WO2023120292A1 - 光スルホンアミド合成反応 - Google Patents

光スルホンアミド合成反応 Download PDF

Info

Publication number
WO2023120292A1
WO2023120292A1 PCT/JP2022/045786 JP2022045786W WO2023120292A1 WO 2023120292 A1 WO2023120292 A1 WO 2023120292A1 JP 2022045786 W JP2022045786 W JP 2022045786W WO 2023120292 A1 WO2023120292 A1 WO 2023120292A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
general formula
producing
compound
light irradiation
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/045786
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
英哉 湯浅
功吏 金森
智大 遊部
Original Assignee
国立大学法人東京工業大学
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 国立大学法人東京工業大学 filed Critical 国立大学法人東京工業大学
Publication of WO2023120292A1 publication Critical patent/WO2023120292A1/ja

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
    • C07C205/06—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton having nitro groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/01—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/02—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C311/08—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/02—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols
    • C07C319/12—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols by reactions not involving the formation of mercapto groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/33—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C323/35—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group
    • C07C323/36—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group the sulfur atom of the sulfide group being further bound to an acyclic carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/64—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/67—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton containing sulfur atoms of sulfonamide groups, bound to the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H15/20—Carbocyclic rings
    • C07H15/203—Monocyclic carbocyclic rings other than cyclohexane rings; Bicyclic carbocyclic ring systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G75/30—Polysulfonamides; Polysulfonimides

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a sulfonamide derivative, a modifier for a thiol group, a method for producing a biomolecule chip, a method for modifying a protein, and a method for producing a polysulfonamide derivative.
  • Sulfonamides form the backbone of many pharmaceuticals and are characterized by their stability and biocompatibility (S. Mondal, S. Malakar, Tetrahedron 2020, 76, 131662).
  • sulfonamides are mostly synthesized from amino groups and sulfonic acid halides or their analogues, but synthetic methods using compounds with thiol groups (Non-Patent Document 1) and compounds with nitro groups are used.
  • a synthetic method (Non-Patent Document 2) is also known.
  • Non-Patent Document 1 is a method of reacting RSH and H 2 NR' in the presence of an oxidizing agent
  • the synthesis method of Non-Patent Document 2 is a method of reacting RNO 2 and NaO 2 SR' in the presence of a reducing agent. is a method of reacting
  • the photo-click reaction is expected to bind biomolecules and physiologically active molecules only to the light-irradiated part, so there are great expectations in the field of bio-nanotechnology (B. D. Fairbanks, et al. Chem. Rev. 2021, 121, 6915).
  • B. D. Fairbanks, et al. Chem. Rev. 2021, 121, 6915 there has been no report of a photoclick reaction forming a sulfonamide bond, which is known to be stable and highly biocompatible.
  • a thiol-ene reaction is known as a photo-click reaction for thiols (M. Ahangarpour, et al. Chem. Soc. Rev. 2021, 50, 898). It is necessary to use it, and there may be cases where it is difficult to apply it depending on the target biomolecule.
  • the present invention was made against this background, and aims to provide a novel means of synthesizing sulfonamides by a photoclick reaction.
  • a sulfonamide can be synthesized from a compound having a nitro group and a compound having a thiol group by a photo-click reaction. completed.
  • a synthesis method using a compound having a thiol group Non-Patent Document 1
  • a synthesis method using a compound having a nitro group Non-Patent Document 2
  • no method for synthesizing sulfonamides from has been reported.
  • the present invention provides the following [1] to [15].
  • a method for producing a sulfonamide derivative comprising the step of reacting a compound having a nitro group and a compound having a thiol group under light irradiation to produce a sulfonamide derivative.
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 are each independently a hydrogen atom, a straight or branched chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a straight chain having 1 to 3 carbon atoms, It represents a chain or branched chain alkylthio group, a straight or branched chain alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a group derived from a sugar, a group derived from a peptide, or a group derived from a nucleic acid.
  • the wavelength of the light to be irradiated is 200 to 600 nm, the light irradiation time is 1 to 48 hours, and the light irradiation intensity is 1 to 500 mW/cm 2 [1] to [ 3]
  • a modifier for binding a modifier to a thiol group which has the following general formula (I) [Wherein, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a group derived from a modifier (provided that X 1 , X 2 , X 3 , At least one of X4 and X5 represents a group derived from a modifier.).
  • a thiol group modifier comprising a compound represented by:
  • a method for producing a biomolecule chip comprising the following steps (1) to (3): (1)
  • a substrate having a thiol group on its surface is represented by the following general formula (I) [Wherein, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a group derived from a biomolecule (provided that X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a group derived from a biomolecule).
  • the step of contacting with a compound represented by (2) A step of irradiating light onto a site on the substrate where the biomolecule is to be immobilized to bond the compound represented by the general formula (I) to the thiol group on the substrate surface; (3) A step of removing the compound represented by general formula (I) that has not bonded to the thiol group on the substrate surface.
  • the wavelength of the light to be irradiated is 200 to 600 nm, the light irradiation time is 1 to 48 hours, and the light irradiation intensity is 1 to 500 mW/cm 2 [7] or [ 8].
  • a method for modifying a protein by binding a modifier to a protein containing a cysteine residue comprising the following steps (1) and (2): (1) protein represented by the following general formula (I) [Wherein, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a group derived from a modifier (provided that X 1 , X 2 , X 3 , At least one of X4 and X5 represents a group derived from a modifier.). ]
  • the step of contacting with a compound represented by (2) A step of irradiating the protein and the compound represented by the general formula (I) with light.
  • the wavelength of the light to be irradiated is 200 to 600 nm, the light irradiation time is 1 to 48 hours, and the light irradiation intensity is 1 to 500 mW/cm 2 [10] or [ 11], the protein modification method.
  • a method for producing a polysulfonamide derivative comprising the step of reacting a compound having two nitro groups and a compound having two thiol groups under light irradiation to produce a polysulfonamide derivative.
  • the wavelength of the light to be irradiated is 200 to 600 nm, the light irradiation time is 1 to 48 hours, and the light irradiation intensity is 1 to 500 mW/cm 2 [13] or [ 14].
  • the present invention provides a novel method for producing sulfonamide derivatives.
  • a sulfonamide derivative is generated by a photo-click reaction, so biomolecules and physiologically active molecules can be bound only to the light-irradiated portions, and applications such as biomolecular microarray fabrication technology are expected.
  • no radical initiator is required, it can be applied to a wide range of biomolecules.
  • the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention is characterized by including a step of reacting a compound having a nitro group and a compound having a thiol group under light irradiation to produce a sulfonamide derivative.
  • the compound having a nitro group is not particularly limited, and nitroaryl, nitroalkene, etc. can be used.
  • the compound having a thiol group is also not particularly limited, and thiol, dithiol, etc. can be used.
  • the wavelength of light to be irradiated is not particularly limited as long as it can generate a sulfonamide derivative, and can be, for example, 200 to 600 nm, preferably 300 to 500 nm.
  • Irradiation time is not particularly limited as long as it can generate a sulfonamide derivative, and can be, for example, 1 to 48 hours, preferably 2 to 36 hours.
  • the irradiation intensity of light is also not particularly limited as long as it is an intensity capable of generating a sulfonamide derivative, and can be, for example, 1 to 500 mW/cm 2 , preferably 5 to 300 mW/cm 2 , More preferably, it can be 10 to 100 mW/cm 2 .
  • the reaction to produce a sulfonamide derivative is usually carried out in a solvent.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and N,N-dimethylformamide (DMF), toluene, dimethylsulfoxide (DMSO), dichloromethane, water, or a mixed solvent thereof can be used.
  • the amount of the compound having a thiol group to be used is not particularly limited.
  • the temperature during the reaction is not particularly limited, and can be, for example, 10 to 40°C, preferably 20 to 30°C.
  • the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention includes the step of producing the sulfonamide derivative described above, but also includes other steps, for example, a step of separating and purifying the produced sulfonamide derivative from other products. You can
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkylthio group, an alkoxy group or a group derived from sugar. , represents a group derived from a peptide or a group derived from a nucleic acid.
  • the alkyl group is generally a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methyl group.
  • the alkylthio group is generally a linear or branched alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methylthio group.
  • the alkoxy group is generally a linear or branched alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a methoxy group.
  • a group derived from sugar means, for example, a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in a sugar molecule, or a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in a sugar molecule. and a sulfur atom, an oxygen atom, and/or a divalent group (for example, an alkylene group or a phenylene group) as a spacer is bonded thereto.
  • Sugars may be monosaccharides, disaccharides, oligosaccharides, or polysaccharides, and hydroxy groups in sugar molecules may be protected by protective groups.
  • a "group derived from a peptide” is, for example, a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in a peptide molecule, or removing one hydrogen atom or one hydroxy group in a peptide molecule. and a sulfur atom, an oxygen atom, and/or a divalent group (for example, an alkylene group or a phenylene group) as a spacer is bonded thereto.
  • Group derived from nucleic acid means, for example, a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in the nucleic acid molecule, or removing one hydrogen atom or one hydroxy group in the nucleic acid molecule.
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 may be the same group or different groups.
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 may be the groups described above, but X 4 and X 5 are preferably hydrogen atoms.
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 are X 1 , X 3 , X 4 and X 5 are hydrogen atoms and X 2 is a hydrogen atom, a methyl group or a methylthio group. , a methoxy group, or a group derived from a sugar.
  • a more preferred combination is a combination in which X 1 , X 3 , X 4 and X 5 are hydrogen atoms, and X 2 is a methyl group or A combination that is a methylthio group can be mentioned.
  • R 1 represents an optionally substituted alkyl group.
  • a thiol group can be mentioned as a substituent.
  • the alkyl group optionally substituted with a substituent is generally a straight or branched alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, preferably a straight chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more Preferred are n-dodecanyl group, ethyl group and 4-mercaptobutyl group.
  • R 1 may be any of the groups described above, preferably an n-dodecanyl group, an ethyl group, or a 4-mercaptobutyl group.
  • the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention includes, for example, (A) a thiol group modifier, (B) a method for producing a biomolecule chip, (C) a method for modifying a protein, and (D) a method for producing a polysulfonamide derivative. can be applied to These inventions are described below.
  • the thiol group modifier of the present invention is a modifier for binding a modifier to a thiol group, and has the following general formula (I).
  • X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a group derived from a modifier (provided that X 1 , X 2 , X 3 , At least one of X4 and X5 represents a group derived from a modifier.).
  • It is characterized by containing a compound represented by.
  • a group derived from a modifier means, for example, a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in the molecule of the modifier, or one hydrogen atom or one hydroxyl group in the molecule of the modifier. It is a group in which a group is removed and a sulfur atom, an oxygen atom and/or a divalent group serving as a spacer (for example, an alkylene group or a phenylene group) is bonded thereto.
  • Modifications can be anything, for example, biomolecules such as sugars, peptides, nucleic acids, or bioactive low-molecular-weight compounds.
  • the thiol group to be modified may be the thiol group of a cysteine residue in a protein or the thiol group of a low-molecular-weight compound.
  • a substrate having a thiol group on its surface is represented by the following general formula (I) [Wherein, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a group derived from a biomolecule (provided that X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 represent a group derived from a biomolecule).
  • a group derived from a biomolecule means, for example, a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in a biomolecule, or one hydrogen atom or one hydroxy group in a biomolecule. It is a group obtained by removing a sulfur atom, an oxygen atom, and/or a divalent group (for example, an alkylene group or a phenylene group) serving as a spacer.
  • Biomolecules can include sugars, peptides, nucleic acids, and the like.
  • reaction between the compound represented by the general formula (I) and the thiol group is a photo-click reaction, it is possible to immobilize biomolecules at any position on the substrate by precisely controlling the site irradiated with light. can.
  • the protein modification method of the present invention is a protein modification method for binding a modification product to a protein containing a cysteine residue, comprising the following steps (1) and (2). It is characterized.
  • (1) protein represented by the following general formula (I) [Wherein, X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a group derived from a modifier (provided that X 1 , X 2 , X 3 , At least one of X4 and X5 represents a group derived from a modifier.). ]
  • the step of contacting with a compound represented by (2) A step of irradiating the protein and the compound represented by the general formula (I) with light.
  • a group derived from a modifier means, for example, a group obtained by removing one hydrogen atom or one hydroxy group in the molecule of the modifier, or one hydrogen atom or one hydroxyl group in the molecule of the modifier. It is a group in which a group is removed and a sulfur atom, an oxygen atom and/or a divalent group serving as a spacer (for example, an alkylene group or a phenylene group) is bonded thereto.
  • Modifications can be anything, for example, biomolecules such as sugars, peptides, nucleic acids, or bioactive low-molecular-weight compounds.
  • the method for producing a polysulfonamide derivative of the present invention comprises a step of reacting a compound having two nitro groups and a compound having two thiol groups under light irradiation to produce a polysulfonamide derivative. It is characterized by including
  • the compound having two nitro groups is not particularly limited, and dinitroaryl, dinitroalkene, etc. can be used.
  • the nitro group is preferably in the para position.
  • the compound having two thiol groups is also not particularly limited, and dithiol and the like can be used.
  • the thiol group is preferably present at the terminal carbon.
  • a compound having a sulfonamide structure can be synthesized. They are commonly called sulfa drugs and are used as medicines. Therefore, the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention can also be used for producing pharmaceuticals.
  • Sulfa drugs include sulfamethoxazole, sulfadimethoxine, sulfamonomethoxine, sulfisoxazole, sulfadoxine, sulfamethoxazole, sulfadiazine, sulfachlorpyridazine sodium, and sulfamerazine sodium.
  • the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention can be used for these productions.
  • Some compounds with a sulfonamide structure are known to exhibit herbicidal action. For example, Penokislam. Therefore, the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention can also be used for producing agricultural chemicals such as herbicides.
  • the method for producing a sulfonamide derivative of the present invention can form a crosslinked structure between nitro groups and thiol groups to create a three-dimensional network structure, so it can also be used for producing hydrogels.
  • the produced hydrogels can be used in various applications such as artificial cartilage, artificial joints, artificial organs, cell culture substrates, and drug delivery systems. Recently, attention has been focused on organ printing, in which hydrogels containing cells are used as "ink” to fabricate artificial organs using 3D printers. .
  • silica gel (C-300 Wakogel (registered trademark)) column (ethyl acetate/hexane 1%-50%) was performed to obtain N-[4-(methylthio)phenyl]ethylsulfonamide 3[SCH 3 ; C2H5 ] : 71 mg (26%), 4-methylthioaniline 4[ SCH3 ]: 20 mg (12%), 2 -ethylsulfonyl-4-methylthioaniline 5[ SCH3 ; C2H5 ]: 8 mg (3%) was obtained.
  • Xe ( _ Hg) lamp 200 W; CuSO 4 aqueous solution filter
  • Heating was performed with a dryer immediately after the start of light irradiation.
  • After diluting the reaction solution with CH 2 Cl 2 it was washed twice with water, once with saturated aqueous sodium bicarbonate solution and once with saturated brine, and the organic layer was dried over MgSO 4 .
  • Xe(Hg) was added to a solution of 4-nitrobenzene (1[H]: 17 ⁇ L, 0.166 mmol) and 1,4-butanedithiol (2[C 4 H 8 SH]: 380 ⁇ L, 3.24 mmol) in DMSO (1 mL).
  • a lamp 200 W; CuSO 4 aqueous solution filter
  • Heating was performed with a dryer immediately after the start of light irradiation.
  • After diluting the reaction solution with CH 2 Cl 2 it was washed twice with water, once with saturated aqueous sodium bicarbonate solution and once with saturated brine, and the organic layer was dried over MgSO 4 .
  • the sulfonamide produced by the present invention forms the backbone of many pharmaceuticals. Therefore, the present invention can be used in industrial fields related to pharmaceuticals.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、スルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするスルホンアミド誘導体の製造方法を提供する。

Description

光スルホンアミド合成反応
　本発明は、スルホンアミド誘導体の製造方法、チオール基の修飾剤、生体分子チップの作製方法、タンパク質の修飾方法、及びポリスルホンアミド誘導体の製造方法に関する。
　スルホンアミドは多くの医薬品の骨格を形成しており、その安定性や生体適合性が特長となっている（S. Mondal, S. Malakar, Tetrahedron 2020, 76, 131662）。通常、スルホンアミドはアミノ基とスルホン酸ハライド又はその類縁体から合成される場合がほとんどであるが、チオール基を有する化合物を使用した合成法（非特許文献１）やニトロ基を有する化合物を使用した合成法（非特許文献２）も知られている。非特許文献１の合成法は、酸化剤の存在下、RSHとH2NR’を反応させる方法であり、非特許文献２の合成法は、還元剤の存在下、RNO2とNaO2SR’を反応させる方法である。
G. Laudadio, et al., J. Am. Chem. Soc. 2019, 141, 5664 J. Xia, et al., 2021, DOI: 10.1080/17415993.2021.1964500
　光クリック反応は、光照射した部分にだけ生体分子や生理活性分子を結合させることができることから、バイオナノテクノロジーの分野で大きな期待が持たれている（B. D. Fairbanks, et al. Chem. Rev. 2021, 121, 6915）。しかし、安定で生体適合性が高いことで知られるスルホンアミド結合を形成させる光クリック反応は本発明者の知る限り報告されていない。また、チオールに対する光クリック反応としては、チオール・エン反応が知られているが（M. Ahangarpour, et al. Chem. Soc. Rev. 2021, 50, 898）、この反応には、ラジカル開始剤の使用が必要であり、対象とする生体分子によっては応用が困難なケースも予想される。
　本発明は、このような背景の下になされたものであり、光クリック反応によりスルホンアミドを合成する新規な手段を提供することを目的とする。
　本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、光クリック反応により、ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物からスルホンアミドを合成できることを見出し、この知見に基づき、本発明を完成した。上述したように、チオール基を有する化合物を使用した合成法（非特許文献１）やニトロ基を有する化合物を使用した合成法（非特許文献２）は知られていたが、これら二種類の化合物からスルホンアミドを合成する方法は、本発明者の知る限り報告されていない。
　本発明は、以下の〔１〕～〔１５〕を提供する。
〔１〕ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、スルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするスルホンアミド誘導体の製造方法。
〔２〕ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、スルホンアミド誘導体を生成させる工程が、下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖アルキルチオ基、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖アルコキシ基、糖から誘導される基、ペプチドから誘導される基、又は核酸から誘導される基を表す。〕
で表される化合物と下記の一般式(II)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 〔式中、R1は、置換基で置換されていてもよい炭素数1～14の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基を表す。〕
で表される化合物を反応させ、下記の一般式(III)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 〔式中、X1、X2、X3、X4、X5、及びR1は上記と同じ意味である。〕
で表されるスルホンアミド誘導体を生成させる工程であることを特徴とする〔１〕に記載のスルホンアミド誘導体の製造方法。
〔３〕一般式(I)及び(III)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする〔２〕に記載のスルホンアミド誘導体の製造方法。
〔４〕照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする〔１〕乃至〔３〕のいずれかに記載のスルホンアミド誘導体の製造方法。
〔５〕チオール基に修飾物を結合させるための修飾剤であって、下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子又は修飾物から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5少なくとも一つは修飾物から誘導される基を表す。）。〕
で表される化合物を含有することを特徴とするチオール基の修飾剤。
〔６〕一般式(I)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする〔５〕に記載のチオール基の修飾剤。
〔７〕下記の工程（１）～（３）を含むことを特徴とする生体分子チップの作製方法、
（１）表面にチオール基を有する基板を下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子、又は生体分子から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは生体分子から誘導される基を表す。）。〕
で表される化合物と接触させる工程、
（２）基板上の生体分子を固定したい部位に光を照射し、基板表面のチオール基に一般式(I)で表される化合物を結合させる工程、
（３）基板表面のチオール基に結合しなかった一般式(I)で表される化合物を除去する工程。
〔８〕一般式(I)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする〔７〕に記載の生体分子チップの作製方法。
〔９〕照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする〔７〕又は〔８〕に記載の生体分子チップの作製方法。
〔１０〕システイン残基を含むタンパク質に修飾物を結合させるタンパク質の修飾方法であって、下記の工程（１）及び（２）を含むことを特徴とするタンパク質の修飾方法、
（１）タンパク質を下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子又は修飾物から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは修飾物から誘導される基を表す。）。〕
で表される化合物と接触させる工程、
（２）タンパク質及び一般式(I)で表される化合物に光を照射する工程。
〔１１〕一般式(I)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする〔１０〕に記載のタンパク質の修飾方法。
〔１２〕照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする〔１０〕又は〔１１〕に記載のタンパク質の修飾方法。
〔１３〕二つのニトロ基を有する化合物と二つのチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、ポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするポリスルホンアミド誘導体の製造方法。
〔１４〕二つのニトロ基を有する化合物と二つのチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、ポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程が、下記の一般式(IVa)、(IVb)、又は(IVc)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 〔式中、Xは、O、S、又は-CH2-を表し、mは0～2の整数を表す。〕
で表される化合物と下記の一般式(V)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 〔式中、nは、2～8の整数を表す。〕
で表される化合物を反応させ、下記の一般式(VIa)、(VIb)、又は (VIc)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 〔式中、X、m、及びnは上記と同じ意味である。〕
で表される繰り返し単位を有するポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程であることを特徴とする〔１３〕に記載のポリスルホンアミド誘導体の製造方法。
〔１５〕照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする〔１３〕又は〔１４〕に記載のポリスルホンアミド誘導体の製造方法。
　本明細書は、本願の優先権の基礎である日本国特許出願、特願2021-206935の明細書及び／又は図面に記載される内容を包含する。
　本発明は、スルホンアミド誘導体の新規な製造方法を提供する。この方法は、光クリック反応によってスルホンアミド誘導体を生成させるので、光照射した部分にだけ生体分子や生理活性分子を結合させることができ、生体分子マイクロアレイ作製技術などに応用が期待される。また、ラジカル開始剤は不要であることから、広範な生体分子に適用可能である。
N-[4-(メチルチオ)フェニル]ドデシルスルホンアミド3[SCH3;C12H25] の1H NMRチャート。 N-[4-(ドデシルチオ)フェニル]ドデシルスルホンアミド3[S C12H25;C12H25] の1H NMRチャート。 4-ドデシルチオアニリン4[SC12H25] の1H NMRチャート。 2-ドデシルスルホニル-4-メチルチオアニリン5[SCH3;C12H25] の1H NMRチャート。 N-[4-(メチルチオ)フェニル]ドデシルスルフィンアミド6[S6CH3;C12H25]の1H NMRチャート。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法は、ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、スルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするものである。
　ニトロ基を有する化合物は特に限定されず、ニトロアリール、ニトロアルケンなどを使用することができる。
　チオール基を有する化合物も特に限定されず、チオール、ジチオールなどを使用することができる。
　照射する光の波長はスルホンアミド誘導体を生成させ得る波長であれば特に限定されず、例えば、200～600nmとすることができ、好ましくは、300～500nmとすることができる。照射時間もスルホンアミド誘導体を生成させ得る時間であれば特に限定されず、例えば、1～48時間とすることができ、好ましくは、2～36時間とすることができる。光の照射強度もスルホンアミド誘導体を生成させ得る強度であれば特に限定されず、例えば、1～500mW/cm2とすることができ、好ましくは、5～300mW/cm2とすることができ、より好ましくは、10～100mW/cm2とすることができる。
　スルホンアミド誘導体を生成させる反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に限定されず、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、トルエン、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジクロロメタン、水、又はこれらの混合溶媒を使用することができる。使用するチオール基を有する化合物の量は特に限定されないが、ニトロ基を有する化合物1 molに対し、例えば、1～30molとすることができ、好ましくは、5～20molとすることができる。反応時の温度は特に限定されず、例えば、10～40℃とすることができ、好ましくは、20～30℃とすることができる。
　本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法は、上述したスルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むが、他の工程、例えば、生成したスルホンアミド誘導体を他の生成物から分離し、精製する工程を含んでいてもよい。
　上述したスルホンアミド誘導体を生成させる工程の具体例としては、下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 で表される化合物と下記の一般式(II)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 で表される化合物を反応させ、下記の一般式(III)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 で表されるスルホンアミド誘導体を生成させる工程を例示できる。
　一般式(I)及び(III)においてX1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルキルチオ基、アルコキシ基、糖から誘導される基、ペプチドから誘導される基、又は核酸から誘導される基を表す。アルキル基は、通常、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であり、好ましくは、メチル基である。アルキルチオ基は、通常、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖のアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基である。アルコキシ基は、通常、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基であり、好ましくは、メトキシ基である。「糖から誘導される基」とは、例えば、糖分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去することによって得られる基や糖分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去し、そこに硫黄原子、酸素原子、及び／又はスペーサとなる二価の基（例えば、アルキレン基、フェニレン基）を結合させた基である。糖は、単糖、二糖、オリゴ糖、多糖のいずれであってもよく、糖分子中のヒドロキシ基は保護基によって保護されていてもよい。「ペプチドから誘導される基」とは、例えば、ペプチド分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去することによって得られる基やペプチド分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去し、そこに硫黄原子、酸素原子、及び／又はスペーサとなる二価の基（例えば、アルキレン基、フェニレン基）を結合させた基である。「核酸から誘導される基」とは、例えば、核酸分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去することによって得られる基や核酸分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去し、そこに硫黄原子、酸素原子、及び／又はスペーサとなる二価の基（例えば、アルキレン基、フェニレン基）を結合させた基である。X1、X2、X3、X4、及びX5は同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。X1、X2、X3、X4、及びX5は、前記した基であればよいが、X4及びX5は水素原子であることが好ましい。X1、X2、X3、X4、及びX5の好ましい組み合わせとしては、X1、X3、X4、及びX5が水素原子であり、X2が水素原子、メチル基、メチルチオ基、メトキシ基、又は糖から誘導される基である組み合わせを挙げることができ、より好ましい組み合わせとしては、X1、X3、X4、及びX5が水素原子であり、X2がメチル基又はメチルチオ基である組み合わせを挙げることができる。
　一般式(II)及び(III)においてR1は、置換基で置換されていてもよいアルキル基を表す。置換基としては、チオール基を挙げることができる。置換基で置換されていてもよいアルキル基は、通常、炭素数1～14の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基であり、好ましくは、炭素数1～12の直鎖のアルキル基であり、より好ましくは、n-ドデカニル基、エチル基、4-メルカプトブチル基である。R1は、前記した基であればよいが、好ましくは、n-ドデカニル基、エチル基、又は4-メルカプトブチル基である。
　本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法は、例えば、（Ａ）チオール基の修飾剤、（Ｂ）生体分子チップの作製方法、（Ｃ）タンパク質の修飾方法、及び（Ｄ）ポリスルホンアミド誘導体の製造方法に応用することができる。以下、これらの発明について説明する。
（Ａ）チオール基の修飾剤
　本発明のチオール基の修飾剤は、チオール基に修飾物を結合させるための修飾剤であって、下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子又は修飾物から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは修飾物から誘導される基を表す。）。〕
で表される化合物を含有することを特徴とするものである。
　「修飾物から誘導される基」とは、例えば、修飾物分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去することによって得られる基や修飾物分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去し、そこに硫黄原子、酸素原子、及び／又はスペーサとなる二価の基（例えば、アルキレン基、フェニレン基）を結合させた基である。
　修飾物はどのようなものでもよく、例えば、糖、ペプチド、核酸などの生体分子であってもよく、生理活性を持つ低分子化合物であってもよい。
　修飾対象とするチオール基は、タンパク質中のシステイン残基のチオール基であってもよく、低分子化合物のチオール基であってもよい。
（Ｂ）生体分子チップの作製方法
　本発明の生体分子チップの作製方法は、下記の工程（１）～（３）を含むことを特徴とするものである、
（１）表面にチオール基を有する基板を下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子、又は生体分子から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは生体分子から誘導される基を表す。）。〕
表される化合物と接触させる工程、
（２）基板上の生体分子を固定したい部位に光を照射し、基板表面のチオール基に一般式(I)で表される化合物を結合させる工程、
（３）基板表面のチオール基に結合しなかった一般式(I)で表される化合物を除去する工程。
　「生体分子から誘導される基」とは、例えば、生体分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去することによって得られる基や生体分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去し、そこに硫黄原子、酸素原子、及び／又はスペーサとなる二価の基（例えば、アルキレン基、フェニレン基）を結合させた基である。生体分子としては、糖、ペプチド、核酸などを挙げることができる。
　一般式(I)で表される化合物とチオール基との反応は、光クリック反応なので、光を照射する部位を精密に制御することにより、基板上の任意の位置に生体分子を固定することができる。
　上記の（１）～（３）の工程を1回行うことにより、基板上に1種類の生体分子を固定できる。（１）～（３）の工程を何度も繰り返すことにより、基板上に多数の生体分子を固定できる。
（Ｃ）タンパク質の修飾方法
　本発明のタンパク質の修飾方法は、システイン残基を含むタンパク質に修飾物を結合させるタンパク質の修飾方法であって、下記の工程（１）及び（２）を含むことを特徴とするものである。
（１）タンパク質を下記の一般式(I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子又は修飾物から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは修飾物から誘導される基を表す。）。〕
で表される化合物と接触させる工程、
（２）タンパク質及び一般式(I)で表される化合物に光を照射する工程。
　「修飾物から誘導される基」とは、例えば、修飾物分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去することによって得られる基や修飾物分子中の一つの水素原子又は一つのヒドロキシ基を除去し、そこに硫黄原子、酸素原子、及び／又はスペーサとなる二価の基（例えば、アルキレン基、フェニレン基）を結合させた基である。
　修飾物はどのようなものでもよく、例えば、糖、ペプチド、核酸などの生体分子であってもよく、生理活性を持つ低分子化合物であってもよい。
（Ｄ）ポリスルホンアミド誘導体の製造方法
　本発明のポリスルホンアミド誘導体の製造方法は、二つのニトロ基を有する化合物と二つのチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、ポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするものである。
　二つのニトロ基を有する化合物は特に限定されず、ジニトロアリール、ジニトロアルケンなどを使用することができる。二つのニトロ基を有する化合物が二つのニトロ基を有するベンゼンである場合、ニトロ基はパラ位に存在することが好ましい。
　二つのチオール基を有する化合物も特に限定されず、ジチオールなどを使用することができる。二つのチオール基を有する化合物が二つのチオール基を有する直鎖のアルカンである場合、チオール基は末端の炭素に存在することが好ましい。
　上述したポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程の具体例としては、下記の一般式(IVa)、(IVb)、又は(IVc)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 〔式中、Xは、O、S、又は-CH2-を表し、mは0～2の整数を表す。〕
で表される化合物と下記の一般式(V)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 〔式中、nは、2～8の整数を表す。〕
で表される化合物を反応させ、下記の一般式(VIa)、(VIb)、又は (VIc)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 〔式中、X、m、及びnは上記と同じ意味である。〕
で表される繰り返し単位を有するポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程を例示できる。なお、一般式(IVc)及び (VIc)においてmが0であるとは、一般式(IVc)及び (VIc)中の多環式芳香族環がナフタレン環であることを意味する。
（Ｅ）その他の応用例
　本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法により、スルホンアミド構造を持つ化合物を合成することができるが、このような構造を持つ化合物は抗菌作用を示すものが多く、それらは一般にサルファ剤と呼ばれ、医薬品として使用されている。従って、本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法は、医薬品の製造にも利用できる。サルファ剤としては、スルファメトキサゾール、スルファジメトキシン、スルファモノメトキシン、スルフイソキサゾール、スルファドキシン、スルファメトキサゾール、スルファジアジン、スルファクロルピリダジンナトリウム、スルファメラジンナトリウムなどが知られているが、これらの製造に本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法を利用可能である。
　スルホンアミド構造を持つ化合物の中には、除草作用を示すものも知られている。例えば、ペノキススラムなどである。従って、本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法は、除草剤などの農薬の製造にも利用できる
　本発明のスルホンアミド誘導体の製造方法は、ニトロ基とチオール基との間に架橋構造を形成させ、三次元網目構造を作ることができるので、ハイドロゲルの製造にも利用できる。製造されたハイドロゲルは、様々な用途、例えば、人工軟骨、人工関節、人工臓器、細胞培養基材、ドラッグデリバリーシステムなどに利用できる。最近、細胞を含むハイドロゲルを「インク」とし、3Dプリンターによって人工臓器を作製する臓器プリンティングが注目されているが、上記方法によって製造されたハイドロゲルは、この臓器プリンティングの「インク」として使用できる。
　以下に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
〔実施例１〕　X = SCH3; R = C12H25
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　4-ニトロチオアニソール（1[SCH3]: 203 mg, 1.20 mmol）と1-ドデカンチオール（2[C12H25]: 2.00 mL, 8.35 mmol）のDMF（1 mL）溶液にLED（365 nm）を4 cm先から24時間照射した（52.5 mW/cm2）。反応溶液をCH2Cl2で希釈した後、水で2回、飽和重曹水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機層をMgSO4で乾燥した。有機層を濃縮後、シリカゲル（C-300 Wakogel（登録商標））カラム（ethyl acetate/hexane 1%-50%）を行い3分画に分取したもの各々についてさらにシリカゲル（C-300 Wakogel（登録商標））カラム（toluene/hexane 50%-99%）を行い、N-[4-(メチルチオ)フェニル]ドデシルスルホンアミド3[SCH3;C12H25]: 214 mg（48%）、N-[4-(ドデシルチオ)フェニル]ドデシルスルホンアミド3[S C12H25;C12H25]: 31 mg（5%）、4-メチルチオアニリン4[SCH3]: 23 mg（14%）、 4-ドデシルチオアニリン4[SC12H25]: 14 mg（4%）、2-ドデシルスルホニル-4-メチルチオアニリン5[SCH3;C12H25]: 31 mg（7%）、N-[4-(メチルチオ)フェニル]ドデシルスルフィンアミド6[S6CH3;C12H25]: 8 mg（2%）を得た。
3[SCH3;C12H25](Mw 371.608): Rf 0.42 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 0.876 (t, 3H, J = 6.8Hz, -CH3), 1.229 (m, 16H, -(CH2)3(CH2)8CH3), 1.356 (quin, 2H, J = 7.0 Hz, -SO2(CH2)2CH2-), 1.796 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.471 (s, 3H, -SCH3), 3.052 (t, 2H, J = 8.0 Hz, -SO2CH2-), 6.597 (br, 1H, -NH-), 7.154 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.236 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H); HRMS (ESI): m/z calcd for C19H32NO2S2 [M-H]:370.1876; found: 370.1878.
3[SC12H25;C12H25](Mw 525.904): Rf 0.56 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 0.876 (t, 6H, J = 6.8Hz, -CH3 x 2), 1.252 (m, 32H, -(CH2)3(CH2)8CH3 x 2), 1.380 (m, 4H, -S(CH2)2CH2-, -SO2(CH2)2CH2-), 1.620 (quin, 2H, J = 7.5 Hz, -SCH2CH2-), 1.797 (quin, 2H, J = 7.5 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.878 (t, 2H, J = 7.3 Hz, -SCH2-), 3.060 (t, 2H, J = 7.5 Hz, -SO2CH2-), 6.519 (br, 1H, -NH-), 7.130 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.292 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H); HRMS (ESI): m/z calcd for C30H54NO2S2 [M-H]:524.3596; found: 524.3587.
4[SCH3](Mw 139.221): Rf 0.21 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 2.412 (s, 3H, -SCH3), 3.658 (br, 2H, -NH2), 6.636 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.182 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H). lit (G. D. Vo; J. F. Hartwig, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 11049-11061). δ (ppm) 2.42 (s, 3H, -SCH3), 3.66 (br, 2H, -NH2), 6.62 (d, 2H, J = 8.6 Hz, Ar-H), 7.18 (d, 2H, J = 8.6 Hz, Ar-H).
4[SC12H25] (Mw 293.517): Rf 0.47 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 0.877 (t, 3H, J = 7.0Hz, -CH3), 1.244 (m, 16H, -(CH2)3(CH2)8CH3), 1.362 (quin, 2H, J = 7.5 Hz, -S(CH2)2CH2-), 1.566 (m, 2H, -SCH2CH2-), 2.756 (t, 2H, J = 7.5 Hz, -SCH2-), 3.685 (br, 2H, -NH2), 6.619 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.227 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H); HRMS (ESI): m/z calcd for C18H31NS [M+]:293.2177; found: 293.2172.
5[SCH3;C12H25] (Mw 371.608): Rf 0.35 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 0.875 (t, 3H, J = 6.8Hz, -CH3), 1.230 (m, 16H, -(CH2)3(CH2)8CH3), 1.349 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2(CH2)2CH2-), 1.712 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.438 (s, 3H, -SCH3), 3.127 (t, 2H, J = 8.0 Hz, -SO2CH2-), 4.992 (br, 2H, -NH2), 6.693 (d, 1H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.349 (dd, 1H, J = 8.5, 2.0 Hz, Ar-H), 7.658 (d, 1H, J = 2.0 Hz, Ar-H); HRMS (ESI): m/z calcd for C19H32NO2S2 [M-H]:370.1876; found: 370.1889.
6[SCH3;C12H25] (Mw 355.609): Rf 0.10 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 0.881 (t, 3H, J = 7.0Hz, -CH3), 1.261 (m, 16H, -(CH2)3(CH2)8CH3), 1.451 (m, 2H, -SO(CH2)2CH2-), 1.763 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SOCH2CH2-), 2.453 (s, 3H, -SCH3), 2.908 (m, 2H, -SOCH2-), 5.717 (br, 1H, -NH-), 7.003 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.231 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H); HRMS (ESI): m/z calcd for C19H33NOS2Na [M+Na]:378.1903; found: 378.1903.
〔実施例２〕　X = SCH3; R = C2H5
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　4-ニトロチオアニソール（1[SCH3]: 200 mg, 1.18 mmol）とエタンチオール（2[C2H5]: 440 μL, 5.94 mmol）のトルエン（3 mL）溶液にLED（365 nm）を4 cm先から24時間照射した（48.5 mW/cm2）。反応溶液をCH2Cl2で希釈した後、水で2回、飽和重曹水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機層をMgSO4で乾燥した。有機層を濃縮後、シリカゲル（C-300 Wakogel（登録商標））カラム（ethyl acetate/hexane 1%-50%）を行い、N-[4-(メチルチオ)フェニル]エチルスルホンアミド3[SCH3;C2H5]: 71 mg（26%）、4-メチルチオアニリン4[SCH3]: 20 mg（12%）、2-エチルスルホニル-4-メチルチオアニリン5[SCH3;C2H5]: 8 mg（3%）を得た。
3[SCH3;C2H5] (Mw 231,340): Rf 0.32 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.362 (t, 3H, J = 7.5Hz, -CH3), 2.466 (s, 3H, -SCH3), 3.104 (q, 2H, J = 7.0 Hz, -SO2CH2-), 7.166 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.234 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H).
5[SCH3;C2H5] (Mw 231,340): Rf 0.28 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.274 (t, 3H, J = 9.3Hz, -CH3) , 2.435 (s, 3H, -SCH3), 3.173 (q, 2H, J = 7.5 Hz, -SO2CH2-), 5.010 (br, 2H, -NH2), 6.697 (d, 1H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.351 (dd, 1H, J = 8.5 Hz, 2.0 Hz, Ar-H), 7.655 (d, 1H, J = 2.0 Hz, Ar-H).
〔実施例３〕　X = SCH3; R = C4H8SH
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　4-ニトロチオアニソール（1[SCH3]: 13.5 mg, 0.0798 mmol）と1,4-ブタンジチオール（2[C4H8SH]: 185 μL, 1.58 mmol）のDMSO（1 mL）溶液にXe(Hg)ランプ（200 W; CuSO4水溶液フィルター）を4 cm先から5時間照射した（36 mW/cm2）。光照射開始2時間後からはドライヤーにより加熱を行った。反応溶液をCH2Cl2で希釈した後、水で2回、飽和重曹水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機層をMgSO4で乾燥した。有機層を濃縮後、シリカゲル（Biotage）カラム（ethyl acetate/hexane 5%-33%）を行い、4-メルカプトブチル-N-[4-(メチルチオ)フェニル]スルホンアミド3[SCH3;C4H8SH]: 7 mg（30%）、4-メチルチオアニリン4[SCH3]: 2 mg（18%）、2-(4-メルカプトブチル)-4-メチルチオアニリン5[SCH3;C4H8SH]: 1 mg（4%）を得た。
3[SCH3;C4H8SH] (Mw 291.459): Rf 0.20 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.331 (t, 1H, -SH), 1.717 (quin, 2H, J = 7.3 Hz, -SCH2CH2-), 1.942 (quin, 2H, J = 7.3 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.474 (s, 3H, -SCH3), 2.517 (m, 2H, -CH2SH), 3.067 (t, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2-), 6.407 (br, 1H, -NH-), 7.156 (d, 2H, J = 7.8 Hz, Ar-H), 7.234 (d, 2H, Ar-H).
5[SCH3;C4H8SH] (Mw 291.459): Rf 0.17 (20% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.331 (t, 1H, -SH), 1.717 (quin, 2H, J = 7.3 Hz, -SCH2CH2-), 1.853 (m, 2H, -SO2CH2CH2-), 2.442 (s, 3H, -SCH3), 2.517 (m, 2H, -CH2SH), 3.153 (t, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2-), 4.998 (br, 2H, -NH2), 6.704 (d, 1H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.361 (dd, 1H, J = 8.5, 2.2 Hz, Ar-H HHH), 7.659 (br, 1H, J = 2.2 Hz, Ar-H).
〔実施例４〕　X = OCH3; R = C4H8SH
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　4-ニトロアニソール（1[OCH3]: 16 mg, 0.104 mmol）と1,4-ブタンジチオール（2[C4H8SH]: 200 μL, 1.70 mmol）のDMSO（1 mL）溶液にXe(Hg)ランプ（200 W; CuSO4水溶液フィルター）を4 cm先から5時間照射した（17 mW/cm2）。光照射開始直後からドライヤーにより加熱を行った。反応溶液をCH2Cl2で希釈した後、水で2回、飽和重曹水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機層をMgSO4で乾燥した。有機層を濃縮後、シリカゲル（Biotage）カラム（ethyl acetate/hexane 5%-33%）を行い、4-メルカプトブチル-N-[4-(メトキシ)フェニル]スルホンアミド3[OCH3;C4H8SH]: 7 mg（25%）、2-(4-メルカプトブチル)-4-メトキシアニリン5[OCH3;C4H8SH]: 1 mg（3%）を得た。
3[OCH3;C4H8SH] (Mw 275.393): Rf 0.39 (33% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.339 (t, 1H, J = 8.8 Hz, -SH), 1.720 (quin, 2H, J = 7.5 Hz, -SCH2CH2-), 1.949 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.521 (q, 2H, J = 7.3 Hz, -CH2SH), 3.028 (t, 2H, J = 8.0 Hz, -SO2CH2-), 3.803 (s, 3H, -OCH3), 6.000-6.250 (br, 1H, -NH-), 6.883 (d, 2H, J = 9.0 Hz, Ar-H), 7.184 (d, 2H, J = 9.0 Hz Ar-H HHH)
5[OCH3;C4H8SH] (Mw 275.393): Rf 0.39 (33% ethyl acetate/hexane);　1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.339 (t, 1H, J = 8.8 Hz, -SH), 1.720 (quin, 2H, J = 7.5 Hz, -SCH2CH2-), 1.852 (quin, 2H, J = 8.0 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.521 (q, 2H, J = 7.3 Hz, -CH2SH), 3.190 (t, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2-), 3.780 (s, 3H, CH3O-), 4.672 (br, 1H, -NH-), 6.714 (d, 1H, J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.009 (dd, 1H, J = 9.0 Hz, 3.0 Hz, Ar-H HHH), 7.218 (d, 1H, J = 2.5 Hz, Ar-H)
〔実施例５〕　X = H; R = C4H8SH
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　4-ニトロベンゼン（1[H]: 17 μL, 0.166 mmol）と1,4-ブタンジチオール（2[C4H8SH]: 380 μL, 3.24 mmol）のDMSO（1 mL）溶液にXe(Hg)ランプ（200 W; CuSO4水溶液フィルター）を4 cm先から5時間照射した（16.5 mW/cm2）。光照射開始直後からドライヤーにより加熱を行った。反応溶液をCH2Cl2で希釈した後、水で2回、飽和重曹水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機層をMgSO4で乾燥した。有機層を濃縮後、シリカゲル（Biotage）カラム（ethyl acetate/hexane 5%-33%）を行い、4-メルカプトブチル-N-フェニルスルホンアミド3[H;C4H8SH]: 10 mg（24%）を得た。
3[H;C4H8SH] (Mw 245.367): Rf 0.43 (33% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.321 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -SH), 1.714(quin, 2H, J = 7.5 Hz, -SCH2CH2-), 1.950 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.509 (q, 2H, J = 7.0 Hz, -CH2SH), 3.099 (t, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2-), 5.009 (br, 1H, -NH-), 7.187 (t, 1H, Ar-H), 7.213 (d, 2H, J = 8.5 Hz Ar-H HHH), 7.355 (t, 2H, J = 7.8 Hz Ar-H HHH).
〔実施例６〕　X = Me6GlcSPh; R = C4H8SH
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　[4-(4-ニトロフェニル)-フェニル] 2,3,4,6-テトラ-O-メチル-1-チオ-β-D-グルコピラノシド（1[Me6GlcSPh]: 10.3 mg, 0.0229 mmol）と1,4-ブタンジチオール（2[C4H8SH]: 50 μL, 0.426 mmol）のDMSO（1 mL）溶液にXe(Hg)ランプ（200 W; CuSO4水溶液フィルター）を4 cm先から6時間照射した（17 mW/cm2）。光照射中にドライヤーにより３時間30分加熱を行った。反応溶液をCH2Cl2で希釈した後、水で2回、飽和重曹水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機層をMgSO4で乾燥した。有機層を濃縮後、シリカゲル（Biotage）カラム（ethyl acetate/hexane 0%-100%）を行い、さらに主画分についてPTLC（ethyl acetate/hexane 33%で2回上げ）を行い、N-[4-[4-(2,3,4,6-テトラ-O-メチル-β-D-グルコピラノシルチオ)フェニル]フェニル]-4-メルカプトブチルスルホンアミド3[Me6GlcSPh;C4H8SH]: 3 mg（23%）、4-[4-(2,3,4,6-テトラ-O-メチル-β-D-グルコピラノシルチオ)フェニル]アニリン4[Me6GlcSPh]: 1 mg（10%）を得た。
3[Me6GlcSPh;C4H8SH] (Mw 571.780): Rf 0.12 (33% ethyl acetate/hexane);　1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 1.334 (t, 1H, J = 7.8 Hz, -SH), 1.738 (quin, 2H, J = 7.5 Hz, -SCH2CH2-), 1.978 (quin, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2CH2-), 2.536 (q, 2H, J = 7.8 Hz, -CH2SH), 3.074 (t, 1H, J = 9.0 Hz, H2’), 3.137 (t, 2H, J = 7.8 Hz, -SO2CH2-), 3.191 (t, 1H, J = 9.0 Hz, H3’), 3.213 (t, 1H, J = 9.0 Hz, H4’), 3.313 (m, 1H, H5’), 3.403 (s, 3H, -OCH3), 3.538 (s, 3H, -OCH3), 3.579 (dd, 1H, J = 11.0 Hz, 4.5 Hz, H6a’), 3.617 (s, 3H, -OCH3), 3.627 (m, 1H, H6b’), 3.657 (s, 3H, -OCH3), 4.517 (d, 1H, J = 10.0 Hz, H1’), 6.374 (br, 1H, -NH-), 7.284 (d, 2H, Ar-H), 7.477 (d, 2H, J = 8.5 Hz Ar-H HHH), 7.557 (d, 2H, J = 8.5 Hz Ar-H), 7.595 (d, 2H, J = 8.5 Hz, Ar-H); HRMS (ESI): m/z calcd for C26H37NO7S3Na [M+Na]: 594.1631; found: 594.1646.
4[Me6GlcSPh] (Mw 419.542): Rf 0.18 (33% ethyl acetate/hexane); 1H NMR (500 MHz, CDCl3, 298K) δ (ppm) 3.060 (t, 1H, J = 9.3 Hz, H2’), 3.166 (t, 1H, J = 9.0 Hz, H3’), 3.219 (t, 1H, J = 8.5 Hz, H4’), 3.288 (m, 1H, H5’), 3.398 (s, 3H, -OCH3), 3.531 (s, 3H, -OCH3), 3.580 (dd, 1H, J = 11.0Hz, 4.5 Hz, H6a’), 3.615 (s, 3H, -OCH3), 3.635 (m, 1H, H6b’), 3.651 (s, 3H, -OCH3), 3.742 (br, 1H, -NH-), 4.477 (d, 1H, J = 10.0 Hz, H1’), 6.749 (d, 2H, J = 8.0 Hz, Ar-H), 7.396 (d, 2H, J = 8.0 Hz Ar-H HHH), 7.454 (d, 2H, J = 8.0 Hz Ar-H), 7.557 (d, 2H, J = 8.0 Hz, Ar-H).
　本明細書で引用した全ての刊行物、特許及び特許出願をそのまま参考として本明細書にとり入れるものとする。
　本発明により製造されるスルホンアミドは、多くの医薬品の骨格を形成している。従って、本発明は、医薬品に関連する産業分野において利用可能である。

Claims (15)

  1. 　ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、スルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするスルホンアミド誘導体の製造方法。
  2. 　ニトロ基を有する化合物とチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、スルホンアミド誘導体を生成させる工程が、下記の一般式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖アルキルチオ基、炭素数1～3の直鎖若しくは分岐鎖アルコキシ基、糖から誘導される基、ペプチドから誘導される基、又は核酸から誘導される基を表す。〕
    で表される化合物と下記の一般式(II)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     〔式中、R1は、置換基で置換されていてもよい炭素数1～14の直鎖若しくは分岐鎖アルキル基を表す。〕
    で表される化合物を反応させ、下記の一般式(III)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     〔式中、X1、X2、X3、X4、X5、及びR1は上記と同じ意味である。〕
    で表されるスルホンアミド誘導体を生成させる工程であることを特徴とする請求項１に記載のスルホンアミド誘導体の製造方法。
  3. 　一般式(I)及び(III)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする請求項２に記載のスルホンアミド誘導体の製造方法。
  4. 　照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のスルホンアミド誘導体の製造方法。
  5. 　チオール基に修飾物を結合させるための修飾剤であって、下記の一般式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子又は修飾物から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5少なくとも一つは修飾物から誘導される基を表す。）。〕
    で表される化合物を含有することを特徴とするチオール基の修飾剤。
  6. 　一般式(I)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする請求項５に記載のチオール基の修飾剤。
  7. 　下記の工程（１）～（３）を含むことを特徴とする生体分子チップの作製方法、
    （１）表面にチオール基を有する基板を下記の一般式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子、又は生体分子から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは生体分子から誘導される基を表す。）。〕
    で表される化合物と接触させる工程、
    （２）基板上の生体分子を固定したい部位に光を照射し、基板表面のチオール基に一般式(I)で表される化合物を結合させる工程、
    （３）基板表面のチオール基に結合しなかった一般式(I)で表される化合物を除去する工程。
  8. 　一般式(I)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする請求項７に記載の生体分子チップの作製方法。
  9. 　照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする請求項７又は８に記載の生体分子チップの作製方法。
  10. 　システイン残基を含むタンパク質に修飾物を結合させるタンパク質の修飾方法であって、下記の工程（１）及び（２）を含むことを特徴とするタンパク質の修飾方法、
    （１）タンパク質を下記の一般式(I)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     〔式中、X1、X2、X3、X4、及びX5は、それぞれ独立して、水素原子又は修飾物から誘導される基を表す（但し、X1、X2、X3、X4、及びX5の少なくとも一つは修飾物から誘導される基を表す。）。〕
    で表される化合物と接触させる工程、
    （２）タンパク質及び一般式(I)で表される化合物に光を照射する工程。
  11. 　一般式(I)におけるX4及びX5が、水素原子であることを特徴とする請求項１０に記載のタンパク質の修飾方法。
  12. 　照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする請求項１０又は１１に記載のタンパク質の修飾方法。
  13. 　二つのニトロ基を有する化合物と二つのチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、ポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程を含むことを特徴とするポリスルホンアミド誘導体の製造方法。
  14. 　二つのニトロ基を有する化合物と二つのチオール基を有する化合物を光照射下で反応させ、ポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程が、下記の一般式(IVa)、(IVb)、又は(IVc)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     〔式中、Xは、O、S、又は-CH2-を表し、mは0～2の整数を表す。〕
    で表される化合物と下記の一般式(V)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     〔式中、nは、2～8の整数を表す。〕
    で表される化合物を反応させ、下記の一般式(VIa)、(VIb)、又は (VIc)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     〔式中、X、m、及びnは上記と同じ意味である。〕
    で表される繰り返し単位を有するポリスルホンアミド誘導体を生成させる工程であることを特徴とする請求項１３に記載のポリスルホンアミド誘導体の製造方法。
  15. 　照射する光の波長が200～600nmであり、光の照射時間が1～48時間であり、光の照射強度が1～500mW/cm2であることを特徴とする請求項１３又は１４に記載のポリスルホンアミド誘導体の製造方法。
PCT/JP2022/045786 2021-12-21 2022-12-13 光スルホンアミド合成反応 WO2023120292A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021206935 2021-12-21
JP2021-206935 2021-12-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023120292A1 true WO2023120292A1 (ja) 2023-06-29

Family

ID=86902418

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/045786 WO2023120292A1 (ja) 2021-12-21 2022-12-13 光スルホンアミド合成反応

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2023120292A1 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014210754A (ja) * 2013-04-22 2014-11-13 国立大学法人富山大学 スルホニルアジド誘導体およびアシルスルホンアミド誘導体の製造方法並びにそれらの利用。
WO2017061561A1 (ja) * 2015-10-08 2017-04-13 日本化薬株式会社 新規ポリスルホンアミド化合物、及び該化合物を含有する樹脂組成物
WO2017175598A1 (ja) * 2016-04-05 2017-10-12 富士フイルム株式会社 ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法
CN112939822A (zh) * 2021-02-09 2021-06-11 浙江理工大学 一种量子点及其用于磺酰胺类衍生物制备的方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014210754A (ja) * 2013-04-22 2014-11-13 国立大学法人富山大学 スルホニルアジド誘導体およびアシルスルホンアミド誘導体の製造方法並びにそれらの利用。
WO2017061561A1 (ja) * 2015-10-08 2017-04-13 日本化薬株式会社 新規ポリスルホンアミド化合物、及び該化合物を含有する樹脂組成物
WO2017175598A1 (ja) * 2016-04-05 2017-10-12 富士フイルム株式会社 ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法
CN112939822A (zh) * 2021-02-09 2021-06-11 浙江理工大学 一种量子点及其用于磺酰胺类衍生物制备的方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BAO ZHAOWEI, ZOU JUAN, MOU CHENGLI, JIN ZHICHAO, REN SHI-CHAO, CHI YONGGUI ROBIN: "Direct Reaction of Nitroarenes and Thiols via Photodriven Oxygen Atom Transfer for Access to Sulfonamides", ORGANIC LETTERS, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 24, no. 48, 9 December 2022 (2022-12-09), US , pages 8907 - 8913, XP093075573, ISSN: 1523-7060, DOI: 10.1021/acs.orglett.2c03770 *
FLEMING STEVEN A., RAWLINS DAVID B., SAMANO VICENTE, ROBINS MORRIS J.: "Photochemistry of nucleoside transport inhibitor 6-S-benzylated thiopurine ribonucleosides. Implications for a new class of photoaffinity labels", THE JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 57, no. 22, 1 October 1992 (1992-10-01), pages 5968 - 5976, XP093075562, ISSN: 0022-3263, DOI: 10.1021/jo00048a034 *
GOVINDARAJU THIMMAIAH, JONKHEIJM PASCAL, GOGOLIN LARS, SCHROEDER HENDRIK, BECKER CHRISTIAN F. W., NIEMEYER CHRISTOF M., WALDMANN H: "Surface immobilization of biomolecules by click sulfonamide reaction", CHEMICAL COMMUNICATIONS, ROYAL SOCIETY OF CHEMISTRY, UK, no. 32, 15 July 2008 (2008-07-15), UK , pages 3723, XP093075569, ISSN: 1359-7345, DOI: 10.1039/b806764c *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20190112328A1 (en) Diarylsulfide backbone containing photolabile protecting groups
Wallace et al. Mild, selective deprotection of thioacetates using sodium thiomethoxide
CN101389639B (zh) 汇集合成卡奇霉素（calicheamicin）衍生物的方法
JPH03188058A (ja) ベンゼンスルホン酸誘導体及びその製造方法
WO2023120292A1 (ja) 光スルホンアミド合成反応
Yang et al. Simple synthesis of sulfonyl chlorides from thiol precursors and derivatives by NaClO2-mediated oxidative chlorosulfonation
Jahanshahi et al. Sulfonated Honeycomb Coral (HC-SO 3 H): a new, green and highly efficient heterogeneous catalyst for the rapid one-pot pseudo-five component synthesis of 4, 4′-(aryl methylene) bis (3-methyl-1 H-pyrazol-5-ol) s
WO2004048320A1 (en) Biguanide and dihydrotriazine derivatives
SU688123A3 (ru) Способ получени производных анилина
ES2794832T3 (es) Proceso para la preparación de Enzalutamida
Badali et al. Nitroepoxide ring opening with thionucleophiles in water: synthesis of α-xanthyl ketones, β-keto sulfones and β-keto sulfonic acids
CN101248040A (zh) 硫代烷基胺的高产率制备方法
Kertmen et al. Novel and efficient methods for the synthesis of symmetrical trisulfides
CN113880737A (zh) 一种新型过硫试剂在合成不对称过硫化物中的应用
CN114163313A (zh) 一种钌催化芳基重氮盐与肉桂酸偶联选择性合成ez-二苯乙烯的方法
US9908846B2 (en) Composition, synthesis, and use of new arylsulfonyl isonitriles
CN115197118B (zh) 一种3,3双取代硫化氧化吲哚衍生物的合成方法
RU2223952C2 (ru) Производные n,s-замещенных n'-1-[(гетеро)арил]-n'-[(гетеро)арил]метилизотиомочевин или их солей с фармакологически приемлемыми кислотами нх, способы получения их солей и оснований, фармацевтическая композиция, способ лечения и способ изучения глутаматэргической системы
KR20190095441A (ko) 관능화된 시클릭 디티오카르바메이트 합성 방법
RU2819608C1 (ru) Способ получения тиометилированных производных пиррола и 2-(бензпиррол-3-ил)уксусной кислоты
CN115160292B (zh) 一种3-全氟烷基化硫代黄酮的合成方法
CN101233142A (zh) 通过二硫代氨基甲酸酯的光解制备烷氧基胺的方法
RU2091370C1 (ru) Способ получения органических дисульфидов
JP4405256B2 (ja) ２位及び３位に硫黄含有基を有するピリジンベース薬物中間体の合成
Wladislaw et al. New α-Sulfinyl-thioesters, as Precursors to Thioacrylates

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22911000

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1