WO2023153373A1

WO2023153373A1 - 電磁波偏向装置及び電磁波走査装置

Info

Publication number: WO2023153373A1
Application number: PCT/JP2023/003853
Authority: WO
Inventors: 浩希岡田
Original assignee: 京セラ株式会社
Priority date: 2022-02-10
Filing date: 2023-02-06
Publication date: 2023-08-17

Abstract

電磁波偏向装置は、電磁波を反射するミラーと、ミラーを収容し、開口を有する筐体と、開口に設けられる透過部材とを備える。透過部材は、電磁波の少なくとも一部を透過するように構成される。筐体は、開口の反対側に位置する底面を有する。ミラーは、底面に対して傾斜して筐体に収容されている。

Description

電磁波偏向装置及び電磁波走査装置

関連出願へのクロスリファレンス

　本出願は、日本国特許出願２０２２－１９７６０号（２０２２年２月１０日出願）の優先権を主張するものであり、当該出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。

　本開示は、電磁波偏向装置及び電磁波走査装置に関する。

　ＭＥＭＳミラーに対して傾斜した透過部材を有することによってノイズを抑制するミラーユニットが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０２０－１２２９６１号公報

　本開示の一実施形態に係る電磁波偏向装置は、電磁波を反射するミラーと、前記ミラーを収容し、開口を有する筐体と、前記開口に設けられる透過部材とを備える。前記透過部材は、電磁波の少なくとも一部を透過するように構成される。前記筐体は、前記開口の反対側に位置する底面を有する。前記ミラーは、前記底面に対して傾斜して前記筐体に収容されている。

　本開示の一実施形態に係る電磁波走査装置は、前記電磁波偏向装置と、前記透過部材に対して所定の角度で電磁波を入射させる照射部とを備える。

本開示の一実施形態に係る電磁波偏向装置の構成例を示す平面図である。図１のＡ－Ａ断面図である。ミラーが第１軸の周りで回転して傾斜したときの電磁波の進行方向の一例を示す断面図である。ミラーが第１軸及び第２軸それぞれの軸の周りで回転して傾斜したときの電磁波の進行方向の一例を示す断面図である。透過部材３０が表面に凸部を有する構成例を示す断面図である。図５の構成例においてミラーが第１軸の周りで回転して傾斜したときの電磁波の進行方向の一例を示す断面図である。

　ＭＥＭＳミラーを載置した筐体を傾斜した透過部材で封止する場合、封止性能の確保が難しくなる。ノイズの低減と封止性能の確保とを両方とも実現することが求められる。本開示の一実施形態に係る電磁波偏向装置及び電磁波走査装置によれば、ノイズの低減と封止性能の確保とが両方とも実現され得る。

（電磁波偏向装置１の構成例）
　図１及び図２に示されるように、一実施形態に係る電磁波偏向装置１は、筐体１０と、反射装置２０と、透過部材３０とを備える。筐体１０は、反射装置２０を内部に収容する。透過部材３０は、反射装置２０が筐体１０の内部に収容された状態で筐体１０に接合される。筐体１０と透過部材３０とが接合されることによって、反射装置２０が内部に封止される。反射装置２０は、透過部材３０を通して外から入射する電磁波を反射して透過部材３０を通して外へ射出するように構成される。

　筐体１０は、側壁１２と、載置部１４と、底面１６とを備える。側壁１２は、筐体１０の周囲を囲むように位置する。筐体１０は、側壁１２の上端１２Ａで透過部材３０と接合される。側壁１２は、透過部材３０が上端１２Ａに接合される際に、透過部材３０の姿勢が略水平もしくは水平になるように構成される。具体的に、側壁１２の各部における上端１２Ａの高さの差が小さくなるように構成されてよい。筐体１０は、側壁１２の上端１２Ａで囲まれて形成されている開口を備えるともいえる。透過部材３０は、筐体１０の開口に設けられるともいえる。

　載置部１４は、反射装置２０を載置できるように構成される。載置部１４は、図１において４か所で反射装置２０を支持するように構成されている。載置部１４によって反射装置２０を支持する部分の数は、３か所以下であってもよいし５か所以上であってもよい。載置部１４は、図１において反射装置２０の角の部分を支持するように構成されているが、反射装置２０の辺の部分を支持するように構成されてもよいし反射装置２０の裏面の少なくとも一部を支持するように構成されてもよい。

　電磁波偏向装置１において、底面１６は、透過部材３０の反対側の面に対応する。言い換えれば、底面１６は、透過部材３０が接合する側（開口）の反対側に位置する面に対応する。底面１６は、電磁波偏向装置１の使用時において鉛直方向（重力が作用する方向）を向いてもよいし鉛直方向以外の方向を向いてもよい。底面１６は、筐体１０に透過部材３０を接合する際に鉛直方向を向くとする。透過部材３０は、筐体１０の底面１６が作業台等に接触する状態で、筐体１０の側壁１２の上端１２Ａに接合される。結果として、透過部材３０は、底面１６に対して略平行もしくは平行に位置するように接合される。底面１６は、ＸＹ平面に沿っているとする。言い換えれば、底面１６の法線はＺ軸に沿っているとする。また、透過部材３０の表面３０Ａの法線はＺ軸に沿っているとする。

　透過部材３０は、反射装置２０に入射する電磁波と、反射装置２０で反射した電磁波とを透過するように構成される。透過部材３０は、ガラス又は樹脂等を含んで構成されてよい。透過部材３０は、反射装置２０を封止している空間の外側を向く表面３０Ａを有する。透過部材３０は、筐体１０と接合することによって反射装置２０を封止するともいえる。

　反射装置２０は、電磁波を反射するミラー２２と、ミラー２２を保持する基板２４とを備える。ミラー２２は、基板２４に対して傾斜可能に構成される。反射装置２０は、ミラー２２を傾斜させる駆動部２６を更に備えてよい。つまり、反射装置２０は、ミラー２２の姿勢を制御可能に構成される。ミラー２２は、金属、半導体又は樹脂等を含んで構成されてよい。基板２４は、樹脂、セラミック、半導体又は金属等を含んで構成されてよい。駆動部２６は、圧電素子又はモータ等のアクチュエータを含んで構成されてよい。ミラー２２及び駆動部２６は、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）技術に基づく製造プロセスによって基板２４の上に形成されてもよい。

　ミラー２２は、図３に例示されるように、紙面に垂直な方向に延びる軸（Ｙ軸に沿って延びる軸）の周りで基板２４に対して傾斜可能に構成されてよい。紙面に垂直な方向に延びる軸（Ｙ軸に沿って延びる軸）は、第１軸とも称される。第１軸は、基板２４に沿う方向に延びているともいえる。ミラー２２は、第１軸の周りで傾斜可能に構成されてよい。ミラー２２Ａは、ミラー２２が第１軸の周りで反時計回りの方向に最大の角度で回転して傾斜した状態を表す。ミラー２２Ｂは、ミラー２２が第１軸の周りで時計回りの方向に最大の角度で回転して傾斜した状態を表す。

　反射装置２０に入射する電磁波は、入射電磁波４０とも称される。反射装置２０で反射された電磁波は、反射電磁波５０とも称される。反射電磁波５０は、ミラー２２がミラー２２Ａとして表されるように反時計回りの方向に最大に傾斜している場合、反射電磁波５０Ａとして表される方向に進行する。反射電磁波５０は、ミラー２２がミラー２２Ｂとして表されるように時計回りの方向に最大に傾斜している場合、反射電磁波５０Ｂとして表される方向に進行する。ミラー２２がミラー２２Ａとして表される状態とミラー２２Ｂとして表される状態との間の状態で傾斜する場合、反射電磁波５０は、反射電磁波５０Ａの方向と反射電磁波５０Ｂの方向との間に含まれる方向に進行する。つまり、反射電磁波５０は、ミラー２２の傾斜角度の変化によって、反射電磁波５０Ａの方向と反射電磁波５０Ｂの方向との間で走査される。反射電磁波５０が走査される範囲は、走査範囲５２とも称される。ミラー２２が１つの軸の周りで傾斜する場合、反射電磁波５０は、線状に（１次元に）走査される。つまり、走査範囲５２が線状の範囲として表される。

　入射電磁波４０の少なくとも一部は、透過部材３０を透過して反射装置２０に入射する。一方で、入射電磁波４０の一部は、透過部材３０の表面３０Ａで反射される。透過部材３０の表面３０Ａで反射された電磁波は、反射電磁波５０の走査方向にかかわらず一定の方向に進行する。透過部材３０の表面３０Ａで反射された電磁波は、反射波とも称される。また、透過部材３０の表面３０Ａで反射された電磁波は、走査範囲５２の中における反射電磁波５０の走査にとって不要な電磁波であり、ノイズ電磁波６０とも称される。

　反射装置２０は、１周期の走査の間に走査範囲５２に含まれる各部分に到達する反射電磁波５０の強度が均一になるように（各部分に到達した電磁波の強度の積分値の差が小さくなるように）、ミラー２２の傾斜を制御する。仮に、ノイズ電磁波６０が走査範囲５２の中に進行する場合、ノイズ電磁波６０が進行した部分だけ電磁波の強度の積分値が大きくなる。

　本実施形態に係る電磁波偏向装置１は、ノイズ電磁波６０（反射波）が走査範囲５２の外に進行するように構成される。具体的に、反射装置２０の基板２４が筐体１０の底面１６に対してミラー２２が傾斜するときの軸となる第１軸に沿う方向の軸の周りで傾斜するように載置部１４に載置されてよい。言い換えれば、ミラー２２は、底面１６に対して傾斜して筐体１０に収容されてよい。図３の例においてミラー２２が傾斜するときの軸となる第１軸に沿う方向の軸は、紙面に垂直な方向に延びる軸（Ｙ軸に沿って延びる軸）に対応する。基板２４が底面１６に対して傾斜することで、電磁波偏向装置１は、透過部材３０の表面３０Ａによって定まっているノイズ電磁波６０の進行方向が走査範囲５２の外になるように、走査範囲５２を移動させることができる。その結果、走査範囲５２の中で電磁波を走査するときのノイズが低減され得る。基板２４が底面１６に対して傾斜することで、ミラー２２は、電磁波の反射面が透過部材３０と平行にならないように姿勢を制御可能に構成されているともいえる。

　反射装置２０の基板２４は、筐体１０の底面１６に対してミラー２２が傾斜するときの軸となる第１軸に沿う方向の軸の周りで所定角度より大きい角度で回転して傾斜するように載置部１４に載置されてよい。基板２４を傾斜させる方向は、軸に対して時計回りでもよいし反時計回りでもよい。

　所定角度は、ミラー２２が傾斜する角度に基づいて定まる。ミラー２２は、基板２４と略平行もしくは平行である状態を基準姿勢として、軸に対して時計回り及び反時計回りそれぞれへ最大傾斜角度まで傾斜する。時計回りの最大傾斜角度と反時計回りの最大傾斜角度とは等しいとする。この場合、所定角度は、最大傾斜角度の２倍の角度に設定されてよい。なぜならば、ミラー２２が基準姿勢のときの反射電磁波５０の進行方向とミラー２２が傾斜したときの反射電磁波５０の進行方向との間の角度は、ミラー２２の傾斜角度の２倍になるからである。

　ミラー２２の最大傾斜角度が時計回り及び反時計回りそれぞれで異なる場合、所定角度は、傾斜の方向ごとに異なる値に設定されてよい。反射装置２０の基板２４を時計回りに傾斜させる場合の所定角度は、ミラー２２の時計回りの最大傾斜角度の２倍の角度に設定されてよい。反射装置２０の基板２４を反時計回りに傾斜させる場合の所定角度は、ミラー２２の反時計回りの最大傾斜角度の２倍の角度に設定されてよい。

　反射装置２０の基板２４は、ミラー２２が傾斜するときの軸である第１軸に交差する方向に沿った軸の周りで傾斜するように載置部１４に載置されてよい。つまり、基板２４は、電磁波を走査しない方向の軸の周りで傾斜してよい。このようにすることでも、電磁波偏向装置１は、透過部材３０の表面３０Ａによって定まっているノイズ電磁波６０の進行方向が走査範囲５２の外になるように、走査範囲５２を移動させることができる。基板２４は、電磁波を走査する方向の軸（第１軸に沿った軸）、及び、電磁波を走査しない方向の軸の両方の軸の周りで傾斜するように載置部１４に載置されてもよいし、いずれか一方の軸の周りだけで傾斜するように載置部１４に載置されてもよい。

　以上述べてきたように、実施形態に係る電磁波偏向装置１は、反射装置２０を傾斜させることによってノイズ電磁波６０の進行方向を走査範囲５２の外にできる。その結果、ノイズが低減され得る。

　比較例として、ノイズ電磁波６０の進行方向を走査範囲５２の外にするために、筐体１０の底面１６に対して透過部材３０を傾斜させる構成が考えられる。透過部材３０を筐体１０の底面１６に対して傾斜させる場合、透過部材３０を筐体１０に接合する際に、筐体１０の上に透過部材３０を傾斜した状態で置く必要がある。透過部材３０と筐体１０との接合工程における種々の条件は、透過部材３０と筐体１０とによる封止性能を確保できるように、筐体１０の上に透過部材３０を略水平に置いた状態で接合することを前提として決定されている。したがって、筐体１０の上に透過部材３０を傾斜させて置いた状態での接合によって、透過部材３０と筐体１０とによる封止性能が低下し得る。仮に、封止性能を確保するために接合工程における種々の条件を透過部材３０の傾斜に合わせて決定しなおす場合、条件を決定しなおす作業負荷が増大し得る。また、透過部材３０の傾斜角度を変更するたびに条件を決定しなおす必要が生じ、さらに作業負荷が増大し得る。

　これに対して、本実施形態に係る電磁波偏向装置１は、筐体１０の内部で反射装置２０の基板２４を底面１６に対して傾斜させることによって、透過部材３０を傾斜させずにノイズ電磁波６０を走査範囲５２の外に進行させることができる。このようにすることで、透過部材３０を筐体１０に接合する工程に影響を与えずにノイズを低減させることができる。その結果、ノイズの低減と封止性能の確保とが両方とも実現され得る。尚、電磁波偏向装置１は、走査範囲５２が距離的に有限である場合、その距離を超えた領域（走査範囲５２の延長上であって走査範囲５２の外）にノイズ電磁波６０が進行するように構成されることでも本実施形態と同等の効果を享受することができる。

（他の実施形態）
　以下、他の実施形態が説明される。

＜電磁波走査装置＞
　入射電磁波４０は、図３に示されるように光源７０から射出されてよい。光源７０は、透過部材３０に対して所定の角度で電磁波を入射させる。光源７０は、照射部とも称される。照射部と電磁波偏向装置１とを備える構成は、電磁波走査装置とも称される。電磁波走査装置は、ミラー２２で反射した電磁波で所定の範囲を走査するようにミラー２２の姿勢を制御する制御部を備えてよい。制御部は、ミラー２２の電磁波の反射面が透過部材３０と平行にならない範囲でミラー２２の姿勢を制御してよい。

　電磁波偏向装置１又は電磁波走査装置は、反射電磁波５０を所定の物体に向けて進行させる。反射電磁波５０は、所定の物体において反射されたり散乱されたりして別に設けられる電磁波検出装置によって検出される。所定の物体は、検出対象とも称される。電磁波検出装置は、検出対象で反射されたり散乱されたりした電磁波の検出結果に基づいて、例えば、検出対象の画像を取得したり検出対象から電磁波検出装置までの距離データを取得したりする。電磁波検出装置は、電磁波偏向装置１による電磁波の走査の周期に合わせて検出対象からの電磁波を検出してもよい。つまり、電磁波偏向装置１は、電磁波検出装置による電磁波の検出のタイミングに同期させるように電磁波を走査してよい。電磁波偏向装置１は、電磁波検出装置による電磁波の検出のタイミングにかかわらず所定の周期で電磁波を走査してもよい。

＜ミラー２２が２軸それぞれの周りで傾斜する構成例＞
　図３の例において、ミラー２２は、Ｙ軸に沿って延びる軸の周りで傾斜可能に構成されていた。ミラー２２は、図４に例示されるように、Ｘ軸に沿って延びる軸の周りでも傾斜可能に構成されてよい。つまり、ミラー２２は、２本の軸それぞれの周りで傾斜可能に構成されてよい。言い換えれば、ミラー２２は、第１軸の周りで傾斜可能に構成されるだけでなく、第１軸に交差する第２軸の周りでも傾斜可能に構成されてよい。第１軸及び第２軸は、基板２４に沿う方向に延びているともいえる。ミラー２２が２本の軸それぞれの周りで傾斜可能に構成されることによって、反射電磁波５０は、面状に（２次元に）走査される。つまり、走査範囲５２が面状の範囲として表される。

　反射装置２０の基板２４は、第１軸の周りで所定角度より大きい角度で回転して傾斜するように載置部１４に載置されてよいし、第２軸の周りで所定角度より大きい角度で回転して傾斜するように載置部１４に載置されてよい。

　所定角度は、ミラー２２が傾斜する角度に基づいて定まる。第１軸の周りでミラー２２が回転するときの最大傾斜角度は、第１最大傾斜角度とも称される。第２軸の周りでミラー２２が回転するときの最大傾斜角度は、第２最大傾斜角度とも称される。

　第２最大傾斜角度が第１最大傾斜角度よりも大きい場合、反射装置２０の基板２４は、第１軸の周りで筐体１０の底面１６に対して第１最大傾斜角度の２倍より大きい角度で傾斜するように載置部１４に載置されてよい。このようにすることで、ノイズ電磁波６０が走査範囲５２の外になり得る。

　第２最大傾斜角度が第１最大傾斜角度よりも小さい場合、反射装置２０の基板２４は、第２軸の周りで筐体１０の底面１６に対して第２最大傾斜角度の２倍より大きい角度で傾斜するように載置部１４に載置されてよい。このようにすることで、ノイズ電磁波６０が走査範囲５２の外になり得る。

　第１最大傾斜角度と第２最大傾斜角度とが等しい場合、反射装置２０の基板２４は、第１軸及び第２軸の少なくとも一方の軸の周りで筐体１０の底面１６に対して第１最大傾斜角度（又は第２最大傾斜角度）の２倍より大きい角度で傾斜するように載置部１４に載置されてよい。このようにすることで、ノイズ電磁波６０が走査範囲５２の外になり得る。

　反射装置２０の基板２４は、第１軸及び第２軸のいずれか一方の軸の周りだけで筐体１０の底面１６に対して傾斜してもよいし、第１軸及び第２軸の両方の軸の周りで筐体１０の底面１６に対して傾斜してもよい。

＜透過部材３０の表面３０Ａの形状＞
　電磁波偏向装置１は、透過部材３０の形状によって、ノイズ電磁波６０の進行方向を走査範囲５２の外にするように構成されてもよい。この場合、反射装置２０の基板２４は、筐体１０の底面１６に対して傾斜していなくてもよく、略平行であってよい。

　透過部材３０は、図５に例示されるように、表面３０Ａに凸部３２を有してよい。反射装置２０の基板２４は、筐体１０の底面１６に対して平行であるとする。他の構成は、図１及び図２に示されている構成と同一であるとする。

　図６に示されるように、透過部材３０が表面３０Ａの入射電磁波４０が入射する部分に凸部３２を有する場合、光源７０からの入射電磁波４０の少なくとも一部は、凸部３２を通って透過部材３０に入射する。凸部３２から入射して反射装置２０に到達した入射電磁波４０は、反射装置２０で反射される。反射電磁波５０は、ミラー２２がミラー２２Ａとして表されるように反時計回りの方向に最大に傾斜している場合、反射電磁波５０Ａとして表される方向に進行する。反射電磁波５０は、ミラー２２がミラー２２Ｂとして表されるように時計回りの方向に最大に傾斜している場合、反射電磁波５０Ｂとして表される方向に進行する。ミラー２２がミラー２２Ａとして表される状態とミラー２２Ｂとして表される状態との間の状態で傾斜する場合、反射電磁波５０は、反射電磁波５０Ａの方向と反射電磁波５０Ｂの方向との間に含まれる方向に進行する。つまり、反射電磁波５０は、ミラー２２の傾斜角度の変化によって、反射電磁波５０Ａの方向と反射電磁波５０Ｂの方向との間の走査範囲５２の中で走査される。

　入射電磁波４０の一部は、凸部３２の表面で反射してノイズ電磁波６０になる。電磁波偏向装置１は、凸部３２を備えることによって、ノイズ電磁波６０の進行方向を走査範囲５２の外にできる。仮に、凸部３２が存在せずに透過部材３０の表面３０Ａが平坦である場合、平坦な表面３０Ａで反射された入射電磁波４０は、仮定のノイズ電磁波６２として進行する。仮定のノイズ電磁波６２の進行方向は、走査範囲５２の中になり得る。したがって、凸部３２がノイズ電磁波６０を走査範囲５２の外に進行させるといえる。

　透過部材３０は、表面３０Ａの入射電磁波４０が入射する部分に凹部を有してもよい。また、透過部材３０は、表面３０Ａの入射電磁波４０が入射する部分に傾斜面を有してもよい。透過部材３０が表面３０Ａの入射電磁波４０が入射する部分に凹部又は傾斜面を有する場合でも、入射電磁波４０が入射するノイズ電磁波６０の進行方向は、走査範囲５２の外になり得る。

　本開示に係る実施形態について説明する図は模式的なものである。図面上の寸法比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。

　本開示に係る実施形態について、諸図面及び実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は改変を行うことが可能であることに注意されたい。従って、これらの変形又は改変は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。例えば、各構成部などに含まれる機能などは論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の構成部などを１つに組み合わせたり、或いは分割したりすることが可能である。本開示の範囲にはこれらも包含されるものと理解されたい。

　本開示において「第１」及び「第２」等の記載は、当該構成を区別するための識別子である。本開示における「第１」及び「第２」等の記載で区別された構成は、当該構成における番号を交換することができる。例えば、第１軸は、第２軸と識別子である「第１」と「第２」とを交換することができる。識別子の交換は同時に行われる。識別子の交換後も当該構成は区別される。識別子は削除してよい。識別子を削除した構成は、符号で区別される。本開示における「第１」及び「第２」等の識別子の記載のみに基づいて、当該構成の順序の解釈、小さい番号の識別子が存在することの根拠に利用してはならない。

　本開示において、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸は、説明の便宜上設けられたものであり、互いに入れ替えられてよい。本開示に係る構成は、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸によって構成される直交座標系を用いて説明されてきた。本開示に係る各構成の位置関係は、直交関係にあると限定されるものではない。

　１　電磁波偏向装置
　１０　筐体（１２：側壁、１２Ａ：側壁の上端、１４：載置部、１６：底面）
　２０　反射装置（２２、２２Ａ、２２Ｂ：ミラー、２４：基板、２６：駆動部）
　３０　透過部材（３０Ａ：表面、３２：凸部）
　４０　入射電磁波
　５０、５０Ａ、５０Ｂ　反射電磁波
　５２　走査範囲
　６０　ノイズ電磁波
　６２　仮定のノイズ電磁波
　７０　光源

Claims

　電磁波を反射するミラーと、
　前記ミラーを収容し、開口を有する筐体と、
　前記開口に設けられる透過部材と
を備え、
　前記透過部材は、電磁波の少なくとも一部を透過するように構成され、
　前記筐体は、前記開口の反対側に位置する底面を有し、
　前記ミラーは、前記底面に対して傾斜して前記筐体に収容されている、電磁波偏向装置。
　前記ミラーは、反射した電磁波で所定の範囲を走査するように姿勢を制御可能に構成され、入射した電磁波の前記透過部材の表面での反射波が前記所定の範囲の外に進行するように前記筐体に収容されている、請求項１に記載の電磁波偏向装置。
　前記ミラーは、電磁波の反射面が前記透過部材と平行にならないように姿勢を制御可能に構成されている、請求項１又は２に記載の電磁波偏向装置。
　前記透過部材は、前記筐体の底面に対して略平行もしくは平行で前記筐体に接合されている、請求項１から３までのいずれか一項に記載の電磁波偏向装置。
　前記ミラーを保持する基板と、前記基板を載置する載置部とを備え、
　前記基板は、前記底面に対して傾斜して前記載置部に載置されている、請求項１から４までのいずれか一項に記載の電磁波偏向装置。
　前記ミラーは、前記基板に沿って延びる第１軸の周りで傾斜可能に構成され、
　前記基板は、前記ミラーが前記第１軸の周りで傾斜したときの前記透過部材の表面に対する傾斜角度の最大値である第１最大傾斜角度の２倍より大きい角度で前記底面に対して前記第１軸の周りに傾斜して前記載置部に載置されている、請求項５に記載の電磁波偏向装置。
　前記ミラーは、さらに、前記第１軸に交差し、かつ、前記基板に沿って延びる第２軸の周りで傾斜可能に構成され、
　前記ミラーが前記第２軸の周りで傾斜したときの前記透過部材の表面に対する傾斜角度の最大値である第２最大傾斜角度が前記第１最大傾斜角度よりも大きい場合、前記基板は、前記第１軸の周りで前記底面に対して前記第１最大傾斜角度の２倍より大きい角度で傾斜するように前記載置部に載置され、
　前記第２最大傾斜角度が前記第１最大傾斜角度よりも小さい場合、前記基板は、前記第２軸の周りで前記底面に対して前記第２最大傾斜角度の２倍より大きい角度で傾斜するように前記載置部に載置され、
　前記第１最大傾斜角度と前記第２最大傾斜角度とが等しい場合、前記基板は、前記第１軸及び第２軸の少なくとも一方の軸の周りで前記底面に対して前記第１最大傾斜角度の２倍より大きい角度で傾斜するように前記載置部に載置される、請求項６に記載の電磁波偏向装置。
　前記ミラーは、前記基板に沿って延びる第１軸の周りで傾斜可能に構成され、
　前記基板は、前記第１軸に交差する方向に沿った軸の周りに傾斜している、請求項５から７までのいずれか一項に記載の電磁波偏向装置。
　請求項１から８までのいずれか一項に記載の電磁波偏向装置と、
　前記透過部材に対して所定の角度で電磁波を入射させる照射部と
を備える、電磁波走査装置。
　前記ミラーで反射した電磁波で所定の範囲を走査するように前記ミラーの姿勢を制御する制御部を更に備え、
　前記ミラーは、入射した電磁波の前記透過部材の表面での反射波が前記所定の範囲の外に進行するように前記筐体に収容されている、請求項９に記載の電磁波走査装置。
　前記制御部は、前記ミラーの電磁波の反射面が、前記透過部材と平行にならない範囲で、前記ミラーの姿勢を制御する、請求項１０に記載の電磁波走査装置。