WO2022186266A1 - 化合物、化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法 - Google Patents

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誠人 宇野
英一郎 安樂
貴史 川上
啓吾 松浦
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Definitions

  • the present invention relates to a compound, a method for producing a compound, and a method for producing a surface treatment agent.
  • Fluorine-containing compounds are used in various fields such as agricultural chemicals, pharmaceuticals, and functional materials. There is a need to synthesize various structures by a simpler method. For example, in order to impart various functions to compounds having fluoroalkyl groups or (poly)oxyfluoroalkylene chains, synthetic methods for introducing various substituents have been investigated.
  • Patent Literature 1 discloses a method for producing a fluorine-containing compound in which a perfluoroalkyl bromide is added to an olefin compound by a radical reaction.
  • Patent Document 1 The method of Patent Document 1 is not suitable for synthesizing compounds having a carbon-carbon double bond because the olefin reacts, and the types of electrophiles are limited. In addition, since the product can undergo further radical reaction and undergo telomerization, there is a problem that various by-products are produced.
  • the purpose of the present invention is to provide a novel compound, a method for producing the same, a method for producing other compounds using the novel compound as a raw material, and a method for producing a surface treatment agent.
  • the present invention provides a compound having the following structures [1] to [4], a method for producing the same, and a method for producing a surface treatment agent.
  • G 1 —(CH 2 ) n —M Formula (A1) M—(CH 2 ) n —G 2 —(CH 2 ) n —M Formula (A2)
  • G 1 is a fluoroalkyl group or a monovalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • G 2 is a fluoroalkylene group or a divalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • M is BR 1 R 2
  • R 1 and R 2 are each independently —OH, —R 5 , —OR 5 , —O—C(O)—R 5 , or —NR 5 R 6 R 5 is a hydrocarbon group which may have a substituent or may have a heteroatom in the carbon
  • G 1 -(CH 2 ) n-2 -CH CH 2 Formula (B1)
  • G 1 is a monovalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • G2 is a divalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • R 1 and R 2 are each independently a group represented by —OH, —R 5 , —OR 5 , —O—C(O)—R 5 , or —NR 5 R 6
  • R 5 is a hydrocarbon group which may have a substituent or may have a heteroatom in the carbon chain
  • two R 5 may be linked to form a ring structure
  • R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • n is an integer from 2 to 20;
  • R 11 -X 1 Formula (D) G 1 —(CH 2 ) n —R 11 Formula (E1) R 11 —(CH 2 ) n —G 2 —(CH 2 ) n —R 11 formula (E2)
  • G 1 is a fluoroalkyl group or a monovalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • G 2 is a fluoroalkylene group or a divalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • n is an integer from 2 to 20
  • R 11 is a hydrocarbon group optionally having a substituent and optionally having a heteroatom
  • X 1 is a halogen atom.
  • the present invention provides a novel compound, a method for producing the same, a method for producing other compounds using the novel compound as a raw material, and a method for producing a surface treatment agent.
  • (A1) is referred to as compound (A1).
  • Compounds and the like represented by other formulas are also in accordance with these.
  • (Poly)oxyfluoroalkylene is a generic term for oxyfluoroalkylene and polyoxyfluoroalkylene.
  • a fluoroalkyl group is a collective term for a perfluoroalkyl group and a partial fluoroalkyl group.
  • a perfluoroalkyl group means a group in which all hydrogen atoms of an alkyl group are substituted with fluorine atoms.
  • a partial fluoroalkyl group is an alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms and which has one or more hydrogen atoms. That is, a fluoroalkyl group is an alkyl group having one or more fluorine atoms.
  • "Reactive silyl group” is a general term for hydrolyzable silyl groups and silanol groups (Si-OH), and "hydrolyzable silyl group” is a group that can be hydrolyzed to form a silanol group. means.
  • a "surface layer” means a layer formed on the surface of a substrate.
  • " ⁇ " indicating a numerical range means that the numerical values before and after it are included as lower and upper limits.
  • the compound according to the present invention (hereinafter also referred to as the present compound) is a compound represented by formula (A1) or formula (A2) below.
  • G 1 —(CH 2 ) n —M Formula (A1) M—(CH 2 ) n —G 2 —(CH 2 ) n —M Formula (A2)
  • G 1 is a fluoroalkyl group or a monovalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • G 2 is a fluoroalkylene group or a divalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain
  • M is BR 1 R 2
  • R 1 and R 2 are each independently —OH, —R 5 , —OR 5 , —O—C(O)—R 5 , or —NR 5 R 6
  • R 5 is a hydrocarbon group which may have a substituent or may have a heteroatom in the carbon chain, and two R 5
  • the present compound has a structure in which a fluoroalkyl chain or (poly)oxyfluoroalkylene chain and an alkyl chain are linked by a carbon-carbon bond or an oxygen-carbon bond, not through various bonds such as an ester bond or an amide bond. and the alkyl chain has a boron-based substituent (M).
  • M boron-based substituent
  • the present compound has excellent chemical stability because the fluoroalkyl chain or (poly)oxyfluoroalkylene chain and the alkyl chain are linked without any bond.
  • this compound has a substituent M on the alkyl chain.
  • the present compound having such a structure is a fluoroalkyl chain or (poly)oxyfluoroalkylene chain with various functionalities, which is easy to introduce a substituent at the position of M by one-step or multi-step reaction. It is a compound suitable as a raw material for obtaining
  • the fluoroalkyl group for G 1 may be a linear fluoroalkyl group or a fluoroalkyl group having a branched or ring structure.
  • the number of carbon atoms in the fluoroalkyl group may be appropriately adjusted depending on the application of the present compound. From the viewpoint of ease of production of the present compound and high yield in the production of other compounds using the present compound as a raw material, it is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and further preferably 1 to 10. 1 to 6 are particularly preferred.
  • fluoroalkyl groups include CF 3 —, CHF 2 —, CF 3 CF 2 —, CF 3 CHF—, CF 3 CF 2 CF 2 —, CF 3 CHFCF 2 —, CF 3 CHFCHF—, CF 3 CF ( CF3 )-, CF3CF2CF2CF2- , CF3CHFCF2CF2- , CF3CF ( CF3 ) -CF2- , CF3C ( CF3 ) 2 - CF2- , CF 3CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 —, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 —, fluorocyclobutyl group, fluorocyclopentyl group, fluorocyclohexyl group and the like.
  • the monovalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain in G 1 has —O— at the terminal that bonds to CH 2 in formula (A1), or has a carbon chain of 2 or more carbon atoms—carbon A fluoroalkyl group having —O— between atoms or including both. From the standpoint of ease of production, etc., G1 preferably has a structure represented by the following formula ( G1-1 ).
  • R f0 is a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • R f1 is a fluoroalkylene group having 1 carbon atoms
  • R f2 is a fluoroalkylene group having 2 carbon atoms
  • R f3 is a fluoroalkylene group having 3 carbon atoms
  • R f4 is a fluoroalkylene group having 4 carbon atoms
  • R f5 is a fluoroalkylene group having 5 carbon atoms
  • R f6 is a fluoroalkylene group having 6 carbon atoms
  • R f7 is a fluoroalkylene group having 1
  • the bonding order of (R f1 O) to (R f6 O) in formula (G1-1) is arbitrary.
  • m1 to m6 in formula (G1-1) represent the number of (R f1 O) to (R f6 O), respectively, and do not represent the arrangement.
  • (R f5 O) m5 indicates that the number of (R f5 O) is m5, and does not indicate the block arrangement structure of (R f5 O) m5 .
  • the order of (R f1 O) to (R f6 O) does not represent the order of bonding of the respective units.
  • the end of G 1 that binds to CH 2 is -O-.
  • the fluoroalkylene group having 3 to 6 carbon atoms may be a linear fluoroalkylene group or a fluoroalkylene group having a branched or ring structure.
  • m1 + m2 + m3 + m4 + m5 + m6 is an integer of 1 to 200, that is, G 1 is a polyoxyfluoroalkylene chain from the viewpoint of water and oil repellency and fingerprint removability.
  • G 1 is a polyoxyfluoroalkylene chain from the viewpoint of water and oil repellency and fingerprint removability.
  • m7 is preferably 1 from the viewpoint of chemical stability of compound (A1).
  • R f1 examples include -CF 2 - and -CHF-.
  • R f2 examples include -CF 2 CF 2 -, -CHFCF 2 -, -CHFCHF-, -CH 2 CF 2 -, and -CH 2 CHF-.
  • R f3 include -CF 2 CF 2 CF 2 -, -CF 2 CHFCF 2 -, -CF 2 CH 2 CF 2 -, -CHFCF 2 CF 2 -, -CHFCHFCF 2 -, -CHFCHFCHF-, - CHFCH2CF2- , -CHFCH2CF2- , -CH2CF2CF2- , -CH2CHFCF2- , -CH2CH2CF2- , -CH2CF2CHF- , -CH2CHFCHF _ _ -, -CH 2 CH 2 CHF-, -CF(CF 3 )-CF 2 -, -CF(CHF 2 )-CF 2 -, -CF(CH 2 F)-CF 2 -, -CF(CH 3 ) -CF 2 -, -CF(CF 3 )-CHF-, -CF(CHF 2 )-CHF-, -CF(CH 2 F)-CF 2
  • R f4 include -CF 2 CF 2 CF 2 -, -CHFCF 2 CF 2 CF 2 -, -CH 2 CF 2 CF 2 -, -CF 2 CHFCF 2 CF 2 -, -CHFCHFCF 2CF2- , -CH2CHFCF2CF2- , -CF2CH2CF2CF2- , -CHFCH2CF2CF2- , -CH2CH2CF2CF2- , -CHFCF2CHFCF2 _ _ _ _ _ _ _ _ - - -, -CH 2 CF 2 CHFCF 2 -, -CF 2 CHFCHFCF 2 -, -CHFCHFCHFCF 2 -, -CH 2 CHFCHFCF 2 -, -CF 2 CH 2 CHFCF 2 -, -CHFCH 2 CHFCF 2 -, -CH 2 CH 2CHFCF2- , -CF2CH2CH2CF2- , -
  • R f5 include -CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -, -CHFCF 2 CF 2 CF 2 -, -CH 2 CHFCF 2 CF 2 CF 2 -, -CF 2 CHFCF 2 CF 2 CF2- , -CHFCHFCF2CF2CF2- , -CH2CHFCF2CF2CF2- , -CF2CH2CF2CF2CF2- , -CHFCH2CF2CF2- , -CH _ _ _ _ _ _ 2CH2CF2CF2CF2- , -CF2CF2CHFCF2CF2- , -CHFCF2CHFCF2CF2- , -CH2CF2CHFCF2CF2- , -CH2CF2CHFCF2CF2- , -CH2CF2CHFCF2CF2- , -CF2CF2CHFCF2CF2- , -CH2CF2CHFCF2CF2- , -CF2CF
  • R f6 include -CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -, -CF 2 CF 2 CHFCHFCF 2 CF 2 -, -CHFCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -, -CHFCHFCHFCHFCHFCHF- , -CHFCF 2 CF 2 CF 2 CH 2 -, -CH 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 -, -cycloC 6 F 10 - and the like.
  • R f0 and R f7 are the same as those listed above for R f1 to R f6 .
  • -cycloC 4 F 6 - means a perfluorocyclobutanediyl group, a specific example of which is a perfluorocyclobutane-1,2-diyl group.
  • -cycloC 5 F 8 - means a perfluorocyclopentanediyl group, and specific examples thereof include a perfluorocyclopentane-1,3-diyl group.
  • -cycloC 6 F 10 - means a perfluorocyclohexanediyl group, a specific example of which is a perfluorocyclohexane-1,4-diyl group.
  • G1 is a monovalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain in view of superior water/oil repellency, abrasion resistance, and fingerprint stain removability. is preferred, and a monovalent group having a polyoxyfluoroalkylene chain is more preferred. Among them, it is preferable to have structures represented by the following formulas (F1) to (F3).
  • the bonding order of (R f1 O) and (R f2 O) and (R f2 O) and (R f4 O) is arbitrary.
  • (R f1 O) and (R f2 O) may be alternately arranged, (R f1 O) and (R f2 O) may be arranged in blocks, or may be randomly arranged.
  • formula (F3) m1 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m2 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m2 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m4 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m3 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • the fluoroalkylene group for G2 may be linear, branched, or have a cyclic structure.
  • the number of carbon atoms in the fluoroalkylene group is preferably from 1 to 30, more preferably from 1 to 20, even more preferably from 1 to 10, and particularly preferably from 1 to 6, from the viewpoint of increasing the yield of the present production method.
  • Specific examples of the fluoroalkylene group include those listed above for R f1 to R f6 .
  • the divalent group having a (poly)oxyfluoroalkylene chain in G 2 is, in formula (A2), two terminals bonded to CH 2 each independently having —O—, or a carbon chain having 2 or more carbon atoms is a fluoroalkylene group having —O— between the carbon-carbon atoms of or a combination thereof.
  • G2 preferably has a structure represented by the following formula ( G2-1 ).
  • m0+m1+m2+m3+m4+m5+m6 is an integer of 2 to 200, that is, G2 is a polyoxyfluoroalkylene chain in terms of water and oil repellency and fingerprint removability. is preferably Further, for example, from the viewpoint of chemical stability of the compound (A2), m0 is preferably 0 or m7 is 1, more preferably m0 is 0 and m7 is 1. .
  • G2 When the resulting compound ( A2 ) is used as a surface treatment agent or a raw material thereof, G2 has excellent water and oil repellency, abrasion resistance, and fingerprint stain removability. It preferably has a structure represented by formula (F6).
  • the bonding order of (R f1 O) and (R f2 O) and (R f2 O) and (R f4 O) is arbitrary.
  • (R f1 O) and (R f2 O) may be alternately arranged, (R f1 O) and (R f2 O) may be arranged in blocks, or may be randomly arranged.
  • m1 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m2 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m2 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m4 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • m3 is preferably 1-30, more preferably 1-20.
  • the ratio of fluorine atoms in the fluoroalkyl chains or (poly)oxyfluoroalkylene chains in G 1 and G 2 [ ⁇ number of fluorine atoms / (number of fluorine atoms + number of hydrogen atoms) ⁇ ⁇ 100 (%)] is water repellent From the viewpoint of excellent oil repellency and fingerprint removability, it is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, and even more preferably 60% or more. Further, the molecular weight of the (poly)oxyfluoroalkylene chain portion is preferably 200 to 30,000, more preferably 600 to 25,000, even more preferably 800 to 20,000, and 1,000 from the viewpoint of abrasion resistance. ⁇ 8,000 is particularly preferred.
  • M represents a boron-based substituent BR 1 R 2 , where R 1 and R 2 are each independently —OH, —R 5 , —OR 5 , —O—C(O)—R 5 , or —NR 5
  • R 6 is a hydrocarbon group which may have a substituent or may have a heteroatom in the carbon chain, and two R 5 are linked to A ring structure may be formed
  • R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the hydrocarbon group for R 5 includes an aliphatic hydrocarbon group (straight-chain alkyl group, branched alkyl group, cycloalkyl group, etc.).
  • the hydrocarbon group may have include a halogen atom, a hydroxy group, an amino group, a nitro group, a sulfo group, an oxo group, and the like.
  • a halogen atom is preferable from the viewpoint of the stability of the compound in.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
  • Heteroatoms may be included in the carbon chain, either alone or in combination with other substituents such as oxo groups.
  • partial structures containing heteroatoms include -C(O)NR 25 -, -C(O)O-, -C(O)-, -O-, -NR 25 -, -S-, - OC(O)O—, —NHC(O)O—, —NHC(O)NR 25 —, —SO 2 NR 25 —, —Si(R 25 ) 2 —, —OSi(R 25 ) 2 — , etc. is mentioned.
  • R 25 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.
  • Structures in which two R 5s are linked to form a ring structure include, for example, *-R 5 -*, *-OR 5 -*, *-OR 5 -O-*, *-O- C(O)-R 5 -C(O)-O-*, *-NR 6 -R 5 -NR 6 -* and the like.
  • * is a linking group that binds to B, forming a ring structure containing B.
  • BR 1 R 2 Specific examples include the following.
  • compound (A1) and compound (A2) include the following.
  • M is as described above, n11 to n24 represent the number of repeating units, each independently an integer of 1 to 200, n31 is an integer of 1 to 18, n32 to n38 are each independently 0 to 18 integers.
  • the production method of the present compound is not particularly limited, but the following production method is preferable from the viewpoints of relatively easy availability of raw materials and excellent yield. That is, the method for producing compound (A1) or compound (A2) according to the present invention comprises reacting a compound represented by formula (B1) or formula (B2) below with a compound represented by formula (C1) below.
  • G 1 -(CH 2 ) n-2 -CH CH 2 Formula (B1)
  • G 1 , G 2 , R 1 , R 2 and n are the same as those in formula (A1) or formula (A2) above, and preferred embodiments are also the same.
  • the compound (B1) or the compound (B2), the compound (C1), and, if necessary, a radical polymerization initiator such as an azo polymerization initiator are added to a solvent and heated to obtain a compound compound (
  • the compound (A1) or compound (A2) can be obtained by adding the compound (C1) to the olefin of B1) or compound (B2).
  • the reaction temperature is not particularly limited, it can be, for example, 40 to 120°C.
  • the reaction time is appropriately adjusted according to the amount of the compound and the like, and can be, for example, 1 to 40 hours.
  • compound (B1) and compound (B2) include the following.
  • n11 to n24 represent the number of repeating units and are each independently an integer of 1 to 200
  • n31 is an integer of 1 to 18
  • n32 to n38 are each independently an integer of 0 to 18.
  • the above compound (B1) and compound (B2) can be obtained, for example, by an elimination reaction of a compound represented by the following formula (H1) or (H2).
  • G 1 -X Formula (H1) XG 2 -X Formula (H2) However, G1 and G2 in the formula are as described above, and X is a halogen atom.
  • the method for producing a compound represented by the following formula (E1) or (E2) comprises reacting the compound (A1) or the compound (A2) with a compound represented by the following formula (D).
  • R 11 -X 1 Formula (D) G 1 —(CH 2 ) n —R 11 Formula (E1)
  • G 1 G 2 and n are as described above, and preferred embodiments are also the same
  • R 11 is a hydrocarbon group optionally having a substituent and optionally having a heteroatom
  • X 1 is a halogen atom.
  • hydrocarbon group for R 11 examples include aliphatic hydrocarbon groups (straight-chain alkyl groups, branched alkyl groups, cycloalkyl groups, etc.), aromatic hydrocarbon groups (phenyl groups, etc.), groups consisting of combinations thereof, and the like. is mentioned.
  • the above aliphatic hydrocarbon group may have a double bond or triple bond in the carbon chain.
  • Combinations include, for example, groups in which an alkylene group and an aryl group are linked directly or via a heteroatom.
  • substituents that the hydrocarbon group may have include halogen atoms, hydroxy groups, amino groups, nitro groups, sulfo groups, oxo groups, and the like. Atoms are preferred.
  • a halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and the like.
  • Heteroatoms may be included in the carbon chain, either alone or in combination with other substituents such as oxo groups.
  • Specific examples of partial structures containing heteroatoms include -C(O)NR 26 -, -C(O)O-, -C(O)-, -O-, -NR 26 -, -S-, - OC(O)O—, —NHC(O)O—, —NHC(O)NR 26 —, —SO 2 NR 26 —, —Si(R 26 ) 2 —, —OSi(R 26 ) 2 — , — Examples thereof include Si(CH 3 ) 2 -Ph-Si(CH 3 ) 2 -, divalent organopolysiloxane residues, and the like.
  • R 26 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group, and Ph is a phenylene group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group of R 26 is preferably from 1 to 3, particularly preferably from 1 to 2, from the standpoint of ease of production of the present compound.
  • the hydrocarbon group for R 11 preferably has a carbon-carbon double bond. Having a double bond in the compound (E1) or the compound (E2) makes it possible to easily introduce other substituents through an addition reaction.
  • the halogen atom for X 1 is preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a chlorine atom or a bromine atom, and still more preferably a bromine atom.
  • Suitable specific examples of the compound (D) include the following.
  • the compound (A1) or compound (A2) and the compound represented by the following formula (D) can be reacted, for example, by heating in a solvent in the presence of a catalyst and a base.
  • a catalyst include known metal catalysts, among which transition metal compounds are preferred, among which compounds containing group 8 to group 11 elements are more preferred, and at least one element selected from copper, nickel, palladium and cobalt. Compounds containing are preferred.
  • the copper may be zerovalent, monovalent, divalent, or trivalent, but salts or complexes of monovalent or divalent copper are preferred from the viewpoint of catalytic performance.
  • Copper chloride is more preferable from the viewpoint of availability. Both CuCl and CuCl 2 can be suitably used as copper chloride.
  • Copper chloride may be an anhydride or a hydrate, but an anhydride of copper chloride is more preferable from the viewpoint of catalytic ability.
  • the nickel may be zerovalent, monovalent, divalent, or trivalent, but from the viewpoint of catalytic performance, salts or complexes of nickel with zero or divalent are preferred.
  • Nickel chloride (NiCl 2 ) or nickel bromide (NiBr2) is more preferable from the viewpoint of availability.
  • Nickel chloride may be either an anhydride or a hydrate, but nickel chloride anhydride is more preferable from the viewpoint of catalytic ability.
  • the nickel bromide may form a complex, and examples thereof include nickel (II) bromide 2-methoxyethyl ether complex and nickel (II) bromide ethylene glycol dimethyl ether complex.
  • the palladium may be any compound having zero valence, monovalence, divalence, or trivalence. preferable.
  • tris(dibenzylideneacetone)dipalladium (Pd 2 (dba) 3 ) and palladium acetate (Pd(OAc) 2 ) are more preferable in terms of availability.
  • tris(dibenzylideneacetone) dipalladium and palladium acetate may be either anhydrides or hydrates. things are more preferred.
  • the ligand may be used in combination with the metal catalyst as needed.
  • the ligand include 1,3-butadiene, tricyclohexylphosphine, 1,1 -Bis(diphenylphosphino)ferrocenephenylpropyne, tetramethylethylenediamine (TMEDA), and the like.
  • the base is preferably a strong base with low nucleophilicity, such as potassium tert-butoxide, lithium diisopropylamide, potassium hexamethyldisilazide, lithium-2,2,6,6-tetramethylpiperidide and the like. be done.
  • the solvent may be appropriately selected from solvents inert to this reaction.
  • solvents inert to this reaction examples thereof include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane.
  • ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF) and dioxane.
  • THF tetrahydrofuran
  • dioxane dioxane
  • the compound (A1) and the compound (A2) are compounds having a relatively high fluorine atom content, it is preferable to use a fluorine-based solvent alone or in combination with the above solvent.
  • fluorine-based solvents examples include hydrofluorocarbons (1H,4H-perfluorobutane, 1H-perfluorohexane, 1,1,1,3,3-pentafluorobutane, 1,1,2,2,3,3, 4-heptafluorocyclopentane, 2H,3H-perfluoropentane, etc.), hydrochlorofluorocarbons (3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane, 1,3-dichloro-1,1 , 2,2,3-pentafluoropropane (HCFC-225cb), etc.), hydrofluoroethers (CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (AE-3000), (perfluorobutoxy)methane, (perfluorobutoxy)ethane, etc.
  • hydrofluorocarbons (1H,4H-perfluorobutane, 1H-perfluorohexane, 1,1,1,3,3-penta
  • hydrochlorofluoroolefins ((Z)-1-chloro-2,3,3,4,4,5,5-heptafluoro-1-pentene (HCFO-1437dycc (Z) form), (E)- 1-chloro-2,3,3,4,4,5,5-heptafluoro-1-pentene (HCFO-1437dycc (E) form), (Z)-1-chloro-2,3,3-trifluoro -1-propene (HCFO-1233yd(Z) form), (E)-1-chloro-2,3,3-trifluoro-1-propene (HCFO-1233yd(E) form), etc.), fluorine-containing aromatic compounds (perfluorobenzene, m-bis(trifluoromethyl)benzene (SR-solvent), p-bis(trifluoromethyl)benzene, etc.);
  • the method for producing a surface treating agent according to the present invention is characterized by introducing a reactive silyl group into the compound (E1) or compound (E2) obtained by the above production method.
  • a compound having a (poly)oxyfluoroalkylene chain and a hydrolyzable silyl group can form a surface layer exhibiting high lubricity, water and oil repellency, etc. on the surface of a base material, and is therefore suitably used as a surface treatment agent. .
  • a method for introducing a reactive silyl group into compound (E1) or compound (E2) may be appropriately selected according to the substituents possessed by compound (E1) or compound (E2).
  • compound (E1) or compound (E2) when compound (E1) or compound (E2) has a double bond, it can be introduced by subjecting the double bond to a hydrosilylation reaction with compound (J1) or (J2) below.
  • R 40 is an alkyl group, and when there are multiple R 40 , the R 40 may be the same or different, L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group, multiple L may be the same or different, R 41 is an alkyl group, and when there are multiple R 41 , the R 41 may be the same or different, R 42 is an alkyl group, a phenyl group or an alkoxy group, two R 42 may be the same or different, c is 2 or 3, k is 2 or 3, p is an integer of 0 to 5, and when p is 2 or more, two or more (OSi(R 42 ) 2 ) may be the same or different.
  • Compound (J1) may be synthesized or a
  • a reactive silyl group is a group in which either or both of a hydrolyzable group and a hydroxyl group are bonded to a silicon atom.
  • a hydrolyzable group is a group that becomes a hydroxyl group through a hydrolysis reaction. That is, a hydrolyzable silyl group becomes a silanol group (Si—OH) through a hydrolysis reaction.
  • the silanol groups further undergo an intermolecular dehydration condensation reaction to form Si--O--Si bonds.
  • the silanol group undergoes a dehydration condensation reaction with the hydroxyl group (substrate-OH) on the surface of the substrate to form a chemical bond (substrate-O-Si).
  • Hydrolyzable groups include, for example, alkoxy groups, halogen atoms, acyl groups, and isocyanate groups.
  • alkoxy group an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • a chlorine atom is preferable as the halogen atom.
  • an alkoxy group or a halogen atom is preferable from the viewpoint of ease of production.
  • an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable from the viewpoint of less outgassing during application and excellent storage stability of the present compound, and when long-term storage stability of the present compound is required.
  • An ethoxy group is particularly preferred, and a methoxy group is particularly preferred when the reaction time after coating the substrate with the surface treatment agent is shortened.
  • a surface treatment agent represented by the following formula can be obtained.
  • n11 to n22 represent the number of repeating units and are each independently integers of 1 to 200, and n31 to n37 are each independently integers of 0 to 18.
  • Substrates to which the surface treatment agent is applied include substrates that are required to be imparted with water and oil repellency. For example, it is placed on other articles (e.g., a stylus), a base material that may be used in contact with a person's fingers, a base material that may be held with a person's fingers during operation, or another article (e.g., a mounting table).
  • substrates that may be Materials for the substrate include metal, resin, glass, sapphire, ceramic, stone, and composite materials thereof. The glass may be chemically strengthened.
  • a base film such as a SiO 2 film may be formed on the surface of the substrate.
  • touch panel substrates, display substrates, and spectacle lenses are suitable, and touch panel substrates are particularly suitable.
  • Glass or transparent resin is preferable as the material for the touch panel substrate.
  • the base material are glass or resin films used for exterior parts (excluding display parts) of devices such as mobile phones (e.g., smartphones), personal digital assistants (e.g., tablet terminals), game machines, and remote controllers.
  • a surface treatment agent containing such a fluorine-containing compound has the ability to prevent deterioration of water and oil repellency even when the surface layer is repeatedly rubbed with fingers (rubbing resistance), and can easily remove fingerprints adhered to the surface layer by wiping. It is suitable for applications that require long-term maintenance of the performance (fingerprint smudge removability), for example, as a surface treatment agent for members constituting the surface touched by the finger of the touch panel, eyeglass lenses, and displays of wearable terminals.
  • Examples 1-2, 1-3, 2-4, 2-5 and 2-6 are examples of the manufacturing method.
  • Example 1 ⁇ Example 1-1> 44 g of allyltributyltin, 84 g of dodecane, and 7.8 g of tetrakis(triphenylphosphine)palladium were added to a 300 mL eggplant-shaped flask and stirred and mixed at room temperature, then 51 g of compound 1-1 was slowly added and stirred at 40° C. for 20 hours. The resulting crude liquid was filtered and purified by distillation to obtain 33 g of compound 1-2.
  • Example 1-2 15 g of compound 1-2 and 100 g of 0.5 M THF solution of 9-hydro-9-borabicyclo[2,2,0]nonane were added to a 200 mL eggplant flask and stirred at 60° C. for 15 hours. The resulting crude liquid was purified by distillation to obtain 14 g of compound 1-3.
  • Example 1-3 1.5 g of compound 1-3, (2-bromoethyl)benzene 1.2 g, tetrahydrofuran 10 g, nickel bromide (II) 2-methoxyethyl ether complex 0.6 g, trans-N,N'- 0.33 g of dimethylcyclohexane-1,2-diamine, 0.55 g of potassium t-butoxy and 0.73 g of isobutyl alcohol were added and stirred at 60° C. for 24 hours. After that, hydrochloric acid was added, the mixture was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution. After concentrating the resulting organic layer, it was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.9 g of compound 1-4.
  • R in the following formula is CH2CH2Phe and Phe is a phenyl group.
  • Example 2 ⁇ Example 2-1> The following compound 2-1 was obtained according to the method described in Examples 11-1 to 11-3 of the working examples of WO 2013/121984. CF3 - O- ( CF2CF2O - CF2CF2CF2CF2O ) n CF2CF2O - CF2CF2CF2 - CF2OC ( O)CF ( CF3 ) OCF2CF 2 CF 3 Formula 2-1 Average number of units n: 13
  • Example 2-2 5.8 g of sodium pyrithione and 100 mL of 1,3-bistrifluoromethylbenzene (trade name SR-Solvent) were placed in a 500 mL eggplant flask shielded from light with aluminum foil and stirred under ice cooling. Then, 50.0 g of compound 2-1 was slowly added and stirred for 2 hours while cooling with ice. Next, 12.0 g of iodine and 1.8 g of 2,2-azobis(2-methylbutyronitrile) (trade name V-59) were added, the aluminum foil that had been shielded from light was removed, and the mixture was stirred overnight at 85°C. did.
  • SR-Solvent 1,3-bistrifluoromethylbenzene
  • Example 2-3 47 g of compound 2-2, 20 g of allyltributyltin, 60 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 0.32 g of 2,2′-azobis(2-methylbutyronitrile) were added to a 300 mL eggplant flask. C. for 24 hours. The resulting crude liquid was concentrated, washed with hexane, and purified by silica gel chromatography to obtain 42 g of compound 2-3.
  • Example 2-4 10 g of compound 2-3, 60 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 8.3 g of 0.5 MTHF solution of 9-hydro-9-borabicyclo[2,2,0]nonane were placed in a 100 mL eggplant flask. and stirred at 60° C. for 24 hours. The resulting crude liquid was concentrated to obtain 11 g of compound 2-4.
  • Example 2-5 11 g of compound 2-4, 0.61 g of 6-bromo-1-hexene, 40 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, 20 g of tetrahydrofuran, nickel (II) bromide 2-methoxyethyl ether in a 100 mL eggplant flask 0.5 g of the complex, 0.28 g of trans-N,N'-dimethylcyclohexane-1,2-diamine, 0.51 g of potassium t-butoxy and 0.69 g of isobutyl alcohol were added and stirred at 60° C. for 24 hours.
  • Example 2-6 10 g of compound 2-3, 60 g of 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, and 0.26 g of 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane were added to a 100 mL eggplant flask. and 60° C. for 30 hours. After concentrating the resulting crude liquid, it was purified by column chromatography to obtain 7 g of compound 2-6.
  • an arbitrary substituent can be introduced into a compound having a fluoroalkylene chain or (poly)oxyfluoroalkylene chain under relatively mild reaction conditions using an easily available compound.
  • the compound obtained by this production method can be suitably used, for example, as a surface treatment agent capable of forming a surface layer having water/oil repellency, fingerprint wiping off property, etc. on the substrate surface, or as a raw material thereof.

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Abstract

新規化合物及びその製造方法、並びに当該新規化合物を原料とする表面処理剤の製造方法を提供すること。　下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される化合物。　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　式（Ａ１）　Ｍ－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　式（Ａ２）　ただし、式中の各符号は明細書に記載のとおりである。

Description

化合物、化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法
　本発明は、化合物、化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法に関する。
　含フッ素化合物は、農薬、医薬、機能性材料など多様な分野で用いられている。多様な構造をより簡易な方法で合成することが求められている。例えば、フルオロアルキル基や（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する化合物に各種機能を付与するために、種々の置換基を導入するための合成方法が検討されている。
　フルオロアルキル基にアルキル基が結合した構造を有する化合物の合成方法に関し、種々の検討がなされている。
　例えば特許文献１には、オレフィン化合物にペルフルオロアルキルブロミドをラジカル反応で付加する、含フッ素化合物の製造方法が開示されている。
特開２０１８－４３９４０号公報
　上記特許文献１の手法は、オレフィンが反応するため、炭素－炭素二重結合を有する化合物の合成には不適であり、また、求電子剤の種類が限定される。また生成物が更にラジカル反応してテロメリゼーションし得るため、多種の副生物が生成されるという課題があった。
　本発明は、新規化合物及びその製造方法、並びに、当該新規化合物を原料とする他の化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法の提供を目的とする。
　本発明は、下記［１］～［４］の構成を有する化合物及びその製造方法、並びに表面処理剤の製造方法を提供する。
［１］　下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される化合物。
　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　　　　　　　　　　　　　　式（Ａ１）
　Ｍ－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　　　　　式（Ａ２）
　ただし、式中、
　Ｇ１は、フルオロアルキル基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
　Ｇ２は、フルオロアルキレン基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
　Ｍは、ＢＲ１Ｒ２であって、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、－ＯＨ、－Ｒ５、－ＯＲ５、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５、又は－ＮＲ５Ｒ６で表される基であり、Ｒ５は、置換基を有していてもよく炭素鎖中にヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、２つのＲ５が連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基であり、Ｍが複数ある場合、当該Ｍは、同一であっても異なっていてもよく、
　ｎは２～２０の整数である。
［２］　下記式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）で表される化合物と、下記式（Ｃ１）で表される化合物とを反応させることを含む、請求項１に記載の化合物の製造方法。
　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－２－ＣＨ＝ＣＨ２　　　　　　　　　　　式（Ｂ１）
　ＣＨ２＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｎ－２－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－２－ＣＨ＝ＣＨ２　　式（Ｂ２）
　ＨＢＲ１Ｒ２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　式（Ｃ１）
　ただし、式中、
　Ｇ１は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
　Ｇ２は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
　Ｒ１及びＲ２は各々独立に、－ＯＨ、－Ｒ５、－ＯＲ５、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５、又は－ＮＲ５Ｒ６で表される基であり、Ｒ５は、置換基を有していてもよく炭素鎖中にヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、２つのＲ５が連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基であり、
　ｎは２～２０の整数である。
［３］　［１］の化合物と、下記式（Ｄ）で表される化合物とを反応させることを含む、下記式（Ｅ１）又は式（Ｅ２）で表される化合物の製造方法。
　Ｒ１１－Ｘ１　　　　　　　式（Ｄ）
　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ１１　　　　　　　　　　　　　　式（Ｅ１）
　Ｒ１１－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ１１　　　　式（Ｅ２）
　ただし、式中、
　Ｇ１は、フルオロアルキル基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
　Ｇ２は、フルオロアルキレン基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
　ｎは２～２０の整数であり、
　Ｒ１１は、置換基を有していてもよくヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、
　Ｘ１は、ハロゲン原子である。
［４］　［３］に記載の製造方法により前記式（Ｅ１）又は式（Ｅ２）で表される化合物を得て、当該化合物に反応性シリル基を導入する表面処理剤の製造方法。
　本発明により、新規化合物及びその製造方法、並びに、当該新規化合物を原料とする他の化合物の製造方法及び表面処理剤の製造方法が提供される。
　本明細書において、式（Ａ１）で表される化合物を化合物（Ａ１）と記す。他の式で表される化合物等もこれらに準ずる。
　「（ポリ）オキシフルオロアルキレン」とは、オキシフルオロアルキレンとポリオキシフルオロアルキレンとの総称である。
　フルオロアルキル基とは、ペルフルオロアルキル基とパーシャルフルオロアルキル基とを合わせた総称である。ペルフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換された基を意味する。またパーシャルフルオロアルキル基とは、水素原子の１個以上がフッ素原子で置換され、かつ、水素原子を１個以上有するアルキル基である。
すなわちフルオロアルキル基は１個以上のフッ素原子を有するアルキル基である。
　「反応性シリル基」とは、加水分解性シリル基及びシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）の総称であり、「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基を形成し得る基を意味する。
　「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
　数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
［化合物（Ａ１）、化合物（Ａ２）］
　本発明に係る化合物（以下、本化合物とも記す）は、下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される化合物である。
　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　　　　　　　　　　　　　　式（Ａ１）
　Ｍ－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　　　　　式（Ａ２）
　ただし、式中、　　　
　Ｇ１は、フルオロアルキル基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
　Ｇ２は、フルオロアルキレン基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
　Ｍは、ＢＲ１Ｒ２であって、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、－ＯＨ、－Ｒ５、－ＯＲ５、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５、又は－ＮＲ５Ｒ６で表される基であり、Ｒ５は、置換基を有していてもよく炭素鎖中にヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、２つのＲ５が連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基であり、Ｍが複数ある場合、当該Ｍは、同一であっても異なっていてもよく、
　ｎは２～２０の整数である。
　本化合物は、フルオロアルキル鎖又は（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖とアルキル鎖とが、エステル結合やアミド結合等の各種結合を介さず、炭素－炭素結合、又は酸素－炭素結合により連結した構造を有し、前記アルキル鎖がホウ素系の置換基（Ｍ）を有する。
　本化合物は上述の通り、フルオロアルキル鎖又は（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖とアルキル鎖とが各種結合を介さず連結しているため、化学的安定性に優れている。また、本化合物はアルキル鎖が置換基Ｍを有している。このような構造を有する本化合物は、１段階、又は多段階の反応により、当該Ｍの位置に置換基を導入しやすく、様々な機能性を付与したフルオロアルキル鎖又は（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を得るための原料として好適な化合物である。
　Ｇ１におけるフルオロアルキル基は、直鎖フルオロアルキル基であっても、分岐又は環構造を有するフルオロアルキル基であってもよい。当該フルオロアルキル基の炭素数は、本化合物の用途に応じて適宜調整すればよい。本化合物の製造の容易性や、本化合物を原料とする他の化合物の製造における高収率化などの点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～６が特に好ましい。
　フルオロアルキル基の具体例としては、ＣＦ３－、ＣＨＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＨＦ－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２－、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦ－、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、ＣＦ３Ｃ（ＣＦ３）２－ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、フルオロシクロブチル基、フルオロシクロペンチル基、フルオロシクロヘキシル基などが挙げられる。
　Ｇ１における（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基は、式（Ａ１）中の、ＣＨ２に結合する末端に－Ｏ－を有するか、炭素数２以上の炭素鎖の炭素－炭素原子間に－Ｏ－を有するか、又はこれらの両方を含むフルオロアルキル基である。製造の容易性などの点から、Ｇ１は下式（Ｇ１－１）で表される構造が好ましい。
　Ｒｆ０Ｏ－［（Ｒｆ１Ｏ）ｍ１（Ｒｆ２Ｏ）ｍ２（Ｒｆ３Ｏ）ｍ３（Ｒｆ４Ｏ）ｍ４（Ｒｆ５Ｏ）ｍ５（Ｒｆ６Ｏ）ｍ６］－（Ｒｆ７）ｍ７－　　　式（Ｇ１－１）
　ただし、
　Ｒｆ０は、炭素数１～２０のフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ６は、炭素数６のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒｆ７は、炭素数１～６のフルオロアルキレン基であり、
　ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表し、ｍ７は０又は１の整数であり、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６＋ｍ７は０～２００の整数である。
　なお、式（Ｇ１－１）における（Ｒｆ１Ｏ）～（Ｒｆ６Ｏ）の結合順序は任意である。
　式（Ｇ１－１）のｍ１～ｍ６は、それぞれ、（Ｒｆ１Ｏ）～（Ｒｆ６Ｏ）の個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（Ｒｆ５Ｏ）ｍ５は、（Ｒｆ５Ｏ）の数がｍ５個であることを表し、（Ｒｆ５Ｏ）ｍ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（Ｒｆ１Ｏ）～（Ｒｆ６Ｏ）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。
　ｍ７が０のとき、Ｇ１のＣＨ２に結合する末端は－Ｏ－である。ｍ７が１のとき、Ｇ１のＣＨ２に結合する末端は炭素原子（Ｒｆ７の末端の炭素原子）である。
　上記炭素数３～６のフルオロアルキレン基は、直鎖フルオロアルキレン基であってもよく、分岐、または環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。
　例えば化合物（Ａ１）を表面処理剤の原料として用いる場合には、撥水撥油性や指紋除去性などの点から、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６が１～２００の整数、即ち、Ｇ１が、ポリオキシフルオロアルキレン鎖であることが好ましい。
　また、例えば化合物（Ａ１）の化学的安定性の点からは、ｍ７は１が好ましい。
　Ｒｆ１の具体例としては、－ＣＦ２－、－ＣＨＦ－が挙げられる。
　Ｒｆ２の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦ－などが挙げられる。
　Ｒｆ３の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨＦ２）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨ２－、－ＣＦ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＦ２－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＦ３）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨＦ２）－ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２Ｆ）－ＣＨ２－などが挙げられる。
　Ｒｆ４の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＦ－、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－などが挙げられる。
　Ｒｆ５の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－などが挙げられる。
　Ｒｆ６の具体例としては、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２－、－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－などが挙げられる。
　また、Ｒｆ０及びＲｆ７の具体例としては、上記Ｒｆ１～Ｒｆ６で挙げられたものと同様のものが挙げられる。
　ここで、－ｃｙｃｌｏＣ４Ｆ６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ５Ｆ８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ６Ｆ１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。
　化合物（Ａ１）を表面処理剤の原料として用いる場合には、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性により優れる点から、Ｇ１は（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基が好ましく、ポリオキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基がより好ましい。中でも、下記式（Ｆ１）～下式（Ｆ３）で表される構造を有することが好ましい。
　　（Ｒｆ１Ｏ）ｍ１－（Ｒｆ２Ｏ）ｍ２－（Ｒｆ７）ｍ１７　　　式（Ｆ１）
　　（Ｒｆ２Ｏ）ｍ２－（Ｒｆ４Ｏ）ｍ４－（Ｒｆ７）ｍ１７　　　式（Ｆ２）
　　（Ｒｆ３Ｏ）ｍ３－（Ｒｆ７）ｍ１７　　　　　　　　　　　　式（Ｆ３）
　ただし、（Ｆ１）～下式（Ｆ３）の各符号は、前記式（Ｇ１－１）と同様である。
　上式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）において、（Ｒｆ１Ｏ）と（Ｒｆ２Ｏ）、（Ｒｆ２Ｏ）と（Ｒｆ４Ｏ）の結合順序は各々任意である。例えば（Ｒｆ１Ｏ）と（Ｒｆ２Ｏ）が交互に配置されてもよく、（Ｒｆ１Ｏ）と（Ｒｆ２Ｏ）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。式（Ｆ３）においても同様である。
　式（Ｆ１）において、ｍ１は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｍ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｆ２）において、ｍ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｍ４は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｆ３）において、ｍ３は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　Ｇ２におけるフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分岐又は環構造を有していてもよい。当該フルオロアルキレン基の炭素数は、本製造方法の高収率化などの点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～６が特に好ましい。
　フルオロアルキレン基の具体例としては、上記Ｒｆ１～Ｒｆ６で挙げられたものと同様のものが挙げられる。
　Ｇ２における（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基は、式（Ａ２）において、ＣＨ２に結合する２つの末端が各々独立に－Ｏ－を有するか、炭素数２以上の炭素鎖の炭素－炭素原子間に－Ｏ－を有するか、又はこれらの組み合わせであるフルオロアルキレン基である。製造の容易性などの点から、Ｇ２は下式（Ｇ２－１）で表される構造が好ましい。
　－（Ｏ）ｍ０－［（Ｒｆ１Ｏ）ｍ１（Ｒｆ２Ｏ）ｍ２（Ｒｆ３Ｏ）ｍ３（Ｒｆ４Ｏ）ｍ４（Ｒｆ５Ｏ）ｍ５（Ｒｆ６Ｏ）ｍ６］－（Ｒｆ７）ｍ７－　　　式（Ｇ２－１）
　ただし、ｍ０は０又は１の整数であり、Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３、Ｒｆ４、Ｒｆ５、Ｒｆ６、Ｒｆ７、ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ５、ｍ６、及びｍ７は、前記Ｇ１におけるものと同様である。なお、式（Ｇ２－１）における（Ｒｆ１Ｏ）～（Ｒｆ６Ｏ）の結合順序は任意であり、前記式（Ｇ１－１）で説明したとおりである。
　ｍ７が０のとき、Ｇ２のＣＨ２に結合する片側末端は－Ｏ－である。ｍ７が１のとき、Ｇ２のＣＨ２に結合する片側末端は炭素原子（Ｒｆ７の末端の炭素原子）である。また、ｍ０が１のとき、Ｇ２のＣＨ２に結合する片側末端は－Ｏ－である。ｍ０が０のとき、Ｇ２のＣＨ２に結合する片側末端は炭素原子（Ｒｆ１～Ｒｆ７のいずれかの末端の炭素原子）である。なお、ｍ０とｍ７は各々独立に０又は１である。
　例えば、化合物（Ａ２）を表面処理剤の原料として用いる場合には、撥水撥油性や指紋除去性などの点から、ｍ０＋ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５＋ｍ６が２～２００の整数、即ち、Ｇ２が、ポリオキシフルオロアルキレン鎖であることが好ましい。
　また、例えば化合物（Ａ２）の化学的安定性の点からは、ｍ０が０であるか、又はｍ７が１であることが好ましく、ｍ０が０であり、且つｍ７が１であることがより好ましい。
　得られる化合物（Ａ２）を表面処理剤又はその原料として用いる場合には、Ｇ２は、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性により優れる点から、中でも、下記式（Ｆ４）～下式（Ｆ６）で表される構造を有することが好ましい。
　－（Ｏ）ｍ０－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ１－（Ｒｆ２Ｏ）ｍ２－（Ｒｆ７）ｍ７　　式（Ｆ４）　－（Ｏ）ｍ０－（Ｒｆ２Ｏ）ｍ２－（Ｒｆ４Ｏ）ｍ４－（Ｒｆ７）ｍ７　　式（Ｆ５）　－（Ｏ）ｍ０－（Ｒｆ３Ｏ）ｍ３－（Ｒｆ７）ｍ７　　　　　　　　　　式（Ｆ６）
　ただし、（Ｆ４）～下式（Ｆ６）の各符号は、前記式（Ｇ２－１）と同様である。
　上式（Ｆ４）及び式（Ｆ５）において、（Ｒｆ１Ｏ）と（Ｒｆ２Ｏ）、（Ｒｆ２Ｏ）と（Ｒｆ４Ｏ）の結合順序は各々任意である。例えば（Ｒｆ１Ｏ）と（Ｒｆ２Ｏ）が交互に配置されてもよく、（Ｒｆ１Ｏ）と（Ｒｆ２Ｏ）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。
　式（Ｆ４）において、ｍ１は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｍ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｆ５）において、ｍ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｍ４は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｆ６）において、ｍ３は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　Ｇ１及びＧ２におけるフルオロアルキル鎖、又は（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖中のフッ素原子の割合［｛フッ素原子数／（フッ素原子数＋水素原子数）｝×１００（％）］は、撥水撥油性及び指紋除去性に優れる点から、４０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上が更に好ましい。
　また、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖部分の分子量は、耐摩耗性の点から、２００～３０，０００が好ましく、６００～２５，０００がより好ましく、８００～２０，０００が更に好ましく、１，０００～８，０００が特に好ましい。
　Ｍはホウ素系の置換基ＢＲ１Ｒ２を表し、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、－ＯＨ、－Ｒ５、－ＯＲ５、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５、又は－ＮＲ５Ｒ６で表される基であり、Ｒ５は、置換基を有していてもよく炭素鎖中にヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、２つのＲ５が連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基である。
　Ｒ５における炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基（直鎖アルキル基、分岐を有するアルキル基、シクロアルキル基等などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基は炭素鎖中に二重結合又は三重結合を有していてもよい。炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、オキソ基などが挙げられ、本製造方法における化合物の安定性の点から、ハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
　ヘテロ原子は、単独で、又はオキソ基などの他の置換基との組み合わせで、炭素鎖中に含まれていてもよい。ヘテロ原子を含む部分構造の具体例としては、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ２５－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－、－ＮＲ２５－、－Ｓ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ２５－、－ＳＯ２ＮＲ２５－、－Ｓｉ（Ｒ２５）２－、－ＯＳｉ（Ｒ２５）２－、などが挙げられる。ただし、Ｒ２５は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
　２つのＲ５が連結して環構造を形成した構造としては、例えば、＊－Ｒ５－＊、＊－Ｏ－Ｒ５－＊、＊－Ｏ－Ｒ５－Ｏ－＊、＊－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－＊、＊－ＮＲ６－Ｒ５－ＮＲ６－＊などが挙げられる。ここで＊はＢと結合する連結基であり、Ｂを含む環構造が形成されている。
　ＢＲ１Ｒ２の具体例としては、以下のものなどが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）の具体例としては、以下のものなどが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　ただし、Ｍは前述の通りであり、ｎ１１～ｎ２４は繰り返し単位数を表し、各々独立に１～２００の整数であり、ｎ３１は１～１８の整数であり、ｎ３２～ｎ３８は各々独立に０～１８の整数である。
［化合物（Ａ１）又は化合物（Ａ２）の製造方法］
　上記本化合物の製造方法は、特に限定されるものではないが、原料の入手が比較的容易で、収率に優れる点から、下記の製造方法が好ましい。
　即ち、本発明に係る化合物（Ａ１）又は化合物（Ａ２）の製造方法は、下記式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）で表される化合物と、下記式（Ｃ１）で表される化合物とを反応させることを特徴とする。
　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－２－ＣＨ＝ＣＨ２　　　　　　　　　　　式（Ｂ１）
　ＣＨ２＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｎ－２－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－２－ＣＨ＝ＣＨ２　　　式（Ｂ２）
　ＨＢＲ１Ｒ２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　式（Ｃ１）
　ただし、式中、
　Ｇ１、Ｇ２、Ｒ１、Ｒ２及びｎは前記式（Ａ１）又は式（Ａ２）におけるものと同様であり好ましい態様も同様である。
　例えば、溶媒中に上記化合物（Ｂ１）又は化合物（Ｂ２）と、化合物（Ｃ１）と、必要に応じてアゾ系重合開始剤等のラジカル重合開始剤を添加し、加熱することで、化合物化合物（Ｂ１）又は化合物（Ｂ２）が有するオレフィンに化合物（Ｃ１）を付加することで、前記化合物（Ａ１）又は化合物（Ａ２）を得ることができる。反応温度は特に限定されないが、例えば４０～１２０℃などとすることができる。また、反応時間は、化合物の量などに応じて適宜調整するものであるが、一例として、１～４０時間などとすることができる。
　化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）の具体例としては、以下のものなどが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　ただし、ｎ１１～ｎ２４は繰り返し単位数を表し、各々独立に１～２００の整数であり、ｎ３１は１～１８の整数であり、ｎ３２～ｎ３８は各々独立に０～１８の整数である。
　上記化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）は、例えば、下記式（Ｈ１）又は（Ｈ２）で表される化合物の脱離反応により得ることができる。
　Ｇ１－Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　式（Ｈ１）
　Ｘ－Ｇ２－Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　式（Ｈ２）
　ただし、式中のＧ１及びＧ２は前述のとおりであり、Ｘはハロゲン原子である。
［化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）の製造方法］
　本発明に係る下記式（Ｅ１）又は式（Ｅ２）で表される化合物の製造方法は、前記化合物（Ａ１）又は化合物（Ａ２）と、下記式（Ｄ）で表される化合物とを反応させることを特徴とする。
　Ｒ１１－Ｘ１　　　　　　　式（Ｄ）
　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ１１　　　　　　　　　　　　　　式（Ｅ１）
　Ｒ１１－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ１１　　　　式（Ｅ２）
　ただし、式中、Ｇ１Ｇ２、ｎは前述のとおりであり、好ましい態様も同様であり、
　Ｒ１１は、置換基を有していてもよくヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、
　Ｘ１は、ハロゲン原子である。
　Ｒ１１における炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基（直鎖アルキル基、分岐を有するアルキル基、シクロアルキル基等）、芳香族炭化水素基（フェニル基等）及びこれらの組み合わせからなる基などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基は炭素鎖中に二重結合又は三重結合を有していてもよい。組み合わせとしては、例えばアルキレン基とアリール基が直接、又はヘテロ原子を介して連結した基などが挙げられる。
　炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、オキソ基などが挙げられ、本製造方法における化合物の安定性の点から、ハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
　ヘテロ原子は、単独で、又はオキソ基などの他の置換基との組み合わせで、炭素鎖中に含まれていてもよい。ヘテロ原子を含む部分構造の具体例としては、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ２６－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－、－ＮＲ２６－、－Ｓ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ２６－、－ＳＯ２ＮＲ２６－、－Ｓｉ（Ｒ２６）２－、－ＯＳｉ（Ｒ２６）２－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｐｈ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、２価のオルガノポリシロキサン残基などが挙げられる。ただし、Ｒ２６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基であり、Ｐｈは、フェニレン基である。本化合物の製造容易性の点から、Ｒ２６のアルキル基の炭素数は、１～３が好ましく、１～２が特に好ましい。
　化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）に更に他の置換基を導入する場合には、Ｒ１１における炭化水素基は炭素－炭素二重結合を有することが好ましい。化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）が二重結合を有することで、付加反応により他の置換基を容易に導入することができる。
　Ｘ１におけるハロゲン原子としては、反応性の点から、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、塩素原子又は臭素原子がより好ましく、臭素原子が更に好ましい。
　化合物（Ｄ）の好適な具体例としては、以下のものなどが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　上記前記化合物（Ａ１）又は化合物（Ａ２）と、下記式（Ｄ）で表される化合物とは、例えば、溶媒中、触媒及び塩基存在下で加熱することで反応させることができる。
　触媒としては、公知の金属触媒が挙げられ、中でも遷移金属化合物が好ましく、中でも、８族～１１族元素を含む化合物がより好ましく、銅、ニッケル、パラジウム及びコバルトより選択される１種以上の元素を含む化合物が好ましい。
　銅を含む金属触媒において、当該銅は０価、１価、２価、３価のいずれであってもよいが、触媒能の点から中でも１価又は２価の銅の塩又は錯塩が好ましい。更に入手の容易性などの点から、塩化銅がより好ましい。塩化銅は、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ２のいずれも好適に用いることができる。なお、塩化銅は無水物であっても水和物であってもよいが、触媒能の点から、塩化銅無水物がより好ましい。
　ニッケルを含む金属触媒において、当該ニッケルは０価、１価、２価、３価のいずれであってもよいが、触媒能の点から中でも０価又は２価のニッケルの塩又は錯塩が好ましい。更に入手の容易性などの点から、塩化ニッケル（ＮｉＣｌ２）または臭化ニッケル（ＮｉＢｒ２）がより好ましい。なお、塩化ニッケルは無水物であっても水和物であってもよいが、触媒能の点から、塩化ニッケル無水物がより好ましい。また、前記臭化ニッケルが錯形成していてもよく、例えば、臭化ニッケル（ＩＩ）２－メトキシエチルエーテル錯体、臭化ニッケル（ＩＩ）エチレングリコールジメチルエーテル錯体などが挙げられる。
　パラジウムを含む金属触媒において、当該パラジウムは０価、１価、２価、３価のいずれの化合物であってもよいが、触媒能の点から中でも０価又は２価のパラジウムの塩又は錯塩が好ましい。更に入手の容易性などの点から、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（Ｐｄ２（ｄｂａ）３）及び酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＡｃ）２）がより好ましい。なお、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム及び酢酸パラジウムは無水物であっても水和物であってもよいが、触媒能の点から、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム無水物及び酢酸パラジウム無水物がより好ましい。
　本製造方法の反応においては、必要に応じて金属触媒に配位子（リガンド）を組み合わせて用いてもよい上記配位子としては、例えば、１，３－ブタジエン、トリシクロヘキシルホスフィン、１，１－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンフェニルプロピン、テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）などが挙げられる。
　塩基としては、求核性の低い強塩基が好ましく、例えば、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウム－２，２，６，６－テトラメチルピペリジドなどが挙げられる。
　また、溶媒は、本反応に不活性な溶媒の中から適宜選択すればよい。例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル系溶媒などが挙げられる。また、化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）が比較的フッ素原子含有量の高い化合物の場合には、フッ素系溶媒を単独で又は上記溶媒と組み合わせることが好ましい。
　フッ素系溶媒としては、例えば、ハイドロフルオロカーボン類（１Ｈ，４Ｈ－ペルフルオロブタン、１Ｈ－ペルフルオロヘキサン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、２Ｈ，３Ｈ－ペルフルオロペンタン等）、ハイドロクロロフルオロカーボン類（３，３－ジクロロ－１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロパン、１，３－ジクロロ－１，１，２，２，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ）等）、ハイドロフルオロエーテル類（ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ－３０００）、（ペルフルオロブトキシ）メタン、（ペルフルオロブトキシ）エタン等）、ハイドロクロロフルオロオレフィン類（（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３，４，４，５，５－ヘプタフルオロ－１－ペンテン（ＨＣＦＯ－１４３７ｄｙｃｃ（Ｚ）体）、（Ｅ）－１－クロロ－２，３，３，４，４，５，５－ヘプタフルオロ－１－ペンテン（ＨＣＦＯ－１４３７ｄｙｃｃ（Ｅ）体）、（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）体）、（Ｅ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）体）等）、含フッ素芳香族化合物類（ペルフルオロベンゼン、ｍ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（ＳＲ－ソルベント）、ｐ－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等）等が挙げられる。
［表面処理剤の製造方法］
　本発明に係る表面処理剤の製造方法は、前述の製造方法により得られた化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）に反応性シリル基を導入することを特徴とする。（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖と加水分解性シリル基とを有する化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。
　化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）に反応性シリル基を導入する方法は、化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）が有する置換基に応じて適宜選択すればよい。一例として、化合物（Ｅ１）又は化合物（Ｅ２）が二重結合を有する場合には、当該二重結合と、下記化合物（Ｊ１）又は（Ｊ２）とヒドロシリル化反応することで導入できる。
　ＨＳｉ（Ｒ４０）３－ｃ（Ｌ）ｃ　　　　式（Ｊ１）
　ＨＳｉ（Ｒ４１）３－ｋ［－（ＯＳｉ（Ｒ４２）２）ｐ－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ４０）３－ｃ（Ｌ）ｃ］ｋ　式（Ｊ２）
　ただし、式中、
　Ｒ４０はアルキル基であり、Ｒ４０が複数ある場合、当該Ｒ４０は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｌは、加水分解性基又は水酸基であり、複数あるＬは同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ４１は、アルキル基であり、Ｒ４１が複数ある場合、当該Ｒ４１は同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ４２は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ４２は同一であっても異なっていてもよく、
　ｃは、２又は３であり、
　ｋは、２又は３であり、
　ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ４２）２）は同一であっても異なっていてもよい。
　なお、化合物（Ｊ１）は合成してもよく、市販品を用いてもよい。また、化合物（Ｊ２）は、例えば、特願２０１８－０８５４９３号の明細書に記載の方法によって製造できる。
　反応性シリル基は、加水分解性基及び水酸基のいずれか一方又は両方がケイ素原子に結合した基である。加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、加水分解性シリル基は、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）となる。
シラノール基は、さらに分子間で脱水縮合反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。
　加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～６のアルコキシ基が好ましい。
ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
　加水分解性基としては、製造の容易性の点から、アルコキシ基又はハロゲン原子が好ましい。加水分解性基としては、塗布時のアウトガスが少なく、本化合物の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、本化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、基材への表面処理剤のコーティング後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
　上記製造方法によれば、例えば、下記式で表される表面処理剤などが得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　ただし、ｎ１１～ｎ２２は繰り返し単位数を表し、各々独立に１～２００の整数であり、ｎ３１～ｎ３７は各々独立に０～１８の整数である。
　上記表面処理剤を適用する基材としては、撥水撥油性の付与が求められている基材が挙げられる。例えば、他の物品（例えばスタイラス）や人の手指を接触させて使用することがある基材、操作時に人の手指で持つことがある基材、他の物品（例えば載置台）の上に置くことがある基材が挙げられる。
　基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。
　また、基材としては、携帯電話（例えばスマートフォン）、携帯情報端末（例えばタブレット端末）、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス又は樹脂フィルムも好ましい。
　このような含フッ素化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）及び拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、例えば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として好適に用いられる。
　以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、例１－２、例１－３、例２－４、例２－５及び例２－６が製造方法の実施例である。
［例１］
＜例１－１＞
　３００ｍＬのナスフラスコにアリルトリブチルスズ４４ｇ、ドデカン８４ｇ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム７．８ｇを加え、室温で撹拌混合した後、化合物１－１の５１ｇをゆっくり加え、４０℃で２０時間撹拌した。得られた粗液を濾過した後、蒸留によって精製し、化合物１－２の３３ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
＜例１－２＞
　２００ｍＬのナスフラスコに化合物１－２の１５ｇ、９－ヒドロ－９－ボラビシクロ［２，２，０］ノナンの０．５Ｍ　ＴＨＦ溶液１００ｇを加え、６０℃で１５時間撹拌した。得られた粗液を蒸留によって精製し、化合物１－３の１４ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
＜例１－３＞
　５０ｍＬのナスフラスコに化合物１－３の１．５ｇ、（２－ブロモエチル）ベンゼン１．２ｇ、テトラヒドロフラン１０ｇ、臭化ニッケル（ＩＩ）２－メトキシエチルエーテル錯体０．６ｇ、ｔｒａｎｓ－Ｎ，Ｎ′－ジメチルシクロヘキサン－１，２－ジアミン０．３３ｇ、ｔ－ブトキシカリウム０．５５ｇ、イソブチルアルコール０．７３ｇを加え、６０℃で２４時間撹拌した。その後塩酸を加え、酢酸エチルで抽出、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し化合物１－４の０．９ｇを得た。下記式のＲはＣＨ２ＣＨ２ＰｈｅでありＰｈｅはフェニル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
［例２］
＜例２－１＞
　国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例の例１１－１～１１－３に記載の方法にしたがって下記化合物２－１を得た。
　ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３　式２－１
　単位数ｎの平均値：１３
＜例２－２＞
　アルミホイルで遮光した５００ｍＬのナスフラスコに、ピリチオンナトリウムの５．８ｇ、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（商品名ＳＲ－ソルベント）の１００ｍＬを入れ、氷冷下で撹拌した。次いで、化合物２－１の５０．０ｇをゆっくり入れ、氷冷のまま２時間撹拌した。次いで、ヨウ素の１２．０ｇ、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）（商品名Ｖ－５９）の１．８ｇを入れ、遮光していたアルミホイルを取り除き、８５℃で一晩撹拌した。温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、下記化合物２－２の３９．８ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　単位数ｎの平均値：１３
＜例２－３＞
　３００ｍＬのナスフラスコに化合物２－２の４７ｇ、アリルトリブチルスズ２０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６０ｇ、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）０．３２ｇを加え、９０℃で２４時間撹拌した。得られた粗液を濃縮した後、ヘキサンで洗浄した後、シリカゲルクロマトグラフィーによって精製し、化合物２－３の４２ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
＜例２－４＞
　１００ｍＬのナスフラスコに化合物２－３の１０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの６０ｇ、９－ヒドロ－９－ボラビシクロ［２，２，０］ノナンの０．５ＭＴＨＦ溶液８．３ｇを加え、６０℃で２４時間撹拌した。得られた粗液を濃縮し、化合物２－４の１１ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
＜例２－５＞
　１００ｍＬのナスフラスコに化合物２－４の１１ｇ、６－ブロモ－１－ヘキセン０．６１ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン４０ｇ、テトラヒドロフラン２０ｇ、臭化ニッケル（ＩＩ）２－メトキシエチルエーテル錯体０．５ｇ、ｔｒａｎｓ－Ｎ，Ｎ’－ジメチルシクロヘキサン－１，２－ジアミン０．２８ｇ、ｔ－ブトキシカリウム０．５１ｇ、イソブチルアルコール０．６９ｇを加え、６０℃で２４時間撹拌した。その後塩酸を加え、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンで抽出、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し化合物２－５の５．１ｇを得た。下記式のＲはＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
＜例２－６＞
　１００ｍＬのナスフラスコに化合物２－３の１０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの６０ｇ、４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロランの０．２６ｇを加え、６０℃で３０時間撹拌した。得られた粗液を濃縮した後、カラムクロマトグラフィーによって精製し化合物２－６の７ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　本製造方法によれば、フルオロアルキレン鎖又は（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する化合物に、入手容易な化合物を用いて、比較的温和な反応条件で任意の置換基を導入することができる。本製造法により得られる化合物は、例えば、基材表面に撥水撥油性、指紋拭き取り除去性などを備える表面層を形成可能な表面処理剤又はその原料として好適に用いることができる。
　この出願は、２０２１年３月５日に出願された日本出願特願２０２１－０３５０９６を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims (4)

  1. 　下記式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される化合物。
    　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　　　　　　　　　　　　　　式（Ａ１）
    　Ｍ－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｍ　　　　　式（Ａ２）
    　ただし、式中、
    　Ｇ１は、フルオロアルキル基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
    　Ｇ２は、フルオロアルキレン基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
    　Ｍは、ＢＲ１Ｒ２であって、Ｒ１及びＲ２は各々独立に、－ＯＨ、－Ｒ５、－ＯＲ５、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５、又は－ＮＲ５Ｒ６で表される基であり、Ｒ５は、置換基を有していてもよく炭素鎖中にヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、２つのＲ５が連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基であり、Ｍが複数ある場合、当該Ｍは、同一であっても異なっていてもよく、
    　ｎは２～２０の整数である。
  2. 　下記式（Ｂ１）又は式（Ｂ２）で表される化合物と、下記式（Ｃ１）で表される化合物とを反応させることを含む、請求項１に記載の化合物の製造方法。
    　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－２－ＣＨ＝ＣＨ２　　　　　　　式（Ｂ１）
    　ＣＨ２＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｎ－２－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－２－ＣＨ＝ＣＨ２　　式（Ｂ２）
    　ＨＢＲ１Ｒ２　　　　　　　　　　　　　　　　　式（Ｃ１）
    　ただし、式中、
    　Ｇ１は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
    　Ｇ２は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
    　Ｒ１及びＲ２は各々独立に、－ＯＨ、－Ｒ５、－ＯＲ５、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｒ５、又は－ＮＲ５Ｒ６で表される基であり、Ｒ５は、置換基を有していてもよく炭素鎖中にヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、２つのＲ５が連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ６は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基であり、
    　ｎは２～２０の整数である。
  3. 　請求項１に記載の化合物と、下記式（Ｄ）で表される化合物とを反応させることを含む、下記式（Ｅ１）又は式（Ｅ２）で表される化合物の製造方法。
    　Ｒ１１－Ｘ１　　　　　　　式（Ｄ）
    　Ｇ１－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ１１　　　　　　　　　　　　　　式（Ｅ１）
    　Ｒ１１－（ＣＨ２）ｎ－Ｇ２－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ１１　　　　式（Ｅ２）
    　ただし、式中、
    　Ｇ１は、フルオロアルキル基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する１価の基であり、
    　Ｇ２は、フルオロアルキレン基、又は、（ポリ）オキシフルオロアルキレン鎖を有する２価の基であり、
    　ｎは２～２０の整数であり、
    　Ｒ１１は、置換基を有していてもよくヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり、
    　Ｘ１は、ハロゲン原子である。
  4. 　請求項３に記載の製造方法により前記式（Ｅ１）又は式（Ｅ２）で表される化合物を得て、当該化合物に反応性シリル基を導入する表面処理剤の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023074874A1 (ja) 2021-10-29 2023-05-04 Ａｇｃ株式会社 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017095363A (ja) * 2015-11-18 2017-06-01 国立大学法人北海道大学 新規トリフルオロメチル化剤及びそれを用いたトリフルオロメチル基含有化合物の製造方法
WO2019208503A1 (ja) * 2018-04-26 2019-10-31 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、それを含む組成物、コーティング液及び物品

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6782592B2 (ja) 2016-09-13 2020-11-11 国立大学法人お茶の水女子大学 含フッ素化合物の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017095363A (ja) * 2015-11-18 2017-06-01 国立大学法人北海道大学 新規トリフルオロメチル化剤及びそれを用いたトリフルオロメチル基含有化合物の製造方法
WO2019208503A1 (ja) * 2018-04-26 2019-10-31 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、それを含む組成物、コーティング液及び物品

Non-Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BISMUTO ALESSANDRO, COWLEY MICHAEL J., THOMAS STEPHEN P.: "Aluminum-Catalyzed Hydroboration of Alkenes", ACS CATALYSIS, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 8, no. 3, 2 March 2018 (2018-03-02), US , pages 2001 - 2005, XP055964426, ISSN: 2155-5435, DOI: 10.1021/acscatal.7b04279 *
BRAUN THOMAS, AHIJADO SALOMON MARCEL, ALTENHÖNER KAI, TELTEWSKOI MICHAEL, HINZE SILKE: "CF Activation at Rhodium Boryl Complexes: Formation of 2-Fluoroalkyl-1,3,2-Dioxaborolanes by Catalytic Functionalization of Hexafluoropropene", ANGEWANDTE CHEMIE INTERNATIONAL EDITION, VERLAG CHEMIE, vol. 48, no. 10, 23 February 2009 (2009-02-23), pages 1818 - 1822, XP055964191, ISSN: 1433-7851, DOI: 10.1002/anie.200805041 *
GUOHUA HUI; HONGYANG LU; ZHIMING JIANG; DANHUA ZHU; HAIFANG WAN: "Study of small-cell lung cancer cell-based sensor and its applications in chemotherapy effects rapid evaluation for anticancer drugs", BIOSENSORS AND BIOELECTRONICS, ELSEVIER SCIENCE LTD, UK, AMSTERDAM , NL, vol. 97, 31 May 2017 (2017-05-31), Amsterdam , NL , pages 184 - 195, XP085112896, ISSN: 0956-5663, DOI: 10.1016/j.bios.2017.05.050 *
IVANA GAZIĆ SMILOVIĆ; EVA CASAS‐ARCÉ; STEPHEN J. ROSEBLADE; ULRIKE NETTEKOVEN; ANTONIO ZANOTTI‐GEROSA; MIROSLAV KOVAČEVIČ; ZDENKO : "Iridium‐Catalyzed Chemoselective and Enantioselective Hydrogenation of (1‐Chloro‐1‐Alkenyl) Boronic Esters", ANGEWANDTE CHEMIE, WILEY - V C H VERLAG GMBH & CO. KGAA, DE, vol. 124, no. 4, 16 December 2011 (2011-12-16), DE , pages 1038 - 1042, XP071352920, ISSN: 0044-8249, DOI: 10.1002/ange.201106262 *
JALADI ASHOK KUMAR, SHIN WON KYU, AN DUK KEUN: "Alkene hydroboration with pinacolborane catalysed by lithium diisobutyl- tert -butoxyaluminum hydride", RSC ADVANCES, vol. 9, no. 45, 23 August 2019 (2019-08-23), pages 26483 - 26486, XP055964250, DOI: 10.1039/C9RA04699B *
LEI ZHANG, ZIQING ZUO, XUEBING LENG, ZHENG HUANG: "A Cobalt-Catalyzed Alkene Hydroboration with Pinacolborane", ANGEWANDTE CHEMIE INTERNATIONAL EDITION, VERLAG CHEMIE, vol. 53, no. 10, 3 March 2014 (2014-03-03), pages 2696 - 2700, XP055440768, ISSN: 1433-7851, DOI: 10.1002/anie.201310096 *
MATTESON DONALD S: " Boronic Esters in Stereodirected Synthesis", TETRAHEDRON, ELSEVIER SIENCE PUBLISHERS, AMSTERDAM, NL, vol. 45, no. 7, 1 January 1885 (1885-01-01), AMSTERDAM, NL , pages 1859 - 1885, XP055964431, ISSN: 0040-4020 *
PEREIRA, S. SREBNIK, M.: "A Study of Hydroboration of Alkenes and Alkynes with Pinacolborane Catalyzed by Transition Metals", TETRAHEDRON LETTERS, ELSEVIER, AMSTERDAM , NL, vol. 37, no. 19, 6 May 1996 (1996-05-06), Amsterdam , NL , pages 3283 - 3286, XP004029379, ISSN: 0040-4039, DOI: 10.1016/0040-4039(96)00576-X *
WANG ZI-CHAO, SHEN DI, GAO JIAN, JIA XIAN, XU YOUJUN, SHI SHI-LIANG: "Base-Catalysed Reductive Relay Hydroboration of Allylic Alcohols with Pinacolborane to Form Alkylboronic Esters", CHEMICAL COMMUNICATIONS., vol. 50, no. 66, 30 May 2019 (2019-05-30), pages 8848 - 8851, XP055964429, DOI: 10.1039/c9cc03459e *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023074874A1 (ja) 2021-10-29 2023-05-04 Ａｇｃ株式会社 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品及び物品の製造方法

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