WO2019198275A1 - 霧化ユニット - Google Patents

Abstract

霧化ユニットは、櫛形電極対を有する圧電素子基板と、霧化すべき液体を前記圧電素子基板に供給するように構成された液供給部とを備える。前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対に高周波数で電圧を印加することによって生じる表面弾性波によって前記液体を霧化するように構成されており、前記圧電素子基板は、前記表面弾性波によって霧化される所望エアロゾルに基づいて定められる数の前記櫛形電極対を有する。

Description

霧化ユニット

　本発明は、霧化ユニットに関する。

　従来、櫛形電極対によって構成されるＩＤＴ（Ｉｎｔｅｒｄｉｔｉｔａｌ　Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）を有する圧電素子基板を用いてＳＡＷ（Ｓｕｒｆａｃｅ　Ａｃｏｕｓｔｉｃ　Ｗａｖｅ）を発生させることによって液体を霧化する霧化ユニットが知られている（例えば、特許文献１－２）。また、このような霧化ユニットを香味吸引器に用いる技術も提案されている（例えば、特許文献３）。

特開２０１２－２４６４６号公報 特表２０１６－５１３９９２号公報 米国特許２０１７／０２８０７７１号明細書

　第１の特徴は、霧化ユニットであって、櫛形電極対によって構成されるＩＤＴを有する圧電素子基板と、霧化すべき液体を前記圧電素子基板に供給するように構成された液供給部とを備え、前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対に高周波数（共振周波数）で電圧を印加することによって生じる表面弾性波によって前記液体を霧化するように構成されており、前記圧電素子基板は、前記表面弾性波によって霧化される所望エアロゾルに基づいて定められる数の前記櫛形電極対を有することを要旨とする。

　第２の特徴は、第１の特徴において、前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対が配置される表面と、前記表面の反対側に設けられる裏面と、前記裏面から前記表面まで貫通する貫通孔とを有しており、前記液供給部は、前記裏面の側に設けられており、前記貫通孔を介して前記表面に前記液体を供給するように構成されることを要旨とする。

　第３の特徴は、第２の特徴において、前記霧化ユニットは、前記圧電素子基板の端部における前記表面弾性波の反射によって生じる熱を奪うように構成された放熱機構を備えることを要旨とする。

　第４の特徴は、第３の特徴において、前記放熱機構は、前記圧電素子基板の熱伝導性よりも高い熱伝導性を有する材料によって構成される放熱層及びペルチェ素子の少なくともいずれか１つを含む。

　第５の特徴は、第１の特徴乃至第４の特徴のいずれかにおいて、前記霧化ユニットは、前記液体が通る流路において、前記圧電素子基板の一部又は全部を被覆するコーティング層を備えることを要旨とする。

　第６の特徴は、第２の特徴を引用する第５の特徴において、前記コーティング層は、少なくとも前記貫通孔の内側に設けられることを要旨とする。

　第７の特徴は、第１の特徴乃至第６の特徴のいずれかにおいて、前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対が設けられる配置部分を有しており、前記霧化ユニットは、前記液体と前記配置部分とを隔てる隔壁を備えることを特徴とする。

　第８の特徴は、第７の特徴において、前記隔壁は、前記配置部分の全体を覆っていることを要旨とする。

　第９の特徴は、第７の特徴又は第８の特徴において、前記隔壁は、前記配置部分と前記貫通孔との間において前記表面と接触するように前記表面に設けられることを要旨とする。

　第１０の特徴は、第７の特徴又は第８の特徴において、前記隔壁は、前記配置部分と前記貫通孔との間において前記表面と接触しないように前記表面に設けられることを要旨とする。

　第１１の特徴は、第１の特徴乃至第１０の特徴のいずれかにおいて、前記櫛形電極対の数は、前記表面弾性波によって霧化されるエアロゾルの霧化効率に基づいて定められることを要旨とする。

　第１２の特徴は、第１の特徴乃至第１１の特徴のいずれかにおいて、前記櫛形電極対に含まれ、互いに隣接する電極の間隔は、前記表面弾性波によって霧化されるエアロゾルの所望粒径に基づいて設定される周波数に応じて定められることを要旨とする。

　第１３の特徴は、第２の特徴及び第２の特徴を引用する第３の特徴乃至第１２の特徴のいずれかにおいて、前記貫通孔は、前記表面の側から見た平面視において、前記表面弾性波の進行方向における最大幅と、前記表面弾性波の進行方向に対する直交方向における最大長とを有しており、前記最大長は、前記最大幅よりも大きいことを要旨とする。

　第１４の特徴は、第２の特徴及び第２の特徴を引用する第３の特徴乃至第１３の特徴のいずれかにおいて、前記貫通孔は、前記貫通孔によって反射する前記表面弾性波の反射波と前記櫛形電極対により生成される前記表面弾性波との干渉が低減するように設けられることを要旨とする。

　第１５の特徴は、第２の特徴及び第２の特徴を引用する第３の特徴乃至第１４の特徴のいずれかにおいて、前記貫通孔は、前記櫛形電極対を挟んで少なくとも２つの貫通孔を含むことを要旨とする。

　第１６の特徴は、第２の特徴及び第２の特徴を引用する第３の特徴乃至第１５の特徴のいずれかにおいて、前記櫛形電極対と前記貫通孔との間において、前記貫通孔に連続する親水性層が前記表面に設けられていることを要旨とする。

図１は、実施形態に係る香味吸引器１を示す図である。 図２は、実施形態に係る霧化ユニット１００を示す図である。 図３は、ＳＡＷモジュール３０を圧電素子基板３１の表面側から見た平面視を示す図である。 図４は、ＳＡＷモジュール３０の断面を示す図である。 図５は、エアロゾルの発生メカニズムについて説明するための図である。 図６は、変更例１に係る貫通孔３４を説明するための図である。 図７は、変更例２に係る隔壁３７を説明するための図である。 図８は、変更例２に係る隔壁３７を説明するための図である。 図９は、変更例３に係る親水性層３８を説明するための図である。 図１０は、第１実験の結果を示す図である。 図１１は、第２実験の結果を示す図である。 図１２は、第３実験の結果を示す図である。 図１３は、変更例５を説明するための図である。 図１４は、変更例６を説明するための図である。 図１５は、変更例６を説明するための図である。 図１６は、変更例７を説明するための図である。 図１７は、変更例７を説明するための図である。 図１８は、変更例８を説明するための図である。 図１９は、変更例８を説明するための図である。 図２０は、変更例８を説明するための図である。 図２１は、変更例９を説明するための図である。 図２２は、変更例９を説明するための図である。 図２３は、変更例９を説明するための図である。 図２４は、変更例９を説明するための図である。 図２５は、変更例９を説明するための図である。 図２６は、変更例１０を説明するための図である。 図２７は、変更例１１を説明するための図である。 図２８は、変更例１２を説明するための図である。 図２９は、変更例１３を説明するための図である。 図３０は、変更例１４を説明するための図である。 図３１は、変更例１４を説明するための図である。 図３２は、変更例１４を説明するための図である。 図３３は、変更例１４を説明するための図である。 図３４は、変更例１５を説明するための図である。 図３５は、変更例１６を説明するための図である。 図３６は、変更例１６を説明するための図である。 図３７は、変更例１７を説明するための図である。 図３８は、変更例１８を説明するための図である。 図３９は、変更例１９を説明するための図である。 図４０は、変更例１９を説明するための図である。 図４１は、変更例１９を説明するための図である。 図４２は、変更例２０を説明するための図である。 図４３は、変更例２０を説明するための図である。 図４４は、変更例２０を説明するための図である。 図４５は、変更例２２を説明するための図である。 図４６は、変更例２３を説明するための図である。 図４７は、変更例２３を説明するための図である。 図４８は、実験結果を説明するための図である。

　以下において、実施形態について説明する。なお、以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。但し、図面は模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なる場合があることに留意すべきである。

　従って、具体的な寸法などは以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれる場合があることは勿論である。

　［開示の概要］
　背景技術で説明したように、圧電素子基板を用いる霧化ユニットを香味吸引器に用いる技術が提案されている。発明者等は、鋭意検討の結果、香味吸引器に用いる霧化ユニットにおいて圧電素子基板を用いる場合には、様々な工夫が必要であることを見出した。

　開示の概要に係る霧化ユニットは、櫛形電極対によって構成されるＩＤＴを有する圧電素子基板と、霧化すべき液体を前記圧電素子基板に供給するように構成された液供給部とを備える。前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対に高周波数（共振周波数）で電圧を印加することによって生じる表面弾性波によって前記液体を霧化するように構成されている。前記圧電素子基板は、前記表面弾性波によって霧化される所望エアロゾルに基づいて定められる数の前記櫛形電極対を有する。

　開示の概要によれば、櫛形電極対の数は、所望エアロゾルに基づいて定められる。従って、櫛形電極対に供給可能な電力が限られる霧化ユニットにおいて、液体の霧化効率の向上によって適切な霧化ユニットを提供することができる。

　［実施形態］
　（香味吸引器）
　以下において、実施形態に係る香味吸引器について説明する。図１は、実施形態に係る香味吸引器１を示す図である。

　図１に示すように、香味吸引器１は、霧化ユニット１００と、液貯蔵部２００と、センサ３００と、制御部４００と、電源５００とを有する。香味吸引器１は、霧化ユニット１００、液貯蔵部２００、センサ３００、制御部４００及び電源５００を収容するハウジング１Ｘを有する。ハウジング１Ｘは、図１に示すように矩形のボックス形状を有していてもよく、円筒形状を有していてもよい。香味吸引器１は、インレット１Ａからアウトレット１Ｂまで連通するチャンバ１Ｃを有する。アウトレット１Ｂには、マウスピース１Ｄが設けられていてもよい。マウスピース１Ｄは、ハウジング１Ｘと一体であってもよく、ハウジング１Ｘと別体であってもよい。マウスピース１Ｄはフィルタを有していてもよい。

　霧化ユニット１００は、液貯蔵部２００から供給される霧化すべき液体を霧化する。霧化ユニット１００は、表面弾性波（ＳＡＷ；Ｓｕｒｆａｃｅ　Ａｃｏｕｓｔｉｃ　Ｗａｖｅ）を用いて液体を霧化する。霧化ユニット１００は、着脱可能に構成されたカートリッジであってもよい。霧化ユニット１００の詳細については後述する。

　液貯蔵部２００は、液体を収容する。液貯蔵部２００は、着脱可能に構成されたカートリッジであってもよい。液貯蔵部２００は、霧化ユニット１００と一体構造となっていてもよい。液体は、水、グリセリン、プロピレングリコール、エタノールなどの溶媒を含んでもよい。液体は、香り及び味の少なくともいずれか一方に寄与する溶質（香味成分）を含んでもよい。香味成分は、揮発性成分及び不揮発性成分を含んでもよい。揮発性成分は、一般的に香料として使用される成分であればよい。揮発性成分は、植物由来成分であってもよく、合成成分であってもよい。例えば、揮発性成分は、メントール、リモネン、リナロール、バニリン、たばこ抽出物などである。不揮発性成分は、味覚に寄与する成分であってもよい。例えば、不揮発性成分は、グルコース、フルクトース、スクロース及びラクトースなどの糖類、タンニン、カテキン及びナリンジンなどの苦味物質、リンゴ酸、クエン酸などの酸類、塩類などである。液体は、乳化剤によって乳化された状態であってもよく、分散剤によって懸濁された状態であってもよい。液体は、グリセリン及びプロピレングリコールに不溶で、かつ、水に可溶な水溶性香料及びイオン性物質を含んでもよい。

　液貯蔵部２００がカートリッジであり、後述するＳＡＷモジュールが２以上の貫通孔を有する場合において、１つのカートリッジから２以上の貫通孔に液体が供給されてもよく、２以上のカートリッジから個別に２以上の貫通孔に液体が供給されてもよい。２以上のカートリッジが設けられる場合には、各カートリッジは、異なる種類の液体を貯蔵してもよい。例えば、第１カートリッジが揮発性成分を貯蔵し、第２カートリッジが不揮発性成分を貯蔵してもよい。

　液貯蔵部２００がカートリッジである場合に、カートリッジは上述したマウスピース１Ｄを一体として含んでもよい。このような構成によれば、カートリッジの交換に伴ってマウスピース１Ｄも交換されるため、マウスピース１Ｄが衛生的に維持される。

　液貯蔵部２００がカートリッジである場合に、カートリッジは、使い捨てタイプであってもよく、リフィルタイプでもよい。リフィルタイプとは、好みの液体をカートリッジにユーザが再充填するタイプである。

　センサ３００は、ユーザのパフ動作を検出する。例えば、センサ３００は、チャンバ１Ｃを通過する気体の流れを検出する。例えば、センサ３００は流量センサである。流量センサは、チャンバ１Ｃ内に配置されたオリフィスを含む。流量センサは、オリフィスの上流とオリフィスの下流との間の差圧を監視し、監視された差圧によって空気の流れを検出する。

　制御部４００は、プロセッサ及びメモリなどによって構成されており、香味吸引器１に設けられる各構成を制御する。制御部４００は、着脱可能に構成された物品であってもよい。例えば、制御部４００は、センサ３００の検出結果によってパフ動作の開始を特定する。制御部４００は、パフ動作の開始に応じて霧化ユニット１００の霧化動作を開始してもよい。制御部４００は、センサ３００の検出結果によってパフ動作の停止を特定してもよい。制御部４００は、パフ動作の停止に応じて霧化ユニット１００の霧化動作を停止してもよい。制御部４００は、パフ動作の開始から一定期間が経過した場合に霧化ユニット１００の霧化動作を停止してもよい。

　実施形態では、制御部４００は、後述するＳＡＷモジュールを制御する電圧・周波数制御回路を含んでもよい。電圧・周波数調整回路は、霧化ユニット１００の霧化動作として、ＳＡＷモジュール３０に供給される電力（例えば、交流電圧）の周波数及び大きさを制御する。但し、後述するように、電圧・周波数調整回路は駆動回路基板２０に設けられていてもよい。

　電源５００は、香味吸引器１を駆動する電力を供給する。電源５００は、マンガン、アルカリ、オキシライド、ニッケル、ニッケルマンガン、リチウムなどの一次電池であってもよく、ニッカド電池、ニッケル水素電池、リチウム電池などの二次電池であってもよい。電源５００は、着脱可能に構成された物品であってもよい。

　（霧化ユニット）
　以下において、実施形態に係る霧化ユニットについて説明する。図２は、実施形態に係る霧化ユニット１００を示す図である。

　図２に示すように、霧化ユニット１００は、ハウジング１０と、駆動回路基板２０と、ＳＡＷモジュール３０と、シーリング板４０と、トップカバー５０とを有する。

　ハウジング１０は、駆動回路基板２０、ＳＡＷモジュール３０及びシーリング板４０を収容する。ハウジング１０は、霧化すべき液体を収容する収容体を収容してもよく、液体をＳＡＷモジュール３０に供給する液供給部（例えば、シリンジポンプ）を収容してもよい。

　駆動回路基板２０は、ＳＡＷモジュール３０を駆動する駆動回路を有する。駆動回路基板２０は、上述した制御部４００の一部（例えば、電圧・周波数制御回路）を含むと考えてもよい。或いは、駆動回路基板２０が制御部４００の一部であると考えてもよい。例えば、駆動回路は、電源５００から供給される電力を用いてＳＡＷモジュール３０を駆動する。駆動回路は、ＳＡＷモジュール３０に供給される電力（例えば、交流電圧）の周波数及び大きさを制御する。駆動回路は、ＳＡＷモジュール３０に供給される液体の量を制御してもよい。

　ＳＡＷモジュール３０は、後述するように、少なくとも１つの櫛形電極対によって構成されるＩＤＴを有する圧電素子基板を有する。ＳＡＷモジュール３０の詳細については後述する（図３及び図４を参照）。

　シーリング板４０は、駆動回路基板２０及びＳＡＷモジュール３０の上に配置される板状部材である。駆動回路基板２０及びＳＡＷモジュール３０は、ハウジング１０とシーリング板４０との間に配置される。シーリング板４０は、少なくとも圧電素子基板を露出させる開口４１を有する。例えば、シーリング板４０は、ステンレスによって構成される。

　トップカバー５０は、シーリング板４０の上に配置される。トップカバー５０は、インレット５１及びアウトレット５２を有しており、インレット５１からアウトレット５２までの空気流路を有する。エアロゾルは、インレット５１からアウトレット５２への空気流によって、ＳＡＷモジュール３０からアウトレット５２に導出される。トップカバー５０は、空気流路の気密性を高めるＯリング５３を有してよい。例えば、トップカバー５０は、耐熱性を有するポリカーボネートなどの樹脂によって構成されており、Ｏリング５３は、弾性を有するシリコンなどの樹脂によって構成されてもよい。アウトレット５２の位置は任意であるが、シーリング板４０の開口４１の直上に設けられていてもよい。このような構成によれば、ＳＡＷモジュール３０から直上に向かって生じるエアロゾルを効率的に導くことができ、エアロゾルの流路を短縮することができる。アウトレット５２はフィルタを有していてもよい。

　（ＳＡＷモジュール）
　以下において、実施形態に係るＳＡＷモジュールについて説明する。図３は、ＳＡＷモジュール３０を圧電素子基板３１の表面側から見た平面視を示す図である。図４は、ＳＡＷモジュール３０の断面を示す図である。

　図３及び図４に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、圧電素子基板３１と、電極（本体部分３２及び櫛形電極対３３によって構成されるＩＤＴ）と、貫通孔３４と、放熱機構３５とを有する。圧電素子基板３１は、櫛形電極対３３に高周波数（共振周波数）で電圧を印加することによって生じるＳＡＷによって液体を霧化するように構成される。

　圧電素子基板３１は、本体部分３２及び櫛形電極対３３が配置される表面３１Ｆと、表面３１Ｆの反対側に設けられる裏面３１Ｂとを有する。圧電素子基板３１は、電圧の印加によって伸縮する圧電体を含む。圧電素子基板３１のうち、櫛形電極対３３が配置される部分を配置部分３０Ａと称することもある。圧電体は、少なくとも表面３１Ｆを構成していればよい。圧電体としては、石英、チタン酸バリウム、ニオブ酸リチウムなどのセラミックなどによって構成される既知の圧電体を用いることができる。

　本体部分３２は、電源５００と電気的に接続される。本体部分３２は、櫛形電極対３３の一方である第１櫛形電極３３Ａと一体である第１本体部分３２Ａと、櫛形電極対３３の他方である第２櫛形電極３３Ｂと一体である第２本体部分３２Ｂとを有する。第１本体部分３２Ａ及び第２本体部分３２Ｂは、ＳＡＷの進行方向Ａに対する直交方向Ｂにおいて配置領域３０Ａを挟んで配置される。電池から出力される電力は、本体部分３２を通じて櫛形電極対３３に供給される。

　櫛形電極対３３は、第１櫛形電極３３Ａ及び第２櫛形電極３３Ｂを有する。第１櫛形電極３３Ａ及び第２櫛形電極３３Ｂは、ＳＡＷの進行方向Ａにおいて交互に配置される。第１櫛形電極３３Ａは、第１本体部分３２Ａから直交方向Ｂに沿って延びる形状を有する。第２櫛形電極３３Ｂは、第２本体部分３２Ｂから直交方向Ｂに沿って延びる形状を有する。例えば、櫛形電極対３３は、金メッキが施された金属などによって構成される。

　貫通孔３４は、裏面３１Ｂから表面３１Ｆまで圧電素子基板３１を貫通する孔である。貫通孔３４は、液体を裏面３１Ｂから表面３１Ｆに導く流路を形成する。貫通孔３４は、表面３１Ｆの側から見た平面視において、ＳＡＷの進行方向Ａにおける最大幅Ｗ_MAXと、直交方向Ｂにおける最大長Ｌ_MAXとを有する。最大長Ｌ_MAXは、最大幅Ｗ_MAXよりも大きい。言い換えると、貫通孔３４は、直交方向Ｂに長い形状（例えば、楕円形状又は長方形状）を有する。貫通孔３４が楕円形状又は長方形状である場合には、貫通孔３４の長手軸が直交方向Ｂに沿っていればよい。直交方向Ｂに沿っているとは、貫通孔３４の長手軸が直交方向Ｂに対して４５°以下の傾きを有していればよい。最大長Ｌ_MAXは、直交方向Ｂにおける配置領域３０Ａ（例えば、第１櫛形電極３３Ａ及び第２櫛形電極３３Ｂのオーバーラップ部分）の長さよりも大きいことが好ましい。図３に示すように、貫通孔３４は、櫛形電極対３３を挟んで少なくとも２つの貫通孔を含むことが好ましい。このような構成によれば、ＳＡＷと液体との相互作用が増大し、同じ電力で霧化される液体の量が増大する。

　放熱機構３５は、圧電素子基板３１の端部における表面弾性波の反射によって生じる熱を奪うように構成された機構である。放熱機構３５は、圧電素子基板３１の熱伝導性よりも高い熱伝導性を有する材料によって構成される放熱層及びペルチェ素子の少なくともいずれか１つを含む。放熱機構３５は、貫通孔３４に連続する貫通孔３５Ａを有する。貫通孔３５Ａは、液体を圧電素子基板３１の表面３１Ｆに導くための孔である。図４に示す例では、放熱機構３５は、圧電素子基板３１の裏面３１Ｂに配置される放熱層である。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、放熱機構３５は、圧電素子基板３１と接触していればよく、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに配置されてもよい。放熱機構３５は、ペルチェ素子であってもよい。放熱機構３５は、放熱層及びペルチェ素子の双方を含んでもよい。例えば、放熱層としては、アルミニウム、銅、鉄などの金属が用いられてもよく、カーボン、窒化アルミニウム、セラミックが用いられてもよい。例えば、ペルチェ素子は、接着剤（グリース、エポキシ樹脂、金属ペースト）によって圧電素子基板３１に貼り合わされてもよい。接着剤の熱伝導性は０．１Ｗ／ｍ／Ｋよりも高いことが好ましい。さらには、接着剤の熱伝導性は０．５Ｗ／ｍ／Ｋよりも高いことが好ましい。接着層は薄い方が望ましく、薄い接着層はスクリーン印刷によって実現可能である。

　図４に示すように、圧電素子基板３１の裏面３１Ｂの側には、液体を圧電素子基板３１に供給するように構成された液供給部６０が設けられる。液供給部６０は、貫通孔３４及び貫通孔３５Ａを介して液体を圧電素子基板３１の表面３１Ｆに供給する。

　例えば、液供給部６０はシリンジポンプである。このようなケースにおいて、貫通孔３４及び貫通孔３５Ａは液体の流路を構成する。シリンジポンプは、手動式であってもよく、電動式であってもよい。

　図３では、液供給部６０がシリンジポンプであるケースが例示されているが、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、液供給部６０は毛管現象によって液体を供給する部材であってもよい。このようなケースにおいて、液供給部６０は液体を吸い上げる毛管部材を含み、貫通孔３４及び貫通孔３５Ａは毛管部材を通すための孔を構成する。毛管部材の第１端は、少なくとも液貯蔵部２００に達しており、毛管部材の第２端は、ＳＡＷモジュール３０に達している。毛管部材は、貫通孔３４及び貫通孔３５Ａの断面において、断面の少なくとも一部に配置される。毛管部材は、天然由来の繊維質材料、植物由来繊維材料、合成繊維材料の少なくともいずれか１つによって構成されてもよい。例えば、天然由来の繊維質材料は、植物乾燥物、植物乾燥物の裁断物、葉たばこの裁断物、果実乾燥物、果実乾燥物の裁断物、野菜乾燥物、野菜乾燥物の裁断物の少なくともいずれか１つであってもよい。例えば、植物由来繊維材料は、脱脂綿、麻繊維の少なくともいずれか１つであってもよい。毛管部材は、シート状に成形された植物乾燥物の裁断物、例えば、濾紙やたばこシートの裁断物などであってもよい。

　さらに、液供給部６０は、シリンジポンプ及び毛管部材の組合せであってもよい。液貯蔵部２００に貯蔵される液体の残量が閾値以上である場合に、毛管部材によって液体が供給され、液体の残量が閾値未満である場合に、シリンジポンプによって液体が供給されてもよい。所定基準に基づいてシリンジポンプ及び毛管部材が制御部４００によって使い分けられてもよい。

　液供給部６０は、液貯蔵部２００がカートリッジである場合には、カートリッジの装着に応じて自動的に液体をＳＡＷモジュール３０に供給してもよい。液供給部６０は、香味吸引器１を駆動するための電源スイッチが設けられる場合には、電源スイッチのオンに応じて自動的に液体をＳＡＷモジュール３０に供給してもよい。

　図４に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、コーティング層３６を含んでもよい。コーティング層３６は、圧電素子基板３１の全部を被覆していてもよく、圧電素子基板３１の一部を被覆していてもよい。コーティング層３６は、貫通孔３４の内側に設けられてもよい。このような構成によれば、圧電素子基板３１への液体の接触を抑制することができる。さらには、コーティング材料を適切に堆積することによって、コーティング層３６は、貫通孔３４の内側に加えて、貫通孔３５Ａの内側に設けられてもよい。このような構成によれば、圧電素子基板３１への液体の接触をさらに抑制することができる。

　コーティング層３６は、液体の付着等に伴う圧電素子基板３１の変性を抑制する材料によって構成されていればよい。例えば、コーティング層３６は、ポリプロピレン及びポリエチレンなどの高分子材料によって構成されていてもよい。コーティング層３６は、金属、カーボン、テフロン（登録商標）、ガラス、パリレン、二酸化ケイ素、二酸化チタン、又は、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化アルミナのようなセラミック材料などによって構成されてもよい。

　このような前提下において、圧電素子基板３１は、ＳＡＷによって霧化される所望エアロゾルに基づいて定められる数の櫛形電極対３３を有する。具体的には、櫛形電極対３３の数は、ＳＡＷによって霧化されるエアロゾルの霧化効率に基づいて定められる。櫛形電極対３３に含まれ、互いに隣接する電極の間隔及び進行方向における電極の幅は、ＳＡＷによって霧化されるエアロゾルの所望粒径に基づいて設定される周波数に応じて定められる。

　ここで、所望エアロゾルとは、所望粒径のエアロゾルを個数濃度のピークとして含むエアロゾルである。霧化効率とは、櫛形電極対３３に供給される電力が一定である場合において、エアロゾルの個数濃度の高さである。個数濃度は、単位体積当たりに含まれるエアロゾルの粒子の数である。例えば、サブミクロンの液滴の個数濃度は、１０⁸個／ｃｍ³以上である。

　実施形態では、櫛形電極対３３に供給される電力は、霧化ユニット１００を有する香味吸引器が備える電池によって賄われる。このような環境下において、櫛形電極対３３に供給される電力は、３Ｗ以上であることが好ましい。電力が３Ｗ以上であることによって、液体の霧化が適切に生じる。一方で、櫛形電極対３３に供給される電力は、１０Ｗ以下であることが好ましい。電力が１０Ｗ以下であることによって、電池の供給可能電力及び容量などの制約下において、櫛形電極対３３、圧電素子基板及び液体の過加熱などを抑制しながら、櫛形電極対３３に供給される電力を適切に制御することができる。

　一般的には、櫛形電極対３３に供給される電力の減少は、ＳＡＷモジュール３０の過加熱を抑制することができるが、エアロゾル量の減少をも引き起こす。このような前提下において、ＳＡＷモジュール３０の過加熱を抑制する観点では、櫛形電極対３３に供給される電力の量は、ＰＷＭ（Ｐｕｌｓｅ　Ｗｉｄｔｈ　Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）によって制御されてもよい。このような構成によれば、ＳＡＷによって生じるエアロゾル量の減少を抑制しながらも、ＰＷＭによってＳＡＷモジュール３０の過加熱を抑制することができる。

　このような電力の制約下において、櫛形電極対３３の数は、１０以上であることが好ましい。このような構成によれば、高い霧化効率で液体を霧化することができる。一方で、櫛形電極対３３の数は、８０以下であることが好ましい。このような構成によれば、周波数帯が狭くなり過ぎず、霧化ユニット１００の製造バラツキ及び異なる条件（温度、圧力、湿度など）における共振周波数のバラツキを考慮しても、適切な霧化を実現することができる。

　互いに隣接する電極の間隔及び進行方向における電極の幅は、櫛形電極対３３に供給される電力の周波数によって必然的に定まる。周波数が高いほど、互いに隣接する電極の間隔が狭くなり、エアロゾルの粒径が小さくなる。このような関係下において、例えば、ピークの個数濃度を有する所望粒径は、０．２μｍ～１．０μｍであってもよい。このようなケースにおいて、周波数は、２０ＭＨｚ以上であることが好ましい。このような構成によれば、ピークの個数濃度を有する粒径を所望粒径の範囲に収めることができる。一方で、周波数は、２００ＭＨｚ以下であることが好ましい。このような構成によれば、電極の間隔が狭くなり過ぎ、最小電力（例えば、３Ｗ）よりも高い電力における電極のショートが生じる可能性を軽減することができる。

　上述したように、発明者等は、鋭意検討の結果、櫛形電極対３３に供給可能な電力が制約される条件下において、エアロゾルの霧化効率に基づいて櫛形電極対３３の数を定めるという新たな知見を得たことに留意すべきである。発明者等は、エアロゾルの所望粒径に基づいて設定される周波数に応じて電極の間隔（すなわち、周波数）を定めるという知見を得たことにも留意すべきである。さらには、発明者等は、電極の間隔（すなわち、周波数或いは所望粒径）に応じて霧化効率が変わり得るという知見に基づいて、所望エアロゾルに基づいて櫛形電極対３３の数を定めるという新たな知見を得たことに留意すべきである。所望エアロゾルは、所望粒径のエアロゾルが所望分布で含まれるエアロゾルである。

　さらに、発明者等は、鋭意検討の結果、櫛形電極対３３の重複部分の長さ（以下、Ｈ）とＳＡＷの波長（以下、λ₀）との比率（以下、Ｒ）が所定範囲である場合に、エアロゾルの霧化効率が高いという新たな知見を得た。Ｒ（＝Ｈ／λ₀）は、１０以上であることが好ましく、１５０以下であることが好ましい。さらに、Ｒは、７０未満であることが好ましく、５０以下であることが好ましい。ここで、λ₀は、櫛形電極対３３に供給される電力の周波数（以下、ｆ）とＳＡＷの伝搬速度（以下、ｖ）との比率（ｖ／ｆ）によって表される。ｆは、電極の間隔及び進行方向における電極の幅と相関を有しており、ｖは、櫛形電極対３３が設けられる圧電素子基板の種類（特性）と相関を有する。言い換えると、櫛形電極対３３の重複部分の長さ、電極の間隔及び圧電素子基板の種類は、１０≦Ｒ≦１５０の関係が満たされるように定められることが好ましい。このような構成によれば、エアロゾルの霧化効率の高い霧化ユニット１００を提供することができる。

　（貫通孔の形状）
　以下において、実施形態に係る貫通孔の形状について説明する。図５は、エアロゾルの発生メカニズムについて説明するための図である。

　図５に示すように、貫通孔３４から露出する液体のうち、ＳＡＷと接触する部分に相対的に近い部分は薄膜部分７１を構成する。貫通孔３４から露出する液体のうち、ＳＡＷと接触する部分から相対的に遠い部分は厚膜部分７２を構成する。薄膜部分７１から霧化するエアロゾル８１の粒径は、厚膜部分７２から霧化するエアロゾル８２の粒径よりも小さい。従って、所望粒径が比較的に小さい粒径（例えば、０．２μｍ～１．０μｍ）である場合には、圧電素子基板３１を表面３１Ｆの側から見た平面視において、薄膜部分７１の面積を大きくすることが有効である。このような観点から、最大長Ｌ_MAXが最大幅Ｗ_MAXよりも大きい形状を貫通孔３４が有することが好ましい。

　さらには、最大長Ｌ_MAXに相当する直径を有する円形状を有する貫通孔を想定すると、貫通孔から露出する液体の面積が大きくなり過ぎ、ユーザが香味吸引器１を斜めに傾けた場合に、液体が圧電素子基板３１上に流れ出る可能性もある。このような観点からも、最大長Ｌ_MAXが最大幅Ｗ_MAXよりも大きい形状を貫通孔３４が有することが好ましい。

　（作用及び効果）
　実施形態によれば、櫛形電極対３３の数は、所望エアロゾルに基づいて定められる。従って、櫛形電極対３３に供給可能な電力が限られる霧化ユニット１００において、液体の霧化効率の向上によって適切な霧化ユニットを提供することができる。

　［変更例１］
　以下において、実施形態の変更例１について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１において、貫通孔３４は、実施形態と同様に、最大長Ｌ_MAXが最大幅Ｗ_MAXよりも大きい形状を有する。このような前提下において、図６に示すように、貫通孔３４は、貫通孔３４によって反射するＳＡＷの反射波と櫛形電極対３３により生成されるＳＡＷとの干渉が低減するように設けられる。具体的には、貫通孔３４の長手軸は、直交方向Ｂに対して傾きを有することが好ましい。貫通孔３４の長手軸が直交方向Ｂに対して３０°以上かつ４５°以下の傾きを有していてもよい。なお、貫通孔３４の形状は、図６に示す楕円形状に限定されるものではなく、矩形形状であってもよい。

　さらに、貫通孔３４は、楕円形状及び矩形形状以外の形状を有しておいてもよい。このようなケースであっても、貫通孔３４によって反射するＳＡＷの反射波と櫛形電極対３３により生成されるＳＡＷとの干渉が低減するように設けられる。例えば、貫通孔３４の少なくとも一部は、貫通孔３４とＳＡＷが接触するエッジラインによって区画されており、エッジラインは、ＳＡＷの進行方向Ａに対する直交方向Ｂに対して傾きを有する。ここで、エッジラインは、直交方向Ｂと平行な部分を有していてもよい。但し、エッジラインの少なくとも半分以上の部分は直交方向Ｂに対して傾きを有することが好ましい。エッジラインの少なくとも半分以上の部分は、直交方向Ｂに対して３０°以上かつ４５°以下の傾きを有することが好ましい。貫通孔３４が楕円形状又は長方形状である場合には、貫通孔３４の長手軸が直交方向Ｂに対して３０°以上かつ４５°以下の傾きを有していてもよい。

　このような構成によれば、櫛形電極対３３に高周波数（共振周波数）で電圧を印加することによって生じるＳＡＷが貫通孔３４で反射するＳＡＷの反射波によって干渉されにくい。従って、圧電素子基板３１の耐久性が向上し、エアロゾルの霧化効率も向上する。

　［変更例２］
　以下において、実施形態の変更例２について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例２において、ＳＡＷモジュール３０は、貫通孔３４から露出する液体と配置部分３０Ａとを隔てる隔壁３７を有する。隔壁３７は、配置部分３０Ａの全体を覆っていることが好ましい。さらに、隔壁３７は、インレット５１からアウトレット５２までの空気流路と配置部分３０Ａとを隔てるように構成されてもよい。このような構成によれば、液体の付着及びインレット５１から導入される空気の衝突に伴う櫛形電極対３３の劣化を抑制することができる。

　図７に示すように、隔壁３７は、配置部分３０Ａと貫通孔３４との間において圧電素子基板３１の表面３１Ｆと接触するように表面３１Ｆに設けられてもよい。このような構成によれば、液体の付着等に伴う櫛形電極対３３の劣化を確実に抑制することができる。隔壁３７は、圧電素子基板３１の全体を被覆しなくてもよい。典型的には、隔壁３７は、圧電素子基板３１の端部から０．５ｍｍ（典型的な薄膜の幅）だけ離れた位置に設けられてもよい。

　このようなケースにおいて、貫通孔３４よりも櫛形電極対３３側に霧化ゾーンが設けられる場合に、隔壁３７は、配置部分３０Ａと霧化ゾーンとの間において圧電素子基板３１の表面３１Ｆと接触するように表面３１Ｆに設けられてもよい。

　図８に示すように、隔壁３７は、配置部分３０Ａと貫通孔３４との間において圧電素子基板３１の表面３１Ｆと接触しないように表面３１Ｆに設けられてもよい。ＳＡＷの伝搬が隔壁３７によって妨げられる事態を回避しながらも、液体の付着等に伴う櫛形電極対３３の劣化をある程度抑制することができる。さらに、ＳＡＷの伝搬のために設けられる隔壁３７と表面３１Ｆとの間の間隙は数ミクロン程度であってもよい。このような間隙であれば、櫛形電極対３３の劣化を十分に抑制することができる。

　このようなケースにおいて、貫通孔３４よりも櫛形電極対３３側に霧化ゾーンが設けられる場合に、隔壁３７は、配置部分３０Ａと霧化ゾーンとの間において圧電素子基板３１の表面３１Ｆと接触しないように表面３１Ｆに設けられてもよい。

　［変更例３］
　以下において、実施形態の変更例３について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例３において、図９に示すように、櫛形電極対３３と貫通孔３４との間において、貫通孔３４に連続する親水性層３８が圧電素子基板３１の表面３１Ｆに設けられる。例えば、親水性層３８は、テフロン（登録商標）樹脂、ガラス繊維などによって構成される。親水性層３８は、一般的に知られている親水化処理技術によって形成可能である。例えば、親水化処理技術は、アセテートなどの親水性高分子膜の形成、ダイアモンドライクカーボン成膜処理、プラズマ処理、表面凹凸処理、又は、これらの組合せなどであってもよい。このような構成によれば、貫通孔３４から露出する液体が親水性層３８に移動しやすく、親水性層３８上に液体の薄膜が形成されやすい。従って、親水性層３８上に形成される薄膜から小さい粒径のエアロゾルを発生することができる。例えば、所望粒径が比較的に小さい粒径（例えば、０．２μｍ～１．０μｍ）である場合に、親水性層３８が設けられることが好ましい。

　［変更例４］
　以下において、実施形態の変更例４について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例４において、香味吸引器１の状態を表示する表示装置が設けられる。表示装置は、香味吸引器１のハウジング１Ｘの外面に設けられてもよく、香味吸引器１とは別体で設けられてもよい。表示装置が香味吸引器１と別体である場合には、表示装置は香味吸引器１と通信を行う機能を有する。表示装置は、液晶又は有機ＥＬなどのディスプレイを含む。表示装置は、液貯蔵部２００に貯蔵される液体の残量を表示してもよく、ユーザによって実行されたパフ動作の回数を表示してもよい。

　［実験結果］
　（第１実験）
　以下において、第１実験について説明する。第１実験では、櫛形電極対３３の数を変更することによって、エアロゾルの霧化状態を目視で確認した。図１０は第１実験の結果を示す図である。

　Ｎ＝２０のサンプルでは、櫛形電極対３３の数が２０であり、９．５Ｗの電力を４６．０９ＭＨｚの周波数で櫛形電極対３３に印加した。Ｎ＝４０のサンプルでは、櫛形電極対３３の数が４０であり、９．０Ｗの電力を４６．４２ＭＨｚの周波数で櫛形電極対３３に印加した。Ｎ＝８０のサンプルでは、櫛形電極対３３の数が８０であり、８．０Ｗの電力を４６．５０５ＭＨｚの周波数で櫛形電極対３３に印加した。

　図１０に示すように、Ｎ＝２０のサンプルのエアロゾル量よりもＮ＝４０のサンプルのエアロゾル量が多く、Ｎ＝４０のサンプルのエアロゾル量よりもＮ＝８０のサンプルのエアロゾル量が多いことが確認された。このような実験結果から、櫛形電極対３３の数が多いほど霧化効率が高いことが目視で確認された。

　なお、櫛形電極対３３の数が１６０であるサンプルについても実験を行ったが、このようなサンプルでは同様の電力で霧化が生じないことが確認された。このような結果は、第２実験で説明するように、ＮＢＷが狭くなり過ぎて使用可能な周波数が狭くなり過ぎたため、最も効率的な周波数で常に装置を駆動する技術的な困難性に起因して適切な霧化が生じなかったためであると考えられる。

　（第２実験）
　以下において、第２実験について説明する。第２実験では、櫛形電極対３３の数を変更することによって、ＮＢＷを確認した。図１１は第２実験の結果を示す図である。図１１において、“Ｎ”は、櫛形電極対３３の数である。“Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ”は、櫛形電極対３３に印加される交流電圧の周波数である。“ＮＢＷ”は、ＳＡＷのパワー反射係数の度合いが閾値よりも小さいＳＡＷの共振周波数を中心とする周波数帯である。小さい度合いのＳＡＷのパワー反射係数は、多くの電力エネルギーが機械エネルギーに変換されたことを意味する。すなわち、ＳＡＷの共振周波数を中心とする周波数帯であるＮＢＷにおいて、最大のエネルギー変換が達成される。

　図１１に示すように、櫛形電極対３３の数の増大に伴ってＮＢＷ（Ｎｕｌｌ　Ｂａｎｄｗｉｄｔｈ）が狭くなることが確認された。上述したように、Ｎ＝１６０のサンプルについては、ＮＢＷが狭くなり過ぎて使用可能な周波数が狭くなり過ぎたため、適切な霧化が生じないと推定されることが確認された。

　このように、第１実験の結果から櫛形電極対３３の数の増大に伴って霧化効率が向上することが確認されたものの、第２実験の結果から櫛形電極対３３の数が多すぎると却って霧化効率が低下することが確認された。すなわち、第１実験及び第２実験の結果から、エアロゾルの霧化効率に基づいて櫛形電極対３３の数を定めることが好ましいことが確認された。言い換えると、櫛形電極対３３の数は、ＮＢＷが所定幅を下回らないように、かつ、エアロゾル量が閾値以上であるという条件を満たすように定められることが好ましいことが確認された。

　（第３実験）
　以下において、第３実験について説明する。３つのサンプルについて、平均体積径（Ｄｖ５０）に係る周波数の効果を確認した。図１２は第３実験の結果を示す図である。

　「Ｓｔｒａｉｇｈｔ　ＩＤＴ－２．２５ｍｍ」は、２．２５ｍｍの長さを有する直線形状の櫛形電極対３３を有するサンプルである。「Ｓｔｒａｉｇｈｔ　ＩＤＴ－４．５ｍｍ」は、４．５ｍｍの長さを有する直線形状の櫛形電極対３３を有するサンプルである。「Ｆｏｃｕｓｓｅｄ　ＩＤＴ－５０°」は、２．２５ｍｍの長さを有しており、５０°の中心角を有する扇形形状の櫛形電極対３３を有するサンプルである。

　図１２に示すように、櫛形電極対３３のデザインによらずに、周波数の増加に伴って平均体積径（Ｄｖ５０）が小さくなることが確認された。このような結果によれば、エアロゾルの所望粒径に基づいて電極の間隔及び電極の幅（すなわち、周波数）を定めればよいことが確認された。

　［変更例５］
　以下において、実施形態の変更例５について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例５では、櫛形電極対３３に印加する高周波数の電圧の振幅について説明する。

　具体的には、変更例５では、制御部４００は、櫛形電極対３３に印加する高周波数の電圧の振幅を周期的に変更する。このような構成によれば、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに導かれる液体から液滴が飛散することを抑制することができる。これによって、液体を有効に利用することができ、安定的なエアロゾルの霧化を実現することができる。詳細には、高電圧印加時において、櫛形電極対３３に近い側の液体（薄膜部分）でエアロゾルが霧化され、低電圧印加時において、霧化によって減少する液体の供給が促進される。これらの現象が周期的に繰り返されることによって、粗大粒子の生成が抑制されるとともに、微粒子の霧化量を増大させることができる。なお、１００Ｈｚ程度の周期で高電圧・低電圧を繰り返すことが好ましい。

　例えば、図１３に示すように、高周波の電圧の周期的な振幅は、サイン波形状を描いてもよく、矩形波形状を描いてもよく、三角波形状を描いてもよく、のこぎり波形状を描いてもよい。特に、高周波数の電圧の周期的な振幅が矩形波形状を描くように高周波数の電圧を印加することが好ましい。

　［変更例６］
　以下において、実施形態の変更例６について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例６では、櫛形電極対３３に印加する電圧の最適周波数のプロファイルについて説明する。最適周波数とは、ＳＡＷのパワー反射係数の度合いが閾値よりも小さいＳＡＷの共振周波数（例えば、上述したＮＢＷの中心周波数）である。

　第１に、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに導かれる液体の液供給速度（μｌ／ｓｅｃ）と時間との関係で最適周波数が変化する点について説明する。具体的には、図１４に示すように、液供給速度が異なるサンプル（図１４では、１２のサンプル）を準備して、櫛形電極対３３に電圧を印加する時間と最適周波数との関係を確認した。但し、櫛形電極対３３の幅は一定であるものとする。このような確認結果によれば、時間の経過とともに最適周波数が変化することが読み取れ、このような変化が液供給速度によって異なることも読み取れる。従って、制御部４００は、液供給速度及び時間経過に応じて変化する最適周波数を監視するとともに、監視された最適周波数で電力を供給することによって、エアロゾルの霧化効率を向上することができる。

　第２に、櫛形電極対３３に高周波数で電圧を印加することよって生じるＳＡＷの出力（Ｗ）と時間との関係で最適周波数が変化する点について説明する。具体的には、図１５に示すように、ＳＡＷの出力が異なるサンプル（図１５では、５のサンプル）を準備して、櫛形電極対３３に電圧を印加する時間と最適周波数との関係を確認した。但し、櫛形電極対３３の幅は一定であるものとする。このような確認結果によれば、時間の経過とともに最適周波数が変化することが読み取れ、このような変化がＳＡＷの出力によって異なることも読み取れる。従って、制御部４００は、ＳＡＷの出力及び時間経過に応じて変化する最適周波数を監視するとともに、監視された最適周波数で電力を供給することによって、エアロゾルの霧化効率を向上することができる。

　［変更例７］
　以下において、実施形態の変更例７について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例７では、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに導かれる液体の液供給速度（μｌ／ｓｅｃ）と櫛形電極対３３に高周波数で電圧を印加することよって生じるＳＡＷの出力（Ｗ）との関係について説明する。

　第１に、図１６に示すように、制御部４００は、時刻ｔ２でＳＡＷの出力が所望レベルに達するように、時刻ｔＳｔａｒｔから徐々にＳＡＷの出力を増大する。制御部４００は、時刻ｔＥｎｄでＳＡＷの出力をゼロにする。一方で、制御部４００は、時刻ｔ１で所望レベルまで液供給速度を増大する。制御部４００は、時刻ｔＥｎｄで液供給速度をゼロにする。時刻ｔ１は、時刻ｔＳｔａｒｔと時刻ｔ２との間であってもよい。

　第２に、図１７に示すように、制御部４００は、時刻ｔ２でＳＡＷの出力が所望レベルに達するように、時刻ｔＳｔａｒｔから徐々にＳＡＷの出力を増大する。制御部４００は、時刻ｔＥｎｄでＳＡＷの出力をゼロにする。一方で、制御部４００は、時刻ｔ３で液供給速度が所望レベルに達するように、時刻ｔ１から徐々に液供給速度を増大する。制御部４００は、時刻ｔＥｎｄで液供給速度をゼロにする。時刻ｔ１は、時刻ｔＳｔａｒｔと時刻ｔ２との間であってもよい。時刻ｔ３は、時刻ｔ２の後であってもよい。

　なお、時刻ｔＳｔａｒｔは、パフ動作の開始がセンサ３００によって検出されたタイミングでもよく、パフ動作を行うためのボタンが押下されたタイミングでもよい。時刻ｔＥｎｄは、パフ動作の終了がセンサ３００によって検出されたタイミングでもよく、パフ動作を行うためのボタンが押下されなくなったタイミングでもよい。

　図１６及び図１７に示すように、ＳＡＷの出力が時刻ｔＳｔａｒｔから徐々に増大し、かつ、時刻ｔＳｔａｒｔよりも後の時刻ｔ１で液供給速度の増大を開始するため、ＳＡＷの出力（Ｗ）を増大する初期段階において、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに導かれる液体から大粒径の液滴が飛散することを抑制することができる。さらに、図１７に示すように、液供給速度を徐々に増大することによって、大粒径の液滴の飛散を抑制することができる。

　［変更例８］
　以下において、実施形態の変更例８について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例８では、エアロゾルの状態を検出する検出器が設けられる。例えば、制御部４００は、検出器の検出結果に基づいて、エアロゾルの生成不良などのエラーをフィードバックしてもよい。検出器は、エアロゾルの生成で生じる微弱ノイズを検出するマイクロフォンセンサであってもよい。

　図１８に示すように、検出器３９は、圧電素子基板３１の裏面３１Ｂに設けられてもよい。検出器３９は、圧電素子基板３１を挟んで液体の反対側に設けられることが好ましい。

　図１９に示すように、検出器３９は、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに設けられてもよい。ＳＡＷの進行方向をＰ方向とした場合に、検出器３９は、Ｐ方向に直交するＱ方向において液体の隣に設けられてもよい。検出器３９は、液体に接触しないことが好ましい。

　図２０に示すように、検出器３９は、圧電素子基板３１の表面３１Ｆ上において、圧電素子基板３１の表面３１Ｆから離れた位置に設けられてもよい。検出器３９とエアロゾルとの接触を抑制するために、検出器３９とエアロゾルとの間にシールド３９Ａが設けられることが好ましい。

　［変更例９］
　以下において、実施形態の変更例９について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例９では、貫通孔３４から露出する液体を検出するセンサが設けられる。例えば、制御部４００は、センサの検出結果に基づいて、液供給部６０（液供給速度など）を制御してもよい。このような構成によれば、正確なポンプ制御によって霧化液体の霧化部への過剰供給と霧化部での液体の枯渇を防ぐことができ、エアロゾルの霧化の安定性が向上する。

　図２１に示すように、センサ７１は、１対の先端（例えば、先端７１Ａ、７１Ｂ）を有する電気伝導度センサであってもよい。１対の先端は、貫通孔３４に隣接しており、貫通孔３４から露出する液体によって電気的に接続される。センサ７１は、１対の先端間の電気信号の伝導度によって液体の存在を検出する。

　図２２に示すように、センサ７２は、２対の以上の先端（例えば、先端７２Ａ、７２Ｂなど）を有する電気伝導度センサであってもよい。２対以上の先端は、貫通孔３４に隣接しており、貫通孔３４から露出する液体によって電気的に接続される。但し、先端対が設けられる位置は互いに異なっている。先端対間の電気信号の伝導度によって薄膜の均一性を監視することができ、センサ７２を用いることによって先端対が設けられる位置において液体の存在を検出することができる。

　図２３に示すように、センサ７３は、所定信号を出力するエミッタ（例えば、エミッタ７３Ａ）と所定信号を受信するレシーバ（例えば、レシーバ７３Ｂ）とを有するセンサであってもよい。エミッタ７３Ａ及びレシーバ７３Ｂは、貫通孔３４を挟んで配置されており、センサ７３は、所定信号の伝達度合いによって液体の存在を検出する。エミッタ７３Ａ及びレシーバ７３Ｂは薄膜固体パッドによって構成されてもよい。

　図２４に示すように、センサ７４は、ＳＡＷを出力するエミッタ（例えば、エミッタ７４Ａ）とＳＡＷを受信するレシーバ（例えば、レシーバ７４Ｂ）とを有するＳＡＷセンサであってもよい。エミッタ７４Ａ及びレシーバ７４Ｂは、貫通孔３４を挟んで配置されており、センサ７４は、ＳＡＷの伝達度合いによって液体の存在を検出する。エミッタ７４Ａ及びレシーバ７４Ｂは薄膜ＩＤＴによって構成されてもよい。

　図２５（ａ）及び図２５（ｂ）に示すように、センサ７５は、１対以上の電極（例えば、先端７５Ａ、７５Ｂなど）を有する静電容量センサであってもよい。このようなケースにおいて、１対以上の電極は、霧化ゾーンに配置される液体を跨がるように配置される。センサ７５は、液体の有無によって生じる静電容量の違いによって、液体が存在しているか否かを検出する。このようなケースにおいて、貫通孔３４が設けられていなくてもよい。

　［変更例１０］
　以下において、実施形態の変更例１０について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１０では、変更例８及び変更例９の組合せ例について説明する。図２６に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、検出器８１と、センサ８２と、深度センサ８３とを有する。

　検出器８１は、変更例８で説明した検出器３９と同様に、エアロゾルの状態を検出する。センサ８２は、変更例９で説明した電気伝導度センサ又はＳＡＷセンサと同様に、貫通孔３４から露出する液体を検出する。深度センサ８３は、貫通孔３４の液体の深度（液体の表面水位）を検出する。深度センサ８３は、電気信号の伝導度によって液体の存在を検出する電気伝導度センサであってもよい。

　このような構成において、制御部４００は、エアロゾルの霧化前後においては、図２６の上段に示すように、深度センサ８３の検出結果に基づいて、液供給部６０（液供給速度など）を制御する。例えば、制御部４００は、液体が所望深度に維持されるように液供給部６０を制御する。このような構成によれば、エアロゾルの霧化の応答性が向上する。

　制御部４００は、エアロゾルの霧化中においては、図２６の下段に示すように、検出器８１の検出結果に基づいて、エアロゾルの生成不良などのエラーをフィードバックする。制御部４００は、エラーをユーザに通知してもよく、香味吸引器１（例えば、霧化ユニット１００）の動作を停止してもよい。さらに、制御部４００は、センサ８２の検出結果に基づいて、液供給部６０（液供給速度など）を制御する。このような構成によれば、エアロゾルの霧化の安定性が向上する。

　また、深度センサ８３によって霧化中の液体量を制御することも可能である。深度センサ８３によって液体の量の減少を検出した場合に、制御部４００は、深度センサ８３の検出結果に基づいて、液供給部６０（液供給速度など）を制御する。このような構成によれば、霧化中においても液体の量が適量に制御されるため、エアロゾルの霧化の安定性が向上する。

　さらに、図示していないが、深度センサ８３としては、検出可能な深度の異なる２以上の深度センサが設けられてもよい。このような場合には、検出可能な深度の異なる深度センサの範囲内で溶液量を適正に制御することが容易となる。例えば、第１深度の液体を検出可能な深度センサで液体を検出し、第１深度よりも浅い第２深度の液体を検出可能な深度センサで液体を検出しない場合に、液体の深度が第１深度と第２深度との間であることを検出することができる。

　［変更例１１］
　以下において、実施形態の変更例１１について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１１では、圧電素子基板３１の表面３１Ｆで液体をガイドする方法について説明する。具体的には、図２７に示すように、圧電素子基板３１の表面３１Ｆには、供給ポート３４Ｘ、親水性層３８Ａ、疎水性層３８Ｂ及び疎水性層３８Ｃが設けられる。

　供給ポート３４Ｘは、液体が供給されるポイントである。供給ポート３４Ｘは、ＳＡＷの進路外に設けられる。従って、供給ポート３４Ｘは、上述した貫通孔３４である必要はなく、圧電素子基板３１の表面３１Ｆ側から液体が供給されるポイントであってもよい。

　親水性層３８Ａは、供給ポート３４Ｘに連続しており、ＳＡＷの進路内に液体を導くパターンを有する。疎水性層３８Ｂは、親水性層３８Ａと比べて櫛形電極対３３に近い側に設けられており、親水性層３８Ａから離間して設けられる。疎水性層３８Ｃは、親水性層３８Ａと比べて櫛形電極対３３から遠い側に設けられており、親水性層３８Ａから離間して設けられる。疎水性層３８Ｂ及び疎水性層３８Ｃによって、親水性層３８Ａからの液体の移動が制限され、液体に対するＳＡＷの接触角度を小さくすることができ、エアロゾルの霧化効率が向上する。

　このような構成によれば、貫通孔３４を設ける必要がないため、圧電素子基板３１を被覆するコーティング層３６を設けることが容易である。

　［変更例１２］
　以下において、実施形態の変更例１２について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１２では、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに液体を供給する方法について説明する。具体的には、図２８に示すように、圧電素子基板３１の表面３１Ｆには、親水性層３８Ｄ及びウイック９０が設けられる。

　親水性層３８Ｄは、ＳＡＷの進路上に設けられる。親水性層３８Ｄは、長さＬ及び幅Ｗを有しており、エアロゾルを霧化する霧化ゾーンを構成する。ウィック９０は、親水性層３８Ｄに連続しており、液体を親水性層３８Ｄに供給する。ウィック９０は、ウィック９０の形状を維持するウィックコア９１と、液体を保持する保持層９２とを有していてもよい。圧電素子基板３１の表面３１Ｆに接触するウィックコア９１は、圧電素子基板３１を伝達するＳＡＷをウィックコア９１で反射可能な硬度を有する金属又はプラスチックによって構成されることが好ましい。保持層９２は、毛管現象によって液体を供給する毛管部材によって構成されてもよい。

　このような構成によれば、貫通孔３４を設ける必要がないため、圧電素子基板３１を被覆するコーティング層３６を設けることが容易である。

　［変更例１３］
　以下において、実施形態の変更例１３について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１３では、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに液体を供給する方法について説明する。具体的には、図２９に示すように、圧電素子基板３１の表面３１Ｆには、親水性層３８Ｅ及び部材８４が設けられる。さらに、圧電素子基板３１の表面３１Ｆ上には、液貯蔵部２００及びモータ６１が設けられる。

　親水性層３８Ｅは、ＳＡＷの進路上に設けられており、エアロゾルを霧化する霧化ゾーンを構成する。部材８４は、液体の存在を検出するセンサであってもよく、エアロゾルの状態を検出する検出器であってもよい。

　液貯蔵部２００及び駆動部６１は、親水性層３８Ｅの近傍に液体を滴下する装置を構成する。例えば、液貯蔵部２００は、液体を貯蔵するとともに、液体を滴下するノズルを有していてもよい。駆動部６１は、ノズルから液体を滴下する駆動力を生じる部材（例えば、モータ）であってもよい。

　このような構成によれば、貫通孔３４を設ける必要がないため、圧電素子基板３１を被覆するコーティング層３６を設けることが容易である。

　［変更例１４］
　以下において、実施形態の変更例１４について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１４では、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに液体を供給する方法について説明する。具体的には、図３０及び図３１に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、液体をガイドするガイド部材６１０を有する。圧電素子基板３１は、コーティング層３６によって被覆されている。

　ガイド部材６１０は、圧電素子基板３１のエッジ部分において圧電素子基板３１の表面３１Ｆに設けられている。ガイド部材６１０は、圧電素子基板３１の表面３１Ｆから所定高さを有する形状を有する。ガイド部材６１０は、高い熱伝導性を有する材料（例えば、金属やセラミック）によって構成されてもよい。ガイド部材６１０は、流路６１１と、一時貯蔵部６１２と、ガイドスリット６１３とを有する。流路６１１は、液体の流路を構成する。一時貯蔵部６１２は、流路６１１を介して供給される液体を一時的に貯留する。ガイドスリット６１３は、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに対して傾斜を有する。ガイドスリット６１３は、一時貯蔵部６１２から溢れる液体を圧電素子基板３１の表面３１Ｆに自重及び／又は毛管力によって導く。ガイドスリット６１３として２以上のガイドスリットが設けられてもよい。

　このような構成によれば、圧電素子基板３１のエッジ部分に設けられるガイド部材６１０によって、圧電素子基板３１のエッジ部分から離れた位置に霧化ゾーンを配置することができ、エッジ部分におけるコーティング層３６の剥離を抑制することができる。さらに、貫通孔３４を設ける必要がないため、圧電素子基板３１を被覆するコーティング層３６を設けることが容易である。

　変更例１４では、圧電素子基板３１の裏面３１Ｂから液体を供給するケースを例示しているが、変更例１４はこれに限定されるものではない。液体は、ガイド部材６１０の横から供給されてもよく、ガイド部材６１０の上から供給されてもよい。液体がガイド部材６１０の上から供給される場合には、上述した流路６１１が設けられなくてもよい。

　或いは、液体は、貫通孔３４を介して供給されてもよい。このようなケースにおいて、ガイド部材６１０は、流路６１１が貫通孔３４と連通するように設けられ、貫通孔３４のエッジ部分から離れた位置に霧化ゾーンを配置することができ、エッジ部分におけるコーティング層３６の剥離を抑制することができる。

　或いは、図３２に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、液体をガイドするガイド部材６１０Ａを有してもよい。ガイド部材６１０Ａは、内部に微小な流路を有するプラスチック又は金属などの部材によって構成されており、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに設けられる。ガイド部材６１０Ａは、圧電素子基板３１の表面３１Ｆとガイド部材６１０Ａとの間の微小空間に、ガイド部材６１０Ａに含浸される液体を導く。ガイド部材６１０Ａは、微小空間から液体を圧電素子基板３１の表面３１Ｆ上に導く。

　或いは、図３３に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、液体をガイドするガイド部材６１０Ｂを有してもよい。ガイド部材６１０Ｂは、内部に微小な流路を有するプラスチック又は金属などの部材によって構成されており、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに設けられる。ガイド部材６１０Ｂは、ガイド部材６１０Ｂに含浸される液体をガイド部材６１０Ｂの斜面６１３Ｂに沿って圧電素子基板３１の表面３１Ｆ上に導く。

　図３２又は図３３に示す構成によれば、図３０及び図３１に示す構成と同様に、圧電素子基板３１のエッジ部分から離れた位置に霧化ゾーンを配置することができ、エッジ部分におけるコーティング層３６の剥離を抑制することができる。

　［変更例１５］
　以下において、実施形態の変更例１５について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１５では、ＳＡＷモジュール３０の基板構成のバリエーションについて説明する。具体的には、図３４に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、圧電素子基板６２１と、プレート６２２と、バッファ６２３と、霧化表面層６２４とを有する。図３４では、基板構成以外の構成（例えば、櫛形電極対３３）は省略されている。

　圧電素子基板６２１は、上述した圧電素子基板３１と同様である。プレート６２２は、圧電素子基板３１と異なる基板であり、例えば、アルミプレートである。バッファ６２３は、圧電素子基板６２１の表面及び側面に位置しており、圧電素子基板６２１から生じるＳＡＷを霧化表面層６２４に伝達させる緩衝液体によって構成される。例えば、緩衝液体は、グリセリンである。霧化表面層６２４は、バッファ６２３及びプレート６２２上に設けられ、エアロゾルを霧化する霧化ゾーンが設けられる。例えば、霧化表面層６２４は、ステンレスプレートによって構成される。このようなケースにおいて、霧化表面層６２４の表面側から液体が供給されてもよい。

　このような構成によれば、圧電素子基板６２１とは異なる霧化表面層６２４にＳＡＷを伝達することができ、圧電素子基板６２１への液体（香料溶液）の接触を避けることができる。例えば、上述した貫通孔３４に相当する貫通孔は、プレート６２２に設けられてもよい。

　［変更例１６］
　以下において、実施形態の変更例１６について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１６では、圧電素子基板３１の裏面３１Ｂから液体を供給するケースにおいて、圧電素子基板３１のエッジ部分の形状のバリエーションについて説明する。エッジ部分とは、霧化ゾーンに隣接する部分である。エッジ部分には面取り加工が施されている。このような構成によれば、霧化ゾーンのエネルギー密度を低減させることで、エッジ部分のコーティング層３６の剥離を抑制することができる。

　ここで、エッジ部分の面取り加工は、図３５に示すように、直線状の面取り加工であってもよく、図３６に示すように、ラウンド状の面取り加工であってもよい。エッジ部分は、貫通孔３４のエッジ部分であってもよい。

　［変更例１７］
　以下において、実施形態の変更例１７について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１７では、霧化ゾーンのバリエーションについて説明する。具体的には、図３７に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、２以上の狭い溝６３１（ここでは、溝６３１Ａ～溝６３１Ｄ）を霧化ゾーンとして有する。各溝６３１は、ＳＡＷの進行方向に対する直交方向に延びる形状を有する。各溝６３１には液体が供給される。各溝６３１に供給される液体の量は、櫛形電極対３３に近いほど多くてもよい。図３７では省略されているが、圧電素子基板３１はコーティング層３６によって被覆される。

　このような構成によれば、２以上の溝によってＳＡＷのエネルギーが分散されるため、霧化ゾーンにおけるコーティング部材３６の剥離が抑制され、端部における適切なコーティングの強固さが増大する。

　［変更例１８］
　以下において、実施形態の変更例１８について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１８では、圧電素子基板３１の表面３１Ｆで液体をガイドする方法について説明する。具体的には、図３８に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、プリント電極６４１～プリント電極６４３を有する。２つの液貯蔵部２００（液貯蔵部２００Ａ及び液貯蔵部２００Ｂ）が設けられる。液貯蔵部２００Ａに貯蔵される液体は、液貯蔵部２００Ｂに貯蔵される液体と異なってもよい。

　プリント電極６４１～プリント電極６４３は、互いに隣接するプリント電極の電圧差を利用して液体を搬送する。例えば、プリント電極６４１Ａは、液貯蔵部２００Ａに貯蔵される液体を搬送し、プリント電極６４１Ｂは、液貯蔵部２００Ｂに貯蔵される液体を搬送する。プリント電極６４２は、プリント電極６４１Ａ及びプリント電極６４１Ｂから供給される液体の混合物を搬送する。プリント電極６４３Ａ及びプリント電極６４３Ｂは、プリント電極６４２から供給される液体の混合物を搬送する。プリント電極６４３Ａの一部及びプリント電極６４３Ｂの一部のそれぞれは霧化ゾーンを構成する。

　霧化ゾーンを構成するプリント電極の幅は、霧化ゾーンを構成しないプリント電極（例えば、プリント電極６４２）の幅よりも大きくてもよく、液体の塊を２以上の方向に同時に引きつけるように特定の方法で駆動されてもよい。このような構成によれば、霧化ゾーンを構成しないプリント電極の幅が小さいため、霧化ゾーンを構成しないプリント電極の省スペース化を図ることができる。液体の塊を２以上の方向に同時に引きつけるように駆動されるため、霧化ゾーンにおける液体を平坦にすることができ、液体に対するＳＡＷの接触角度を小さくすることができる。

　［変更例１９］
　以下において、実施形態の変更例１９について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例１９では、放熱機構のバリエーションについて説明する。具体的には、図３９～図４１に示すように、ＳＡＷモジュール３０の裏面には、コーティング層６５１及び接着層６５２が設けられる。コーティング層６５１は、金属によって構成されてもよい。接着層６５２は、はんだによって構成されてもよい。

　このような前提下において、図３９に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、接着層６５２を介して熱導電部材６５３及び回路基板６５４に接着される。熱導電部材６５３は、金属などの熱伝導部材によって構成されており、柱状部分６５３Ａ及びプレート部分６５３Ｂを有する。柱状部分６５３Ａは、回路基板６５４を貫通しており、プレート部分６５３Ｂは、回路基板６５４の裏面に配置される。回路基板６５４は、接着層６５２に接着しやすい部材によって構成されており、柱状部材６５３Ａを通す貫通孔を有する。

　或いは、図４０に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、接着層６５２を介してヒートシンク６５５に接着される。ヒートシンク６５５は、金属などの熱伝導部材によって構成される。

　或いは、図４１に示すように、ＳＡＷモジュール３０は、接着層６５２を介して熱導電部材６５３及び回路基板６５４に接着された上で、プレート部分６５３Ｂにヒートシンク６５５が接着されてもよい（図３９及び図４０の組合せ）。

　［変更例２０］
　以下において、実施形態の変更例２０について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例２０では、液供給部のバリエーションについて説明する。ここでは、液供給部が液貯蔵部を有するケースについて例示する。

　第１に、図４２に示すように、液供給部６０は、ハウジング６６１と、ポンプ６６２と、ピストン６６３とを有してもよい。ハウジング６６１は、ピストン６６３を駆動する液体６６６及びエアロゾルを生成する液体６６７を有する。液体６６６及び液体６６７は、ピストン６６３によって仕切られる。ハウジング６６１は、ハウジング６６１とポンプ６６２とを連通する流路６６１Ａと、ハウジング６６１とポンプ６６２とを連通する流路６６１Ｂとを有する。ハウジング６６１は、液体６６７を吐出する吐出口６６１Ｃを有する。

　ここで、ポンプ６６２は、液体６６６の還流によってピストン６６３を移動させる。例えば、ポンプ６６２は、流路６６１Ａを介して液体６６６を吸い上げるとともに、流路６６１Ｂを介して液体６６６をハウジング６６１に戻すことによって、ピストン６６３を前進させる。これによって、ポンプ６６２は、吐出口６６１Ｃから液体６６７を吐出することができる。ポンプ６６２は、ピエゾポンプであってもよい。

　このような構成によれば、液体６６７の吐出に用いる液体６６６が液体６６７と混合しないため、液体６６７に不純物が混ざる可能性を低減することができる。また、エアロゾルを生成する液体６６７がポンプ６６２を通らないため、液体６６７の変質を抑制することができる。さらに、液体６６６の還流量によってピストン６６３の移動量を特定することが可能であり、ピストン６６３の移動量によって液体６６７の残量を特定することが可能である。

　図４２では、ピストン６６３を駆動する媒体として液体６６６を例示しているが、液体６６６に代えて気体を用いてもよい。

　ここで、液供給部６０は、図４３に示すように、図４２に示す構成に加えて、ポンプ６６８を有してもよい。ポンプ６６８は、液体６６６の還流によってピストン６６３を移動させる。ポンプ６６８は、流路６６９Ａを介して液体６６６を吸い上げるとともに、流路６６９Ｂを介して液体６６６をハウジング６６１に戻すことによって、ピストン６６３を後退させる。ポンプ６６８は、ピエゾポンプであってもよい。

　第２に、図４４に示すように、液供給部６０は、ハウジング６７１と、バッグ６７２とを有する。ハウジング６７１は、バッグ６７２及び空気６７６を収容するとともに、ハウジング６７１内に空気６７６を供給するインレット６７１Ａを有する。バッグ６７２は、エアロゾルを生成する液体６７７を収容するとともに、液体６７７を吐出する吐出口６７２Ａを有する。吐出口６７２Ａは、ハウジング６７１と一体となっていてもよい。

　ここで、バッグ６７２は、可撓性を有する部材によって構成される。これによって、インレット６７１Ａからハウジング６７１内に空気６７６が供給されると、バッグ６７２は、空気６７６の圧力によって液体６７７を吐出することができる。

　このような構成によれば、液体６７７の吐出に用いる空気６７６が液体６７７と混合しないため、液体６７７に不純物が混ざる可能性を低減することができる。

　図４４では、バッグ６７２を加圧する媒体として空気６７６を例示しているが、空気６７６に代えて液体を用いてもよい。

　［変更例２１］
　以下において、実施形態の変更例２１について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　実施形態では特に触れていないが、圧電素子基板３１は、レーザカットによって切り出されてもよい。このような構成によれば、圧電素子基板３１のエッジ部分が滑らかになるため、圧電素子基板３１の耐久性及びコーティング層３６の接着性が向上する。

　［変更例２２］
　以下において、実施形態の変更例２２について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例２２では、図４５に示すように、霧化ユニット１００は、トップカバー７１０と、ガイド壁７１１と、センサ７１２とを有する。霧化ユニット１００は、実施形態と同様に、圧電素子基板３１及び櫛形電極対３３を有する。

　トップカバー７１０は、ＳＡＷによって霧化されるエアロゾルの側方及び上方を覆うように設けられる。トップカバー７１０の上端には、エアロゾルを排出する開口７１０Ａが設けられる。

　ガイド壁７１１は、トップカバー７１０の内壁と隙間を許容せずにトップカバー７１０の内壁と接触するよに設けられる。ガイド壁７１１は、圧電素子基板３１と離間して配置されており、圧電素子基板３１とガイド壁７１１との間に貫通孔３４が設けられる。図４５では、ガイド壁７１１としてガイド壁７１１Ａ及びガイド壁７１１Ｂが設けられる。

　圧電素子基板３１とガイド壁７１１Ａとの間に設けられる貫通孔３４Ａには、液供給部（例えば、シリンジポンプ）から第１液体が供給される。同様に、圧電素子基板３１とガイド壁７１１Ｂとの間に設けられる貫通孔３４Ｂには、液供給部（例えば、シリンジポンプ）から第２液体が供給される。第１液体及び第２液体は、同じ種類の液体であってもよく、異なる種類の液体であってもよい。

　センサ７１２は、変更例９など同様に、貫通孔３４から露出する液体を検出する。センサ７１２の検出結果に基づいて、液供給部６０（液供給速度など）を制御してもよい。図４５では、センサ７１２として、貫通孔３４Ａから露出する第１液体を検出するセンサ７１２Ａ及び貫通孔３４Ｂから露出する第２液体を検出するセンサ７１２Ｂが設けられる。

　図４５では省略されているが、Ｏリング及びパッキンなどのシール部材によって、第１液体及び第２液体の漏れが抑制されてもよい。

　［変更例２３］
　以下において、実施形態の変更例２３について説明する。以下においては、実施形態に対する相違点について主として説明する。

　変更例２３では、図４６に示すように、霧化ユニット１００は、図４５に示す構成に加えて、衝突板７２１及び分離体７２２を有する。

　衝突板７２１は、第１液体の霧化ゾーンを覆うように配置される。衝突板７２１は、第１液体から生じるエアロゾルに含まれる粗大粒子（例えば、１０ミクロン程度）を慣性衝突によって捕集する機能を有する。エアロゾルに含まれる微粒子は、衝突板７２１で捕集されずに、衝突板７２１と圧電素子基板３３との間の隙間から開口７１０Ａ（すなわち、ユーザの口腔）に導かれる。

　衝突板７２１で捕集される粗大粒子は、霧化ゾーンに戻されてもよい。霧化ゾーンに戻される粗大粒子は再び霧化されてもよい。或いは、衝突板７２１で捕集される粗大粒子は、霧化に再利用されることなく、多孔質吸収部材又はリザーバなどの回収部材を用いて回収されてもよい。

　図４６では、第２液体の霧化ゾーンを覆う衝突板が設けられていないが、第２液体の霧化ゾーンを覆う衝突板が設けられてもよい。第１液体及び第２液体は、同じ種類の液体であってもよく、異なる種類の液体であってもよい。衝突板の有無によって所望粒径の粒子を含むエアロゾルを供給することができる。

　図４６では、第１液体及び第２液体が別々に霧化されるケースを例示しているが、第１液体及び第２液体が混合された後に霧化されてもよい。衝突板７２１は、混合液の霧化ゾーンを覆うように配置されてもよく、吸口に設けられてもよい。

　分離体７２２は、第１液体の霧化ゾーンと第２液体の霧化ゾーンとの間に設けられる。分離体７２２は、エアロゾルが開口７１０Ａから排出されるまで、第１液体から生じるエアロゾルと第２液体から生じるエアロゾルとの混合を抑制する。このような構成によれば、第１液体及び第２液体が異なる種類の液体である場合に、異なる液体から生じるエアロゾルの混合を抑制することができる。特に、各液体から生じるエアロゾルに含まれる粗大粒子を再利用するケースにおいて、異なる液体から生じるエアロゾルの混合を抑制することが好ましい。

　さらには、衝突板７２１で捕集される粗大粒子よりも大きい特大粒子（例えば、１００ミクロン程度）を分離体７２２で捕集することも可能である。なお、衝突板７２１を用いない場合でも、例えば、１００ミクロン程度の特大粒子を分離体７２２で捕集することも可能である。

　分離体７２２で捕集される特大粒子は、霧化ゾーンに戻されてもよい。霧化ゾーンに戻される特大粒子は再び霧化されてもよい。或いは、分離体７２２で捕集される粗大粒子は、霧化に再利用されることなく、多孔質吸収部材又はリザーバなどの回収部材を用いて回収されてもよい。

　図４６では、衝突板７２１が設けられているが、図４７に示すように、衝突板７２１に代えてフィルター７２５が設けられてもよい。フィルター７２５は、トップカバー７１０内の任意の位置に設けられる繊維層フィルター又は粒子充填層フィルターである。フィルター７２５の繊維径、粒子径、充填率、充填長を変更することで、粗大粒子の捕集効率を最適に設計することが可能である。

　トップカバー７１０は、インレット７２６を有していてもよい。インレット７２６から開口７１０までの空気又はエアロゾルの流路がトップカバー７１０内に形成される。このよな構成によれば、トップカバー７１０内のエアロゾルの滞留が抑制され、口腔に供給されるエアロゾルの量を最適化することができる。インレット７２６は、図４５及び図４６のトップカバー７１０に設けられてもよい。

　［実験結果］
　以下において、実験結果について説明する。実験では、液体として蒸留水を用いて、櫛形電極対に印加される電圧の周波数として５０ＭＨｚを用いた。実験では、エアロゾルに含まれる粒子の粒径分布を確認した。実験結果は図４８に示す通りである。

　図４８では、粒子の個数を基準として確認された粒径分布及び粒子の体積を基準として確認された粒径分布が示されている。粒子の個数については、粒径分布が単一のピークを有することが確認されたが、粒子の体積については、粒径分布が２つのピーク（約０．６ミクロン及び約８ミクロン）を有することが確認された。

　このようなケースにおいて、変更例２３（図４６又は図４７を参照）で説明した衝突板７２１又はフィルター７２５を用いることによって、約８ミクロンの粒子を選択的に捕集することによって、粒子の体積を基準とした粒径分布が単一ピーク（約０．６ミクロン）を持つように調整することができる。

　［その他の実施形態］
　本発明は上述した実施形態によって説明したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。

　実施形態では、液供給部６０は、圧電素子基板３１の裏面３１Ｂの側に設けられる。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、液供給部６０は、圧電素子基板３１の表面３１Ｆの側に設けられてもよい。このようなケースにおいて、液供給部６０は、圧電素子基板３１の表面３１Ｆに液体を滴下してもよい。また、圧電素子基板３１は、貫通孔３４を有していなくてもよい。

　実施形態では、櫛形電極対３３は、直線形状を有する。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではない。例えば、櫛形電極対３３は、扇形形状を有していてもよい。

　実施形態では、櫛形電極対３３の数は、ＳＡＷによって霧化されるエアロゾルの霧化効率に基づいて定められる。しかしながら、実施形態は、これに限定されるものではない。例えば、櫛形電極対３３の数は、櫛形電極対３３に供給可能な電力の大きさに基づいて定められてもよい。櫛形電極対３３の数は、液体を構成する溶質又は溶媒の種類に基づいて定められてもよい。櫛形電極対３３の数は、ＳＡＷモジュールに供給される液体の供給方法及び供給速度に基づいて定められてもよい。

　実施形態では、香味吸引器１は、インレット１Ａを有する。しかしながら、実施形態は、これに限定されるものではない。香味吸引器１は、インレット１Ａを有していなくてもよい。このようなケースにおいて、ユーザは、マウスピース１Ｄを咥えずに、マウスピース１Ｄから流出されるエアロゾルを外気とともに吸い込む。

　実施形態では特にふれていないが、ユーザが吸引するエアロゾルの量は、ユーザによって設定可能であってもよい。香味吸引器１は、ユーザによって設定されたエアロゾルの量に基づいて、ＳＡＷモジュール３０に印加される電圧を調整してもよく、液供給部６０からＳＡＷモジュール３０に供給される液体の量を調整してもよい。

　実施形態では、香味吸引器１が１つのＳＡＷモジュール３０を有するケースを例示した。しかしながら、実施形態はこれに限定されるものではない。香味吸引器１は、２以上のＳＡＷモジュール３０を有していてもよい。

　実施形態では特に触れていないが、香味吸引器１は、電源スイッチを有していてもよい。香味吸引器１は、電源スイッチのオンによって駆動モードで動作してもよい。駆動モードは、香味吸引器１に設けられる各構成に電力が供給されるモードであり、例えば、霧化ユニット１００の霧化動作を開始可能なモードである。香味吸引器１は、電源スイッチがオフである状態において待機モードで動作してもよい。待機モードは、電源スイッチのオンを検出可能な待機電力で動作するモードである。

　実施形態では特に触れていないが、香味吸引器１は、香味吸引器１の温度（例えば、大気温度）を検出する温度センサを有していてもよい。香味吸引器１は、香味吸引器１の温度が下限温度を下回る場合に、液体の霧化動作を行わない機能を有していてもよい。香味吸引器１は、香味吸引器１の温度が上限温度を上回る場合に、液体の霧化動作を行わない機能を有していてもよい。

　実施形態では特に触れていないが、香味吸引器１は、液体の残量を検出する残量センサを有していてもよい。残量センサは、貫通孔３４内に設けられてもよく、貫通孔３４内の液体の表面水位を検出してもよい。残量センサの検出結果によって液体の表面水位が制御されてもよい。霧化ユニット１００及び液貯蔵部２００の少なくともいずれかがカートリッジである場合には、香味吸引器１は、カートリッジの有無を検出する感知センサを有していてもよい。カートリッジが存在していない場合に、香味吸引器１は、液体の霧化動作を行わない機能を有していてもよい。

　実施形態では、香味吸引器１は、センサ３００を有する。しかしながら、実施形態は、これに限定されるものではない。香味吸引器１は、センサ３００に代えて、霧化ユニット１００の駆動に用いる駆動スイッチを有していてもよい。香味吸引器１は、駆動スイッチのオンに応じて霧化ユニット１００の霧化動作を開始してもよい。香味吸引器１は、駆動スイッチのオフに応じて霧化ユニット１００の霧化動作を停止してもよい。香味吸引器１は、駆動スイッチのオンから一定期間が経過した場合に霧化ユニット１００の霧化動作を停止してもよい。

　実施形態では特に触れていないが、香味吸引器１に設けられるスイッチは、上述した電源スイッチ及び駆動スイッチ以外のスイッチでもよい。例えば、スイッチは、香味吸引器１が有する２以上の動作モードを切り替えるスイッチでもよい。香味吸引器１に設けられるスイッチは、メカニカルスイッチであってもよく、タッチパネルであってもよい。

　実施形態では特に触れていないが、香味吸引器１は、液貯蔵部２００から霧化ユニット１００に液体を供給するための配管の未使用液体を液貯蔵部２００に戻す機能を有していてもよい。香味吸引器１は、未使用液体を溜める液溜め機構など、未使用液体がマウスピース１Ｄを介して流出するのを防ぎ、未使用液体を再利用する機構を有していてもよい。

　実施形態によれば、液体の霧化効率を向上することが可能な霧化ユニットを提供することができる。

Claims (16)

1. 　櫛形電極対によって構成されるＩＤＴを有する圧電素子基板と、
   　霧化すべき液体を前記圧電素子基板に供給するように構成された液供給部とを備え、
   　前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対に高周波で電圧を印加することによって生じる表面弾性波によって前記液体を霧化するように構成されており、
   　前記圧電素子基板は、前記表面弾性波によって霧化される所望エアロゾルに基づいて定められる数の前記櫛形電極対を有することを特徴とする、霧化ユニット。
2. 　前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対が配置される表面と、前記表面の反対側に設けられる裏面と、前記裏面から前記表面まで貫通する貫通孔とを有しており、
   　前記液供給部は、前記裏面の側に設けられており、前記貫通孔を介して前記表面に前記液体を供給するように構成される、請求項１に記載の霧化ユニット。
3. 　前記圧電素子基板の端部における前記表面弾性波の反射によって生じる熱を奪うように構成された放熱機構を備える、請求項２に記載の霧化ユニット。
4. 　前記放熱機構は、前記圧電素子基板の熱伝導性よりも高い熱伝導性を有する材料によって構成される放熱層及びペルチェ素子の少なくともいずれか１つを含む、請求項３に記載の霧化ユニット。
5. 　前記液体が通る流路において、前記圧電素子基板の一部又は全部を被覆するコーティング層を備える、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の霧化ユニット。
6. 　前記コーティング層は、少なくとも前記貫通孔の内側に設けられる、請求項２を引用する請求項５に記載の霧化ユニット。
7. 　前記圧電素子基板は、前記櫛形電極対が設けられる配置部分を有しており、
   　前記液体と前記配置部分とを隔てる隔壁を備える、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の霧化ユニット。
8. 　前記隔壁は、前記配置部分の全体を覆っている、請求項７に記載の霧化ユニット。
9. 　前記隔壁は、前記配置部分と前記貫通孔との間において前記表面と接触するように前記表面に設けられる、請求項２を引用する請求項７又は請求項８に記載の霧化ユニット。
10. 　前記隔壁は、前記配置部分と前記貫通孔との間において前記表面と接触しないように前記表面に設けられる、請求項２を引用する請求項７又は請求項８に記載の霧化ユニット。
11. 　前記櫛形電極対の数は、前記表面弾性波によって霧化されるエアロゾルの霧化効率に基づいて定められる、請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の霧化ユニット。
12. 　前記櫛形電極対に含まれ、互いに隣接する電極の間隔は、前記表面弾性波によって霧化されるエアロゾルの所望粒径に基づいて設定される周波数に応じて定められる、請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の霧化ユニット。
13. 　前記貫通孔は、前記表面の側から見た平面視において、前記表面弾性波の進行方向における最大幅と、前記表面弾性波の進行方向に対する直交方向における最大長とを有しており、
    　前記最大長は、前記最大幅よりも大きい、請求項２及び請求項２を引用する請求項３乃至請求項１２のいずれかに記載の霧化ユニット。
14. 　前記貫通孔は、前記貫通孔によって反射する前記表面弾性波の反射波と前記櫛形電極対により生成される前記表面弾性波との干渉が低減するように設けられる、請求項２及び請求項２を引用する請求項３乃至請求項１３のいずれかに記載の霧化ユニット。
15. 　前記貫通孔は、前記櫛形電極対を挟んで少なくとも２つの貫通孔を含む、請求項２及び請求項２を引用する請求項３乃至請求項１４のいずれかに記載の霧化ユニット。
16. 　前記櫛形電極対と前記貫通孔との間において、前記貫通孔に連続する親水性層が前記表面に設けられている、請求項２及び請求項２を引用する請求項３乃至請求項１５のいずれかに記載の霧化ユニット。

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