CH689280A5 - Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer, mit einer Einrichtung zur Erkennung und Unterdrueckung von unerwuenschten Lichtboegen. - Google Patents
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934326100 DE4326100B4 (de) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer, mit einer Einrichtung zur Erkennung und Unterdrückung von unerwünschten Lichtbögen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH689280A5 true CH689280A5 (de) | 1999-01-29 |
Family
ID=6494395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH151494A CH689280A5 (de) | 1993-08-04 | 1994-05-16 | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer, mit einer Einrichtung zur Erkennung und Unterdrueckung von unerwuenschten Lichtboegen. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3654931B2 (fr) |
CH (1) | CH689280A5 (fr) |
DE (1) | DE4326100B4 (fr) |
FR (1) | FR2709376B1 (fr) |
GB (1) | GB2280799B (fr) |
NL (1) | NL194867C (fr) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2279517T3 (es) | 1995-10-27 | 2007-08-16 | APPLIED MATERIALS GMBH & CO. KG | Dispositivo para recubrir un sustrato. |
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DE19651378A1 (de) * | 1996-12-11 | 1998-06-18 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zum Aufstäuben von dünnen Schichten auf flache Substrate |
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ATE543198T1 (de) * | 2004-12-24 | 2012-02-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Plasmaanregungssystem |
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EP1926122B1 (fr) | 2006-11-23 | 2009-11-11 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Procédé et dispositif de détection de formation d'arc dans un procédé plasma |
US7795817B2 (en) | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
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---|---|---|---|---|
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1993
- 1993-08-04 DE DE19934326100 patent/DE4326100B4/de not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-05-16 CH CH151494A patent/CH689280A5/de not_active IP Right Cessation
- 1994-07-15 GB GB9414387A patent/GB2280799B/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-29 NL NL9401248A patent/NL194867C/nl not_active IP Right Cessation
- 1994-08-03 FR FR9409623A patent/FR2709376B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-04 JP JP18353894A patent/JP3654931B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2280799B (en) | 1997-06-25 |
JPH0778588A (ja) | 1995-03-20 |
NL194867C (nl) | 2003-05-06 |
JP3654931B2 (ja) | 2005-06-02 |
NL9401248A (nl) | 1995-03-01 |
GB2280799A (en) | 1995-02-08 |
DE4326100B4 (de) | 2006-03-23 |
GB9414387D0 (en) | 1994-09-07 |
DE4326100A1 (de) | 1995-02-09 |
FR2709376B1 (fr) | 1997-11-07 |
FR2709376A1 (fr) | 1995-03-03 |
NL194867B (nl) | 2003-01-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PFA | Name/firm changed |
Owner name: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT TRANSFER- BALZERS UND L |
|
PFA | Name/firm changed |
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