WO2019146847A1 - 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법 - Google Patents

비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법 Download PDF

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백우성
이상문
채장우
정건수
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Definitions

  • the present invention relates to a nonconductive semitransparent metallic color thin film and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a nonconductive semitransparent metallic color thin film applied to a home appliance such as a refrigerator and a method of manufacturing the same.
  • a door of a refrigerator is installed to be rotatable on a front surface of a refrigerator, and a refrigerator door is mainly exposed to a user when the storage room is closed. Therefore, the design and material of the front surface of the refrigerator door are important to provide the user with the beauty of the refrigerator, and the consumer's preference for the refrigerator door giving the impression of the steel material is increasing day by day.
  • Such a door of the refrigerator should be able to control the operation of the refrigerator by the touch and the metallic color of the case of the refrigerator.
  • An object of the present invention is to provide a nonconductive translucent metallic color thin film having a non-conductive and semi-transparent metallic color that can be operated by a touch sensor, Method.
  • a nonconductive semitransparent metallic color thin film comprising: a substrate having a transparent glass substrate; A color layer forming step of forming a color layer on at least a part of one side of the glass substrate provided in the substrate preparing step; And a semi-transparent layer forming step of forming a semi-transparent layer on at least a part of one side of the color layer formed in the color layer forming step, wherein the semitransparent layer formed in the semi- And the transmittance to light traveling in one direction from the other side of the glass substrate is 5% to 20%.
  • the light absorption rate of the semi-transparent layer formed in the semi-transparent layer forming step may be another characteristic of 60% to 80%.
  • the transmittance or light absorption rate of the semi-transparent layer may be selectively determined by controlling the thickness of the semi-transparent layer deposited in the semi-transparent layer forming step.
  • the semitransparent layer formed in the semitransparent layer forming step may be characterized by being formed of a compound of copper and oxygen.
  • the sheet resistance value of the semi-transparent layer formed through the semi-transparent layer forming step is 8 to 50 (mega ohm per square).
  • At least a part of the compound of copper and oxygen of the translucent layer may have another feature that the coupling ratio of copper to oxygen is 4: 2.9 to 4: 3.1.
  • the ratio of the copper to oxygen compound having a copper to oxygen coupling ratio of 4: 2.9 to 4: 3.1 in the translucent layer is 80% to 100%.
  • the color layer may be formed so that the refractive index of the color layer with respect to the light incident from the glass substrate side in the color layer forming step has a value between 2.0 and 2.5.
  • the color layer may be formed by depositing the color layer in the color layer forming step to selectively determine the refractive index of the color layer by adjusting the thickness.
  • the color layer formed in the color layer forming step may be further characterized by being formed of a compound of Zr and N.
  • the color of the color layer formed through the color layer forming step is characterized by being determined by the thickness of the color layer formed by depositing Zr and N on at least a portion of one side of the glass substrate You may.
  • the compounds of Zr and N in the color layer may have another feature that the binding ratio of Zr to N is 1: 0.9 to 1: 1.
  • the ratio of Zr and N in which the Zr and N bond ratio is 1: 0.9 to 1: 1 in the color layer is 80% to 100%.
  • the method may further include forming a resin layer having transparency to light on at least a part of one side of the semi-transparent layer formed in the semi-transparent layer forming step.
  • the nonconductive semitransparent metallic color thin film according to an embodiment of the present invention for achieving the object of the present invention is a glass substrate; A color layer formed to a predetermined thickness on at least a portion of one side of the glass substrate; And a semi-transparent layer formed on at least a portion of the color layer to have a predetermined thickness, wherein the semi-transparent layer has a light absorptance of 60% to 80%.
  • the semitransparent layer may be formed of a compound of copper and oxygen.
  • the sheet resistance value of the semitransparent layer is 8 to 50 (mega ohm per square).
  • At least a part of the compound of copper and oxygen of the translucent layer may have another feature that the coupling ratio of copper to oxygen is 4: 2.9 to 4: 3.1.
  • the ratio of copper to oxygen in the coupling ratio of copper to oxygen of 4: 2.9 to 4: 3.1 in the translucent layer is 80% to 100%.
  • the color layer may have another characteristic that the refractive index of light entering from the glass substrate side and proceeding therebetween has a value between 2.0 and 2.5.
  • the color layer may be another feature that is formed of a compound of Zr and N.
  • the compounds of Zr and N in the color layer may have another feature that the binding ratio of Zr to N is 1: 0.9 to 1: 1.
  • the ratio of Zr and N in which the Zr and N bond ratio is 1: 0.9 to 1: 1 in the color layer is 80% to 100%.
  • the resin layer may further include a resin layer having transparency to light and having a predetermined thickness at least partially on one side of the translucent layer.
  • the nonconductive semitransparent metallic color thin film and the method of manufacturing the same according to the present invention can provide a required metallic color and provide a thin film having translucency by having a high sheet resistance value, assisting in proper switching of the touch sensor, It is possible to improve various operational functions and external design properties of home appliances such as refrigerators.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a side cross-section of a nonconductive semitransparent metallic color thin film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a nonconductive translucent methylic color thin film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a conceptual view schematically illustrating formation of a nonconductive semitransparent metallic color thin film by sputtering in a nonconductive semitransparent metallic color thin film manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is an image schematically showing the difference in color according to the thickness of the colorless ZrN in the nonconductive semitransparent metallic color thin film manufactured by the method of manufacturing the nonconductive semitransparent metallic color thin film according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a graph schematically showing the XRD analysis result of a semi-transparent layer in the method of manufacturing a nonconductive semitransparent metallic color thin film according to an embodiment of the present invention.
  • the glass substrate 100 has transparency to light. In addition, it is preferable that the hardness is high considering that it is applied to home appliances such as refrigerators. Therefore, it is also preferable that the glass substrate 100 is a tempered glass.
  • a color layer 200 is formed on at least a portion of one side of the glass substrate 100 to a predetermined thickness.
  • the color layer 200 is preferably capable of exhibiting a specific color, and metallic color, which is a metal color, is also preferable.
  • the color layer 200 preferably has a refractive index of 2.0 or more with respect to light incident from the side of the glass substrate 100, and preferably has a value between 2.0 and 2.5 when the refractive index is limited.
  • the color layer 200 preferably includes Zr (zirconium) and N (nitrogen) so as to faithfully realize a metallic color. More preferably, in the color layer 200 formed of a compound of Zr and N, it is preferable that at least some of the compounds of Zr and N have a binding ratio of Zr and N of 1: 0.9 to 1: 1.
  • the ratio of the Zr and N compound in the color layer 200 having a binding ratio of Zr and N of 1: 0.9 to 1: 1 is 80% to 100%.
  • a translucent layer 300 is formed on at least a portion of one side of the color layer 200 to a predetermined thickness. Therefore, it may be said that the color layer 200 is provided between the translucent layer 300 and the glass substrate 100.
  • the translucent layer 300 preferably has a transmittance of 5% to 20% with respect to light traveling in one direction from the other side of the glass substrate 100, It is also preferable that the water absorption rate is 60% to 80%.
  • the sheet resistance of the translucent layer 300 is 8 (mega ohm per square), and it is preferable that the range of the sheet resistance value of the translucent layer 300 is from 50 to 50 .
  • This translucent layer 300 may be made of a compound of copper and oxygen. It is preferable that at least a part of the compound of copper and oxygen in the translucent layer 300 has a copper to oxygen bonding ratio of 4: 2.9 to 4: 3.1.
  • the ratio of copper to oxygen in the coupling ratio of copper: oxygen of 4: 2.9 to 4: 3.1 in the translucent layer is 80% to 100%.
  • a resin layer is further formed on the nonconductive semitransparent metallic color thin film. It is also preferable that a resin layer having a certain thickness is formed on at least a part of one side of the translucent layer 300.
  • FIG. 1 A method for manufacturing the nonconductive semitransparent metallic color thin film will be described with reference to FIGS. 2 and 3.
  • FIG. 1 A method for manufacturing the nonconductive semitransparent metallic color thin film will be described with reference to FIGS. 2 and 3.
  • FIG. 2 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a nonconductive translucent methylic color thin film according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of a nonconductive translucent metallic color thin film according to an embodiment of the present invention, And schematically illustrating formation of a conductive semitransparent metallic color thin film as a schematic representation of the internal space of a sputter.
  • a method for manufacturing a nonconductive semitransparent metallic color thin film includes a substrate preparation step, a color layer formation step, and a semi-transparent layer formation step, And a layer forming step.
  • the substrate preparing step S110 is a step of preparing a glass substrate 100 having transparency to light.
  • tempered glass As the glass substrate 100.
  • the color layer forming step S120 is a step of forming a color layer 200 on at least a part of one side of the glass substrate 100 prepared in the substrate preparing step S110.
  • one side may be understood as a direction from the outside to the inside of the refrigerator when the nonconductive metallic color thin film is applied to a home appliance such as a refrigerator.
  • a color layer 200 is formed on one side of the glass substrate 100, as shown in FIG.
  • the color layer 200 is a layer that shows a specific color, and forms the color layer 200 so as to have a metallic color metallic color to be implemented.
  • the color layer 200 may be formed by various methods, preferably by sputtering.
  • a glass substrate 100 is drawn into a sputter, and then the glass substrate 100 is sputtered using a sputtering structure as shown in FIG. 100 may be sputtered onto at least a portion of one side to implement the color layer 200.
  • planar anode target material is sputtered toward the glass substrate 100 and deposited.
  • reference numeral 33 denotes a deposition direction from the planar anode target material to the substrate side
  • reference numeral 27 denotes a gas flow.
  • the color layer 200 is formed so that the refractive index of the color layer 200 with respect to the light incident from the side of the glass substrate 100 and having a refractive index of between 2.0 and 2.5.
  • the color layer 200 formed in the color layer formation step S120 is preferably formed of a compound of Zr and N.
  • various materials may be used as a target material for sputtering, but it is preferable to use Zr (zirconium) as a cathode target material to realize a metallic color.
  • Zr zirconium
  • the film it is preferable to form the film by sputtering in an atmosphere of argon and nitrogen in the sputter. It is preferable to use Zr as a planar cathode target material.
  • the color of the color layer 200 formed through the color layer forming step S120 may be determined by the thickness of the color layer 200 formed by depositing Zr and N on at least a portion of one side of the glass substrate 100.
  • the compounds of Zr and N have a binding ratio of Zr and N of 1: 0.9 to 1: 1. More preferably, the Zr and N are combined so that the ratio of Zr and N occupying in the color layer ranges from 80% to 100%, with the combination ratio of Zr and N being 1: 0.9 to 1: 1.
  • Table 1 shows hues realized according to the thickness of the ZrN layer and the thickness of the ZrN layer, which are the color layers 200 formed by sputtering zirconium.
  • the thickness of the color layer 200 has a value between 10 and 150 nm. 4, an image implemented with different metallic colors depending on the deposition thickness of ZrN formed as the color layer 200 as shown in Table 1.
  • the thickness for depositing ZrN is selectively set,
  • the metal color, that is, the metallic color to be implemented can be realized.
  • the translucent layer 300 formed in the semi-transparent layer forming step S130 preferably has a transmittance of 5% to 20% with respect to light traveling in one direction from the other side of the glass substrate 100.
  • the light absorption rate of the translucent layer 300 is preferably 60% to 80%.
  • the semitransparent layer 300 can be formed using a sputter having a structure as shown in FIG.
  • the transmittance or light absorption rate of the semi-transparent layer 300 can be selectively determined by controlling the thickness of the semi-transparent layer 300 while the semi-transparent layer 300 is formed.
  • the translucent layer 300 is preferably formed as a compound of copper and oxygen. It is also preferable to use copper as the planar anode target material to form the translucent layer 300 and to supply oxygen into the sputter to form the translucent layer 300.
  • the semitransparent layer 300 can be deposited under conditions such that plasma DC power of 3 kilowatts is supplied, and 50 sccm of argon and 10 to 20 sccm / kW of oxygen are supplied under a vacuum pressure of 1 to 10 mtorr.
  • At least a part of the compound of copper and oxygen in the translucent layer 300 formed of a compound of copper and oxygen through the semi-transparent layer forming step (S130) preferably has a copper to oxygen bonding ratio of 4: 2.9 to 4: 3.1 Do.
  • the ratio of copper to oxygen in the coupling ratio of copper to oxygen of 4: 2.9 to 4: 3.1 in the translucent layer 300 is 80% to 100%.
  • FIG. 5 An XRD analysis graph of the thus formed semi-transparent layer 300 is shown in FIG. 5, Is formed.
  • the translucent layer 300 comprising copper and oxygen preferably has a thickness between 200 and 400 nanometers.
  • the sheet resistance value of the semi-transparent layer 300 formed through the semi-transparent layer forming step S130 is 8 to 50 (mega ohm per square).
  • the translucent layer 300 has a large sheet resistance value so that a correct switching operation can be performed when a touch sensor is attached.
  • the nonconductive semitransparent metallic color thin film 10 can be formed through the substrate preparing step S110, the color layer forming step S120, and the semitransparent layer forming step S130.
  • the resin layer forming step S140 is a step of forming a resin layer on at least one side of the semi-transparent layer 300 formed in the semi-transparent layer forming step S130.
  • the resin layer (not shown) formed in the resin layer forming step S140 has transparency to light. If necessary, it is also preferable to form a black resin layer instead of the transparent resin layer.
  • a touch sensor may be disposed on one side of the resin layer as described above.
  • the nonconductive semitransparent metallic color thin film can be manufactured according to the nonconductive semitransparent metallic color thin film manufacturing method according to the embodiment of the present invention.
  • the nonconductive semitransparent metallic color thin film and the method of manufacturing the same according to the present invention have a high sheet resistance value, so that the correct switching operation of the touch panel can be performed.
  • the indoor lighting of the refrigerator is turned on, And provides a thin film which can realize a metallic color so that the color of the exterior material can be matched when the indoor lighting of the refrigerator is turned off.

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Abstract

본 발명은 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 빛에 대한 투과성이 있는 글라스기판을 마련하는 기판준비단계; 상기 단계에서 마련된 상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 컬러층을 형성시키는 컬러층형성단계; 및 상기 단계에서 형성된 상기 컬러층 일측의 적어도 일부분에 반투명층을 형성시키는 반투명층형성단계;를 포함하되, 상기 반투명층은 상기 글라스기판 타측에서 일측 방향으로 입사하여 진행하는 빛에 대한 투과율이 5% 내지 20% 이므로, 높은 면저항값을 갖춤으로써 터치센서의 올바른 스위칭을 보조하며, 메탈릭 컬러를 제공하며, 반투명성 갖춘 박막을 제공하므로써, 가전제품의 다양한 동작기능성과 외적 디자인성을 향상시켜준다.

Description

비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법
본 발명은 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 냉장고와 같은 가전제품 등에 적용되는 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
냉장고와 같이 실생활에서 널리 사용되는 가전제품은 기본적인 기능은 물론이고 제품디자인의 발전과 이를 뒷받침해줄 수 있는 기술을 구현하는 방향으로도 발전하고 있다.
근래에 냉장고의 도어는 냉장고 전면에 도어가 회동가능하게 설치되고, 저장실을 밀폐한 상태에서는 냉장고 도어가 사용자에게 주로 노출된다. 따라서, 사용자에게 냉장고의 미려함을 주기 위해서 냉장고 도어의 전면의 디자인과 재질이 중요해지고 있는데 스틸 재질의 느낌을 주는 냉장고 도어에 대한 소비자의 선호가 날로 증가하고 있다.
이러한 소비자의 선호에 부응하기 위하여 냉장고 도어를 스틸재질로 형성하고자하는 연구가 진행되고 있으며, 아울러 냉장고 도어를 통해 굳이 냉장고 도어를 열지 않고도 터치에 의하여 냉장고의 동작을 제어할 수 있는 기술이 요구되고 이에 관한 연구 또한 진행되고 있다.
이와 같은 냉장고의 도어를 통해 필요시 냉장고의 실내를 확인할 수 있는 반투명성과 터치에 의하여 냉장고의 동작을 제어할 수 있을 것 그리고 냉장고 외장케이스의 메탈릭 컬러에 부합될 수 있어야 한다.
따라서, 터치센서작동이 가능하도록 비전도성을 갖추고 메탈릭 컬러를 구현할 수 있으며 반투명성(semi-transparent)을 갖춘 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 기술이 요구되고 있었다.
본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 터치센서작동이 가능하도록 비전도성을 갖추고 메탈릭 컬러를 구현할 수 있으며 반투명성(semi-transparent)을 갖춘 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법을 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막은 빛에 대한 투과성이 있는 글라스기판을 마련하는 기판준비단계; 상기 기판준비단계에서 마련된 상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 컬러층(color layer)을 형성시키는 컬러층형성단계; 및 상기 컬러층형성단계에서 형성된 상기 컬러층 일측의 적어도 일부분에 반투명층(semi-transparent layer)을 형성시키는 반투명층형성단계;를 포함하되, 상기 반투명층형성단계에서 형성되는 상기 반투명층은, 상기 글라스기판 타측에서 일측 방향으로 입사하여 진행하는 빛에 대한 투과율이 5% 내지 20% 인 것을 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 반투명층형성단계에서 형성되는 상기 반투명층의 광흡수율은 60% 내지 80% 인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 반투명층형성단계에서 상기 반투명층이 증착되는 두께를 조절함으로써 상기 반투명층의 빛에 대한 투과율 또는 광흡수율을 선택적으로 결정하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
더 나아가, 상기 반투명층형성단계에서 형성되는 상기 반투명층은 구리와 산소의 화합물로 형성되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 반투명층형성단계를 통해 형성된 상기 반투명층의 면저항값은 8 내지 50
Figure PCTKR2018006686-appb-I000001
(mega ohm per square) 에 해당되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 반투명층의 구리와 산소의 화합물 중 적어도 일부는 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4:3.1 인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4 : 3.1 인 구리와 산소의 화합물이 상기 반투명층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100%인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
또한, 상기 컬러층형성단계에서 상기 글라스기판 측으로부터 입사되어 진행하는 빛에 대한 상기 컬러층의 굴절율이 2.0 내지 2.5 사이의 값을 갖도록 상기 컬러층을 형성시키는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 컬러층형성단계에서 상기 컬러층을 증착시켜서 형성시키는 두께를 조절함으로써 상기 컬러층의 굴절율을 선택적으로 결정하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
더 나아가, 상기 컬러층형성단계에서 형성되는 상기 컬러층은 Zr 과 N의 화합물로 형성되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
더 나아가, 상기 컬러층형성단계를 통해 형성되는 상기 컬러층의 색상은, Zr 과 N을 상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 증착시켜서 형성되는 상기 컬러층의 두께에 의하여 결정되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 컬러층의 Zr과 N의 화합물 중 적어도 일부는, Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1: 1인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 Zr과 N의 화합물이 상기 컬러층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100% 인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
또한, 상기 반투명층형성단계에서 형성된 상기 반투명층의 일측 적어도 일부분에 빛에 대한 투과성이 있는 레진층을 형성시키는 레진층형성단계;를 더 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
상기와 강은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막은 글라스기판; 상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 소정의 두께로 형성된 컬러층; 및 상기 컬러층 일측의 적어도 일부분에 소정의 두께로 형성된 반투명층(semi-transparent layer);을 포함하되, 상기 반투명층의 광흡수율이 60% 내지 80%인 것을 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 반투명층은 구리와 산소의 화합물로 형성된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 반투명층의 면저항값이 8 내지 50
Figure PCTKR2018006686-appb-I000002
(mega ohm per square) 에 해당되는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 반투명층의 구리와 산소의 화합물 중 적어도 일부는 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4 : 3.1인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가 상기 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4:3.1 인 구리와 산소의 화합물이 상기 반투명층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100%인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
또한, 상기 컬러층은, 상기 글라스기판 측으로부터 입사되어 진행하는 빛에 대한 굴절율이 2.0 내지 2.5 사이의 값을 갖는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 컬러층은 Zr과 N의 화합물로 형성된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 컬러층의 Zr과 N의 화합물 중 적어도 일부는, Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1: 1인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 Zr과 N의 화합물이 상기 컬러층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100% 인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
또한, 빛에 대한 투과성이 있으며, 상기 반투명층의 일측에서 적어도 일부분에 소정의 두께로 형성된 레진층;을 더 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
본 발명에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법은, 높은 면저항값을 갖춤으로써 터치센서의 올바른 스위칭을 보조하며, 요구되는 메탈릭 컬러를 제공할 수 있으며, 반투명성 갖춘 박막을 제공할 수 있으므로 냉장고와 같은 가전제품의 다양한 동작기능성과 외적 디자인성을 향상시켜줄 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막의 측단면을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메틸릭 컬러 박막 제조방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법에서 스퍼터링으로 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막을 형성시키는 것을 개략적으로 나타낸 개념도이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법에 의해 제조된 비전도성 반투명 메탈릭 컬러박막에서 컬러층인 ZrN의 두께에 따른 색상의 차이를 개략적으로 나타낸 이미지이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막제조방법에서 반투명층에 대한 XRD 분석결과를 개략적으로 나타낸 그래프이다.
이하에서는 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 이해할 수 있도록 첨부된 도면을 참조한 바람직한 실시 예를 들어 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막의 측단면을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭컬러 박막(10)은 글라스기판(100), 컬러층(200) 및 반투명층(300)을 포함하여 이루어지며, 도시되지는 않았으나 레진층을 더 포함하여 이루어질 수도 있다.
글라스기판(100)은 빛에 대한 투과성이 있는 것이 바람직하다. 또한, 냉장고와 같은 가전제품에 적용되는 것을 감안하여 경도가 높은 것이 바람직하다. 따라서, 글라스기판(100)이 강화유리인 것도 바람직하다.
글라스기판(100) 일측의 적어도 일부분에는 소정의 두께로 컬러층(200)이 마련되어 있다. 컬러층(200)은 특정색상을 나타낼 수 있는 것이 바람직하며, 금속색상인 메탈릭 컬러(metallic color)도 바람직하다.
그리고 컬러층(200)은 글라스기판(100) 측으로부터 입사되어 진행하는 빛에 대한 굴절율이 2.0 이상인 것이 바람직하며, 굴절율의 범위를 굳이 한정한다면 2.0 내지 2.5 사이의 값을 갖는 것이 바람직하다.
이러한 컬러층(200)은 메탈릭 컬러를 충실히 구현할 수 있도록 Zr(지르코늄, Zirconium)과 N(질소, nitrogen)를 포함하여 이루어진 것이 바람직하다. 좀 더 바람직하게는 Zr 과 N의 화합물로 형성된 컬러층(200)에서, Zr과 N의 화합물 중 적어도 일부는 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1: 1인 것이 바람직하다.
특히 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 Zr과 N의 화합물이 컬러층(200) 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100% 이면 더욱 바람직하다.
컬러층(200) 일측의 적어도 일부분에는 소정의 두께로 반투명층(300)이 형성되어 있다. 따라서, 반투명층(300)과 글라스기판(100) 사이에 컬러층(200)이 마련되어 있다고 할 수도 있다.
반투명층(300)은 글라스기판(100) 타측에서 일측 방향으로 입사하여 진행하는 빛에 대한 투과율이 5% 내지 20% 인 것이 바람직하며, 글라스기판(100) 측에서 입사하여 진행하는 빛에 대한 광흡수율이 60% 내지 80% 인 것 역시 바람직하다.
반투명층(300)의 면저항은 8
Figure PCTKR2018006686-appb-I000003
(mega ohm per square) 이상의 값을 갖는 것이 바람직하며, 반투명층(300)의 면저항값의 범위를 굳이 한정하자면 내지 50
Figure PCTKR2018006686-appb-I000004
에 해당되는 것이 바람직하다.
이러한 반투명층(300)은 구리와 산소의 화합물로 이루어질 수 있다. 그리고, 반투명층(300)에서 구리와 산소의 화합물 중 적어도 일부는 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4:3.1인 것이 바람직하다.
구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4 : 3.1 인 구리와 산소의 화합물이 상기 반투명층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100%인 것이 더욱 바람직하다.
이와 같은 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막에 레진층이 더 형성되어 있는 것 역시 바람직하다. 빛에 대한 투과성이 있으며 반투명층(300)의 일측에서 적어도 일부분에 소정의 두께로 레진층이 형성된 것 역시 바람직하다는 것이다.
이와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막이 적용된 냉장고와 같은 가전제품에서, 글라스기판(100)의 일측이 냉장고와 같은 가전제품의 실내공간 측이라고 할 때, 글라스 기판의 일측 방향에서 조명이 켜지면 빛이 반투명층(300)로 입사되어 컬러층(200)을 지나 글라스기판(100)의 타측으로 투과되어 나온다. 따라서, 냉장고와 같은 전자제품의 내부공간의 상태를 외부에서 사용자 등이 육안으로 확인할 수 있게 된다.
반대로 글라스기판(100)의 일측인 냉장고의 실내조명이 꺼진 경우에는 실내공간이 어둡게되어 외부에서는 실내공간이 보이지 않게 된다.
이와 같은 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법에 대하여 도 2 및 도 3을 더 참조하여 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메틸릭 컬러 박막 제조방법을 개략적으로 나타낸 순서도이며, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법에 있어서, 스퍼터링으로 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막을 형성시키는 것을 개략적으로 나타낸 개념도로서 스퍼터(sputter)의 내부공간을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법은 기판준비단계, 컬러층형성단계 및 반투명층형성단계를 포함하여 이루어지며, 좀 더 바람직하게는 레진층형성단계를 더 포함하여 이루어질 수도 있다.
<< S110>>
기판준비단계(S110)는 빛에 대한 투과성이 있는 글라스기판(100)을 마련하는 단계이다.
여기서, 글라스기판(100)으로서 강화유리를 이용하는 것 또한 바람직하다.
<< S120>>
컬러층형성단계(S120)는 기판준비단계(S110)에서 마련된 글라스기판(100)의 일측의 적어도 일부분에 컬러층(color layer)(200)를 형성시키는 단계이다.
여기서 일측은 비전도성 메탈릭 컬러 박막이 냉장고와 같은 가전제품에 적용되는 경우 외부에서 냉장고 내부로의 방향인 것으로 이해될 수도 있다.
도 2에서는 일측이 도면상에서 상측인 것으로 하여 개략적으로 도시되었으며, 도 2에서 참조되는 바와 같이 글라스기판(100)의 일측에 컬러층(200)을 형성시켜준다.
컬러층(200)은 특정색상을 나타내는 층이며, 구현하고자하는 금속색인 메탈릭 컬러를 띄도록 컬러층(200)을 형성시켜준다.
이와 같은 컬러층(200)을 형성시키는 방법으로는 다양한 방법이 가능할 수도 있으며, 바람직하게는 스퍼터링으로 형성시켜줄 수 있다.
좀 더 구체적인 예로서, 구현하고자하는 메탈릭 컬러를 띄는 컬러층(200)을 형성시키기 위하여 글라스기판(100)을 스퍼터 내에 인입시켜준 후 도 3에서 참조되는 바와 같은 구조의 스퍼터를 이용하여 글라스기판(100) 일측의 적어도 일부분에 대하여 타겟물질을 스퍼터링 하여 컬러층(200)을 구현할 수 있다.
도 3에서 스퍼터링을 위하여 공급되는 가스는 가스공급관(20)을 통해 외부로부터 유입된다. 여기서 공급가스로 아르곤, 질소 등이 이용될 수 있다. 공급가스는 가스공급관에 형성된 가스홀을 통해 스퍼터 내 증착공간으로 분사된다.
그리고 플라즈마환경에서 평면형 음극 타겟물질이 글라스기판(100) 측으로 스퍼터링되어 증착된다. 도 3에서 도면부호 33은 평면형 음극 타겟물질로부터 기판측으로의 증착방향을 나타내며, 도면부호 27은 가스흐름을 나타낸다.
글라스기판(100) 측으로부터 입사되어 진행하는 빛에 대한 컬러층(200)의 굴절율이 2.0 내지 2.5 사이의 값을 갖도록 컬러층(200)을 형성시키는 것이 바람직하다.
컬러층(200)을 증착시켜서 형성시키는 두께를 조절함으로써 컬러층(200)의 굴절율을 선택적으로 결정하는 것이 바람직하다.
컬러층형성단계(S120)에서 형성되는 컬러층(200)은 Zr 과 N의 화합물로 형성되는 것이 바람직하다.
여기서 스퍼터링을 위한 타겟물질으로는 다양한 물질이 가능할 수도 있겠으나 메탈릭 컬러를 구현하기 위하여 Zr(지르코늄)을 캣소드 타겟물질(cathode target matter)로 사용하는 것이 바람직하다.
그리고 스퍼터 내에 아르곤과 질소의 분위기 속에서 스퍼터링하여 형성시켜주는 것이 바람직하다. 그리고, 평면형 음극 타겟(planar cathode target) 물질로는 Zr을 이용하는 것이 바람직하다.
컬러층형성단계(S120)를 통해 형성되는 컬러층(200)의 색상은 Zr 과 N을 글라스기판(100) 일측의 적어도 일부분에 증착시켜서 형성되는 컬러층(200)의 두께에 의하여 결정될 수 있다.
컬러층형성단계(S120)에서 형성되는 컬러층(200)에서, Zr과 N의 화합물 중 적어도 일부는 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 것이 바람직하다. 여기서 좀 더 바람직하게는 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 Zr과 N의 화합물이 컬러층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100% 가 되도록 형성시켜준다.
이와 같이 지르코늄을 스퍼터링하여 형성시킨 컬러층(200)인 ZrN층의 두께 및 ZrN 층의 두께에 따라 구현되는 색상을 표 1에 나타내었다 .
metallic color 두 께
gold 10 내지 30 nm
pink 40 내지 60 nm
blue 70 내지 90 nm
green 100 내지 120 nm
red 130 내지 150 nm
표 1에서 참조되는 바와 같이 컬러층(200)의 두께는 10 내지 150nm 사이의 값을 갖는 것이 바람직하다. 그리고 표 1에서 참조되는 바와 같이 컬러층(200)으로서 형성된 ZrN의 증착두께에 따라 각기 다른 메탈릭 컬러로 구현된 이미지를 도 4에 나타내었다.이와 같이 ZrN을 증착시키는 두께를 선택적으로 설정하고, 그에 따라 증착시켜서 구현하고자 하는 금속색상 즉 메탈릭 컬러를 구현할 수 있다.
<< S130 >>
반투명층형성단계(S130)는 컬러층형성단계(S120)에서 형성된 컬러층(200) 일측의 적어도 일부분에 반투명층(300)을 형성시키는 단계이다.
반투명층형성단계(S130)에서 형성되는 반투명층(300)은, 글라스기판(100) 타측에서 일측 방향으로 입사하여 진행하는 빛에 대한 투과율이 5% 내지 20% 인 것이 바람직하다.
또한, 반투명층(300)의 광흡수율은 60% 내지 80% 인 것이 바람직하다.
도 3에 도시된 바와 같은 구조의 스퍼터를 이용하여 반투명층(300)을 형성시킬 수 있다. 그리고, 반투명층(300)을 형성시키면서 반투명층(300)이 증착되는 두께를 조절함으로써 반투명층(300)의 빛에 대한 투과율 또는 광흡수율을 선택적으로 결정할 수 있다.
반투명층(300)은 구리와 산소의 화합물로서 형성되는 것이 바람직하다. 반투명층(300)을 형성시키기 위하여 평면 음극 타겟물질로 구리를 사용하고, 산소를 스퍼터 내로 공급하여 반투명층(300)을 형성시키는 것도 바람직하다.
예를 들어, 3키로와트의 플라즈마 DC 전력을 공급하고, 1~10 mtorr의 진공압력 하에 아르곤 50sccm과 산소 10 내지 20 sccm/kW 로 공급되는 조건으로 반투명층(300)을 증착시킬 수 있다.
그리고, 반투명층형성단계(S130)를 통해 구리와 산소의 화합물로 형성되는 반투명층(300)에서 구리와 산소의 화합물 중 적어도 일부는 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4:3.1 인 것이 바람직하다.
더욱 바람직하게는 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4 : 3.1 인 구리와 산소의 화합물이 반투명층(300) 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100%이 되도록 형성시켜준다.
이와 같이 형성시킨 반투명층(300)에 대한 XRD 분석그래프를 도 5에 나타내었으며,
Figure PCTKR2018006686-appb-I000005
가 형성된 것을 확인할 수 있다.
구리와 산소를 포함하는 반투명층(300)은 두께 200 내지 400 나노미터 사이의 값을 갖는 것이 바람직하다.
그리고, 반투명층형성단계(S130)를 통해 형성된 반투명층(300)의 면저항값은 8 내지 50
Figure PCTKR2018006686-appb-I000006
(mega ohm per square) 에 해당되는 것이 바람직하다.
반투명층(300)은 터치센서가 부착되는 경우 올바른 스위칭동작이 이루어질 수 있도록 반투명층(300)의 면저항값이 큰 것이 바람직하다.
이상에서와 같이 기판준비단계(S110), 컬러층형성단계(S120) 및 반투명층형성단계(S130)를 통하여 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막(10)을 형성시킬 수 있으며, 여기서 한 걸음 더 나아가 레진층 형성단계(S140)를 더 포함하는 것 또한 바람직하다.
<< S140 >>
레진층형성단계(S140)는 반투명층형성단계(S130)에서 형성된 반투명층(300)의 일측 적어도 일부분에 레진층을 형성시키는 단계이다.
레진층형성단계(S140)에서 형성시키는 레진층(미도시)은 빛에 대한 투과성이 있는 것이 바람직하다. 필요에 따라서는 투명레진층 대신에 흑색레진층을 형성시키는 것도 바람직하다.
이와 같이 형성된 레진층의 일측으로는 앞서 언급한 바와 같이 터치센서가 배치될 수도 있다.
이와 같이 도 1 내지 도 5에서 참조하여 설명한 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법에 따라 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막을 제조할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 및 이의 제조방법은 높은 면저항값을 갖춤으로써 터치패널의 올바른 스위칭동작이 가능하며, 냉장고의 실내 조명이 켜진 경우 내부공간을 투시하여 확인할 수 있고, 냉장고의 실내 조명이 꺼진 경우 외장재와의 색상이 일치될 수 있도록 메탈릭 컬러를 구현할 수 있는 박막을 제공한다.

Claims (24)

  1. 빛에 대한 투과성이 있는 글라스기판을 마련하는 기판준비단계;
    상기 기판준비단계에서 마련된 상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 컬러층(color layer)을 형성시키는 컬러층형성단계; 및
    상기 컬러층형성단계에서 형성된 상기 컬러층 일측의 적어도 일부분에 반투명층(semi-transparent layer)을 형성시키는 반투명층형성단계;를 포함하되
    상기 반투명층형성단계에서 형성되는 상기 반투명층은,
    상기 글라스기판 타측에서 일측 방향으로 입사하여 진행하는 빛에 대한 투과율이 5% 내지 20% 인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 반투명층형성단계에서 형성되는 상기 반투명층의 광흡수율은 60% 내지 80% 인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 반투명층형성단계에서,
    상기 반투명층이 증착되는 두께를 조절함으로써 상기 반투명층의 빛에 대한 투과율 또는 광흡수율을 선택적으로 결정하는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 반투명층형성단계에서 형성되는 상기 반투명층은 구리와 산소의 화합물로 형성되는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 반투명층형성단계를 통해 형성된 상기 반투명층의 면저항값은 8 내지 50
    Figure PCTKR2018006686-appb-I000007
    (mega ohm per square) 에 해당되는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 반투명층의 구리와 산소의 화합물 중 적어도 일부는,
    구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4:3.1 인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  7. 제 6항에 있어서,
    구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4 : 3.1 인 구리와 산소의 화합물이 상기 반투명층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  8. 제 2항에 있어서,
    상기 컬러층형성단계에서,
    상기 글라스기판 측으로부터 입사되어 진행하는 빛에 대한 상기 컬러층의 굴절율이 2.0 내지 2.5 사이의 값을 갖도록 상기 컬러층을 형성시키는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 컬러층형성단계에서,
    상기 컬러층을 증착시켜서 형성시키는 두께를 조절함으로써 상기 컬러층의 굴절율을 선택적으로 결정하는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 컬러층형성단계에서 형성되는 상기 컬러층은 Zr 과 N의 화합물로 형성되는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 컬러층형성단계를 통해 형성되는 상기 컬러층의 색상은,
    Zr 과 N을 상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 증착시켜서 형성되는 상기 컬러층의 두께에 의하여 결정되는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  12. 제 10항에 있어서,
    상기 컬러층의 Zr과 N의 화합물 중 적어도 일부는,
    Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1: 1인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 Zr과 N의 화합물이 상기 컬러층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100% 인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  14. 제 1항에 있어서,
    상기 반투명층형성단계에서 형성된 상기 반투명층의 일측 적어도 일부분에 빛에 대한 투과성이 있는 레진층을 형성시키는 레진층형성단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막 제조방법.
  15. 글라스기판;
    상기 글라스기판 일측의 적어도 일부분에 소정의 두께로 형성된 컬러층; 및
    상기 컬러층 일측의 적어도 일부분에 소정의 두께로 형성된 반투명층(semi-transparent layer);을 포함하되,
    상기 반투명층의 광흡수율이 60% 내지 80%인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 반투명층은 구리와 산소의 화합물로 형성된 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 반투명층의 면저항값이 8 내지 50
    Figure PCTKR2018006686-appb-I000008
    (mega ohm per square) 에 해당되는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  18. 제 16항에 있어서,
    상기 반투명층의 구리와 산소의 화합물 중 적어도 일부는,
    구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4 : 3.1인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  19. 제 18항에 있어서,
    상기 구리와 산소의 결합비가 4:2.9 내지 4:3.1 인 구리와 산소의 화합물이 상기 반투명층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100%인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  20. 제 15항에 있어서,
    상기 컬러층은,
    상기 글라스기판 측으로부터 입사되어 진행하는 빛에 대한 굴절율이 2.0 내지 2.5 사이의 값을 갖는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  21. 제 20항에 있어서,
    상기 컬러층은 Zr과 N의 화합물로 형성된 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  22. 제 21항에 있어서,
    상기 컬러층의 Zr과 N의 화합물 중 적어도 일부는,
    Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1: 1인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  23. 제 22항에 있어서,
    상기 Zr과 N의 결합비가 1:0.9 내지 1:1인 Zr과 N의 화합물이 상기 컬러층 내에서 차지하는 비율이 80% 내지 100% 인 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
  24. 제 15항에 있어서,
    빛에 대한 투과성이 있으며, 상기 반투명층의 일측에서 적어도 일부분에 소정의 두께로 형성된 레진층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    비전도성 반투명 메탈릭 컬러 박막.
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