CN100378944C

CN100378944C - 基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置及使用方法

Info

Publication number: CN100378944C
Application number: CNB2004100382055A
Authority: CN
Inventors: 大田黑竜
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2003-05-14
Filing date: 2004-05-13
Publication date: 2008-04-02
Anticipated expiration: 2024-05-13
Also published as: JP2004342771A; KR20040098586A; TW200506315A; CN1551327A; JP4268447B2; TWI242634B; KR100809648B1

Abstract

本发明的目的是提供一种基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置以及它们的使用方法，能够在维持基板自身具有的平坦度的状态下保持所述基板，可以精密地进行测定、处理、检查等。本发明是一种将基板稳定地保持在平板面上的基板保持用具，具有：流体层形成单元(11b、11d)，其形成位于基板(S)的下面和所述平板面(11a)之间的用于使基板(S)浮起的流体层；定位单元(13)，其通过所述流体层稳定地保持基板(S)，并且抵接通过所述流体层而浮起的所述基板(S)的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面(11a)上的规定位置。

Description

基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置及使用方法

技术领域

本发明涉及将基板稳定地保持在平板面上的基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置以及它们的使用方法。

背景技术

专利文献1 JP特开平9-61111号公报

专利文献2 JP特开平6-20904号公报

例如在半导体制造领域中，一般在将基板保持在基板保持用具上的状态下，对基板进行测定、处理、检查等。

并且，在该半导体制造领域中，对例如光掩模、分划板(レチクル)等的基板的表面上形成的图形进行精密地测定、处理、检查等时，要求被所述基板保持用具所保持的基板是平坦而没有弯曲的。

但是，在利用支撑基板的边缘部分或侧面部分的方法、或用三点支撑基板的表面、背面的方法实现的以往的基板保持用具中，存在基板因自重等产生弯曲，而难以进行精密测定的问题。

因此，以往提出各种可以通过抑制基板的这种弯曲或对弯曲进行校正来尽可能高精度地进行测定等的技术方案(例如，参照专利文献1、2)。

在专利文献1所记载的技术方案中，具有用于放置基板的框状XY载物台，对放置在该XY载物台上的基板，利用由光学检测***构成的检测***来检测基板表面上形成的图形。在该情况下，由于将基板放置在框状XY载物台上时，基板的中央部分陷入XY载物台的中央部分而形成弯曲状，所以将所述检测***配置在XY载物台的下方，使分划板的图形面朝向下方，分划板在与放置在曝光装置上的状态相同时，测定分划板的图形坐标，消除弯曲的影响。

在专利文献2所记载的技术方案中，为了消除特别是因基板内的温度分布不均造成的基板弯曲对测定结果的影响，对基板的温度进行测定，根据该测定结果和基板的热膨胀系数进行校正，消除因所述温度不均所造成的影响。

但是，这些专利文献所记载的技术方案均以基板弯曲为前提条件，所以具有限制测定等的精度提高的问题。

因此，为了使基板不弯曲，也考虑了在具有高刚性和高精度的平坦面的平板上放置基板，并且利用真空吸盘等把基板按压在该平板的所述平坦面上进行测定等的方法。

但是，根据该方法，由于基板的平坦度与放置基板的所述平板的平坦面的平坦度密切相关，所以在平板弯曲或平板的平坦面有微小弯曲时，这些都反映在基板的平坦度中，具有难以进行精密测定等的问题。

另外，在利用真空吸盘将基板吸附在平板上时，如果平板的平坦面和基板之间产生微粒或空气积存，则在该部分，基板上产生弯曲，存在难以进行精密测定等的问题。

如果产生这种问题，也产生不能获得测定的再现性的问题。即，放置在平板上的基板由于不是基板自身原来具有的形状而是产生了变形，所以会产生以下问题。

例如，对同一基板多次进行基板的平坦度等的形状测定时，由于每次放置在平板上时基板的变形程度不同，所以不能实现测定再现性，并且还导致测定精度降低。

另外，象光掩模等那样，在基板上具有图形等时，如果放置在平板上的基板发生变形，则图形尺寸和图形形状也相应地出现变形。结果，降低了图形等的长度测量精度和坐标测定精度。

并且，除了上述的基板变形外，基板的检查/测定中的再现性和精度也由于基板的移动而降低。

并且，近年来，以液晶玻璃基板和液晶装置制造用的光掩模等的基板为代表，出现基板尺寸大型化(例如，一边大于等于300mm的方形基板)的趋势，相应地因基板自身的自重造成的变形程度(弯曲量等)变大，而且由于基板的表面积变大，致使上述问题更加显著。

发明内容

本发明就是为了解决上述问题而提出的，其目的是提供一种基板保持用具、基板处理装置、基板检查装置以及它们的使用方法，可以保持基板(特别是大型基板)，使其不会从基板自身原有的形状产生变形(弯曲)、并且在定位状态下不会移动，可提高再现性和精度，能够高精度地进行测定、处理、检查等。

为了达到上述目的，本发明涉及一种基板保持用具，该基板保持用具将在表面上形成图形用的、或表面上具有图形的基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其特征在于，具有：流体层形成单元，其形成位于所述基板的下面和所述平板面之间的用于使所述基板浮起的流体层；和定位单元，其抵接通过所述流体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面上的规定位置，用于在被定位的所述基板表面上形成图形或检查形成在所述基板表面上的图形时，保持且不移动所述基板。

根据该结构，流体层利用相同的力使基板浮起而成为与平板面不接触的状态，所以能够消除因自重造成的基板弯曲。另外，由于具有定位单元，可以限制基板的移动。并且，通过从平板面侧抵接基板，将定位单元定位于通过流体层而浮起的基板上的规定位置，所以能够使定位单元抵接基板而造成的影响为最小。

另外，作为形成所述流体层的流体虽然也可以是液体，但通过利用空气或氮气等气体，具有在后面工序不需要清除流体的作业的优点。另外，作为基板例如也可以是光掩模坯料或光掩模或者它们使用的玻璃基板。作为玻璃基板的材料，例如可以列举出合成石英或掺杂氟的石英等。

上述的定位单元可以采用如下单元：由设在所述平板面上的弹性体和安装在该弹性体上的抵接所述基板的抵接部件构成，通过由所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板的下面来限制所述基板的移动。

根据该结构，可以始终保持基板和定位单元的抵接状态。即，基板通过流体层而浮起时，相应地通过弹性体的反弹力(弾発力)，抵接部件以抵接基板的状态上升。通过适当调整基板通过流体层而浮起的高度位置和弹性体的反弹力，可以在不对测定等产生影响的最小的范围内，进行基板的定位和固定。

作为所述定位单元，也可以采用如下单元：由从浮起状态的所述基板的周围方向抵接所述基板侧面的进退移动自如的抵接部件构成，通过使所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板周围的多个部位来限制所述基板的移动。

根据该结构，可以由定位单元的抵接部件抵接浮起状态的基板侧面来限制基板的移动，进行定位和固定。抵接部件只要以可以限制基板移动的程度来轻轻抵接基板即可，所以能够在实质上消除由定位单元造成的基板的弯曲。

另外，抵接部件的进退移动既可以通过电机和致动器等驱动体来进行，也可以通过手动来实现。

上述结构的基板保持用具可以应用于所有必须在高精度地维持平坦度的状态下保持基板的装置。例如，一种基板处理装置，该基板处理装置具有上述的基板保持用具，其特征在于，具有向由所述基板保持用具所定位并保持的所述基板的表面照射电子束或激光束的照射单元。

作为这种基板处理装置，例如，可以列举出使用被涂覆了例如光致抗蚀剂的光掩模坯料等的基板并向其照射激光束来形成图形的描画装置或曝光装置。

在形成图形的工序中，形成的图形的精度大大地依赖于用于形成图形的基板的保持状态。例如，在形成图形的工序中，如果用于形成图形的基板(例如光掩模坯料、半导体基板)发生变形，则形成的图形也按照基板的变形程度而形成。

并且，用于形成图形的基板如果在形成图形的工序中发生移动，则形成图形的位置精度降低。特别是在制造光掩模时，使用描画装置或曝光装置形成图形的工序是最重要的工序，可以说光掩模的质量基本上由该工序决定。同样，将光掩模的图形转印在半导体基板上的工序在半导体制造中是非常重要的工序。

因此，把可以保持基板并使其不弯曲(不变形)且不移动(定位)的本发明的基板保持用具，应用于照射激光束来形成图形的描画装置或曝光装置等特别有效。

作为其他的基板处理装置，可以列举出退火处理装置、在半导体基板上进行选择性成膜的CVD处理装置，其中退火处理装置使用激光束，利用注入离子的照射损伤、注入杂质的活性化、以及通过使多晶硅再结晶来制作单结晶硅的SOI(Silicon on Insulator)技术等。

本发明还涉及一种基板检查装置，该基板检查装置具有上述的基板保持用具，其特征在于，具有：向由所述基板保持用具所定位并保持的所述基板的表面照射检查光的检查光照射单元；检测基于所述检查光的所述基板表面的光的光检测单元。

作为这种基板检查装置，例如可以列举出测定基板的平坦度的检查装置、对形成于基板表面上的图形进行测定的坐标测定装置。

使用本发明的基板保持用具，在测定被保持成不弯曲(不变形)且不移动(定位)的基板的平坦度时，可以测定基板自身具有的平坦度，能够进行再现性、精度良好的平坦度测定。

另外，进行光掩模等那样的基板上的图形的坐标测定时，通过将基板保持成不弯曲(不变形)且在定位状态下不移动的状态，可以在原有图形尺寸和图形形状的状态下，即不变形的状态下进行图形的长度测量和坐标测定，因此能够进行再现性、精度良好的平坦度测定。

本发明的目的也可通过下述基板保持方法来实现。即，本发明的基板保持方法用于将在表面上形成图形用的、或表面上具有图形的基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其特征在于，具有：流体层形成工序：在所述基板和所述平板面之间形成流体层，使所述基板从一面侧浮起；定位工序：使抵接部件抵接通过所述流体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，在与所述平板面大致平行的平面内进行定位；以及在形成了所述流体层的状态下被定位、且被保持的状态下，在所述基板的表面上形成图形或检查所述基板的表面的工序。

本发明的基板保持方法可以应用于所有必须在高精度地维持平坦度的状态下保持基板的方法。例如：一种基板处理方法，该基板处理方法利用了上述的基板保持方法，其特征在于，设有向在形成了所述流体层的状态下被定位、且被保持的状态下的所述基板的表面照射处理光的照射工序。另外，本发明还涉及一种基板检查方法，该基板检查方法利用了上述的基板保持方法，其特征在于，设有向在形成了所述流体层的状态下被定位、且被保持的状态下的所述基板的表面照射检查光的检查光照射工序。

附图说明

图1是说明本发明的第1实施方式涉及的基板保持用具的结构的局部剖面透视图。

图2是表示在平板面和基板之间形成了流体层的状态的基板保持用具的剖面图。

图3是说明第1实施方式中的定位单元的结构和作用的放大图。

图4是说明定位单元的配置形式的平面图。

图5是利用了其他定位单元的本发明的第2实施方式涉及的基板保持用具的说明图，是其平面图。

图6是说明利用了其他定位单元的本发明的第2实施方式涉及的基板保持用具的说明图，是说明基板保持步骤的剖面图。

图7是表示基板检查装置的一例的概略图。

符号说明

1、2：基板保持用具；11、21：载物台；11a、21a：平板面；11b、21b：空气吹出孔；11c：凹部；11d、21d：空气室；12、22：导向框架；13、23：定位单元；14：抵接部件；15：板簧(弹性体)；24：驱动体；25：抵接部件。

具体实施方式

以下，参照附图，详细说明本发明的最佳实施方式。

另外，在以下说明中，作为基板，是以光掩模或分划板等使用的玻璃基板为例进行说明，但本发明不限于这种玻璃基板，也可以应用于具有Cr膜、MoSi膜等透过率控制膜、ITO膜等的玻璃基板、树脂基板、金属基板等所有种类的基板。并且，作为以下说明的玻璃基板的材料，例如可以列举出合成石英或掺杂氟的石英等。

[基板保持用具的说明]

图1是说明本发明的第1实施方式涉及的基板保持用具的结构的局部剖面透视图，图2是表示在平板面和基板之间形成了流体层的状态的基板保持用具的剖面图。

该第1实施方式的基板保持用具1具有载物台11和导向框架12：该载物台11在水平面内具有平坦状表面(以下称为平板面)11a；该导向框架12被形成为和放置在该载物台的平板面11a上的玻璃基板S相似的形状，并围绕着玻璃基板S设在载物台11上。

在载物台11的内部形成用于储存压缩空气的空气室11d。空气室11d连接着未图示的鼓风机等空气供给单元，从该空气供给单元供给的空气保持一定的压力。另外，在平板面11a上形成大量的贯通到空气室11d的空气吹出孔11b，空气室11d内的空气从各个空气吹出孔11b以实质相等的流速被吹出。另外，在图1的基板保持用具1中，为了图示方便而图示出6行4列空气吹出孔11b，但空气吹出孔11b的配置形式及个数不限于此。

在该实施方式中，由所述空气供给单元和空气室11d及空气吹出孔11b构成在玻璃基板S和平板面11a之间形成流体层并使玻璃基板S浮起的流体层形成单元。

如图2所示，如果在平板面11a上放置了玻璃基板S的状态下驱动空气供给单元，向空气室11d内供给空气，则空气室11d内的空气从空气吹出孔11b朝向玻璃基板S的下面吹出。朝向玻璃基板S的下面吹出的空气向玻璃基板S的边缘流动，从导向框架12和玻璃基板S的边缘之间的间隙排放到大气中。由此，在玻璃基板S和平板面11a之间形成流体层(空气层)。

在玻璃基板S浮起到规定的高度位置时，形成流体层的空气的压力和玻璃基板S的自重相平衡，玻璃基板S被保持在该高度位置。

在平板面11a的多个部位(在本实施方式中为三处)形成凹部11c。用于对浮起状态的玻璃基板S进行定位的定位单元13设在该凹部11c中(参照图1)。

以下，参照图3说明本实施方式中的定位单元13的结构及作用。

图3是说明该实施方式中的定位单元的结构和作用的部分放大剖面图。

图3(a)表示将玻璃基板S提供给基板保持用具1之前的状态。如图3(a)所示，定位单元13由山形的板簧15和抵接部件14构成，该山形的板簧15以一个末端部单支撑的状态，安装在凹部11c的底部上；该抵接部件14被安装在该板簧15的顶部并抵接玻璃基板S的下面。抵接部件14优选使用不会损伤玻璃基板S的下面并且在与玻璃基板S之间不易产生滑动的材质来形成，例如，可以使用尿烷树脂、橡胶等来形成。另外，可以选择板簧15的反弹力相对于基板S的自重足够小的材质。优选根据通过流体层的基板S的浮起高度位置，在不会使基板S产生变形的最小范围内，适当选择板簧15的反弹力。

图3(b)表示将玻璃基板S提供给基板保持用具1时的状态。如图3(b)所示，在不从空气吹出孔11b(参照图1和图2)吹出空气的状态下，在平板面11a上放置玻璃基板S时，通过玻璃基板S的自重抗拒板簧15的反弹力将抵接部件14向凹部11c侧压回，成为被收存在凹部11c中的状态。

图3(c)表示从空气吹出孔11b吹出空气而使玻璃基板S浮起的状态。

如图3(c)所示，从空气吹出孔11b吹出空气而使玻璃基板S浮起时，伴随该浮起，抵接部件14在抵接玻璃基板S的状态下上升。

此时，由于板簧15的弹性不会将抵接部件14过分地向玻璃基板S按压，并且可以限制玻璃基板S的移动，所以利用板簧15的反弹力可以避免玻璃基板S出现部分弯曲的不利情况。

另外，在使用了该实施方式那样的板簧15的定位单元13的情况下，可以抑制玻璃基板S的移动的方向被限制在直线方向。即，如图3(a)所示，虽然抵接部件14不向Y轴方向(与图3的纸面垂直的方向)移动，但伴随板簧15的变形而向X轴稍微移动，所以利用一个定位单元13难以进行基板S的X轴方向和Y轴方向的定位。

因此，如图4所示，将3个定位单元(以下，在图4中分别用符号13A、13B、13C表示3个定位单元)配置成与抵接部件14的移动方向垂直。即，使2个定位单元13A、13B的板簧15的方向指向X轴方向，使剩余的定位单元13C的板簧15的方向指向Y轴方向。这样，板簧15朝向X轴方向的2个定位单元13A、13B限制玻璃基板的Y轴方向的移动，板簧15朝向Y轴方向的定位单元13C限制玻璃基板的X轴方向的移动。由此，可以把玻璃基板S定位在X-Y平面内。

并且，通过在抵接部件14上设置以不使玻璃基板S产生弯曲和浮起等不稳定因素的程度的吸附力来轻轻固定玻璃基板S的减压吸附机构，可以更高精度地进行定位。

另外，定位单元不限于上述结构，只要不使玻璃基板S产生弯曲等，并且可以限制浮起状态的玻璃基板S的X轴方向和Y轴方向的移动来进行定位，也可以使用其他结构。并且，在上述说明中，在不从空气吹出孔11b吹出空气的状态下将玻璃基板S放置在平板面11a上，然后从空气吹出孔11b吹出空气而使玻璃基板S浮起，但也可以在从空气吹出孔11b吹出空气的状态下，将玻璃基板S提供到平板面11a上。

图5和图6是利用其他结构的定位单元的本发明的第2实施方式涉及的基板保持用具的说明图，图5是其平面图，图6是说明该第2实施方式的定位单元进行的基板保持步骤的剖面图。

在该实施方式中，定位单元23被安装在设于载物台21上的导向框架22上。

定位单元23由从浮起状态的基板S的周围方向抵接玻璃基板S的侧面的进退移动自如的抵接部件25、和使该抵接部件25相对于玻璃基板S进退移动的螺线管等驱动体24构成。

分别在矩形状的导向框架22的各边配置了多个抵接部件25(在图5示例中为每个短边设两个，每个长边设四个)，以便可以从矩形状的玻璃基板S的四周抵接玻璃基板S的侧面。与各个抵接部件25相对应地设置了驱动体24。

另外，也可以采用以下结构：在导向框架22的各边上配置一个驱动体，利用该一个驱动体使配置在相同边上的多个抵接部件25同时进行进退移动。

驱动体24的控制是根据未图示的控制装置的驱动指令而进行的。使驱动体24驱动以使抵接部件25进退移动的定时，例如既可以是从开始吹出空气起经过规定时间后使驱动体24驱动，也可以是设置光电传感器等，在所述光电传感器检测到基板S浮起到规定高度位置时使驱动体24驱动。

如图6(a)所示，在使驱动体24停止的状态下，即，使抵接部件25后退到不干涉玻璃基板S的位置的状态下，将玻璃基板S提供给基板保持用具2。

如图6(b)所示，在将空气室21d的空气从空气吹出孔21b吹出，玻璃基板S浮起到规定的高度位置时，如图6(c)所示，使驱动体24驱动。

这样，抵接部件25从玻璃基板S的周围抵接玻璃基板S的侧面，限制玻璃基板S的X轴方向和Y轴方向的移动。

另外，为了尽可能地缩小由于抵接部件25的抵接而形成的玻璃基板S的局部弯曲，优选预先将抵接部件25的行程调整为：使驱动体24驱动时抵接部件25的前端轻轻抵接玻璃基板S的侧面。

[基板处理装置的说明]

上述结构的基板保持用具1、2可以用于制造光掩模坯料、光掩模等时使用的基板处理装置。

在该情况下，基板处理装置具有向由基板保持用具1、2所定位并保持的所述基板的表面照射电子束或激光束的照射单元，通过从该照射单元照射电子束或激光束，实施在基板上描画图形或校正形成于基板上的图形等规定处理。

作为这种基板处理装置，例如，可以列举出使用被涂覆了光致抗蚀剂的光掩模坯料等的基板并向其照射激光束来形成图形的描画装置或曝光装置。

[基板检查装置的说明]

下面，说明检查基板的基板检查装置。

在以下说明中，以检查基板的平坦度的检查装置为例进行说明。另外，作为这种检查装置，已经公知有倾斜入射干涉方式和垂直入射干涉方式，但在以下说明中以倾斜入射干涉方式为例进行说明。

在倾斜入射干涉方式中，如图7所示，例如，使用He-Ne激光作为检查光的光源，通过读取该激光的平行光束的光程差成为使用波长的整数倍数时出现的明暗条纹(干涉条纹)来测定平坦度。

倾斜入射干涉方式的基板检查装置5如图7(a)所示，大致上由以下部分构成：激光的电源部51；产生He-Ne激光束的激光管52；用来仅透过规定波长的激光束的滤波器53；使激光束扩散的物镜54和扩散板55；驱动该扩散板55的电机56；使所扩散的激光束成为平行光束的校准透镜57；棱镜标准原器58；菲涅尔板60；屏幕61；调整激光束的光路的多个反射镜M1～M5。

图7(b)是表示平行光束和光程差的关系的图，是图7(a)的样品(玻璃基板S)和棱镜标准原器58部分的放大图。

从图7(b)可以看出，在把空气的折射率设为n_o、棱镜的折射率设为n时，光程差δ可以用下述公式表示。

δ＝n_o(P1P2-P2P3)-nTP3

另外，P1P2、P2P3和TP3表示图7(b)中的各点之间的距离。

其中，由于

P1P2＝2n_o/cosθ’

TP3＝P1P3sinθ＝2d_otanθ’·sinθ，因此

δ＝2n_o/cosθ’-2d_otanθ’·sinθ

由于n_osinθ’＝nsinθ，因此

δ＝2n_od_o cosθ’+λ·β/2π

由于在P3处的相位变化β＝π，

所以δ＝2n_od_o cosθ’+λ/2

由于在该光程差成为使用波长的整数倍数时产生干涉条纹，所以产生条纹的基板S的表面高度d_o为

d_o＝λ/2n_o cosθ’·(m-1/2)m：整数

即，由于平坦度的测定利用激光的平行光束的光程差成为使用波长的整数倍数时出现的干涉条纹，所以在测定中需要保持基板不移动。并且，平坦度的测定需要按照基板自身原来具有的形状进行测定。因此，通过把可以保持成在定位状态下不移动、且基板不弯曲即不变形的本发明的基板保持用具应用于平坦度的测定，可以有效提高平坦度测定的再现性和精度。

虽然说明了本发明的最佳实施方式，但本发明不受上述实施方式的任何限定。

例如，在第1实施方式中说明了将定位单元13设在三个部位的情况，但也可以设在四个部位或更多部位。另外，作为弹性体使用了板簧15，但只要能够限制基板S在规定方向的移动，也可以使用卷簧等其他形式的弹簧。

另外，在第2实施方式中，定位单元23通过螺线管使抵接部件进退移动，但只要能够使抵接部件进退移动，驱动体不限于螺线管，也可以使用气缸或电机等。并且，在第2实施方式中，利用驱动体使抵接部件进退移动，但也可以通过手动操作来使抵接部件进退移动。

另外，在上述说明中，使用空气来使玻璃基板S浮起，但根据装置或基板的种类、用途等，也可以使用氮气等其他惰性气体。并且，作为使玻璃基板S浮起的流体，以空气等气体为例进行了说明，但不限于气体，也可以使用水等液体。该情况时，作为所使用的液体，通过选择比重大于玻璃基板S的液体，对玻璃基板S产生浮力，可以更有效地使玻璃基板S浮起。但是，如果使用空气等气体，具有在后面工序不需要清除流体等的作业的优点。

另外，本发明不限于未处理的玻璃基板，例如，也可以应用于具有Cr膜、MoSi膜等透过率控制膜、ITO膜等的玻璃基板。

根据本发明，使用空气等流体使基板从平板面浮起，并且使抵接部件从基板的下面或侧面进行抵接来进行定位，所以能够把基板的弯曲抑制到最小，能够在维持基板自身具有的平坦度的状态下高精度地进行测定、处理、检查等。特别是，本发明在应用于因自重而容易产生弯曲的大型基板时，其效果更大。

Claims

1.一种基板保持用具，该基板保持用具将在表面上形成图形用的、或表面上具有图形的基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其特征在于，具有：

流体层形成单元，其形成位于所述基板的下面和所述平板面之间的用于使所述基板浮起的流体层；和

定位单元，其抵接通过所述流体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，将所述基板定位在所述平板面上的规定位置，用于在被定位的所述基板表面上形成图形或检查形成在所述基板表面上的图形时，保持且不移动所述基板。

2.权利要求1所述的基板保持用具，其特征在于，

使用气体作为形成所述流体层的流体。

3.权利要求1或2所述的基板保持用具，其特征在于，

所述定位单元由设在所述平板面上的弹性体和安装在该弹性体上的抵接所述基板的抵接部件构成，通过使所述抵接部件抵接浮起状态的所述基板的下面来限制所述基板的移动。

4.一种基板处理装置，该基板处理装置具有权利要求1所述的基板保持用具，其特征在于，

具有向由所述基板保持用具所定位并保持的所述基板的表面照射电子束或激光束的照射单元。

5.一种基板检查装置，该基板检查装置具有权利要求1所述的基板保持用具，其特征在于，具有：

向由所述基板保持用具所定位并保持的所述基板的表面照射检查光的检查光照射单元；

检测基于所述检查光的所述基板表面的光的光检测单元。

6.一种基板保持方法，该基板保持方法用于将在表面上形成图形用的、或表面上具有图形的基板稳定地保持在平板面上的规定位置，其特征在于，具有：

流体层形成工序：在所述基板和所述平板面之间形成流体层，使所述基板从一面侧浮起；

定位工序：使抵接部件抵接通过所述流体层而浮起的所述基板的至少下面或侧面，在与所述平板面大致平行的平面内进行定位；以及

在形成了所述流体层的状态下被定位、且被保持的状态下，在所述基板的表面上形成图形或检查所述基板的表面的工序。

7.权利要求6所述的基板保持方法，其特征在于，

所述基板是光掩模坯料或光掩模或者它们使用的基板。

8.一种基板处理方法，该基板处理方法利用了权利要求7或8所述的基板保持方法，其特征在于，

设有向在形成了所述流体层的状态下被定位、且被保持的状态下的所述基板的表面照射处理光的照射工序。

9.一种基板检查方法，该基板检查方法利用了权利要求7或8所述的基板保持方法，其特征在于，

设有向在形成了所述流体层的状态下被定位、且被保持的状态下的所述基板的表面照射检查光的检查光照射工序。