CH570275A5 - Selective etching of printing plates or cylinders - permits partial prepn. of cylinder to reduce prodn. time for late news items - Google Patents
Selective etching of printing plates or cylinders - permits partial prepn. of cylinder to reduce prodn. time for late news itemsInfo
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- CH570275A5 CH570275A5 CH536273A CH536273A CH570275A5 CH 570275 A5 CH570275 A5 CH 570275A5 CH 536273 A CH536273 A CH 536273A CH 536273 A CH536273 A CH 536273A CH 570275 A5 CH570275 A5 CH 570275A5
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/003—Preparing for use and conserving printing surfaces of intaglio formes, e.g. application of a wear-resistant coating, such as chrome, on the already-engraved plate or cylinder; Preparing for reuse, e.g. removing of the Ballard shell; Correction of the engraving
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- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen. In der Druckindustrie werden im Rotationstiefdruck Formzylinder verwendet, die durch eingeätzte oder gravierte Vertiefungen unterschiedlichen Volumens Farbe aufnehmen können und diese unter mechanischem Druck auf das zu bedruckende Material bringen. Dabei werden die Vertiefungen oder Näpfchen mit Farbe gefüllt und die überschüssige Farbe mittels eines Abstreifmessers, der Rakel, abgenommen. Durch diese Rakel wird der Formzylinder, der eine Kupferoberfläche aufweist, mechanisch stark beansprucht, so dass dessen Oberfläche einem Verschleiss unterworfen ist. Dieser Verschleiss beeinträchtigt aber die Qualität des Druckerzeugnisses. Aus diesem Grunde werden die Formzylinder nach dem Ätzen oder Gravieren mit einer Chromschicht versehen. Damit wird der Zylinderverschleiss auf ein Minimum reduziert. Korrekturen, welche das Volumen der geätzten Näpfchen vergrössern, sog. Pluskorrekturen, werden nach dem Probedruck des noch nicht verchromten Zylinders durch Nachätzen vorgenommen, während Korrekturen, welche das Volumen der geätzten Näpfchen reduzieren, sog. Minuskorrektur, nach dem Verchromen des Formzylinders so vorgenommen werden, dass durch ein bekanntes galvanisches Verfahren die zu grossen Näpfchen mehr oder weniger mit Kupfer gefüllt werden. Der Probedruck und die anschliessenden Korrekturen sind aber arbeits- und zeitintensiv und werden nur bei qualitativ hochwertigen Druckerzeugnissen, wie z. B. bei Katalogen, Inseraten usw., ausgeführt, während für aktuelle Bilder und Texte aus zeitlichen Gründen keine Korrekturen mehr vorgenommen werden können. Beim Druck illustrierter Zeitschriften sollen aber auf dem gleichen Zylinder sowohl hochwertige Inserate als auch Bilder und Texte von besonderer Aktualität enthalten sein, so dass einerseits Korrekturen gemacht werden können, anderseits aber die Zeitspanne zwischen dem Einätzen von Bild und Text besonderer Aktualität und dem Auflagendruck möglichst kurz gehalten werden soll. Zur Erreichung dieses Zieles wird ein Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen vorgeschlagen, welches erfindungsgemäss dadurch gekennzeichnet ist, dass zuerst ein Teil der Tiefdruckform, ersten Bild- und Schriftteilen entsprechend, durch Ätzen bearbeitet und die ganze Tiefdruckform verchromt wird; und dass nach allfälligem Korrigieren der noch freie Teil der Tiefdruckform zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend durch die Chromschicht hindurch geätzt wird. Nachstehend werden Ausführungsbeispiele des erfindungsgemässen Verfahrens anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen schematisch und im Schnitt: Fig. 1 einen Zylinder mit noch nicht verchromter Oberfläche während des heute üblichen Ätzvorganges. Fig. 2 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche, wobei das Verchromen nach dem Ätzen erfolgt, Fig. 3 und 4 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche während des Ätzvorganges gemäss einer ersten Variante des erfindungsgemässen Verfahrens, Fig. 5-9 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche während des Ätzvorganges gemäss einer zweiten Variante des erfindungdgemässen Verfahrens, Fig. 1 und 2 zeigen einen Zylinder, dessen Oberfläche nach dem herkömmlichen Verfahren behandelt worden ist, bei dem ein Teil des Zylinders entsprechend ersten Bild- und Schriftteilen geätzt worden ist. Die Fig. 1 und 2 zeigen den Ätzvorgang in der Kupferschicht 1 eines Tiefdruckzylinders, welche von einem bekannten Pigmentgelatinerelief 4 überzogen ist, das durch seine Membrane 4a das Durchdringen des Ätzmittels steuert. Als Ätzmittel wird eine Eisenchloridlösung verwendet. Die Fig. 3 und 4 zeigen die Behandlung der noch nicht ge ätzten Teile des in den Fig. 1 und 2 gezeigten Zylinders gemäss einer ersten Variante. Durch das durch das Pigmentgelatinerelief 4 hindurchtretende Lösungsmittel werden in der Oberfläche der Kupferschicht 1 Vertiefungen la, 1b ausgeätzt. Diese zweite Verfahrensstufe wird erst dann auf die Tiefdruckwalze angewendet, nachdem ein Teil der Oberfläche wie anhand der Fig. 1 und 2 beschrieben, bearbeitet worden ist. Auf die Chromschicht 2, welche auf der Kupferschicht 1 aufgetragen ist, wird ein Pigmentgelatinerelief 4 gelegt, das nach dem bekannten, autotypischen Verfahren kopiert wurde. In einer ersten Ätzstufe (Fig. 3) wlrd die Chromschicht 2 durchgeätzt, wobei ein Lösungsmittel verwendet wird, das nur die Chromschicht 2, nicht aber die Kupferschicht 1 angreift. Als Lösungsmittel können salzsaures Zinkchlorid, Kalziumchlorid oder ähnliche chromanätzende Stoffe verwendet werden. Fig. 4 zeigt die zweite Ätzstufe, wobei 1 die Kupferschicht und 2 die bereits durchgeätzte Chromschicht darstellt. Durch eine Eisenchloridlösung kann zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend die Kupferschicht 1 angeätzt werden, ohne dass die Chromschicht 2 angegriffen wird. Durch Ätzzeit und Konzentration der Eisenchloridlösung kann die Tiefe der Näpfchen la, lb gesteuert werden. Die Fig. 5-8 zeigen eine zweite Variante des Verfahrens zum Einätzen der zweiten Bild- und Schriftteile. Die Chromschicht 2, welche während des anhand der Fig. 1 und dargestellten ersten Verfahrensschrittes galvanisch auf die Kupferschicht 1 aufgebracht worden ist, wird an den noch unbearbeiteten Stellen mittels geeigneter Lösungsmittel, beispielsweise salzsaures Zinkchlorid, Kalziumchlorid usw., von ihrer Oxydschicht befreit bzw. aktiviert. Unmittelbar danach wird diese Chromschicht 2 galvanisch mit einer Kupferschicht 3 beschichtet (Fig. 5). Auf diese Kupferschicht 3 wird ein auf bekannte Art gerastetes Pigmentgelatinerelief 4 aufgetragen (Fig. 6), wonach die nachfolgend anhand der Fig. 7 erläuterte erste Ätzstufe durchgeführt wird. Ein auf das Pigmentgelatinerelief 4 gebrachtes geeignetes Lösungsmittel, z. B. eine Eisenchloridlösung, diffundiert dabei durch die mehr oder weniger dicken Gelatinemembranen 5, löst den Kupferüberzug 3, die aktivierte Chromschicht 2 und greift die Kupferschicht 1 an, wodurch in dieser Näpfchen la, 1b gebildet werden. Dabei wird die Tiefe dieser Näpfchen la, 1b in der Kupferschicht 1 durch die Ätzzeit und die Dichte der Eisenchloridlösung bestimmt. Nach dieser ersten Ätzstufe wird die Pigmentgelatine 4 mittels warmen Wassers von der Kupferschicht 3 abgelöst. Fig. 8 zeigt den Formzylinder nach dem Ablösen der Pigmentgelatine. Die geätzten Näpfchen la, Ib sind mit einer Schutzmasse, z. B. mit Asphaltlack 5; ausgefüllt. Mittels einer Eisenchlorid-Bichromatlösung wird nun die Kupferschicht 3 weggeätzt, wobei das Bichromat als Sauerstoffträger dient und dabei die Chromschicht 2 passiviert, so dass es von der Eisenchloridlösung nicht mehr angegriffen wird. Fig. 9 zeigt den auf die beschriebene Weise durch die Chromschicht 2 geätzten Formzylinder mit der Kupferschicht 1, nachdem der die Näpfchen la, lb ausfüllende Schutzlack 5 entfernt wurde. PATENTANSPRUCH Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen, dadurch gekennzeichnet, dass zuerst ein Teil der Tiefdruckform, ersten Bildund Schriftteilen entsprechend durch Ätzen bearbeitet und die ganze Tiefdruckform verchromt wird; und dass nach allfälligem Korrigieren der noch freie Teil der Tiefdruckform zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend durch die Chromschicht hindurch geätzt wird. **WARNUNG** Ende DESC Feld konnte Anfang CLMS uberlappen**.
Claims (1)
- **WARNUNG** Anfang CLMS Feld konnte Ende DESC uberlappen **.Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen.In der Druckindustrie werden im Rotationstiefdruck Formzylinder verwendet, die durch eingeätzte oder gravierte Vertiefungen unterschiedlichen Volumens Farbe aufnehmen können und diese unter mechanischem Druck auf das zu bedruckende Material bringen. Dabei werden die Vertiefungen oder Näpfchen mit Farbe gefüllt und die überschüssige Farbe mittels eines Abstreifmessers, der Rakel, abgenommen. Durch diese Rakel wird der Formzylinder, der eine Kupferoberfläche aufweist, mechanisch stark beansprucht, so dass dessen Oberfläche einem Verschleiss unterworfen ist. Dieser Verschleiss beeinträchtigt aber die Qualität des Druckerzeugnisses. Aus diesem Grunde werden die Formzylinder nach dem Ätzen oder Gravieren mit einer Chromschicht versehen. Damit wird der Zylinderverschleiss auf ein Minimum reduziert.Korrekturen, welche das Volumen der geätzten Näpfchen vergrössern, sog. Pluskorrekturen, werden nach dem Probedruck des noch nicht verchromten Zylinders durch Nachätzen vorgenommen, während Korrekturen, welche das Volumen der geätzten Näpfchen reduzieren, sog. Minuskorrektur, nach dem Verchromen des Formzylinders so vorgenommen werden, dass durch ein bekanntes galvanisches Verfahren die zu grossen Näpfchen mehr oder weniger mit Kupfer gefüllt werden. Der Probedruck und die anschliessenden Korrekturen sind aber arbeits- und zeitintensiv und werden nur bei qualitativ hochwertigen Druckerzeugnissen, wie z. B. bei Katalogen, Inseraten usw., ausgeführt, während für aktuelle Bilder und Texte aus zeitlichen Gründen keine Korrekturen mehr vorgenommen werden können.Beim Druck illustrierter Zeitschriften sollen aber auf dem gleichen Zylinder sowohl hochwertige Inserate als auch Bilder und Texte von besonderer Aktualität enthalten sein, so dass einerseits Korrekturen gemacht werden können, anderseits aber die Zeitspanne zwischen dem Einätzen von Bild und Text besonderer Aktualität und dem Auflagendruck möglichst kurz gehalten werden soll.Zur Erreichung dieses Zieles wird ein Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen vorgeschlagen, welches erfindungsgemäss dadurch gekennzeichnet ist, dass zuerst ein Teil der Tiefdruckform, ersten Bild- und Schriftteilen entsprechend, durch Ätzen bearbeitet und die ganze Tiefdruckform verchromt wird; und dass nach allfälligem Korrigieren der noch freie Teil der Tiefdruckform zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend durch die Chromschicht hindurch geätzt wird.Nachstehend werden Ausführungsbeispiele des erfindungsgemässen Verfahrens anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen schematisch und im Schnitt: Fig. 1 einen Zylinder mit noch nicht verchromter Oberfläche während des heute üblichen Ätzvorganges.Fig. 2 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche, wobei das Verchromen nach dem Ätzen erfolgt, Fig. 3 und 4 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche während des Ätzvorganges gemäss einer ersten Variante des erfindungsgemässen Verfahrens, Fig. 5-9 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche während des Ätzvorganges gemäss einer zweiten Variante des erfindungdgemässen Verfahrens, Fig. 1 und 2 zeigen einen Zylinder, dessen Oberfläche nach dem herkömmlichen Verfahren behandelt worden ist, bei dem ein Teil des Zylinders entsprechend ersten Bild- und Schriftteilen geätzt worden ist.Die Fig. 1 und 2 zeigen den Ätzvorgang in der Kupferschicht 1 eines Tiefdruckzylinders, welche von einem bekannten Pigmentgelatinerelief 4 überzogen ist, das durch seine Membrane 4a das Durchdringen des Ätzmittels steuert. Als Ätzmittel wird eine Eisenchloridlösung verwendet.Die Fig. 3 und 4 zeigen die Behandlung der noch nicht ge ätzten Teile des in den Fig. 1 und 2 gezeigten Zylinders gemäss einer ersten Variante. Durch das durch das Pigmentgelatinerelief 4 hindurchtretende Lösungsmittel werden in der Oberfläche der Kupferschicht 1 Vertiefungen la, 1b ausgeätzt.Diese zweite Verfahrensstufe wird erst dann auf die Tiefdruckwalze angewendet, nachdem ein Teil der Oberfläche wie anhand der Fig. 1 und 2 beschrieben, bearbeitet worden ist. Auf die Chromschicht 2, welche auf der Kupferschicht 1 aufgetragen ist, wird ein Pigmentgelatinerelief 4 gelegt, das nach dem bekannten, autotypischen Verfahren kopiert wurde. In einer ersten Ätzstufe (Fig. 3) wlrd die Chromschicht 2 durchgeätzt, wobei ein Lösungsmittel verwendet wird, das nur die Chromschicht 2, nicht aber die Kupferschicht 1 angreift. Als Lösungsmittel können salzsaures Zinkchlorid, Kalziumchlorid oder ähnliche chromanätzende Stoffe verwendet werden.Fig. 4 zeigt die zweite Ätzstufe, wobei 1 die Kupferschicht und 2 die bereits durchgeätzte Chromschicht darstellt. Durch eine Eisenchloridlösung kann zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend die Kupferschicht 1 angeätzt werden, ohne dass die Chromschicht 2 angegriffen wird. Durch Ätzzeit und Konzentration der Eisenchloridlösung kann die Tiefe der Näpfchen la, lb gesteuert werden.Die Fig. 5-8 zeigen eine zweite Variante des Verfahrens zum Einätzen der zweiten Bild- und Schriftteile. Die Chromschicht 2, welche während des anhand der Fig. 1 und dargestellten ersten Verfahrensschrittes galvanisch auf die Kupferschicht 1 aufgebracht worden ist, wird an den noch unbearbeiteten Stellen mittels geeigneter Lösungsmittel, beispielsweise salzsaures Zinkchlorid, Kalziumchlorid usw., von ihrer Oxydschicht befreit bzw. aktiviert. Unmittelbar danach wird diese Chromschicht 2 galvanisch mit einer Kupferschicht 3 beschichtet (Fig. 5). Auf diese Kupferschicht 3 wird ein auf bekannte Art gerastetes Pigmentgelatinerelief 4 aufgetragen (Fig. 6), wonach die nachfolgend anhand der Fig. 7 erläuterte erste Ätzstufe durchgeführt wird. Ein auf das Pigmentgelatinerelief 4 gebrachtes geeignetes Lösungsmittel, z.B. eine Eisenchloridlösung, diffundiert dabei durch die mehr oder weniger dicken Gelatinemembranen 5, löst den Kupferüberzug 3, die aktivierte Chromschicht 2 und greift die Kupferschicht 1 an, wodurch in dieser Näpfchen la, 1b gebildet werden. Dabei wird die Tiefe dieser Näpfchen la, 1b in der Kupferschicht 1 durch die Ätzzeit und die Dichte der Eisenchloridlösung bestimmt. Nach dieser ersten Ätzstufe wird die Pigmentgelatine 4 mittels warmen Wassers von der Kupferschicht 3 abgelöst.Fig. 8 zeigt den Formzylinder nach dem Ablösen der Pigmentgelatine. Die geätzten Näpfchen la, Ib sind mit einer Schutzmasse, z. B. mit Asphaltlack 5; ausgefüllt.Mittels einer Eisenchlorid-Bichromatlösung wird nun die Kupferschicht 3 weggeätzt, wobei das Bichromat als Sauerstoffträger dient und dabei die Chromschicht 2 passiviert, so dass es von der Eisenchloridlösung nicht mehr angegriffen wird.Fig. 9 zeigt den auf die beschriebene Weise durch die Chromschicht 2 geätzten Formzylinder mit der Kupferschicht 1, nachdem der die Näpfchen la, lb ausfüllende Schutzlack 5 entfernt wurde.PATENTANSPRUCHVerfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen, dadurch gekennzeichnet, dass zuerst ein Teil der Tiefdruckform, ersten Bildund Schriftteilen entsprechend durch Ätzen bearbeitet und die ganze Tiefdruckform verchromt wird; und dass nach allfälligem Korrigieren der noch freie Teil der Tiefdruckform zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend durch die Chromschicht hindurch geätzt wird.UNTERANSPRÜCHE 1. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Chromschicht der verchromten Tiefdruckform an den entsprechend den zweiten Schrift- und Bildteilen zu bearbeitenden Stellen mit einem die Kupferschicht der Tiefdruckform nicht angreifenden, ersten Lösungsmittel entfernt wird, und dass anschliessend in der Kupferschicht der Tiefdruckform an den von der Chromschicht freigelegten Stellen mittels eines die Chromschicht nicht angreifenden, zweiten Lösungsmittels Vertiefungen ausgenommen werden.2. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass auf die von ihrer Oxydschicht befreiten Chromschicht der verchromten Tiefdruckform ein Kupferüberzug aufgetragen wird, dass an den entsprechend den zweiten Schrift- und Bildteilen zu bearbeitenden Stellen mittels eines ersten Lösungsmittels der Kupferüberzug, und die Chromschicht entfernt und in der Kupferschicht der Tiefdruckform Vertiefungen ausgenommen werden, und dass die Vertiefungen mit einer Schutzmasse gefüllt und der Kupferüberzug mittels eines zweiten, die Schutzmasse und die Chromschicht nicht angreifenden Lösungsmittels entfernt wird.3. Verfahren nach Unteranspruch 1 oder Unteranspruch 2, dass vor dem Einwirken des ersten Lösungsmittels die Chromschicht bzw. der Kupferüberzug mit einem entsprechend den zweiten Schrift- und Bildteilen bearbeiteten Pigmentgelatinerelief abgedeckt wird.4. Verfahren nach Unteranspruch 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Pigmentgelatinerelief vor dem Füllen der Vertiefungen mit der Schutzmasse entfernt wird.5. Verfahren nach Unteranspruch 1 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als erstes Lösungsmittel salzsaures Zinkchlorid verwendet wird.6. Verfahren nach Unteranspruch 1 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als erstes Lösungsmittel Kalziumchlorid verwendet wird.7. Verfahren nach Unteranspruch 1 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als zweites Lösungsmittel eine Eisenchloridlösung verwendet wird.8. Verfahren nach Unteranspruch 2 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als erstes Lösungsmittel eine Eisenchloridlösung verwendet wird.9. Verfahren nach Unteranspruch 2 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als zweites Lösungsmittel eine Eisenchlorid-Bichromatlösung verwendet wird.10. Verfahren nach Unteranspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Schutzmasse Asphaltlack verwendet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CH536273A CH570275A5 (en) | 1973-04-13 | 1973-04-13 | Selective etching of printing plates or cylinders - permits partial prepn. of cylinder to reduce prodn. time for late news items |
Applications Claiming Priority (1)
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CH536273A CH570275A5 (en) | 1973-04-13 | 1973-04-13 | Selective etching of printing plates or cylinders - permits partial prepn. of cylinder to reduce prodn. time for late news items |
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CH570275A5 true CH570275A5 (en) | 1975-12-15 |
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ID=4292288
Family Applications (1)
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CH536273A CH570275A5 (en) | 1973-04-13 | 1973-04-13 | Selective etching of printing plates or cylinders - permits partial prepn. of cylinder to reduce prodn. time for late news items |
Country Status (1)
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CH (1) | CH570275A5 (de) |
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1973
- 1973-04-13 CH CH536273A patent/CH570275A5/de not_active IP Right Cessation
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PL | Patent ceased |