WO2021130927A1 - 脱臭触媒、脱臭触媒形成用スラリー、脱臭触媒構造体、脱臭触媒構造体の製造方法、及び脱臭方法 - Google Patents

脱臭触媒、脱臭触媒形成用スラリー、脱臭触媒構造体、脱臭触媒構造体の製造方法、及び脱臭方法 Download PDF

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Definitions

  • the copper-manganese-based composite oxide may have any suitable shape and may be granular. When it is granular, its average particle size can be 0.1 to 50 ⁇ m and may be 5 to 20 ⁇ m.
  • the average particle size (integrated volume percentage D50) can be measured by a laser diffraction / scattering method.
  • Activated carbon can be obtained, for example, by activating the following activated carbon precursors with steam.
  • Activated coal precursors polyacrylonitrile, pitch, cellulose, etc .; Oga scraps, wood chips, wood, peat, charcoal, coconut shells, coal, carbonaceous substances (petroleum coke, coal coke, petroleum pitch, coal pitch, coal tar pitch), etc. ; Synthetic resin, cellulose-based fibers, composites of these, etc.

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Abstract

本発明は、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭を含む脱臭触媒に関する。

Description

脱臭触媒、脱臭触媒形成用スラリー、脱臭触媒構造体、脱臭触媒構造体の製造方法、及び脱臭方法
 本発明は、脱臭触媒、脱臭触媒形成用スラリー、脱臭触媒構造体、脱臭触媒の製造方法、及び脱臭方法に関する。
 メチルメルカプタン、エチルメルカプタン等の不快な硫黄系悪臭ガスを吸着するための触媒として、活性二酸化マンガン及びハイシリカゼオライトを有効成分とする触媒が知られている(例えば、特許文献1)。
特開平10-137591号公報
 ところで、住宅その他の建造物における悪臭ガスとしては、上記のような硫黄化合物以外に、トリメチルアミン等のアミン系化合物が挙げられる。しかしながら、例えば上記特許文献1の触媒をはじめ、従来の触媒では両化合物を共に良好に除去することは難しいのが現状である。
 本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、硫黄化合物及びアミン系化合物の除去性に優れる脱臭触媒を提供することを目的とする。本発明はまた、脱臭触媒形成用スラリー、脱臭触媒構造体、脱臭触媒の製造方法、及び脱臭方法を提供することを目的とする。
 本発明は、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭を含む脱臭触媒を提供する。発明者は、これら3成分を混合することにより、硫黄化合物及びアミン系化合物の脱臭性能を両立できる脱臭触媒となることを見出した。
 例えば、硫黄化合物及びアミン系化合物としては、それぞれメチルメルカプタン及びトリメチルアミンが挙げられる。そもそもゼオライトは、トリメチルアミンに対する除去性能には優れるものの、メチルメルカプタンに対する除去性能は充分ではない。また、銅-マンガン系複合酸化物は、メチルメルカプタンに対する除去性能には優れるものの、トリメチルアミンに対する除去性能は充分ではない。上記を考慮すると、銅-マンガン系複合酸化物とゼオライトとの混合物であれば、トリメチルアミン及びメチルメルカプタンの除去性能を両立させることができると予想されるものの、実際にはトリメチルアミン及びメチルメルカプタンの除去性能を実用上充分なレベルにて両立することは難しいことが分かった。しかしながら、この混合物に対し活性炭を加えることで、意外にもトリメチルアミン及びメチルメルカプタンの除去性能が実用上十分なレベルにて両立することができた。一般に活性炭は、トリメチルアミンの除去性能に対しては銅-マンガン系複合酸化物より優れているものの、ゼオライトよりは劣る。したがって、触媒中の活性炭の割合が増えれば、トリメチルアミンの除去性能は低下すると予想されるが、銅-マンガン系複合酸化物が共存している場合には、むしろ除去性能が若干向上することが分かった。また、活性炭のメチルメルカプタンの除去性能はゼオライトとほぼ同等であり充分とは言えない。したがって、活性炭を添加したとしてもメチルメルカプタンの除去性能の向上は期待できないはずであるが、実際には向上することが分かった。このように、発明者は、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭の3成分の組合せにおいて、当業者が予想できない効果が発現されることを確認した。
 本発明は、脱臭触媒の全量を基準として、銅-マンガン系複合酸化物を10~50質量%、ゼオライトを10~75質量%、及び活性炭を10~75質量%含んでいてよい。
 本発明において、ゼオライトのシリカ/アルミナモル比が100以下であってよい。
 本発明において、ゼオライトのカチオン種が水素イオンであってよい。
 本発明において、活性炭の比表面積が500m/g以上であってよい。
 本発明は、硫黄化合物及びアミン系化合物を含む臭気用であってよい。
 本発明は、また、基材と、基材上に上記脱臭触媒を含む触媒層と、を備える脱臭触媒構造体を提供する。
 本発明は、また、上記脱臭触媒又は上記脱臭触媒構造体を、硫黄化合物及びアミン系化合物を含む臭気と接触させる工程を備える、脱臭方法を提供する。
 本発明は、また、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト、活性炭及び液状成分を含む脱臭触媒形成用スラリーを提供する。
 本発明は、また、上記スラリーを用いて基材上に触媒層を形成する工程を備える、脱臭触媒構造体の製造方法を提供する。
 本発明によれば、硫黄化合物及びアミン系化合物の除去性に優れる脱臭触媒を提供することができる。また、本発明によれば、脱臭触媒形成用スラリー、脱臭触媒構造体、脱臭触媒の製造方法、及び脱臭方法を提供することができる。なお、上記「硫黄化合物及びアミン系化合物の除去性に優れる」とは、双方の除去性を表す数値が共に高いことを必ずしも意味するものではなく、例えば、いずれか一方の除去性を良好に保ちながら、もう一方の除去性に優れるということを包含する。
 以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
<脱臭触媒>
 脱臭触媒は、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭を含む。このような脱臭触媒は、硫黄化合物及びアミン系化合物を極めてバランスよく除去することができる。硫黄化合物としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、硫化水素等が挙げられる。アミン系化合物としては、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等が挙げられる。このような脱臭触媒は、硫黄化合物及びアミン系化合物を含む臭気用であるということができる。これらのうち、上記脱臭触媒は特にメチルメルカプタン及びトリメチルアミンを含む臭気に好適であり、メチルメルカプタン及びトリメチルアミンを含む臭気用であるということができる。
(銅-マンガン系複合酸化物)
 銅-マンガン系複合酸化物は、銅及びマンガンを含む酸化物から構成される高次酸化物である。銅-マンガン系複合酸化物は、マンガン原料と銅原料を使用した共沈殿法等により調製され、酸化マンガンや酸化銅とは異なるX線回折パターンを示すことから、酸化マンガンと酸化銅との単なる混合物とは異なると考えられる。銅-マンガン系複合酸化物は、銅及びマンガンを、例えば酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(MnO)換算で、それぞれ10~70質量%及び30~90質量%含む。銅-マンガン系複合酸化物はホプカライト構造を有していてよい。なお、各成分の含有量は、蛍光X線(XRF)分析や高周波誘導結合プラズマ(ICP)発光分光分析により求めることができる。
 銅-マンガン系複合酸化物を構成する金属元素は、マンガン及び銅のみとすることができるが、必要に応じカリウム、ナトリウム、カルシウム、コバルト、銀等の他の金属元素を含んでいてもよい。
 銅-マンガン系複合酸化物は任意の適切な形状を有していてよく、粒状であってよい。粒状である場合、その平均粒子径は0.1~50μmとすることができ、5~20μmであってよい。なお、当該平均粒子径(積算体積百分率D50)は、レーザー回折/散乱式法で測定することができる。
 銅-マンガン系複合酸化物の含有量は、最適な脱臭性能を発揮させるために、脱臭触媒の全量を基準として10~50質量%とすることができ、12~40質量%であってよく、14~30質量%であってよい。
(ゼオライト)
 ゼオライトの結晶型としては特に限定されないが、例えばX型、Y型、モルデナイト型、ZSM-5型、これら型の組み合わせ等が挙げられる。ある程度細孔サイズが大きいゼオライトを用いることで、吸着及び再生のサイクルを繰り返した際に高い脱着率が期待できる。これらのうち、コストの観点からはY型が好ましい。また、ゼオライトのカチオン種は水素イオンであってよい。例えば、カチオン種としてはナトリウムイオンも考えられるが、水素イオンがより優れる。このことから、ブレンステッド酸点がアミン系化合物除去に寄与していると推察される。
 ゼオライトに含まれるSi元素とAl元素との比であるシリカ/アルミナモル比が小さい方が、アミン系化合物の除去性能に優れる。このことから、ゼオライトの酸強度よりも酸量が重要であると推察される。シリカ/アルミナモル比は、100以下とすることができ、30以下であってよい。シリカ/アルミナモル比の下限は特に限定されないが、例えば3とすることができる。なお、シリカ/アルミナモル比が小さいゼオライトは、親水性ゼオライトということができる。臭気に含まれるトリメチルアミン等のアミン系化合物は水に可溶であるため、親水性ゼオライトが空気中の水蒸気を含むことにより、そのようなアミン系化合物を吸着し易い。
 ゼオライトは任意の適切な形状を有していてよく、粒状であってよい。粒状である場合、その平均粒子径は0.1~50μmとすることができ、1~10μmであってよい。
 ゼオライトの含有量は、最適な脱臭性能を発揮させるために、脱臭触媒の全量を基準として10~75質量%とすることができ、15~60質量%であってよい。脱臭性能の観点から、後述の活性炭の含有量に対するゼオライトの含有量の比(ゼオライト/活性炭)は、0.1~5.0であってよく、0.3~3.0であってよい。
(活性炭)
 活性炭は、例えば以下の活性炭前駆体を水蒸気を用いて賦活することにより得ることができる。
 活性炭前駆体:ポリアクリロニトリル、ピッチ、セルロース等;オガ屑、木材チップ、木材、ピート、木炭、ヤシ殻、石炭、炭素質物質(石油コークス、石炭コークス、石油ピッチ、石炭ピッチ、コールタールピッチ)等;合成樹脂、セルロース系繊維、これらの複合物など。
 これらの中でも、細孔径が小さく脱臭性能に優れる点と、比重が比較的大きく加工性が良い点から、活性炭前駆体はヤシ殻であってよい。
 活性炭及び活性炭前駆体の形態は、粒状、繊維状等が挙げられる。このうち、成型性の観点から、当該形態は粒状であってよい。粒状である場合、その平均粒子径は1~200μmとすることができ、10~100μmであってよい。
 活性炭の比表面積は、脱臭性能の観点から、500m/g以上とすることができ、700m/g以上であってよい。比表面積の上限は特に限定されないが、例えば2500m/gとすることができる。なお、当該比表面積は、JIS K1477に記載されたBET法(多点法又は1点法)により求めることができる。
 活性炭の含有量は、最適な脱臭性能を発揮させるために、脱臭触媒の全量を基準として10~75質量%とすることができ、15~60質量%であってよい。
(他の成分)
 脱臭触媒は、主成分である上記銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭以外に、他の成分を含んでいてよい。他の成分としては、例えば主成分同士を結着するためのバインダーや、分散剤、消泡剤等が挙げられる。
 バインダーとしては有機バインダー及び無機バインダーが挙げられる。有機バインダーとしては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、SBR樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。無機バインダーとしては、シリカゾル、アルミナゾル、チタニアゾル等が挙げられる。バインダーの含有量は適宜調整することができるが、例えば、脱臭触媒の全量を基準として3~50質量%とすることができ、5~20質量%であってもよい。
<脱臭触媒形成用スラリー>
 脱臭触媒は、上記各成分を含む脱臭触媒形成用スラリーを用いて形成することができる。脱臭触媒は、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト、活性炭及び液状成分を含む。
(液状成分)
 液状成分は水系の成分でも、アルコール、アセトン、ヘキサン等の非水系の成分でも、あるいはこれらの混合系の成分でもよい。ただし、上記各成分の分散性や安全性の観点からは、水系の成分であることが好ましい。液状成分への上記各成分の添加量は、得られる脱臭触媒が上記所望の組成を有するように適宜調整すればよい。
 液状成分の含有量は、成型に適したスラリー粘度の観点から、スラリーの全量を基準として40~99質量%とすることができる。
<脱臭触媒構造体>
 脱臭触媒構造体は、基材と、基材上に上記脱臭触媒を含む触媒層と、を備える。
(基材)
 基材はいわゆる触媒担体であり、その形状は特に限定されない。基材としては、例えば、板状やブロック状のバルク部材、ハニカム構造を有する部材、ペレット状の部材、織布や不織布状の部材が挙げられる。基材としては、その他家電機器の構成部材、建造物の壁面等が挙げられる。
 基材の材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、セルロース系材料、及びこれらを組合せた材料(複合材料、積層材料等)が挙げられる。
 金属としては、例えば、ステンレス、アルミ、銅、亜鉛めっき鋼板及び鉄が挙げられる。セラミックスとしては、例えば、コージライト、アルミナ、チタン酸バリウム、窒化ホウ素及び窒化珪が挙げられる。ガラスとしては、例えば、通常のソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス及びアルミノシリケートガラスが挙げられる。プラスチックとしては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂、及び、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の芳香族ポリエステル系樹脂が挙げられる。セルロース系材料としては、例えば綿、麻、レーヨン、及びキュプラが挙げられる。
(触媒層)
 触媒層は、上記脱臭触媒形成用スラリーを用いて形成される。すなわち触媒層は、銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭を含む。触媒層の担持量は用いる基材によっても変わるが、例えばハニカム基材を用いた場合は、十分な脱臭性能を発揮させるために、30~300g/Lとすることができる。また、触媒層の厚さは用いる基材によっても変わるが、例えばハニカム基材を用いた場合は、触媒層の剥離を抑制する観点から、10~300μmとすることができる。
<脱臭触媒構造体の製造方法>
 脱臭触媒構造体の製造方法は、上記脱臭触媒形成用スラリーを用いて基材上に触媒層を形成する工程を備える。具体的には、当該製造方法は、例えば脱臭触媒形成用スラリーを基材に塗布する工程(塗布工程)と、塗布された脱臭触媒形成用スラリーから液状成分を除去する工程(除去工程)と、を備えることができる。
(塗布工程)
 塗布方法としては、特に限定されるものではないが、ウォッシュコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、フローコート法、バーコート法及びグラビアコート法が挙げられる。ハニカム基材を用いるのであれば、一般的なウォッシュコート法が好適である。これら塗布方法は、単独で、又は2種類以上を併用してもよい。
(除去工程)
 除去方法としては、特に限定されるものではないが、脱臭触媒形成用スラリー塗布後の基材を常温で放置する方法、当該基材に気体を吹き付ける方法、当該基材を所定の温度に加熱する方法等が挙げられる。加熱する方法における加熱温度は、基材の耐熱性にも依るが、例えば100℃以上とすることができる。これら除去方法は、単独で、又は2種類以上を併用してもよい。本工程により、基材表面に、上記各成分を含む脱臭触媒を含む触媒層が形成される。
<脱臭方法>
 脱臭方法は、上記脱臭触媒又は上記脱臭触媒構造体を、硫黄化合物及びアミン系化合物を含む臭気と接触させる工程(脱臭工程)を備える。
 脱臭工程の環境は、十分な脱臭性能を発揮させるため、温度0~40℃とすることができ、相対湿度1~90%とすることができる。脱臭触媒又は脱臭触媒構造体は、例えば冷蔵庫内、空気清浄機、エアコン、換気扇等に設置することができる。
 本開示を以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本開示はこれらの例に限定されるものではない。
<脱臭触媒形成用スラリーの調製>
(実施例1)
 プロペラ撹拌機を使い攪拌しながら、イオン交換水100.0gに以下の各成分を添加した。添加後30分間攪拌し、スラリーを得た。
・東亜合成株式会社製のアロンNS-1200(アクリルバインダー、固形分濃度40%)を13.0g。
・UOP製のLZY-84(Y型ゼオライト、シリカ/アルミナモル比=5、カチオン種=水素イオン、粒子径=6.9μm、固形分濃度85.0%)を11.1g。
・株式会社クラレ製のクラレコールPGW-20MP(活性炭、比表面積930m/g、粒子径=18.1μm、固形分濃度95.9%)を29.4g。
・大日精化工業株式会社製のダイピロキサイド#7700(CuMn複合酸化物、粒子径=17.8μm、固形分濃度97.3%)を7.4g。
(実施例2)
 LZY-84の添加量を22.1g、クラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例3)
 LZY-84の添加量を33.2g、クラレコールPGW-20MPの添加量を9.8gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例4)
 LZY-84の添加量を18.0g、クラレコールPGW-20MPの添加量を15.9g、ダイピロキサイド#7700の添加量を14.7gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例5)
 LZY-84の添加量を22.1g、クラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとし、かつダイピロキサイド#7700に代えてクラリアント触媒株式会社製のN-840P(CuMn複合酸化物、粒子径=6.6μm、固形分濃度88.0%)を8.1g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例6)
 LZY-84の添加量を22.1gとし、かつクラレコールPGW-20MPに代えて株式会社ユー・イー・エス製のUCG-MD(活性炭、比表面積1380m/g、粒子径=16.5μm、固形分濃度95.9%)を19.6g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例7)
 LZY-84の添加量を22.1gとし、かつクラレコールPGW-20MPに代えてソニー株式会社製のトリポーラス(活性炭、比表面積760m/g、粒子径=86.8μm、固形分濃度99.0%)を19.0g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例8)
 LZY-84の添加量を22.1gとし、かつクラレコールPGW-20MPに代えて株式会社クラレ製の高比表面積活性炭(活性炭、比表面積2130m/g、粒子径=26.6μm、固形分濃度99.0%)を19.0g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例9)
 LZY-84に代えてUOP製のLZY-54(Y型ゼオライト、シリカ/アルミナモル比=5、カチオン種=ナトリウム、粒子径=4.4μm、固形分濃度88.4%)を21.4g添加し、かつクラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例10)
 LZY-84に代えて東ソー株式会社製のHSZ-390HUA(Y型ゼオライト、シリカ/アルミナモル比=770、カチオン種=水素イオン、粒子径=6.0μm、固形分濃度99.0%)を19.0g添加し、かつクラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例11)
 LZY-84に代えて東ソー株式会社製のHSZ-320HOA(Y型ゼオライト、シリカ/アルミナモル比=6、カチオン種=水素イオン、粒子径=7.0μm、固形分濃度99.9%)を18.8g添加し、かつクラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例12)
 LZY-84に代えて東ソー株式会社製のHSZ-350HUA(Y型ゼオライト、シリカ/アルミナモル比=11、カチオン種=水素イオン、粒子径=6.0μm、固形分濃度99.0%)を19.0g添加し、かつクラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(実施例13)
 LZY-84に代えて東ソー株式会社製のHSZ-360HUA(Y型ゼオライト、シリカ/アルミナモル比=15、カチオン種=水素イオン、粒子径=6.0μm、固形分濃度99.9%)を18.8g添加し、かつクラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例1)
 LZY-84を用いなかったこと、かつクラレコールPGW-20MPの添加量を39.3gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例2)
 クラレコールPGW-20MPを用いなかったこと、かつLZY-84の添加量を44.3gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例3)
 LZY-84及びクラレコールPGW-20MPを用いなかったこと、かつダイピロキサイド#7700の添加量を46.0gとしたこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例4)
 LZY-84の添加量を22.1g、クラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとし、かつダイピロキサイド#7700に代えて日本重化学工業株式会社製の活性化二酸化マンガン250(MnO、粒子径=0.6μm、固形分濃度95.0%)を7.5g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例5)
 LZY-84の添加量を22.1g、クラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとし、かつダイピロキサイド#7700に代えてCarus製のCARULITE 400 Type E(MnO、粒子径=4.0μm、固形分濃度95.4%)を7.5g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例6)
 LZY-84の添加量を22.1g、クラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとし、かつダイピロキサイド#7700に代えて日本重化学工業株式会社製の活性化二酸化マンガンLMD181(MnO、粒子径=7.0μm、固形分濃度96.0%)を7.4g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
(比較例7)
 LZY-84の添加量を22.1g、クラレコールPGW-20MPの添加量を19.6gとし、かつダイピロキサイド#7700に代えて活性化二酸化マンガン250を6.4g及び日進ケムコ株式会社製の酸化銅NB-2(CuO、粒子径=2.4μm、固形分濃度99.6%)を1.1g添加したこと以外は、実施例1と同様にしてスラリーを得た。
<脱臭フィルターの製造>
 ハニカム基材として、上海安積濾品有限公司製のレーヨン紙ハニカム(セル数200/inch、セル開口面直径21mm又はセル開口面22mm×23mm、通気方向長さ6.5mm)を準備した。これを各例のスラリーに浸漬した後、余剰のスラリーをエアブローにより除去した。その後、当該基材を150℃に設定した乾燥機に1時間入れて乾燥させ、脱臭フィルター(脱臭触媒構造体)を得た。乾燥後のウォッシュコート量(被覆層量)は、ハニカム基材1L当たり100gとした。
<評価>
 各例の脱臭フィルターを用いて脱臭性能試験(1)及び(2)を実施した。結果を表1に示す。
試験(1):メチルメルカプタンに対する脱臭性能
 セル開口面直径21mmのハニカム基材担持脱臭フィルターをガラス管に設置した。メチルメルカプタン(MMP)100ppmを含む、温度25℃、湿度18%RHの空気を、9.7L/minの流量で脱臭フィルターに30分間流通させた。30分後のメチルメルカプタン濃度を触媒出口で測定し、30分後の除去率を次式により計算した。
  MMP除去率(%)={1-(30分後MMP濃度[ppm]/100[ppm])}×100
試験(2):トリメチルアミンに対する脱臭性能
 セル開口面22mm×23mmのハニカム基材担持脱臭フィルターをセットした通風機を、体積30Lのガラス製容器に設置した。容器内の温度を25℃、湿度を50%RHに調整した。濃度100ppm相当のトリメチルアミン(TMA)を容器内に注入し、0.5m/sの線速度で脱臭フィルターに30分間流通させた。30分後のトリメチルアミン濃度を測定し、30分後の除去率を次式により計算した。
  TMA除去率(%)={1-(30分後TMA濃度[ppm]/100[ppm])}×100
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 補足実験として、単体のゼオライトを用いて脱臭性能試験(3)を実施した。結果を表2に示す。
試験(3):粉末トリメチルアミン除去試験
 各種ゼオライト粉末0.2gを載せた時計皿を、体積30Lのガラス製容器に設置した。容器内の温度を25℃、湿度を50%RHに調整した。濃度100ppm相当のトリメチルアミン(TMA)を容器内に注入し、攪拌ファンを15分間オンにした。15分後のトリメチルアミン濃度を測定し、15分後の除去率を次式により計算した。
  TMA除去率(%)={1-(15分後TMA濃度[ppm]/100[ppm])}×100
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2中、ゼオライトの詳細は以下のとおりである。
ミズカシーブスY-420:水澤化学工業株式会社製
NFK-7-2SC1_0-HWOS:Nankai University Catalyst製
HSZ-640HOA:東ソー株式会社製
NFK-5D-25HX:Nankai University Catalyst製
Zibo:Zibo Xinhong Chemical Trading製
HSZ-385HUA:東ソー株式会社製
NU-2080:UOP製

 

Claims (10)

  1.  銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト及び活性炭を含む脱臭触媒。
  2.  前記脱臭触媒の全量を基準として、前記銅-マンガン系複合酸化物を10~50質量%、前記ゼオライトを10~75質量%、及び前記活性炭を10~75質量%含む、請求項1に記載の脱臭触媒。
  3.  前記ゼオライトのシリカ/アルミナモル比が100以下である、請求項1又は2に記載の脱臭触媒。
  4.  前記ゼオライトのカチオン種が水素イオンである、請求項1~3のいずれか一項に記載の脱臭触媒。
  5.  前記活性炭の比表面積が500m/g以上である、請求項1~4のいずれか一項に記載の脱臭触媒。
  6.  硫黄化合物及びアミン系化合物を含む臭気用である、請求項1~5のいずれか一項に記載の脱臭触媒。
  7.  基材と、基材上に請求項1~6のいずれか一項に記載の脱臭触媒を含む触媒層と、を備える脱臭触媒構造体。
  8.  請求項1~6のいずれか一項に記載の脱臭触媒又は請求項7に記載の脱臭触媒構造体を、硫黄化合物及びアミン系化合物を含む臭気と接触させる工程を備える、脱臭方法。
  9.  銅-マンガン系複合酸化物、ゼオライト、活性炭及び液状成分を含む脱臭触媒形成用スラリー。
  10.  請求項9に記載のスラリーを用いて基材上に触媒層を形成する工程を備える、脱臭触媒構造体の製造方法。
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