Claims (1)
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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen.
The present invention relates to a method for etching a gravure form corresponding to the image and writing parts to be printed.
In der Druckindustrie werden im Rotationstiefdruck Formzylinder verwendet, die durch eingeätzte oder gravierte Vertiefungen unterschiedlichen Volumens Farbe aufnehmen können und diese unter mechanischem Druck auf das zu bedruckende Material bringen. Dabei werden die Vertiefungen oder Näpfchen mit Farbe gefüllt und die überschüssige Farbe mittels eines Abstreifmessers, der Rakel, abgenommen. Durch diese Rakel wird der Formzylinder, der eine Kupferoberfläche aufweist, mechanisch stark beansprucht, so dass dessen Oberfläche einem Verschleiss unterworfen ist. Dieser Verschleiss beeinträchtigt aber die Qualität des Druckerzeugnisses. Aus diesem Grunde werden die Formzylinder nach dem Ätzen oder Gravieren mit einer Chromschicht versehen. Damit wird der Zylinderverschleiss auf ein Minimum reduziert.
In the printing industry, forme cylinders are used in rotogravure printing, which can absorb ink of different volumes through etched or engraved depressions and apply them to the material to be printed under mechanical pressure. The depressions or cells are filled with paint and the excess paint is removed using a doctor blade. The forme cylinder, which has a copper surface, is mechanically heavily stressed by this doctor blade, so that its surface is subject to wear. However, this wear affects the quality of the printed product. For this reason, the forme cylinders are provided with a chrome layer after etching or engraving. This reduces cylinder wear to a minimum.
Korrekturen, welche das Volumen der geätzten Näpfchen vergrössern, sog. Pluskorrekturen, werden nach dem Probedruck des noch nicht verchromten Zylinders durch Nachätzen vorgenommen, während Korrekturen, welche das Volumen der geätzten Näpfchen reduzieren, sog. Minuskorrektur, nach dem Verchromen des Formzylinders so vorgenommen werden, dass durch ein bekanntes galvanisches Verfahren die zu grossen Näpfchen mehr oder weniger mit Kupfer gefüllt werden. Der Probedruck und die anschliessenden Korrekturen sind aber arbeits- und zeitintensiv und werden nur bei qualitativ hochwertigen Druckerzeugnissen, wie z. B. bei Katalogen, Inseraten usw., ausgeführt, während für aktuelle Bilder und Texte aus zeitlichen Gründen keine Korrekturen mehr vorgenommen werden können.
Corrections that increase the volume of the etched cells, so-called plus corrections, are carried out after the test print of the not yet chrome-plated cylinder by re-etching, while corrections that reduce the volume of the etched cells, so-called minus correction, are made after chrome-plating the forme cylinder that by means of a well-known galvanic process the too large cells are more or less filled with copper. The test print and the subsequent corrections are labor and time-consuming and are only used for high-quality print products, such as B. for catalogs, advertisements, etc., while no corrections can be made for current images and texts due to time constraints.
Beim Druck illustrierter Zeitschriften sollen aber auf dem gleichen Zylinder sowohl hochwertige Inserate als auch Bilder und Texte von besonderer Aktualität enthalten sein, so dass einerseits Korrekturen gemacht werden können, anderseits aber die Zeitspanne zwischen dem Einätzen von Bild und Text besonderer Aktualität und dem Auflagendruck möglichst kurz gehalten werden soll.
When printing illustrated magazines, however, the same cylinder should contain high-quality advertisements as well as images and texts that are particularly up-to-date, so that on the one hand corrections can be made, but on the other hand the time span between the use of images and text of particular topicality and the print run should be as short as possible should be held.
Zur Erreichung dieses Zieles wird ein Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen vorgeschlagen, welches erfindungsgemäss dadurch gekennzeichnet ist, dass zuerst ein Teil der Tiefdruckform, ersten Bild- und Schriftteilen entsprechend, durch Ätzen bearbeitet und die ganze Tiefdruckform verchromt wird; und dass nach allfälligem Korrigieren der noch freie Teil der Tiefdruckform zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend durch die Chromschicht hindurch geätzt wird.
To achieve this goal, a method for etching a gravure form corresponding to the image and writing parts to be printed is proposed, which is characterized according to the invention in that first a part of the gravure form, corresponding to the first image and writing parts, is processed by etching and the entire gravure form is chrome-plated ; and that after any correction, the still free part of the intaglio printing form is etched through the chrome layer correspondingly through the second image and writing parts.
Nachstehend werden Ausführungsbeispiele des erfindungsgemässen Verfahrens anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen schematisch und im Schnitt:
Fig. 1 einen Zylinder mit noch nicht verchromter Oberfläche während des heute üblichen Ätzvorganges.
Embodiments of the method according to the invention are explained in more detail below with reference to drawings. They show schematically and in section:
1 shows a cylinder with a surface that has not yet been chromed during the etching process that is common today.
Fig. 2 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche, wobei das Verchromen nach dem Ätzen erfolgt,
Fig. 3 und 4 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche während des Ätzvorganges gemäss einer ersten Variante des erfindungsgemässen Verfahrens,
Fig. 5-9 einen Zylinder mit verchromter Oberfläche während des Ätzvorganges gemäss einer zweiten Variante des erfindungdgemässen Verfahrens,
Fig. 1 und 2 zeigen einen Zylinder, dessen Oberfläche nach dem herkömmlichen Verfahren behandelt worden ist, bei dem ein Teil des Zylinders entsprechend ersten Bild- und Schriftteilen geätzt worden ist.
2 shows a cylinder with a chrome-plated surface, the chrome-plating taking place after the etching,
3 and 4 show a cylinder with a chrome-plated surface during the etching process according to a first variant of the method according to the invention,
5-9 a cylinder with a chrome-plated surface during the etching process according to a second variant of the method according to the invention,
1 and 2 show a cylinder, the surface of which has been treated according to the conventional method, in which a part of the cylinder has been etched corresponding to first image and writing parts.
Die Fig. 1 und 2 zeigen den Ätzvorgang in der Kupferschicht 1 eines Tiefdruckzylinders, welche von einem bekannten Pigmentgelatinerelief 4 überzogen ist, das durch seine Membrane 4a das Durchdringen des Ätzmittels steuert. Als Ätzmittel wird eine Eisenchloridlösung verwendet.
1 and 2 show the etching process in the copper layer 1 of a gravure cylinder, which is covered by a known pigment gelatin relief 4, which controls the penetration of the etchant through its membrane 4a. A ferric chloride solution is used as the etchant.
Die Fig. 3 und 4 zeigen die Behandlung der noch nicht ge ätzten Teile des in den Fig. 1 und 2 gezeigten Zylinders gemäss einer ersten Variante. Durch das durch das Pigmentgelatinerelief 4 hindurchtretende Lösungsmittel werden in der Oberfläche der Kupferschicht 1 Vertiefungen la, 1b ausgeätzt.
3 and 4 show the treatment of the not yet ge etched parts of the cylinder shown in FIGS. 1 and 2 according to a first variant. As a result of the solvent passing through the pigment gelatin relief 4, depressions 1 a, 1 b are etched out in the surface of the copper layer 1.
Diese zweite Verfahrensstufe wird erst dann auf die Tiefdruckwalze angewendet, nachdem ein Teil der Oberfläche wie anhand der Fig. 1 und 2 beschrieben, bearbeitet worden ist. Auf die Chromschicht 2, welche auf der Kupferschicht 1 aufgetragen ist, wird ein Pigmentgelatinerelief 4 gelegt, das nach dem bekannten, autotypischen Verfahren kopiert wurde. In einer ersten Ätzstufe (Fig. 3) wlrd die Chromschicht 2 durchgeätzt, wobei ein Lösungsmittel verwendet wird, das nur die Chromschicht 2, nicht aber die Kupferschicht 1 angreift. Als Lösungsmittel können salzsaures Zinkchlorid, Kalziumchlorid oder ähnliche chromanätzende Stoffe verwendet werden.
This second process stage is only then applied to the gravure roll after part of the surface has been processed as described with reference to FIGS. 1 and 2. On the chrome layer 2, which is applied to the copper layer 1, a pigment gelatin relief 4 is placed, which was copied according to the known, autotypical process. In a first etching stage (FIG. 3), the chromium layer 2 is etched through using a solvent which attacks only the chromium layer 2 but not the copper layer 1. Zinc chloride, calcium chloride or similar chromic acidic substances can be used as solvents.
Fig. 4 zeigt die zweite Ätzstufe, wobei 1 die Kupferschicht und 2 die bereits durchgeätzte Chromschicht darstellt. Durch eine Eisenchloridlösung kann zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend die Kupferschicht 1 angeätzt werden, ohne dass die Chromschicht 2 angegriffen wird. Durch Ätzzeit und Konzentration der Eisenchloridlösung kann die Tiefe der Näpfchen la, lb gesteuert werden.
4 shows the second etching stage, 1 representing the copper layer and 2 the chromium layer that has already been etched through. By means of an iron chloride solution, the copper layer 1 can be etched in accordance with second parts of the image and writing without the chromium layer 2 being attacked. The depth of the cells la, lb can be controlled by the etching time and the concentration of the ferric chloride solution.
Die Fig. 5-8 zeigen eine zweite Variante des Verfahrens zum Einätzen der zweiten Bild- und Schriftteile. Die Chromschicht 2, welche während des anhand der Fig. 1 und dargestellten ersten Verfahrensschrittes galvanisch auf die Kupferschicht 1 aufgebracht worden ist, wird an den noch unbearbeiteten Stellen mittels geeigneter Lösungsmittel, beispielsweise salzsaures Zinkchlorid, Kalziumchlorid usw., von ihrer Oxydschicht befreit bzw. aktiviert. Unmittelbar danach wird diese Chromschicht 2 galvanisch mit einer Kupferschicht 3 beschichtet (Fig. 5). Auf diese Kupferschicht 3 wird ein auf bekannte Art gerastetes Pigmentgelatinerelief 4 aufgetragen (Fig. 6), wonach die nachfolgend anhand der Fig. 7 erläuterte erste Ätzstufe durchgeführt wird. Ein auf das Pigmentgelatinerelief 4 gebrachtes geeignetes Lösungsmittel, z.
FIGS. 5-8 show a second variant of the method for etching the second image and writing parts. The chromium layer 2, which has been galvanically applied to the copper layer 1 during the first process step illustrated with reference to FIGS. 1 and 2, is freed or activated from its oxide layer at the unprocessed areas using suitable solvents, for example hydrochloric acid zinc chloride, calcium chloride, etc. . Immediately thereafter, this chromium layer 2 is electroplated with a copper layer 3 (FIG. 5). A pigment gelatin relief 4, latched in a known manner, is applied to this copper layer 3 (FIG. 6), after which the first etching step explained below with reference to FIG. 7 is carried out. A suitable solvent applied to the pigment gelatin relief 4, e.g.
B. eine Eisenchloridlösung, diffundiert dabei durch die mehr oder weniger dicken Gelatinemembranen 5, löst den Kupferüberzug 3, die aktivierte Chromschicht 2 und greift die Kupferschicht 1 an, wodurch in dieser Näpfchen la, 1b gebildet werden. Dabei wird die Tiefe dieser Näpfchen la, 1b in der Kupferschicht 1 durch die Ätzzeit und die Dichte der Eisenchloridlösung bestimmt. Nach dieser ersten Ätzstufe wird die Pigmentgelatine 4 mittels warmen Wassers von der Kupferschicht 3 abgelöst.
B. a ferric chloride solution, diffusing through the more or less thick gelatin membrane 5, dissolves the copper coating 3, the activated chromium layer 2 and attacks the copper layer 1, whereby cells la, 1b are formed in this. The depth of these cells 1 a, 1 b in the copper layer 1 is determined by the etching time and the density of the iron chloride solution. After this first etching step, the pigment gelatine 4 is detached from the copper layer 3 by means of warm water.
Fig. 8 zeigt den Formzylinder nach dem Ablösen der Pigmentgelatine. Die geätzten Näpfchen la, Ib sind mit einer Schutzmasse, z. B. mit Asphaltlack 5; ausgefüllt.
8 shows the form cylinder after the pigment gelatin has been detached. The etched wells la, Ib are coated with a protective compound, e.g. B. with asphalt paint 5; filled out.
Mittels einer Eisenchlorid-Bichromatlösung wird nun die Kupferschicht 3 weggeätzt, wobei das Bichromat als Sauerstoffträger dient und dabei die Chromschicht 2 passiviert, so dass es von der Eisenchloridlösung nicht mehr angegriffen wird.
The copper layer 3 is now etched away by means of an iron chloride-bichromate solution, the bichromate serving as an oxygen carrier and thereby passivating the chromium layer 2 so that it is no longer attacked by the iron chloride solution.
Fig. 9 zeigt den auf die beschriebene Weise durch die Chromschicht 2 geätzten Formzylinder mit der Kupferschicht 1, nachdem der die Näpfchen la, lb ausfüllende Schutzlack 5 entfernt wurde.
9 shows the forme cylinder with the copper layer 1 etched in the manner described through the chrome layer 2 after the protective lacquer 5 filling the cells 1 a, 1 b has been removed.
PATENTANSPRUCH
PATENT CLAIM
Verfahren zum Ätzen einer Tiefdruckform entsprechend den zu druckenden Bild- und Schriftteilen, dadurch gekennzeichnet, dass zuerst ein Teil der Tiefdruckform, ersten Bildund Schriftteilen entsprechend durch Ätzen bearbeitet und die ganze Tiefdruckform verchromt wird; und dass nach allfälligem Korrigieren der noch freie Teil der Tiefdruckform zweiten Bild- und Schriftteilen entsprechend durch die Chromschicht hindurch geätzt wird.
Process for etching a gravure form corresponding to the image and writing parts to be printed, characterized in that first a part of the gravure form, first image and writing parts are processed accordingly by etching and the whole gravure form is chrome-plated; and that after any correction, the still free part of the intaglio printing form is etched through the chrome layer correspondingly through the second image and writing parts.
UNTERANSPRÜCHE
1. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Chromschicht der verchromten Tiefdruckform an den entsprechend den zweiten Schrift- und Bildteilen zu bearbeitenden Stellen mit einem die Kupferschicht der Tiefdruckform nicht angreifenden, ersten Lösungsmittel entfernt wird, und dass anschliessend in der Kupferschicht der Tiefdruckform an den von der Chromschicht freigelegten Stellen mittels eines die Chromschicht nicht angreifenden, zweiten Lösungsmittels Vertiefungen ausgenommen werden.
SUBCLAIMS
1. The method according to claim, characterized in that the chrome layer of the chrome-plated intaglio form is removed at the points to be processed in accordance with the second writing and image parts with a first solvent which does not attack the copper layer of the intaglio form, and that then in the copper layer of the intaglio form the areas exposed by the chrome layer are recessed by means of a second solvent that does not attack the chrome layer.
2. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass auf die von ihrer Oxydschicht befreiten Chromschicht der verchromten Tiefdruckform ein Kupferüberzug aufgetragen wird, dass an den entsprechend den zweiten Schrift- und Bildteilen zu bearbeitenden Stellen mittels eines ersten Lösungsmittels der Kupferüberzug, und die Chromschicht entfernt und in der Kupferschicht der Tiefdruckform Vertiefungen ausgenommen werden, und dass die Vertiefungen mit einer Schutzmasse gefüllt und der Kupferüberzug mittels eines zweiten, die Schutzmasse und die Chromschicht nicht angreifenden Lösungsmittels entfernt wird.
2. The method according to claim, characterized in that a copper coating is applied to the chromium layer of the chromium-plated intaglio form, which has been freed of its oxide layer, that removes and removes the copper coating and the chromium layer at the points to be processed corresponding to the second writing and image parts by means of a first solvent in the copper layer of the gravure form, depressions are made, and that the depressions are filled with a protective compound and the copper coating is removed by means of a second solvent that does not attack the protective compound and the chrome layer.
3. Verfahren nach Unteranspruch 1 oder Unteranspruch 2, dass vor dem Einwirken des ersten Lösungsmittels die Chromschicht bzw. der Kupferüberzug mit einem entsprechend den zweiten Schrift- und Bildteilen bearbeiteten Pigmentgelatinerelief abgedeckt wird.
3. The method according to dependent claim 1 or dependent claim 2, that before the action of the first solvent, the chromium layer or the copper coating is covered with a pigment gelatin relief processed in accordance with the second text and image parts.
4. Verfahren nach Unteranspruch 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Pigmentgelatinerelief vor dem Füllen der Vertiefungen mit der Schutzmasse entfernt wird.
4. The method according to dependent claims 2 and 3, characterized in that the pigment gelatin relief is removed before the depressions are filled with the protective compound.
5. Verfahren nach Unteranspruch 1 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als erstes Lösungsmittel salzsaures Zinkchlorid verwendet wird.
5. The method according to dependent claim 1 and dependent claim 3, characterized in that hydrochloric acid zinc chloride is used as the first solvent.
6. Verfahren nach Unteranspruch 1 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als erstes Lösungsmittel Kalziumchlorid verwendet wird.
6. The method according to dependent claim 1 and dependent claim 3, characterized in that calcium chloride is used as the first solvent.
7. Verfahren nach Unteranspruch 1 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als zweites Lösungsmittel eine Eisenchloridlösung verwendet wird.
7. The method according to dependent claim 1 and dependent claim 3, characterized in that an iron chloride solution is used as the second solvent.
8. Verfahren nach Unteranspruch 2 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als erstes Lösungsmittel eine Eisenchloridlösung verwendet wird.
8. The method according to dependent claim 2 and dependent claim 3, characterized in that an iron chloride solution is used as the first solvent.
9. Verfahren nach Unteranspruch 2 und Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass als zweites Lösungsmittel eine Eisenchlorid-Bichromatlösung verwendet wird.
9. The method according to dependent claim 2 and dependent claim 3, characterized in that an iron chloride-bichromate solution is used as the second solvent.
10. Verfahren nach Unteranspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Schutzmasse Asphaltlack verwendet wird.
10. The method according to dependent claim 2, characterized in that asphalt paint is used as the protective mass.