WO2023120157A1 - 防汚層付き光学フィルムおよびその製造方法 - Google Patents

防汚層付き光学フィルムおよびその製造方法 Download PDF

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WO2023120157A1
WO2023120157A1 PCT/JP2022/044871 JP2022044871W WO2023120157A1 WO 2023120157 A1 WO2023120157 A1 WO 2023120157A1 JP 2022044871 W JP2022044871 W JP 2022044871W WO 2023120157 A1 WO2023120157 A1 WO 2023120157A1
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WO
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layer
film
antifouling layer
optical film
antifouling
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PCT/JP2022/044871
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English (en)
French (fr)
Inventor
幸大 宮本
豊 角田
智剛 梨木
Original Assignee
日東電工株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers

Definitions

  • the present invention relates to an optical film with an antifouling layer and a method for producing the same.
  • an optical film with an antifouling layer is attached to the outer surface of a display such as a touch panel display on the image display side.
  • An optical film with an antifouling layer includes a transparent substrate film and an antifouling layer disposed on the outermost surface on one side of the transparent substrate film.
  • the antifouling layer suppresses adhesion of contaminants such as oil from hands to the outer surface of the display, and facilitates removal of the adhering contaminants.
  • An optical film with an antifouling layer is manufactured, for example, by a roll-to-roll method from the viewpoint of manufacturing efficiency.
  • the antifouling layer forming step in the roll-to-roll method for example, while running a long transparent base film as a work film along the pass line in the same process, the base material is removed at a predetermined location in the pass line.
  • An antifouling layer is formed on one side in the thickness direction of the film.
  • the antifouling layer is formed from a highly water-repellent material by, for example, a wet coating method or a dry coating method.
  • the optical film with an antifouling layer (having an antifouling layer on its surface) is wound up by a take-up roller.
  • the antifouling layer on the outermost surface on one side of the transparent substrate film is in contact with the other side (back surface) of the same film.
  • a load is applied in the film thickness direction (roll radial direction).
  • the present inventors have obtained the following findings regarding the optical film with an antifouling layer produced as described above.
  • the antifouling layer material is easily transferred from the antifouling layer to the back surface of the transparent substrate film. This problem is particularly likely to occur when the antifouling layer is formed by a dry coating method. In addition, the above problem is more likely to occur as the antifouling layer formed is thicker.
  • the present invention provides a method for producing an optical film with an antifouling layer, which is suitable for producing an optical film with an antifouling layer by a roll-to-roll method while suppressing adhesion of an antifouling layer material to the back surface of a transparent substrate film. and an optical film with an antifouling layer.
  • the present invention [1] includes an antifouling layer forming step of forming an antifouling layer on one side in the thickness direction of the transparent base film while transporting the transparent base film by a roll-to-roll method, It includes a method for producing an optical film with an antifouling layer, wherein the surface free energy of the other side in the thickness direction of the transparent substrate film is 45 mN/m or less.
  • the present invention [2] includes the method for producing an optical film with an antifouling layer according to [1] above, wherein the surface free energy is 20 mN/m or more.
  • the present invention [3] includes the method for producing an optical film with an antifouling layer according to [1] or [2] above, wherein in the antifouling layer forming step, the antifouling layer is formed by a dry coating method.
  • the present invention [4] includes the method for producing an optical film with an antifouling layer according to any one of [1] to [3] above, wherein the antifouling layer has a thickness of 6 nm or more.
  • the present invention [5] comprises a transparent base film and an antifouling layer disposed on one side in the thickness direction of the transparent base film, wherein the other side in the thickness direction of the transparent base film has a free surface.
  • An optical film with an antifouling layer having an energy of 45 mN/m or less is included.
  • the present invention [6] includes the optical film with an antifouling layer according to [5] above, wherein the surface free energy is 20 mN/m or more.
  • the present invention [7] includes the optical film with an antifouling layer according to [5] or [6] above, wherein the antifouling layer is a dry coating film.
  • the present invention [8] includes the optical film with an antifouling layer according to any one of [5] to [7] above, wherein the antifouling layer has a thickness of 6 nm or more.
  • the surface free energy of the other side (back side) in the thickness direction of the transparent substrate film is 45 mN/m or less. Therefore, this production method is suitable for producing an optical film with an antifouling layer by a roll-to-roll method while suppressing adhesion of the antifouling layer material to the back surface of the transparent base film.
  • the optical film with an antifouling layer of the present invention comprises a transparent substrate film having a back surface with a surface free energy of 45 mN/m or less. Such an optical film with an antifouling layer is suitable for roll-to-roll production while suppressing adhesion of the antifouling layer material to the back surface of the transparent base film.
  • FIG. 1A shows a step of preparing a transparent substrate film
  • FIG. 1B shows a step of forming a hard coat layer
  • FIG. 1C shows an example of a transfer suppression treatment step.
  • 2A shows the step of forming the adhesion layer
  • FIG. 2B shows the step of forming the antireflection layer
  • FIG. 2C shows the step of forming the antifouling layer.
  • FIG. 1A is a preparation step (FIG. 1A), a hard coat layer forming step (FIG. 1B), a transfer suppression treatment step (FIG. 1C), and an adhesion layer forming step ( 2A), an antireflection layer forming step (FIG. 2B), and an antifouling layer forming step (FIG. 2C).
  • a preparation step FIG. 1A
  • a hard coat layer forming step FIG. 1B
  • FIG. 1C is a transfer suppression treatment step
  • FIG. 1C an adhesion layer forming step
  • 2A an antireflection layer forming step
  • FIG. 2C antifouling layer forming step
  • a resin film 11 is prepared as shown in FIG. 1A.
  • the resin film 11 has a long shape so that this manufacturing method can be carried out by a roll-to-roll system. Also, the resin film 11 has a first surface 11a and a second surface 11b opposite to the first surface 11a.
  • the resin film 11 is a flexible transparent resin film.
  • materials for the resin film 11 include polyester resin, polyolefin resin, polystyrene resin, acrylic resin, polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, norbornene resin, polyarylate resin, and A polyvinyl alcohol resin is mentioned.
  • Polyester resins include, for example, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate.
  • Polyolefin resins include, for example, polyethylene, polypropylene, and cycloolefin polymers (COP).
  • Cellulose resins include, for example, triacetyl cellulose (TAC).
  • the material for the resin film 11 one selected from the group consisting of polyester resin, polyolefin resin, and cellulose resin is used from the viewpoint of transparency and strength, and more preferably the group consisting of PET, COP, and TAC. A more selected one is used.
  • the first surface 11a of the resin film 11 (the surface on which the hard coat layer 12 described below is laminated) may be subjected to a surface modification treatment.
  • Surface modification treatments include, for example, corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, primer treatment, glow treatment, and coupling agent treatment.
  • the thickness of the resin film 11 is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more, and even more preferably 20 ⁇ m or more.
  • the thickness of the resin film 11 is preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less, from the viewpoint of handleability.
  • the total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the resin film 11 is preferably 80% or higher, more preferably 90% or higher, still more preferably 95% or higher. Such a configuration is preferable for ensuring the transparency required for the optical film F when the manufactured optical film (optical film F described later) is provided on the surface of a display such as a touch panel display.
  • the total light transmittance of the resin film 11 is, for example, 100% or less.
  • a hard coat layer 12 is formed on the resin film 11 as shown in FIG. 1B.
  • the transparent substrate film 10 including the resin film 11 and the hard coat layer 12 is obtained.
  • the hard coat layer 12 forms one surface (surface 10a) in the thickness direction D of the transparent base film 10 .
  • the hard coat layer 12 is a layer for making it difficult for scratches to form on the exposed surface of the optical film F (the upper surface in the figure for the optical film F shown in FIG. 2C).
  • a hard-coat layer formation process is implemented by a roll-to-roll system in this embodiment.
  • the hard coat layer 12 can be formed, for example, by applying a curable resin composition (varnish) on the first surface 11a of the resin film 11 to form a coating film, and then drying and curing the coating film.
  • a curable resin composition contains a curable resin and a solvent.
  • the hard coat layer 12 is a cured product of a curable resin composition (specifically, a curable resin).
  • curable resins examples include polyester resins, acrylic resins, urethane resins, acrylic urethane resins, amide resins, silicone resins, epoxy resins, and melamine resins. These curable resins may be used alone, or two or more of them may be used in combination. From the viewpoint of ensuring high hardness of the hard coat layer 12, acrylic urethane resin is preferably used as the curable resin.
  • curable resins include ultraviolet curable resins and thermosetting resins.
  • the coating film is cured by ultraviolet irradiation.
  • the curable resin composition contains a thermosetting resin, the coating film is cured by heating.
  • an ultraviolet curable resin is preferably used from the viewpoint of improving the production efficiency of the optical film F because it can be cured without heating to a high temperature.
  • the UV-curable resin includes at least one selected from the group consisting of UV-curable monomers, UV-curable oligomers, and UV-curable polymers. Specific examples of the composition containing an ultraviolet curable resin include the composition for forming a hard coat layer described in JP-A-2016-179686.
  • Solvents contained in the curable resin composition include, for example, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether. Acetate, dichloromethane, and chloroform are included.
  • the curable resin composition may contain fine particles.
  • the addition of fine particles to the curable resin composition is useful for adjusting the hardness, adjusting the surface roughness, adjusting the refractive index, and imparting antiglare properties of the hard coat layer 12 .
  • Microparticles include, for example, metal oxide particles, glass particles, and organic particles.
  • Materials for metal oxide particles include, for example, silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide.
  • Materials for the organic particles include, for example, polymethylmethacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic-styrene copolymers, benzoguanamine, melamine, and polycarbonate.
  • the thickness of the hard coat layer 12 is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 3 ⁇ m or more, and even more preferably 5 ⁇ m, from the viewpoint of ensuring the hardness of the surface 23a of the antifouling layer 23 described later by ensuring the hardness of the hard coat layer 12. That's it. From the viewpoint of ensuring the flexibility of the optical film F, the thickness of the hard coat layer 12 is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less, still more preferably 35 ⁇ m or less, and particularly preferably 30 ⁇ m or less.
  • a surface 12a (the surface on which the adhesion layer 21 described later is laminated) as one surface in the thickness direction D of the hard coat layer 12 is subjected to a surface modification treatment as necessary.
  • Surface modification treatments include, for example, plasma treatment, corona treatment, ozone treatment, primer treatment, glow treatment, and coupling agent treatment.
  • the surface 12a is preferably plasma-treated.
  • argon gas for example, is used as an inert gas.
  • the discharge power in the plasma treatment is, for example, 10 W or more and, for example, 10000 W or less.
  • the second surface 11b of the resin film 11, which is the other surface (back surface 10b) in the thickness direction D of the transparent substrate film 10, is subjected to transfer suppression treatment.
  • the transfer suppressing treatment include attaching a lubricant to the back surface 10b and forming a resin layer (transfer suppressing layer) containing the lubricant.
  • Lubricants include, for example, wax esters, natural waxes containing the wax esters, silicone-based lubricants, and fluorine-based lubricants.
  • Wax esters are, for example, esters of higher fatty acids and higher alcohols.
  • Wax esters include, for example, myricyl cerotate, myricyl palmitate, cetyl palmitate, and stearyl stearate.
  • Natural waxes containing wax esters include, for example, vegetable waxes and animal waxes. Vegetable waxes include, for example, carnauba wax (containing myricyl cerotinate as a main component) and palm wax.
  • Animal waxes include, for example, beeswax and spermaceti.
  • silicone-based lubricants include dimethylpolysiloxane and modified products thereof, carboxyl-modified silicone, ⁇ -methylstyrene-modified silicone, ⁇ -olefin-modified silicone, polyether-modified silicone, epoxy-modified silicone, amino-modified silicone, amide-modified silicone, and alcohol-modified silicones;
  • the transparent substrate film 10 includes a resin film 11, a hard coat layer 12 on the first surface 11a, and a transfer suppressing layer 13 on the second surface 11b.
  • the transfer suppressing layer 13 forms the other surface (back surface 10b) in the thickness direction D of the transparent substrate film 10 .
  • the transfer suppressing layer 13 can be formed, for example, by applying a curable resin composition (varnish) on the second surface 11b of the resin film 11 to form a coating film, and then drying and curing the coating film.
  • the curable resin composition for forming the transfer suppressing layer 13 contains, for example, a curable resin, the lubricant described above, and a solvent, and if necessary, further contains other components such as an antistatic agent. .
  • the transfer suppressing layer 13 is a cured product of such a curable resin composition.
  • the curable resin and solvent include, for example, the curable resins and solvents described above for the hard coat layer 12 .
  • the content of the lubricant in the transfer suppressing layer 13 is preferably 5% by mass or more, more preferably 8% by mass. Above, more preferably 10% by mass or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 45% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less.
  • the lubricant in the transfer suppressing layer 13 wax esters and natural waxes containing the wax esters are preferable because they are less likely to whiten even under hot and humid conditions. It is important for films that require optical transparency that components in the transfer inhibiting layer 13 are resistant to whitening.
  • the transfer suppressing layer 13 preferably contains an antistatic agent. Containing an antistatic agent in the transfer suppressing layer 13 is preferable for imparting antistatic properties to the optical film F and suppressing adhesion of foreign matter to the optical film F.
  • Antistatic agents include, for example, organic antistatic agents and inorganic antistatic agents.
  • Organic antistatic agents include, for example, cationic antistatic agents (having cationic functional groups such as quaternary ammonium salts, pyridinium salts, primary amino groups, secondary amino groups, and tertiary amino groups), and anionic antistatic agents.
  • Antistatic agents having anionic functional groups such as sulfonates, sulfates, phosphonates, and phosphates), zwitterionic antistatic agents (alkylbetaine and its derivatives, imidazoline and its derivatives, alanine and its derivatives, etc.), nonionic antistatic agents (aminoalcohol and its derivatives, glycerin and its derivatives, polyethylene glycol and its derivatives, etc.), and conductive polymers.
  • Conductive polymers include, for example, polythiophene, polyaniline, polypyrrole, polyethyleneimine, and allylamine.
  • inorganic antistatic agents include tin oxide, antimony oxide, indium oxide, cadmium oxide, titanium oxide, zinc oxide, indium, tin, antimony, gold, silver, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt , copper iodide, indium-tin composite oxide (ITO), and antimony-tin composite oxide (ATO).
  • the content of the antistatic agent in the transfer suppressing layer 13 is preferably 0.03% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, and still more preferably 0.1% by mass, from the viewpoint of ensuring good antistatic properties. % or more, preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less.
  • the thickness of the transfer suppressing layer 13 is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, and still more preferably 5 nm or more from the viewpoint of appropriately controlling the surface free energy of the back surface 10b of the transparent substrate film 10 within the range described later. be.
  • the thickness of the transfer suppressing layer 13 is preferably 1000 nm or less, more preferably 500 nm or less, and even more preferably 100 nm or less, from the viewpoints of ensuring good appearance of the optical film F and suppressing manufacturing costs.
  • the surface free energy of the back surface 10b of the transparent substrate film 10 is 45 mN/m or less, preferably 43 mN/m or less, more preferably 40 mN/m or less. Surface free energy is measured by the method described below with respect to the examples. The lower the surface free energy of the back surface 10b, the lower the affinity between the back surface 10b and an antifouling layer material such as an organic fluorine compound having a fluorinated alkyl group at its end.
  • the surface free energy of the back surface 10b of the transparent base film 10 is, for example, 15 mN/m or more from the viewpoint of properly transporting the transparent base film 10 (work film) in the roll-to-roll manufacturing process.
  • It is preferably 20 mN/m or more, more preferably 25 mN/m or more, and still more preferably 30 mN/m or more.
  • ⁇ d is the dispersive component of the surface free energy
  • ⁇ p is the polar component of the surface free energy
  • ⁇ h is the hydrogen bonding component of the surface free energy.
  • the method for obtaining the surface free energy is as described later with regard to Examples.
  • the adhesion layer 21 is a layer for ensuring adhesion of the inorganic oxide layer (antireflection layer 22 described later in this embodiment) to the organic layer (hard coat layer 12 in this embodiment).
  • materials for the adhesion layer 21 include metals such as silicon, nickel, chromium, aluminum, tin, gold, silver, platinum, zinc, titanium, tungsten, zirconium, and palladium, and alloys of two or more of these metals. , and oxides of these metals.
  • the adhesion layer 21 Indium tin oxide (ITO) or silicon oxide (SiOx) is preferably used as the material of .
  • ITO Indium tin oxide
  • SiOx silicon oxide
  • SiOx with less oxygen content than the stoichiometric composition is used, and more preferably SiOx with x of 1.2 or more and 1.9 or less is used.
  • the adhesion layer 21 is formed, for example, by depositing a material using a dry coating method. Dry coating methods include sputtering, vacuum deposition, and CVD, with sputtering being preferred.
  • a negative voltage is applied to the target placed on the cathode while gas is introduced into the sputtering chamber under vacuum conditions.
  • glow discharge is generated to ionize the gas atoms, and the gas ions collide with the target surface at high speed, ejecting the target material from the target surface and depositing the ejected target material on a predetermined surface.
  • Reactive sputtering is preferable as the sputtering method from the viewpoint of film formation rate.
  • a metal target is used as the target, and a mixed gas of an inert gas such as argon and oxygen (reactive gas) is used as the above gas.
  • Examples of power sources for carrying out the sputtering method include DC power sources, AC power sources, RF power sources, and MFAC power sources (AC power sources with a frequency band of several kHz to several MHz).
  • the discharge voltage in the sputtering method is, for example, 200 V or higher and, for example, 1000 V or lower.
  • the film forming pressure in the sputtering chamber where the sputtering method is performed is preferably 0.01 Pa or higher, more preferably 0.05 Pa or higher, and even more preferably 0.1 Pa or higher.
  • the film formation pressure is, for example, 2 Pa or less from the viewpoint of discharge stability.
  • the thickness of the adhesion layer 21 is preferably 1 nm or more and 10 nm or less from the viewpoint of ensuring both the adhesion between the hard coat layer 12 and the antireflection layer 22 and the transparency of the adhesion layer 21 .
  • the antireflection layer 22 is formed on one surface of the adhesion layer 21 in the thickness direction D.
  • the antireflection layer 22 is a layer for suppressing the reflection intensity of external light.
  • the antireflection layer 22 has high refractive index layers with a relatively high refractive index and low refractive index layers with a relatively low refractive index alternately in the thickness direction.
  • the net reflected light intensity is attenuated by interference between reflected light at multiple interfaces in multiple thin layers (high refractive index layer, low refractive index layer) included in the same layer.
  • the optical film thickness the product of the refractive index and the thickness
  • such antireflection layer 22 in the present embodiment includes a first high refractive index layer 22a, a first low refractive index layer 22b, a second high refractive index layer 22c, and a second low refractive index layer 22c. and a layer 22d in this order toward one side in the thickness direction D.
  • the first high refractive index layer 22a, the first low refractive index layer 22b, the second high refractive index layer 22c, and the second low refractive index layer 22d can each be formed by depositing materials using a dry coating method. Dry coating methods include sputtering, vacuum deposition, and CVD, with sputtering being preferred. As the sputtering method, reactive sputtering is preferable from the viewpoint of film formation speed.
  • the conditions of the sputtering method in this step are the same as those described above as the conditions of the sputtering method in the adhesion layer forming step.
  • Each of the first high refractive index layer 22a and the second high refractive index layer 22c is made of a high refractive index material having a refractive index of preferably 1.9 or more at a wavelength of 550 nm.
  • high refractive index materials include niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide, zirconium oxide, indium tin oxide (ITO), and Antimony tin oxide (ATO) is mentioned, preferably niobium oxide is used.
  • the optical film thickness (product of refractive index and thickness) of the first high refractive index layer 22a is, for example, 20 nm or more and, for example, 55 nm or less.
  • the optical film thickness of the second high refractive index layer 22c is, for example, 60 nm or more and is, for example, 330 nm or less.
  • Each of the first low refractive index layer 22b and the second low refractive index layer 22d is made of a low refractive index material having a refractive index of preferably 1.6 or less at a wavelength of 550 nm.
  • low refractive index materials include, for example, silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride, preferably silicon dioxide.
  • the optical film thickness of the first low refractive index layer 22b is, for example, 15 nm or more and, for example, 70 nm or less.
  • the optical film thickness of the second low refractive index layer 22d is, for example, 100 nm or more and is, for example, 160 nm or less.
  • the antifouling layer 23 is formed on one surface of the antireflection layer 22 in the thickness direction D by a roll-to-roll method.
  • the antifouling layer 23 is a layer having an antifouling function.
  • the antifouling function of the antifouling layer 23 includes a function of suppressing adhesion of contaminants such as oil from hands to the exposed surface (upper surface in the figure) of the optical film F, and a function of facilitating removal of adhering contaminants. .
  • the antifouling layer 23 is formed by depositing an antifouling layer material on the antireflection layer 22 by a dry coating method. That is, the antifouling layer 23 is a film (dry coating film) formed by a dry coating method. Dry coating methods include, for example, vacuum deposition, sputtering, and CVD.
  • the antifouling layer 23 is preferably a film (vacuum vapor deposition film) formed by a vacuum vapor deposition method.
  • the structure in which the antifouling layer 23 is a dry coating film (preferably a vacuum deposition film) is suitable for ensuring high bonding strength of the antifouling layer 23 to the base, and therefore suitable for ensuring the peeling resistance of the antifouling layer 23. .
  • the high antifouling property of the antifouling layer 23 helps to maintain the antifouling function of the antifouling layer 23 .
  • an organic fluorine compound having a fluorinated alkyl group at its terminal is preferably used as the material for the antifouling layer 23.
  • the organic fluorine compound is suitable for exhibiting excellent antifouling properties in the antifouling layer 23 by superimposing high hydrophobicity and high oleophobicity due to the terminal fluorinated alkyl group.
  • an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the following general formula (1) is preferably used.
  • R 1 represents a linear or branched fluorinated alkyl group (having, for example, 1 or more and 20 or less carbon atoms) in which one or more hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms. preferably represents a perfluoroalkyl group in which all hydrogen atoms in an alkyl group are substituted with fluorine atoms.
  • R 2 represents a structure containing at least one repeating structure of perfluoropolyether (PFPE) groups, preferably a structure containing two repeating structures of PFPE groups.
  • PFPE groups include repeating structures of linear PFPE groups and repeating structures of branched PFPE groups.
  • the repeating structure of the linear PFPE group for example, a structure represented by -(OC n F 2n ) p - (n represents an integer of 1 or more and 20 or less, p represents an integer of 1 or more and 50 or less The same applies below).
  • the repeating structure of the branched PFPE group for example, a structure represented by -(OC(CF 3 ) 2 ) p - and a structure represented by -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 ) p - is mentioned.
  • the repeating structure of the PFPE group preferably includes a repeating structure of a linear PFPE group, more preferably -(OCF 2 ) p - and -(OC 2 F 4 ) p -.
  • R 3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group.
  • X represents an ether group, a carbonyl group, an amino group, or an amide group, preferably an ether group.
  • n represents an integer of 1 or more.
  • m represents an integer of preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 5 or less.
  • alkoxysilane compounds having a perfluoropolyether group compounds represented by the following general formula (2) are preferably used.
  • q represents an integer of 1 or more and 50 or less
  • r represents an integer of 1 or more and 50 or less
  • alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
  • the thickness of the antifouling layer 23 is preferably 6 nm or more, more preferably 7 nm or more, from the viewpoint of ensuring the antifouling property of the antifouling layer 23 .
  • the thickness of the antifouling layer 23 is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, and even more preferably 18 nm or less from the viewpoint of suppressing peeling of the antifouling layer material.
  • a series of processes from the adhesion layer forming step to the antifouling layer forming step are carried out in one pass line while conveying the work film by a roll-to-roll method.
  • the work film is never exposed to the atmosphere.
  • the work film is wound up by a winding roller arranged at the end of the pass line.
  • the optical film F is manufactured as described above.
  • the optical film F includes a transparent substrate film 10, an adhesion layer 21, an antireflection layer 22, and an antifouling layer 23 in this order toward one side in the thickness direction D.
  • Optical film F is one embodiment of the optical film with an antifouling layer of the present invention.
  • the optical film F has a shape that spreads in a direction perpendicular to the thickness direction D (surface direction).
  • the optical film F is used with the transparent substrate film 10 side attached to an adherend via, for example, an adhesive.
  • the adherend include a transparent cover arranged on the image display side of a display such as a touch panel display.
  • the surface free energy of the back surface 10b of the transparent substrate film 10 is 45 mN/m or less, preferably 43 mN/m or less, more preferably 40 mN/m. It is below.
  • the configuration in which the surface free energy of the back surface 10b is as low as this is the antifouling layer-attached optical film F that is wound up on a take-up roller into a roll after the above-described antifouling layer forming step (FIG. 2C). It is suitable for suppressing the transfer of the antifouling layer material from the layer 23 to the back surface 10b of the transparent base film 10 .
  • Such transfer inhibition of the antifouling layer material helps achieve good antifouling properties in the antifouling layer 23 .
  • the transfer suppression of the antifouling layer material is good for the back surface 10b of the transparent base film 10 in the adhesive when the transparent base film 10 side of the optical film F is bonded to the adherend via the adhesive. Helps to develop stickiness.
  • the optical film with an antifouling layer in which the contact angle of the fluorine-based solvent on the back surface 10b of the transparent base film 10 is as low as described above, suppresses the adhesion of the antifouling layer material to the back surface 10b, and is rolled to roll. suitable for manufacturing.
  • the optical film F may be an optical film without the antireflection layer 22.
  • FIG. 3 shows an optical film F obtained by carrying out the antifouling layer forming step (FIG. 2C) after such a step.
  • the inorganic oxide underlayer 24 is formed by depositing a material using a dry coating method. Dry coating methods include sputtering, vacuum deposition, and CVD, with sputtering being preferred. Examples of the material of the inorganic oxide underlayer 24 include silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride, preferably silicon dioxide.
  • the thickness of the inorganic oxide underlayer 24 is preferably 50 nm or more, more preferably 65 nm or more, and still more preferably 80 nm or more, from the viewpoint of ensuring the peeling resistance of the antifouling layer 23 .
  • the thickness of the inorganic oxide underlayer 24 is, for example, 300 nm or less.
  • a hard coat layer was formed on one side of a long polyethylene terephthalate (PET) film (50 ⁇ m thick) as a transparent substrate film (hard coat layer forming step).
  • PET polyethylene terephthalate
  • a mixture of UV-curable monomers and oligomers (containing urethane acrylate as a main component) in a butyl acetate solution (trade name “Unidic 17-806”, solid content concentration 80% by mass, manufactured by DIC Corporation) ) 100 parts by mass (in terms of solid content), a photopolymerization initiator (trade name “IRGACURE906”, manufactured by BASF) 5 parts by mass, and a leveling agent (trade name “GRANDIC PC4100”, manufactured by DIC) 0.01 parts by mass were mixed to obtain a mixed liquid.
  • a mixed solvent of cyclopentanone (CPN) and propylene glycol monomethyl ether (PGM) (the mass ratio of CPN and PGM is 45:55) was added to adjust the solid content concentration of the mixed liquid to 36% by mass.
  • an ultraviolet curable resin composition (varnish) was prepared.
  • the resin composition was applied to one surface (first surface) of the PET film to form a coating film.
  • this coating film was dried by heating and then cured by UV irradiation. The heating temperature was 90° C. and the heating time was 60 seconds.
  • a high-pressure mercury lamp was used as a light source, ultraviolet rays with a wavelength of 365 nm were used, and the cumulative irradiation light amount was 300 mJ/cm 2 .
  • a series of processes from the formation of the coating film to the curing described above were carried out in one pass line in a roll-to-roll system. As a result, a hard coat layer (HC) having a thickness of 5 ⁇ m was formed on the PET film.
  • HC hard coat layer
  • a transfer suppressing layer (first transfer suppressing layer) was formed on the second surface of the PET film as follows.
  • a binder aqueous dispersion containing a polyester resin as a binder (product name "Binalol MD-1480", aqueous dispersion of saturated copolyester resin, resin content 25% by mass, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), carnauba as a slipping agent.
  • PEDT poly(3,4-ethylenedioxythiophene)
  • PSS polystyrene sulfonate
  • a conductive polymer aqueous solution (product name "Baytron P", manufactured by HC Stark) containing .8% by weight was prepared.
  • 100 parts by mass of solid content of the aqueous dispersion of binder, 30 parts by mass of solid content of the aqueous dispersion of lubricant, and 30 parts by mass of solid content of the above aqueous dispersion of conductive polymer are added.
  • 50 parts by mass of solid content and 20 parts by mass of melamine-based cross-linking agent were added and mixed by stirring for about 20 minutes. As a result, a coating liquid having a solid concentration of about 0.15% by mass was obtained.
  • the second surface of the PET film was subjected to corona treatment.
  • the coating liquid was applied to the second surface (corona-treated surface) with a bar coater to form a coating film, and then the coating film was dried by heating at 130° C. for 2 minutes. Thereby, a transfer suppressing layer having a thickness of 10 nm was formed on the second surface.
  • a long roll-shaped PET film having the HC layer formed on the first surface and the transfer suppressing layer formed on the second surface was obtained.
  • the roll-shaped HC layer-attached PET film is set as a work film on the delivery roller arranged at the starting end of the pass line, and the work film is delivered from the delivery roller.
  • the work film is never exposed to the atmosphere during the process.
  • the work film is wound up by a winding roller arranged at the end of the pass line.
  • the HC layer surface of the HC layer-attached PET film was plasma-treated under a vacuum atmosphere of 1.0 Pa in a plasma treatment apparatus (HC layer pretreatment step).
  • a plasma treatment apparatus HC layer pretreatment step
  • argon gas was used as an inert gas
  • the discharge power was 780W.
  • an adhesion layer and an antireflection layer were sequentially formed on the HC layer of the HC layer-attached PET film after the plasma treatment (sputter film formation step).
  • a 1.5 nm-thick indium tin oxide (ITO) layer as an adhesion layer and a first high refractive index layer were formed on the HC layer of the HC layer-attached PET film by a sputtering deposition apparatus.
  • An SiO 2 layer with a thickness of 85 nm as a refractive index layer was formed in succession.
  • an ITO target was used, argon gas was used as an inert gas, oxygen gas was used as a reactive gas in an amount of 10 parts by volume with respect to 100 parts by volume of argon gas, and the discharge voltage was set to 400 V.
  • the pressure in the film chamber was set to 0.2 Pa, and the ITO layer was formed by MFAC sputtering.
  • a Nb target is used, 100 parts by volume of argon gas and 5 parts by volume of oxygen gas are used, the discharge voltage is 415 V, the film formation pressure is 0.42 Pa, and the Nb target is formed by MFAC sputtering. 2 O 5 layers were deposited.
  • a Si target is used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas are used, the discharge voltage is 350 V, the film formation pressure is 0.3 Pa, and MFAC sputtering is performed to form SiO. Two layers were deposited.
  • a Nb target is used, 100 parts by volume of argon gas and 13 parts by volume of oxygen gas are used, the discharge voltage is 460 V, the film formation pressure is 0.5 Pa, and the Nb target is formed by MFAC sputtering. 2 O 5 layers were deposited.
  • a Si target is used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas are used, the discharge voltage is 340 V, the film formation pressure is 0.25 Pa, and MFAC sputtering is performed to form SiO. Two layers were deposited. As described above, antireflection layers (first high refractive index layer, first low refractive index layer, second high refractive index layer, second low refractive index layer) was laminated.
  • an antifouling layer was formed on the antireflection layer (antifouling layer forming step). Specifically, an antifouling layer having a thickness of 10 nm was formed on the antireflection layer by a vacuum deposition method using a vacuum deposition apparatus.
  • a vacuum deposition method an alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group was used as a deposition source.
  • This vapor deposition source is a solid content obtained by drying "KY1903-1" (perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound, solid content concentration 20% by mass) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the heating temperature of the vapor deposition source in the vacuum vapor deposition method was set to 260.degree.
  • the optical film of Example 1 (a long roll-shaped optical film with an antifouling layer) was produced.
  • the optical film of Example 1 includes a transparent base film (a hard coat layer forms one side and the first transfer suppressing layer forms a rear side as the other side), an adhesion layer, an antireflection layer, and an antifouling layer. and in this order.
  • Example 2 In the transfer suppression treatment step, the optical film of Example 2 (a long roll-shaped An optical film with an antifouling layer) was produced.
  • the transfer suppression treatment step in this example while conveying the work film by a roll-to-roll method, first, on the second surface of the PET film with the above-mentioned HC layer, indium tin oxide having a thickness of 1.5 nm ( ITO) layer and a 10 nm-thick SiO2 layer thereon are sequentially formed by sputtering to form an adhesion layer, and then a 10-nm-thick second transfer inhibiting layer is formed on the adhesion layer by a vacuum evaporation method. formed.
  • ITO indium tin oxide having a thickness of 1.5 nm
  • SiO2 10 nm-thick SiO2
  • a perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound (solid content obtained by drying "KY1903-1" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is used as the deposition source, and the heating temperature of the deposition source is set to The temperature was set at 260° C. (similar to the vacuum deposition method in the antifouling layer forming step in Example 1).
  • the optical film of Example 2 comprises a transparent substrate film (a hard coat layer forms one surface and a second transfer suppressing layer forms a rear surface as the other surface), a hard coat layer, an adhesion layer, and an antireflection layer. and an antifouling layer in this order.
  • Comparative Example 1 An optical film of Comparative Example 1 (a long roll-shaped optical film with an antifouling layer) was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except that the transfer suppression treatment step was not performed.
  • ⁇ Thickness of antifouling layer> The thickness of the antifouling layer in each optical film of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was measured.
  • a scanning fluorescent X-ray spectrometer (trade name “ZSX Primus II”, manufactured by Rigaku Corporation) was used for the measurement.
  • Table 1 shows the measured thickness T1 (nm) of the antifouling layer.
  • ⁇ Transfer of antifouling layer material> The degree of transfer of the antifouling layer material to the second surface (rear surface) of the transparent substrate film in each of the optical films of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was examined. Specifically, the thickness of the antifouling layer material transferred to the back surface of the transparent substrate film was measured. A scanning fluorescent X-ray spectrometer (trade name “ZSX Primus II”, manufactured by Rigaku Corporation) was used for the measurement. Table 1 shows the measured thickness T2 (nm).
  • the surface free energy of the back surface (second surface) of the transparent substrate film in each of the optical films of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was determined as follows. First, under conditions of 23° C. and a relative humidity of 55%, water (H 2 O), methylene iodide (CH 2 I 2 ) and 1-bromonaphthalene, the contact angle was measured using a contact angle meter for each droplet (approximately 1 ⁇ L). For this measurement, a contact angle meter (product name: "CA-X type contact angle meter", manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used.
  • the optical film with an antifouling layer of the present invention can be applied to, for example, an antireflection film with an antifouling layer, a transparent conductive film with an antifouling layer, and an electromagnetic shielding film with an antifouling layer.
  • Optical film (optical film with antifouling layer) D thickness direction 10 transparent substrate film 11 resin film 10a front surface 10b back surface 12 hard coat layer 13 transfer suppressing layer 21 adhesion layer 22 antireflection layer 22a first high refractive index layer 22b first low refractive index layer 22c second high refractive index index layer 22d second low refractive index layer 23 antifouling layer 23a surface

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本発明の防汚層付き光学フィルム（Ｆ）の製造方法は、透明基材フィルム（１０）をロールトゥロール方式で搬送しながら当該透明基材フィルム（１０）の厚さ方向（Ｄ）一方面側に防汚層（２３）を形成する工程を含む。透明基材フィルム（１０）の厚さ方向（Ｄ）他方面の表面自由エネルギーは、４５ｍＮ/ｍ以下である。本発明の防汚層付き光学フィルム（Ｆ）は、透明基材フィルム（１０）と、透明基材フィルム（１０）の厚さ方向（Ｄ）一方面側に配置された防汚層（２３）とを備える。透明基材フィルム（１０）の厚さ方向（Ｄ）他方面の表面自由エネルギーは、４５ｍＮ/ｍ以下である。

Description

防汚層付き光学フィルムおよびその製造方法
　本発明は、防汚層付き光学フィルムおよびその製造方法に関する。
　タッチパネルディスプレイなどのディスプレイにおける画像表示側の外表面には、防汚性の観点から、例えば、防汚層付き光学フィルムが貼り合わせられる。防汚層付き光学フィルムは、透明基材フィルムと、当該透明基材フィルムの一方面側の最表面に配置された防汚層とを備える。防汚層により、ディスプレイの外表面において、手脂などの汚染物質の付着が抑制され、また、付着した汚染物質が除去されやすくなる。このような防汚層付き光学フィルムに関する技術については、例えば下記の特許文献１に記載されている。
特開２０１７－２２７８９８号公報
　防汚層付き光学フィルムは、製造効率の観点から、例えばロールトゥロール方式で製造される。ロールトゥロール方式での防汚層形成工程では、例えば、同工程のパスラインに沿って長尺の透明基材フィルムをワークフィルムとして走行させながら、パスライン中の所定箇所にて、当該基材フィルムの厚さ方向一方面側に防汚層が形成される。防汚層は、例えば、ウェットコーティング法またはドライコーティング法により、撥水性の高い材料から形成される。パスラインの終端では、防汚層付き光学フィルム（表面に防汚層を有する）が、巻取りローラーによって巻き取られる。これによって得られるロール状の防汚層付き光学フィルムでは、透明基材フィルムの一方面側の最表面の防汚層が、同フィルムの他方面（裏面）と接する。また、ロール状の防汚層付き光学フィルムでは、フィルム厚さ方向（ロール径方向）に荷重がかかる。
　以上のようにして製造される防汚層付き光学フィルムについて、本発明者らは、次のような知見を得た。ロール状の防汚層付き光学フィルムでは、防汚層から透明基材フィルムの裏面に防汚層材料が転写されやすい。この不具合は、防汚層がドライコーティング法によって形成される場合に、特に生じやすい。また、前記不具合は、形成される防汚層が厚いほど生じやすい。
　本発明は、透明基材フィルムの裏面への防汚層材料の付着を抑制しつつロールトゥロール方式で防汚層付き光学フィルムを製造するのに適した、防汚層付き光学フィルムの製造方法、および、防汚層付き光学フィルムを提供する。
　本発明［１］は、透明基材フィルムをロールトゥロール方式で搬送しながら、当該透明基材フィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する、防汚層形成工程を含み、前記透明基材フィルムの厚さ方向他方面の表面自由エネルギーが４５ｍＮ/ｍ以下である、防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
　本発明［２］は、前記表面自由エネルギーが２０ｍＮ/ｍ以上である、上記［１］に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
　本発明［３］は、前記防汚層形成工程では、ドライコーティング法によって前記防汚層を形成する、上記［１］または［２］に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
　本発明［４］は、前記防汚層が、６ｎｍ以上の厚さを有する、上記［１］から［３］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。
　本発明［５］は、透明基材フィルムと、前記透明基材フィルムの厚さ方向一方面側に配置された防汚層とを備え、前記透明基材フィルムの厚さ方向他方面の表面自由エネルギーが４５ｍＮ/ｍ以下である、防汚層付き光学フィルムを含む。
　本発明［６］は、前記表面自由エネルギーが２０ｍＮ/ｍ以上である、上記［５］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
　本発明［７］は、前記防汚層がドライコーティング膜である、上記［５］または［６］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
　本発明［８］は、前記防汚層が、６ｎｍ以上の厚さを有する、上記［５］から［７］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含む。
　本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法では、透明基材フィルムの厚さ方向他方面（裏面）の表面自由エネルギーが４５ｍＮ/ｍ以下である。そのため、本製造方法は、透明基材フィルムの裏面への防汚層材料の付着を抑制しつつ、ロールトゥロール方式で防汚層付き光学フィルムを製造するのに適する。また、本発明の防汚層付き光学フィルムは、表面自由エネルギーが４５ｍＮ/ｍ以下の裏面を有する透明基材フィルムを備える。このような防汚層付き光学フィルムは、透明基材フィルム裏面への防汚層材料の付着を抑制しつつ、ロールトゥロール方式で製造するのに適する。
本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法の一実施形態における一部の工程を表す。図１Ａは、透明基材フィルムを用意する工程を表し、図１Ｂは、ハードコート層を形成する工程を表し、図１Ｃは、転写抑制処理工程の一例を表す。 図１Ｃに示す工程の後に続く工程を表す。図２Ａは、密着層を形成する工程を表し、図２Ｂは、反射防止層を形成する工程を表し、図２Ｃは、防汚層を形成する工程を表す。 本発明の防汚層付き光学フィルムの一の変形例を表す。本変形例では、反射防止層は設けられていない。
　図１および図２は、本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法の一実施形態の工程図である。防汚層付き光学フィルムの製造方法は、本実施形態では、用意工程（図１Ａ）と、ハードコート層形成工程（図１Ｂ）と、転写抑制処理工程（図１Ｃ）と、密着層形成工程（図２Ａ）と、反射防止層形成工程（図２Ｂ）と、防汚層形成工程（図２Ｃ）とを含む。具体的には、以下のとおりである。
　まず、用意工程では、図１Ａに示すように、樹脂フィルム１１を用意する。樹脂フィルム１１は、本実施形態では、ロールトゥロール方式で本製造方法を実施できるように長尺形状を有する。また、樹脂フィルム１１は、第１面１１ａと、当該第１面１１ａとは反対側の第２面１１ｂとを有する。
　樹脂フィルム１１は、可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。樹脂フィルム１１の材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、およびポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、およびポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これら材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。樹脂フィルム１１の材料としては、透明性および強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、およびセルロース樹脂からなる群より選択される一つが用いられ、より好ましくは、ＰＥＴ、ＣＯＰ、およびＴＡＣからなる群より選択される一つが用いられる。
　樹脂フィルム１１の第１面１１ａ（後述のハードコート層１２が積層される表面）は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。
　樹脂フィルム１１の厚さは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。樹脂フィルム１１の厚さは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
　樹脂フィルム１１の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５－２００８）は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９５％以上である。このような構成は、製造される光学フィルム（後記の光学フィルムＦ）が、タッチパネルディスプレイなどのディスプレイの表面に備えられる場合に、当該光学フィルムＦに求められる透明性を確保するのに好ましい。樹脂フィルム１１の全光線透過率は、例えば１００％以下である。
　次に、ハードコート層形成工程では、図１Ｂに示すように、樹脂フィルム１１上にハードコート層１２を形成する。これにより、樹脂フィルム１１とハードコート層１２とを備える透明基材フィルム１０が得られる。ハードコート層１２は、透明基材フィルム１０における厚さ方向Ｄの一方面（表面１０ａ）を形成する。ハードコート層１２は、光学フィルムＦの露出表面（図２Ｃに示す光学フィルムＦでは図中上面）に擦り傷が形成されにくくするための層である。ハードコート層形成工程は、本実施形態ではロールトゥロール方式で実施される。
　ハードコート層１２は、例えば、樹脂フィルム１１の第１面１１ａ上に硬化性樹脂組成物（ワニス）を塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を乾燥および硬化させることによって形成できる。硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂と溶剤とを含有する。ハードコート層１２は、硬化性樹脂組成物（具体的には硬化性樹脂）の硬化物である。
　硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルウレタン樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、およびメラミン樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層１２の高硬度の確保の観点からは、硬化性樹脂としては、好ましくはアクリルウレタン樹脂が用いられる。
　また、硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂、および、熱硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂を含有する場合には、紫外線照射によって上記塗膜を硬化させる。硬化性樹脂組成物が熱硬化性樹脂を含有する場合には、加熱によって上記塗膜を硬化させる。高温加熱せずに硬化可能であるために光学フィルムＦの製造効率向上に役立つ観点から、硬化性樹脂としては、好ましくは紫外線硬化性樹脂が用いられる。紫外線硬化性樹脂には、紫外線硬化型モノマー、紫外線硬化型オリゴマー、および紫外線硬化型ポリマーからなる群より選択される少なくとも一種類が含まれる。紫外線硬化性樹脂を含有する組成物の具体例としては、特開２０１６－１７９６８６号公報に記載のハードコート層形成用組成物が挙げられる。
　硬化性樹脂組成物が含有する溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジクロロメタン、およびクロロホルムが挙げられる。
　硬化性樹脂組成物は、微粒子を含有してもよい。硬化性樹脂組成物に対する微粒子の配合は、ハードコート層１２における硬さの調整、表面粗さの調整、屈折率の調整、および防眩性の付与に、役立つ。微粒子としては、例えば、金属酸化物粒子、ガラス粒子、および有機粒子が挙げられる。金属酸化物粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウム、および酸化アンチモンが挙げられる。有機粒子の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル・スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、およびポリカーボネートが挙げられる。
　ハードコート層１２の厚さは、ハードコート層１２の硬度の確保による後記の防汚層２３の表面２３ａの硬度の確保の観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上、更に好ましくは５μｍ以上である。ハードコート層１２の厚さは、光学フィルムＦの柔軟性確保の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。
　ハードコート層１２における厚さ方向Ｄの一方面としての表面１２ａ（後述の密着層２１が積層される表面）は、必要に応じて表面改質処理される。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。ハードコート層１２と密着層２１との間において高い密着力を確保する観点からは、表面１２ａは、好ましくはプラズマ処理される。表面１２ａをプラズマ処理する場合、不活性ガスとして例えばアルゴンガスを用いる。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば１０Ｗ以上であり、また、例えば１００００Ｗ以下である。
　次に、透明基材フィルム１０における厚さ方向Ｄの他方面（裏面１０ｂ）としての、樹脂フィルム１１の第２面１１ｂを、転写抑制処理する。転写抑制処理としては、例えば、裏面１０ｂに滑剤を付着させること、および、滑剤を含有する樹脂層（転写抑制層）を形成することが挙げられる。
　滑剤としては、例えば、ワックスエステル、当該ワックスエステルを含有する天然ワックス、シリコーン系滑剤、およびフッ素系滑剤が挙げられる。ワックスエステルは、例えば、高級脂肪酸と高級アルコールとのエステルである。ワックスエステルとしては、例えば、セロチン酸ミリシル、パルミチン酸ミリシル、パルミチン酸セチル、およびステアリル酸ステアリルが挙げられる。ワックスエステルを含有する天然ワックスとしては、例えば、植物性ワックスおよび動物性ワックスが挙げられる。植物性ワックスとしては、例えば、カルナバワックス（セロチン酸ミリシルを主成分として含有する）およびパームワックスが挙げられる。動物性ワックスとしては、例えば、蜜ロウおよび鯨ロウが挙げられる。シリコーン系滑剤としては、例えば、ジメチルポリシロキサンおよびその変性物、カルボキシル変性シリコーン、αメチルスチレン変性シリコーン、αオレフィン変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、アミド変性シリコーン、および、アルコール変性シリコーンが挙げられる。
　転写抑制処理工程では、図１Ｃに示すように、樹脂フィルム１１の第２面１１ｂ上に転写抑制層１３を形成するのが好ましい。この場合、透明基材フィルム１０は、樹脂フィルム１１と、第１面１１ａ上のハードコート層１２と、第２面１１ｂ上の転写抑制層１３とを備える。転写抑制層１３は、透明基材フィルム１０における厚さ方向Ｄの他方面（裏面１０ｂ）を形成する。転写抑制層１３は、例えば、樹脂フィルム１１の第２面１１ｂ上に硬化性樹脂組成物（ワニス）を塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を乾燥および硬化させることによって形成できる。転写抑制層１３を形成するための硬化性樹脂組成物は、例えば、硬化性樹脂と、上述の滑剤と、溶剤とを含有し、必要に応じて帯電防止剤などの他の成分を更に含有する。転写抑制層１３は、そのような硬化性樹脂組成物の硬化物である。硬化性樹脂および溶剤としては、例えば、ハードコート層１２に関して上記した硬化性樹脂および溶剤が挙げられる。
　転写抑制層１３における上記滑剤の含有量は、透明基材フィルム１０の裏面１０ｂの表面自由エネルギーを例えば後記の範囲に適度に制御する観点から、好ましくは５質量％以上、より好ましくは８質量％以上、更に好ましくは１０質量％以上であり、また、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４５質量％以下、更に好ましくは４０質量％以下である。転写抑制層１３における滑剤としては、ワックスエステル、および、当該ワックスエステルを含有する天然ワックスが、高温多湿条件下でも白化しにくいことから、好ましい。転写抑制層１３内の成分が白化しにくいことは、光学的な透明性が要求されるフィルムにとって重要である。
　転写抑制層１３は、好ましくは、帯電防止剤を含有する。転写抑制層１３が帯電防止剤を含有することは、光学フィルムＦに帯電防止性を付与して当該光学フィルムＦへの異物の付着を抑制するのに好ましい。帯電防止剤としては、例えば、有機帯電防止剤および無機帯電防止剤が挙げられる。有機帯電防止剤としては、例えば、カチオン型帯電防止剤（４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１アミノ基、第２アミノ基、第３アミノ基などのカチオン性官能基を有する）、アニオン型帯電防止剤（スルホン酸塩、硫酸エステル塩、ホスホン酸塩、リン酸エステル塩などのアニオン性官能基を有する）、両性イオン型帯電防止剤（アルキルベタインおよびその誘導体、イミダゾリンおよびその誘導体、アラニンおよびその誘導体など）、ノニオン型帯電防止剤（アミノアルコールおよびその誘導体、グリセリンおよびその誘導体、ポリエチレングリコールおよびその誘導体など）、および導電性ポリマーが挙げられる。導電性ポリマーとしては、例えば、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリエチレンイミン、およびアリルアミンが挙げられる。無機帯電防止剤としては、例えば、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化亜鉛、インジウム、錫、アンチモン、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、ヨウ化銅、インジウム・スズ複合酸化物（ＩＴＯ）、およびアンチモン・スズ複合酸化物（ＡＴＯ）が挙げられる。
　転写抑制層１３における帯電防止剤の含有量は、良好な帯電防止性を確保する観点から、好ましくは０.０３質量％以上、より好ましくは０.０５質量％以上、更に好ましくは０.１質量％以上であり、また、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下である。
　転写抑制層１３の厚さは、透明基材フィルム１０の裏面１０ｂの表面自由エネルギーを後記の範囲に適度に制御する観点から、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは３ｎｍ以上、更に好ましくは５ｎｍ以上である。転写抑制層１３の厚さは、光学フィルムＦの良好な外観の確保と製造コスト抑制の観点から、好ましくは１０００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、更に好ましくは１００ｎｍ以下である。
　透明基材フィルム１０の裏面１０ｂの表面自由エネルギーは、４５ｍＮ/ｍ以下であり、好ましくは４３ｍＮ/ｍ以下、より好ましくは４０ｍＮ/ｍ以下である。表面自由エネルギーは、実施例に関して後述する方法によって測定される。裏面１０ｂの表面自由エネルギーが低いほど、フッ化アルキル基を末端に有する後述の有機フッ素化合物などの防汚層材料と裏面１０ｂとの親和性は低い。また、透明基材フィルム１０の裏面１０ｂの表面自由エネルギーは、ロールトゥロール方式の製造プロセスにおいて透明基材フィルム１０（ワークフィルム）を適切に搬送する観点からは、例えば１５ｍＮ/ｍ以上であり、好ましくは２０ｍＮ/ｍ以上、より好ましくは２５ｍＮ/ｍ以上、更に好ましくは３０ｍＮ/ｍ以上である。裏面１０ｂの表面自由エネルギーが低いほど、ロールトゥロール方式の製造プロセスにおいて、当該裏面１０ｂは滑りやすく、一定速度で透明基材フィルム１０（ワークフィルム）を搬送し続けることは難しくなる。
　表面自由エネルギーγは、本実施形態では、γ＝γｄ＋γｐ＋γｈによって表される値であり、北崎－畑の理論（日本接着協会誌，Vol.8, No.3, p.131-141, 1972）により求められる。ここで、式中のγｄは、表面自由エネルギーの分散成分であり、γｐは、表面自由エネルギーの極性成分であり、γｈは、表面自由エネルギーの水素結合成分である。表面自由エネルギーの求め方は、具体的には、実施例に関して後述するとおりである。
　次に、密着層形成工程では、図２Ａに示すように、ハードコート層１２の表面１２ａ上に、密着層２１を形成する。密着層２１は、有機層（本実施形態ではハードコート層１２）に対する無機酸化物層（本実施形態では後述の反射防止層２２）の密着力を確保するための層である。このような密着層２１の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム等の金属、これら金属の２種類以上の合金、および、これら金属の酸化物が挙げられる。有機層（本実施形態ではハードコート層１２）および無機酸化物層（本実施形態では反射防止層２２）の両方に対する密着性と、密着層２１の透明性との両立の観点から、密着層２１の材料としては、好ましくは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）または酸化シリコン（ＳｉＯｘ）が用いられる。密着層２１の材料として酸化シリコンが用いられる場合、好ましくは、化学量論組成よりも酸素量の少ないＳｉＯｘが用いられ、より好ましくは、ｘが１.２以上１.９以下のＳｉＯｘが用いられる。
　密着層２１は、例えば、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成する。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。
　スパッタリング法では、スパッタ室内に真空条件下でガスを導入しつつ、カソード上に配置されたターゲットにマイナスの電圧を印加する。これにより、グロー放電を発生させてガス原子をイオン化し、当該ガスイオンを高速でターゲット表面に衝突させ、ターゲット表面からターゲット材料を弾き出し、弾き出たターゲット材料を所定面上に堆積させる。成膜速度の観点から、スパッタリング法としては、反応性スパッタリングが好ましい。反応性スパッタリングでは、ターゲットとして金属ターゲットを用い、上述のガスとして、アルゴンなどの不活性ガスと酸素（反応性ガス）との混合ガスを用いる。不活性ガスと酸素との流量比（ｓｃｃｍ）の調整により、成膜される無機酸化物に含まれる酸素の割合を調整できる。
　スパッタリング法を実施するための電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＲＦ電源、および、ＭＦＡＣ電源（周波数帯が数ｋＨｚ～数ＭＨｚのＡＣ電源）が挙げられる。スパッタリング法における放電電圧は、例えば２００Ｖ以上であり、また、例えば１０００Ｖ以下である。また、スパッタリング法が実施されるスパッタ室内の成膜気圧は、好ましくは０.０１Ｐａ以上、より好ましくは０.０５Ｐａ以上、更に好ましくは０.１Ｐａ以上である。また、成膜気圧は、放電安定性の観点から、例えば２Ｐａ以下である。
　密着層２１の厚さは、ハードコート層１２と反射防止層２２との間の密着力の確保と、密着層２１の透明性との両立の観点から、好ましくは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。
　次に、反射防止層形成工程では、図２Ｂに示すように、密着層２１における厚さ方向Ｄの一方面上に、反射防止層２２を形成する。反射防止層２２は、外光の反射強度を抑制するための層である。
　反射防止層２２は、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを、厚さ方向に交互に有する。反射防止層２２では、同層に含まれる複数の薄層（高屈折率層，低屈折率層）における複数の界面での反射光間の干渉作用により、正味の反射光強度が減衰される。また、反射防止層２２では、各薄層の光学膜厚（屈折率と厚さとの積）の調整により、反射光強度を減衰させる干渉作用を発現させることができる。このような反射防止層２２は、本実施形態において具体的には、第１高屈折率層２２ａと、第１低屈折率層２２ｂと、第２高屈折率層２２ｃと、第２低屈折率層２２ｄとを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で有する。
　第１高屈折率層２２ａ、第１低屈折率層２２ｂ、第２高屈折率層２２ｃ、および第２低屈折率層２２ｄは、それぞれ、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成できる。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。スパッタリング法としては、成膜速度の観点から、反応性スパッタリングが好ましい。本工程でのスパッタリング法の条件は、密着層形成工程でのスパッタリング法の条件として上記したのと同様である。
　第１高屈折率層２２ａおよび第２高屈折率層２２ｃは、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.９以上の高屈折率材料からなる。高屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、高屈折率材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン、酸化ジルコニウム、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、およびアンチモンスズ酸化物（ＡＴＯ）が挙げられ、好ましくは酸化ニオブが用いられる。
　第１高屈折率層２２ａの光学膜厚（屈折率と厚さとの積）は、例えば２０ｎｍ以上であり、また、例えば５５ｎｍ以下である。第２高屈折率層２２ｃの光学膜厚は、例えば６０ｎｍ以上であり、また、例えば３３０ｎｍ以下である。
　第１低屈折率層２２ｂおよび第２低屈折率層２２ｄは、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.６以下の低屈折率材料からなる。低屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、低屈折率材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）およびフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。
　第１低屈折率層２２ｂの光学膜厚は、例えば１５ｎｍ以上であり、また、例えば７０ｎｍ以下である。第２低屈折率層２２ｄの光学膜厚は、例えば１００ｎｍ以上であり、また、例えば１６０ｎｍ以下である。
　次に、防汚層形成工程では、図２Ｃに示すように、反射防止層２２における厚さ方向Ｄの一方面上に、ロールトゥロール方式で防汚層２３を形成する。防汚層２３は、防汚機能を有する層である。防汚層２３の防汚機能には、光学フィルムＦの露出面（図中上面）に対する手脂などの汚染物質の付着の抑制機能、および、付着した汚染物質を除去しやすくする機能が含まれる。
　防汚層２３は、ドライコーティング法によって防汚層材料を反射防止層２２上に成膜することによって形成する。すなわち、防汚層２３は、ドライコーティング法によって形成された膜（ドライコーティング膜）である。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびＣＶＤが挙げられる。防汚層２３は、好ましくは、真空蒸着法で形成された膜（真空蒸着膜）である。防汚層２３が、ドライコーティング膜（好ましくは真空蒸着膜）である構成は、下地に対する防汚層２３の高い接合力の確保に適し、従って、防汚層２３の耐剥離性の確保に適する。防汚層２３の耐剥離性が高いことは、防汚層２３の防汚機能の維持に役立つ。
　防汚層２３の材料としては、好ましくは、フッ化アルキル基を末端に有する有機フッ素化合物が用いられる。当該有機フッ素化合物は、末端フッ化アルキル基に起因する高い疎水性と高い疎油性との重畳的発現により、防汚層２３において優れた防汚性を発現させるのに適する。このような有機フッ素化合物としては、好ましくは、下記の一般式（１）で表される、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が用いられる。
　Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－(ＣＨ２)ｍ－Ｓｉ(ＯＲ３)３　　　（１）
　一般式（１）において、Ｒ１は、アルキル基における一つ以上の水素原子がフッ素原子に置換された、直鎖状または分岐状のフッ化アルキル基（炭素数は例えば１以上２０以下）を表し、好ましくは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換されたパーフルオロアルキル基を表す。
　Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）基の繰り返し構造を少なくとも一つ含む構造を表し、好ましくは、ＰＦＰＥ基の繰り返し構造を二つ含む構造を表す。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造、および、分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられる。直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣｎＦ２ｎ)ｐ－で表される構造（ｎは、１以上２０以下の整数を表し、ｐは、１以上５０以下の整数を表す。以下同じ）が挙げられる。分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣ(ＣＦ３)２)ｐ－で表される構造、および、－(ＯＣＦ２ＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２)ｐ－で表される構造が挙げられる。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、好ましくは、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられ、より好ましくは、－(ＯＣＦ２)ｐ－および－(ＯＣ２Ｆ４)ｐ－が挙げられる。
　Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を表し、好ましくはメチル基を表す。
　Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、好ましくはエーテル基を表す。
　ｍは、１以上の整数を表す。また、ｍは、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下の整数を表す。
　このようなパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物のうち、好ましくは、下記の一般式（２）に示される化合物が用いられる。
ＣＦ３－(ＯＣＦ２)ｑ－(ＯＣ２Ｆ４)ｒ－Ｏ－(ＣＨ２)３－Ｓｉ(ＯＣＨ３)３ (２)
　一般式（２）において、ｑは、１以上５０以下の整数を表し、ｒは、１以上５０以下の整数を表す。
　また、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。
　本工程では、防汚層２３の厚さは、防汚層２３の防汚性の確保の観点から、好ましくは６ｎｍ以上、より好ましくは７ｎｍ以上である。また、防汚層２３の厚さは、防汚層材料の剥離抑制の観点から、好ましくは２５ｎｍ以下、より好ましくは２０ｎｍ以下、更に好ましくは１８ｎｍ以下である。
　好ましくは、上述の密着層形成工程から防汚層形成工程までの一連のプロセスを、ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら、一つのパスラインで実施する。一つのパスラインでのプロセス中、ワークフィルムは一度も大気中に出されない。パスラインの終端に配置されている巻取りローラーにより、ワークフィルムは巻き取られる。
　以上のようにして、光学フィルムＦが製造される。光学フィルムＦは、透明基材フィルム１０と、密着層２１と、反射防止層２２と、防汚層２３とを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で備える。光学フィルムＦは、本発明の防汚層付き光学フィルムの一の実施形態である。光学フィルムＦは、厚さ方向Ｄに直交する方向（面方向）に広がる形状を有する。また、光学フィルムＦは、透明基材フィルム１０側が例えば粘着剤を介して被着体に貼り合わされて、使用される。被着体としては、例えば、タッチパネルディスプレイなどのディスプレイにおける画像表示側に配置される透明カバーが挙げられる。
　防汚層付き光学フィルムの製造方法では、上述のように、透明基材フィルム１０の裏面１０ｂの表面自由エネルギーが、４５ｍＮ/ｍ以下であり、好ましくは４３ｍＮ/ｍ以下、より好ましくは４０ｍＮ/ｍ以下である。裏面１０ｂにおける表面自由エネルギーがこの程度に低い構成は、上述の防汚層形成工程（図２Ｃ）後に巻取りローラーに巻き取られてロール状とされる防汚層付き光学フィルムＦにおいて、防汚層２３から透明基材フィルム１０の裏面１０ｂに防汚層材料が転写されることを抑制するのに適する。防汚層材料のこのような転写抑制は、防汚層２３において良好な防汚性を実現するのに役立つ。防汚層材料の前記転写抑制は、光学フィルムＦの透明基材フィルム１０側が粘着剤を介して被着体に貼り合わされる場合の当該粘着剤において、透明基材フィルム１０の裏面１０ｂに良好な粘着力を発揮させるのに役立つ。また、透明基材フィルム１０の裏面１０ｂのフッ素系溶剤接触角が上記の程度に低い防汚層付き光学フィルムは、裏面１０ｂへの防汚層材料の付着を抑制しつつ、ロールトゥロール方式で製造するのに適する。
　光学フィルムＦは、反射防止層２２を備えない光学フィルムであってもよい。そのような光学フィルムＦを製造するには、図２Ｂに示す工程において、防汚層２３の耐剥離性を確保するための無機酸化物下地層２４を、反射防止層２２の代わりに形成するのが好ましい。このような工程の後に防汚層形成工程（図２Ｃ）を実施して得られる光学フィルムＦを、図３に示す。
　無機酸化物下地層２４は、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成する。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。無機酸化物下地層２４の材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）およびフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。また、無機酸化物下地層２４の厚さは、防汚層２３の耐剥離性の確保の観点から、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは６５ｎｍ以上、更に好ましくは８０ｎｍ以上である。無機酸化物下地層２４の厚さは、例えば３００ｎｍ以下である。
　本発明について、以下に実施例を示して具体的に説明する。本発明は実施例に限定されない。また、以下に記載されている配合量（含有量）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上述の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合量（含有量）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」または「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」または「超える」として定義されている数値）に代替できる。
〔実施例１〕
　以下の工程を順次に実施して、防汚層付き光学フィルムを製造した。
　まず、透明基材フィルムとしての長尺のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ５０μｍ）の片面に、ハードコート層を形成した（ハードコート層形成工程）。具体的には、まず、紫外線硬化型のモノマーおよびオリゴマーの混合物（ウレタンアクリレートを主成分として含む）の酢酸ブチル溶液（商品名「ユニディック１７－８０６」，固形分濃度８０質量％，ＤＩＣ社製）１００質量部（固形分換算）と、光重合開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０６」，ＢＡＳＦ社製）５質量部と、レベリング剤（商品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ４１００」，ＤＩＣ社製）０.０１質量部とを混合して、混合液を得た。次に、シクロペンタノン（ＣＰＮ）とプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）との混合溶媒（ＣＰＮとＰＧＭの質量比は４５：５５）の添加により、混合液の固形分濃度を３６質量％に調整した。これにより、紫外線硬化性の樹脂組成物（ワニス）を調製した。次に、上記ＰＥＴフィルムの一方面（第１面）に樹脂組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、加熱により乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。加熱の温度は９０℃とし、加熱の時間は６０秒間とした。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。上述の塗膜の形成から硬化までの一連のプロセスは、ロールトゥロール方式において一つパスラインで実施した。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ５μｍのハードコート層（ＨＣ）を形成した。
　次に、ＨＣ層付きのＰＥＴフィルムの他方面（第２面）を、転写抑制処理した（転写抑制処理工程）。具体的には、次のようにして、ＰＥＴフィルムの第２面上に転写抑制層（第１転写抑制層）を形成した。
　まず、バインダとしてのポリエステル樹脂を含有するバインダ水分散液（品名「バイナロールＭＤ－１４８０」，飽和共重合ポリエステル樹脂の水分散液，樹脂含有量２５質量％，東洋紡社製）、滑り剤としてのカルナバワックスを含有する滑り剤水分散液、および、導電性ポリマーとしてのポリ(３,４－エチレンジオキシチオフェン)（ＰＥＤＴ）０.５質量％とポリスチレンスルホネート（数平均分子量１５万）（ＰＳＳ）０.８質量％とを含有する導電性ポリマー水溶液（品名「Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ」，Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｋ社製）を、用意した。次に、水とエタノールとの混合溶媒に、上記のバインダ水分散液を固形分量で１００質量部と、上記の滑り剤水分散液を固形分量で３０質量部と、上記の導電性ポリマー水溶液を固形分量で５０質量部と、メラミン系架橋剤を固形分量で２０質量部とを加え、約２０分間撹拌して混合した。これにより、固形分濃度約０.１５質量％のコーティング液を得た。次に、ＰＥＴフィルムの第２面にコロナ処理を施した。次に、第２面（コロナ処理面）にコーティング液をバーコーターで塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜を、１３０℃での２分間の加熱によって乾燥させた。これにより、厚さ１０ｎｍの転写抑制層を第２面上に形成した。以上のようにして、第１面にＨＣ層が形成され且つ第２面に転写抑制層が形成された、長尺でロール状のＰＥＴフィルムを得た。
　この後、以下の一連のプロセス（後記のＨＣ層前処理工程から後記の防汚層形成工程まで）を、ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら、一つのパスラインで実施した。パスラインの始端に配置されている繰出しローラーには、上記ロール状のＨＣ層付きＰＥＴフィルムがワークフィルムとして設置され、当該繰出しローラーからワークフィルムが繰出される。プロセス中、ワークフィルムは一度も大気中に出されない。パスラインの終端に配置されている巻取りローラーにより、ワークフィルムが巻き取られる。
　まず、プラズマ処理装置において、ＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した（ＨＣ層前処理工程）。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を７８０Ｗとした。
　次に、プラズマ処理後のＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層上に、密着層と反射防止層とを順次に形成した（スパッタ成膜工程）。具体的には、スパッタ成膜装置により、ＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層上に、密着層としての厚さ１.５ｎｍのインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層と、第１高屈折率層としての厚さ１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第１低屈折率層としての厚さ２８ｎｍのＳｉＯ２層と、第２高屈折率層としての厚さ１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第２低屈折率層としての厚さ８５ｎｍのＳｉＯ２層とを、順次に形成した。密着層の形成では、ＩＴＯターゲットを用い、不活性ガスとしてのアルゴンガスと、アルゴンガス１００体積部に対して１０体積部の反応性ガスとしての酸素ガスとを用い、放電電圧を４００Ｖとし、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＩＴＯ層を成膜した。第１高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび５体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４１５Ｖとし、成膜気圧を０.４２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第１低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３５０Ｖとし、成膜気圧を０.３Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。第２高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび１３体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４６０Ｖとし、成膜気圧を０.５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第２低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３４０Ｖとし、成膜気圧を０.２５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。以上のようにして、ＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層上に、密着層を介して反射防止層（第１高屈折率層，第１低屈折率層，第２高屈折率層，第２低屈折率層）を積層形成した。
　次に、反射防止層上に防汚層を形成した（防汚層形成工程）。具体的には、真空蒸着装置での真空蒸着法により、厚さ１０ｎｍの防汚層を反射防止層上に形成した。この真空蒸着法では、蒸着源として、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物を用いた。この蒸着源は、信越化学工業社製の「ＫＹ１９０３－１」（パーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物，固形分濃度２０質量％）を乾燥して得た固形分である。また、真空蒸着法における蒸着源の加熱温度は２６０℃とした。
　以上のようにして、実施例１の光学フィルム（長尺でロール状の防汚層付き光学フィルム）を作製した。実施例１の光学フィルムは、透明基材フィルム（ハードコート層が一方面をなし、第１転写抑制層が他方面としての裏面をなす）と、密着層と、反射防止層と、防汚層とをこの順で備える。
〔実施例２〕
　転写抑制処理工程において、第１転写抑制層の代わりに第２転写抑制層を形成したこと以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例２の光学フィルム（長尺でロール状の防汚層付き光学フィルム）を作製した。本実施例における転写抑制処理工程では、ロールトゥロール方式でワークフィルムを搬送しながら、上述のＨＣ層付きのＰＥＴフィルムの第２面上に、まず、厚さ１.５ｎｍのインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層とその上の厚さ１０ｎｍのＳｉＯ２層とをスパッタリングで順次に成膜して密着層を形成し、その後、真空蒸着法によって厚さ１０ｎｍの第２転写抑制層を密着層上に形成した。この真空蒸着法では、蒸着源として、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物（信越化学工業社製の「ＫＹ１９０３－１」を乾燥して得た固形分）を用い、蒸着源の加熱温度を２６０℃とした（実施例１における防汚層形成工程の真空蒸着法と同様である）。実施例２の光学フィルムは、透明基材フィルム（ハードコート層が一方面をなし、第２転写抑制層が他方面としての裏面をなす）と、ハードコート層と、密着層と、反射防止層と、防汚層とをこの順で備える。
〔比較例１〕
　転写抑制処理工程を実施しないこと以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、比較例１の光学フィルム（長尺でロール状の防汚層付き光学フィルム）を作製した。
〈防汚層の厚さ〉
　実施例１,２および比較例１の各光学フィルムにおける防汚層の厚さを測定した。測定には、走査型蛍光Ｘ線分析装置（商品名「ＺＳＸ ＰｒｉｍｕｓＩＩ」，リガク社製）を用いた。測定された防汚層の厚さＴ１（ｎｍ）を、表１に示す。
〈防汚層材料の転写〉
　実施例１,２および比較例１の各光学フィルムにおける透明基材フィルムの第２面（裏面）への防汚層材料の転写の程度を調べた。具体的には、透明基材フィルムの裏面に転写された防汚層材料の厚さを測定した。測定には、走査型蛍光Ｘ線分析装置（商品名「ＺＳＸ ＰｒｉｍｕｓＩＩ」，リガク社製）を用いた。測定された厚さＴ２（ｎｍ）を、表１に示す。
〈裏面の表面自由エネルギー〉
　実施例１,２および比較例１の各光学フィルムにおける透明基材フィルムの裏面（第２面）の表面自由エネルギーを、次のようにして求めた。まず、２３℃および相対湿度５５％の条件下、水平に載置された透明基材フィルムの第２面（表面自由エネルギー同定対象面）に接する水（Ｈ２Ｏ）、ヨウ化メチレン（ＣＨ２Ｉ２）および１－ブロモナフタレンの各液滴（約１μＬ）について、接触角計を使用して接触角を測定した。この測定には、接触角計（品名「ＣＡ－Ｘ型 接触角計」，共和界面科学社製）を使用した。次に、測定された水の接触角θw、ヨウ化メチレンの接触角θi、および１－ブロモナフタレンの接触角θbの値を用い、日本接着協会誌のVol.8, No.3, p.131-141（1972）に記載の方法（北崎－畑の理論）に従って３元連立方程式を解くことにより、γ＝γｄ＋γｐ＋γｈの式におけるγｄ，γｐ，γｈを求めた。式中のγｄは、表面自由エネルギーの分散成分であり、γｐは、表面自由エネルギーの極性成分であり、γｈは、表面自由エネルギーの水素結合成分である。そして、γｄ，γｐ，γｈを和して得られる値（γ）を、透明基材フィルムの裏面の表面自由エネルギーとして求めた。その表面自由エネルギー（ｍＮ/ｍ）を表１に示す。
〈ロールトゥロール搬送性〉
　実施例１,２および比較例１の各光学フィルムの製造過程における防汚層形成工程でのロールトゥロール搬送性を評価した。具体的には、防汚層形成工程（ワークフィルムは、張力がかけられてロールトゥロール方式で搬送される）において、搬送用ロールの回転速度を設定値の±１０％以内に制御できた場合（即ち、ロールの滑りが発生しなかった場合）を“良”と評価し、搬送用ロールの回転速度を設定値の±１０％以内に制御できなかった場合（即ち、ロールの滑りが発生した場合）を“不良”と評価した。その結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上述の実施形態は本発明の例示であり、当該実施形態によって本発明を限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記の請求の範囲に含まれる。
　本発明の防汚層付き光学フィルムは、例えば、防汚層付き反射防止フィルム、防汚層付き透明導電性フィルム、および、防汚層付き電磁波遮蔽フィルムに適用できる。
Ｆ　　　光学フィルム（防汚層付き光学フィルム）
Ｄ　　　厚さ方向
１０　　透明基材フィルム
１１　　樹脂フィルム
１０ａ　表面
１０ｂ　裏面
１２　　ハードコート層
１３　　転写抑制層
２１　　密着層
２２　　反射防止層
２２ａ　第１高屈折率層
２２ｂ　第１低屈折率層
２２ｃ　第２高屈折率層
２２ｄ　第２低屈折率層
２３　　防汚層
２３ａ　表面

Claims (8)

  1. 　透明基材フィルムをロールトゥロール方式で搬送しながら、当該透明基材フィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する、防汚層形成工程を含み、
    　前記透明基材フィルムの厚さ方向他方面の表面自由エネルギーが４５ｍＮ/ｍ以下である、防汚層付き光学フィルムの製造方法。
  2. 　前記表面自由エネルギーが２０ｍＮ/ｍ以上である、請求項１に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法。
  3. 　前記防汚層形成工程では、ドライコーティング法によって前記防汚層を形成する、請求項１に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法。
  4. 　前記防汚層が、６ｎｍ以上の厚さを有する、請求項１から３のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法。
  5. 　透明基材フィルムと、
    　前記透明基材フィルムの厚さ方向一方面側に配置された防汚層とを備え、
    　前記透明基材フィルムの厚さ方向他方面の表面自由エネルギーが４５ｍＮ/ｍ以下である、防汚層付き光学フィルム。
  6. 　前記表面自由エネルギーが２０ｍＮ/ｍ以上である、請求項５に記載の防汚層付き光学フィルム。
  7. 　前記防汚層がドライコーティング膜である、請求項５に記載の防汚層付き光学フィルム。
  8. 　前記防汚層が、６ｎｍ以上の厚さを有する、請求項５から７のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルム。
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