WO2022191044A1 - 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤 - Google Patents

組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤 Download PDF

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compound
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賢 鮫島
季彦 松村
結美 加藤
彰宏 原
良司 折田
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富士フイルム株式会社
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials

Definitions

  • the present invention relates to compositions containing pyrrolopyrrole compounds.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor and a camera module using the composition described above.
  • the present invention also relates to pyrrolopyrrole compounds and infrared absorbers.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal-oxide semiconductors
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal-oxide semiconductors
  • These solid-state imaging devices use silicon photodiodes that are sensitive to infrared rays in their light receiving portions. For this reason, an infrared cut filter may be provided to correct visibility.
  • the infrared cut filter is manufactured using a composition containing infrared absorbing pigments. Pyrrolopyrrole compounds and the like are known as infrared absorbing dyes.
  • Patent Document 1 describes that a compound represented by the following formula (I) is used in a solar cell module or the like.
  • the fluorescence quantum yield of the film is low. If the fluorescence quantum yield of the membrane is high, fluorescence emission from the membrane tends to be noise.
  • Patent Document 2 is an invention aimed at increasing the fluorescence quantum yield. Further, when the present inventor proceeded with the study of the compound described in Patent Document 2, it was found that there is room for further improvement in terms of visible transparency as well.
  • * represents a connecting portion
  • R a11 to R a29 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • X c and X d each independently represent S, O or NR X2
  • R X2 represents a hydrogen atom or a substituent
  • a 1 represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, aromatic heterocyclic ring, or condensed ring thereof.
  • X a and X b in formula (1) are each independently a group represented by any one of formulas (X-1-1) to (X-1-3), ⁇ 1> A composition according to In formulas (X-1-1) to (X-1-3), * represents a connecting part, R a51 to R a63 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, two adjacent groups among R a51 to R a54 of formula (X-1-1) may be bonded to form a ring, two adjacent groups of R a55 to R a58 in formula (X-1-2) may be bonded to form a ring, Two adjacent groups among R a60 to R a63 in formula (X-1-3) may be bonded to form a ring.
  • Y a and Y b in formula (1) each independently represent —BR Y1 R Y2
  • R Y1 and R Y2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an alkenyl group , represents an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or a heteroaryloxy group, and R Y1 and R Y2 may combine with each other to form a ring
  • ⁇ 6> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the dye represented by formula (1) has a maximum absorption wavelength of 650 nm or longer.
  • ⁇ 7> A film obtained using the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>.
  • ⁇ 8> An optical filter including the film according to ⁇ 7>.
  • ⁇ 9> A solid-state imaging device including the film according to ⁇ 7>.
  • An image display device comprising the film according to ⁇ 7>.
  • An infrared sensor including the film according to ⁇ 7>.
  • ⁇ 12> A camera module including the film according to ⁇ 7>.
  • * represents a connecting portion
  • R a11 to R a29 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • X c and X d each independently represent S, O or NR X2
  • R X2 represents a hydrogen atom or a substituent
  • a 1 represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, aromatic heterocyclic ring, or condensed ring thereof.
  • a composition capable of forming a film having a low fluorescence quantum yield and excellent spectral characteristics.
  • a film, an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor, a camera module, a compound, and an infrared absorber can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating one embodiment of an infrared sensor
  • ⁇ is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
  • a description that does not describe substitution or unsubstituted includes a group (atomic group) having no substituent as well as a group (atomic group) having a substituent.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Light used for exposure includes actinic rays or radiation such as emission line spectra of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth)acrylate” represents both or either acrylate and methacrylate
  • (meth)acryl represents both or either acrylic and methacrylic
  • (meth) ) acryloyl refers to acryloyl and/or methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Me in the chemical formulas represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • infrared light refers to light (electromagnetic waves) with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • a pigment means a compound that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the term "process” includes not only an independent process, but also when the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • composition of the present invention is characterized by containing a dye represented by Formula (1) and a curable compound.
  • the composition of the present invention can be used as a composition for optical filters.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters. Since the dye represented by the formula (1) has excellent visible transparency, an infrared cut filter having excellent visible transparency can be formed by using the composition of the present invention. Further, in the infrared transmission filter, the dye represented by the formula (1) has a role of limiting transmitted light (infrared rays) to a longer wavelength side. Since the dye represented by the formula (1) is excellent in visible transparency, it is easy to control the spectrum in the visible region to be shielded and the spectrum in the infrared region to be transmitted within an appropriate range.
  • the composition of the present invention contains a dye represented by Formula (1) (hereinafter also referred to as a specific dye).
  • * represents a connecting portion
  • R a11 to R a29 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • X c and X d each independently represent S, O or NR X2
  • R X2 represents a hydrogen atom or a substituent
  • a 1 represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, aromatic heterocyclic ring, or condensed ring thereof.
  • X a and X b each independently represent ⁇ NR X1 or a group represented by any one of formulas (X-1) to (X-5).
  • the substituent represented by R X1 is preferably an aryl group or a heteroaryl group, more preferably a heteroaryl group.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-40, more preferably 6-30, even more preferably 6-20.
  • the aryl group may be monocyclic, but is preferably a condensed ring.
  • a heteroaryl group may be a monocyclic ring, but preferably a condensed ring.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl ring of the heteroaryl group is preferably 1-3.
  • a heteroatom constituting the heteroaryl ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl ring is preferably 3-30, more preferably 3-18, even more preferably 3-12.
  • the heteroaryl ring is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituents include the groups listed for the substituent T described later and the groups represented by the formula (R-100) described later, and include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an acyl group, and an alkoxycarbonyl group.
  • substituents represented by R a11 to R a29 in formulas (X-1) to (X-5) include groups exemplified for substituent T described later and groups represented by formula (R-100) described later.
  • a sulfo group or a group represented by the formula (R-100) is preferable, and a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an aryl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfonamide group, or an imide more preferably a group or a sulfo group.
  • X c and X d in formulas (X-1) to (X-5) each independently represent S, O or NR X2
  • R X2 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent represented by R X2 includes an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an allyl group and an aryloxy group, preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5, and even more preferably 1-3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • R X2 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group.
  • a 1 in formula (X-1) represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon ring, aromatic heterocyclic ring, or condensed ring thereof.
  • a benzene ring, a naphthalene ring, etc. are mentioned as said aromatic-hydrocarbon ring.
  • the aromatic heterocyclic ring include imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, isothiazole ring and isoxazole ring.
  • condensed ring examples include benzimidazole ring, benzopyrazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, and quinoxaline ring.
  • substituents examples include the groups listed for the substituent T described later and the groups represented by the formula (R-100) described later, and include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an acyl group, and an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group or a group represented by the formula (R-100),
  • a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an aryl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an imide group, or a sulfo group is more preferred.
  • the group represented by formula (X-1) is preferably a group represented by any one of formulas (X-1-1) to (X-1-3).
  • * represents a connecting part
  • R a51 to R a63 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • two adjacent groups among R a51 to R a54 of formula (X-1-1) may be bonded to form a ring
  • two adjacent groups of R a55 to R a58 in formula (X-1-2) may be bonded to form a ring
  • Two adjacent groups among R a60 to R a63 in formula (X-1-3) may be bonded to form a ring.
  • substituents represented by R a51 to R a63 in formulas (X-1-1) to (X-1-3) include the groups exemplified for the substituent T described later and those represented by the formula (R-100) described later. group.
  • Substituents represented by R a51 to R a58 and R a60 to R a63 are halogen atoms, alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, acyloxy groups, aryl groups, aryloxy groups, hydroxy groups, and carboxyl groups.
  • R a59 is preferably an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, an allyl group or an aryloxy group, more preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5, and even more preferably 1-3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • R a59 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group.
  • Two adjacent groups among R a51 to R a54 of formula (X-1-1) may be bonded to form a ring, and R a55 to R a58 of formula (X-1-2) Of these, two adjacent groups may be bonded together to form a ring, and two adjacent groups among R a60 to R a63 of formula (X-1-3) are bonded together to form a ring.
  • the ring formed by combining these groups is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the formed ring examples include benzene ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyran ring, isothiazole ring, isoxazole ring, pyridazine ring, A pyrazine ring, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring, a combination thereof, and the like are included.
  • is preferably a group, and for the reason that it is possible to obtain better visible transparency, it is more preferably a group represented by NR X1 or formula (X-1), visible transparency, light resistance
  • a group represented by any one of formulas (X-1-1) to (X-1-3) is more preferable because it can achieve a high level of both heat resistance and heat resistance.
  • R 1 and R 2 in formula (1) each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 may be a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be any of a monocyclic aliphatic hydrocarbon group, a condensed-ring aliphatic hydrocarbon group, and a bridged-ring aliphatic hydrocarbon group. It is preferably a group.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 may have a substituent.
  • substituents include the groups listed for the substituent T described later and the groups represented by the formula (R-100) described later, halogen atoms, alkoxy groups, alkylthio groups, ureido groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, It is preferably an acyloxy group, a sulfamoyl group, an aryl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group or a group represented by the formula (R-100).
  • R 1 in formula (1) may be the same group as R 2 , but is preferably a different group (ie asymmetric).
  • aliphatic hydrocarbon groups include alkyl groups, alkenyl groups, and alkynyl groups.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-30.
  • the lower limit is preferably 3 or more.
  • the upper limit of the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 7 or less.
  • the specific colorant is a dye
  • the upper limit of the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 25 or less, more preferably 19 or less.
  • Alkyl groups may be linear, branched or cyclic.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms.
  • the lower limit is preferably 3 or more.
  • the upper limit of the number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 7 or less.
  • the specific colorant is a dye
  • the upper limit of the number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 25 or less, more preferably 19 or less.
  • Alkenyl groups may be linear, branched or cyclic.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms.
  • the lower limit is preferably 3 or more.
  • the upper limit of the number of carbon atoms in the alkynyl group is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 7 or less.
  • the upper limit of the number of carbon atoms in the alkynyl group is preferably 25 or less, more preferably 19 or less.
  • Alkynyl groups may be linear, branched or cyclic. Alkyl groups, alkenyl groups and alkynyl groups may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituents include the groups listed for the substituent T described later and the groups represented by the formula (R-100) described later, and include a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, a ureido group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, It is preferably an acyloxy group, a sulfamoyl group, an aryl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group or a group represented by the formula (R-100). .
  • L R1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1 -, -CO-, -COO-, - OCO—, —SO 2 —, or an n+1-valent linking group consisting of a combination thereof
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group
  • X R1 represents an acid group or a basic group
  • n represents an integer of 1 or more.
  • L R1 may be a single bond.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-20, more preferably 2-20, still more preferably 2-10, and particularly preferably 2-5.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the aliphatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-18, more preferably 6-14, even more preferably 6-10.
  • the aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed rings.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3-30, more preferably 3-18, and more preferably 3-12.
  • heterocyclic groups include piperazine ring group, pyrrolidine ring group, pyrrole ring group, piperidine ring group, pyridine ring group, imidazole ring group, pyrazole ring group, oxazole ring group, thiazole ring group, pyrazine ring group, morpholine ring group, thiazine ring group, indole ring group, isoindole ring group, benzimidazole ring group, purine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, quinoxaline ring group, cinnoline ring group, carbazole ring group and the following formula (L- 1) to groups represented by (L-7).
  • * in the formula represents a connecting part.
  • R represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent.
  • substituents include the groups exemplified for the substituent T described later, preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R L1 is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group represented by R L1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the aryl group represented by R L1 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group represented by R L1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • Examples of the acid group represented by X R1 of the formula (R-100) include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imidic acid group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • a group represented by —NHCOR XR1 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R XR2 is preferable.
  • the imidic acid group is preferably a group represented by —SO 2 NHSO 2 R XR3 , —CONHSO 2 R XR4 , —CONHCOR XR5 or —SO 2 NHCOR XR6 , and —CONHSO 2 R XR4 or —SO 2 NHSO 2 R.
  • XR3 is more preferred.
  • R XR1 to R XR6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl groups and aryl groups represented by R XR1 to R XR6 may have substituents.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Basic groups represented by X R1 of formula (R-100) include amino groups, pyridinyl groups and salts thereof, salts of ammonium groups, and phthalimidomethyl groups.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • the amino group includes groups represented by —NRx R1 Rx R2 and cyclic amino groups.
  • Rx R1 and Rx R2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5, and even more preferably 1-3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later. Also, Rx R1 and Rx R2 may combine to form a ring. Cyclic amino groups include a pyrrolidine group, a piperidine group, a piperazine group, a morpholine group and the like. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later. Specific examples of substituents include alkyl groups and aryl groups.
  • n in formula (R-100) represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • a preferred embodiment of formula (1) is an embodiment in which at least one of R 1 and R 2 in formula (1) is an optionally substituted alkyl group having 9 or less carbon atoms.
  • the dye is a pigment
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 5, even more preferably 1 to 4, and preferably 1 to 3.
  • the dispersibility of the pigment is improved, and the generation of foreign matter in the pigment dispersion can be suppressed.
  • the pigment is a dye
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 4 to 9, more preferably 5 to 9, still more preferably 6 to 9, and preferably 7 to 9. Especially preferred.
  • the alkyl group having 9 or less carbon atoms is preferably branched. According to this aspect, it is possible to obtain the effect of suppressing the generation of foreign substances in the dye solution and the effect of suppressing defects in the film formed using the dye solution.
  • substituents that the alkyl group having 9 or less carbon atoms can have include a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, a ureido group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, a sulfamoyl group, a hydroxy group, a carboxyl group, A carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group, or a group represented by the above formula (R-100) can be mentioned, and a halogen atom is preferred.
  • the alkyl group having 9 or less carbon atoms is preferably an unsubstituted alkyl group or an alkyl group having a halogen atom as a substituent (fluoroalkyl group).
  • a preferred embodiment of formula (1) is an embodiment in which at least one of R 1 and R 2 in formula (1) is a group represented by formula (R-1). According to this aspect, associations are easily formed during film formation, and the heat resistance and light resistance of the resulting film can be further improved. In this aspect, when R 1 and R 2 in formula (1) are each a group represented by formula (R-1), the above-described effects are exhibited more remarkably.
  • R 1 and R 2 in formula (1) are each a group represented by formula (R-1), the above-described effects are exhibited more remarkably.
  • * represents a linking moiety
  • R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Ar 101 represents an aryl group or a heteroaryl group
  • n represents 1 or more represents an integer.
  • Substituents represented by R 101 and R 102 include an alkyl group, an aryl group and a heteroaryl group, preferably an alkyl group.
  • R 101 and R 102 are each independently a hydrogen atom.
  • Ar 101 represents an aryl group or a heteroaryl group, preferably an aryl group.
  • n in formula (1) represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 4, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R 101 and R 102 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 5, and 1 to 3. is particularly preferred.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R 101 , R 102 and Ar 101 is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group represented by R 101 , R 102 and Ar 101 is preferably 1-30, more preferably 1-12.
  • Types of heteroatoms that constitute the heteroaryl group include, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1-3, more preferably 1 or 2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 8 condensed numbers, and still more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 4 condensed numbers.
  • a heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • a preferred embodiment of formula (1) is an embodiment in which R 1 in formula (1) is a group with a different structure from R 2 .
  • R 1 and R 2 are each independently an optionally substituted alkyl group, and R 1 preferably has a different structure from R 2 .
  • Y a and Y b in formula (1) each independently represent a hydrogen atom or a substituent, preferably a substituent.
  • Substituents represented by Y a and Y b in formula (1) include an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, and —BR Y1 R Y2 , with —BR Y1 R Y2 being preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Y 1 and Y 2 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, even more preferably 1 to 10, even more preferably 1 to 5, and 1 to 3. is particularly preferred.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the aryl group represented by Y 1 and Y 2 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group represented by Y 1 and Y 2 is preferably 1-30, more preferably 1-12.
  • Types of heteroatoms that make up the heteroaryl group include, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1-3, more preferably 1 or 2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 8 condensed numbers, and still more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 4 condensed numbers.
  • a heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described later.
  • R Y1 and R Y2 in the group represented by -BR Y1 R Y2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or a heteroaryl It represents an oxy group, preferably a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, more preferably a halogen atom, an alkyl group or an aryl group, even more preferably an aryl group.
  • Halogen atoms represented by R Y1 and R Y2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, with a fluorine atom being preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group and alkoxy group represented by R 1 Y1 and R 2 Y2 is preferably 1-40, more preferably 1-30, even more preferably 1-20.
  • Alkyl groups and alkoxy groups may be linear, branched or cyclic, but are preferably linear or branched. An alkyl group and an alkoxy group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • Substituents include aryl groups, heteroaryl groups, halogen atoms, and the like.
  • the alkenyl group represented by R Y1 and R Y2 preferably has 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and still more preferably 2 to 20 carbon atoms.
  • the alkenyl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, heteroaryl groups, and halogen atoms.
  • the number of carbon atoms in the aryl group and aryloxy group represented by R Y1 and R Y2 is preferably 6-20, more preferably 6-12.
  • the aryl group and aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include alkyl groups, alkoxy groups, and halogen atoms.
  • the heteroaryl group and heteroaryloxy group represented by R Y1 and R Y2 may be monocyclic or condensed.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl ring of the heteroaryl group and heteroaryloxy group is preferably 1 to 3.
  • a heteroatom constituting the heteroaryl ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl ring is preferably 3-30, more preferably 3-18, even more preferably 3-12.
  • the heteroaryl ring is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • a heteroaryl group and a heteroaryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include alkyl groups, alkoxy groups, and halogen atoms.
  • R Y1 and R Y2 in the group represented by -BR Y1 R Y2 may be combined to form a ring.
  • Examples of the ring to be formed include structures shown in (B-1) to (B-5) below.
  • Rb represents a substituent
  • Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • b1 to b3 each independently represent an integer of 0 to 4
  • b4 is 0 to 6 represents an integer
  • * represents a connecting part.
  • Substituents represented by Rb and Rb 1 to Rb 4 include the groups exemplified for the substituent T described later, preferably halogen atoms, alkyl groups and alkoxy groups.
  • Substituent T includes the following groups.
  • Halogen atom e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group Preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heteroaryl group preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an amino group preferably amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • alkoxy group preferably alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms
  • aryloxy group preferably aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms
  • heteroaryloxy group preferably carbon 1 to 30 heteroaryloxy groups
  • acyl groups preferably acyl groups having 2 to 30 carbon
  • the maximum absorption wavelength of the specific dye preferably exists at a wavelength of 650 nm or more, more preferably in a wavelength range of 650 to 1500 nm, even more preferably in a wavelength range of 660 to 1200 nm, and a wavelength of 660 to 1000 nm. is particularly preferred.
  • the specific dye has an average absorbance value of 0.00 in the wavelength range of 420 to 550 nm when the absorbance value at the wavelength ( ⁇ max) showing the maximum absorbance value in the wavelength range of 400 nm to 1200 nm is 1. It is preferably less than 010, more preferably less than 0.005.
  • the absorbance and maximum absorption wavelength of a specific dye can be obtained by dissolving the specific dye in a solvent to prepare a dye solution and measuring the absorbance of the dye solution.
  • Solvents used for preparing the dye solution include chloroform, dimethylsulfoxide (DMSO), tetrahydrofuran (THF) and the like.
  • DMSO dimethylsulfoxide
  • THF tetrahydrofuran
  • the specific dye is a compound that dissolves in chloroform
  • chloroform is used as the solvent.
  • dimethylsulfoxide (DMSO) or tetrahydrofuran (THF) dimethylsulfoxide (DMSO) or tetrahydrofuran (THF) is used as the solvent.
  • the average absorbance in the wavelength range of 420 to 550 nm is calculated by taking the weighted average of the normalized absorbance values in the wavelength range of 420 to 550 nm, with the absorbance at ⁇ max being 1.
  • the specific colorant may be a pigment or a dye.
  • R 1 and R 2 in formula (1) are the same group, at least one of R 1 and R 2 (preferably both) is a cyclic aliphatic hydrocarbon group, at least R 1 and R 2 One (preferably both) is a linear aliphatic hydrocarbon group, or at least one of R 1 and R 2 (preferably both) is an aliphatic hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms, a dye It is possible to increase the crystallinity of the dye and reduce the solubility in a solvent, and such a specific dye can be preferably used as a pigment.
  • R 1 and R 2 are different groups
  • at least one of R 1 and R 2 is a branched aliphatic hydrocarbon group
  • the specific dye may be a dye derivative.
  • Dye derivatives are used, for example, as dispersing aids.
  • a dispersing aid is a material that enhances the dispersibility of the pigment in the composition.
  • a resin such as a dispersant
  • a network can be formed between the pigment, the dispersing aid and the resin to further improve the dispersibility of the pigment.
  • a compound having a structure in which at least one of X a , X b , Y a , Y b , R 1 and R 2 in formula (1) has a group represented by formula (R-100) as a substituent is a dispersing aid. It can be preferably used as an agent.
  • a compound having such a structure can also be used as a pigment or dye. Details of the dye derivative will be described later.
  • formula (1) also includes its resonance structure. That is, the compound having the resonance structure of formula (1) is also included in the specific dye of the present invention.
  • specific dyes include compounds having structures described in the examples below (PPB-A-1 to PPB-A-45, PPB-B-1 to PPB-B-13, PPB-B-15, PPB -B-16, PPB-C-1 to PPB-C-3).
  • the content of the specific pigment is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more, based on the total solid content of the composition.
  • the upper limit of the content of the specific dye is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the composition may contain only one type of specific dye, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a decomposition product of a specific dye.
  • the composition of the invention contains a curable compound.
  • the curable compound include polymerizable compounds and resins.
  • the resin may be a non-polymerizable resin (a resin having no polymerizable group) or a polymerizable resin (a resin having a polymerizable group).
  • polymerizable groups include ethylenically unsaturated bond-containing groups, cyclic ether groups, methylol groups, and alkoxymethyl groups.
  • Examples of ethylenically unsaturated bond-containing groups include vinyl groups, vinylphenyl groups, (meth)allyl groups, (meth)acryloyl groups, (meth)acryloyloxy groups, (meth)acryloylamide groups, and the like. Allyl group, (meth)acryloyl group and (meth)acryloyloxy group are preferred, and (meth)acryloyloxy group is more preferred.
  • Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group, with the epoxy group being preferred.
  • the curable compound it is preferable to use one containing at least a resin. Further, when the composition of the present invention is used as a composition for photolithography, it is preferable to use a resin and a polymerizable monomer (monomer-type polymerizable compound) as the curable compound. It is more preferable to use a polymerizable monomer (monomer-type polymerizable compound) having an unsaturated bond-containing group.
  • polymerizable compound examples include compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group, compounds having a cyclic ether group, compounds having a methylol group, and compounds having an alkoxymethyl group.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group can be preferably used as a radically polymerizable compound.
  • a compound having a cyclic ether group can also be preferably used as a cationic polymerizable compound.
  • resin-type polymerizable compounds include resins containing repeating units having polymerizable groups.
  • the molecular weight of the monomer type polymerizable compound is preferably less than 2000, more preferably 1500 or less.
  • the lower limit of the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100 or more, more preferably 200 or more.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin-type polymerizable compound is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit of the weight average molecular weight is preferably 3000 or more, more preferably 5000 or more.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group as a polymerizable monomer is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • Specific examples include paragraph numbers 0095 to 0108 of JP-A-2009-288705, paragraph 0227 of JP-A-2013-029760, paragraph numbers 0254-0257 of JP-A-2008-292970, and JP-A-2013-253224.
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available as KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available).
  • KAYARAD D-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol penta(meth)acrylate commercially available KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol hexa(meth)acrylate ) Acrylate commercially available as KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • the (meth)acryloyl groups of these compounds are ethylene glycol and / Or a compound having a structure linked via a propylene glycol residue (for example, SR454 and SR499 commercially available from Sartomer).
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include diglycerin EO (ethylene oxide)-modified (meth)acrylate (commercially available as M-460; manufactured by Toagosei), pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Industry ( Ltd., NK Ester A-TMMT), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Toagosei Co., Ltd.), NK Oligo UA-7200 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), Light acrylate POB-A0 (Kyoeish
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, and ethylene oxide isocyanurate. It is also preferable to use trifunctional (meth)acrylate compounds such as modified tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate. Commercial products of trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306 and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may further have an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • Commercially available products of such compounds include Aronix M-305, M-510, M-520 and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • a compound having a caprolactone structure can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the descriptions in paragraphs 0042 to 0045 of JP-A-2013-253224 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Compounds having a caprolactone structure include, for example, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, etc., which are commercially available as a series from Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an alkyleneoxy group can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Such a compound is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, and is a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group. More preferably, it is a tri- to hexa-functional (meth)acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • Examples of commercially available products include SR-494, a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups and KAYARAD TPA-330, a trifunctional (meth)acrylate having three isobutyleneoxy groups, manufactured by Sartomer. mentioned.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Commercially available products include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemicals Co., Ltd., (meth)acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group it is also preferable to use a compound such as toluene that does not substantially contain environmentally regulated substances.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA- 306I, AH-600, T-600, AI-600, LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 ( Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like are also preferably used.
  • Compounds having a cyclic ether group include compounds having an epoxy group, compounds having an oxetanyl group, and the like, and compounds having an epoxy group are preferred.
  • Compounds having an epoxy group include compounds having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the number of epoxy groups can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the number of epoxy groups is preferably two or more.
  • the compound having a cyclic ether group may be a low-molecular-weight compound (e.g., molecular weight less than 1000) or a high-molecular-weight compound (macromolecule) (e.g., molecular weight 1000 or more, weight-average molecular weight 1000 or more in the case of polymer).
  • the weight average molecular weight of the cyclic ether group is preferably from 200 to 100,000, more preferably from 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • methylol compounds include compounds in which a methylol group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • compounds having an alkoxymethyl group include compounds in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Compounds having an alkoxymethyl or methylol group attached to the nitrogen atom include alkoxymethylated melamine, methylolated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, methylolated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril, methylolated glycoluril, alkoxymethylated Urea and methylolated urea are preferred. Further, the compounds described in paragraphs 0134 to 0147 of JP-A-2004-295116 and paragraphs 0095-0126 of JP-A-2014-089408 can also be used.
  • the composition of the present invention can use a resin as a curable compound. It is preferable to use a curable compound containing at least a resin.
  • the resin is blended, for example, for dispersing a pigment or the like in the composition or for a binder.
  • a resin that is mainly used to disperse a pigment or the like in a composition is also called a dispersant.
  • such uses of the resin are only examples, and the resin can be used for purposes other than such uses.
  • a resin having a polymerizable group also corresponds to a polymerizable compound.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 5000 or more.
  • resins include (meth)acrylic resins, epoxy resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, polyarylene ether phosphine oxide resins, polyimide resins, Polyamide resins, polyamideimide resins, polyolefin resins, cyclic olefin resins, polyester resins, styrene resins, vinyl acetate resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, and the like.
  • norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Commercially available norbornene resins include, for example, the ARTON series manufactured by JSR Corporation (for example, ARTON F4520). Further, as the resin, the resin described in the examples of International Publication No.
  • a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used.
  • the description of US Patent Application Publication No. 2017/0102610 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • a resin having an acid group As the resin.
  • acid groups include carboxyl groups, phosphoric acid groups, sulfo groups, and phenolic hydroxy groups. Only one kind of these acid groups may be used, or two or more kinds thereof may be used. Resins with acid groups can also be used as dispersants.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30-500 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH/g or more, more preferably 70 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 200 mgKOH/g or less, still more preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.
  • a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the formula (ED1) and/or a compound represented by the formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as an "ether dimer"). It is also preferred to include
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP-A-2013-029760 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • the resin it is also preferable to use a resin having a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0-15.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by R 21 and R 22 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, even more preferably 1 to 3, particularly 2 or 3.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by formula (X) include ethylene oxide- or propylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol.
  • Commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin preferably contains a resin as a dispersant.
  • Dispersants include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol % or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol %.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10-105 mgKOH/g.
  • a basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • a resin containing more than 50 mol % of basic groups is preferable when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft resin.
  • graft resin for details of the graft resin, reference can be made to paragraphs 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a polyimine-based dispersant containing nitrogen atoms in at least one of its main chain and side chains.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less and a side chain having 40 to 10,000 atoms, and at least one of the main chain and the side chain has a basic nitrogen atom.
  • a resin having The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core.
  • resins include, for example, dendrimers (including star polymers). Further, specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP-A-2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain.
  • the content of repeating units having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, more preferably 20 to 70, of the total repeating units of the resin. More preferably, it is mol %.
  • resins described in JP-A-2018-087939, block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077, Polyethyleneimine having a polyester side chain described in International Publication No. 2016/104803, a block copolymer described in International Publication No. 2019/125940, a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066687 , a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066688 can also be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DISPERBYK series manufactured by BYK Chemie, SOLSPERSE series manufactured by Lubrizol Japan, Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Ajisper series manufactured by.
  • the product described in paragraph number 0129 of JP-A-2012-137564 and the product described in paragraph number 0235 of JP-A-2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the content of the curable compound is preferably 1 to 95% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, still more preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 94% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, still more preferably 85% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or less.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 1 to 85% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the polymerizable monomer is preferably 1 to 50% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the content of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is 1 to 70 mass in the total solid content of the composition. % is preferred.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 65% by mass or less, more preferably 60% by mass or less.
  • the content of the resin is preferably 1 to 85% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, still more preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, even more preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 0.1 to 40% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above specific dye.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 75 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • composition of the present invention may contain only one type of curable compound, or may contain two or more types. When two or more curable compounds are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention can contain infrared absorbing agents (other infrared absorbing agents) other than the specific dyes described above. Furthermore, by containing other infrared absorbing agents, it is possible to form a film capable of shielding infrared rays in a wider wavelength range.
  • Other infrared absorbers may be dyes or pigments (particles).
  • infrared absorbers include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterrylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, and pyrromethene compounds. , azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, dithiolene metal complexes, metal oxides, metal borides, and the like.
  • pyrrolopyrrole compound compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph numbers 0037-0052 of JP-A-2011-068731, WO 2015/166873 Compounds described in Paragraph Nos. 0010 to 0033 and the like.
  • examples of the squarylium compound include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0049 of JP-A-2011-208101, compounds described in paragraph numbers 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and paragraph number 0040 of WO 2016/181987.
  • Examples of croconium compounds include compounds described in JP-A-2017-082029.
  • As the iminium compound for example, compounds described in JP-A-2008-528706, compounds described in JP-A-2012-012399, compounds described in JP-A-2007-092060, International Publication No. 2018/043564 and the compounds described in paragraphs 0048 to 0063 of.
  • phthalocyanine compound examples include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, and paragraph numbers 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480. compounds, vanadium phthalocyanine compounds described in Japanese Patent No. 6081771, and compounds described in International Publication No. 2020/071470. Examples of naphthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153. Dithiolene metal complexes include compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • metal oxides include indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, and tungsten oxide.
  • metal borides include lanthanum boride.
  • Commercially available lanthanum boride products include LaB 6 -F (manufactured by Nippon New Metal Co., Ltd.).
  • a metal boride the compound as described in international publication 2017/119394 can also be used.
  • commercially available products of indium tin oxide include F-ITO (manufactured by DOWA Hitech Co., Ltd.).
  • the infrared absorbing agent the squarylium compound described in JP-A-2017-197437, the squarylium compound described in JP-A-2017-025311, the squarylium compound described in WO 2016/154782, and the patent No. 5884953. No. 6036689, squarylium compounds described in Japanese Patent No. 5810604, squarylium compounds described in paragraphs 0090 to 0107 of International Publication No.
  • the content of the other infrared absorbing agent is preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 3 to 60 parts by mass, and 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the specific dye described above. is more preferred.
  • the total content of the specific dye and other infrared absorbing agent described above is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, based on the total solid content of the composition, and 5% by mass % or more is more preferable.
  • the upper limit of the total content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the specific dye itself may be a dye derivative (hereinafter also referred to as "derivative") as described above, but in addition to the above-described specific dye, it may further contain a dye derivative.
  • Dye derivatives are used as dispersing aids. Examples of dye derivatives include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to a dye skeleton.
  • dye skeletons constituting dye derivatives include squarylium dye skeleton, pyrrolopyrrole dye skeleton, diketopyrrolopyrrole dye skeleton, quinacridone dye skeleton, anthraquinone dye skeleton, dianthraquinone dye skeleton, benzoisoindole dye skeleton, and thiazineindigo dye skeleton.
  • a squarylium dye skeleton, a pyrrolopyrrole dye skeleton, a diketopyrrolopyrrole dye skeleton, a phthalocyanine dye skeleton, a quinacridone dye skeleton and a benzimidazolone dye skeleton are preferred, and a squarylium dye skeleton and a pyrrolopyrrole dye skeleton are more preferred.
  • the acid group includes a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imidic acid group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR A1 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R A2 is preferable.
  • the imidic acid group is preferably a group represented by -SO 2 NHSO 2 R A3 , -CONHSO 2 R A4 , -CONHCOR A5 or -SO 2 NHCOR A6 , more preferably -SO 2 NHSO 2 R A3 .
  • R A1 to R A6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl groups and aryl groups represented by R A1 to R A6 may have substituents.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Basic groups include amino groups, pyridinyl groups and salts thereof, salts of ammonium groups, and phthalimidomethyl groups.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions. Specific examples and preferred examples of each group are the same as the basic group represented by X R1 in formula (R-100) described above.
  • X a , X b , Ya , Y b , R 1 and At least one of R 2 may also include a dye having a group represented by formula (R-100) as a substituent.
  • the dye derivative is more preferably a dye in which at least one of R 1 and R 2 in formula (1) has a group represented by formula (R-100) as a substituent. It is also preferable that the dye derivative is a compound in which at least one of R 1 and R 2 in formula (1) has a group represented by formulas (A-1) to (B-2) described below.
  • the dye derivative include the compounds described in Examples described later.
  • JP-A-56-118462, JP-A-63-264674, JP-A-01-217077, JP-A-03-009961, JP-A-03-026767, JP-A-03-153780 Publications, JP-A-03-045662, JP-A-04-285669, JP-A-06-145546, JP-A-06-212088, JP-A-06-240158, JP-A-10-030063, JP-A-10-195326, paragraph numbers 0086 to 0098 of International Publication No. 2011/024896, and compounds described in paragraph numbers 0063 to 0094 of International Publication No. 2012/102399, the contents of which are herein incorporated into.
  • the content of the dye derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the specific dye described above.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one dye derivative may be used, or two or more dye derivatives may be used. When two or more kinds are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the invention preferably contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents, and organic solvents are preferred.
  • Organic solvents include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents.
  • Ester-based solvents substituted with cyclic alkyl groups and ketone-based solvents substituted with cyclic alkyl groups can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -heptanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol Acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may be better reduced for environmental reasons (e.g., 50 mass ppm (parts per million), 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, an organic solvent with a ppt (parts per trillion) mass level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one isomer may be contained, or a plurality of isomers may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol/L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the composition is preferably 10-97% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, even more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. It is particularly preferable that it is above.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.
  • the composition may contain only one type of solvent, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the invention preferably further contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible region are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, hexaarylbi imidazole compounds, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl-substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and acylphosphine compounds, more preferably oxime compounds.
  • hexaarylbiimidazole compounds include 2,2′,4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1,1′-biimidazole, etc. is mentioned.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above company) and the like.
  • ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG (manufactured by Irgacure 369E, Irgacure 379EG). made), etc.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 and Irgacure TPO (manufactured by BASF).
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-080068, compounds described in JP-A-2006-342166, J. Am. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.1653-1660); C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.202-232), compounds described in JP-A-2000-066385, Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2017-019766, compounds described in Patent No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy and imino-1-phenylpropan-1-one.
  • An oxime compound having a fluorene ring can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466, compounds described in Japanese Patent No. 6636081, and compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444. be done.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in WO2013/083505.
  • An oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. and the compound (C-3) of.
  • An oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP-A-2013-114249 and paragraph numbers 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466; Compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071 and ADEKA Arkles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) can be mentioned.
  • An oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in WO 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxyl group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1000 to 300000, further preferably 2000 to 300000, even more preferably 5000 to 200000. It is particularly preferred to have
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using known methods. For example, it is preferably measured at a concentration of 0.01 g/L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation becomes difficult over time, and the stability over time of the composition can be improved.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 35% by mass, even more preferably 1 to 30% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • composition of the present invention contains a compound having a cyclic ether group, it preferably further contains a curing agent.
  • curing agents include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, polyvalent carboxylic acids, and thiol compounds.
  • specific examples of curing agents include succinic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, N,N-dimethyl-4-aminopyridine, pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate) and the like.
  • the content of the curing agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 10 parts by mass, and 0.1 to 6.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having a cyclic ether group. is more preferred.
  • the composition of the invention may contain chromatic colorants.
  • a chromatic colorant means a colorant other than a white colorant and a black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant that absorbs in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • the chromatic colorants include red colorants, green colorants, blue colorants, yellow colorants, purple colorants and orange colorants.
  • a chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • a pigment and a dye may be used in combination.
  • the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment.
  • an inorganic pigment or a material in which a part of an organic-inorganic pigment is replaced with an organic chromophore can also be used. By replacing inorganic pigments or organic-inorganic pigments with organic chromophores, hue design can be facilitated.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the average primary particle size of the pigment can be determined from the image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in the present invention is the arithmetic mean value of the primary particle sizes of 400 primary particles of the pigment.
  • the primary particles of the pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. is particularly preferred. Examples of pigments include those shown below.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 per molecule.
  • Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • a phthalocyanine compound a phthalocyanine compound described in JP-A-2018-180023, a compound described in JP-A-2019-038958, a core-shell type dye described in JP-A-2020-076995, and the like can also be used.
  • An aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used as a blue pigment.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A-2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A-2011-157478.
  • red pigments diketopyrrolopyrrole compounds in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384, diketopyrrolopyrrole compounds described in paragraphs 0016 to 0022 of Japanese Patent No. 6248838, Diketopyrrolopyrrole compounds described in WO 2012/102399, diketopyrrolopyrrole compounds described in WO 2012/117965, naphthol azo compounds described in JP 2012-229344, Patent No. 6516119 Red pigment described in the publication, red pigment described in Patent No. 6525101, brominated diketopyrrolopyrrole compounds described in paragraph number 0229 of JP 2020-090632, Korean Patent No.
  • 10-2019-0140741 Anthraquinone compounds described in publications, anthraquinone compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2019-0140744, perylene compounds described in JP-A-2020-079396, and the like can also be used. Also, as a red pigment, a compound having a structure in which an aromatic ring group in which a group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is bonded to an aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton may be used. can.
  • the pyrrolopyrrole-based pigment has a crystallite size of 140 ⁇ or less in the plane direction corresponding to the maximum peak in the X-ray diffraction pattern among the eight planes of ( ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1) among the crystal lattice planes. It is also preferred to use one. Further, the physical properties of the pyrrolopyrrole pigment are preferably set as described in paragraphs 0028 to 0073 of JP-A-2020-097744.
  • Dyes can also be used as chromatic colorants.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • pyrazole azo dyes anilinoazo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benzylidene dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, phenothiazine dyes, pyrrolopyrazole azomethine dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, pyrromethene dyes, and the like.
  • a pigment multimer can also be used as a chromatic colorant.
  • the dye multimer is preferably a dye dissolved in a solvent and used. Further, the dye multimer may form particles. When the dye multimer is particles, it is usually used in a state of being dispersed in a solvent.
  • the particulate dye multimer can be obtained, for example, by emulsion polymerization, and specific examples include the compounds and production methods described in JP-A-2015-214682.
  • a dye multimer has two or more dye structures in one molecule, and preferably has three or more dye structures. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less.
  • a plurality of dye structures in one molecule may be the same dye structure or different dye structures.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the dye multimer is preferably 2,000 to 50,000.
  • the lower limit is more preferably 3000 or more, and even more preferably 6000 or more.
  • the upper limit is more preferably 30,000 or less, and even more preferably 20,000 or less.
  • Dye multimers are described in JP-A-2011-213925, JP-A-2013-041097, JP-A-2015-028144, JP-A-2015-030742, WO 2016/031442, etc. Compounds can also be used.
  • the chromatic colorant the thiazole compound described in JP-A-2012-158649, the azo compound described in JP-A-2011-184493, the azo compound described in JP-A-2011-145540, published in Korea Triarylmethane dye polymer described in Patent No. 10-2020-0028160, xanthene compound described in JP-A-2020-117638, phthalocyanine compound described in WO2020/174991, JP-A-2020-160279
  • An isoindoline compound or a salt thereof described in the publication can be used.
  • the content of the chromatic colorant is preferably 1 to 50% by mass based on the total solid content of the composition of the present invention.
  • the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention can also contain a coloring material that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • a composition containing a coloring material that blocks visible light is preferably used as a composition for forming an infrared transmission filter.
  • the colorant that blocks visible light is preferably a colorant that absorbs light in the wavelength range from violet to red. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that blocks light in the wavelength range of 450 to 650 nm. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that transmits light with a wavelength of 900 to 1500 nm.
  • the colorant that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • B Contains an organic black colorant.
  • organic black colorants include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, with bisbenzofuranone compounds and perylene compounds being preferred.
  • bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515233, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515234, etc.
  • perylene compounds include compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-170601, JP-A-02-034664, and the like.
  • examples of the combination of chromatic colorants include the following aspects (1) to (8).
  • the content of the coloring material that blocks visible light is preferably 1 to 50 mass% of the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the composition of the invention preferably contains a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorine-based surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant.
  • Surfactants include those described in paragraphs 0238-0245 of WO2015/166779, the contents of which are incorporated herein.
  • JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 (corresponding International Publication No. 2014/017669 Paragraph Nos. 0060 to 0064) surfactants described in, JP 2011- Examples include surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP-A-132503 and surfactants described in JP-A-2020-008634, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143 and F-144.
  • fluorine-based surfactant there is also an acrylic compound that has a molecular structure with a functional group containing a fluorine atom, and when heat is applied, the portion of the functional group containing the fluorine atom is cleaved and the fluorine atom volatilizes. It can be used preferably.
  • fluorine-based surfactants include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Megafac and DS-21.
  • fluorosurfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorosurfactant.
  • fluorosurfactants include fluorosurfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • a fluorosurfactant a repeating unit derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meta)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3000-50000, for example 14000. In the above compounds, % indicating the ratio of repeating units is mol %.
  • a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain can also be used as the fluorine-based surfactant.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965, MEGAFACE RS-101, RS-102 and RS-718K manufactured by DIC Corporation, and RS-72-K. Further, compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used as the fluorosurfactant.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a+ is an a-valent metal ion, primary ammonium ion, Represents secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH 4 + .
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF company), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Wako Pure
  • Cationic surfactants include tetraalkylammonium salts, alkylamine salts, benzalkonium salts, alkylpyridium salts, imidazolium salts, and the like. Specific examples include dihydroxyethylstearylamine, 2-heptadecenyl-hydroxyethylimidazoline, lauryldimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stearamidomethylpyridinium chloride and the like.
  • Anionic surfactants include dodecylbenzenesulfonic acid, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyletherdisulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, sodium dioctyl Sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate, sodium dialkyl sulfosuccinate, sodium oleate, sodium t-octylphenoxyethoxy polyethoxyethyl sulfate, etc. are mentioned.
  • silicone surfactants examples include SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), TSF-4440, and TSF-4300. , TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Co., Ltd.), BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK-Chemie) and the like.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone-based surfactant.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass, and still more preferably 0.001 to 0.2% by mass of the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.), and p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.0001 to 5% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and capable of forming a siloxane bond by at least one of hydrolysis reaction and condensation reaction.
  • Hydrolyzable groups include, for example, halogen atoms, alkoxy groups, acyloxy groups and the like, with alkoxy groups being preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl group, (meth)acryloyl group, mercapto group, epoxy group, oxetanyl group, amino group, ureido group, sulfide group, isocyanate group, and phenyl group. with (meth)acryloyl groups and epoxy groups being preferred.
  • the silane coupling agent includes compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703, and compounds described in paragraph numbers 0056-0066 of JP-A-2009-242604. incorporated into the specification.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the invention may contain an ultraviolet absorber.
  • UV absorbers include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, triazine compounds, and merocyanine dyes. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP-A-2009-217221, paragraph numbers 0052-0072 of JP-A-2012-208374, paragraph numbers 0317-0317 of JP-A-2013-068814.
  • UV absorbers include Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF. Moreover, as a benzotriazole compound, the MYUA series made from Miyoshi oil and fats (Chemical Daily, February 1, 2016) is mentioned. Further, as the ultraviolet absorber, compounds described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 and paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No. 2016/181987 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of UV absorber, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the compositions of the invention may contain antioxidants.
  • Antioxidants include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like. Any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used as the phenolic compound.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) is preferred.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferred.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule.
  • Phosphorus-based antioxidants can also be suitably used as antioxidants.
  • a phosphorus antioxidant tris[2-[[2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)dibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-6 -yl]oxy]ethyl]amine, tris[2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-2-yl ) oxy]ethyl]amine, ethyl bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) phosphite, and the like.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like.
  • antioxidants include compounds described in paragraphs 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, compounds described in WO 2017/006600, and compounds described in WO 2017/164024. can also be used.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one kind of antioxidant, or may contain two or more kinds. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • composition of the present invention may optionally contain sensitizers, curing accelerators, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers and other auxiliary agents (e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, etc.). agents, release accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.). Properties such as film physical properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are, for example, described in JP 2012-003225, paragraph number 0183 and later (corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812, paragraph number 0237), JP 2008-250074 paragraph The descriptions of numbers 0101 to 0104, 0107 to 0109, etc.
  • the composition of the present invention may also contain latent antioxidants, if desired.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site functioning as an antioxidant is protected with a protective group, and is heated at 100 to 250°C, or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant by removing the protective group by the reaction is exemplified.
  • Examples of latent antioxidants include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Commercially available latent antioxidants include ADEKA Arkles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the storage container for the composition of the present invention is not particularly limited, and known storage containers can be used.
  • a storage container a multi-layer bottle whose inner wall is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle with a 7-layer structure of 6 types of resin are used for the purpose of suppressing the contamination of raw materials and compositions with impurities. It is also preferred to use Examples of such a container include the container described in JP-A-2015-123351.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass or stainless steel for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, enhancing the stability of the composition over time, and suppressing deterioration of components.
  • compositions of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned ingredients.
  • the composition may be prepared by dissolving or dispersing all the components in a solvent at the same time, or if necessary, two or more solutions or dispersions in which each component is appropriately blended are prepared in advance. They may be prepared and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a composition.
  • the preparation of the composition may include a process of dispersing the pigment.
  • mechanical forces used for dispersing pigments include compression, squeezing, impact, shearing, cavitation, and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like.
  • pulverizing the pigment in a sand mill (bead mill) it is preferable to use beads with a small diameter or to increase the filling rate of the beads so as to increase the pulverization efficiency.
  • the process and dispersing machine for dispersing pigments are described in "Dispersion Technology Complete Works, Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005” and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial Practical Application General Documents, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978", the process and dispersing machine described in paragraph number 0022 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-157893 can be suitably used.
  • the pigment may be finely divided in the salt milling process. Materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling process can be referred to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2015-194521 and 2012-046629.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • fluorine resin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resin such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resin such as polyethylene, polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight (including polyolefin resin).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon eg nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resin such as polyethylene
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferred.
  • the pore size of the filter is preferably 0.01-7.0 ⁇ m, more preferably 0.01-3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05-0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the pore size value of the filter reference can be made to the filter manufacturer's nominal value.
  • Various filters provided by Nihon Pall Co., Ltd. (DFA4201NIEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (former Japan Microlith Co., Ltd.), Kitz Micro Filter Co., Ltd., etc. can be used as the filter. .
  • fibrous filter media include polypropylene fibers, nylon fibers, and glass fibers.
  • Commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno.
  • filters When using filters, different filters (eg, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. At that time, filtration with each filter may be performed only once, or may be performed twice or more. Also, filters with different pore sizes within the range described above may be combined. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration with the second filter may be performed.
  • filters eg, a first filter and a second filter, etc.
  • the membrane of the invention is obtained from the composition of the invention described above.
  • the film of the present invention can be preferably used as an optical filter.
  • Applications of the optical filter are not particularly limited, but include infrared cut filters, infrared transmission filters, and the like.
  • an infrared cut filter for example, an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, an infrared cut filter for a wafer level lens, etc.), an infrared cut filter on the back side of the solid-state image sensor (opposite to the light receiving side) , Infrared cut filters for ambient light sensors (for example, illuminance sensors that detect the illuminance and color tone of the environment in which the information terminal device is placed and adjust the color tone of the display, and color correction sensors that adjust the color tone) be done.
  • the infrared transmission filter include a filter capable of blocking visible light and selectively transmitting infrared light having a specific wavelength or higher.
  • the film of the present invention may have a pattern or may be a film without a pattern (flat film). Moreover, the film of the present invention may be used by laminating it on a support, or may be used by peeling the film of the present invention from the support. Examples of the support include semiconductor substrates such as silicon substrates and transparent substrates.
  • a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the semiconductor substrate used as the support. Also, a black matrix that isolates each pixel may be formed on the semiconductor substrate. Further, if necessary, an undercoat layer may be provided on the semiconductor substrate for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate.
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a transparent conductive film or the like
  • an undercoat layer may be provided on the semiconductor substrate for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate.
  • the transparent substrate used as the support is not particularly limited as long as it is composed of a material that can transmit at least visible light.
  • Examples thereof include base materials made of materials such as glass and resin.
  • resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene vinyl acetate copolymer, acrylic resins such as norbornene resin, polyacrylate, and polymethyl methacrylate, urethane resins, and vinyl chloride resins. , fluororesin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin, and the like.
  • glass examples include soda-lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, glass containing copper, and the like.
  • Glass containing copper includes phosphate glass containing copper, fluorophosphate glass containing copper, and the like.
  • a commercially available glass containing copper can also be used.
  • Commercially available glass containing copper includes NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.).
  • the thickness of the film of the present invention can be adjusted as appropriate according to the purpose.
  • the thickness of the film is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as an infrared cut filter, the film of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably 660 to 1200 nm, more preferably 660 to 1000 nm). .
  • the average transmittance of light with a wavelength of 420 to 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly 85% or more. preferable.
  • the transmittance in the entire wavelength range of 420 to 550 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and even more preferably 80% or more.
  • the film of the present invention preferably has a transmittance of 15% or less at at least one point in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably 660 to 1200 nm, more preferably 660 to 1000 nm). The following is more preferable, and 5% or less is even more preferable.
  • the film of the present invention preferably has an average absorbance of less than 0.030, more preferably less than 0.025 in the wavelength range of 420 to 550 nm when the absorbance at the maximum absorption wavelength is 1.
  • the ability to block light around a wavelength of 400 nm can be evaluated by the transmittance (ultraviolet shielding property) at a wavelength of 390 nm, and the ultraviolet shielding property is preferably 5% or less.
  • the film of the present invention preferably has, for example, any one of the following spectral characteristics (i1) to (i3).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 850 nm and transmit light in the wavelength range of 950 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light in the wavelength range of 1050 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light in the wavelength range of 1150 nm or more.
  • the ability to block light around a wavelength of 400 nm can be evaluated by the transmittance (ultraviolet shielding property) at a wavelength of 390 nm, and the ultraviolet shielding property is preferably 5% or less.
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • a color filter can be produced using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the color filter is preferably arranged on the optical path of the film of the present invention.
  • the film of the present invention may be formed on a support other than the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, a microlens, a planarization layer, etc. constituting the solid-state imaging device may be interposed between the film and the color filter.
  • the film of the present invention can be used in various devices such as solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors), infrared sensors, and image display devices.
  • solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors)
  • infrared sensors and image display devices.
  • the film of the present invention can be produced through the step of applying the composition of the present invention.
  • Examples of the support include those mentioned above.
  • a method for applying the composition a known method can be used. For example, drop method (drop cast); slit coating method; spray method; roll coating method; spin coating method (spin coating); methods described in publications); inkjet (e.g., on-demand method, piezo method, thermal method), discharge system printing such as nozzle jet, flexo printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc. Examples include various printing methods; transfer methods using molds and the like; nanoimprinting methods and the like.
  • the application method for inkjet is not particularly limited.
  • the composition layer formed by applying the composition may be dried (pre-baked).
  • the pre-baking temperature is preferably 150° C. or lower, more preferably 120° C. or lower, and even more preferably 110° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50° C. or higher, and can also be 80° C. or higher.
  • the prebaking time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 seconds to 2500 seconds, and even more preferably 80 seconds to 220 seconds. Drying can be performed using a hot plate, an oven, or the like.
  • the film manufacturing method may further include a step of forming a pattern.
  • the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithographic method and a pattern forming method using a dry etching method, and the pattern forming method using the photolithographic method is preferable.
  • the step of forming a pattern may not be performed. The process of forming the pattern will be described in detail below.
  • the pattern formation method by photolithography comprises a step of patternwise exposing the composition layer formed by coating the composition of the present invention (exposure step), and developing and removing the unexposed portion of the composition layer. and a step of forming a pattern (development step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-baking step) may be provided. Each step will be described below.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be exposed in a pattern by exposing through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • Radiation (light) that can be used for exposure includes g-line, i-line, and the like.
  • Light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used.
  • Light having a wavelength of 300 nm or less includes KrF rays (wavelength: 248 nm), ArF rays (wavelength: 193 nm), etc., and KrF rays (wavelength: 248 nm) are preferable.
  • a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • the light when exposing, the light may be continuously irradiated and exposed, or may be irradiated and exposed in pulses (pulse exposure).
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeating light irradiation and rest in short-time (for example, millisecond level or less) cycles.
  • the dose is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be selected as appropriate, and in addition to exposure in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (e.g., 15% by volume, 5% by volume, or substantially oxygen-free) or in a high-oxygen atmosphere with an oxygen concentration exceeding 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W/m 2 to 100000 W/m 2 (eg, 5000 W/m 2 , 15000 W/m 2 or 35000 W/m 2 ). can be done.
  • the oxygen concentration and exposure illuminance may be appropriately combined.
  • the illuminance may be 10000 W/m 2 at an oxygen concentration of 10% by volume and 20000 W/m 2 at an oxygen concentration of 35% by volume.
  • an unexposed portion of the composition layer after exposure is removed by development to form a pattern.
  • the development and removal of the composition layer in the unexposed area can be carried out using a developer.
  • the unexposed portion of the composition layer in the exposure step is eluted into the developer, leaving only the photocured portion on the support.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the step of shaking off the developer every 60 seconds and then supplying new developer may be repeated several times.
  • the developer includes an organic solvent, an alkaline developer, etc., and an alkaline developer is preferably used.
  • an alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkali developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • a nonionic surfactant is preferable as the surfactant.
  • the developer may be produced once as a concentrated solution and then diluted to the required concentration when used. Although the dilution ratio is not particularly limited, it can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • wash (rinse) with pure water after development. Rinsing is preferably carried out by supplying a rinse liquid to the composition layer after development while rotating the support on which the composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinsing liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support.
  • the moving speed of the nozzle may be gradually decreased.
  • in-plane variations in rinsing can be suppressed.
  • a similar effect can be obtained by gradually decreasing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the periphery.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments for complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240.degree. C., more preferably 200 to 240.degree.
  • Post-baking can be performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film satisfies the above conditions. .
  • the light used for exposure preferably has a wavelength of 400 nm or less.
  • the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • Pattern formation by a dry etching method includes curing the composition layer formed by coating the composition on a support to form a cured product layer, and then forming a photoresist layer patterned on the cured product layer. is formed, and then dry etching is performed on the cured product layer using an etching gas using the patterned photoresist layer as a mask. In forming the photoresist layer, pre-baking is preferably performed.
  • description in paragraphs 0010 to 0067 of JP-A-2013-064993 can be referred to, and the contents thereof are incorporated into this specification.
  • optical filter of the present invention has the film of the present invention as described above.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters.
  • the optical filter of the present invention may further have a layer containing copper, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, etc., in addition to the film of the present invention described above.
  • the ultraviolet absorbing layer include the absorbing layers described in paragraphs 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/099060.
  • Dielectric multilayer films include dielectric multilayer films described in paragraphs 0255 to 0259 of JP-A-2014-041318.
  • the layer containing copper a glass substrate made of glass containing copper (copper-containing glass substrate) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can be used.
  • Copper-containing glass substrates include copper-containing phosphate glass, copper-containing fluorophosphate glass, and the like.
  • Commercially available copper-containing glasses include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (manufactured by Schott), CD5000 (manufactured by HOYA Corporation), and the like.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state imaging device is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device. For example, the following configuration can be mentioned.
  • a plurality of photodiodes constituting the light receiving area of the solid-state imaging device and transfer electrodes made of polysilicon or the like are provided on the support, and the photodiodes and the transfer electrodes are formed of tungsten or the like with openings only for the light receiving portions of the photodiodes.
  • a device protective film formed of silicon nitride or the like is formed on the light shielding film so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion, and the present invention is formed on the device protective film.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned by partition walls, for example, in a grid pattern.
  • the partition in this case preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of imaging devices having such a structure include devices described in JP-A-2012-227478 and JP-A-2014-179577.
  • the image display device of the invention comprises the film of the invention.
  • image display devices include liquid crystal display devices and organic electroluminescence (organic EL) display devices.
  • organic EL organic electroluminescence
  • For the definition and details of the image display device see, for example, “Electronic Display Device (written by Akio Sasaki, Industrial Research Institute, 1990)", “Display Device (written by Junsho Ibuki, published by Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989). issued)”, etc.
  • Liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Choukai Co., Ltd., 1994)". There is no particular limitation on the liquid crystal display device to which the present invention can be applied.
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • a white organic EL device preferably has a tandem structure. Regarding the tandem structure of organic EL elements, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045676, supervised by Akiyoshi Mikami, "Forefront of Organic EL Technology Development -High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection-", Technical Information Association, 326-328, 2008, and others.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in the blue region (430-485 nm), the green region (530-580 nm) and the yellow region (580-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm) are more preferred.
  • the infrared sensor of the invention comprises the membrane of the invention as described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor. An embodiment of the infrared sensor of the present invention will be described below with reference to the drawings.
  • reference numeral 110 is a solid-state imaging device.
  • An infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 are arranged on the imaging area of the solid-state imaging device 110 .
  • a color filter 112 is arranged on the infrared cut filter 111 .
  • a microlens 115 is arranged on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114 .
  • a planarization layer 116 is formed to cover the microlens 115 .
  • the infrared cut filter 111 can be formed using the composition of the present invention.
  • the color filter 112 is a color filter formed with pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region, and is not particularly limited, and conventionally known color filters for forming pixels can be used. For example, a color filter having red (R), green (G), and blue (B) pixels is used. For example, paragraph numbers 0214 to 0263 of JP-A-2014-043556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED used. Infrared transmission filter 114 can be formed using the composition of the present invention.
  • an infrared cut filter (another infrared cut filter) different from the infrared cut filter 111 may be further arranged on the planarization layer 116 .
  • Other infrared cut filters include those having copper-containing layers and/or dielectric multilayers. These details are given above.
  • a dual bandpass filter may be used as another infrared cut filter.
  • a camera module of the present invention includes a solid-state imaging device and the film of the present invention described above.
  • the camera module further includes a lens and circuitry for processing the images obtained from the solid-state image sensor.
  • the solid-state imaging device used in the camera module may be the solid-state imaging device according to the present disclosure or a known solid-state imaging device.
  • the lens used in the camera module and the circuit for processing the image obtained from the solid-state imaging device known ones can be used.
  • the camera modules described in JP-A-2016-006476 and JP-A-2014-197190 can be considered, the contents of which are incorporated herein.
  • the compound of the present invention is a compound represented by Formula (1).
  • Y a and Y b each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 1 and R 2 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group.
  • X a , X b , Y a , Y b , R 1 and R 2 of formula (1) are X a of formula (1) shown as dyes (specific dyes) represented by formula (1) described above. , X b , Y a , Y b , R 1 and R 2 .
  • the maximum absorption wavelength of the compound of the present invention preferably exists at a wavelength of 650 nm or more, more preferably in the wavelength range of 650 to 1500 nm, still more preferably in the wavelength range of 660 to 1200 nm. It is particularly preferred to be present in the range of -1000 nm.
  • the compound of the present invention has an average absorbance value in the wavelength range of 420 to 550 nm when the absorbance value at the wavelength ( ⁇ max) showing the largest absorbance value in the wavelength range of 400 nm to 1200 nm is 1. It is preferably less than 0.010, more preferably less than 0.005.
  • the compound of the present invention can be preferably used as an infrared absorbing agent.
  • the compounds of the invention can also be used as dispersing aids.
  • the infrared absorbent of the present invention contains a compound represented by formula (1).
  • the infrared absorber may contain only one compound represented by Formula (1), or may contain two or more thereof.
  • the infrared absorbing agent of the present invention may contain a decomposition product of the compound represented by formula (1).
  • Me represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Ph represents a phenyl group
  • Ac represents an acetyl group.
  • the resulting reaction solution was cooled to 10°C or less, and 90 mL of hexane was added dropwise while maintaining the internal temperature of the reaction solution at 0°C to 10°C, followed by 30 minutes while maintaining the internal temperature of the reaction solution at 0°C to 10°C. Stirred. Then, this reaction liquid was filtered and spray-washed with 15 mL of hexane to obtain a solid. The resulting solid was added to a three-necked flask, 75 mL of saturated aqueous sodium bicarbonate was added, and the mixture was stirred for 5 minutes, filtered, and spray-washed with 15 mL of saturated aqueous sodium bicarbonate to obtain a solid.
  • Dye PPB-A-45 was synthesized according to the following scheme.
  • reaction solution A was added dropwise over 30 minutes while maintaining the internal temperature of the reaction solution in the range of 90 to 95° C., and 2.16 g of phenyl dichlorophosphate was added. Stirred at 90-95° C. for 15 minutes.
  • the resulting reaction solution is cooled to 10°C or less, and 44.2 g of hexane is added dropwise while maintaining the internal temperature of the reaction solution at 0°C to 10°C. Stir for 30 minutes. Then, this reaction liquid was filtered and spray-washed with 10 g of hexane to obtain a solid.
  • a dye solution was prepared by dissolving the dye described in the table below in the solvent described in the table below.
  • the absorbance of the obtained dye solution for light with a wavelength of 400 to 1200 nm was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the wavelength ( ⁇ max) at which the absorbance is the largest is measured, and the absorbance value at ⁇ max is set to 1, and the average absorbance value in the wavelength range of 420 to 550 nm is calculated.
  • the visible transparency was evaluated according to the following criteria. It can be said that the smaller the average absorbance, the higher the visible transparency.
  • the average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is less than 0.005
  • B The average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is 0.005 or more and less than 0.010
  • C The average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is 0.010 or more
  • Dye PPB-A-1 to Dye PPB-A-45 and Dye PPB-C-1 to Dye PPB-C-3 are superior in visible transparency to Dye PPB-D-1 and Dye PPB-D-2. rice field. Details of each dye are as follows.
  • PPB-A-1 to PPB-A-45 compounds having the following structures (dyes (specific dyes) represented by formula (1))
  • PPB-C-1 to PPB-C-3 compounds having the following structures (dyes (specific dyes) represented by formula (1))
  • PPB-D-1, PPB-D-2, PPB-E-1 Compounds with the following structures (comparative dyes)
  • PPB-A-1 to PPB-A-45 compounds having the above structures (dyes (specific dyes) represented by formula (1))
  • PPB-B-1 to PPB-B-16 compounds having the following structures (PPB-B-1 to PPB-13, PPB-B-15 and PPB-B-16 are represented by formula (1) It is a dye (specific dye), and PPB-B-14 is a compound different from the dye (specific dye) represented by formula (1).)
  • (dispersant) D-1 A resin having the following structure (the numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain represents the number of repeating units. Weight average molecular weight 38900, acid value 99.1 mgKOH/g) was added to propylene.
  • D-2 resin with the following structure (numerical values attached to the main chain are molar ratios and the numerical value attached to the side chain represents the number of repeating units.Weight average molecular weight 21000, acid value 36.0 mgKOH/g, amine value 47.0 mgKOH/g)
  • Propylene glycol monomethyl ether acetate: propylene glycol monomethyl ether A mixed solution of 9:1 (mass ratio) with a solid concentration of 20% by mass
  • a dye solution was prepared by mixing 8.02 parts by weight of the pigment (dye) shown in the table below and 91.98 parts by weight of the solvent shown in the table below.
  • PPB-C-1 to PPB-C-3 compounds having the above structures (dyes (specific dyes) represented by formula (1))
  • PPB-E-1 compound with the structure described above (comparative dye)
  • composition ⁇ Production of composition> Each material was mixed in the ratios of formulations 1 to 6 shown below and filtered through a nylon filter (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) with a pore size of 0.45 ⁇ m to produce each composition.
  • E-1 Copolymer resin of benzyl methacrylate, methacrylic acid and 2-hydroxyethyl methacrylate (weight average molecular weight 14000, acid value 77 mgKOH/g, alkali-soluble resin)
  • E-2 ARTON F4520 (manufactured by JSR Corporation, cyclic polyolefin resin)
  • E-3 Resin having the following structure (weight-average molecular weight: 40,000, acid value: 100 mgKOH/g, the numerical value attached to the main chain represents the mass ratio of repeating units. Alkali-soluble resin)
  • M-1 Aronix M-305 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate. The content of pentaerythritol triacrylate is 55% by mass to 63% by mass.)
  • M-2 KAYARAD RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., ethylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate)
  • M-3 Aronix M-510 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polybasic acid-modified acrylic oligomer)
  • C-1 Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime ester initiator)
  • C-2 Irgacure OXE02 (manufactured by BASF, oxime ester initiator)
  • C-3 Omnirad 907 (manufactured by IGM Resins B.V., ⁇ -aminoalkylphenone initiator)
  • F-1 Glycidyl methacrylate backbone random polymer (manufactured by NOF Corporation, Marproof G-0150M, weight average molecular weight 10000)
  • F-2 EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation, novolak type epoxy resin)
  • F-3 JER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional epoxy resin)
  • F-4 EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation, 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol)
  • G-1 trimellitic acid
  • G-2 pyromellitic anhydride
  • G-3 N,N-dimethyl-4-aminopyridine
  • G-4 pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)
  • H-1 Megafac RS-72-K (manufactured by DIC Corporation, fluorine-based surfactant)
  • H-2 A compound having the following structure (weight average molecular weight: 14,000, % indicating the ratio of repeating units is mol%)
  • H-3 KF-6001 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., carbinol-modified polydimethylsiloxane at both ends, hydroxyl value 62 mgKOH/g)
  • U-1 Uvinul 3050 (manufactured by BASF, compound with the following structure)
  • U-2 Tinuvin477 (manufactured by BASF, hydroxyphenyltriazine-based UV absorber)
  • U-3 Tinuvin326 (manufactured by BASF, compound with the following structure)
  • the absorbance of the obtained film to light with a wavelength of 400 nm to 1200 nm was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). In the wavelength range of 400 nm to 1200 nm, the wavelength ( ⁇ max) at which the absorbance is the largest is measured, and the absorbance value at ⁇ max is set to 1, and the average absorbance value in the wavelength range of 420 to 550 nm is calculated. Then, the visible transparency was evaluated according to the following criteria.
  • the average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is less than 0.025
  • B The average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is 0.025 or more and less than 0.050
  • C The average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is 0.050 or more
  • the obtained film was placed in a thermostat at 150° C. and heat-treated for 1000 hours.
  • the absorbance of the film after the heat treatment was measured with a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) for light with a wavelength of 400 to 1200 nm.
  • the wavelength ( ⁇ max) at which the absorbance is the largest is measured, and the absorbance value at ⁇ max is set to 1, and the average absorbance value in the wavelength range of 420 to 550 nm is calculated.
  • the visible transparency after heating was evaluated according to the following criteria.
  • the average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is less than 0.025
  • B The average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is 0.025 or more and less than 0.050
  • C The average absorbance at a wavelength of 420 to 550 nm is 0.050 or more
  • ⁇ Evaluation of transmittance change after heating> The transmittance of light having a wavelength of 400 to 1200 nm was measured for the obtained film using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). Then, the film was placed in a thermostat at 150° C. and heat-treated for 1000 hours. For the film after heat treatment, the transmittance of light with a wavelength of 400 to 1200 nm is similarly measured, and the transmittance change ( ⁇ T) at each wavelength in the wavelength range of 400 to 1200 nm before and after the heat treatment is measured. The maximum value ( ⁇ Tmax) of transmittance change was obtained, and the maximum value ( ⁇ Tmax) of transmittance change was evaluated according to the following criteria.
  • ⁇ Tmax means the largest value of transmittance change ⁇ T at each wavelength of 400 to 1200 nm calculated above.
  • the compositions of the examples were able to form films with low fluorescence quantum yields and excellent visible transparency.
  • the films obtained using the compositions of Examples were excellent in visible transparency even after heating, and had a small change in transmittance before and after heating.
  • the films obtained using the compositions of Examples 701 to 751 all had a transmittance of 5% at a wavelength of 390 nm and were excellent in ultraviolet shielding properties.
  • Examples 1-19, 21, 25, 26, 27, 29-51, 401-419, 421, 425, 426, 427, 429-451, 701-719, 721, 725, 726, 727, 729- 751 was also excellent in light resistance.
  • M represents Li, Na, K, Rb, Cs or a structure represented by Formula (C) or Formula (D).
  • R z 1 to R z 4 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted branched or linear alkyl group, or an optionally substituted aryl group. . However, R z 1 to R z 4 may be linked to each other to form a ring.
  • R z 5 to R z 9 each independently represent a substituent, R z 5 and R z 6 , R z 6 and R z 7 , R z 7 and R z 8 , R z 8 and R z 9 may be linked to each other to form a ring.
  • An optical filter, solid-state imaging device, image display device, infrared sensor or camera module having excellent performance can be obtained by using the film of the example in an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor or a camera module. .
  • Example 1001 to 1051 Composition IR prepared above was applied onto a glass substrate by spin coating so that the film thickness after post-baking was 7.0 ⁇ m, and then heated (pre-baked) at 100° C. for 10 minutes using a hot plate. Then, it was cured by heating at 200° C. for 8 minutes to obtain a film with a thickness of 7.0 ⁇ m.
  • the compositions of Examples 401 to 451 were applied as the composition for the second layer on the glass substrate so that the film thickness of the second layer after post-baking was 1.0 ⁇ m. Then, using a hot plate, heat (pre-bake) at 100 ° C. for 10 minutes, then heat at 200 ° C. for 8 minutes to perform curing treatment, forming a second layer film with a thickness of 1.0 ⁇ m.
  • a laminated film with a thickness of 8.0 ⁇ m was obtained.
  • the laminated films of Examples 1001 to 1051 were observed under a bright field of 200x using an optical microscope for the presence of deposition of foreign matter, no deposition of foreign matter was observed in any of the films. Moreover, the laminated films of Examples 1001 to 1051 all had a light transmittance of less than 5% at a wavelength of 390 nm, and were excellent in ultraviolet shielding properties.
  • An optical filter, solid-state imaging device, image display device, infrared sensor, or camera module having excellent performance can be obtained by using the laminated film of the example in an optical filter, solid-state imaging device, image display device, infrared sensor, or camera module. can.
  • 110 solid-state imaging device
  • 111 infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
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Abstract

蛍光量子収率が低く、かつ、優れた分光特性を有する膜を形成できる組成物を提供する。組成物は、式（１）で表される色素と、硬化性化合物と、を含み、式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または特定の基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。

Description

組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤
　本発明は、ピロロピロール化合物を含む組成物に関する。また、本発明は、前述の組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュールに関する。また、本発明は、ピロロピロール化合物および赤外線吸収剤に関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このため、赤外線カットフィルタを設けて視感度補正を行うことがある。
　赤外線カットフィルタは、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて製造されている。赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物などが知られている。
　一方、特許文献１には、下記式（Ｉ）で表される化合物を太陽電池モジュールなどに用いることが記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
国際公開第２０１６／１５８８１９号 特開２０１４－２４０３７１号公報
　近年、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて得られる膜について、分光特性についての更なる改善が求められている。例えば、可視透明性に優れることなどが求められている。
　また、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて得られる膜を固体撮像素子などに用いるにあたり、膜の蛍光量子収率は低いことが好ましい。膜の蛍光量子収率が高いと、膜からの蛍光発光がノイズとなりやすい。
　一方、特許文献２は、蛍光量子収率を高めることを目的とした発明である。また、本発明者が、特許文献２に記載された化合物について検討をすすめたところ、可視透明性についてもさらなる改善の余地があることが分かった。
　よって、本発明の目的は、蛍光量子収率が低く、かつ、優れた分光特性を有する膜を形成できる組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールを提供することにある。また、本発明の目的は化合物および赤外線吸収剤を提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　式（１）で表される色素と、硬化性化合物と、を含む組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、
　ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中、＊は連結部を表し、
　Ｒａ１１～Ｒａ２９はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　ＸｃおよびＸｄはそれぞれ独立して、Ｓ、ＯまたはＮＲＸ２を表し、ＲＸ２は水素原子または置換基を表し、
　Ａ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの縮合環を表す。
　＜２＞　上記式（１）のＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）のいずれかで表される基である、＜１＞に記載の組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）中、＊は連結部を表し、
　Ｒａ５１～Ｒａ６３は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、
　式（Ｘ－１－１）のＲａ５１～Ｒａ５４のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、
　式（Ｘ－１－２）のＲａ５５～Ｒａ５８のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、
　式（Ｘ－１－３）のＲａ６０～Ｒａ６３のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよい。
　＜３＞　上記式（１）のＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、－ＢＲＹ１ＲＹ２を表し、ＲＹ１およびＲＹ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、ＲＹ１およびＲＹ２は互いに結合して環を形成していてもよい、
　＜１＞または＜２＞に記載の組成物。
　＜４＞　上記式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも一方が、置換基を有してもよい炭素数９以下のアルキル基である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜５＞　上記式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも一方が、式（Ｒ－１）で表される基である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式（Ｒ－１）中、＊は連結部を表し、Ｒ１０１およびＲ１０２はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ａｒ１０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、ｎは１以上の整数を表す。
　＜６＞　上記式（１）で表される色素が極大吸収波長を波長６５０ｎｍ以上に有する、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜７＞　＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の組成物を用いて得られる膜。
　＜８＞　＜７＞に記載の膜を含む光学フィルタ。
　＜９＞　＜７＞に記載の膜を含む固体撮像素子。
　＜１０＞　＜７＞に記載の膜を含む画像表示装置。
　＜１１＞　＜７＞に記載の膜を含む赤外線センサ。
　＜１２＞　＜７＞に記載の膜を含むカメラモジュール。
　＜１３＞　式（１）で表される化合物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、
　ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中、＊は連結部を表し、
　Ｒａ１１～Ｒａ２９はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　ＸｃおよびＸｄはそれぞれ独立して、Ｓ、ＯまたはＮＲＸ２を表し、ＲＸ２は水素原子または置換基を表し、
　Ａ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの縮合環を表す。
　＜１４＞　＜１３＞に記載の化合物を含む赤外線吸収剤。
　本発明によれば、蛍光量子収率が低く、かつ、優れた分光特性を有する膜を形成できる組成物を提供することができる。また、本発明によれば、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤を提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい化合物を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜組成物＞
　本発明の組成物は、式（１）で表される色素と、硬化性化合物と、を含むことを特徴とする。
　式（１）で表される色素は、蛍光量子収率が低く、かつ、可視透明性に優れている。詳細な理由は不明であるが、Ｒ１およびＲ２が脂肪族炭化水素基であることにより、可視領域における色素の遷移を低減でき、その結果、可視透明性を向上させることができたと推測される。また、ＸａおよびＸｂが＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基であることにより、蛍光量子収率を低く抑えつつ、可視透明性を向上させることができたと推測される。このため、本発明の組成物を用いることにより、蛍光量子収率が低く、分光特性に優れた膜を形成することができる。
　本発明の組成物は、光学フィルタ用の組成物として用いることができる。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。式（１）で表される色素は、可視透明性に優れるので、本発明の組成物を用いることにより可視透明性に優れた赤外線カットフィルタを形成することができる。また、赤外線透過フィルタにおいて、式（１）で表される色素は、透過する光（赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。式（１）で表される色素は、可視透明性に優れるので、遮蔽する可視領域の分光や、透過させる赤外領域の分光を適切な範囲に制御しやすい。
　以下、本発明の組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜式（１）で表される色素（特定色素）＞＞
　本発明の組成物は、式（１）で表される色素（以下、特定色素ともいう）を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、
　ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中、＊は連結部を表し、
　Ｒａ１１～Ｒａ２９はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　ＸｃおよびＸｄはそれぞれ独立して、Ｓ、ＯまたはＮＲＸ２を表し、ＲＸ２は水素原子または置換基を表し、
　Ａ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの縮合環を表す。
　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表す。
　ＲＸ１が表す置換基は、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、ヘテロアリール基であることがより好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましい。アリール基は、単環であってもよいが、縮合環であることが好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環であってもよいが、縮合環であることが好ましい。ヘテロアリール基のヘテロアリール環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。ヘテロアリール環は、５員環または６員環が好ましい。
　アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および後述する式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、イミド基またはスルホ基であることがより好ましい。
　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中のＲａ１１～Ｒａ２９が表す置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および後述する式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホンアミド基またはイミド基、スルホ基であることがより好ましい。
　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中のＸｃおよびＸｄはそれぞれ独立して、Ｓ、ＯまたはＮＲＸ２を表し、ＲＸ２は水素原子または置換基を表す。ＲＸ２が表す置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルール基およびアリールオキシ基が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。ＲＸ２は水素原子またはメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
　式（Ｘ－１）中のＡ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの縮合環を表す。上記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。上記芳香族複素環としては、イミダゾール環、ピラゾ―ル環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、イソチアゾール環およびイソオキサゾール環などが挙げられる。上記縮合環としては、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾ―ル環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環などが挙げられる。上記置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および後述する式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、イミド基またはスルホ基であることがより好ましい。
　式（Ｘ－１）で表される基は、式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）のいずれかで表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 　式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）中、＊は連結部を表し、
　Ｒａ５１～Ｒａ６３は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、
　式（Ｘ－１－１）のＲａ５１～Ｒａ５４のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、
　式（Ｘ－１－２）のＲａ５５～Ｒａ５８のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、
　式（Ｘ－１－３）のＲａ６０～Ｒａ６３のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）のＲａ５１～Ｒａ６３が表す置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および後述する式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられる。
　Ｒａ５１～Ｒａ５８、Ｒａ６０～Ｒａ６３が表す置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、イミド基またはスルホ基であることがより好ましい。
　Ｒａ５９が表す置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルール基またはアリールオキシ基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
　Ｒａ５９は水素原子またはメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
　式（Ｘ－１－１）のＲａ５１～Ｒａ５４のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、式（Ｘ－１－２）のＲａ５５～Ｒａ５８のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、式（Ｘ－１－３）のＲａ６０～Ｒａ６３のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよい。これらの基同士が結合して形成される環は５員環または６員環であることが好ましい。形成される環の具体例としてはベンゼン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラン環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、ピリダジン環、ピラジン環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環またはそれらの組み合わせなどが挙げられる。
　耐光性に優れるという理由から式（１）のＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１、式（Ｘ－１）で表される基、または式（Ｘ－５）で表される基であることが好ましく、より優れた可視透明性を得ることができるという理由から、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）で表される基であることがより好ましく、可視透明性、耐光性及び耐熱性を高い水準で両立できるという理由から、式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）のいずれかで表される基であることがより好ましい。
　式（１）のＲ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ１およびＲ２が表す脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。Ｒ１およびＲ２が表す脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環の脂肪族炭化水素基、縮合環の脂肪族炭化水素基および架橋環の脂肪族炭化水素基のいずれでもよいが、単環の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。Ｒ１およびＲ２が表す脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基および後述する式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルファモイル基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましい。式（１）のＲ１は、Ｒ２と同じ基であってもよいが、異なる基（すなわち非対称）であることが好ましい。
　脂肪族炭化水素基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましい。下限は、３以上が好ましい。特定色素が顔料の場合には、アルキル基の炭素数の上限は１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、７以下が更に好ましい。特定色素が染料の場合には、アルキル基の炭素数の上限は２５以下が好ましく、１９以下がより好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アルケニル基の炭素数は、２～３０が好ましい。下限は、３以上が好ましい。特定色素が顔料の場合には、アルケニル基の炭素数の上限は１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、７以下が更に好ましい。特定色素が染料の場合には、アルケニル基の炭素数の上限は２５以下が好ましく、１９以下がより好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アルキニル基の炭素数は、２～３０が好ましい。下限は、３以上が好ましい。特定色素が顔料の場合には、アルキニル基の炭素数の上限は１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、７以下が更に好ましい。特定色素が染料の場合には、アルキニル基の炭素数の上限は２５以下が好ましく、１９以下がより好ましい。アルキニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基および後述する式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルファモイル基、アリール基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　式（Ｒ－１００）中、ＬＲ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ＋１価の連結基を表し、ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、ＸＲ１は、酸基または塩基性基を表し、ｎは１以上の整数を表す。ｎが１の場合、ＬＲ１は単結合でもよい。
　脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０が更に好ましく、２～５が特に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　芳香族炭化水素基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。複素環基の具体例としては、ピペラジン環基、ピロリジン環基、ピロール環基、ピペリジン環基、ピリジン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ピラジン環基、モルホリン環基、チアジン環基、インドール環基、イソインドール環基、ベンズイミダゾール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キノキサリン環基、シンノリン環基、カルバゾール環基および下記式（Ｌ－１）～（Ｌ－７）で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　式中の＊は連結部を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　ＲＬ１が表すアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。ＲＬ１が表すアルキル基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　ＲＬ１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬ１が表すアリール基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　式（Ｒ－１００）のＸＲ１が表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸＲ１で表される基が好ましい。スルホンアミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸＲ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸＲ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸＲ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸＲ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸＲ６で表される基が好ましく、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸＲ４、または－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸＲ３がより好ましい。ＲＸＲ１～ＲＸＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＸＲ１～ＲＸＲ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　式（Ｒ－１００）のＸＲ１が表す塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　アミノ基としては、－ＮＲｘＲ１ＲｘＲ２で表される基、および、環状アミノ基が挙げられる。－ＮＲｘＲ１ＲｘＲ２で表される基において、ＲｘＲ１およびＲｘＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。また、ＲｘＲ１とＲｘＲ２とは結合して環を形成していてもよい。環状アミノ基としては、ピロリジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、モルホリン基などが挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。置換基の具体例としては、アルキル基およびアリール基などが挙げられる。
　式（Ｒ－１００）のｎは１以上の整数を表し、１～３の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
　式（１）の好ましい一態様として、式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも一方が、置換基を有してもよい炭素数９以下のアルキル基である態様が挙げられる。色素が顔料である場合、上記アルキル基の炭素数は１～６であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１～３であることが特に好ましい。この態様によれば、顔料の分散性が良くなるという効果や、顔料分散液中の異物発生を抑制することができる。色素が染料である場合、上記アルキル基の炭素数は４～９であることが好ましく、５～９であることがより好ましく、６～９であることが更に好ましく、７～９であることが特に好ましい。また、染料の場合、炭素数９以下のアルキル基は分岐していることが好ましい。この態様によれば、染料溶液の異物発生を抑制できるという効果や染料溶液を用いて製膜した膜の欠陥が抑制できるという効果が得られる。また、炭素数９以下のアルキル基が有することができる置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルファモイル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましい。炭素数９以下のアルキル基は、無置換のアルキル基またはハロゲン原子を置換基として有するアルキル基（フルオロアルキル基）であることが好ましい。
　式（１）の好ましい一態様として、式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも一方が、式（Ｒ－１）で表される基である態様が挙げられる。この態様によれば、製膜時に会合を形成し易く、得られる膜の耐熱性や耐光性をより向上させることができる。この態様において、式（１）のＲ１およびＲ２がそれぞれ式（Ｒ－１）で表される基である場合には上述した効果がより顕著に奏される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式（Ｒ－１）中、＊は連結部を表し、Ｒ１０１およびＲ１０２はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ａｒ１０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、ｎは１以上の整数を表す。
　Ｒ１０１およびＲ１０２が表す置換基としては、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。Ｒ１０１およびＲ１０２は、それぞれ独立して水素原子であることが好ましい。
　Ａｒ１０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、アリール基であることが好ましい。
　式（１）のｎは１以上の整数を表し、１～４の整数であることが好ましく、１～３の整数であることがより好ましく、１または２であることが更に好ましい。
　Ｒ１０１およびＲ１０２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５であることがより一層好ましく、１～３であることが特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　Ｒ１０１、Ｒ１０２およびＡｒ１０１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　Ｒ１０１、Ｒ１０２およびＡｒ１０１が表すヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１または２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　式（１）の好ましい一態様として、式（１）のＲ１がＲ２と異なる構造の基である態様が挙げられる。この態様において、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を有していてもよいアルキル基であって、かつ、Ｒ１がＲ２と異なる構造の基であることが好ましい。
　式（１）のＹａおよびＹｂは、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、置換基であることが好ましい。式（１）のＹａおよびＹｂが表す置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、および－ＢＲＹ１ＲＹ２が挙げられ、－ＢＲＹ１ＲＹ２であることが好ましい。
　Ｙ１およびＹ２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５であることがより一層好ましく、１～３であることが特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　Ｙ１およびＹ２が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　Ｙ１およびＹ２が表すヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１または２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　－ＢＲＹ１ＲＹ２で表される基におけるＲＹ１およびＲＹ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、または、アリール基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましい。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すアルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２０が更に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すアルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２０が更に好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すアリール基およびアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基およびアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基のヘテロアリール環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。ヘテロアリール環は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　－ＢＲＹ１ＲＹ２で表される基のＲＹ１とＲＹ２は、互いに結合して環を形成していてもよい。形成される環としては、例えば、下記（Ｂ－１）～（Ｂ－５）に示す構造などが挙げられる。以下において、Ｒｂは置換基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、ｂ１～ｂ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、ｂ４は０～６の整数を表し、＊は連結部を表す。ＲｂおよびＲｂ１～Ｒｂ４が表す置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとして、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のヘテロアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールチオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニル基）、ヘテロアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド基、ホスフィノ基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、ヘテロアリールアゾ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基。これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　特定色素の極大吸収波長は、波長６５０ｎｍ以上に存在することが好ましく、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長６６０～１２００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、波長６６０～１０００ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。
　また、特定色素は、波長４００ｎｍ～１２００ｎｍの範囲において、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）での吸光度の値を１としたとき、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度の値が０．０１０未満であることが好ましく、０．００５未満であることがより好ましい。
　特定色素の吸光度および極大吸収波長の値は特定色素を溶媒に溶解させて色素溶液を調製し、色素溶液の吸光度を測定することで求めることができる。色素溶液の調製に用いる溶媒としては、クロロホルム、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などが挙げられる。なお、特定色素がクロロホルムに溶解する化合物の場合には溶媒としてクロロホルムを用いる。特定色素がクロロホルムに溶解しないがジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）またはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解する化合物の場合には溶媒としてジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）またはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いる。
　なお、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度の値は、λｍａｘにおける吸光度の値を１として波長４２０～５５０ｎｍの範囲における各吸光度を規格化した値を加重平均して算出するものとする。
　特定色素は、顔料であってもよく、染料であってもよい。例えば、式（１）のＲ１とＲ２を同一の基とする、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方（好ましくは両方）を環状の脂肪族炭化水素基とする、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方（好ましくは両方）を直鎖の脂肪族炭化水素基とする、または、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方（好ましくは両方）を炭素数６以下の脂肪族炭化水素基とすることにより、色素の結晶性などを高めて溶剤に対する溶解性を低下でき、このような特定色素は顔料として好ましく用いることができる。また、式（１）のＲ１とＲ２を異なる基とする、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方（好ましくは両方）を分岐の脂肪族炭化水素基とする、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方（好ましくは両方）を炭素数７以上の脂肪族炭化水素基とすることにより、色素の結晶性を低下させて溶剤に対する溶解性を向上でき、このような特定色素は染料として好ましく用いることができる。
　また、特定色素は色素誘導体であってもよい。色素誘導体は例えば分散助剤として用いられる。分散助剤とは、組成物中において顔料の分散性を高めるための素材のことである。組成物が更に分散剤などの樹脂を含む場合には、顔料と分散助剤と樹脂との間でネットワークを形成して顔料の分散性をより向上させることができる。式（１）のＸａ、Ｘｂ、Ｙａ、Ｙｂ、Ｒ１およびＲ２の少なくとも１つが、式（Ｒ－１００）で表される基を置換基として有する構造の化合物は、分散助剤として好ましく用いることができる。なお、このような構造の化合物は、顔料や染料として用いることもできる。色素誘導体について、詳細は後述する。
　なお、本明細書において、式（１）にはその共鳴構造も含まれる。すなわち、式（１）の共鳴構造の化合物も、本発明における特定色素に含まれる。
　特定色素の具体例としては、後述する実施例に記載の構造の化合物（ＰＰＢ－Ａ－１～ＰＰＢ－Ａ－４５、ＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１３、ＰＰＢ－Ｂ－１５、ＰＰＢ－Ｂ－１６、ＰＰＢ－Ｃ－１～ＰＰＢ－Ｃ－３）が挙げられる。
　特定色素の含有量は、組成物の全固形分中０．５質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。また、特定色素の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。組成物は特定色素を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。本発明の組成物には、特定色素の分解物を含んでいてもよい。
＜＜硬化性化合物＞＞
　本発明の組成物は硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、重合性化合物、樹脂等が挙げられる。樹脂は、非重合性の樹脂（重合性基を有さない樹脂）であってもよく、重合性の樹脂（重合性基を有する樹脂）であってもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基、環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられ、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基および（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられ、エポキシ基が好ましい。
　硬化性化合物としては、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。また、本発明の組成物をフォトリソグラフィ用の組成物とする場合には、硬化性化合物として樹脂と、重合性モノマー（モノマータイプの重合性化合物）とを用いることが好ましく、樹脂と、エチレン性不飽和結合含有基を有する重合性モノマー（モノマータイプの重合性化合物）とを用いることがより好ましい。
（重合性化合物）
　重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物はラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。また、環状エーテル基を有する化合物は、カチオン重合性化合物として好ましく用いることができる。
　樹脂タイプの重合性化合物としては、重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂などが挙げられる。
　モノマータイプの重合性化合物（重合性モノマー）の分子量は、２０００未満であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましい。重合性モノマーの分子量の下限は１００以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましい。樹脂タイプの重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００であることが好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００００以下であることが好ましく、５０００００以下であることがより好ましい。重量平均分子量の下限は、３０００以上であることが好ましく、５０００以上であることがより好ましい。
　重合性モノマーとしてのエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの化合物の（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、更に、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。このような化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物は、エチレン性不飽和結合含有基と、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基とを有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基とエチレンオキシ基とを有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物などが挙げられ、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１～１００個有する化合物が挙げられる。エポキシ基の数の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物（例えば分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。環状エーテル基の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１４、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－２１６、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－３２１、ＥＸ－８５０Ｌ、ＥＸ－８５０（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、ＥＰ－４００３Ｓ、ＥＰ－４０１０Ｓ、ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、サイクロマーＰ　ＡＣＡ　２００Ｍ、ＡＣＡ　２３０ＡＡ、ＡＣＡ　Ｚ２５０、ＡＣＡ　Ｚ２５１、ＡＣＡ　Ｚ３００、ＡＣＡ　Ｚ３２０（以上、（株）ダイセル製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ、ｊＥＲ１５７Ｓ６５、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０（以上、三菱ケミカル（株）製）、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）、アデカグリシロール　ＥＤ－５０５（（株）ＡＤＥＫＡ製、エポキシ基含有モノマー）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製、オキセタニル基含有モノマー）、ＯＸＥ－１０、ＯＸＥ－３０（以上、大阪有機化学工業（株）製、オキセタニル基含有モノマー）などが挙げられる。
　メチロール基を有する化合物（以下、メチロール化合物ともいう）としては、メチロール基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。
また、アルコキシメチル基を有する化合物（以下、アルコキシメチル化合物ともいう）としては、アルコキシメチル基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基またはメチロール基が窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素およびメチロール化尿素等が好ましい。また、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１３４～０１４７、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００９５～０１２６に記載された化合物を用いることもできる。
（樹脂）
　本発明の組成物は、硬化性化合物として樹脂を用いることができる。硬化性化合物は、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。樹脂は、例えば、顔料等を組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料等を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。なお、重合性基を有する樹脂は、重合性化合物にも該当する。
　樹脂の重量平均分子量は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載された樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載された樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂を用いることもできる。また、樹脂としては、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂として、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　樹脂としては、式（ＥＤ１）で示される化合物および／または式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、重合性基を有する樹脂を用いることも好ましい。重合性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を含むことが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　また、分散剤として、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマーなどを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分中１～９５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、９４質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が更に好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として重合性化合物を含む場合、重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分中１～８５質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として重合性モノマーを含む場合、重合性モノマーの含有量は、組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物としてエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を含む場合、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の含有量は、組成物の全固形分中１～７０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、６５質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として樹脂を含む場合、樹脂の含有量は、組成物の全固形分中１～８５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましく、４０質量％以下が特に好ましい。
　本発明の組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、分散剤としての樹脂の含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上が更に好ましい。また、分散剤としての樹脂の含有量は、上述した特定色素１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、７５質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
　本発明の組成物は、硬化性化合物を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。硬化性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の赤外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、上述した特定色素以外の赤外線吸収剤（他の赤外線吸収剤）を含有することができる。更に他の赤外線吸収剤を含有することで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができる。他の赤外線吸収剤は、染料であってもよく、顔料（粒子）であってもよい。他の赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載の化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　また、赤外線吸収剤としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　他の赤外線吸収剤の含有量は、上述した特定色素１００質量部に対し１～１００質量部であることが好ましく、３～６０質量部であることがより好ましく、５～４０質量部であることが更に好ましい。また、上述した特定色素と他の赤外線吸収剤との合計の含有量は、組成物の全固形分中１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。上記合計の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
＜＜色素誘導体＞＞
　本発明の組成物は、上述したように特定色素そのものが色素誘導体（以下、「誘導体」とも称する）であってもよいが、上述した特定色素の他に、更に色素誘導体を含有することもできる。色素誘導体は分散助剤として用いられる。色素誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。
　色素誘導体を構成する色素骨格としては、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格が挙げられ、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、フタロシアニン色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格が好ましく、スクアリリウム色素骨格およびピロロピロール色素骨格がより好ましい。
　酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＡ１で表される基が好ましい。スルホンアミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＡ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＡ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＡ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＡ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３がより好ましい。ＲＡ１～ＲＡ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＡ１～ＲＡ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。各基の具体的な例および好ましい例は、上述した式（Ｒ－１００）のＸＲ１が表す塩基性基と同様である。
　本発明の組成物好ましい一態様として、上述した特定色素（ただし、色素誘導体ではない）に加えて、色素誘導体として、式（１）のＸａ、Ｘｂ、Ｙａ、Ｙｂ、Ｒ１およびＲ２の少なくとも１つが、式（Ｒ－１００）で表される基を置換基として有する色素を含む態様も挙げられる。このような態様の場合、色素誘導体は、式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも１つが、式（Ｒ－１００）で表される基を置換基として有する色素であることがより好ましい。また、色素誘導体が式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも１つが後述する式（Ａ－１）～（Ｂ－２）で表される基を有する化合物であることも好ましい。
　色素誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４に記載の化合物も挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　色素誘導体の含有量は、上述した特定色素１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。色素誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、 ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　組成物中における溶剤の含有量は、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の組成物が重合性化合物を含む場合、本発明の組成物は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ヘキサアリールビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４，５－ジフェニル－１，１’－ビイミダゾールなどが挙げられる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル系開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル系開始剤などが挙げられる。
　光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３５質量％がより好ましく、１～３０質量％が更に好ましい。組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化剤＞＞
　本発明の組成物が環状エーテル基を有する化合物を含む場合、硬化剤をさらに含むことが好ましい。硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、多価カルボン酸、チオール化合物などが挙げられる。硬化剤の具体例としては、コハク酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）などが挙げられる。硬化剤は、特開２０１６－０７５７２０号公報の段落番号００７２～００７８に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載の化合物を用いることもできる。硬化剤の含有量は、環状エーテル基を有する化合物の１００質量部に対し、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０１～１０質量部がより好ましく、０．１～６．０質量部がさらに好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色顔料、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色顔料、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール系顔料としては、結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下であるものを用いることも好ましい。また、ピロロピロール系顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。
　有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料を使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソノール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサンテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料等が挙げられる。
　有彩色着色剤には色素多量体を用いることもできる。色素多量体は、溶剤に溶解して用いられる染料であることが好ましい。また、色素多量体は、粒子を形成していてもよい。色素多量体が粒子である場合は通常溶剤に分散した状態で用いられる。粒子状態の色素多量体は、例えば乳化重合によって得ることができ、特開２０１５－２１４６８２号公報に記載されている化合物および製造方法が具体例として挙げられる。色素多量体は、一分子中に、色素構造を２以上有するものであり、色素構造を３以上有することが好ましい。上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。一分子中に有する複数の色素構造は、同一の色素構造であってもよく、異なる色素構造であってもよい。色素多量体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～５００００が好ましい。下限は、３０００以上がより好ましく、６０００以上がさらに好ましい。上限は、３００００以下がより好ましく、２００００以下がさらに好ましい。色素多量体は、特開２０１１－２１３９２５号公報、特開２０１３－０４１０９７号公報、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－０３０７４２号公報、国際公開第２０１６／０３１４４２号等に記載されている化合物を用いることもできる。
　また、有彩色着色剤には、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００２８１６０号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開２０２０－１１７６３８号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第２０２０／１７４９９１号に記載のフタロシアニン化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩を用いることができる。
　本発明の組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。本発明の組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する色材を含む組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いられる。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１５００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（８）の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　本発明の組成物が可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の組成物は界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６３、Ｆ－５６５、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤として、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤として、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤として、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 　式（ｆｉ－１）中、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン性界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられる。具体例としては、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２－ヘプタデセニル－ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
　アニオン性界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ－オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ＳＨ８４００、ＳＨ８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分中０．００１～１質量％が好ましく、０．００１～０．５質量％がより好ましく、０．００１～０．２質量％が更に好ましい。組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物は重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分中、０．０００１～５質量％が好ましい。組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の組成物はシランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、メロシアニン色素などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物を用いることもできる。紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～３０質量％が好ましく、０．０５～２５質量％がより好ましい。組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物を使用することもできる。酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
＜収容容器＞
　本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、組成物の経時安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜組成物の調製方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
　組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含んでいてもよい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の組成物から得られるものである。本発明の膜は、光学フィルタとして好ましく用いることができる。光学フィルタの用途は、特に限定されないが、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。赤外線カットフィルタとしては、例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタ、環境光センサー用の赤外線カットフィルタ（例えば、情報端末装置が置かれた環境の照度や色調を感知してディスプレイの色調を調整する照度センサーや、色調を調整する色補正用センサー）などが挙げられる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。赤外線透過フィルタとしては、可視光を遮光し、特定の波長以上の赤外線を選択的に透過可能なフィルタが挙げられる。
　本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
　支持体として用いられる半導体基材上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　支持体として用いられる透明基材としては、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
　本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
　本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長６６０～１２００ｎｍ、より好ましくは波長６６０～１０００ｎｍ）の範囲に極大吸収波長が存在することが好ましい。また、波長４２０～５５０ｎｍの光の平均透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。また、波長４２０～５５０ｎｍの全ての範囲での透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長６６０～１２００ｎｍ、より好ましくは波長６６０～１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下が更に好ましい。また、本発明の膜は、極大吸収波長における吸光度を１とした時、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度が０．０３０未満であることが好ましく、０．０２５未満であることがより好ましい。
　また、波長４００ｎｍ付近の光の遮光性能力については、波長３９０ｎｍにおける透過率（紫外線遮蔽性）で評価することができ、紫外線遮蔽性が５％以下であることが好ましい。
　本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、例えば、以下の（ｉ１）～（ｉ３）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（ｉ１）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　また、波長４００ｎｍ付近の光の遮光性能力については、波長３９０ｎｍにおける透過率（紫外線遮蔽性）で評価することができ、紫外線遮蔽性が５％以下であることが好ましい。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることが好ましい。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体上に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
　本発明の膜は、本発明の組成物を塗布する工程を経て製造できる。
　支持体としては、上述したものが挙げられる。組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられ、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
　露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、更に界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、上記組成物を支持体上に塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、プリベーク処理を施すことが好ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載された吸収層が挙げられる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９に記載された誘電体多層膜が挙げられる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基板（銅含有ガラス基板）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基板としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等で形成される転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等で形成される遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等で形成されるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載された装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０の撮像領域上には、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とが配置されている。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が配置されている。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　赤外線カットフィルタ１１１は本発明の組成物を用いて形成することができる。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。赤外線透過フィルタ１１４は本発明の組成物を用いて形成することができる。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
＜カメラモジュール＞
　本発明のカメラモジュールは、固体撮像素子と、上述した本発明の膜を含む。カメラモジュールは、レンズ、及び、固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。カメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。また、カメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。カメラモジュールの例としては、特開２０１６－００６４７６号公報、及び、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜化合物＞
　本発明の化合物は、式（１）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または上述した式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、
　ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。
　式（１）のＸａ、Ｘｂ、Ｙａ、Ｙｂ、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ上述した式（１）で表される色素（特定色素）として示した式（１）のＸａ、Ｘｂ、Ｙａ、Ｙｂ、Ｒ１およびＲ２と同義である。
　本発明の化合物の極大吸収波長は、波長６５０ｎｍ以上に存在することが好ましく、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長６６０～１２００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、波長６６０～１０００ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。
　また、本発明の化合物は、波長４００ｎｍ～１２００ｎｍの範囲において、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）での吸光度の値を１としたとき、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度の値が０．０１０未満であることが好ましく、０．００５未満であることがより好ましい。
　本発明の化合物は、赤外線吸収剤として好ましく用いることができる。また、本発明の化合物は、分散助剤として用いることもできる。
＜赤外線吸収剤＞
　本発明の赤外線吸収剤は、式（１）で表される化合物を含む。赤外線吸収剤は、式（１）で表される化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。また、本発明の赤外線吸収剤は、式（１）で表される化合物の分解物を含んでいてもよい。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、Ａｃはアセチル基を表す。
＜式（１）で表される色素（特定色素）の合成＞
＜＜色素ＰＰＢ－Ａ－１３の合成例＞＞
　下記スキームに従い色素ＰＰＢ－Ａ－１３を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
（中間体１の合成）
　窒素雰囲気下、三口フラスコにアセチルコハク酸ジエチル（Ｄｉｅｔｈｙｌ　ａｃｅｔｙｌｓｕｃｃｉｎａｔｅ）を７５．０ｇ、酢酸アンモニウム２６７．４ｇ、酢酸３７５ｍＬを添加し、加熱還流下３時間撹拌した。この反応液を２５℃まで冷却し、酢酸エチル３００ｍＬ、ヘキサン３００ｍＬ、蒸留水６００ｍＬを添加した後、反応液の内温を２０～２５℃に保った状態で３０分間撹拌した。水層に対して酢酸エチル：ヘキサン＝１：１の混合液６００ｍＬで３回分液操作を行った後、有機層をすべて合わせたのち、７０℃で減圧濃縮し、得られた残渣に蒸留水３００ｍＬを添加して２０分撹拌した。この反応液を濾過し、蒸留水３００ｍＬでかけ洗いを行い、得られた固体について５０℃で１２時間送風乾燥を行うことで、中間体１を１８．９ｇ（収率３２．２％）得た。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．３０（ｔ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、３Ｈ）、２．３６－２．３７（ｍ、３Ｈ）、３．２９－３．３１（ｍ、２Ｈ）、４．２０（ｑ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、２Ｈ）、８．０６（ｓ、１Ｈ）
（中間体２の合成）
　窒素雰囲気下、三口フラスコにナトリウムペントキシド７１．７７ｇ、ｔ－アミルアルコール６００ｍＬを室温にて添加し、加熱還流下、ｔ－アミルアルコールを４００ｍＬ留去した。得られた反応液に、反応液の内温を１０５～１１５℃に保った状態でスルホこはく酸ビス（２－エチルヘキシル）ナトリウム１５８ｍｇを添加し、続いてブチロニトチル３３．５４ｇを添加した。次いで、得られた反応液に、反応液の内温を１０５～１１５℃に保った状態で中間体１の１５．０ｇをｔ－アミルアルコール５０ｍＬに懸濁した液を１０分間かけて滴下し、さらに加熱還流下１時間撹拌した。得られた反応液を４０℃まで冷却し、反応液の内温を４０℃～７０℃の範囲に保った状態でメタノール１０５ｍＬ、酢酸７１．８８ｇを順次滴下した後、反応液を２５℃まで冷却し、さらに反応液の内温を２０℃～３０℃の範囲に保った状態で酢酸エチル２１０ｍＬ、飽和食塩水２１０ｍＬ、蒸留水１０５ｍＬを順次添加した。次いで、この反応液を２５℃で５分間撹拌した後、ろ過し、蒸留水１０５ｍＬでかけ洗いを行い、未精製の固体を得た。得られた固体を三口フラスコへ添加し、蒸留水５３ｍＬを加え３０分間撹拌した後、ろ過し、蒸留水５３ｍＬでかけ洗いを行い、得られた固体について５０℃で１２時間送風乾燥を行うことで、中間体２を３．４０ｇ（収率２０．０％）得た。
　１Ｈ－ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド））：δ＝０．９０（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、３Ｈ）、１．７０（ｓｅｘｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、２Ｈ）、２．１５（ｓ、３Ｈ）、２．４５（ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ、２Ｈ）、１０．１－１０．２（ｍ、２Ｈ）
（中間体３の合成）
　窒素雰囲気下、三口フラスコにマロノニトリル２３７．４６ｇ、酢酸２０１ｍＬ、メタノール１９７７ｍＬを添加し、フラスコ内の液温を４０℃以下に保った状態で、ｏ－アミノチオフェノール４５０ｇをメタノール１５０ｍＬで洗いこみながら滴下した。得られた反応液を３０℃で２時間撹拌した後、１０℃以下で３０分撹拌してろ過し、冷メタノール３００ｍＬでかけ洗いをし、得られた結晶について４０℃で１２時間送風乾燥を行うことで中間体３を５１０．５５ｇ（収率８１．５％）得た。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝４．２４（ｓ、２Ｈ）、７．４４（ｍ、１Ｈ）、７．５３（ｍ、１Ｈ）、７．８９（ｍ、１Ｈ）、８．０４（ｍ、１Ｈ）
（中間体４の合成）
　窒素雰囲気下、三口フラスコに中間体２を３．０ｇ、中間体３を１３．０５ｇ、トルエン６３ｍＬを添加し、加熱還流下、トルエンを３ｍＬ留去した。得られた反応液を９５℃まで冷却し、反応液の内温を９０～９５℃の範囲を保ちながらオキシ塩化リン７．１８ｇを添加した後、加熱還流下にて１時間撹拌した。得られた反応液を１０℃以下まで冷却し、反応液の内温を０℃～１０℃に保ちながらヘキサン９０ｍＬを滴下した後、反応液の内温を０℃～１０℃に保ちながら３０分間撹拌した。次いで、この反応液を濾過し、ヘキサン１５ｍＬでかけ洗いをおこない、固体を得た。得られた固体を三口フラスコへ添加し、飽和重曹水７５ｍＬを加えて５分間撹拌した後、ろ過し、飽和重曹水１５ｍＬでかけ洗いを行い、固体を得た。次に、得られた固体を三口フラスコへ添加し、メタノール：蒸留水＝４：１の混合液６０ｍＬを加えて５分間撹拌した後、ろ過し、メタノール：蒸留水＝４：１の混合液６０ｍＬでかけ洗いを行い、固体を得た。さらに、得られた固体を三口フラスコへ添加し、メタノール：蒸留水＝９：１の混合液６０ｍＬを加えて５分間撹拌した後、ろ過し、次いで、メタノール：蒸留水＝９：１の混合液６０ｍＬでかけ洗いを行い、得られた固体について５０℃で１２時間送風乾燥を行うことで、中間体４を０．０８ｇ（収率１．０％）得た。
（色素ＰＰＢ－Ａ－１３の合成）
　窒素雰囲気下、三口フラスコに中間体４の０．０８ｇ、ジフェニルボリン酸２－アミノエチルの０．２９ｇ、トルエンの２ｍＬを添加し、９０～１００℃の範囲を保ちながら四塩化チタンの０．３６ｇをトルエンの２ｍＬで洗いこみながら添加した。この反応液を加熱還流下にて２時間撹拌した後、２０℃まで冷却し、反応液の内温を２０℃～３０℃に保ちながらメタノールの２ｍＬを添加した。得られた結晶をろ過してメタノールの１ｍＬでかけ洗い、得られた粗体にメタノールの２ｍＬを添加し、加熱還流下３０分間撹拌した後、２０℃まで冷却し、ろ過してメタノール１ｍＬでかけ洗いを行い、次いで、得られた結晶について５０℃で１２時間送風乾燥を行うことで、色素ＰＰＢ－Ａ－１３の０．０６ｇ（収率４６．２％）を得た。ＭＡＬＤＩ　ＴＯＦ－ＭＡＳＳ（飛行時間型質量分析法）による質量分析の結果、得られた結晶は下記構造の色素ＰＰＢ－Ａ－１３であることを同定した。
　ＭＡＬＤＩ　ＴＯＦ－ＭＡＳＳ：Ｃａｌｃ．ｆｏｒ　［Ｍ＋Ｈ］＋：８３３．３ｆｏｕｎｄ：８３３．４
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
＜＜色素ＰＰＢ－Ａ－４５の合成例＞＞
　下記スキームに従い色素ＰＰＢ－Ａ－４５を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
（中間体６の合成）
　中間体５を中間体２と同様の手法にて合成した。窒素雰囲気下、三口フラスコに中間体５の０．７５ｇ、ベンゾニトリル７．５ｇを添加し、３５℃にてジクロロリン酸フェニル２．１６ｇを添加した。この反応液を３５℃にて３０分間撹拌した後、５０℃まで昇温し、１時間撹拌し、さらに７０℃に昇温して１時間撹拌し、反応液Ａを調製した。
　続いて、窒素雰囲気下、中間体３の２．８５ｇ、トルエン１４．３ｇを添加し、加熱還流下、トルエンを３ｍＬ留去した。得られた反応液を９５℃まで冷却し、反応液の内温を９０～９５℃の範囲を保ちながら反応液Ａを３０分間かけて滴下し、ジクロロリン酸フェニル２．１６ｇを添加した後、９０～９５℃にて１５分間撹拌した。得られた反応液を１０℃以下まで冷却し、反応液の内温を０℃～１０℃に保ちながらヘキサン４４．２ｇを滴下した後、反応液の内温を０℃～１０℃に保ちながら３０分間撹拌した。次いで、この反応液を濾過し、ヘキサン１０ｇでかけ洗いをおこない、固体を得た。得られた固体を三口フラスコへ添加し、飽和重曹水１９ｍＬを加えて５分間撹拌した後、さらにメタノール３８ｍＬを加えて５分間撹拌した後、ろ過し、固体を得た。さらに、得られた固体を三口フラスコへ添加し、メタノール：蒸留水＝９：１の混合液２０ｍＬを加えて５分間撹拌した後、ろ過し、次いで、メタノール：蒸留水＝９：１の混合液３０ｍＬでかけ洗いを行い、得られた固体について５０℃で１２時間送風乾燥を行うことで、中間体６を０．９ｇ得た。
（色素ＰＰＢ－Ａ－４５の合成）
　窒素雰囲気下、三口フラスコに中間体６の０．８ｇ、ジフェニルボリン酸２－アミノエチルの２．７ｇ、トルエンの１６ｍＬを添加し、９０～１００℃の範囲を保ちながら四塩化チタンの３．４２ｇをトルエンの２ｍＬで洗いこみながら添加した。この反応液を加熱還流下にて２時間撹拌した後、２０℃まで冷却し、メタノール２０８ｍＬに内温を２０℃～３０℃に保ちながら滴下した。この反応液を３０分間撹拌した後、得られた結晶をろ過してメタノールの４４ｍＬでかけ洗いをした。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）で精製し、得られた結晶について５０℃で１２時間送風乾燥を行うことで、色素ＰＰＢ－Ａ－４５の０．０９ｇを得た。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ　７．７４（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．７３（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．６９－７．５１（６Ｈ、ｍ）、７．４２－７．０７（１８Ｈ、ｍ）、３．４８（１Ｈ，ｍ）、２．９３（２Ｈ、ｍ）、１．５４（２Ｈ、ｍ）、０．８２（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝７．４Ｈｚ）、０．７８（３Ｈ、ｄ、Ｊ＝７．４Ｈｚ）、０．６０（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．４Ｈｚ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
＜可視透明性の評価＞
　下記表に記載の色素を、下記表に記載の溶媒に溶解させて色素溶液を調製した。得られた色素溶液の波長４００～１２００ｎｍの光に対する吸光度を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～１２００ｎｍの範囲において、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）を測定し、λｍａｘでの吸光度の値を１とした際の、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度の値を算出して、下記基準で可視透明性を評価した。平均吸光度が小さいほど、可視透明性が高いと言える。
　Ａ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．００５未満
　Ｂ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．００５以上０．０１０未満
　Ｃ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０１０以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
　色素ＰＰＢ－Ａ－１～色素ＰＰＢ－Ａ－４５、色素ＰＰＢ－Ｃ－１～色素ＰＰＢ－Ｃ－３は、色素ＰＰＢ－Ｄ－１、色素ＰＰＢ－Ｄ－２よりも可視透明性に優れていた。
各色素の詳細は以下の通りである。
　ＰＰＢ－Ａ－１～ＰＰＢ－Ａ－４５：下記構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である）
　ＰＰＢ－Ｃ－１～ＰＰＢ－Ｃ－３：下記構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である）
　ＰＰＢ－Ｄ－１、ＰＰＢ－Ｄ－２、ＰＰＢ－Ｅ－１：下記構造の化合物（比較色素である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
＜分散液の調製＞
　下記表に記載の色素（顔料）の１．９０２質量部、下記表に記載の誘導体の０．３６質量部、下記表に記載の分散剤の９質量部、下記表に記載の溶剤の１８．７４質量部、及び、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ４０質量部を混合し、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
（色素）
　ＰＰＢ－Ａ－１～ＰＰＢ－Ａ－４５：上述した構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である）
　ＰＰＢ－Ｄ－１、ＰＰＢ－Ｄ－２：上述した構造の化合物（比較色素である）
（誘導体）
　ＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１６：下記構造の化合物（ＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１３、ＰＰＢ－Ｂ－１５、ＰＰＢ－Ｂ－１６は、式（１）で表される色素（特定色素）であり、ＰＰＢ－Ｂ－１４は、式（１）で表される色素（特定色素）とは異なる化合物である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
（分散剤）
　Ｄ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量３８９００、酸価９９．１ｍｇＫＯＨ/g）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：プロピレングリコールモノメチルエーテル＝９：１（質量比）の混合溶液で固形分濃度を２０質量％に調整した溶液
　Ｄ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量２１０００、酸価３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：プロピレングリコールモノメチルエーテル＝９：１（質量比）の混合溶液で固形分濃度を２０質量％に調整した溶液
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
＜色素溶液の調製＞
　下記表に記載の色素（染料）の８．０２質量部、下記表に記載の溶剤の９１．９８質量部を混合して色素溶液を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
（色素）
　ＰＰＢ－Ｃ－１～ＰＰＢ－Ｃ－３：上述した構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である）
　ＰＰＢ－Ｅ－１：上述した構造の化合物（比較色素である）
（溶剤）
　Ｓ－３：シクロペンタノン
　Ｓ－４：シクロヘキサノン
　Ｓ－５：アニソール
＜組成物の製造＞
　各素材を、以下に示す処方１～６の割合で混合し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して各組成物を製造した。
＜処方１＞
　下記表に記載の分散液　　・・・１５．８７３質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・２．９４３質量部
　下記表に記載の重合性化合物　　・・・０．４５質量部
　下記表に記載の光重合開始剤　　・・・０．４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　：１０．２７６質量部
＜処方２＞
　下記表に記載の分散液　　・・・１５．８７３質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・２．９４３質量部
　下記表に記載のエポキシ化合物　　・・・０．９質量部
　下記表に記載の硬化剤（表中に記載がある場合）　　・・０．０４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・１０．２７６質量部
＜処方３＞
　下記表に記載の色素溶液　　・・・１４．９２１質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・３．８９５質量部
　下記表に記載の重合性化合物　　・・・０．４５質量部
　下記表に記載の光重合開始剤　　・・・０．４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．０００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・１０．２７６質量部
＜処方４＞
　下記表に記載の色素溶液　　・・・１４．９２１質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・３．８９５質量部
　下記表に記載のエポキシ化合物　　・・・０．９質量部
　下記表に記載の硬化剤（表中に記載がある場合）　　・・・０．０４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・１０．２７６質量部
＜処方５＞
　下記表に記載の分散液　　・・・８．３３３質量部
　下記構造の樹脂（重量平均分子量２４６００、主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。）の固形分濃度４５質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液　　・・・４．８８６質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 　下記表に記載の紫外線吸収剤　　・・・２．７質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．０１１質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・６．３０５質量部
＜処方６＞
　下記表に記載の色素溶液　　・・・７．８３３質量部
　下記構造の樹脂（重量平均分子量２４６００、主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。）の固形分濃度４５質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液　　・・・５．３８６質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 　下記表に記載の紫外線吸収剤　　・・・２．７質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．０１１質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・６．０３０質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
　上記表に記載の素材のうち、分散液および色素溶液以外の素材の詳細は以下の通りである。
（樹脂）
　Ｅ－１：メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸、メタクリル酸２－ヒドロキシエチルの共重合樹脂（重量平均分子量１４０００、酸価７７ｍｇＫＯＨ／ｇ、アルカリ可溶性樹脂）
　Ｅ－２：ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製、環状ポリオレフィン樹脂）
　Ｅ－３：下記構造の樹脂（重量平均分子量４００００、酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。アルカリ可溶性樹脂）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
（重合性化合物）
　Ｍ－１：アロニックスＭ－３０５（東亞合成（株）製、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物。ペンタエリスリトールトリアクリレートの含有量が５５質量％～６３質量％である。）
　Ｍ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
　Ｍ－３：アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製、多塩基酸変性アクリルオリゴマー）
（光重合開始剤）
　Ｃ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル系開始剤）
　Ｃ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル系開始剤）
　Ｃ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製、α－アミノアルキルフェノン系開始剤）
（エポキシ化合物）
　Ｆ－１：メタクリル酸グリシジル骨格ランダムポリマー（日油（株）製、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、重量平均分子量１００００）
　Ｆ－２：ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製、ノボラック型エポキシ樹脂）
　Ｆ－３：ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱ケミカル（株）製、多官能エポキシ樹脂）
　Ｆ－４：ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物）
（硬化剤）
　Ｇ－１：トリメリット酸
　Ｇ－２：ピロメリット酸無水物
　Ｇ－３：Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン
　Ｇ－４：ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）
（界面活性剤）
　Ｈ－１：メガファックＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）
　Ｈ－２： 下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 　Ｈ－３：ＫＦ－６００１（信越化学工業（株）製、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、水酸基価６２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（紫外線吸収剤）
　Ｕ－１：Ｕｖｉｎｕｌ３０５０（ＢＡＳＦ製、下記構造の化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 　Ｕ－２：Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（ＢＡＳＦ製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤）
　Ｕ－３：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６（ＢＡＳＦ製、下記構造の化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　Ｓ－３：シクロペンタノン
　Ｓ－４：シクロヘキサノン
＜膜の製造＞
（製造例１）　実施例１～５１、比較例１～３の組成物を用いた膜の製造方法
　各組成物をガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を得た。得られた組成物層を、ｉ線ステッパーを用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて露光した。次いで、露光後の組成物層に対してホットプレートを用いて２２０℃で５分間加熱して硬化処理を行い、厚さ１．５μｍの膜を得た。
（製造例２）　実施例４０１～４５１、比較例４０１～４０３の組成物を用いた膜の製造方法
　上記で調製した各組成物を、ガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で１０分間加熱（プリベーク）し、次いで、２００℃で８分間加熱して硬化処理を行い、厚さ１．５μｍの膜を得た。
（製造例３）実施例７０１～７５１の組成物を用いた膜の製造方法
　上記で調製した各組成物を、ガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で１０分間加熱（プリベーク）し、次いで、２００℃で８分間加熱して硬化処理を行い、厚さ８．０μｍの膜を得た。
＜蛍光量子収率の評価＞
　得られた膜について絶対ＰＬ量子収率測定装置Ｃ９９２０－０３Ｇ（浜松ホトニクス（株）製）を用いて、蛍光量子収率を測定し、下記基準で蛍光量子収率を評価した。
　Ａ：蛍光量子収率が０．０１未満
　Ｂ：蛍光量子収率が０．０１以上
＜可視透明性の評価＞
　得られた膜について波長４００ｎｍ～１２００ｎｍの光に対する吸光度を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～１２００ｎｍの範囲において、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）を測定し、λｍａｘでの吸光度の値を１とした際の、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度の値を算出して、下記基準で可視透明性を評価した。
　Ａ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０２５未満
　Ｂ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０２５以上０．０５０未満
　Ｃ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０５０以上
＜加熱後の可視透明性の評価＞
　得られた膜を１５０℃の恒温器に入れて１０００時間の加熱処理を行った。加熱処理後の膜について、波長４００～１２００ｎｍの光に対する吸光度を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～１２００ｎｍの範囲において、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）を測定し、λｍａｘでの吸光度の値を１とした際の、波長４２０～５５０ｎｍの範囲における平均吸光度の値を算出して、下記基準で加熱後の可視透明性を評価した。
　Ａ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０２５未満
　Ｂ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０２５以上０．０５０未満
　Ｃ：波長４２０～５５０ｎｍの平均吸光度が０．０５０以上
＜加熱後の透過率変化の評価＞
　得られた膜について波長４００～１２００ｎｍの波長の光の透過率を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。次いで、膜を１５０℃の恒温器に入れて１０００時間の加熱処理を行った。加熱処理後の膜について、同様に波長４００～１２００ｎｍの波長の光の透過率を測定し、加熱処理前後における波長４００～１２００ｎｍの範囲の各波長での透過率変化（ΔＴ）を測定して透過率変化の最大値（ΔＴｍａｘ）を求め、下記基準で透過率変化の最大値（ΔＴｍａｘ）を評価した。
　透過率変化（ΔＴ）＝｜加熱処理前の膜の透過率（％）－加熱処理後の膜の透過率（％）｜
　ここで、ΔＴｍａｘとは上記で算出される波長４００～１２００ｎｍの各波長での透過率変化ΔＴで最も大きい値を意味する。
　Ａ：波長４００～１２００ｎｍの透過率変化ΔＴｍａｘが４％未満
　Ｂ：波長４００～１２００ｎｍの透過率変化ΔＴｍａｘが４％以上１０％未満
　Ｃ：波長４００～１２００ｎｍの透過率変化ΔＴｍａｘが１０％以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
　上記表に示すように、実施例の組成物は、蛍光量子収率が低く、可視透明性に優れた膜を形成することができた。また、実施例の組成物を用いて得られた膜は、加熱後も可視透明性に優れ、かつ、加熱前後の透過率変化が小さかった。
　また、実施例７０１～７５１の組成物を用いて得られた膜は、いずれも波長３９０ｎｍにおける透過率が５％であり、紫外線遮蔽性にも優れていた。
　さらに、実施例１～１９、２１、２５、２６、２７、２９～５１、４０１～４１９、４２１、４２５、４２６、４２７、４２９～４５１、７０１～７１９、７２１、７２５、７２６、７２７、７２９～７５１については耐光性にも優れていた。
　上記実施例において、誘導体として用いたＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１３、ＰＰＢ－Ｂ－１５、ＰＰＢ－Ｂ－１６のうち、下記式（Ａ－１）で表される基を有する化合物（ＰＰＢ－Ｂ－１、ＰＰＢ－Ｂ－４、ＰＰＢ－Ｂ－１５）については、下記式（Ａ－１）で表される基を下記式（Ｂ－１）で表される基に置き換えた構造の化合物、または、両者の混合物を用いた場合でも各実施例と同様の効果が得られた。また、上記実施例において、誘導体として用いたＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１３、ＰＰＢ－Ｂ－１５、ＰＰＢ－Ｂ－１６のうち、下記式（Ａ－２）で表される基を有する化合物（ＰＰＢ－Ｂ－３、ＰＰＢ－Ｂ－６、ＰＰＢ－Ｂ－１１）については、下記式（Ａ－２）で表される基を下記式（Ｂ－２）で表される基に置き換えた構造の化合物、または、両者の混合物を用いた場合でも各実施例と同様の効果が得られた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
　上記式中Ｍは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓまたは式（Ｃ）、式（Ｄ）で表される構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 　式（Ｃ）中、Ｒｚ １～Ｒｚ ４はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい分岐または直鎖のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基を表す。ただし、Ｒｚ １～Ｒｚ ４はそれぞれ互いに連結して環を形成してもよい。
　式（Ｄ）中、Ｒｚ ５～Ｒｚ ９はそれぞれ独立して、置換基を表し、Ｒｚ ５とＲｚ ６、Ｒｚ ６とＲｚ ７、Ｒｚ ７とＲｚ ８、Ｒｚ ８とＲｚ ９はそれぞれ互いに連結して環を形成してもよい。
　実施例の膜を光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサまたはカメラモジュールに用いることで、性能に優れる光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールを得ることができる。
＜組成物ＩＲの製造＞
　各素材を、以下に示す処方の割合で混合し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して組成物ＩＲを製造した。
　赤外線吸収剤（ＦＤＲ－３、山田化学工業株式会社製）　　・・・０．０４５質量部
　下記構造の樹脂（重量平均分子量２４６００、主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。）の固形分濃度４５質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液　　・・・６．９質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 　紫外線吸収剤（Ｕｖｉｎｕｌ３０５０、ＢＡＳＦ製）　　・・・１．３５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　　・・・６．７０５質量部
＜積層膜の製造＞
　（実施例１００１～１０５１）
　上記で調製した組成物ＩＲを、ガラス基板上にポストベーク後の膜厚が７．０μｍとなるようにスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で１０分間加熱（プリベーク）し、次いで、２００℃で８分間加熱して硬化処理を行い、厚さ７．０μｍの膜を得た。得られた膜上に２層目用の組成物として実施例４０１～４５１の組成物をポストベーク後の２層目の膜厚が１．０μｍとなるようにガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で１０分間加熱（プリベーク）し、次いで、２００℃で８分間加熱して硬化処理を行い、厚さ１．０μｍの２層目の膜を形成して厚さ８．０μｍの積層膜を得た。
　実施例１００１～１０５１の積層膜について、光学顕微鏡を用いて明視野２００倍にて、膜に異物の析出が無いか観察したところ、いずれも異物の析出は見られなかった。また、実施例１００１～１０５１の積層膜は、いずれも波長３９０ｎｍにおける光の透過率が５％未満であり、紫外線遮蔽性に優れていた。
　実施例の積層膜を光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサまたはカメラモジュールに用いることで、性能に優れる光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールを得ることができる。
１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (14)

  1. 　式（１）で表される色素と、硬化性化合物と、を含む組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、
    　ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
    　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中、＊は連結部を表し、
    　Ｒａ１１～Ｒａ２９はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
    　ＸｃおよびＸｄはそれぞれ独立して、Ｓ、ＯまたはＮＲＸ２を表し、ＲＸ２は水素原子または置換基を表し、
    　Ａ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの縮合環を表す。
  2. 　前記式（１）のＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）のいずれかで表される基である、請求項１に記載の組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     　式（Ｘ－１－１）～（Ｘ－１－３）中、＊は連結部を表し、
    　Ｒａ５１～Ｒａ６３は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、
    　式（Ｘ－１－１）のＲａ５１～Ｒａ５４のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、
    　式（Ｘ－１－２）のＲａ５５～Ｒａ５８のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよく、
    　式（Ｘ－１－３）のＲａ６０～Ｒａ６３のうち隣接する２つの基同士は結合して環を形成していてもよい。
  3. 　前記式（１）のＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、－ＢＲＹ１ＲＹ２を表し、ＲＹ１およびＲＹ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、ＲＹ１およびＲＹ２は互いに結合して環を形成していてもよい、
    　請求項１または２に記載の組成物。
  4. 　前記式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも一方が、置換基を有してもよい炭素数９以下のアルキル基である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 　前記式（１）のＲ１およびＲ２の少なくとも一方が、式（Ｒ－１）で表される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     　式（Ｒ－１）中、＊は連結部を表し、Ｒ１０１およびＲ１０２はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ａｒ１０１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、ｎは１以上の整数を表す。
  6. 　前記式（１）で表される色素が極大吸収波長を波長６５０ｎｍ以上に有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物を用いて得られる膜。
  8. 　請求項７に記載の膜を含む光学フィルタ。
  9. 　請求項７に記載の膜を含む固体撮像素子。
  10. 　請求項７に記載の膜を含む画像表示装置。
  11. 　請求項７に記載の膜を含む赤外線センサ。
  12. 　請求項７に記載の膜を含むカメラモジュール。
  13. 　式（１）で表される化合物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     　式（１）中、ＸａおよびＸｂはそれぞれ独立して、＝ＮＲＸ１または式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）のいずれかで表される基を表し、ＲＸ１は置換基を表し、
    　ＹａおよびＹｂはそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
    　Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     　式（Ｘ－１）～（Ｘ－５）中、＊は連結部を表し、
    　Ｒａ１１～Ｒａ２９はそれぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、
    　ＸｃおよびＸｄはそれぞれ独立して、Ｓ、ＯまたはＮＲＸ２を表し、ＲＸ２は水素原子または置換基を表し、
    　Ａ１は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、芳香族複素環またはこれらの縮合環を表す。
  14. 　請求項１３に記載の化合物を含む赤外線吸収剤。
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