BR0309377B1

BR0309377B1 - Processo e dispositivo para curar um revestimento

Info

Publication number: BR0309377B1
Application number: BRPI0309377-8A
Authority: BR
Inventors: Konrad Ortlieb; Dietmar Wieland; Wolfgang Tobisch; Dietmar Roth; Karl-Heinz Dittrich
Original assignee: Dueerr Systems Gmbh
Priority date: 2002-04-19
Filing date: 2003-04-17
Publication date: 2015-02-24
Also published as: MXPA04010266A; BR0309377A; CN100542687C; HK1075224A1; JP2005527356A; CA2480861C; CA2480861A1; US20040101635A1; WO2003089155A2; JP4243548B2; EP1497045A2; EP1354640A1; CN1646238A; WO2003089155A3; AU2003226821A1; EP1497045B1; US7488518B2

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA CURAR UM REVESTIMENTO". A presente invenção refere-se a um processo e um dispositivo para curar um revestimento, em particular um revestimento curável por radiação, sobre uma peça de trabalho. É conhecido a partir da técnica anterior para fornecer peças de trabalho com um revestimento de um material, que se cura quando irradiado com luz UV, e subseqüentemente submeter a peça de trabalho desse modo revestida à radiação UV.

Em particular, sabe-se revestir peças de trabalho, por exemplo, carrocerias de veículo, com um verniz transparente curável por UV e curar este revestimento irradiando-se a peça de trabalho com luz UV.

Tais vernizes transparentes curáveis por UV são distinguidos por uma resistência ao arranhamento particularmente elevada.

Nos processos e dispositivos conhecidos para cura de revestimentos curáveis por UV, as peças de trabalho revestidas são irradiadas por luz UV de lâmpadas UV.

Se as peças de trabalho revestidas têm uma geometria tridimensional complexa com regiões de rebaixo e sombreadas, então é necessário instalar as lâmpadas UV sobre dispositivos de manipulação, que são movíveis com relação à peça de trabalho, de modo que todas as superfícies revestidas da peça de trabalho possam ser revestidas pelas lâmpadas UV. Uma vez que as lâmpadas UV são volumosas, nem toda região de rebaixo ou região de outro modo sombreada pode ser alcançada pela luz UV, mesmo quando tais dispositivos de manipulação são empregados. As regiões do revestimento não-alcançadas pela luz UV não podem curar, e isto causa constituintes do revestimento que não foram curados evaporarem durante o período de operação da peça de trabalho e portanto uma contaminação de odor duradoura que é prejudicial à saúde ocorre.

Para evitar este problema, já é conhecido usar sistemas de pintura híbrida que podem ser curados igualmente por radiação UV e pelo fornecimento de calor. Um tal sistema de pintura híbrida permite que as regiões da peça de trabalho facilmente acessíveis pelas lâmpadas UV sejam curadas por radiação UV e as regiões pobremente acessíveis da peça de trabalho sejam curadas por difusão de calor. Uma desvantagem é que para completamente curar um tal sistema de pintura híbrida duas etapas do processo completamente diferentes têm que ser conduzidas uma após a outra, isto é, a irradiação UV e a cura por difusão de calor, que resulta em um custo elevado em termos de tempo e equipamento, uma vez que ambas as lâmpadas UV e dispositivos de aquecimento adequados devem estar disponíveis no processo de cura.

Portanto, o objetivo básico da invenção é fornecer um processo para curar revestimentos, em particular revestimentos curáveis por radiação, os quais também permitam revestimentos sobre regiões de difícil acesso de uma peça de trabalho tri-dimensional a ser curada de uma maneira simples.

Este objetivo é alcançado de acordo com a invenção com um processo com as características do preâmbulo da Reivindicação 1 pelo fato de que a peça de trabalho está disposta em uma área de geração de plasma, e que na área de geração de plasma um plasma é gerado, por meio da qual o revestimento é pelo menos parcialmente curado. A solução de acordo com a invenção é com base no conhecimento de que um plasma pode ser empregado para curar o revestimento. Devido à peça de trabalho propriamente dita estar disposta no interior da área de geração de plasma e a peça de trabalho estar localizada no interior do plasma gerado, o revestimento em toda a superfície da peça de trabalho, mesmo sobre as superfícies internas de difícil acesso, pode ser curado. O plasma pode, em particular, causar a cura do revestimento porque o revestimento é curável por radiação e uma radiação adequada para curar o revestimento é gerada no plasma.

Devido à peça de trabalho propriamente dita estar disposta no interior da área de geração de plasma e a peça de trabalho está localizada no interior do plasma gerado, a radiação emitida pelo plasma pode alcançar a peça de trabalho de diferentes lados. Em particular, o plasma pode também ser gerado no interior das cavidades da peça de trabalho, de modo que as superfícies limítrofes dessas cavidades possam ser submetidas à radiação adequada para curar o revestimento da cavidade propriamente dita. Deste modo, a radiação adequada para curar o revestimento pode alcançar qualquer superfície revestida desejada da peça de trabalho, em particular também regiões de rebaixo ou regiões sombreadas da peça de trabalho, de modo que o revestimento curável por radiação presente na peça de trabalho possa ser curado completamente sem dispositivos de manipulação onerosos e complicados serem necessários para isto. O revestimento é preferivelmente essencialmente completamente curado por meio do plasma. Neste caso, o processo de acordo com a invenção somente requer uma única etapa do processo, isto é, a cura do plasma, de modo que o processo de cura de acordo com a invenção possa ser conduzido de uma maneira econômica de tempo em baixo custo de equipamento.

Entretanto, é suficiente se o revestimento for curável por radiação; em particular, o revestimento não deve ao mesmo tempo ser curável por calor, de modo que não haja nenhuma necessidade de sistemas de pintura híbrida complexos.

Sem a curabilidade térmica, um material curável por radiação, que tem uma qualidade superior, em particular uma maior resistência ao arranhamento, pode ser empregado para o revestimento.

Uma vez que no processo de acordo com a invenção o plasma constantemente ocupa o espaço na área de geração de plasma não-ocupada pela peça de trabalho, uma alteração na geometria da peça de trabalho tem somente um efeito insignificante no curso do processo, ou nenhum efeito absoluto.

Uma vez que a cura do revestimento é alcançada por irradiação e não, pelo menos não exclusivamente, por difusão de calor, não é necessário aquecer toda a peça de trabalho para curar o revestimento. Como um resultado, o custo da energia para curar é claramente reduzido.

Um processo de cura térmico separado, por exemplo, por difusão de calor e/ou por irradiação com luz infravermelha, pode ser fornecido antes, durante ou após o processo de cura do plasma.

Em uma configuração preferida da invenção é considerado que uma radiação eletromagnética compreendendo pelo menos um componente de radiação UV é gerado no plasma. O termo "radiação UV" nesta descrição e nas reivindicações anexas refere-se à radiação eletromagnética com um comprimento de onda na faixa de 1 nm a 400 nm. A faixa de comprimento de onda e a dose de radiação eletromagnética gerada no plasma podem ser influenciadas pela seleção apropriada da composição do gás de processo, do qual o plasma é gerado, e o tipo de fornecimento de energia no plasma bem como a pressão da operação do plasma. O componente de radiação de onda extremamente curta com um comprimento de onda abaixo de 100 nm deve ser mantido tão baixo quanto possível para evitar danificação no revestimento a ser curado.

Entretanto, tem provado ser vantajoso para a qualidade do revestimento curado, limitar o período de tempo durante o qual o revestimento é exposto à irradiação do plasma, em aproximadamente 120 segundos no máximo, preferivelmente aproximadamente 90 segundos no máximo.

Preferivelmente, o plasma é gerado tal que o plasma emita uma radiação eletromagnética com um comprimento de onda na faixa de aproximadamente 50 nm a aproximadamente 850 nm, em particular na faixa de aproximadamente 50 nm a aproximadamente 700 nm, preferivelmente na faixa de aproximadamente 150 nm a aproximadamente 700 nm, particularmente preferido na faixa de aproximadamente 200 nm a aproximadamente 600 nm. É particularmente favorável que a radiação emitida pelo plasma emita pelo menos um componente de radiação UV preferivelmente na faixa de aproximadamente 200 nm a aproximadamente 400 nm. A peça de trabalho é vantajosamente fornecida com um revestimento curável por radiação que pode ser curado com a radiação emitida pelo plasma. É particularmente favorável se a peça de trabalho é fornecida com um revestimento, o qual possa ser curado por uma radiação eletromagnética compreendendo pelo menos um componente de radiação UV, preferivelmente na faixa de aproximadamente 200 nm a aproximadamente 400 nm.

Tem provado ser particularmente favorável para a geração de um plasma emitindo doses elevadas de radiação adequadas para a cura do revestimento que a pressão na área de geração de plasma seja fixada em um valor de aproximadamente 100 Pa no máximo, preferivelmente aproximadamente 1 Pa no máximo, em particular aproximadamente 0,1 Pa no máximo.

Além disso, trabalhar com tais pressões baixas tem a vantagem de que a cura do revestimento essencialmente ocorre com a exclusão do oxigênio. Uma vez que o oxigênio atua como um inibidor para a reação de reticulação do revestimento, a cura do revestimento pode proceder mais rapidamente em um vácuo e ou a força para ser alimentada no plasma pode ser reduzida em comparação com uma reação de reticulação procedendo de uma atmosfera de oxigênio. O gás empregado como gás de processo, do qual o plasma é gerado, deveria ser um que fosse quimicamente inerte e facilmente ionizado.

Tem provado ser particularmente favorável que a área de geração de plasma contenha nitrogênio e/ou um gás inerte, preferivelmente ar-gônio, como gás de processo.

Além disso, para aumentar a produção de radiação utilizável, pode ser vantajoso que um metal, por exemplo, mercúrio, ou um haleto metálico, por exemplo, OsF7 ou lrF6, seja adicionado ao gás de processo. A princípio, o plasma pode ser gerado ou por aplicação de um campo elétrico estático à área de geração de plasma e/ou pelo fornecimento de um campo alternado eletromagnético na área de geração de plasma. É preferivelmente considerado que o plasma seja gerado pelo fornecimento da radiação eletromagnética na área de geração de plasma por meio de pelo menos um dispositivo de fornecimento. A freqüência deste fornecimento de radiação eletromagnética na área de geração de plasma pode estender-se na faixa de microonda ou na faixa de alta freqüência.

Nesta descrição e nas reivindicações anexas, a radiação de microonda pretende significar uma radiação eletromagnética com uma freqüência na faixa de 300 MHz a 300 GHz e a radiação de alta freqüência é pretendida significar uma radiação eletromagnética com uma freqüência de 3 kHz a 300 MHz. O uso de radiação de microonda tem provado ser particularmente adequado para a geração de altas doses de radiação UV.

Portanto, em uma configuração preferida da invenção é considerado que o plasma é gerado pelo fornecimento da radiação de microonda, preferivelmente com uma freqüência na faixa de aproximadamente 1 GHz a aproximadamente 10 GHz, em particular na faixa de aproximadamente 2 GHz a aproximadamente 3 GHz. A radiação eletromagnética a ser fornecida pode ser gerada em particular por meio de um magnetron. A fim de aumentar o efeito de ionização da radiação eletromagnética fornecida, pode ser considerado que um campo magnético é gerado para a geração de um efeito de ECR ("ressonância de ciclotron eletrônica"). Neste caso, um campo magnético estático orientado para o interior da área de geração de plasma essencialmente paralelo ao eixo do campo alternado eletromagnético fornecendo na área de geração de plasma é gerado, por exemplo, por meio de uma disposição de bobina de magnetização. A intensidade do campo magnético é fixada de modo que a freqüência do ciclotron dos elétrons no campo magnético corresponda à freqüência da radiação eletromagnética fornecida. Neste caso de ressonância, os elétrons livres na área de geração de plasma absorvem uma quantidade particularmente grande de energia do campo alternado eletromagnético, o que resulta em uma ionização particularmente eficiente do gás de processo.

Para ser capaz de respectivamente gerar as possíveis densidades de íon superiores em diferentes locais no plasma, pode ser considerado que a radiação eletromagnética é fornecida na área de geração de plasma por meio de vários dispositivos de fornecimento, os dispositivos de fornecimento preferivelmente sendo dispostos em diferentes lados relativos à peça de trabalho.

Se a peça de trabalho a ser tratada tem uma cavidade com uma abertura de acesso, então a radiação eletromagnética é vantajosamente fornecida na área de geração de plasma por meio de pelo menos de um dispositivo de fornecimento tal que a radiação eletromagnética passe através da abertura de acesso na cavidade da peça de trabalho. Isto garante que um plasma com uma alta concentração de íon e uma alta emissão de UV correspondente seja também gerado na cavidade da peça de trabalho, de modo que o revestimento nas superfícies limítrofes da cavidade possam ser curados rapidamente.

Se a peça de trabalho é uma carroceria de veículo, então é particularmente importante curar a pintura com excesso de borrifo alcançando o interior da carroceria de veículo durante a pintura. Isto é facilitado no processo de acordo com a invenção em particular pela disposição dos dispositivos de fornecimento para a radiação eletromagnética oposta às aberturas da janela da carroceria do veículo, isto é, de uma tal maneira que o eixo do campo de radiação gerado pelos dispositivos de fornecimento aponte através da abertura da janela no interior da carroceria do veículo.

Em uma configuração preferida da invenção, é considerado que um gás a ser ionizado é alimentado pela área de geração de plasma durante o processo de cura. O gás a ser ionizado pode ser, em particular nitrogênio ou um gás inerte, por exemplo argônio.

Como um resultado da alimentação contínua do gás a ser ionizado pela área de geração de plasma durante o processo de cura, um fluxo pode ser gerado na área de geração de plasma, através do qual as partículas do gás ionizado e/ou partículas de gás estimuladas pela colisão com partículas ionizadas podem também alcançar em regiões sombreadas da peça de trabalho, nas quais o fornecimento da radiação eletromagnética não alcança e onde portanto nenhum plasma pode ser inflamado.

Entretanto, a geração de um fluxo de gás na área de geração de plasma resulta em um plasma que é tão homogêneo e isotrópico quanto possível e desse modo em uma dose da radiação adequada para cura o revestimento que é tão independente do local e direção quanto possível. É particularmente favorável que o gás a ser ionizado seja alimentado pela área de geração de plasma por meio de um dispositivo ali-mentador que é adjacente a um dispositivo de fornecimento, por meio do qual uma radiação eletromagnética é fornecida na área de geração de plasma. Se antes da distribuição na área de geração de plasma o gás é direcionado tão próximo quanto possível do ponto no qual a radiação eletromagnética é alimentada, uma concentração de íon particularmente alta é gerada no gás introduzido que é subseqüentemente distribuído na área de geração de plasma total através do fluxo de gás.

Para permitir que o processo de acordo com a invenção seja conduzido de uma maneira particularmente econômica de tempo, pode ser considerado que antes do processo de cura, a peça de trabalho é colocada em uma antecâmara, lá é submetida a um pré-tratamento, e é transferida da antecâmara na área de geração de plasma para o processo de cura.

Em particular, pode ser considerado que a antecâmara é evacuada após a peça de trabalho ter sido colocada nela, de modo que neste caso a antecâmara sirva como uma câmara alimentadora, na qual a pressão ambiente da peça de trabalho é reduzida a partir da pressão atmosférica para a pressão de operação da área de geração de plasma. A evacuação da antecâmara faz com que o solvente contido no revestimento evapore antecipadamente, de modo que o pré-secamento do revestimento a ser curado já ocorra na antecâmara.

Alternativamente ou além disto, pode ser considerado que a peça de trabalho é submetida à radiação eletromagnética, em particular radiação de microonda, na antecâmara. Neste caso, o revestimento a ser curado pode ser pré-secado em particular por absorção direta da energia da radiação eletromagnética. Alternativamente ou além disso, é também possí- vel inflamar um plasma na antecâmara, o qual emite radiação adequada para cura do revestimento para desse modo já efetuar um primeiro processo de cura do revestimento.

Além disso, pode ser considerado que a peça de trabalho é transferida da área de geração de plasma em uma câmara de descarga após o processo de cura.

Em particular, pode ser considerado que antes da peça de trabalho ser transferida na câmara de descarga, a câmara de descarga é evacuada pela pressão de operação da área de geração de plasma.

Após a transferência da peça de trabalho na câmara de descarga, a câmara de descarga pode ser arejada, isto é a pressão na câmara de descarga aumentou para pressão atmosférica, e a peça de trabalho é sub-seqüentemente removida da câmara de descarga. A Reivindicação 1 refere-se a uma peça de trabalho com um revestimento, que tenha sido curado empregando o processo de acordo com a invenção. A peça de trabalho pode compreender qualquer material desejado, em particular material metálico e/ou não-metálico.

Em particular, a peça de trabalho pode ser feita de aço, plástico ou madeira, por exemplo. O processo de acordo com a invenção é mais particularmente adequado para curar um revestimento em uma peça de trabalho, que seja não-planar e/ou tri-dimensional na construção.

Uma peça de trabalho não-planar é uma peça de trabalho, cujas superfícies revestidas não completamente estendem-se no mesmo plano, porém em diferentes planos, em particular planos que não são orientados paralelos a um outro, e/ou não são planos.

Em particular, a peça de trabalho não-planar pode ter superfícies revestidas, as superfícies normais das quais são orientadas opostas a uma outra.

Em particular, o processo de acordo com a invenção é adequado para a cura de um revestimento em uma peça de trabalho, que tenha pelo menos uma região de rebaixo revestida e/ou pelo menos uma região sombreada revestida.

Neste caso, a região sombreada da peça de trabalho é uma região que não seria alcançada diretamente pela luz emitida da fonte de luz quando a peça de trabalho é iluminada por meio de uma fonte de luz plana ou ponto. O processo de acordo com a invenção é adequado para curar um revestimento em uma peça de trabalho, que compreende um material eletricamente condutivo e é preferivelmente formado completamente de um ou mais materiais eletricamente condutivos.

Em particular, pode ser considerado que a peça de trabalho compreenda um material metálico e que seja preferivelmente formada completamente de um ou mais materiais metálicos.

Alternativamente ou além disto, entretanto, pode também ser considerado que a peça de trabalho compreenda um material plástico e/ou madeira e que seja preferivelmente formada completamente de um ou mais materiais plásticos ou completamente de madeira. A área de geração de plasma pode conter um único gás ou uma mistura de vários gases como gás de processo, no qual um plasma é gerado por ionização.

Tem provado particularmente ser favorável que a área de geração de plasma contenha nitrogênio, hélio e/ou argônio como gás de processo. O argônio é particularmente adequado para inflamar e estabilizar o plasma. O hélio induz a picos de intensidade individuais, em particular na faixa de onda longa do espectro UV. O nitrogênio induz a intensidade de média à alta em uma ampla faixa do espectro UV.

Em particular, pode ser considerado que a área de geração de plasma contém um gás de processo, a composição do qual varia durante o processo de cura.

Desse modo, pode ser considerado, por exemplo, que a composição do gás de processo varie tal que durante uma primeira fase do processo de cura o centro da concentração da radiação eletromagnética gerada no plasma durante o processo de cura estenda-se em um primeiro comprimento de onda e durante uma última segunda fase do processo de cura estenda-se em um segundo comprimento de onda, o segundo comprimento de onda sendo diferente do primeiro comprimento de onda. É particularmente favorável que o segundo comprimento de onda seja menor do que o primeiro comprimento de onda.

Como um resultado disto, na primeira fase do processo de cura a radiação eletromagnética com um centro de concentração na faixa de onda longa é gerada, que é particularmente adequada para curar o revestimento na peça de trabalho através de sua espessura total.

Durante a segunda fase do processo de cura, a radiação eletromagnética é então gerada, cujo centro de concentração estende-se na faixa de onda curta e que é portanto particularmente adequado para curar a camada de revestimento do revestimento próximo à superfície livre em particular.

Em uma configuração preferida do processo de acordo com a invenção, é portanto considerado que a composição do gás de processo é variada durante o processo de cura tal que o centro da concentração da radiação eletromagnética gerada no plasma durante o processo de cura mude com respeito aos comprimentos de onda menores enquanto o período de cura aumenta.

Desse modo, pode ser considerado, por exemplo, que se correspondendo ao controle do fornecimento de gás durante uma primeira fase do processo de cura de aproximadamente 60 segundos de duração na área de geração de plasma uma composição de gás de processo pode ser fixada, a qual contenha aproximadamente 20% em volume de argônio e o restante de hélio. Esta composição de gás de processo resulta no centro da concentração do espectro da radiação eletromagnética gerada no plasma estendendo-se na faixa UV de onda longa.

Em uma segunda fase subseqüente do processo de cura de aproximadamente 30 segundos de duração, por exemplo, o nitrogênio pode ser adicionado a esta mistura de gás a fim de mudar o centro de concentração do espectro da radiação eletromagnética gerada no plasma com respeito aos comprimentos de onda menores.

Além disso, tem provado ser particularmente favorável se ao mesmo tempo em que o plasma é inflamado, a área de geração de plasma contiver argônio. O argônio é particularmente adequado como gás de inflamação para a formação de um plasma e para a estabilização do plasma.

Portanto, em uma configuração particularmente preferida do processo de acordo com a invenção, é considerado que ao mesmo tempo em que o plasma é inflamado, a área de geração de plasma essencialmente contém somente argônio.

Para formar a composição de gás de processo desejada, um ou mais gases e/ou uma mistura de gases pode ser alimentada pela área de geração de plasma através de um ou mais dispositivos alimentadores.

De modo que a distribuição de radiação na área de geração de plasma possa também ser adaptada à geometria da peça de trabalho não-planar complexa, pode ser considerado que o plasma é gerado pelo fornecimento de radiação eletromagnética na área de geração de plasma por meio de vários dispositivos de fornecimento, a disposição dos dispositivos de fornecimento sendo tal que quando a área de geração de plasma for dividida em duas meias seções por meio de um plano horizontal executado através do centro da concentração da peça de trabalho durante o processo de cura, pelo menos um dispositivo de fornecimento esteja presente em cada das duas meias seções.

Alternativamente ou além disso, pode também ser considerado que quando a área de geração de plasma for dividida em duas meias seções por meio de um plano vertical executado através do centro de concentração da peça de trabalho durante o processo de cura, pelo menos um dispositivo de fornecimento esteja presente em cada das duas meias seções.

De modo que a distribuição de radiação na área de geração de plasma possa ser adaptada tão favorável quanto possível às geometrias de peça de trabalho não-planar complexas e às espessuras de revestimento espacialmente variantes, pode ser considerado que o plasma é gerado pelo fornecimento de radiação eletromagnética na área de geração de plasma por meio de vários dispositivos de fornecimento, onde pelo menos dois dos dispositivos de fornecimento tenham forças de fornecimento diferentes de um outro.

Desse modo, pode ser considerado que, em particular, os dispositivos de fornecimento com uma força de fornecimento elevada são dispostos nas adjacências das regiões da peça de trabalho, que são fornecidas com um revestimento de espessura elevada, ao mesmo tempo em que os dispositivos de fornecimento com uma força de fornecimento reduzida podem ser dispostos nas adjacências das regiões da peça de trabalho com uma menor espessura de revestimento.

Entretanto, pode ser considerado que o plasma é gerado pelo fornecimento da radiação eletromagnética na área de geração de plasma por meio de vários dispositivos de fornecimento, onde pelo menos dois dos dispositivos de fornecimento diferem no desenho.

Desse modo, um dispositivo de fornecimento pode ser configurado, por exemplo, como uma fonte de plasma de ECR ("ressonância de ciclotron eletrônica") e outro dispositivo de fornecimento pode ser configurado como uma disposição de plasma de placa paralela de alta freqüência.

Para ser capaz de homogeneizar a distribuição da radiação na área de geração de plasma e/ou adaptar tão favorável quanto possível a uma geometria da peça de trabalho específica, pode ser considerado que pelo menos um refletor seja fornecido na área de geração de plasma para refletir a radiação eletromagnética gerada no plasma.

Em particular, pelo menos uma película de espelho pode ser fornecida como refletor na área de geração de plasma.

Alternativamente ou além disto, pode ser considerado que pelo menos uma sub-região das paredes limítrofes da área de geração de plasma seja configurada como um refletor.

Tem provado ser particularmente favorável se pelo menos um refletor compreende alumínio e/ou aço inoxidável como material refletivo. Para permitir que o refletor seja simplesmente trocado por outro refletor com uma geometria diferente ou feito de um material diferente, é vantajoso se pelo menos um refletor puder ser removido da área de geração de plasma.

Para permitir que um padrão de fluxo de gás de processo desejado seja gerado na área de geração de plasma, pode ser considerado que o gás é retirado da área de geração de plasma através de um ou mais dispositivos de sucção. A pressão na área de geração de plasma pode também ser variada de uma maneira simples com um fornecimento de gás constantemente mantido se a pressão na área de geração de plasma é variada por meio de pelo menos um dispositivo de sucção com uma válvula reguladora disposta nele.

Dependendo do material e geometria da peça de trabalho revestida, pode ser vantajoso conectar a peça de trabalho a um potencial elétrico diferente do potencial elétrico das paredes limítrofes da área de geração de plasma ou ao mesmo potencial elétrico como as paredes limítrofes da área de geração de plasma.

Em uma configuração particular do processo de acordo com a invenção, é considerado que a peça de trabalho é eletricamente separada das paredes limítrofes da área de geração de plasma por meio de pelo menos um cabo parcialmente eletricamente isolante.

Como um resultado de uma tal configuração do processo é possível conectar a peça de trabalho a um potencial elétrico diferente do potencial elétrico das paredes limítrofe da área de geração de plasma.

Alternativamente, pode ser considerado que a peça de trabalho é eletricamente conectada às paredes limítrofe da área de geração de plasma por meio de um cabo eletricamente condutivo.

Como um resultado disto, é possível de uma maneira simples conectar a peça de trabalho ao mesmo potencial elétrico como as paredes limítrofe da área de geração de plasma. Além disso, pode ser considerado que a peça de trabalho e/ou as paredes limítrofe da área de geração de plasma estão conectadas ao potencial neutro. O plasma gerado pode ser estabilizado por seleção adequada do potencial elétrico da peça de trabalho com respeito às paredes limítrofes da área de geração de plasma.

Em uma configuração especial do processo de acordo com a invenção é adicionalmente considerado que a peça de trabalho seja fornecida com um revestimento, o qual possa ser curado por radiação eletromagnética, que compreende pelo menos um componente de radiação UV, ou por calor ou por uma combinação de radiação eletromagnética, que compreende pelo menos um componente de radiação UV, e calor.

Um tal revestimento é conhecido, por exemplo, como "laca de cura dual".

Empregando-se um tal revestimento é possível também curar fornecendo-se calor àquelas áreas do revestimento da peça de trabalho, que não são alcançadas, ou somente inadequadamente alcançadas, pela radiação eletromagnética gerada no plasma. Nesse caso, o calor pode ser fornecido, por exemplo, por radiação infravermelha ou difusão de calor. Entretanto, o calor pode ser fornecido por meio da radiação eletromagnética gerada no plasma antes, durante e/ou após a cura.

Em particular para o propósito de secagem inicial ou cura sub-seqüente, pode ser considerado que a peça de trabalho seja submetida a uma radiação eletromagnética, que não é gerada no plasma, antes, durante e/ou após a geração do plasma.

Uma tal radiação pode ser em particular, radiação de microonda e/ou radiação infravermelha.

Para prevenir a formação de bolhas durante a cura do revestimento no caso dos revestimentos contendo solventes, pode ser considerado que a peça de trabalho seja secada antes, após e/ou durante a geração do plasma.

Tal secagem pode ser efetuada, por exemplo, por irradiação do revestimento com radiação de microonda e/ou com radiação infravermelha.

Altemativamente ou complementar a isto, pode ser considerado que antes da geração do plasma, a peça de trabalho é submetida a uma pressão estendendo-se abaixo da pressão atmosférica, preferivelmente a uma pressão na faixa de aproximadamente 2000 Pa a aproximadamente 50000 Pa.

Submetendo-se a peça de trabalho a uma tal pressão reduzida, o solvente pode ser evaporado do revestimento a ser curado.

Para manter um baixo custo do equipamento para a geração de um vácuo para uma tal secagem inicial, é preferivelmente considerado que antes da geração do plasma, a peça de trabalho seja submetida a uma pressão estendo-se abaixo da pressão atmosférica, que é maior do que a pressão, a qual a peça de trabalho é submetida durante a geração do plasma.

Pode adicionalmente ser considerado que um campo magnético é gerado na área de geração de plasma durante o processo de cura, que pode servir, em particular, para influenciar o grau do local de ionização do plasma e desse modo à distribuição da radiação na área de geração de plasma.

Este campo magnético servindo para influenciar na distribuição de radiação na área de geração de plasma é gerado independentemente ou possivelmente adicionalmente ao campo magnético, que serve para utilizar o efeito de ECR ("ressonância de ciclotron eletrônica") e desse modo para a geração do plasma.

Para ser capaz de alterar o grau do local de ionização e desse modo, a distribuição da radiação na área de geração de plasma durante o processo de cura, é considerado que em uma configuração especial do processo de acordo com a invenção a intensidade do campo magnético servindo para influenciar a distribuição da radiação é variada durante o processo de cura.

Em particular, pode ser considerado que o campo magnético é gerado na área de geração de plasma somente após o início do processo de cura.

Como um resultado de um tal campo magnético gerado em uma última fase do processo de cura, o tempo eficaz de cura pode ser reduzido em particular, em pontos da peça de trabalho que são especialmente expostos comparados com outros locais da peça de trabalho.

Isto é particularmente favorável a fim de prevenir o amarela-mento quando uma pintura clara, em particular branca, é empregada.

Para permitir que o grau do local de ionização e, desse modo, a distribuição de radiação na área de geração de plasma seja adaptada tão favorável quanto possível à geometria da peça de trabalho e a espessura do revestimento do local a ser adaptado na peça de trabalho, pode ser considerado que a intensidade do campo magnético gerado para influenciar a distribuição da radiação varie espacialmente na área de geração de plasma.

Particularmente no caso das peças de trabalho mais pesadas, é vantajoso se um dispositivo de transporte for fornecido, por meio do qual a peça de trabalho possa ser transportada na área de geração de plasma e fora da área de geração de plasma novamente após o processo de cura.

Um outro objetivo formando a base da presente invenção é fornecer um dispositivo para cura de um revestimento, em particular um revestimento curável por radiação, em uma peça de trabalho, que também permite revestimentos de difícil acesso a locais da peça de trabalho a ser curada de uma maneira simples.

Este objetivo é alcançado de acordo com a invenção com um dispositivo com as características do preâmbulo da Reivindicação 58 pelo fato de que o dispositivo compreende uma área de geração de plasma, um dispositivo para levar a peça de trabalho na área de geração de plasma e um dispositivo para gerar um plasma na área de geração de plasma. O plasma gerado na área de geração de plasma, em particular, pode emitir a radiação necessária para curar um revestimento curável por radiação.

As configurações especiais do dispositivo de acordo com a invenção são o objetivo das Reivindicações anexas 59 a 111, suas vantagens já foram explicadas acima em associação com as configurações especiais do processo de acordo com a invenção.

Outras características e vantagens da invenção são o objetivo das seguintes descrições e das modalidades representantes dos desenhos.

Figura 1 é uma representação básica esquemática da cura de um revestimento curável por radiação sobre uma peça de trabalho em um plasma;

Figura 2 é uma vista de seção esquemática de uma primeira modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação sobre uma peça de trabalho;

Figura 3 é uma vista de seção esquemática de uma segunda modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação sobre uma peça de trabalho;

Figura 4 é uma seção longitudinal esquemática através de uma terceira modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação que serve para curar um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículos e compreende uma câmara de alimentação, uma câmara de plasma e uma câmara de descarga;

Figura 5 é uma vista em seção transversal esquemática através do dispositivo da Figura 4 junto à linha 5-5 na Figura 4;

Figuras 6 a 10 são vistas laterais esquemáticas do dispositivo das Figuras 4 e 15 em fases consecutivas de um ciclo de trabalho do dispositivo;

Figura 11 é uma seção longitudinal esquemática através de uma quarta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação que serve para cura de um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículos e compreende uma câmara de alimentação, uma câmara de plasma e uma câmara de descarga;

Figura 12 é uma vista em seção transversal esquemática através do dispositivo da Figura 11 junto à linha 12-12 na Figura 11;

Figura 13 é uma vista em seção transversal esquemática através de uma quinta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação que serve para curar um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículos e compreende refletores;

Figura 14 é uma vista em seção transversal esquemática através de uma sexta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação em uma peça de trabalho que serve para curar um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículos e compreende uma câmara de plasma com as paredes da câmara refletivas;

Figura 15 é uma vista em seção transversal esquemática através de uma sétima modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação que serve para curar um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículos e compreende vários dispositivos alimentadores e dispositivos de sucção para um gás de processo;

Figura 16 é uma vista em seção transversal esquemática através de uma oitava modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação que serve para curar um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículos e é fornecido com um magneto para influenciar o grau de ionização do plasma gerado;

Figura 17 é uma vista lateral de seção esquemática de uma car-roceria de veículo com um revestimento curável por radiação que é preso em uma estrutura deslizante por meio de um cabo da peça de trabalho, referido cabo da peça de trabalho compreendendo um isolador elétrico; e Figura 18 é uma vista lateral de seção esquemática de uma car-roceria de veículo com um revestimento curável por radiação que é preso em uma estrutura deslizante por meio de um cabo da peça de trabalho, a referida carroceria do veículo sendo conectada à estrutura deslizante de uma maneira eletricamente condutiva através do cabo da peça de trabalho.

Aos elementos funcionalmente equivalentes ou idênticos é dado o mesmo número de referência em todas as figuras. A Figura 1 mostra o princípio da operação de um processo para cura de um revestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102, que está disposta em uma área de geração de plasma 104. O revestimento 100 é formado de um material, que pode ser curado por irradiação com radiação ultravioleta.

As formulações para tais materiais curáveis por radiação são conhecidas na técnica e amplamente publicadas. Portanto, essas formulações contêm, por exemplo, componentes para serem polimerizados tais como monômeros, oligômeros e/ou polímeros, possivelmente agentes aglu-tinantes, um ou mais fotoiniciadores, e possivelmente outros aditivos de pintura usuais tais como, por exemplo, solventes, agentes de controle de fluxo, melhorador de adesão, estabilizadores, por exemplo, agentes de proteção de luz, absorvedores de UV.

Os exemplos de monômeros adequados são acrilatos, possivelmente acrilatos contendo grupos de hidroxila e epóxi. Amidas, poliéste-res, poliuretanos e poliéteres possivelmente funcionalizados, não-saturados podem servir como componentes polimerizáveis. i Uma tal formulação curável por radiação pode ser preparada, por exemplo, misturando-se os seguintes componentes: 89.0 partes de 75% de acrilato de epóxi em diol diacrilato de hexano (que é comercializado sob o nome ®Ebecryl 604 por UCB, Bélgica) 10.0 partes de polietileno glicol-400-diacrilato (que é comercializado sob o nome ®Sartomer SR 344 por Sartomer). 1.0 parte de diacrilato de silício (que é comercializado sob o nome de ®Ebecryl 350 por UCB, Bélgica) 2.0 partes de fenil-1-hidroxicicloexil-cetona (que é comercializado sob o nome ®lrgacure 184 por Ciba Spezialitatenchemie, Suíça).

Este material pode ser reticulado e portanto curado por irradiação com luz visível e com luz UV na faixa de comprimento de onda de aproximadamente 200 nm a aproximadamente 600 nm. A peça de trabalho 102, que pode ser formada a partir de qualquer material metálico ou não-metálico desejado, é fornecida com um revestimento do material curável por radiação, que é inicialmente ainda não curado, de uma maneira adequada, por exemplo, revestindo-se por imersão, pintando-se por spray ou pulverizando-se. A peça de trabalho revestida 102 é levada para uma área de geração de plasma 104, que é carregada com um gás de processo, por exemplo, argônio ou nitrogênio, em uma pressão de operação na faixa de aproximadamente 0,1 Pa a aproximadamente 100 Pa.

Após a peça de trabalho 102 ter sido levada para área de geração de plasma 104 e a baixa pressão acima mencionada ter sido fixada no gás de processo, um plasma é gerado na área de geração de plasma 104 ou aplicando-se um campo elétrico estático à área de geração de plasma 104, como é esquematicamente mostrado na Figura 1 pelos eletrodos 106 e 108, e/ou pelo fornecimento de um campo alternado eletromagnético na área de geração de plasma.

Em particular, pode ser considerado que a radiação eletromagnética é fornecida na área de geração de plasma 104. A freqüência desta radiação eletromagnética pode estender-se na faixa de microonda (de aproximadamente 300 MHz a aproximadamente 300 GHz) ou na faixa de alta freqüência (de aproximadamente 3 kHz a aproximadamente 300 MHz).

As partículas neutras (átomos ou moléculas) 110 do gás de processo são ionizadas pela colisão de elétrons, que absorvem a energia no campo elétrico estático aplicado ou no campo alternado eletromagnético fornecido, de modo que os elétrons livres adicionais 112 e íons de gás 114 sejam formados.

Os radicais 116 e as partículas de gás estimuladas (átomos ou moléculas) 118 são formados como um resultado das colisões dos elétrons livres 112 e dos íons de gás 114 com outras partículas de gás neutro.

Essas partículas estimuladas no plasma emitem uma porção da energia transferida para elas na forma de radiação eletromagnética 120, que tem pelo menos parcialmente um comprimento de onda na faixa visível e na faixa de UV (de aproximadamente 200 nm a aproximadamente 600 nm).

Uma porção desta radiação UV emitida distribuída do plasma para o revestimento 100 da peça de trabalho 102 disposta no interior do plasma, é absorvida e ativa uma reação de reticulação, por exemplo, uma reação de polimerização, policondensação ou poliadição, que induz a cura do revestimento 100.

Quando o revestimento 100 recebeu uma dose suficiente de radiação UV para efetuar a cura adequada do revestimento 100, o fornecimento de energia pelo plasma é interrompido de modo que resulte em uma atmosfera de gás de processo neutra, a pressão na área de geração de plasma 104 seja levada à pressão atmosférica e a peça de trabalho 102 com o revestimento curado 100 seja removida da área de geração de plasma 104.

Um dispositivo mostrado esquematicamente na Figura 2 e determinado na referência total 122, para curar um revestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102 compreende uma câmara de plasma à prova de gás 124, no interior da qual forma-se uma área de geração de plasma 104. A câmara de plasma 124 pode ter um volume interno de aproximadamente 100 litros, por exemplo. A câmara de plasma 124 pode ser evacuada a uma pressão de aproximadamente 10"3 Pa através de um cano de sucção 126, que induz a um sistema de bomba a vácuo 128 e pode ser desligado por uma válvula de contenção 130. A peça de trabalho 102 presa em um cabo da peça de trabalho 131 e fornecida, por exemplo, na forma de um disco de silício, que é fornecido em sua lateral superior distante do cabo da peça de trabalho 131 com um revestimento 100 feito do material curável por radiação acima mencionado, pode ser levada para a posição de operação mostrada na Figura 2 através de uma porta de acesso (não mostrada) da câmara de plasma 124.

Um dispositivo de fornecimento para radiação de microonda, determinado na referência total 132, que compreende uma antena 134 disposta em uma seção de guia de onda 136 e uma disposição de bobina de magnetização 138, é disposto centralmente acima da peça de trabalho 100 localizado na posição de operação. A antena 134 é conectada através da seção de guia de onda 136 a um magnetron 140, que gera microondas com uma freqüência de 2,45 GHz, por exemplo, que passa para a antena 134 através da seção de guia de onda 136 e de lá são fornecidos na área de geração de plasma 104. A seção de guia de onda 136 é separada da área de geração de plasma 104 por uma janela de quartzo 141. A disposição de bobina de magnetização 138 serve para amplificar o efeito de ionização da radiação de microonda pelo efeito de ECR ("ressonância de ciclotron eletrônica"). A disposição de bobina de magnetização 138 gera um campo magnético estático, cujo interior da área de geração de plasma 104 é orientado, essencialmente, paralelo ao eixo 142 do feixe da radiação de microonda transmitido pela antena 134. A intensidade do campo magnético é fixada tal que a freqüência de ciclotron dos elétrons no campo magnético corresponda à freqüência das microondas irradiadas. Neste caso, de ressonância, os elétrons livres absorvem uma quantidade particularmente grande de energia do campo alternado eletromagnético, que induz a uma ionização particularmente eficiente do gás de processo.

Se a radiação de microonda, com uma freqüência de 2,45 GHz, é empregada, então um campo magnético com uma intensidade de 875 gauss deve ser empregado a fim de obter o efeito de ECR. Vários dispositivos alimentadores 144 para o gás de processo são dispostos simetricamente ao eixo 142 do feixe de radiação de microonda gerado pelo dispositivo de fornecimento 132, esses dispositivos alimentadores respectivamente compreendendo um bocal alimentador 146 direcionado na câmara do plasma 124 de uma maneira selada e conectados a um reservatório de gás 150 respectivamente através de um cano de alimentação 148 com um regulador de corrente de massa 149. Naturalmente, vários dispositivos alimentadores 144 podem também ser conectados ao mesmo reservatório de gás 150.

Cada dos reguladores de corrente de massa 149 é respectivamente conectado através de uma linha de controle 151 a uma unidade de controle 153, que controla a quantidade total do gás de processo alimentado pela área de geração de plasma 104 dependendo da quantidade requerida da radiação.

Uma fonte de plasma de ECR, que é comercializada sob o nome RR 250 por Roth & Rau Oberflàchentechnik AG, D-09337 Hohenstein-Emstthal, Alemanha, pode ser empregada em particular como dispositivo de fornecimento 132. O dispositivo 122 descrito acima é operado como segue.

Após a peça de trabalho 102, que é fornecida com um revestimento ainda não curado 100 e que é presa no cabo da peça de trabalho 131, ter sido colocada na câmara de plasma 124, esta é evacuada por meio do sistema de bomba a vácuo 128 a uma pressão de base de aproximadamente 10'3 Pa após a abertura da válvula de contenção 130. O gás de processo dos reservatórios de gás 150 é então deixado na área de geração de plasma 104 através dos dispositivos alimentado-res 144 até que uma pressão de operação de aproximadamente 0,3 Pa, por exemplo, seja alcançada.

Neste caso, o fluxo de gás na câmara de plasma 124 é controlado por meio do regulador de corrente de massa 149 de modo que o fluxo de gás na câmara de plasma 124 atinja o total de aproximadamente 10 sccm a aproximadamente 100 sccm (centímetros cúbicos padrão por minuto). O argônio ou nitrogênio é empregado, por exemplo, como gás de processo.

Quando a pressão de operação desejada é alcançada, a radiação de microonda gerada pelo magnetron 140 é fornecida na área de geração de plasma 104 e o plasma na área de geração de plasma 104 é desse modo inflamado. A força de microonda fornecida atinge, por exemplo, de aproximadamente 400 watts a aproximadamente 1000 watts, preferivelmente até aproximadamente 600 watts.

Se vários dispositivos de fornecimento 132 são empregados, então o fornecimento de força de microonda por dispositivo de fornecimento preferivelmente respectivamente atinge de aproximadamente 400 watts a aproximadamente 1000 watts, em particular até aproximadamente 600 watts.

As partículas de gás alimentadas na câmara de plasma 124 são ionizadas no feixe de radiação de microonda e de lá são carregadas ainda através da área de geração de plasma 104 de modo que essencialmente toda a câmara de plasma 124 seja carregada com plasma.

Como um resultado das colisões das partículas carregadas com as partículas de gás estimuladas no plasma, a radiação na faixa de UV é emitida, a qual é absorvida pelo revestimento 100 e ativa as reações de reti-culação, o que induz a cura do revestimento 100.

Após um tempo de exposição de 90 segundos, por exemplo, o tratamento de plasma é interrompido e a câmara de plasma 124 é arejada. A peça de trabalho 102, com o revestimento curado 100, é removida.

Dois exemplos práticos concretos de um processo de cura conduzido com o dispositivo descrito acima 122 são especificados abaixo: Exemplo 1 Uma formulação fotocurável é produzida misturando-se os seguintes componentes: 44.5 partes de um acrilato de uretano alifático (Ebercyl 284; 88 partes de acrilato de uretano alifático/12 partes de diol diacrilato de hexano; Bayer AG) 32,2 partes de um uretano-tri/tetraacrilato alifático (Roskydal UA VP LS 2308; Bayer AG) 50,0 partes de isopropanol 1.5 parte de um agente de controle de fluxo (Byk 306; Byk Che- mie) Os seguintes são adicionados à formulação especificada na tabela e agitados no banho de água a 40°C: 2,7% de 1-hidróxi-cicloexil-fenil cetona (Irgacure 184, Ciba Spezialitátenchemie), 0,5% de óxido de bis(2,4,6-trimetilbenzoil)fenilfosfina (Irgacure 819, Ciba Spezialitátenchemie), 1,5% de tinuvin 400 (= mistura compreendendo 2-[4-[(2-hidróxi-3-dodeciloxipropil)óxi]-2-hidroxifenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina e 2-[4-[(2-hidróxi-3-trideciloxipropil)óxi]-2-hidroxifenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)- 1,3,5-triazina, Ciba Spezialitátenchemie) e 1% de tinuvin 292 (= mistura compreendendo bis(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidinil)-sebacato e 1-(metil)-8-(1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidinil)-sebacato, Ciba Spezialitátenchemie) (calculado com base nos sólidos). Um alumínio de revestimento de bobina é levado para a forma de um U invertido. A pintura é aplicada por meio de aplicação por spray de modo que uma espessura de camada seca resultante de 30 μίτι seja obtida. A pintura no substrato tridimensional é ventilada por exaustão durante 5 minutos em temperatura ambiente, em seguida ventilada por exaustão em um forno de ar forçado durante 10 minutos a 80°C e em seguida curada na câmara de plasma 124. A cura ocorre em uma atmosfera de N2/He com uma relação de gás de 135/65 sccm, o fornecimento de força de microonda com uma antena de microonda correspondendo a 500 w durante 90 segundos. A distância da amostra da antena de microonda atinge a 150 mm. Um revestimento livre de aderência bem curado é obtido. O grau de cura é determinado por meio da resistência do pêndulo Kõnig (DIN 53157). Quanto maior o valor para a resistência do pêndulo, mais resistente será o revestimento. O lado esquerdo da folha de metal em forma de U tem uma resistência de pêndulo de 67 s, o lado direito tem uma resistência de pêndulo de 91 s. No topo da folha em forma de U a resistência do pêndulo alcança o valor de 126 s.

Exemplo 2 Os componentes A e B são produzidos misturando-se os seguintes constituintes: Componente A: 11,38 partes de um poliacrilato contendo grupos de hidroxila; 70% em acetato de butila (Desmophen A 870, Bayer AG) 21,23 partes de poliéster poliol 75% em acetato de butila (Desmophen VP LS 2089, Bayer AG) 0,55 parte de um agente de controle de fluxo (Byk 306, Byk Chemie) 32,03 partes de metanol Os seguintes fotoiniciadores e agentes de proteção de luz são agitados no componente A: 0,17 parte de óxido de bis(2,4,6-trimetilbenzoil)fenilfosfina (Irga-cure 819, Ciba Spezialitátenchemie) 1,52 parte de 1-hidróxi-cicloexil-fenil cetona (Irgacure 184, Ciba Spezialitátenchemie) 0,85 parte de tinuvin 400 (= mistura compreendendo 2-[4-[(2-hidróxi-3-dodeciloxipropil)óxi]-2-hidroxifenil]-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina e 2-[4-[(2-hidróxi-3-trideciloxipropil)óxi]-2-hidroxifenil]-4,6-bis(2,4-di-metilfenil)-1,3,5-triazina, Ciba Spezialitátenchemie) 0,56 parte de tinuvin 292 (= mistura compreendendo bis (1,2,2,6,6-pentametil-4-piperidinil)-sebacato e 1-(metil)-8-(1,2,2,6,6-pentame-til-4-piperidinil)-sebacato, Ciba Spezialitátenchemie).

Em seguida: 32,09 partes de um acrilato de uretano contendo grupos de iso-cianato (Roskydal UA VP LS 2337, Bayer AG) são adicionados ao componente B e homogeneamente distribuídos.

Deste modo, uma laca de cura dual é produzida. A laca é aplicada com uma lâmina de revestimento entalhada de 100 μιτι sobre um alumínio de revestimento de bobina planar de modo que uma espessura da camada seca de 30 μιτι seja obtida. A laca é ventilada por exaustão durante 5 minutos em temperatura ambiente, em seguida ter-micamente reticulada em um forno de ar forçado durante 15 minutos a 120°C e em seguida curada na câmara de plasma 124. A cura ocorre em uma atmosfera de N2/Ar com uma relação de gás de 160/40 sccm, a força da microonda correspondendo a 800 w durante 90 segundos. A distância da amostra da antena de microonda atinge a 150 mm. Um revestimento livre de aderência bem curado é obtido. O grau de cura é determinado por meio da resistência do pêndulo Kõnig (DIN 53157). Quanto maior o valor para a resistência do pêndulo, mais resistente será o revestimento. Um valor de 118 s é obtido.

Uma disposição de plasma de placa paralela de alta freqüência compreendendo um sistema de eletrodo de placa paralela, que está dis- posto em uma distância da peça de trabalho na área de geração de plasma, pode também ser empregada no dispositivo 122 no lugar da fonte de plasma de ECR descrita acima. Neste caso, o plasma é inflamado aplicando-se uma voltagem alternada de alta freqüência, por exemplo, de aproximadamente 13,6 MHz entre a disposição de eletrodo de placa paralela e o cabo da peça de trabalho. A força fornecida atinge, por exemplo, de aproximadamente 10 watts a aproximadamente 200 watts. A pressão de operação preferida atinge a aproximadamente 1 Pa e é fixada por meio dos reguladores de corrente de massa nos canos de alimentação alimentando-se no gás a ser ionizado, preferivelmente argônio.

De outro modo, a variante do dispositivo operado com alta freqüência é a mesma com respeito a sua estrutura e função como a variante operada com microondas, e referência deveria ser feita à descrição acima com respeito a isto.

Uma segunda modalidade de um dispositivo 122 para cura de um revestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102 mostrada esquematicamente na Figura 3 difere da primeira modalidade descrita acima pelo fato de que além do primeiro dispositivo de fornecimento 132 acima na posição de operação da peça de trabalho 102, um segundo dispositivo de fornecimento 132' é disposto no lado oposto da câmara de plasma 124 ao primeiro dispositivo de fornecimento 132. O segundo dispositivo de fornecimento 132' corresponde na estrutura ao primeiro dispositivo de fornecimento 132 e em particular compreende uma antena 134 em uma seção de guia de onda 136, que induz a um magnetron 140 e é separada da área de geração de plasma 104 por uma folha de vidro de quartzo 141, e também uma disposição de bobina de mag-netização 138 para a geração do efeito de ECR.

Além disso, vários dispositivos alimentadores 144' para o gás de processo são dispostos simetricamente ao eixo 142' do feixe de radiação de microonda gerado pelo segundo dispositivo de fornecimento 132', esses dispositivos alimentadores respectivamente compreendendo um bocal ali-mentador 146 direcionado na área de geração de plasma 104 de uma ma- neira selada e conectados a um reservatório de gás 150 respectivamente através de um cano de alimentação 148 com um regulador de corrente de massa 149.

Cada dos reguladores de corrente de massa 149 é respectivamente conectado através de uma linha de controle 151 à unidade de controle 153, que controla a quantidade total do gás de processo alimentado pela área de geração de plasma 104 dependendo da quantidade de radiação requerida. A segunda modalidade de um dispositivo 122 mostrado na Figura 3 também permite que os revestimentos 100 nas peças de trabalho de forma complexa, tridimensionais 102 sejam curados, os quais, como a peça de trabalho 102 mostrada na Figura 3, por exemplo, têm uma cavidade 152 com uma abertura de acesso 154, onde as superfícies limítrofes da cavidade são também fornecidas com o revestimento 100 a ser curado. A peça de trabalho 102 é disposta na área de geração de plasma 104 de um tal modo que a abertura de acesso 154 da cavidade 152 estende-se oposta ao segundo dispositivo de fornecimento 132' e o eixo 142' do dispositivo de fornecimento 132' aponte através da abertura de acesso 154 na cavidade 152.

Isto garante que a radiação de microonda do segundo dispositivo de fornecimento 132' alcance na cavidade 152 da peça de trabalho 102 de modo que um plasma seja também gerado na cavidade 152.

As partículas de gás estimuladas por colisão com as partículas carregadas do plasma também alcançam por difusão nas regiões sombreadas 156 da cavidade 152, nas quais nenhuma radiação visível ou UV pode alcançar da região da área de geração de plasma 104 localizada do lado de fora da peça de trabalho 102, e emitem radiação visível e UV, que é absorvida pelo revestimento 100 nas paredes internas das regiões sombreadas 156 da cavidade 152. Deste modo, o revestimento 100 nessas regiões sombreadas 156 pode também ser totalmente curado.

De outro modo, a segunda modalidade de um dispositivo 122 para cura de um revestimento curável por radiação 100 mostrado na Figura 3 é a mesma com respeito a sua estrutura e função como a primeira modalidade mostrada na Figura 2, e referência deveria ser feita à descrição acima neste respeito.

Uma terceira modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102 mostrada nas Figuras 4 e 5 compreende três câmaras, que podem ser evacuadas e são dispostas consecutivamente em uma direção de transporte 158, isto é uma antecâmara ou uma câmara de alimentação 160, uma câmara de plasma 124 e uma câmara de descarga 162.

Cada dessas câmaras tem um diâmetro de aproximadamente 2,5 m e uma extensão de aproximadamente 6 m, de modo que cada câmara possa respectivamente receber uma peça de trabalho na forma de uma car-roceria de veículo 164, que é presa em uma estrutura deslizante 166.

Cada estrutura deslizante compreende dois cavaletes 168 orientados paralelos à direção de transporte 158, com os quais a estrutura deslizante respectiva 166 pode ser apoiada nas rodas de transporte da esteira rolante 170, cada qual é respectivamente disposta em cada das câmaras 160, 124 e 162. A entrada da câmara de alimentação 160 e a saída da câmara de descarga 162 podem ser respectivamente seladas por um portão de levantamento externo vedado a vácuo 172. A passagem da câmara de alimentação 160 na câmara de plasma 124 e a passagem da câmara de plasma 124 na câmara de descarga 162 podem ser seladas respectivamente por um portão de levantamento interno vedado a vácuo 172'.

Esses portões de levantamento 172, 172' são mostrados em sua posição aberta superior nas Figuras 4 e 5, na qual as referidas passagens são abertas pelas carrocerias de veículo 164.

Cada das câmaras 160, 124 e 162 podem ser evacuadas por uma pressão de operação de aproximadamente 1 Pa por meio de uma bomba dianteira respectiva 174 e um ventilador Roots respectivo 176. A câmara de plasma 124 é fornecida com vários dispositivos de fornecimento 132 para radiação de microonda, um dos quais está disposto centralmente acima da carroceria do veículo 164 disposta na câmara de plasma 124 e dois outros dispositivos de fornecimento estão dispostos nas paredes laterais da câmara de plasma 124 tal que elas estendam-se opostas à abertura da janela 178 da carroceria do veículo 164 de modo que o eixo 142 dos feixes de radiação de microonda gerados por esses dispositivos de fornecimento apontem através das aberturas da janela 178 no interior da carroceria do veículo 164.

Cada dos dispositivos de fornecimento 132 é conectado respectivamente através de uma seção de guia de onda 136 a um magnetron 140 para a geração de microondas com uma freqüência de 2,45 GHz.

Além disso, dispostos adjacente a cada dispositivo de fornecimento 132 estão os sistemas de spray de gás (não mostrado), que são conectados aos reservatórios de gás através dos canos de alimentação e através dos quais um gás de processo, por exemplo, nitrogênio ou argônio, pode ser alimentado na câmara de plasma 124 durante o processo de cura.

Um dispositivo de fornecimento 132 para radiação de microonda, que é conectado a um magnetron 140 através de uma seção de guia de onda 136 e está disposto centralmente acima da carroceria de veículo 164 disposta na câmara de alimentação 160, é também fornecido na câmara de alimentação 160.

Os dispositivos de fornecimento 132 são removíveis do interior da câmara de plasma 124 ou interior da câmara de alimentação 160 de modo que eles possam ser posicionados de um modo ótimo dependendo da geometria da carroceria do veículo 164, em particular possa ser levado tão próximo quanto possível às aberturas da janela. O dispositivo descrito acima 122 para cura de revestimentos curáveis por radiação em carrocerias de veículos 164, funciona como segue: O dispositivo é operado em ciclos fixos, onde um primeiro ciclo de trabalho, um primeiro ciclo de transporte, um segundo ciclo de trabalho e um segundo ciclo de transporte respectivamente seguem um ao outro em sucessão e formam um ciclo de operação no dispositivo. O tempo total do ciclo, isto é, a soma da duração de ambos ci- cios de trabalho e ambos ciclos de transporte, atingem a aproximadamente 90 segundos.

Durante o primeiro ciclo de trabalho mostrado esquematica-mente na Figura 6, todos os portões de levantamento 172, 172' são fechados. Uma carroceria de veículo 164 é disposta na câmara de descarga 162 e uma outra carroceria de veículo 164' é disposta na câmara de plasma 124.

Em um primeiro ciclo de trabalho, a câmara de descarga 162 é arejada até que a pressão ambiente seja alcançada nesta.

No primeiro ciclo de trabalho a carroceria do veículo 164' na câmara de plasma 124 é submetida a um processo de cura de plasma, no qual o gás de processo é alimentado através dos sistemas de spray de gás no interior da câmara de plasma 124 servindo como área de geração de plasma 104 e o plasma é inflamado por meio da radiação de microonda dos mag-netrons 140.

Essas regiões do revestimento 100 da carroceria do veículo 164' que diretamente limitam uma região da área de geração de plasma 104, na qual o plasma foi inflamado, são irradiadas a partir dessas regiões com radiação visível e radiação UV.

Além disso, as partículas de gás estimuladas por colisão com as partículas carregadas do plasma também difundem nas regiões sombreadas no interior da carroceria do veículo 164', e lá emitem luz visível e luz UV, de modo que o revestimento 100 seja também curado nessas regiões sombreadas 156. A força de microonda alimentada na câmara de plasma 124 durante o processo de cura atinge a aproximadamente 10 kW no total. A câmara de alimentação vazia 160 é arejada durante o primeiro ciclo de trabalho até que a pressão ambiente seja alcançada nela.

No primeiro ciclo de transporte, mostrado na Figura 7, seguinte ao primeiro ciclo de trabalho, os portões de levantamento externos 172 são abertos. Uma nova carroceria de veículo 164" é então transportada para fora da área de uma maquinaria de pintura localizada em frente à câmara de alimentação 160 na direção de transporte 158, na qual a carroceria de veículo 164" foi fornecida com um revestimento de material curável por radiação, que tem a composição mencionada acima, por exemplo, na câmara de alimentação 160, ao mesmo tempo em que a carroceria do veículo 164 localizada na câmara de descarga 162 no primeiro ciclo de trabalho é transportada sobre a área de maquinaria de pintura após a câmara de descarga 162 por meio da esteira rolante 170.

Durante o primeiro ciclo de transporte, a carroceria de veículo 164’ permanece na câmara de plasma 124, o processo de cura do plasma sendo continuado durante o primeiro ciclo de transporte. O segundo ciclo de trabalho do dispositivo mostrado na Figura 8 segue o primeiro ciclo de transporte, e neste todos os portões de levantamento 172, 172' são fechados novamente.

No segundo ciclo de trabalho, o processo de cura de plasma é continuado na carroceria do veículo 164' na câmara de plasma 124.

Além disso, durante o segundo ciclo de trabalho, a câmara de alimentação 160 e a câmara de descarga 162 são evacuadas por meio da bomba dianteira respectiva 174 e do ventilador Roots respectivo 176 de pressão atmosférica a uma pressão de operação de aproximadamente 100 Pa. Esta evacuação resulta na pré-secagem do revestimento 100 presente na forma do revestimento de pintura na carroceria do veículo 164 na câmara de alimentação 160.

Além disso, a radiação de microonda do magnetron 140 pode ser fornecida na câmara de alimentação 160 por meio do dispositivo de fornecimento 132 a fim de secar o revestimento 100 diretamente por radiação de microonda, se desejado, para inflamar um plasma agora na câmara de alimentação 160, que emite radiação visível e radiação UV no revestimento e desse modo efetua um primeiro processo de cura do revestimento.

Após o tempo de exposição fornecido da carroceria de veículo 164' na câmara de plasma de aproximadamente 60 segundos, por exemplo, ter terminado, o fornecimento de energia pelo plasma é interrompido e o fornecimento de gás ajustado.

No segundo ciclo de transporte, mostrado na Figura 9, seguinte ao segundo ciclo de trabalho, os portões de levantamento internos 172' são abertos ao mesmo tempo em que os portões de levantamento externos 172 permanecem fechados.

No segundo ciclo de transporte a carroceria de veículo 164' é transportada para fora da câmara de plasma 124 na câmara de descarga 162 por meio da esteira rolante na câmara de plasma 124 e da câmara de descarga 162.

Ao mesmo tempo, no segundo ciclo de transporte a carroceria do veículo 164" é transportada para fora da câmara de alimentação 160 na câmara de plasma 124 por meio da esteira rolante na câmara de alimentação 160 e na câmara de plasma 124.

Os portões de levantamento internos 172' são então fechados e o ciclo de operação do dispositivo 122 inicia novamente com um primeiro ciclo de trabalho (Figura 10), no qual a carroceria do veículo 164" na câmara de plasma 124 é submetida a um processo de cura do plasma e a câmara de descarga 162 bem como a câmara de alimentação 160 são arejadas novamente até que a pressão ambiente seja alcançada nelas.

Para completar a cura do plasma na câmara de plasma 124, também pode ser considerado que as carrocerias dos veículos são termica-mente pré-tratadas na câmara de alimentação 160 e/ou termicamente pós-tratadas na câmara de descarga 162. O pré- ou pós-tratamento térmico pode, em particular, compreender um processo de cura térmico separado, no qual o revestimento é aquecido pelo fornecimento de calor, por exemplo, por meio de convecção térmica e/ou por irradiação com luz infravermelha, a uma temperatura na faixa, por exemplo, de aproximadamente 50°C a aproximadamente 250°C, e desse modo curado.

Além disso, a carroceria do veículo pode também ser termicamente tratada antes, durante e/ou após o processo de cura do plasma, por exemplo, aquecendo-se o revestimento da pintura por irradiação com luz infravermelha.

Uma quarta modalidade de um dispositivo para cura de um re- vestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102 mostrada nas Figuras 11 e 12 difere da terceira modalidade mostrada nas Figuras 4 e 5 pelo fato de que além dos dispositivos de fornecimento 132 para a radiação de microonda, que são dispostos acima do plano central longitudinal horizontal da carroceria de veículo 164 com o revestimento curável por radiação 100, os dispositivos de fornecimento adicionais 132' são fornecidos, os quais são dispostos abaixo do plano central longitudinal horizontal da carroceria de veículo 164, que é mais bem observada na Figura 12.

Cada desses dispositivos de fornecimento adicionais 132’ é também conectado através de uma seção de guia de onda respectivo 136 a um magnetron 140 para a geração de microondas com uma freqüência de 2,45 GHz.

Os dispositivos de fornecimento diférentes 132,132' podem todos ser do mesmo projeto.

Entretanto, alternativamente é também possível considerar que pelo menos dois desses dispositivos de fornecimento 132, 132’ diferem no projeto e/ou com respeito ao fornecimento da força de microonda na área de geração de plasma 104.

Em particular pode ser considerado que um dispositivo de fornecimento 132 ou 132’, que é localizado na adjacência de uma região da carroceria do veículo 164, no qual a espessura do revestimento 100 é comparativamente grande, tenha uma força de fornecimento maior do que um dispositivo de fornecimento 132 ou 132', que está localizado na adjacência de uma região da carroceria de veículo 164, na qual a espessura do revestimento 100 é menor.

Entretanto, nesta quarta modalidade uma válvula reguladora 200 pode ser respectivamente fornecida nos canos de sucção 126 entre a câmara de plasma 124, a câmara de alimentação 160 e a câmara de descarga 162, por um lado, e as bombas a vácuo 128, por meio das quais a câmara 124 respectiva pode ser evacuada, por outro lado.

Por causa da válvula reguladora 200 disposta no lado de sucção, a pressão na câmara de plasma 124 ou câmara de alimentação 160 ou na câmara de descarga 162 pode ser variada mesmo com fornecimento de gás constante pela câmara respectiva. Desse modo, um perfil de pressão desejado que varia no tempo pode ser gerado em cada das câmaras sem qualquer controle ou regulação do fornecimento de gás pela câmara respectiva sendo necessária para isto. A condição do plasma na câmara de plasma 124 pode ser homogeneizada aumentando-se o número de dispositivos de fornecimento 132, 132' e/ou como um resultado da força de fornecimento dos dispositivos de fornecimento 132, 132' adaptados à espessura do revestimento do local respectivo.

De outro modo, a quarta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação é a mesma com respeito à estrutura e função como a terceira modalidade, e referência deveria ser feita à descrição acima neste respeito.

Uma quinta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102 mostrada na Figura 13 difere da terceira modalidade descrita acima somente pelo fato de que os refletores 202 no interior da câmara de plasma 124 são fornecidos com uma superfície de reflexão respectiva 204 revestindo as carro-cerias do veículo 164.

Os refletores 202 servem para refletir a radiação eletromagnética gerada no plasma voltada à carroceria do veículo 164 e desse modo homogeneiza a distribuição da radiação na câmara de plasma 124.

Entretanto, é possível por meio dos refletores 202 também subjugar a dificuldade de acesso às regiões sombreadas da carroceria de veículo 164 a uma quantidade adequada da radiação eletromagnética.

As superfícies de reflexão 204 podem ser formadas, por exemplo, de alumínio ou aço inoxidável ou fornecidas com uma película de espelho feita de um desses materiais.

Os refletores 202 são preferivelmente destacavelmente presos na parede da câmara de plasma 124 de modo que os refletores 202 possam ser removidos da câmara de plasma 124 e trocados por outros refletores 202.

De outro modo, a quinta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento em uma peça de trabalho é a mesma com respeito à estrutura e função como a terceira modalidade, e referência deve ser feita à descrição acima neste respeito.

Uma sexta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação em carrocerias de veículo 164 mostrada na Figura 14 difere da quinta modalidade descrita acima pelo fato de que as paredes limítrofes da câmara de plasma 124 (incluindo as superfícies de paredes dos portões de levantamento internos 112' revestindo o interior da câmara de plasma 124) são fornecidos com um revestimento refletivo 206 de modo que nesta modalidade as paredes limítrofes da câmara de plasma 124 propriamente dita sirva como refletores 202, que refletem a radiação eletromagnética gerada na área de geração de plasma 104 voltada à peça de trabalho 102.

Os revestimentos refletivos 206 podem ser formados, por exemplo, de alumínio ou aço inoxidável.

Entretanto, pode ser considerado que as paredes limítrofes da câmara de plasma 172 não são fornecidas com um revestimento refletivo porém são formadas completamente de um material refletivo.

Os refletores da quinta modalidade fornecidos separadamente das paredes limítrofes da câmara de plasma 124 podem ser omitidos na sexta modalidade. Entretanto, também seria concebível dispor de refletores adicionais 202, uma vez que são descritos em associação com a quinta modalidade, no interior da câmara de plasma 124 com as paredes limítrofes refletivas a fim de propositalmente influenciar na distribuição da radiação na câmara de plasma 124, onde necessário.

De outro modo, a sexta modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação é a mesma com respeito à estrutura e função como a quinta modalidade, e referência deveria ser feita à descrição acima neste respeito.

Uma sétima modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação 100 em uma peça de trabalho 102 mostrada na Figura 15 tem vários dispositivos alimentadores 144 para o fornecimento do gás de processo pela câmara de plasma 124 e vários dispositivos de sucção 208 para extrair gás da câmara de plasma 124.

Cada dos dispositivos de sucção 208 compreende um cano de sucção 126, no qual uma válvula de contenção 130 e uma bomba a vácuo 128 estão dispostas.

Como pode ser observado a partir da Figura 15, o dispositivo alimentador 144 é disposto na região abaixo do plano central longitudinal horizontal da carroceria do veículo 164 e os dispositivos de sucção 208 na região acima do plano central longitudinal horizontal da carroceria do veículo 164.

Desse modo, um fluxo definido do gás de processo, no qual o plasma é gerado, a partir da base ascendente através da câmara do plasma 124 e em particular através da carroceria do veículo 164 pode ser gerado. A geração de um tal fluxo definido do gás de processo através da câmara de plasma 124 tem provado ser favorável para a geração de um plasma estável com uma distribuição de radiação uniforme.

De outro modo, a sétima modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação é a mesma com respeito à estrutura e função como a terceira modalidade, e referência deveria ser feita à descrição acima neste respeito.

Uma oitava modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação mostrado na Figura 16 difere das modalidades descritas acima pelo fato de que pelo menos um elemento de magneto 210 é adicionalmente fornecido para gerar um campo magnético na área de geração de plasma 104. O grau do local de ionização do plasma e, desse modo, a distribuição da radiação na câmara de plasma 124, podem ser influenciados pelo campo magnético gerado pelo elemento de magneto 210. O elemento de magneto 210 pode ser configurado como um magneto permanente ou como um eletromagneto.

Uma configuração como eletromagneto é particularmente adequada para a geração de urr> campo magnético de tempo variável por meio do elemento de magneto 210.

Em particular, pode ser considerado que o campo magnético é somente gerado pelo elemento de magneto 210 após o início do processo de cura do revestimento 100, por exemplo, somente após aproximadamente metade do tempo de cura ter transcorrido, a fim de reduzir a intensidade da radiação, a qual pontos particularmente expostos da peça de trabalho 102 são submetidos.

Em particular, é possível desse modo prevenir o amarelamento durante a cura de pinturas claras, em particular brancas.

De outro modo, a oitava modalidade de um dispositivo para cura de um revestimento curável por radiação em uma peça de trabalho é a mesma com respeito à estrutura e função como a terceira modalidade, e referência deveria ser feita à descrição acima neste respeito.

Particularmente no caso das peças de trabalho 102 feitas de um material eletricamente condutivo, pode ser vantajoso para estabilizar o plasma gerado que a peça de trabalho 102 fornecida com o revestimento 100 e as paredes limítrofes da câmara de plasma 124 estejam conectadas ao mesmo potencial elétrico.

Isto pode ser alcançado em particular conectando-se a peça de trabalho 102 às paredes limítrofes da câmara de plasma 124 de uma maneira eletricamente condutiva por meio de um cabo da peça de trabalho eletricamente condutiva.

Por modo de exemplo, uma carroceria de veículo 164 é mostrada na Figura 18 que está conectada através de um cabo da peça de trabalho eletricamente condutiva 212 a uma estrutura deslizante 166, que está por si mesma conectada de uma maneira condutiva às paredes limítrofes da câmara de plasma 124. Isto garante que a peça de trabalho (a carroceria do veículo 164) seja conectada a um potencial elétrico que é o mesmo como o potencial elétrico φ2, no qual a estrutura deslizante 166 e as paredes limí- trofes da câmara de plasma 124 estendem-se.

Em particular, pode ser considerado que a peça de trabalho 102 e as paredes limítrofe da câmara de plasma 124 estão em potencial neutro.

Altemativamente, entretanto, pode também ser vantajoso em certos casos conectar a peça de trabalho 102 à um potencial elétrico, que seja diferente do potencial elétrico das paredes limítrofes da câmara de plasma 124.

Neste caso é necessário separar a peça de trabalho 102 das paredes limítrofes da câmara de plasma 124 por um isolador elétrico.

Por modo de exemplo para isto, uma carroceria de veículo 164 é mostrada na Figura 17, que é mecanicamente conectada a uma estrutura deslizante 166 através de um cabo da peça de trabalho 212. Entretanto, neste caso, o cabo da peça de trabalho 212 compreende um isolador elétrico 214, que eletricamente separa uma parte do cabo da peça de trabalho 212 na lateral da peça de trabalho de uma parte do cabo da peça de trabalho 212 na lateral da estrutura deslizante.

Neste caso, o potencial elétrico q^ da peça de trabalho (carroceria do veículo 164) pode diferir do potencial elétrico cp2 da estrutura deslizante 166 e das paredes limítrofes da câmara de plasma 124. O potencial q>., da peça de trabalho 102 pode ser fixo em um nível definido, por exemplo, pelo potencial neutro ou um potencial diferindo do potencial neutro.

Alternativamente, pode também ser considerado que a peça de trabalho 102 não está conectada a um potencial externamente predeterminado, porém é mantida variável. O isolador elétrico 214 pode ser formado de qualquer material desejado com efeito de isolamento elétrica adequado, por exemplo, um material plástico adequado ou um material de cerâmica adequado. O isolador elétrico 214 é preferivelmente formado de um material resistente a vácuo.

Claims

1. Processo para curar um revestimento (100) sobre uma peça de trabalho (102), o processo caracterizado pelo fato de que inclui as etapas de: - disponibilizar uma peça de trabalho (102) não plana, que é provida de um revestimento (100) que é curável por meio de radiação eletromagnética em uma área de geração de plasma (104);. - gerar o plasma na área de geração de plasma (104) pela entrada de radiação eletromagnética na área de geração de plasma (104) por meio de pelo menos um dispositivo de fornecimento (132,132'). sendo que uma radiação eletromagnética adequada para a cura do revestimento (100) é gerada pelo plasma; - pelo menos parcialmente curar o revestimento (100) por meio de radiação eletromagnética gerada no plasma.

2. Processo de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que uma radiação eletromagnética com um comprimento de onda na faixa de aproximadamente 50 nm a aproximadamente 850 nm, em particular na faixa de aproximadamente 50 nm a aproximadamente 700 nm, preferivelmente na faixa de aproximadamente 150 nm a aproximadamente 700 nm, particularmente preferido na faixa de aproximadamente 200 nm a aproximadamente 600 nm, é gerada no plasma.

3. Processo de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho é fornecida com um revestimento (100), que pode ser curado por uma radiação eletromagnética compreendendo pelo menos um componente de radiação UV.

4. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que a pressão na área de geração de plasma (104) é fixada em um valor de aproximadamente 100 Pa no máximo, preferivelmente aproximadamente 1 Pa no máximo, em particular aproximadamente 0,1 Pa no máximo.

5. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a área de geração de plasma (104) contém nitro- gênio e/ou um gás inerte, preferivelmente argônio, como um gás de processo.

6. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que a área de geração de plasma (104) contém um gás de processo, ao qual um aditivo, por exemplo, um metal e/ou um haleto de metal, foi adicionado.

7. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que o plasma é gerado pelo fornecimento de radiação de microonda, preferivelmente com uma freqüência na faixa de aproximadamente 1 GHz a aproximadamente 10 GHz, em particular na faixa de aproximadamente 2 GHz a aproximadamente 3 GHz.

8. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que a radiação eletromagnética é gerada por meio de magnetron (140).

9. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que um campo magnético é gerado pela geração de um efeito ECR.

10. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de que a radiação eletromagnética é fornecida dentro da área de geração de plasma (104) por meio de diversos dispositivos de fornecimento (132,132').

11. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) tem uma cavidade (152) com uma abertura de acesso (154), e cuja radiação eletromagnética é fornecida dentro da área de geração de plasma (104) por meio de pelo menos um dispositivo de fornecimento (132) de modo que a radiação eletromagnética passe através da abertura de acesso (154) para dentro da cavidade (152) da peça de trabalho (102).

12. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de que um gás a ser ionizado é alimentado para a área de geração de plasma (104) durante o processo de cura.

13. Processo de acordo com a reivindicação 12, caracterizado pelo fato de que o gás a ser ionizado seja alimentado para a área de geração de plasma (104) por meio de um dispositivo alimentador (144), que é adjacente a um dispositivo de fornecimento (132, 132'), por meio do qual uma radiação eletromagnética é fornecida para dentro da área de geração de plasma (104).

14. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 13, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é colocada dentro de uma antecâmara (160)e é transferida da antecâmara (160) para dentro da área de geração de plasma (104) para o processo de cura.

15. Processo de acordo com a reivindicação 14, caracterizado pelo fato de que a antecâmara (160) é evacuada após a peça de trabalho (102) ter sido colocada nela.

16. Processo de acordo com uma das reivindicações 14 ou 15, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é submetida a radiação eletromagnética, em particular radiação de microonda, na antecâmara (160).

17. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 16, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é transferida da área de geração de plasma (104) para dentro de uma câmara de descarga (162) após o processo de cura.

18. Processo de acordo com a reivindicação 17, caracterizado pelo fato de que antes da peça de trabalho (102) ser transferida para dentro da câmara de descarga (162), a câmara de descarga (162) é evacuada.

19. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 18, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) tem pelo menos uma região de rebaixo e/ou pelo menos uma sombreada.

20. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 19, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) compreende um material eletricamente condutor.

21. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 20, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) compreende um material metálico.

22. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 21, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) compreende um material plástico e/ou madeira.

23. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 22, caracterizado pelo fato de que a área de geração de plasma (104) contém nitrogênio, hélio e/ou argônio como gás de processo.

24. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 23, caracterizado pelo fato de que a área de geração de plasma (104) contém um gás de processo, a composição do qual varia durante o processo de cura.

25. Processo de acordo com a reivindicação 24, caracterizado pelo fato de que a composição do gás de processo varia tal que durante a primeira fase do processo de cura o centro de concentração da radiação eletromagnética gerada no plasma durante o processo de cura situa-se em um primeiro comprimento de onda e durante uma última, segunda fase do processo de cura, situa-se em um segundo comprimento de onda, o segundo comprimento de onda sendo diferente do primeiro comprimento de onda.

26. Processo de acordo com a reivindicação 25, caracterizado pelo fato de que o segundo comprimento de onda é menor do que o primeiro comprimento de onda.

27. Processo de acordo com uma das reivindicações 24 a 26, caracterizado pelo fato de que o gás de processo é variado tal que o centro de concentração da radiação eletromagnética gerada no plasma durante as variações do processo de cura para comprimentos de onda menores quando a duração da cura aumenta.

28. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 27, caracterizado pelo fato de que no tempo no qual o plasma é inflamado, a área de geração de plasma (104) contém argônio, preferivelmente essencialmente argônio apenas.

29. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 28, caracterizado pelo fato de que um ou mais gases e/ou uma mistura de gás são alimentados para a área de geração de plasma (104) por meio de um ou mais dispositivos alimentadores (144).

30. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 29, caracterizado pelo fato de que o plasma é gerado pelo fornecimento de radiação eletromagnética dentro da área de geração de plasma (104) por meio de diversos dispositivos de fornecimento (132, 132'), onde pelo menos dois dos dispositivos de fornecimento (132, 132') têm diferentes forças de fornecimento de um para o outro.

31. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 30, caracterizado pelo fato de que o plasma é gerado pelo fornecimento de radiação eletromagnética dentro das área de geração de plasma (104) por meio de diversos dispositivos de fornecimento (132, 132'), onde pelo menos dois dos dispositivos de fornecimento (132,132') diferem em desenho.

32. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 31, caracterizado pelo fato de que pelo menos um refletor (202) é fornecido na área de geração de plasma (104) para refletir a radiação eletromagnética gerada no plasma.

33. Processo de acordo com a reivindicação 32, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma película de espelho é fornecida como refletor (202) na área de geração de plasma (104).

34. Processo de acordo com a reivindicação 32 ou 33, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma sub-região das paredes limítrofes da área de geração de plasma (104) é configurada como um refletor (202).

35. Processo de acordo com uma das reivindicações 32 a 34, caracterizado pelo fato de que pelo menos um refletor (202) compreende alumínio e/ou aço inoxidável como material refletivo.

36. Processo de acordo com uma das reivindicações 32 a 35, caracterizado pelo fato de que pelo menos um refletor (202) pode ser removido da área de geração de plasma (104).

37. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 36, caracterizado pelo fato de que o gás é extraído da área de geração de plasma (104) por meio de um ou mais dispositivos de sucção (208).

38. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 37, caracterizado pelo fato de que a pressão na área de geração de plasma (104) é variada por meio de pelo menos um dispositivo de sucção (208) com uma válvula reguladora (200).

39. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 38, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é eletricamente separada das paredes limítrofes da área de geração de plasma (104) por meio de um cabo de insulação pelo menos parcialmente elétrica (212).

40. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 39, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é conectada a um diferente potencial elétrico do potencial elétrico das paredes limítrofes da área de geração de plasma (104).

41. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 40, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é conectada de uma maneira eletricamente condutiva às paredes limítrofes da área de geração de plasma (104) por meio de um cabo eletricamente condutivo.

42. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 41, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é conectada ao mesmo potencial elétrico como as paredes limítrofes da área de geração de plasma (104).

43. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 42, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é conectada ao potencial neutro.

44. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 43, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é fornecida com um revestimento (100), que pode ser curado por radiação eletromagnética, que compreende pelo menos um componente de radiação UV, ou por calor ou por uma combinação de radiação eletromagnética, que compreende pelo menos um componente de radiação UV, e calor.

45. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 44, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é submetida a uma radiação eletromagnética, que não é gerada no plasma, antes, durante e/ou após a geração do plasma.

46. Processo de acordo com a reivindicação 45, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é submetida à radiação de microonda e/ou à radiação de infravermelho, que não é gerada no plasma, antes, durante e/ou após a geração do plasma.

47. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 45, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) é seca antes, após e/ou durante a geração do plasma.

48. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 47, caracterizado pelo fato de que antes da geração do plasma, a peça de trabalho (102) é submetida a uma pressão situando-se abaixo da pressão atmosférica, preferivelmente em uma pressão na faixa de aproximadamente 2000 Pa a aproximadamente 50.000 Pa.

49. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 48, caracterizado pelo fato de que antes da geração do plasma, a peça de trabalho (102) é submetida a uma pressão situando-se abaixo da pressão atmosférica, que é maior do que a pressão à qual a peça de trabalho (102) é submetida durante a geração do plasma.

50. Processo de acordo com uma das reivindicações 1 a 49, caracterizado pelo fato de que um campo magnético é gerado na área de geração do plasma (104).

51. Processo de acordo com a reivindicação 50, caracterizado pelo fato de que a intensidade do campo magnético é variada durante o processo de cura.

52. Processo de acordo com a reivindicação 50 ou 51, caracterizado pelo fato de que o campo magnético é gerado na área de geração de plasma (104) apenas após o início do processo de cura.

53. Processo de acordo com uma das reivindicações 50 a 52, caracterizado pelo fato de que a intensidade do campo magnético varia espacialmente na área de geração de plasma (104).

54. Dispositivo para curar um revestimento (100) curável por radiação, sobre uma peça de trabalho (102), para realização do processo como definido na reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende uma área de geração de plasma (104), um dispositivo (170) para trazer a peça de trabalho (102) dentro da área de geração de plasma (104) e um dispositivo (132, 132', 136, 140) para gerar um plasma que gera a radiação eletromagnética, sendo que o dispositivo para gerar o plasma na área de geração de plasma (104) compreende pelo menos um dispositivo de fornecimento (132, 132') para o fornecimento de radiação eletromagnética dentro da área de geração do plasma (104) e dentro de uma cavidade (152) da peça de trabalho (102) disposta na área de geração de plasma (104).

55. Dispositivo de acordo com a reivindicação 54, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende um dispositivo (140) para geração de radiação eletromagnética.

56. Dispositivo de acordo com a reivindicação 54 ou 55, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende um dispositivo (138) para gerar um campo magnético dentro da área de geração de plasma (104).

57. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 56, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende diversos dispositivos de fornecimento (132, 132') para o fornecimento de radiação eletromagnética dentro da área de geração de plasma (104).

58. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 57, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende pelo menos um dispositivo alimentador para alimentar um gás a ser ionizado para a área de geração de plasma (104).

59. Dispositivo de acordo com a reivindicação 58, caracterizado pelo fato de que o dispositivo alimentador (144) é disposto adjacente a um dispositivo de fornecimento (132, 132'), por meio do qual uma radiação eletromagnética pode ser fornecida dentro da área de geração de plasma (104).

60. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 59, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende uma antecâ-mara (160) para receber a peça de trabalho (102) antes do processo de cura.

61. Dispositivo de acordo com a reivindicação 60, caracterizado pelo fato de que a antecâmara (160) pode ser evacuada.

62. Dispositivo de acordo com a reivindicação 60 ou 61, caracterizado pelo fato de que a antecâmara (160) é fornecida com um dispositivo (132,136, 140) para submeter a peça de trabalho (102) na antecâmara (16) a uma radiação eletromagnética, em particular a uma radiação de microonda.

63. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 60 a 62, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende um dispositivo de transporte (170), preferivelmente um transportador de cilindro, para transportar a peça de trabalho (102) da antecâmara (160) para dentro da área de geração de plasma (104).

64. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 63, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende uma câmara de descarga (162) para receber a peça de trabalho (122) após o processo de cura.

65. Dispositivo de acordo com a reivindicação 64, caracterizado pelo fato de que a câmara de descarga (162) pode ser evacuada.

66. Dispositivo de acordo com a reivindicação 64 a 65, caracterizado pelo fato de que o dispositivo (122) compreende um dispositivo de transporte (170), preferivelmente um transportador de cilindro, para transportar a peça de trabalho (102) para fora da área de geração de plasma (104) para dentro da câmara de descarga (162).

67. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 66, caracterizado pelo fato de que o dispositivo é configurado para curar um revestimento (100) sobre uma peça de trabalho não plana (102).

68. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 67, caracterizado pelo fato de que o dispositivo é configurado para curar um revestimento (100) sobre uma peça de trabalho (102), que tem pelo menos uma região de rebaixo e/ou pelo menos uma sombreada.

69. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 68, caracterizado pelo fato de que o dispositivo é configurado para curar um re- vestimento (100) sobre uma peça de trabalho (102), que compreende um material eletricamente condutivo.

70. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 69, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um ou mais dispositivos alimentadores (144) por meio do qual um ou mais gases e/ou uma mistura de gás pode ser alimentada para a área de geração de plasma (104).

71. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 70, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende diversos dispositivos de fornecimento (132, 132') para a geração do plasma pelo fornecimento de radiação eletromagnética para dentro da área de geração de plasma (104), onde pelo menos dois dos dispositivos de fornecimento (132, 132') têm diferentes forças de fornecimento de um para o outro.

72. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 71, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende diversos dispositivos de fornecimento (132,132') para a geração do plasma pelo fornecimento de radiação eletromagnética dentro da área de geração de plasma (104), onde pelo menos dois dos dispositivos de fornecimento (132, 132') diferem em desenho.

73. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 72, caracterizado pelo fato de que pelo menos um refletor (202) é fornecido na área de geração de plasma (104) para refletir a radiação eletromagnética gerada no plasma.

74. Dispositivo de acordo com a reivindicação 73, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma película de espelho é fornecida como refletor (202) na área de geração de plasma (104).

75. Dispositivo de acordo com a reivindicação 73 ou 74, caracterizado pelo fato de que pelo menos uma sub-região das paredes limítrofes da área de geração de plasma (104) é configurada como um refletor (202).

76. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 73 a 75, caracterizado pelo fato de que o pelo menos um refletor (202) compreende alumínio e/ou aço inoxidável como o material refletivo.

77. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 73 a 76, caracterizado pelo fato de que o pelo menos um refletor (202) pode ser removido da área de geração de plasma (104).

78. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 77, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um ou mais dispositivos de sucção (208) para extrair o gás das área de geração de plasma (104).

79. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 78, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende pelo menos um dispositivo de sucção (208) com pelo menos uma válvula reguladora (200) para variar a pressão na área de geração de plasma (104).

80. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 79, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um cabo de insula-ção pelo menos parcialmente elétrico (212), por meio do qual a peça de trabalho (102) é eletricamente separada das paredes limítrofes da área de geração de plasma (104).

81. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 81, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) pode ser conectada a um potencial elétrico diferente do potencial elétrico das paredes limítrofes da área de geração de plasma (104).

82. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 81, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um cabo eletricamente condutivo (212), por meio do qual a peça de trabalho (102) é conectada de uma maneira eletricamente condutiva às paredes limítrofes da área de geração de plasma (104).

83. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 82, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) pode ser conectada ao mesmo potencial elétrico como as paredes limítrofes da área de geração de plasma (104).

84. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 83, caracterizado pelo fato de que a peça de trabalho (102) pode ser conectada ao potencial neutro.

85. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 84, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um dispositivo para secar a peça de trabalho (102) antes, após e/ou durante a geração do plasma.

86. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 85, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um dispositivo para submeter a peça de trabalho (102) a uma pressão situando-se abaixo da pressão atmosférica, preferivelmente em uma pressão na faixa de aproximadamente 2000 Pa a aproximadamente 50.000 Pa, antes da geração do plasma.

87. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 86, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um dispositivo para submeter a peça de trabalho (102), antes da geração do plasma, a uma pressão situando-se abaixo da pressão atmosférica, que é maior do que a pressão, à qual a peça de trabalho (102) é submetida durante a geração do plasma.

88. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 54 a 87, caracterizado pelo fato de que o dispositivo compreende um dispositivo para gerar um campo magnético na área de geração de plasma (104).

89. Dispositivo de acordo com a reivindicação 88, caracterizado pelo fato de que a intensidade do campo magnético gerada pelo dispositivo para gerar o campo magnético pode ser variada durante o processo de cura.

90. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 88 ou 89, caracterizado pelo fato de que a geração do campo magnético na área de geração de plasma (104) pode ser retardada em relação ao início do processo de cura.

91. Dispositivo de acordo com uma das reivindicações 88 a 90, caracterizado pelo fato de que a intensidade do campo magnético gerado pelo dispositivo para geração de um campo magnético na área de geração de plasma (104) é espacialmente variável.