WO2023068546A1 - 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기 - Google Patents

플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기 Download PDF

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WO2023068546A1
WO2023068546A1 PCT/KR2022/013351 KR2022013351W WO2023068546A1 WO 2023068546 A1 WO2023068546 A1 WO 2023068546A1 KR 2022013351 W KR2022013351 W KR 2022013351W WO 2023068546 A1 WO2023068546 A1 WO 2023068546A1
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WO
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fixture
storage container
implant
surface treatment
lower block
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PCT/KR2022/013351
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Inventor
박광범
Original Assignee
주식회사 메가젠임플란트
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Definitions

  • the present invention relates to a storage container for an implant fixture for plasma surface treatment, and more particularly, to a plasma surface treatment that enables plasma treatment while maintaining sterility with respect to the stored implant fixture. To provide a fixture storage container for implants.
  • An implant refers to a substitute for restoring human tissue when the original human tissue is lost, but in dentistry, it refers to an artificial tooth.
  • a dental implant is an artificial tooth structure formed by implanting an artificial tooth root made of titanium, etc., which is not rejected by the human body, into the bone where the tooth has been extracted to replace the tooth root of a lost tooth, adhering it to the alveolar bone, and fixing a prosthesis to the artificial tooth root. This means a dental procedure.
  • a dental implant consists of a fixture made of titanium and placed in the alveolar bone, an abutment fixed on the fixture to support a prosthesis, and an abutment screw to fix the abutment to the fixture. It consists of an abutment screw and a prosthesis as an artificial tooth fixed to the abutment.
  • fixtures are mainly made of titanium metal or titanium alloy. This material takes a long time to osseointegrate when implanted into the human body and creates an oxide film, so stability is secured compared to other metal materials. However, the need for securing more improved human body stability is required.
  • the rate and quality of osseointegration are closely related to the surface properties and chemical composition of implants, such as surface composition, surface roughness, and hydrophilicity.
  • an implant having a highly hydrophilic surface is advantageous for interaction with biological solutions, cells, and tissues.
  • hydrophilicity may be secured through a plasma surface treatment process.
  • hydrophilicity changes over time to hydrophobicity, and accordingly, it is difficult to secure existing biocompatibility.
  • a technique for securing biocompatibility through surface treatment of a fixture before an implant procedure with simple equipment is being developed. That is, a technique capable of improving hydrophilicity and osseointegration efficiency by irradiating plasma treatment or ultraviolet rays to the surface of the fixture is representative.
  • the conventional plasma processing method in which plasma is generated and processed in an atmospheric pressure environment has problems in that plasma processing performance is not constant and high energy is transmitted locally, which may damage the object to be treated and deteriorate the performance of the fixture. there is.
  • the problem to be solved by the present invention is to provide a storage container for implant fixtures for plasma surface treatment, which allows plasma treatment to be easily performed while maintaining sterility of implant fixtures stored therein.
  • the implant fixture is detachably connected, the fixture connection portion for applying a voltage to the implant fixture; a lower block portion supporting the fixture connecting portion; and an upper cover portion detachably coupled to the lower block portion and shielding the implant fixture, a storage container for an implant fixture for plasma surface treatment may be provided.
  • the fixture connecting portion connected to the lower block portion, the electrode connection body connected to the electrode terminal; And it is connected to the electrode connection body, may include a fixture coupling body to which the implant fixture is breakably coupled.
  • the fixture coupling body may be formed in a shape in which a cross-sectional area decreases in a direction from the electrode connection body toward the implant fixture.
  • the fixture connecting portion may be provided with a conductive material.
  • An exposure hole exposing the fixture connection part to the outside may be formed in the lower block part.
  • an inner wall portion of the exposure hole is formed by being depressed toward an edge of the lower block portion, and a fitting groove into which an edge region of the fixture connection portion is inserted may be formed.
  • An incision slit through which a suction pipe for forming a vacuum passes may be formed in the lower block portion.
  • the lower block unit may include a protruding block having an outer wall in close contact with an inner wall surface of the upper cover unit; and a base block connected to the protrusion block and formed in a shape having an outer diameter larger than that of the protrusion block.
  • a groove for a handle may be formed on an outer wall of the base block along a circumferential direction.
  • the lower block portion may be made of an elastic material.
  • Embodiments of the present invention a fixture connection portion for which a fixture for implantation is detachably connected and applies a voltage to the fixture for implantation, a lower block portion supporting the fixture connection portion, and a detachably coupled lower block portion It is provided with an upper cover portion for shielding the fixture for implantation, so that the plasma treatment can be easily performed while maintaining the sterility of the fixture for implantation stored therein.
  • FIG. 1 is a view showing a fixture storage container for an implant for plasma surface treatment according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 2 is an exploded perspective view of Figure 1;
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the lower block portion of FIG. 2 .
  • FIG. 4 is a perspective view illustrating a lower surface of the lower block portion of FIG. 2 .
  • FIG. 5 is a view showing a state in which the fixture storage container for implantation for plasma surface treatment of FIG. 1 is inserted into a socket.
  • FIG. 6 is a view showing a state in which the vacuum forming suction pipe of FIG. 5 penetrates the lower block portion and the electrode terminal is in contact with the electrode connection body.
  • FIG. 7 is a view illustrating a process of taking out a fixture for implantation from the storage container for the fixture for implantation for plasma surface treatment of FIG. 1 .
  • FIG. 1 is a view showing a storage container for a fixture for implantation for plasma surface treatment according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of FIG. 1
  • FIG. 3 is a cross-section of a lower block portion of FIG. 2
  • FIG. 4 is a perspective view showing the lower surface of the lower block portion of FIG. 2
  • FIG. 5 is a view showing a state in which a fixture storage container for implantation for plasma surface treatment of FIG. 1 is inserted into a socket
  • FIG. 6 is a view showing a state in which the suction tube for vacuum formation of FIG. 5 penetrates the lower block portion and the electrode terminal is in contact with the electrode connection body
  • FIG. 7 is a view showing the implant fixture storage container for plasma surface treatment of FIG. 1 It is a drawing showing the process of taking out the dragon fixture.
  • the implant fixture P is detachably connected to the implant fixture P.
  • the fixture connecting portion 110 for applying voltage, the lower block portion 120 supporting the fixture connecting portion 110, and detachably coupled to the lower block portion 120 and shielding the fixture P for implantation It includes an upper cover portion 130 to.
  • the fixture connection part 110 is connected to the fixture for implantation (P) detachably.
  • the fixture connecting portion 110 allows voltage for plasma processing to be applied to the fixture P for implantation.
  • the fixture connecting portion 110 of this embodiment is formed of a conductive material.
  • the fixture connection unit 110 includes an electrode connection body 111 connected to the lower block unit 120 and connected to the electrode terminal 151, and an electrode It is connected to the connection body 111 and includes a fixture coupling body 112 to which the implant fixture P is breakably coupled.
  • the electrode connection body 111 is connected to the lower block part 120 .
  • the electrode connection body 111 is in contact with the electrode terminal 151.
  • the electrode connection body 111 is formed in a circular disk shape.
  • the electrode connection body 111 is connected to the electrode terminal 151 of the plasma generating device 150.
  • the plasma generating device 150 is a device that generates plasma inside the fixture storage container for implantation of the present embodiment.
  • the plasma generating device 150 performs a plasma treatment on the implant fixture P stored in the implant fixture storage container for plasma surface treatment of the present embodiment.
  • the plasma generating device 150 is electrically connected to an electrode terminal 151, a power supply unit (not shown) electrically connected to the electrode terminal 151, and a power supply unit (not shown), and is a fixture storage container for implantation. It includes a ground electrode 152 disposed adjacent to and a socket 153 to which the ground electrode 152 is mounted.
  • the socket 153 has a hollow cylindrical shape.
  • the implant fixture storage container of the present embodiment is positioned in the hollow inner space of the socket 153, and the ground electrode 152 may be mounted on a side wall forming the hollow inner space.
  • the fixture coupling body 112 is connected to the electrode connection body 111.
  • the fixture for implantation (P) is coupled to the fixture coupling body 112 to be breakable.
  • the fixture coupling body 112 As shown in FIGS. 1 to 6 , at least a portion of the fixture coupling body 112 according to this embodiment has a cross-sectional area in the direction from the electrode connection body 111 toward the fixture P for implantation. formed in a smaller shape.
  • the fixture coupling body 112 is formed in a shape in which the cross-sectional area becomes smaller as it goes from the electrode connection body 111 toward the implant fixture P, so that the implant fixture P is It can be easily separated from the fixture coupling body 112 by an external force.
  • FIG. 7 shows a process in which the implant fixture (P) is separated from the fixture coupling body 112 by an external force.
  • the user connects the pickup mechanism (F) to the implant fixture (P), and then applies an external force to the pickup mechanism (F) to break the implant fixture (P) from the fixture coupling body 112, thereby fixing the implant
  • the chewer (P) can be easily separated from the fixture connection part (110).
  • the lower block portion 120 supports the fixture connection portion 110.
  • the lower block portion 120 is made of an elastic material such as rubber.
  • the lower block portion 120 includes a protruding block 121 having an outer wall in close contact with an inner wall surface of the upper cover portion 130 and a protruding block 121 It is connected to and includes a base block 122 formed in a shape having a larger outer diameter than the protruding block 121.
  • the protruding block 121 is formed in a circular disk shape.
  • the outer wall of the protruding block 121 is in close contact with the inner wall surface of the upper cover part 130 .
  • the base block 122 is connected to the protruding block 121 and is disposed in a lower area of the protruding block 121 .
  • the base block 122 is formed in a circular disk shape having a larger outer diameter than the protrusion block 121 .
  • a groove 127 for a handle is formed on the outer wall of the base block 122 along the circumferential direction.
  • the handle groove 127 facilitates gripping of the base block 122 during the separation process between the upper cover part 130 and the lower block part 120 .
  • an exposure hole 123 exposing the fixture connecting portion 110 to the outside is formed in the central region of the lower block portion 120 according to the present embodiment.
  • a fitting groove 124 into which an edge region of the electrode connection body 111 is inserted is formed in the lower block portion 120 .
  • These fitting grooves 124 are formed by being depressed from the inner wall of the exposure hole 123 toward the edge of the protruding block 121 .
  • the edge area of the electrode connection body 111 can be easily inserted into the fitting groove 124 during the assembly process.
  • the lower block portion 120 is formed with a cutting slit 126 through which the vacuum forming suction pipe G passes.
  • the cutting slits 126 are provided in three and spaced apart from each other at an angle of 120 degrees and arranged radially.
  • This incision slit 126 is cut to a predetermined length to allow passage of the suction pipe (G) for vacuum formation.
  • the cut surface of the cutting slit 126 is normally (when the vacuum forming suction pipe G does not penetrate). It closes tightly and blocks the inflow and outflow of air.
  • the suction pipe (G) for vacuum formation is formed in a thin pipe shape.
  • the suction pipe G for vacuum formation is fixed to the lower wall of the socket 153 described above.
  • the vacuum forming suction pipe (G) is connected to a vacuum suction pump (not shown).
  • a vacuum suction pump (not shown) operates in a state where the suction pipe (G) for vacuum formation passes through the lower block portion 120, the inside of the fixture storage container for implants (P) is stored. It can be formed in a vacuum atmosphere.
  • the above-described plasma generating device 150 operates, and plasma treatment is possible on the implant fixture P stored in the implant fixture storage container of the present embodiment.
  • the upper cover part 130 is detachably coupled to the lower block part 120 .
  • This upper cover portion 130 shields the implant fixture (P).
  • the upper cover part 130 is formed in a hollow cylindrical shape.
  • the upper cover part 130 may be made of a transparent material.
  • the implant fixture storage container according to the present embodiment is inserted into the socket 153 so that the implant fixture storage container is positioned inside the socket 153.
  • the suction pipe (G) for vacuum formation passes through the incision slit 126, and as shown in FIGS. 5 and 6, the upper end of the suction pipe (G) for vacuum formation is located in the inner space of the fixture storage container for implantation. .
  • the vacuum suction pump (not shown) connected to the vacuum forming suction pipe (G) operates, the air in the inner space of the implant fixture storage container in which the implant fixture (P) is stored is transferred to the vacuum forming suction pipe ( It is discharged through G) and the internal space of the fixture storage container for implants can be formed in a vacuum atmosphere.
  • the fixture for implantation P by interaction with the ground electrode 152 mounted on the socket 153 may be plasma treated.
  • the upper cover part 130 is separated from the lower block part 120.
  • the external force is transmitted to the fixture P for implantation through the pickup mechanism F, so that the fixture P for implantation connects the pickup mechanism F with the fixture connecting portion 110. ) is separated from
  • the implant fixture storage container includes a fixture connection portion 110 in which the implant fixture P is detachably connected and applies a voltage to the implant fixture P, and the fixture
  • the fixture By providing a lower block portion 120 supporting the connection portion 110 and an upper cover portion 130 detachably coupled to the lower block portion 120 to shield the implant fixture P, the storage inside Plasma treatment can be easily performed while maintaining the sterility of the fixture P for implantation.
  • the present invention can be used in the processing industry, in particular in the dental care industry.

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Abstract

플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 개시된다. 본 발명에 따른 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기는, 임플란트용 픽스츄어가 분리 가능하게 연결되며 임플란트용 픽스츄어에 전압을 인가하는 픽스츄어 연결부와, 픽스츄어 연결부를 지지하는 하부 블록부와, 하부 블록부에 착탈 가능하게 결합되며 임플란트용 픽스츄어를 차폐하는 상부 커버부를 포함한다.

Description

플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기
본 발명은, 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기에 관한 것에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 보관된 임플란트용 픽스츄어에 대해 무균성을 유지하면서 플라즈마 처리를 가능하게 하는, 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기를 제공하는 것이다.
임플란트는 원래 인체조직이 상실되었을 때 인체조직을 회복시켜 주는 대체물을 의미하지만 치과에서는 인공으로 만든 치아를 말한다.
치아용 임플란트는 상실된 치아의 치근을 대신할 수 있도록 인체에 거부반응이 없는 티타늄 등으로 만든 인공치근을 이가 빠져나간 뼈에 심은 뒤 치조골에 유착시키고 그 인공 치근에 보철물을 고정 하여 형성된 인공 치아구조 또는 이러한 치과 시술방법을 의미한다.
일반적으로 치아용 임플란트는 티타늄으로 구성되어 치조골에 식립되는 픽스츄어(fixture), 픽스츄어 상에 고정되어 보철물을 지지하는 어버트먼트 (abutment), 어버트먼트를 픽스츄어에 고정하는 어버트먼트 스크류(abutment screw) 및 어버트먼트에 고정되는 인공치아로서의 보철물(prosthesis)로 구성된다.
이와 같은 치과용 임플란트의 각 구성들은 인체의 조직 내에 삽입되는 구성들인 만큼 멸균상태 및 표면 활성화상태가 유지되어야 하므로, 그 포장과 운반, 그리고 포장의 개봉시에 오염이나 손상되지 않도록 하는 것이 무엇보다도 중요한 과제가 되고 있다.
특히, 임플란트용 픽스츄어를 보관하는 소정의 앰플의 경우, 픽스츄어는 치조골에 직접적으로 식립되는 바, 앰플에 픽스츄어를 보관함에 있어서 픽스츄어에 대한 멸균성 유지 및 오염, 손상에 대한 방지를 위한 구성이 요구된다.
또한, 앰플을 개봉하여 픽스츄어를 취출할 때 일련의 과정이 용이하게 이루어지도록 구성될 필요가 있다.
한편, 일반적으로 사용되는 픽스츄어는 티타늄 금속 혹은 티타늄 합금이 주로 이용되는데, 이 재질은 인체에 이식 시 골융합(osteointegration)에 시간이 오래 걸리고, 산화 피막이 생성되어 다른 재질의 금속에 비해 안정성이 확보될 수 있지만 이보다 더욱 개선된 인체 안정성 확보를 위한 필요성이 요구된다.
이러한 단점을 보완하기 위하여 티타늄 합금 재료의 표면을 적절히 처리함으로써 골융합을 강화할 수 있는 기술들이 개발 및 적용되고 있다.
골융합 속도와 품질은 표면 조성, 표면 거칠기, 친수성 등과 같은 임플란트의 표면 특성 및 화학적 조성과 밀접한 관계가 있다. 특히, 친수성이 높은 표면을 가진 임플란트가 생체 용액, 세포 및 조직들과의 상호 작용에 유리한 것으로 알려져 있다.
임플란트의 생산단계에서 플라즈마 표면처리 공정을 통하여 친수성을 확보할 수도 있다. 하지만, 생산, 운송과 유통과정, 그리고 보관하는 과정에서 산화막의 형성 등의 이유로 친수성에서 소수성으로 경시변화가 발생하고, 이에 따라 기존 생체 친화성을 확보하는 것에 어려움이 있다.
이에, 종래의 경시변화 문제를 해결하기 위해 간단한 장비로 임플란트 시술 전에 픽스츄어의 표면처리를 통해 생체 친화성을 확보하는 기술이 개발되고 있다. 즉, 픽스츄어의 표면에 플라즈마 처리 또는 자외선을 조사하여 친수성 및 골융합 효율을 향상시킬 수 있는 기술이 대표적이다.
그런데, 종래의 플라즈마 처리 및 자외선 조사 방식의 경우, 픽스츄어의 표면처리 및 자외선 조사를 위해서 무균 포장을 제거해야 하는 점에서 무균성 보증이 어려운 문제가 있다.
또한, 대기압 환경에서 플라즈마를 발생시켜 처리하는 종래의 플라즈마 처리방식은, 플라즈마 처리 성능이 일정하지 못하고, 국소적으로 높은 에너지가 전달되어 처리 대상체가 손상되어 픽스츄어의 성능 저하가 발생할 수 있는 문제가 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 내부에 보관된 임플란트용 픽스츄어의 무균성을 유지시키면서도 플라즈마 처리가 용이하게 수행될 수 있게 하는, 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 임플란트용 픽스츄어가 분리 가능하게 연결되며, 상기 임플란트용 픽스츄어에 전압을 인가하는 픽스츄어 연결부; 상기 픽스츄어 연결부를 지지하는 하부 블록부; 및 상기 하부 블록부에 착탈 가능하게 결합되며, 상기 임플란트용 픽스츄어를 차폐하는 상부 커버부를 포함하는, 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 제공될 수 있다.
상기 픽스츄어 연결부는, 상기 하부 블록부에 연결되며, 전극단자에 접속되는 전극접속몸체; 및 상기 전극접속몸체에 연결되며, 상기 임플란트용 픽스츄어가 파절 가능하게 결합되는 픽스츄어 결합몸체를 포함할 수 있다.
상기 픽스츄어 결합몸체는, 상기 전극접속몸체에서 상기 임플란트용 픽스츄어를 향하는 방향으로 갈수록 단면적이 작아지는 형상으로 형성될 수 있다.
상기 픽스츄어 연결부는 전도성(conductive) 재질로 마련될 수 있다.
상기 하부 블록부에는, 상기 픽스츄어 연결부를 외부에 노출시키는 노출공이 형성될 수 있다.
상기 하부 블록부에는, 상기 노출공의 내벽부에서 상기 하부 블록부의 가장자리 방향으로 함몰되어 형성되며, 상기 픽스츄어 연결부의 가장자리 영역이 삽입되는 끼움홈이 형성될 수 있다.
상기 하부 블록부에는, 진공 형성용 흡입관이 관통하는 절개슬릿이 형성될 수 있다.
상기 하부 블록부는, 외측벽이 상기 상부 커버부의 내벽면에 밀착되는 돌출 블록; 및 상기 돌출 블록에 연결되며, 상기 돌출 블록보다 큰 외경을 가지는 형상으로 형성되는 베이스 블록을 포함할 수 있다.
상기 베이스 블록의 외측벽에는 둘레 방향을 따라 손잡이용 그루브가 형성될 수 있다.
상기 하부 블록부는 탄성(elasticity) 재질로 마련될 수 있다.
본 발명의 실시예들은, 임플란트용 픽스츄어가 분리 가능하게 연결되며 임플란트용 픽스츄어에 전압을 인가하는 픽스츄어 연결부와, 픽스츄어 연결부를 지지하는 하부 블록부와, 하부 블록부에 착탈 가능하게 결합되어 임플란트용 픽스츄어를 차폐하는 상부 커버부를 구비함으로써, 내부에 보관된 임플란트용 픽스츄어의 무균성을 유지시키면서도 플라즈마 처리가 용이하게 수행될 수 있게 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 도시된 도면이다.
도 2는 도 1의 분해사시도이다.
도 3은 도 2의 하부 블록부의 단면이 도시된 도면이다.
도 4은 도 2의 하부 블록부의 하면이 도시된 사시도이다.
도 5는 도 1의 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 소켓에 삽입된 상태가 도시된 도면이다.
도 6은 도 5의 진공 형성용 흡입관이 하부 블록부를 관통하며 전극단자가 전극접속몸체에 접촉된 상태가 도시된 도면이다.
도 7는 도 1의 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기에서 임플란트용 픽스츄어를 꺼내는 과정을 도시한 도면이다.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 도시된 도면이고, 도 2는 도 1의 분해사시도이며, 도 3은 도 2의 하부 블록부의 단면이 도시된 도면이고, 도 4은 도 2의 하부 블록부의 하면이 도시된 사시도이며, 도 5는 도 1의 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 소켓에 삽입된 상태가 도시된 도면이고, 도 6은 도 5의 진공 형성용 흡입관이 하부 블록부를 관통하며 전극단자가 전극접속몸체에 접촉된 상태가 도시된 도면이며, 도 7는 도 1의 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기에서 임플란트용 픽스츄어를 꺼내는 과정을 도시한 도면이다.
본 실시예에 따른 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기는, 도 1 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 임플란트용 픽스츄어(P)가 분리 가능하게 연결되며 임플란트용 픽스츄어(P)에 전압을 인가하는 픽스츄어 연결부(110)와, 픽스츄어 연결부(110)를 지지하는 하부 블록부(120)와, 하부 블록부(120)에 착탈 가능하게 결합되며 임플란트용 픽스츄어(P)를 차폐하는 상부 커버부(130)를 포함한다.
픽스츄어 연결부(110)에는 임플란트용 픽스츄어(P)가 분리 가능하게 연결된다. 이러한 픽스츄어 연결부(110)는 임플란트용 픽스츄어(P)에 플라즈마 처리를 위한 전압이 인가되도록 한다. 이를 위해 본 실시예의 픽스츄어 연결부(110)는 전도성(conductive) 재질로 형성된다.
본 실시예에 따른 픽스츄어 연결부(110)는, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 하부 블록부(120)에 연결되며 전극단자(151)에 접속되는 전극접속몸체(111)와, 전극접속몸체(111)에 연결되며 임플란트용 픽스츄어(P)가 파절 가능하게 결합되는 픽스츄어 결합몸체(112)를 포함한다.
전극접속몸체(111)는 하부 블록부(120)에 연결된다. 이러한 전극접속몸체(111)는 전극단자(151)에 접촉된다.
본 실시예에서 전극접속몸체(111)는 원형의 디스크 형상으로 형성된다. 이러한 전극접속몸체(111)는 플라즈마 생성장치(150)의 전극단자(151)에 접속된다.
여기서, 플라즈마 생성장치(150)는 본 실시예의 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부에 플라즈마를 생성하는 장치이다. 이러한 플라즈마 생성장치(150)는 본 실시예의 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부에 보관된 임플란트용 픽스츄어(P)에 플라즈마 처리를 수행한다.
이를 위해 플라즈마 생성장치(150)는, 전극단자(151)와, 전극단자(151)에 전기적으로 연결되는 전원부(미도시)와, 전원부(미도시)에 전기적으로 연결되며 임플란트용 픽스츄어 보관용기에 인접하게 배치되는 접지전극(152)과, 접지전극(152)이 장착되는 소켓(153)을 포함한다.
소켓(153)은 도 5에 도시된 바와 같이 내부가 중공된 원통 형상으로 형성된다. 이러한 소켓(153)의 중공된 내부공간에 본 실시예의 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 위치되며, 중공된 내부공간을 형성하는 측벽에 접지전극(152)이 장착될 수 있다.
픽스츄어 결합몸체(112)는 전극접속몸체(111)에 연결된다. 이러한 픽스츄어 결합몸체(112)에는 임플란트용 픽스츄어(P)가 파절 가능하게 결합된다.
본 실시예에 따른 픽스츄어 결합몸체(112)의 적어도 일부 영역은, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 전극접속몸체(111)에서 임플란트용 픽스츄어(P)를 향하는 방향으로 갈수록 단면적이 작아지는 형상으로 형성된다.
이와 같이 픽스츄어 결합몸체(112)의 적어도 일부 영역이 전극접속몸체(111)에서 임플란트용 픽스츄어(P)를 향하는 방향으로 갈수록 단면적이 작아지는 형상으로 형성됨으로서, 임플란트용 픽스츄어(P)가 외력에 의해 픽스츄어 결합몸체(112)에서 용이하게 분리될 수 있다.
도 7에는 임플란트용 픽스츄어(P)가 외력에 의해 픽스츄어 결합몸체(112)에서 분리되는 과정이 도시되었다. 사용자는 임플란트용 픽스츄어(P)에 픽업기구(F)를 체결시킨 후, 픽업기구(F)에 외력을 가해 임플란트용 픽스츄어(P)를 픽스츄어 결합몸체(112)에서 파절시킴으로써 임플란트용 픽스츄어(P)를 픽스츄어 연결부(110)에서 손쉽게 분리시킬 수 있다.
한편, 하부 블록부(120) 픽스츄어 연결부(110)를 지지한다. 이러한 하부 블록부(120)는 고무 등과 같은 탄성(elasticity) 재질로 마련된다.
본 실시예에 따른 하부 블록부(120)는, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 외측벽이 상부 커버부(130)의 내벽면에 밀착되는 돌출 블록(121)과, 돌출 블록(121)에 연결되며 돌출 블록(121)보다 큰 외경을 가지는 형상으로 형성되는 베이스 블록(122)을 포함한다.
돌출 블록(121)은 원형의 디스크 형상으로 형성된다. 이러한 돌출 블록(121)의 외측벽에는 상부 커버부(130)의 내벽면에 밀착된다.
베이스 블록(122)은 돌출 블록(121)에 연결되고 돌출 블록(121)의 하부 영역에 배치된다. 본 실시예에서 베이스 블록(122)은 돌출 블록(121)보다 큰 외경을 가지는 원형의 디스크 형상으로 형성된다.
베이스 블록(122)의 외측벽에는 둘레 방향을 따라 손잡이용 그루브(127)가 형성된다. 손잡이용 그루브(127)는 상부 커버부(130)와 하부 블록부(120)의 분리과정에서 베이스 블록(122)의 파지를 용이하게 한다.
본 실시예에 따른 하부 블록부(120)의 중앙 영역에는, 도 2 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 픽스츄어 연결부(110)를 외부에 노출시키는 노출공(123)이 형성된다.
또한, 하부 블록부(120)에는 전극접속몸체(111)의 가장자리 영역이 삽입되는 끼움홈(124)이 형성된다. 이러한 끼움홈(124)은 노출공(123)의 내벽부에서 돌출 블록(121)의 가장자리 방향으로 함몰되어 형성된다. 상술한 바와 같이 하부 블록부(120)는 탄성(elasticity) 재질로 마련되기 때문에 조립과정에서 전극접속몸체(111)의 가장자리 영역이 끼움홈(124)에 용이하게 삽입될 수 있다.
또한, 하부 블록부(120)에는 진공 형성용 흡입관(G)이 관통하는 절개슬릿(126)이 형성된다. 본 실시예에서 절개슬릿(126)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 3개로 마련되어 상호 120도 각도로 이격되어 방사상으로 배치된다.
이러한 절개슬릿(126)은 소정 길이로 절개되어 진공 형성용 흡입관(G)의 관통을 허용한다. 본 실시예에서 하부 블록부(120)는 상술한 바와 같이 탄성(elasticity) 재질로 마련되기 때문에, 평상 시(진공 형성용 흡입관(G)이 관통하지 않을 때)에는 절개슬릿(126)의 절단면이 밀착되어 공기의 유출입을 차단한다.
진공 형성용 흡입관(G)은 얇은 관 형상으로 형성된다. 이러한 진공 형성용 흡입관(G)은 상술한 소켓(153)의 하부벽에 고정된다.
또한, 진공 형성용 흡입관(G)은 진공용 흡입 펌프(미도시)에 연결된다. 진공 형성용 흡입관(G)이 하부 블록부(120)를 관통한 상태에서 진공용 흡입 펌프(미도시)가 작동하면, 임플란트용 픽스츄어(P)가 보관된 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부가 진공 분위기로 형성될 수 있다.
이러한 진공 분위기 상태에서 상술한 플라즈마 생성장치(150)가 작동하여 본 실시예의 임플란트용 픽스츄어 보관용기에 보관된 임플란트용 픽스츄어(P)에 플라즈마 처리가 가능하다.
한편, 상부 커버부(130)는 하부 블록부(120)에 착탈 가능하게 결합된다. 이러한 상부 커버부(130)는 임플란트용 픽스츄어(P)를 차폐한다. 본 실시예에서 상부 커버부(130)는 내부가 중공된 원통 형상으로 형성된다. 이러한 상부 커버부(130)는 투명한 재질로 마련될 수 있다.
이하에서 본 실시예에 따른 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 동작을 도 1 내지 도 7을 참고하여 설명한다.
먼저, 본 실시예에 따른 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부에 임플란트용 픽스츄어(P)가 보관된 상태에서 보관된 임플란트용 픽스츄어(P)에 플라즈마 처리가 이루어지는 과정을 설명한다.
본 실시예에 따른 임플란트용 픽스츄어 보관용기를 소켓(153)에 끼워 임플란트용 픽스츄어 보관용기가 소켓(153)의 내부에 위치하도록 한다. 이때, 진공 형성용 흡입관(G)이 절개슬릿(126)을 관통하여 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 진공 형성용 흡입관(G)의 상단부가 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부공간에 위치한다.
이후, 진공 형성용 흡입관(G)에 연결된 진공용 흡입 펌프(미도시)가 작동하면, 임플란트용 픽스츄어(P)가 보관된 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부공간의 공기가 진공 형성용 흡입관(G)을 통해 배출되어 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부공간이 진공 분위기로 형성될 수 있다.
이러한 진공 분위기 상태에서 전극단자(151)를 통해 임플란트용 픽스츄어(P)에 고전압이 인가되면, 소켓(153)에 장착된 접지전극(152)과의 상호작용에 의해 임플란트용 픽스츄어(P)가 플라즈마 처리될 수 있다.
다음, 본 실시예에 따른 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기의 내부에 보관된 임플란트용 픽스츄어(P)를 꺼내는 과정을 설명한다.
먼저, 도 7(a)에 도시된 바와 같이 하부 블록부(120)에서 상부 커버부(130)를 분리시킨다.
이후, 도 7(b)에 도시된 바와 같이 임플란트용 픽스츄어(P)에 픽업기구(F)가 체결된다.
다음, 도 7(c)에 도시된 바와 같이 픽업기구(F)를 통해 외력이 임플란트용 픽스츄어(P)에 전달되어 임플란트용 픽스츄어(P)가 픽업기구(F)가 픽스츄어 연결부(110)에서 분리된다.
이와 같이 본 실시예에 따른 임플란트용 픽스츄어 보관용기는, 임플란트용 픽스츄어(P)가 분리 가능하게 연결되며 임플란트용 픽스츄어(P)에 전압을 인가하는 픽스츄어 연결부(110)와, 픽스츄어 연결부(110)를 지지하는 하부 블록부(120)와, 하부 블록부(120)에 착탈 가능하게 결합되어 임플란트용 픽스츄어(P)를 차폐하는 상부 커버부(130)를 구비함으로써, 내부에 보관된 임플란트용 픽스츄어(P)의 무균성을 유지시키면서도 플라즈마 처리가 용이하게 수행될 수 있게 한다.
이상 도면을 참조하여 본 실시예에 대해 상세히 설명하였지만 본 실시예의 권리범위가 전술한 도면 및 설명에 국한되지는 않는다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
본 발명은 가공 산업, 특히 치과 의료 산업에 이용될 수 있다.

Claims (10)

  1. 임플란트용 픽스츄어가 분리 가능하게 연결되며, 상기 임플란트용 픽스츄어에 전압을 인가하는 픽스츄어 연결부;
    상기 픽스츄어 연결부를 지지하는 하부 블록부; 및
    상기 하부 블록부에 착탈 가능하게 결합되며, 상기 임플란트용 픽스츄어를 차폐하는 상부 커버부를 포함하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 픽스츄어 연결부는,
    상기 하부 블록부에 연결되며, 전극단자에 접속되는 전극접속몸체; 및
    상기 전극접속몸체에 연결되며, 상기 임플란트용 픽스츄어가 파절 가능하게 결합되는 픽스츄어 결합몸체를 포함하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 픽스츄어 결합몸체는,
    상기 전극접속몸체에서 상기 임플란트용 픽스츄어를 향하는 방향으로 갈수록 단면적이 작아지는 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 픽스츄어 연결부는 전도성(conductive) 재질로 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 하부 블록부에는,
    상기 픽스츄어 연결부를 외부에 노출시키는 노출공이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 하부 블록부에는,
    상기 노출공의 내벽부에서 상기 하부 블록부의 가장자리 방향으로 함몰되어 형성되며, 상기 픽스츄어 연결부의 가장자리 영역이 삽입되는 끼움홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 하부 블록부에는, 진공 형성용 흡입관이 관통하는 절개슬릿이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 하부 블록부는,
    외측벽이 상기 상부 커버부의 내벽면에 밀착되는 돌출 블록; 및
    상기 돌출 블록에 연결되며, 상기 돌출 블록보다 큰 외경을 가지는 형상으로 형성되는 베이스 블록을 포함하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 베이스 블록의 외측벽에는 둘레 방향을 따라 손잡이용 그루브가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 하부 블록부는 탄성(elasticity) 재질로 마련되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표면처리를 위한 임플란트용 픽스츄어 보관용기.
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