜中的声速更快。所述介质膜可以包括氮化硅、硅化铝、氧化铝和硅中的任意一种。可以将所述弹性边界波限制在所述二氧化硅膜中。
在上述弹性边界波器件中，所述电极的密度可以大于所述二氧化硅膜的密度。所述电极可以包括铜。铜具有比所述二氧化硅膜更高的密度，而具有低阻抗，由此可以降低损耗。
在上述弹性边界波器件中，所述电极可以是具有两层或更多层的多层结构。所述电极可以包括设置在所述基板上的钛层和设置在该钛层上的铜层。由此可以提高所述电极与所述基板的附着力。
所述弹性边界波器件还可以包括覆盖所述电极的阻挡层。所述阻挡层可以抑制所述电极的材料扩散到所述二氧化硅膜中去。
根据本发明的另一方面，提供了一种谐振器，该谐振器包括上述弹性边界波器件中的任意一种。由此可以提供一种可以抑制斯通利波的谐振器。
根据本发明的又一方面，提供了一种滤波器，该滤波器包括上述弹性边界波器件中的任意一种。由此可以提供一种可以抑制斯通利波的滤波器。
因此可以提供一种可以抑制斯通利波的弹性边界波器件、谐振器以及滤波器，该斯通利波存在于用作所述弹性边界波器件的功能的边界波的最近频率处。
附图说明
下面将参照以下附图来详细描述本发明的示例性实施例，在附图中：
图1示出了传统弹性边界波器件的***损耗与频率的关系；
图2是在本发明第一示例性实施例中使用的弹性边界波器件的剖面图；
图3是用于模拟的基本单元的剖面图；
图4示出了k2与二氧化硅膜的厚度的关系，以将模拟结果和测量结果进行比较；
图5A和图5B示出了在图4的S1和S2条件下的***损耗与频率的关系；
图6A和图6B示出了在图4的S3和S4条件下的***损耗与频率的关系；
图7A和图7B示出了在图4的S5和S6条件下的***损耗与频率的关系；
图8示出了第一模拟结果；
图9示出了第二模拟结果；
图10示出了第三模拟结果；
图11示出了第四模拟结果；
图12示出了第五模拟结果；
图13示出了第六模拟结果；
图14示出了第七模拟结果；
图15示出了第八模拟结果；
图16示出了第九模拟结果；
图17示出了第十模拟结果；
图18示出了第十一模拟结果；
图19示出了第十二模拟结果；
图20示出了第十三模拟结果；
图21示出了第十四模拟结果；
图22示出了第十五模拟结果；
图23示出了第十六模拟结果；
图24示出了第十七模拟结果；
图25示出了第十八模拟结果；
图26示出了第十九模拟结果；
图27示出了第二十模拟结果；
图28示出了第二十一模拟结果；
图29示出了第二十二模拟结果；
图30示出了第二十三模拟结果；
图31示出了第二十四模拟结果；
图32示出了第二十五模拟结果；
图33示出了第二十六模拟结果；
图34示出了第二十七模拟结果；
图35示出了第二十八模拟结果；
图36示出了第二十九模拟结果；
图37示出了第三十模拟结果；
图38示出了第三十一模拟结果；
图39示出了第三十二模拟结果；
图40示出了第三十三模拟结果；
图41示出了第三十四模拟结果；
图42示出了第三十五模拟结果；
图43是在本发明第二示例性实施例中使用的弹性边界波器件的剖面图；
图44是在本发明第三示例性实施例中使用的弹性边界波器件的剖面图；
图45是在本发明第四示例性实施例中使用的谐振器的平面图；
图46是在本发明第五示例性实施例中使用的滤波器的平面图；
图47示出了第三十六模拟结果；
图48示出了第三十七模拟结果；
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图50示出了第三十九模拟结果；
图51示出了第四十模拟结果；
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图58示出了第四十七模拟结果；
图59示出了第四十八模拟结果；
图60示出了第四十九模拟结果；
图61示出了第五十模拟结果；
图62示出了第五十一模拟结果；
图63示出了第五十二模拟结果；
图64示出了第五十三模拟结果；
图65示出了第五十四模拟结果；
图66示出了第五十五模拟结果；以及
图67示出了第五十六模拟结果。
具体实施方式
下面将参照附图给出对本发明示例性实施例的描述。
(第一示例性实施例)
为了抑制斯通利波，本发明的发明人通过有限元方法运行模拟，并计算具有各种结构的弹性边界波器件中的斯通利波的机电耦合系数k2的量值。图2是计算中使用的弹性边界波器件的剖面图。在旋转Y板LiNbO3基板(LN基板)10上设置有以Cu(铜)为主要成分的电极16。电极16是叉指式换能器(IDT)或梳状电极，并激励弹性波。在基板10上设置有二氧化硅(SiO2)膜12以覆盖电极16。在二氧化硅膜12上还设置有氧化铝(Al2O3)膜14(介质膜)。
模拟中使用的参数包括：Cu密度(8.92g/cm3)相对于用作电极16的材料的密度之比“a”；电极16激励的弹性波的波长“λ”(即，每隔一个电极齿之间的距离)；基板10的旋转Y切割角“θ”；电极16的膜厚度“h”；二氧化硅膜12的厚度“H”。在模拟中，图2中所示的一个电极齿是基本单元，如图3所示，在重复该基本单元直到无穷大的情况下进行计算。在这里描述的计算结果中，以SH波为主分量的弹性边界波的k2的范围为0.04到0.15，足以构成高频带的滤波器。而且，从图4和图8判断，k2在图19中的一些情况下变为负的；然而，通常情况下应使用所计算的k2的绝对值。因此，在图20至图42以及图47至图67中示出了k2的绝对值。当将k2表示为0.00015或更小时，计算结果k2的绝对值表示0.00015或更小。
为了检查在模拟中是否精确地计算了实际弹性边界波器件的k2，将模拟结果的斯通利波的k2与实际制造的弹性边界波器件的斯通利波的k2进行比较。图4中的实线表示λ＝1.982μm、h＝188nm且θ＝30°。即，图4示出了k2相对于SiO2膜厚度(H/λ)的关系的计算结果，其中，H/λ＝0.095。另外，在使用相同的λ、h和θ的情况下，分别制造了SiO2膜厚度(H/λ)为0.33、0.38、0.42、0.45、0.52和0.58的其他弹性边界波器件，并测量了它们的频率特性。图5A至图7B分别示出了所制造的单端口谐振器中的弹性边界波器件的***损耗的频率特性的测量结果。图4的S1、S2、S3、S4、S5和S6分别表示各弹性边界波器件中的斯通利波的k2。图5A至图7B分别对应于在由图4中所示的S1、S2、S3、S4、S5和S6所表示的条件下制造的弹性边界波器件的测量结果。由图4判断，本发明的发明人所进行的模拟与实际测量结果非常相似。在图5A和图5B的每一个中，分别观察到大的斯通利波的响应。然而，图6A中的斯通利波较小，并且在图6B中变得更小。在图7A和图7B中，不再观察到斯通利波的响应。在将上述测量结果与图4中所示的计算结果进行比较时，在斯通利波的k2的值等于或小于0.00015的情况下，斯通利波的响应非常小，实际上不会导致任何问题。
晶体是用作表面声波器件的介质的材料，其作为表面声波器件的功能的表面声波的k2的值较小。晶体的k2为0.001。因此，要求至少包括晶体的表面声波器件的斯通利波的k2小于用作其功能的表面声波的k2。即，要求斯通利波的k2等于或小于0.001。
图8至图19是示出斯通利波的机电耦合系数k2的模拟结果与SiO2膜厚度(H/λ)的关系的曲线图。图8至图19分别示出了电极膜厚度h分别为0.03λ/a、0.045λ/a、0.06λ/a、0.07λ/a、0.075λ/a是、0.08λ/a、0.085λ/a、0.09λ/a、0.095λ/a、0.1λ/a、0.105λ/a以及0.12λ/a的情况下的结果。假设各计算点表示两个相邻计算点的中点之间的范围。具体地说，例如在图10中，假设计算结果表示0.0525λ/a≤h＜0.065λ/a，其中h＝0.06λ/a，这是由于0.0525λ/a是h＝0.06λ/a与图8和图9的h＝0.045λ/a的中点，而0.065λ/a是h＝0.06λ/a与图11的h＝0.07λ/a的中点。另一方面，如果如图8所示在多个相邻点中的一个处不存在计算值，则假设图8表示图8的计算值与图8的计算值与另一相邻点的中点之间的范围。例如，在图8中，假设计算结果表示0.045λ/a≤h＜0.0525λ/a，这是由于h＝0.045λ/a是图8中的计算点，并且0.0525λ/a是图8和图9的计算点h＝0.045λ/a与图10的计算点h＝0.06λ/a的中点。按类似的方式，在图8中，假设线θ＝26°表示25°≤θ＜26.5°的范围，其中，θ＝25°是θ＝26°与θ＝24°的中点，而θ＝26.5°是θ＝26°与θ＝27°的中点。
参照图8至图19，获得了斯通利波的k2等于或小于0.00015的范围。因此可以通过将弹性边界波器件的参数设置为图8至图19中所示的范围中的任意一个，而使得斯通利波的k2等于或小于0.00015。在图8至图19中，实线表示k2等于或小于0.00015的范围的计算结果，虚线表示其余范围的计算结果。
如图8和图9所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.045λ/a≤h＜0.0525λ/a时，并且
当25°≤θ＜26.5°、0.39λ≤H＜0.46λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.41λ≤H＜0.48λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.42λ≤H＜0.51λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.43λ≤H＜0.53λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.45λ≤H＜0.56λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.46λ≤H＜0.58λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.47λ≤H＜0.61λ时，
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当33.5°≤θ＜35°、0.48λ≤H＜0.67λ时，
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当37.5°≤θ＜42°、0.52λ≤H＜0.8λ时，
当42°≤θ＜57°、0.55λ≤H＜0.8λ时，
当57°≤θ＜63°、0.51λ≤H＜0.8λ时，
当63°≤θ＜69°、0.46λ≤H＜0.8λ时，
当69°≤θ＜75°、0.39λ≤H＜0.8λ时，
当75°≤θ＜99°、0.3λ≤H＜0.8λ时，以及
当99°≤θ＜105°、0.58λ≤H＜0.8λ时。
如图10所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0525λ/a≤h＜0.065λ/a时，并且
当24°≤θ＜25°、0.3λ≤H＜0.32λ时，
当25°≤θ＜26.5°、0.3λ≤H＜0.37λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.33λ≤H＜0.38λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.34λ≤H＜0.41λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.37λ≤H＜0.43λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.39λ≤H＜0.44λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.42λ≤H＜0.47λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.44λ≤H＜0.48λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.47λ≤H＜0.49λ时，
当33.5°≤θ＜34.5°、0.47λ≤H＜0.51λ时，
当34.5°≤θ＜35.5°、0.48λ≤H＜0.57λ时，
当35.5°≤θ＜36.5°、0.5λ≤H＜0.62λ时，
当36.5°≤θ＜38°、0.52λ≤H＜0.67λ时，
当38°≤θ＜40.5°、0.54λ≤H＜0.79λ时，
当40.5°≤θ＜43.5°、0.58λ≤H＜0.8λ时，
当43.5°≤θ＜46.5°、0.61λ≤H＜0.8λ时，
当46.5°≤θ＜51°、0.64λ≤H＜0.8λ时，
当51°≤θ＜57°、0.69λ≤H＜0.8λ时，以及
当57°≤θ＜63°、0.78λ≤H＜0.8λ时。
如图11所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.065λ/a≤h＜0.0725λ/a时，并且
当25.5°≤θ＜26.5°、0.3λ≤H＜0.32λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.36λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.38λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.32λ≤H＜0.43λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.34λ≤H＜0.46λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.36λ≤H＜0.5λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.39λ≤H＜0.55λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.43λ≤H＜0.6λ时，
当33.5°≤θ＜35°、0.46λ≤H＜0.66λ时，
当35°≤θ＜36.5°、0.54λ≤H＜0.8λ时，
当36.5°≤θ＜37.5°、0.59λ≤H＜0.8λ时，
当37.5°≤θ＜38.5°、0.65λ≤H＜0.8λ时，以及
当38.5°≤θ＜39°、0.73λ≤H＜0.8λ时。
如图12所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0725λ/a≤h＜0.0775λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.35λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.39λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.43λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.33λ≤H＜0.49λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.35λ≤H＜0.56λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.39λ≤H＜0.63λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.43λ≤H＜0.75λ时，
当33.5°≤θ＜34.5°、0.47λ≤H＜0.8λ时，
当34.5°≤θ＜35.5°、0.52λ≤H＜0.8λ时，
当35.5°≤θ＜36.5°、0.57λ≤H＜0.8λ时，
当36.5°≤θ＜37.5°、0.63λ≤H＜0.8λ时，以及
当 37.5°≤θ＜38.5°、0.72λ≤H＜0.8λ时。
如图1 3所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0775λ/a≤h＜0.0825λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.34λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.41λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.47λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.32λ≤H＜0.56λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.36λ≤H＜0.69λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.39λ≤H＜0.8λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.44λ≤H＜0.8λ时，
当33.5°≤θ＜35°、0.5λ≤H＜0.8λ时，
当35°≤θ＜36.5°、0.65λ≤H＜0.8λ时，以及
当36.5°≤θ＜38°、0.77λ≤H＜0.8λ时。
如图14所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0825λ/a≤h＜0.0875λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.36λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.44λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.57λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.32λ≤H＜0.8λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.37λ≤H＜0.8λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.43λ≤H＜0.8λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.51λ≤H＜0.8λ时，
当33.5°≤θ＜34.5°、0.59λ≤H＜0.8λ时，以及
当34.5°≤θ＜35.5°、0.72λ≤H＜0.8λ时。
如图15所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0875λ/a≤h＜0.0925λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.39λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.58λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.33λ≤H＜0.8λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.43λ≤H＜0.8λ时，
当31.5 °≤θ＜32.5°、0.53λ≤H＜0.8λ时，以及
当32.5°≤θ＜33.5°、0.67λ≤H＜0.8λ时。
如图16所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0925λ/a≤h＜0.0975λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.63λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.42λ≤H＜0.8λ时，以及
当30.5°≤θ＜31.5°、0.6λ≤H＜0.8λ时。
如图17所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0975λ/a≤h＜0.1025λ/a时，并且
当25.5°≤θ＜26.5°、0.32λ≤H＜0.7λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，以及
当28.5°≤θ＜29.5°、0.45λ≤H＜0.8λ时。
如图18所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.1025λ/a≤h＜0.1125λ/a时，并且
当24.5°≤θ＜25.5°、0.6λ≤H＜0.8λ时，
当25.5°≤θ＜26.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，以及
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.33λ或0.64λ≤H＜0.8λ时。
如图19所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.1125λ/a≤h＜0.12λ≤/a时，并且
当22.5°≤θ＜23.5°、0.47λ≤H＜0.76λ时，以及
当23.5°≤θ＜24.5°、0.36λ≤H＜0.45λ时。
图20至图31是示出斯通利波的机电耦合系数k2与SiO2膜厚度(H/λ)以及电极膜压力(h/λ)的关系的曲线图。图20至图31分别示出了在Y切割角为24°、26°、27°、28°、29°、30°、31°、32°、33°、34°、36°和39°的情况下的结果。如参照图8至图19所描述的，假设各计算点表示两个相邻计算点的中点之间的范围。在图20至图31中所示的曲线图的下面列出了当k2等于0.00015时的采用一次或二次曲线形式的近似表达式。从所示的曲线中，从各曲线图中获得了k2等于或小于0.00015的范围。因此可以通过将弹性边界波器件的参数设置为图20至图31中所示的范围中的任意一个，而使得斯通利波的k2等于或小于0.00015。
如图20所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当24°≤θ＜25°时，并且
当0.35≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≤0.12时，
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤-0.08H/λ+0.15时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.116时，并且附加的是，
当0.35≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥-0.047H/λ+0.136时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.01H/λ+0.118时。
另选的是，当24°≤θ＜25°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≤-0.208H/λ+0.128时，并且
当0.3≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≥-0.125H/λ+0.0925时。
如图21所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当25°≤θ＜26.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-0.05H/λ+0.132时，以及
当0.4≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.112时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.1时。
另选的是，当25°≤θ＜26.5°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.4、h/(λ·a)≤-0.3H/λ+0.17时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.4、h/(λ·a)≥-0.1H/λ+0.09时。
如图22所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当26.5°≤θ＜27.5°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.3 5、h/(λ·a)≤0.11时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-0.04H/λ+0.124时，以及
当0.4≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.108时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.3 5、h/(λ·a)≥0.08时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥0.2H/λ+0.01时，以及
当0.4≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.015H/λ+0.084时。
另选的是，当26.5°≤θ＜27.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≤0.08时，以及
当0.35≤H/λ≤0.4、h/(λ·a)≤-0.5H/λ+0.255时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.4、h/(λ·a)≥-0.09H/λ+0.091时。
另选的是，当26.5°≤θ＜27.5°时，并且
当0.38≤H/λ＜0.48、h/(λ·a)≤-0.1H/λ+0.091时，并且附加的是，
当0.38≤H/λ＜0.48、h/(λ·a)≥-0.1H/λ+0.087时。
如图23所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当27.5°≤θ＜28.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-0.03H/λ+0.116时，以及
当0.4≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.005H/λ+0.102时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.38、h/(λ·a)≥0.07时，
当0.38≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥0.5H/λ-0.12时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≥0.067H/λ+0.053时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.008H/λ+0.0856时。
另选的是，当27.5°≤θ＜28.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.38、h/(λ·a)≤0.07时，
当0.3 8≤H/λ＜0.41、h/(λ·a)≤-0.5λ+0.26时，
当0.41≤H/λ≤0.5、h/(λ·a)≤-0.111H/λ+0.101时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.3 5、h/(λ·a)≥-0.16H/λ+0.116时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.1H/λ+0.095时，
当0.4≤H/λ＜0.47、h/(λ·a)≥-0.171H/λ+0.119时，以及
当0.47≤H/λ≤0.5、h/(λ·a)≥0.233H/λ-0.0717时。
如图24所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当28.5°≤θ＜29.5°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.008H/λ+0.0956时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.14H/λ+0.114时，
当0.4≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≥0.058时，以及
当0.42≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.342(H/λ)2+0.465H/λ-0.0648时。
另选的是，当28.5°≤θ＜29.5°时，
当0.42≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≤0.0052时，
当0.45≤H/λ＜0.53、h/(λ·a)≤-0.0875H/λ+0.0914时，以及
当0.53≤H/λ≤0.55、h/(λ·a)≤-0.75H/λ+0.443时，并且附加的是，
当0.42≤H/λ＜0.46、h/(λ·a)≥-0.175H/λ+0.121时，
当0.46≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥0.04时，以及
当0.5≤H/λ≤0.55、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.14时。
另选的是，当28.5°≤θ＜29.5°时，并且
当0.55≤H/λ＜0.58、h/(λ·a)≤0.167H/λ-0.0617时，以及
当0.58≤H/λ≤0.75、h/(λ·a)≤-0.0294H/λ+0.0521时，并且附加的是，
当0.55≤H/λ≤0.75、h/(λ·a)≥0.03时。
如图25所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当29.5°≤θ＜30.5°时，并且
当0.32≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.286(H/λ)2+0.356H/λ-0.0027时，并且附加的是，
当0.32≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥3.33(H/λ)2-2.7H/λ+0.605时，
当0.4≤H/λ＜0.44、h/(λ·a)≥0.058时，以及
当0.44≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.75(H/λ)2+1.005H/λ-0.239时。
另选的是，当29.5°≤θ＜30.5°时，
当0.43≤H/λ＜0.46、h/(λ·a)≤0.052时，
当0.46≤H/λ＜0.57、h/(λ·a)≤-0.0727H/λ+0.0855时，
当0.57≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≤-0.333H/λ+0.234时，以及
当0.6≤H/λ≤0.75、h/(λ·a)≤-0.0267H/λ+0.05时，并且附加的是，
当0.43≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.4H/λ+0.224时，
当0.45≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≥-0.14H/λ+0.107时，以及
当0.55≤H/λ≤0.75、h/(λ·a)≥0.03时。
如图26所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当30.5°≤θ＜31.5°时，并且
当0.36≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.131(H/λ)2+0.188H/λ+0.00293时，并且附加的是，
当0.36≤H/λ＜0.43、h/(λ·a)≥4.64(H/λ)2-3.95H/λ+0.902时，
当0.43≤H/λ＜0.465、h/(λ·a)≥0.06时，以及
当0.465≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.283(H/λ)2+0.424H/λ-0.0758时。
当30.5°≤θ＜31.5°时，并且
当0.43≤H/λ＜0.465、h/(λ·a)≤0.06时，
当0.465≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤-0.108H/λ+0.105时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.0333H/λ+0.0567时，并且附加的是，
当0.43≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.65H/λ+0.34时，
当0.45≤H/λ＜0.57、h/(λ·a)≥-0.142H/λ+0.111时，以及
当0.57≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.03时。
如图27所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当31.5°≤θ＜32.5°时，并且
当0.39≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.153(H/λ)2+0.219H/λ+0.0169时，并且附加的是，
当0.39≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.15时，
当0.45≤H/λ＜0.48、h/(λ·a)≥0.6时，以及
当0.48≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.346(H/λ)2+0.5H/λ-0.1时。
另选的是，当31.5°≤θ＜32.5°时，并且
当0.45≤H/λ＜0.48、h/(λ·a)≤0.06时，
当0.48≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤-0.135H/λ+0.125时，
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.0333H/λ+0.0587时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ＜0.58、h/(λ·a)≥-0.154H/λ+0.119时，以及
当0.58≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.03时。
如图28所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当32.5°≤θ＜33.5°时，并且
当0.43≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-1.266(H/λ)2+1.614H/λ-0.39时，并且附加的是，
当0.43≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.4H/λ+0.242时，
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥0.062时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.167(H/λ)2+0.263H/λ-0.028时。
另选的是，当32.5°≤θ＜33.5°时，并且
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤0.06H/λ+0.028时，
当0.5≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤-0.11H/λ+0.113时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.03H/λ+0.057时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ＜0.48、h/(λ·a)≥-0.3H/λ+0.19时，
当0.48≤H/λ＜0.59、h/(λ·a)≥-0.145H/λ+0.116时，以及
当0.59≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.03时。
如图29所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当33.5°≤θ＜35°时，并且
当0.425≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.284(H/λ)2+0.396H/λ-0.0471时，并且附加的是，
当0.425≤H/λ≤0.48、h/(λ·a)≥-0.109H/λ+0.116时，
当0.48≤H/λ≤0.57、h/(λ·a)≥0.064时，以及
当0.57≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.6594(H/λ)2+0.9382H/λ-0.257时。
另选的是，当33.5°≤θ＜35°时，并且
当0.48≤H/λ≤0.52、h/(λ·a)≤0.064时，以及
当0.52≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.0929H/λ+0.108时，并且附加的是，
当0.48≤H/λ≤0.59、h/(λ·a)≥-0.155H/λ+0.121时，以及
当0.59≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.03时。
如图30所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当35°≤θ＜37.5°时，并且
当0.54≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.273(H/λ)2+0.415H/λ-0.0748时，并且附加的是，
当0.54≤H/λ＜0.62、h/(λ·a)≥0.06时，以及
当0.62≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.5(H/λ)2+0.76H/λ-0.219时。
另选的是，当35°≤θ＜37.5°时，并且
当0.5≤H/λ＜0.62、h/(λ·a)≤0.06时，以及
当0.62≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.117H/λ+0.132时，并且附加的是，
当0.5≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥-0.16H/λ+0.126时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.03时。
如图31所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当37.5°≤θ＜39°时，并且
当0.52≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≤0.2H/λ-0.054时，
当0.6≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤0.066时，
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.09H/λ+0.003时，并且附加的是，
当0.52≤H/λ＜0.62、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.154时，以及
当0.62≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.03时。
图32至图42是示出斯通利波的机电耦合系数k2与SiO2膜厚度(H/λ)以及Y切割角θ的关系的曲线图。图32至图42分别示出了电极膜厚度h分别为0.03λ/a、0.045λ/a、0.06λ/a、0.07λ/a、0.075λ/a、0.08λ/a、0.085λ/a、0.09λ/a、0.095λ/a、0.10λ/a以及0.105λ/a的情况下的结果。如图8至图19中所描述的，假设各计算点代表两个相邻计算点的中点之间的范围。在图32至图42中所示的曲线图下面列出了当k2等于0.00015时的采用一次或二次曲线形式的近似表达式。根据各曲线图所示的曲线，可以获得k2等于或小于0.00015的范围。因此可以通过将弹性边界波器件的参数设置为图32至图42中所示的范围的任意一个，而使得斯通利波的k2等于或小于0.00015。
如图32所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.03λ/a≤h＜0.0375λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤75(H/λ)2-82.5H/λ+103.687时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.65、θ≥-85.7H/λ+97.7时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、θ≥42时。
另选的是，
当0.03λ/a≤h＜0.0375λ/a时，并且
当0.45≤H/λ＜0.65、θ≤120H/λ-36时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、θ≤42时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ≤0.5、θ≥18时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、θ≥40H/λ-2时。
如图33所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0375λ/a≤h＜0.0525λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤24H/λ+88.8时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.55、θ≥-120H/λ+114时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、θ≥48时。
另选的是，
当0.0375λ/a≤h＜0.0525λ/a时，并且
当0.43≤H/λ＜0.55、θ≤180H/λ-51时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、θ≤48时，并且附加的是，
当0.43≤H/λ≤0.8、θ≥34.3H/λ+11.6时。
如图34所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0525λ/a≤h＜0.065λ/a时，并且
当0.45≤H/λ≤0.8、θ≤80H/λ-4时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ≤0.8、θ≥20H/λ+23时。
如图35所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.065λ/a≤h＜0.0725λ/a时，并且
当0.3≤H/λ＜0.7、θ≤-26.7(H/λ)2+52H/λ+15.5时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、θ≤25H/λ+21时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-16.7(H/λ)2+38.3H/λ+16时。
如图36所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0725λ/a≤h＜0.0775λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤-25(H/λ)2+47.5H/λ+17时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-25(H/λ)2+42.5H/λ+15.2时。
如图37所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0775λ/a≤h＜0.0825λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤-21.4(H/λ)2+38.2H/λ+20.1时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-23.3(H/λ)2+35.8H/λ+17.4时。
如图38所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0825λ/a≤h＜0.0875λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤-13.3(H/λ)2+24.7H/λ+24时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-16(H/λ)2+25.6H/λ+19.8时。
如图39所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0875λ/a≤h＜0.0925λ/a时，并且
当0.3≤H/λ＜0.55、θ≤10H/λ+26.5时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、θ≤6H/λ+28.7时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥4H/λ+25.3时。
如图40所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0925λ/a≤h＜0.0975λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤4H/λ+28.3时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥2H/λ+25.9时。
如图41所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.0975λ/a≤h＜0.1025λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤2H/λ+28.2时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥26时。
如图42所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.1025λ/a≤h＜0.105λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤28时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.5、θ≥-5H/λ+27.5时，以及，
当0.5≤H/λ≤0.8、θ≥25时。
如上所述，可以通过将弹性边界波器件的参数设置为图8至图42中所示的范围中的任意一个，而使得斯通利波的k2等于或小于0.00015，由此减小对弹性边界波器件的影响。
根据本发明的第一示例性实施例，以SH为主分量的边界波的传播方向为LN基板的x轴方向。
在本发明的第一示例性实施例中，已给出了对用作二氧化硅膜12上的介质膜的氧化铝膜14的描述；然而，在介质膜的声速比SiO2的声速更快、并且介质膜的膜厚度为1λ或更大的情况下，可以使用上述模拟。当介质膜的声速比二氧化硅膜12的声速更快时，弹性边界波被限制在二氧化硅膜12中。作为声速比二氧化硅膜12的声速更快的介质膜，介质膜优选地包括氮化硅、硅化铝、氧化铝和硅中的任意一种。
优选的是，电极16的密度比二氧化硅膜12的密度更大。这使得可以增加弹性边界波的反射。此外，作为电极16，优选地包括铜(Cu)。由于与二氧化硅膜12相比，铜具有更高的密度和更低的阻抗，因此可以降低电损耗。并且，二氧化硅膜12可以由在可以应用上述模拟的范围内的、主要包括二氧化硅的膜制成。
(第二示例性实施例)
在本发明第一示例性实施例中所获得的模拟结果可以用于电极16是具有两层或更多层的多层结构的情况。参照图43，与图2中的电极16相比，该电极16由钛(Ti)层16a和铜(Cu)层16b构成。下文中，在本发明第二示例性实施例中，与图2中所使用的部件和结构相同的部件和结构具有相同的标号，并将略去其详细说明。如图43所示，电极16可以具有以下多层结构：Ti层16a设置在基板10上，Cu层16b设置在Ti层16a上。这可以提升电极16与基板10之间的附着力。在本发明第二示例性实施例中，将电极16的平均密度“r”表达为：
r＝p×b/(b+c)+q×c/(b+c)，
其中，“p”为Cu层16b的密度，“q”为Ti层16a的密度，“b”为Cu层16b的膜厚度，且“c”为Ti层16a的膜厚度。
并且，可以通过以下设置来利用本发明第一示例性实施例中所描述的模拟结果：
a＝r/Cu的密度(8.92g/cm3)。
可以通过采用相同的计算方法计算电极16的平均密度并接着获得“a”，来使用本发明第一示例性实施例中所描述的模拟结果，在电极16具有两层或更多层的情况下也是如此。这里，Cu层16b包括铜，使得可以增加弹性边界波的反射，并且由于较低的阻抗而可以降低其损耗。Ti层16a包括钛，使得电极16和基板10可以彼此粘附在一起。
(第三示例性实施例)
本发明第一示例性实施例中所描述的模拟结果可以用于设置有覆盖电极16的阻挡层18的情况。参照图44，设置有由氮化硅(Si3N4)膜制成并覆盖电极16的阻挡层18。下文中，在本发明第三示例性实施例中，与图2中所使用的部件和结构相同的部件和结构具有相同的标号，并将略去其详细说明。阻挡层18防止包括在电极16中的金属扩散到二氧化硅膜12中去。具体地说，当电极16包括铜时，铜会容易地扩散到二氧化硅膜12中去。因此，设置阻挡层18是优选的。由于氮化硅膜的阻挡能力和其易成形的特性，因此使用氮化硅膜作为阻挡层18也是优选的。除了氮化硅膜之外，还可以使用对包括在电极16中的金属向二氧化硅膜中的扩散具有抑制能力的膜。
(第四示例性实施例)
本发明第四示例性实施例是谐振器的示例，该谐振器具有在本发明第一至第三示例性实施例中所使用的弹性边界波器件中的任意一种。图45是示出包括在谐振器中的电极的平面图。在具有梳状电极的弹性边界波器件20的两侧处设置有反射器26和28。该弹性边界波器件20包括输入电极22和输出电极24。与包括梳状电极的弹性边界波器件20同时地制造反射器26和28。从弹性边界波器件20向两侧传播的边界波被反射器26和28反射。这种反射的边界波在弹性边界波器件20中变成边界波的驻波。谐振器按这种方式进行操作。根据本发明第四示例性实施例，通过利用本发明第一至第三示例性实施例中所使用的弹性边界波器件中的任意一种来构造谐振器，可以得到抑制斯通利波的谐振器。这改进了谐振器的频率特性。
(第五示例性实施例)
本发明第五示例性实施例是四级阶梯型滤波器的示例，该四级阶梯型滤波器包括在本发明第四示例性实施例中所使用的谐振器。图46是示出包括在本发明第五示例性实施例中所使用的阶梯型滤波器中的电极的平面图。设置有本发明第四示例性实施例中所使用的、串联连接以用作串联臂谐振器30的谐振器32、34、36和38。谐振器32的一端连接到输入焊盘电极50，谐振器38的一端连接到电极52。由谐振器32和谐振器34连接的电极(未示出)进一步连接到谐振器40，由谐振器38和谐振器36连接的电极(未示出)进一步连接到谐振器42。谐振器40的未由谐振器连接的一端连接到接地焊盘电极54。谐振器42的未由谐振器连接的一端连接到接地焊盘电极56。谐振器40和42用作并联臂谐振器。上述结构使得本发明第五示例性实施例中所使用的滤波器可以作为阶梯型滤波器来操作。根据第五示例性实施例，通过利用本发明第一至第三示例性实施例中所使用的弹性边界波器件中的任意一种来构造阶梯型滤波器，可以得到抑制斯通利波的滤波器。这改进了滤波器的频率特性。在本发明第五示例性实施例中，已给出了对阶梯型滤波器的描述；然而，除了阶梯型滤波器之外，例如还可以利用本发明第一至第三示例性实施例中所使用的弹性边界波器件中的任意一种来构造双模滤波器。
图47至图67是示出斯通利波的机电耦合系数k2与SiO2膜厚度(H/λ)以及电极膜压力(h/λ)的关系的曲线图，作为在本发明第一示例性实施例中所使用的图20至图31中所示的曲线图的补充。图47至图67分别示出了Y切割角θ为0°、1°、3°、6°、9°、10°、11°、12°、13°、14°、15°、16°、17°、18°、19°、20°、21°、22°、23°、24°和177°的结果。按与如图20至图31所示的类似的方式，假设各计算点表示两个相邻计算点的中点之间的范围。在图47至图67所示的曲线图下面列出了当k2等于0.00015时的采用一次或二次曲线形式的近似表达式。因此可以通过将弹性边界波器件的参数设置为图47至图67中所示的范围中的任意一个，而使得斯通利波的k2等于或小于0.00015。
如图47所示，当0°≤θ＜0.5°时，并且，当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤H/λ时，以及，当0.6≤H/λ＜0.625、h/(λ·a)≥-2H/λ+1.8时，以及当0.625≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥1.543(H/λ)2-2.484H/λ+1.5时，存在k2等于或小于0.00015的范围。这里，在用于模拟的模型中，将h/(λ·a)≤H/λ的情况考虑在内，而未将h/(λ·a)＞H/λ的情况考虑在内。
如图48所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当0.5°≤θ＜2°时，并且
当0.508≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤H/λ时，并且附加的是，
当0.508≤H/λ＜0.531、h/(λ·a)≥-0.3478H/λ+0.6847时，
当0.531≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥-0.6087H/λ+0.8232时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.6(H/λ)2-0.98H/λ+0.83时。
如图49所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当2°≤θ＜4.5°时，并且
当0.45≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤H/λ时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥28.998(H/λ)2-29.088H/λ+7.668时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≥1.6(H/λ)2-2.06H/λ+1.003时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.0733H/λ+0.3877时。
如图50所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当4.5°≤θ＜7.5°时，并且
当0.3625≤H/λ＜0.496、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.496≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤-0.111H/λ+0.5511时，
当0.55≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤3.4(H/λ)2-4.45H/λ+1.909时，
当0.65≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤-0.06H/λ+0.492时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.45时，并且附加的是，
当0.3625≤H/λ＜0.3875、h/(λ·a)≥-0.46H/λ+0.5293时，
当0.3875≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-2.96H/λ+1.498时，
当0.4≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.58H/λ+0.546时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥1.2667(H/λ)2-1.503H/λ+0.705时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.04H/λ+0.283时。
如图51所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当7.5°≤θ＜9.5°时，并且
当0.315≤H/λ＜0.406、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.406≤H/λ＜0.419、h/(λ·a)≤-1.077H/λ+0.8432时，
当0.419≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≤61.7512(H/λ)2-55.565H/λ+12.8326时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≤1.8667(H/λ)2-2.233H/λ+0.96时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.2(H/λ)2-0.32H/λ+0.412时，并且附加的是，
当0.315≤H/λ＜0.342、h/(λ·a)≥-0.5556H/λ+0.49时，
当0.342≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-3.75H/λ+1.5825时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.6H/λ+0.48时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≥1.133(H/λ)2-1.243H/λ+0.556时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.1067(H/λ)2-0.18H/λ+0.2817时。
如图52所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当9.5°≤θ＜10.5°时，并且
当0.31≤H/λ＜0.37、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.37≤H/λ＜0.383、h/(λ·a)≤0.37时，
当0.383≤H/λ＜0.392、h/(λ·a)≤-1.111H/λ+0.7956时，
当0.392≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-2.5H/λ+1.34时，
当0.4≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≤12(H/λ)2-11.1H/λ+2.86时，
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤3.2(H/λ)2-3.36H/λ+1.159时，
当0.5≤H/λ＜0.61、h/(λ·a)≤0.5455(H/λ)2-0.7327H/λ+0.509时，以及
当0.61≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.08848(H/λ)2-0.1616H/λ+0.3307时，并且附加的是，
当0.31≤H/λ＜0.331、h/(λ·a)≥-0.4762H/λ+0.4576时，
当0.331≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-2.632H/λ+1.171时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.5H/λ+0.425时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥(H/λ)2-1.09H/λ+0.501时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.1(H/λ)2-0.17H/λ+0.266时。
如图53所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当10.5°≤θ＜11.5°时，并且
当0.304≤H/λ＜0.36、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.36≤H/λ＜0.3625、h/(λ·a)≤-4H/λ+1.8时，
当0.3625≤H/λ＜0.375、h/(λ·a)≤-0.8H/λ+0.64时，
当0.375≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤80.702(H/λ)2-64.344H/λ+13.120时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤3(H/λ)2-3.091H/λ+1.051时，
当0.5≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤0.4(H/λ)2-0.56H/λ+0.436时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.02H/λ+0.254时，并且附加的是，
当0.304≤H/λ＜0.329、h/(λ·a)≥-0.56H/λ+0.474时，
当0.329≤H/λ＜0.331、h/(λ·a)≥-15H/λ+5.225时，
当0.331≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-1.579H/λ+0.7826时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.4H/λ+0.37时，
当0.4≤H/λ＜0.575、h/(λ·a)≥0.4762(H/λ)2-0.5786H/λ+0.3652时，以及
当0.575≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.0381(H/λ)2-0.07905H/λ+0.2229时。
如图54所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当11.5°≤θ＜12.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.3 5、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.35≤H/λ＜0.358、h/(λ·a)≤-1.25H/λ+0.7875时，
当0.358≤H/λ＜0.3625、h/(λ·a)≤-6.667H/λ+2.7267时，
当0.3625≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤27.781(H/λ)2-22.3379H/λ+4.7569时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤2.18(H/λ)2-2.271H/λ+0.8263时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤0.44(H/λ)2-0.578H/λ+0.4148时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.02667H/λ+0.2423时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.308、h/(λ·a)≥-0.5H/λ+0.45时，
当0.308≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥25.1541(H/λ)2-18.099H/λ+3.4683时，
当0.35≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥1.8(H/λ)2-1.69H/λ+0.586时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥0.3333(H/λ)2-0.4167H/λ+0.31时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.02H/λ+0.192时。
如图55所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当12.5°≤θ＜13.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.32、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.32≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≤-H/λ+0.64时，
当0.35≤H/λ＜0.373、h/(λ·a)≤-1.3044H/λ+0.7465时，
当0.373≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-0.6296H/λ+0.4949时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤1.6(H/λ)2-1.66H/λ+0.651时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤0.4667(H/λ)2-0.61H/λ+0.4093时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.02H/λ+0.223时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.8H/λ+0.48时，
当0.35≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.27时，
当0.45≤H/λ＜0.625、h/(λ·a)≥0.09524(H/λ)2-0.1595H/λ+0.2325时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.01143H/λ+0.1771时。
如图56所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当13.5°≤θ＜14.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.318、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.318≤H/λ＜0.325、h/(λ·a)≤-4H/λ+1.59时，
当0.325≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤6.933(H/λ)2-5.88H/λ+1.4687时，
当0.4≤H/λ＜0.585、h/(λ·a)≤0.6618(H/λ)2-0.7924H/λ+0.437时，以及
当0.585≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.11527(H/λ)2-0.1829H/λ+0.2676时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.6H/λ+0.4时，
当0.35≤H/λ＜0.475、h/(λ·a)≥0.8(H/λ)2-0.82H/λ+0.379时，
当0.475≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≥0.2095(H/λ)2-0.2814H/λ+0.2564时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.0133H/λ+0.1707时。
如图57所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当14.5°≤θ＜15.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.304、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.304≤H/λ＜0.308、h/(λ·a)≤-1.25H/λ+0.685时，
当0.308≤H/λ＜0.321、h/(λ·a)≤-2.308H/λ+1.011时，
当0.321≤H/λ＜0.375、h/(λ·a)≤11.239(H/λ)2-8.748H/λ+1.920时，
当0.375≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤1.1733(H/λ)2-1.2347H/λ+0.518时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤0.267(H/λ)2-0.36H/λ+0.3073时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.01333H/λ+0.1947时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.5H/λ+0.355时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.25时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥-0.1H/λ+0.21时，
当0.5≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≥-0.03H/λ+0.175时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.154时。
如图58所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当15.5°≤θ＜16.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.308、h/(λ·a)≤-1.25H/λ+0.675时，
当0.308≤H/λ＜0.311、h/(λ·a)≥-10H/λ+3.37时，
当0.311≤H/λ＜0.321、h/(λ·a)≤-2H/λ+0.882时，
当0.321≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤5.9188(H/λ)2-4.799H/λ+1.171时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.711(H/λ)2-0.7956H/λ+0.4024时，
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.128(H/λ)2-0.197H/λ+0.2495时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.4H/λ+0.31时，
当0.35≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥0.3556(H/λ)2-0.4089H/λ+0.2696时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.08762(H/λ)2-0.1306H/λ+0.1974时。
如图59所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当16.5°≤θ＜17.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤8.6(H/λ)2-6.75H/λ+1.511时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.467(H/λ)2-0.557H/λ+0.335时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.0667(H/λ)2-0.11H/λ+0.2103时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥1.133(H/λ)2-1.043H/λ+0.391时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥0.133(H/λ)2-0.183H/λ+0.2065时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.0075H/λ+0.149时。
如图60所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当17.5°≤θ＜18.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤4(H/λ)2-3.28H/λ+0.848时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.467(H/λ)2-0.537H/λ+0.316时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.1(H/λ)2-0.155H/λ+0.217时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.867(H/λ)2-0.817H/λ+0.337时，
当0.45≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≥-0.05H/λ+0.1675时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.008H/λ+0.1444时。
如图61所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当18.5°≤θ＜19.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤2.8(H/λ)2-2.34H/λ+0.655时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.467(H/λ)2-0.537H/λ+0.307时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.04(H/λ)2-0.07H/λ+0.1794时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.933(H/λ)2-0.847H/λ+0.331时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥0.081(H/λ)2-0.118H/λ+0.1759时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.005H/λ+0.137时。
如图62所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当19.5°≤θ＜20.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤2.4(H/λ)2-2H/λ+0.574时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.4(H/λ)2-0.46H/λ+0.278时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.0933(H/λ)2-0.142H/λ+0.1959时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.667(H/λ)2-0.627H/λ+0.281时，
当0.45≤H/λ＜0.575、h/(λ·a)≥0.107(H/λ)2-0.141H/λ+0.176时，以及
当0.575≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.00444H/λ+0.1326时。
如图63所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当20.5°≤θ＜21.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤2.2(H/λ)2-1.83H/λ+0.529时，
当0.4≤H/λ＜0.52、h/(λ·a)≤0.357(H/λ)2-0.404H/λ+0.2533时，以及
当0.52≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.0604(H/λ)2-0.0976H/λ+0.1744时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.733(H/λ)2-0.657H/λ+0.276时，以及
当0.45≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.04286(H/λ)2-0.065H/λ+0.1496时。
如图64所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当21.5°≤θ＜22.5°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.198(H/λ)2-0.291H/λ+0.234时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.8(H/λ)2-0.69H/λ+0.2735时，以及
当0.45≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.00286H/λ+0.1263时。
如图65所示，在以下情况下，存在k2等于或小于0.00015的范围：当22.5°≤θ＜23.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤0.568(H/λ)2-0.649H/λ+0.2976时，以及
当0.7≤H/λ＜0.75、h/(λ·a)≤-0.03H/λ+0.1425时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.73、h/(λ·a)≥0.136(H/λ)2-0.174H/λ+0.1719时，以及
当0.73≤H/λ≤0.75、h/(λ·a)≥0.125H/λ+0.02625时。
如图66所示，在以下情况下存在k2等于或小于0.00015的范围：当23.5°≤θ＜24°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤0.4(H/λ)2-0.46H/λ+0.246时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.116时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥0.667(H/λ)2-0.613H/λ+0.253时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.01H/λ+0.118时。
当23.5°≤θ＜24°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≤-0.208H/λ+0.128时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≥-0.125H/λ+0.0925时。
如图67所示，当θ＝177°时，不存在k2等于或小于0.00015的范围。
尽管示出并描述了一些本发明中所使用的具体的示例性实施例，但是本领域中的技术人员应理解，可以在不脱离本发明的原理和精神的前提下，对这些示例性实施例进行改变，权利要求及其等同物限定了本发明的范围。
本发明基于2006年2月28日提交的日本专利申请No.2006-053486以及2007年1月29日提交的日本专利申请No.2007-017473，通过引用将其全部公开内容合并于此。
Claims (16)
1、一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：
LiNbO3基板；
设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及
设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，
其中，所述弹性边界波器件的参数具有以下范围中的任意一个，其中，“θ”为所述基板的旋转Y切割角，“a”为铜密度与用作所述电极的材料的密度之比，“λ”为由所述电极激励的弹性波的波长，“h”为所述电极的膜厚度，“H”为所述二氧化硅膜的厚度：
当0.045λ/a≤h＜0.0525λ/a时，并且
当25°≤θ＜26.5°、0.39λ≤H＜0.46λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.41λ≤H＜0.48λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.42λ≤H＜0.51λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.43λ≤H＜0.53λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.45λ≤H＜0.56λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.46λ≤H＜0.58λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.47λ≤H＜0.61λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.48λ≤H＜0.64λ时，
当33.5°≤θ＜35°、0.48λ≤H＜0.67λ时，
当35°≤θ＜37.5°、0.5λ≤H＜0.74λ时，
当37.5°≤θ＜42°、0.52λ≤H＜0.8λ时，
当42°≤θ＜57°、0.55λ≤H＜0.8λ时，
当57°≤θ＜63°、0.51λ≤H＜0.8λ时，
当63°≤θ＜69°、0.46λ≤H＜0.8λ时，
当69°≤θ＜75°、0.39λ≤H＜0.8λ时，
当75°≤θ＜99°、0.3λ≤H＜0.8λ时，以及
当99°≤θ＜105°、0.58λ≤H＜0.8λ时；
当0.0525λ/a≤h＜0.065λ/a时，并且
当24°≤θ＜25°、0.3λ≤H＜0.32λ时，
当25°≤θ＜26.5°、0.3λ≤H＜0.37λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.33λ≤H＜0.38λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.34λ≤H＜0.41λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.37λ≤H＜0.43λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.39λ≤H＜0.44λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.42λ≤H＜0.47λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.44λ≤H＜0.48λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.47λ≤H＜0.49λ时，
当33.5°≤θ＜34.5°、0.47λ≤H＜0.51λ时，
当34.5°≤θ＜35.5°、0.48λ≤H＜0.57λ时，
当35.5°≤θ＜36.5°、0.5λ≤H＜0.62λ时，
当36.5°≤θ＜38°、0.52λ≤H＜0.67λ时，
当38°≤θ＜40.5°、0.54λ≤H＜0.79λ时，
当40.5°≤θ＜43.5°、0.58λ≤H＜0.8λ时，
当43.5°≤θ＜46.5°、0.61λ≤H＜0.8λ时，
当46.5°≤θ＜51°、0.64λ≤H＜0.8λ时，
当51°≤θ＜57°、0.69λ≤H＜0.8λ时，以及
当57°≤θ＜63°、0.78λ≤H＜0.8λ时；
当0.065λ/a≤h＜0.0725λ/a时，并且
当25.5°≤θ＜26.5°、0.3λ≤H＜0.32λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.36λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.38λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.32λ≤H＜0.43λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.34λ≤H＜0.46λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.36λ≤H＜0.5λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.39λ≤H＜0.55λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.43λ≤H＜0.6λ时，
当33.5°≤θ＜35°、0.46λ≤H＜0.66λ时，
当35°≤θ＜36.5°、0.54λ≤H＜0.8λ时，
当36.5°≤θ＜37.5°、0.59λ≤H＜0.8λ时，
当37.5°≤θ＜38.5°、0.65λ≤H＜0.8λ时，以及
当38.5°≤θ＜39°、0.73λ≤H＜0.8λ时；
当0.0725λ/a≤h＜0.0775λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.35λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.39λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.43λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.33λ≤H＜0.49λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.35λ≤H＜0.56λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.39λ≤H＜0.63λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.43λ≤H＜0.75λ时，
当33.5°≤θ＜34.5°、0.47λ≤H＜0.8λ时，
当34.5°≤θ＜35.5°、0.52λ≤H＜0.8λ时，
当35.5°≤θ＜36.5°、0.57λ≤H＜0.8λ时，
当36.5°≤θ＜37.5°、0.63λ≤H＜0.8λ时，以及
当37.5°≤θ＜38.5°、0.72λ≤H＜0.8λ时；
当0.0775λ/a≤h＜0.0825λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.34λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.41λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.47λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.32λ≤H＜0.56λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.36λ≤H＜0.69λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.39λ≤H＜0.8λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.44λ≤H＜0.8λ时，
当33.5°≤θ＜35°、0.5λ≤H＜0.8λ时，
当35°≤θ＜36.5°、0.65λ≤H＜0.8λ时，以及
当36.5°≤θ＜38°、0.77λ≤H＜0.8λ时；
当0.0825λ/a≤h＜0.0875λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.36λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.44λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.57λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.32λ≤H＜0.8λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.37λ≤H＜0.8λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.43λ≤H＜0.8λ时，
当32.5°≤θ＜33.5°、0.51λ≤H＜0.8λ时，
当33.5°≤θ＜34.5°、0.59λ≤H＜0.8λ时，以及
当34.5°≤θ＜35.5°、0.72λ≤H＜0.8λ时；
当0.0875λ/a≤h＜0.0925λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.39λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.58λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.33λ≤H＜0.8λ时，
当30.5°≤θ＜31.5°、0.43λ≤H＜0.8λ时，
当31.5°≤θ＜32.5°、0.53λ≤H＜0.8λ时，以及
当32.5°≤θ＜33.5°、0.67λ≤H＜0.8λ时；
当0.0925λ/a≤h＜0.0975λ/a时，并且
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.63λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当28.5°≤θ＜29.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当29.5°≤θ＜30.5°、0.42λ≤H＜0.8λ时，以及
当30.5°≤θ＜31.5°、0.6λ≤H＜0.8λ时；
当0.0975λ/a≤h＜0.1025λ/a时，并且
当25.5°≤θ＜26.5°、0.32λ≤H＜0.7λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，以及
当28.5°≤θ＜29.5°、0.45λ≤H＜0.8λ时；
当0.1025λ/a≤h＜0.1125λ/a时，并且
当24.5°≤θ＜25.5°、0.6λ≤H＜0.8λ时，
当25.5°≤θ＜26.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，
当26.5°≤θ＜27.5°、0.3λ≤H＜0.8λ时，以及
当27.5°≤θ＜28.5°、0.3λ≤H＜0.33λ和0.64λ≤H＜0.8λ时；以及
当0.1125λ/a≤h＜0.12λ/a时，并且
当22.5°≤θ＜23.5°、0.47λ≤H＜0.76λ时，以及
当23.5°≤θ＜24.5°、0.36λ≤H＜0.45λ时。
2、一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：
LiNbO3基板；
设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及
设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，
其中，所述弹性边界波器件的参数具有以下范围中的任意一个，其中，“θ”为所述基板的旋转Y切割角，“a”为铜密度与用作所述电极的材料的密度之比，“λ”为由所述电极激励的弹性波的波长，“h”为所述电极的膜厚度，“H”为所述二氧化硅膜的厚度：
当0°≤θ＜0.5°时，并且
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤H/λ时，并且附加的是，
当0.6≤H/λ＜0.625、h/(λ·a)≥-2H/λ+1.8时，以及
当0.625≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥1.543(H/λ)2-2.484H/λ+1.5时；
当0.5°≤θ＜2°时，并且
当0.508≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤H/λ时，并且附加的是，
当0.508≤H/λ＜0.531、h/(λ·a)≥-0.3478H/λ+0.6847时，
当0.531≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥-0.6087H/λ+0.8232时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.6(H/λ)2-0.98H/λ+0.83时；
当2°≤θ＜4.5°时，并且
当0.45≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤H/λ时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥28.998(H/λ)2-29.088H/λ+7.668时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≥1.6(H/λ)2-2.06H/λ+1.003时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.0733H/λ+0.3877时；
当4.5°≤θ＜7.5°时，并且
当0.3625≤H/λ＜0.496、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.496≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤-0.111H/λ+0.5511时，
当0.55≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤3.4(H/λ)2-4.45H/λ+1.909时，
当0.65H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤-0.06H/λ+0.492时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.45时，并且附加的是，
当0.3625≤H/λ＜0.3875、h/(λ·a)≥-0.46H/λ+0.5293时，
当0.3875≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-2.96H/λ+1.498时，
当0.4≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.58H/λ+0.546时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥1.2667(H/λ)2-1.503H/λ+0.705时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.04H/λ+0.283时；
当7.5°≤θ＜9.5°时，并且
当0.315≤H/λ＜0.406、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.406≤H/λ＜0.419、h/(λ·a)≤-1.077H/λ+0.8432时，
当0.419≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≤61.7512(H/λ)2-55.565H/λ+12.8326时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≤1.8667(H/λ)2-2.233H/λ+0.96时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.2(H/λ)2-0.32H/λ+0.412时，并且附加的是，
当0.315≤H/λ＜0.342、h/(λ·a)≥-0.5556H/λ+0.49时，
当0.342≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-3.75H/λ+1.5825时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.6H/λ+0.48时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≥1.133(H/λ)2-1.243H/λ+0.556时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.1067(H/λ)2-0.18H/λ+0.2817时；
当9.5°≤θ＜10.5°时，并且
当0.31≤H/λ＜0.37、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.37≤H/λ＜0.383、h/(λ·a)≤0.37时，
当0.383≤H/λ＜0.392、h/(λ·a)≤-1.111H/λ+0.7956时，
当0.392≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-2.5H/λ+1.34时，
当0.4≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≤12(H/λ)2-11.1H/λ+2.86时，
当0.45≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤3.2(H/λ)2-3.36H/λ+1.159时，
当0.5≤H/λ＜0.61、h/(λ·a)≤0.5455(H/λ)2-0.7327H/λ+0.509时，以及
当0.61≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.08848(H/λ)2-0.1616H/λ+0.3307时，并且附加的是，
当0.31≤H/λ＜0.331、h/(λ·a)≥-0.4762H/λ+0.4576时，
当0.331≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-2.632H/λ+1.171时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.5H/λ+0.425时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥(H/λ)2-1.09H/λ+0.501时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.1(H/λ)2-0.17H/λ+0.266时；
当10.5°≤θ＜11.5°时，并且
当0.304≤H/λ＜0.36、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.36≤H/λ＜0.3625、h/(λ·a)≤-4H/λ+1.8时，
当0.3625≤H/λ＜0.375、h/(λ·a)≤-0.8H/λ+0.64时，
当0.375≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤80.702(H/λ)2-64.344H/λ+13.120时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤3(H/λ)2-3.091H/λ+1.051时，
当0.5≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤0.4(H/λ)2-0.56H/λ+0.436时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.02H/λ+0.254时，并且附加的是，
当0.304≤H/λ＜0.329、h/(λ·a)≥-0.56H/λ+0.474时，
当0.329≤H/λ＜0.331、h/(λ·a)≥-15H/λ+5.225时，
当0.331≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-1.579H/λ+0.7826时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.4H/λ+0.37时，
当0.4≤H/λ＜0.575、h/(λ·a)≥0.4762(H/λ)2-0.5786H/λ+0.3652时，以及
当0.575≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.0381(H/λ)2-0.07905H/λ+0.2229时；
当11.5°≤θ＜12.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.35≤H/λ＜0.358、h/(λ·a)≤-1.25H/λ+0.7875时，
当0.358≤H/λ＜0.3625、h/(λ·a)≤-6.667H/λ+2.7267时，
当0.3625≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤27.781(H/λ)2-22.3379H/λ+4.7569时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤2.18(H/λ)2-2.271H/λ+0.8263时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤0.44(H/λ)2-0.578H/λ+0.4148时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.02667H/λ+0.2423时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.308、h/(λ·a)≥-0.5H/λ+0.45时，
当0.308≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥25.1541(H/λ)2-18.099H/λ+3.4683时，
当0.35≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥1.8(H/λ)2-1.69H/λ+0.586时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥0.3333(H/λ)2-0.4167H/λ+0.31时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.02H/λ+0.192时；
当12.5°≤θ＜13.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.32、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.32≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≤-H/λ+0.64时，
当0.35≤H/λ＜0.373、h/(λ·a)≤-1.3044H/λ+0.7465时，
当0.373≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤-0.6296H/λ+0.4949时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤1.6(H/λ)2-1.66H/λ+0.651时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤0.4667(H/λ)2-0.61H/λ+0.4093时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.02H/λ+0.223时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.8H/λ+0.48时，
当0.35≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.27时，
当0.45≤H/λ＜0.625、h/(λ·a)≥0.09524(H/λ)2-0.1595H/λ+0.2325时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.01143H/λ+0.1771时，
当13.5°≤θ＜14.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.318、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.318≤H/λ＜0.325、h/(λ·a)≤-4H/λ+1.59时，
当0.325≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤6.933(H/λ)2-5.88H/λ+1.4687时，
当0.4≤H/λ＜0.585、h/(λ·a)≤0.6618(H/λ)2-0.7924H/λ+0.437时，以及
当0.585≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.11527(H/λ)2-0.1829H/λ+0.2676时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.6H/λ+0.4时，
当0.35≤H/λ＜0.475、h/(λ·a)≥0.8(H/λ)2-0.82H/λ+0.379时，
当0.475≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≥0.2095(H/λ)2-0.2814H/λ+0.2564时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.0133H/λ+0.1707时；
当14.5°≤θ＜15.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.304、h/(λ·a)≤H/λ时，
当0.304≤H/λ＜0.308、h/(λ·a)≤-1.25H/λ+0.685时，
当0.308≤H/λ＜0.321、h/(λ·a)≤-2.308H/λ+1.011时，
当0.321≤H/λ＜0.375、h/(λ·a)≤11.239(H/λ)2-8.748H/λ+1.920时，
当0.375≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤1.1733(H/λ)2-1.2347H/λ+0.518时，
当0.5≤H/λ＜0.65、h/(λ·a)≤0.267(H/λ)2-0.36H/λ+0.3073时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤-0.01333H/λ+0.1947时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.5H/λ+0.355时，
当0.35≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≥-0.2H/λ+0.25时，
当0.4≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥-0.1H/λ+0.21时，
当0.5≤Hλ＜0.7、h/(λ·a)≥-0.03H/λ+0.175时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.154时；
当15.5°≤θ＜16.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.308、h/(λ·a)≤-1.25H/λ+0.675时，
当0.308≤H/λ＜0.311、h/(λ·a)≤-10H/λ+3.37时，
当0.311≤H/λ＜0.321、h/(λ·a)≤-2H/λ+0.882时，
当0.321≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤5.9188(H/λ)2-4.799H/λ+1.171时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.711(H/λ)2-0.7956H/λ+0.4024时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.128(H/λ)2-0.197H/λ+0.2495时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.35、h/(λ·a)≥-0.4H/λ+0.31时，
当0.35≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥0.3556(H/λ)2-0.4089H/λ+0.2696时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.08762(H/λ)2-0.1306H/λ+0.1974时；
当16.5°≤θ＜17.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤8.6(H/λ)2-6.75H/λ+1.511时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.467(H/λ)2-0.557H/λ+0.335时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.0667(H/λ)2-0.11H/λ+0.2103时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥1.133(H/λ)2-1.043H/λ+0.391时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥0.133(H/λ)2-0.183H/λ+0.2065时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.0075H/λ+0.149时；
当17.5°≤θ＜18.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤4(H/λ)2-3.28H/λ+0.848时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.467(H/λ)2-0.537H/λ+0.316时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.1(H/λ)2-0.155H/λ+0.217时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.867(H/λ)2-0.817H/λ+0.337时，
当0.45≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≥-0.05H/λ+0.1675时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.008H/λ+0.1444时；
当18.5°≤θ＜19.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤2.8(H/λ)2-2.34H/λ+0.655时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.467(H/λ)2-0.537H/λ+0.307时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.04(H/λ)2-0.07H/λ+0.1794时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.933(H/λ)2-0.847H/λ+0.331时，
当0.45≤H/λ＜0.6、h/(λ·a)≥0.081(H/λ)2-0.118H/λ+0.1759时，以及
当0.6≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.005H/λ+0.137时；
当19.5°≤θ≤20.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤2.4(H/λ)2-2H/λ+0.574时，
当0.4≤H/λ＜0.55、h/(λ·a)≤0.4(H/λ)2-0.46H/λ+0.278时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.0933(H/λ)2-0.142H/λ+0.1959时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.667(H/λ)2-0.627H/λ+0.281时，
当0.45≤H/λ＜0.575、h/(λ·a)≥0.107(H/λ)2-0.141H/λ+0.176时，以及
当0.575≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.00444H/λ+0.1326时；
当20.5°≤θ＜21.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.4、h/(λ·a)≤2.2(H/λ)2-1.83H/λ+0.529时，
当0.4≤H/λ＜0.52、h/(λ·a)≤0.357(H/λ)2-0.404H/λ+0.2533时，以及
当0.52≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.0604(H/λ)2-0.0976H/λ+0.1744时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.733(H/λ)2-0.657H/λ+0.276时，以及
当0.45≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥0.04286(H/λ)2-0.065H/λ+0.1496时；
当21.5°≤θ＜22.5°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.198(H/λ)2-0.291H/λ+0.234时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.45、h/(λ·a)≥0.8(H/λ)2-0.69H/λ+0.2735时，以及
当0.45≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.00286H/λ+0.1263时；
当22.5°≤θ＜23.5°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.7、h/(λ·a)≤0.568(H/λ)2-0.649H/λ+0.2976时，以及
当0.7≤H/λ＜0.75、h/(λ·a)≤-0.03H/λ+0.1425时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.73、h/(λ·a)≥0.136(H/λ)2-0.174H/λ+0.1719时，以及
当0.73≤H/λ≤0.75、h/(λ·a)≥0.125H/λ+0.02625时，
当23.5°≤θ＜24°时，并且
当0.3≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≤0.4(H/λ)2-0.46H/λ+0.246时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≤0.116时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.5、h/(λ·a)≥0.667(H/λ)2-0.613H/λ+0.253时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、h/(λ·a)≥-0.01H/λ+0.118时；或者
当23.5°≤θ＜24°时，并且
当0.3≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≤-0.208H/λ+0.128时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.42、h/(λ·a)≥-0.125H/λ+0.0925时。
3、一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：
LiNbO3基板；
设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及
设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，
其中，所述弹性边界波器件的参数具有以下范围中的任意一个，其中，“θ”为所述基板的旋转Y切割角，“a”为铜密度与用作所述电极的材料的密度之比，“λ”为由所述电极激励的弹性波的波长，“h”为所述电极的膜厚度，“H”为所述二氧化硅膜的厚度：
当0.03λ/a≤h＜0.0375λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤75(H/λ)2-82.5H/λ+103.687时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.65、θ≥-85.7H/λ+97.7时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、θ≥42时，或者
当0.03λ/a≤h＜0.0375λ/a时，并且
当0.45≤H/λ＜0.65、θ≤120H/λ-36时，以及
当0.65≤H/λ≤0.8、θ≤42时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ＜0.5、θ≥18时，以及
当0.5≤H/λ≤0.8、θ≥40H/λ-2时；
当0.0375λ/a≤h＜0.0525λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤24H/λ+88.8时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.55、θ≥-120H/λ+114时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、θ≥48时，或者
当0.0375λ/a≤h＜0.0525λ/a时，并且
当0.43≤H/λ＜0.55、θ≤180H/λ-51时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、θ≤48时，并且附加的是，
当0.43≤H/λ≤0.8、θ≥34.3H/λ+11.6时；
当0.0525λ/a≤h＜0.065λ/a时，并且
当0.45≤H/λ≤0.8、θ≤80H/λ-4时，并且附加的是，
当0.45≤H/λ≤0.8、θ≥20H/λ+23时；
当0.065λ/a≤h＜0.0725λ/a时，并且
当0.3≤H/λ＜0.7、θ≤-26.7(H/λ)2+52H/λ+15.5时，以及
当0.7≤H/λ≤0.8、θ≤25H/λ+21时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-16.7(H/λ)2+38.3H/λ+16时；
当0.0725λ/a≤h＜0.0775λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤-25(H/λ)2+47.5H/λ+17时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-25(H/λ)2+42.5H/λ+15.2时；
当0.0775λ/a≤h＜0.0825λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤-21.4(H/λ)2+38.2H/λ+20.1时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-23.3(H/λ)2+35.8H/λ+17.4时；
当0.0825λ/a≤h＜0.0875λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤-13.3(H/λ)2+24.7H/λ+24时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥-16(H/λ)2+25.6H/λ+19.8时；
当0.0875λ/a≤h＜0.0925λ/a时，并且
当0.3≤H/λ＜0.55、θ≤10H/λ+26.5时，以及
当0.55≤H/λ≤0.8、θ≤6H/λ+28.7时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥4H/λ+25.3时；
当0.0925λ/a≤h＜0.0975λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤4H/λ+28.3时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥2H/λ+25.9时；
当0.0975λ/a≤h＜0.1025λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤2H/λ+28.2时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≥26时；
当0.1025λ/a≤h＜0.105λ/a时，并且
当0.3≤H/λ≤0.8、θ≤28时，并且附加的是，
当0.3≤H/λ＜0.5、θ≥-5H/λ+27.5时，以及，
当0.5≤H/λ≤0.8、θ≥25时。
4、一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：
LiNbO3基板；
设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及
设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，
其中，以切变垂直波为主分量的边界波的机电耦合系数为0.001或更小，所述以切变垂直波为主分量的边界波是在该弹性边界波器件中使用的以切变水平波为主分量的边界波的最近频率处激励的。
5、一种弹性边界波器件，该弹性边界波器件包括：
LiNbO3基板；
设置在所述基板上并激励弹性波的电极；以及
设置在所述基板上以覆盖所述电极的二氧化硅膜，
其中，以切变垂直波为主分量的边界波的机电耦合系数为0.00015或更小，所述以切变垂直波为主分量的边界波是在该弹性边界波器件中使用的以切变水平波为主分量的边界波的最近频率处激励的。
6、根据权利要求4或5所述的弹性边界波器件，其中，所述以切变水平波为主分量的弹性波的传播方向为所述基板的x轴方向。
7、根据权利要求1至5中的任意一项所述的弹性边界波器件，该弹性边界波器件还包括设置在所述二氧化硅膜上的介质膜。
8、根据权利要求7所述的弹性边界波器件，其中，所述介质膜中的声速比所述二氧化硅膜中的声速更快。
9、根据权利要求7所述的弹性边界波器件，其中，所述介质膜包括氮化硅、硅化铝、氧化铝和硅中的任意一种。
10、根据权利要求1至5中的任意一项所述的弹性边界波器件，其中，所述电极的密度比所述二氧化硅膜的密度更大。
11、根据权利要求1至5中的任意一项所述的弹性边界波器件，其中，所述电极包括铜。
12、根据权利要求1至5中的任意一项所述的弹性边界波器件，其中，所述电极是具有两层或更多层的多层结构。
13、根据权利要求12所述的弹性边界波器件，其中，所述电极包括设置在所述基板上的钛层以及设置在所述钛层上的铜层。
14、根据权利要求1至5中的任意一项所述的弹性边界波器件，该弹性边界波器件还包括覆盖所述电极的阻挡层。
15、一种谐振器，该谐振器包括权利要求1至14中的任意一项所述的弹性边界波器件。
16、一种滤波器，该滤波器包括权利要求1至14中的任意一项所述的弹性边界波器件。
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