WO2017082116A1 - コアシェル粒子、コアシェル粒子の製造方法およびフィルム - Google Patents

コアシェル粒子、コアシェル粒子の製造方法およびフィルム Download PDF

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    • H01S5/341—Structures having reduced dimensionality, e.g. quantum wires
    • H01S5/3412—Structures having reduced dimensionality, e.g. quantum wires quantum box or quantum dash

Definitions

  • the present invention relates to a core-shell particle, a method for producing the same, and a film containing the core-shell particle.
  • semiconductor fine particles that are expected to be applied to colloidal semiconductor nanoparticles (so-called quantum dots), II-VI group semiconductor fine particles, III-V group semiconductor fine particles, and the like have been known so far.
  • the particle diameter of these semiconductor fine particles is about several nanometers to tens of nanometers.
  • such nanoscale particles generally have a band gap that increases as the particle size decreases due to a so-called quantum size effect, and emit light in a short wavelength region such as an ultraviolet region or a near ultraviolet region. Therefore, in order to make use of such optical characteristics peculiar to semiconductor fine particles, application to various devices such as piezoelectric elements, electronic devices, light emitting elements, lasers, etc. has been researched and developed.
  • Non-Patent Document 1 since a hot soap method (also called a hot injection method), which is a chemical synthesis method of quantum dots, was proposed, research on quantum dots has been actively conducted all over the world. In addition, this quantum dot has been studied mainly in II-VI group semiconductors containing Cd and Pb elements in the early stage of research, but Cd and Pb elements are restricted on Hazardous Substances (Rohs). In recent years, research on quantum dots not containing Cd or Pb has also been proposed (see, for example, Patent Document 1 and Non-Patent Document 2).
  • the inventor examined the core-shell particles having a multi-layered shell layer described in Patent Document 1, Non-Patent Document 2, and the like. (Hereinafter, also referred to as “durability”) may be inferior.
  • an object of the present invention is to provide core-shell particles having high luminous efficiency and excellent durability, a method for producing the same, and a film using the core-shell particles.
  • a core containing a group III element and a group V element a first shell covering at least a part of the surface of the core, and at least a part of the first shell
  • the headline and the present invention were completed. That is, it has been found that the above-described problem can be achieved by the following configuration.
  • the core-shell particle according to any one of [1] to [6], wherein the hydrocarbon group contained in the metal-containing organic compound is a hydrocarbon group having 11 to 20 carbon atoms.
  • the first shell is a group II-VI semiconductor containing a group II element and a group VI element, or a group III-V semiconductor containing a group III element and a group V element.
  • the core-shell particle in any one of. [15] When the first shell is a II-VI group semiconductor, the Group II element is Zn, the Group VI element is Se or S, The core-shell particle according to [14], wherein when the first shell is a group III-V semiconductor, the group III element is Ga and the group V element is P.
  • the second shell is a group II-VI semiconductor containing a group II element and a group VI element, or a group III-V semiconductor containing a group III element and a group V element.
  • the core-shell particle in any one of.
  • the core-shell particle according to any one of [1] to [18], wherein the core, the first shell, and the second shell are all a crystal system having a zinc blende structure. [20] Any one of [1] to [19], wherein the core, the first shell, and the second shell have the smallest band gap and the core and the first shell exhibit a type 1 type band structure.
  • the raw material of the second shell added in the fourth step contains a Group II raw material containing a Group II element or a Group III raw material containing a Group III element,
  • Production method. [23] The method for producing core-shell particles according to [21] or [22], wherein the heating temperature in the fifth step is 120 to 220 ° C.
  • the present invention it is possible to provide core-shell particles having high luminous efficiency and excellent durability, a method for producing the same, and a film using the core-shell particles.
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • the core-shell particle of the present invention includes a core containing a group III element and a group V element, a first shell covering at least a part of the surface of the core, and a second shell covering at least a part of the first shell. Particles.
  • the core-shell particle of the present invention has a metal-containing organic compound containing a metal element and a hydrocarbon group on at least a part of the surface of the core-shell particle.
  • the core-shell particle of the present invention has a metal-containing organic compound on at least a part of the surface of the core-shell particle, luminous efficiency is increased and durability is also improved.
  • the reason why the light emission efficiency is increased and the durability is improved is not clear in detail, but is estimated as follows.
  • defects on the surface of the core particles defects at the interface between the core and the shell
  • defects on the shell surface can be considered.
  • defects on the surface of the core particles it is considered that by coating the core particles with a multilayer shell, defects at the interface between the core and the shell can be reduced or the influence of the defects can be suppressed, and high luminous efficiency can be realized.
  • the present inventor speculates that the exciton trapping phenomenon is also a cause of light emission stability against light irradiation such as ultraviolet rays, that is, a decrease in durability, and in order to improve durability, It was considered that the suppression of shell surface defects was an important factor.
  • the core-shell particle has a ligand on the shell surface, and a general ligand has a carboxyl group, an amino group, a thiol group, and the like.
  • the metal-containing organic compound present on at least a part of the surface is also coordinated or ionically bonded to the anion site of the shell (for example, S in the II-VI group semiconductor). It is thought that the durability was improved because it was bonded and the defect was reinforced.
  • the core-shell particles of the present invention are measured by Fourier Transform Infrared Spectroscopy (hereinafter also referred to as “FT-IR”) for the reason that the luminous efficiency is higher and the durability is better.
  • FT-IR Fourier Transform Infrared Spectroscopy
  • the detection method of the peak M and the peak L by FT-IR is determined by whether or not the peak M and the peak L are detected when measured under the following measurement conditions.
  • the peak intensity ratio between peak M and peak L is the ratio of the maximum peak intensity of peak M to the maximum peak intensity of peak L by subtracting the background from each peak observed under the following measurement conditions.
  • the FT-IR measurement is performed using a sample in which a dispersion liquid (solvent: toluene) containing core-shell particles is applied on a non-doped Si substrate and dried in a nitrogen atmosphere.
  • Measuring device Nicolet 4700 (transmission arrangement, manufactured by Thermofisher) ⁇ Detector: DTGS KBr ⁇ Light source: IR ⁇ Measurement accessories: Trsnsmission ESP ⁇ Beam splitter: KBr ⁇ Measured wave number: 400-4000cm -1 Measurement interval: 1.928 cm -1 -Number of scans: 32 ⁇ Resolution: 4
  • the core of the core-shell particle of the present invention is a so-called III-V semiconductor containing a group III element and a group V element.
  • Group III elements Specific examples of the group III element include indium (In), aluminum (Al), and gallium (Ga). Among them, In is preferable.
  • Group V elements Specific examples of the group V element include P (phosphorus), N (nitrogen), As (arsenic) and the like. Among these, P is preferable.
  • a III-V semiconductor in which the above-mentioned examples of the group III element and the group V element are appropriately combined can be used as the core.
  • the luminous efficiency becomes higher, the emission half width becomes narrower, InP, InN, and InAs are preferable because a clear exciton peak can be obtained, and InP is more preferable because light emission efficiency is further enhanced.
  • a group II element is further contained.
  • the constant becomes smaller, and the lattice matching with a shell (for example, GaP, ZnS, etc. described later) having a smaller lattice constant than InP becomes higher.
  • the first shell of the core-shell particle of the present invention is a material that covers at least a part of the surface of the core.
  • whether or not the first shell covers at least part of the surface of the core is determined by, for example, energy dispersive X-ray spectroscopy (TEM-EDX) using a transmission electron microscope. It can also be confirmed by composition distribution analysis.
  • TEM-EDX energy dispersive X-ray spectroscopy
  • the first shell contains a Group II element or a Group III element because interface defects with the core are easily suppressed.
  • the first shell containing a group II element or group III element include, for example, a group II-V semiconductor containing a group II element and a group V element in addition to a group II-VI semiconductor and a group III-V semiconductor described later. (For example, Zn 3 P 2 , Zn 3 N 2, etc.), III-VI group semiconductors (for example, Ga 2 O 3 , Ga 2 S 3, etc.) containing Group III elements and Group VI elements.
  • the first shell contains a group II-VI semiconductor containing a group II element and a group VI element, or a group III element and a group V element, because a high-quality crystal phase with few defects can be obtained.
  • a III-V group semiconductor is preferable, and a III-V group semiconductor having a small difference in lattice constant from the above-described core is more preferable.
  • ⁇ II-VI group semiconductors Specific examples of the group II element contained in the group II-VI semiconductor include zinc (Zn), cadmium (Cd), magnesium (Mg), etc. Among them, Zn is preferable. Specific examples of the Group VI element contained in the II-VI group semiconductor include sulfur (S), oxygen (O), selenium (Se), tellurium (Te), and the like. S or Se is preferable, and S is more preferable.
  • a II-VI group semiconductor in which the above examples of the II group element and the VI group element are appropriately combined can be used, but the same or similar crystal system as the above core (for example, zinc blende structure) Is preferred. Specifically, ZnSe, ZnS, or a mixed crystal thereof is preferable, and ZnSe is more preferable.
  • group III element contained in the group III-V semiconductor include indium (In), aluminum (Al), gallium (Ga), and the like. Among these, Ga is preferable.
  • group V element contained in the group III-V semiconductor include P (phosphorus), N (nitrogen), As (arsenic), and the like. Is preferred.
  • a group III-V semiconductor in which the above examples of the group III element and the group V element are appropriately combined can be used, but the same or similar crystal system as the core described above (for example, zinc blende structure) Is preferred. Specifically, GaP is preferable.
  • the difference in lattice constant between the core and the first shell is smaller because the surface defects of the obtained core-shell particles are smaller. It is preferable that the difference in the lattice constant is 10% or less.
  • the first shell is ZnSe (difference in lattice constant: 3.4%) or GaP (difference in lattice constant: 7.1%) as described above.
  • GaP which is the same group III-V semiconductor as the core and easily forms a mixed crystal state at the interface between the core and the first shell.
  • the first shell when the first shell is a III-V group semiconductor, other elements (for example, the above-described elements) are included in a range that does not affect the magnitude relationship of the band gap with the core (core ⁇ first shell). Group II elements and Group VI elements) may be contained or doped. Similarly, when the first shell is a II-VI group semiconductor, other elements (for example, the above-described group III elements and the above-mentioned elements are included in a range that does not affect the magnitude relationship of the band gap with the core (core ⁇ first shell)). Group V element) may be contained or doped.
  • the second shell of the core-shell particle of the present invention is a material that covers at least a part of the surface of the first shell described above.
  • whether or not the second shell covers at least a part of the surface of the first shell is determined by, for example, energy dispersive X-ray spectroscopy (TEM-EDX) using a transmission electron microscope. This can also be confirmed by composition distribution analysis.
  • TEM-EDX energy dispersive X-ray spectroscopy
  • the second shell contains a II-VI group containing a II group element and a VI group element.
  • a semiconductor, or a III-V semiconductor containing a group III element and a group V element is preferred, and the reason is that the material itself has high reactivity and a shell with higher crystallinity can be easily obtained.
  • a group semiconductor is more preferable.
  • the group II element, the group VI element, the group III element, and the group V element are all the same as those described in the first shell.
  • a II-VI group semiconductor in which the above examples of the II group element and the VI group element are appropriately combined can be used, but the same or similar crystal system as the above core (for example, zinc blende structure) Is preferred. Specifically, ZnSe, ZnS, or a mixed crystal thereof is preferable, and ZnS is more preferable.
  • a group III-V semiconductor in which the above examples of the group III element and the group V element are appropriately combined can be used, but the same or similar crystal system as the core described above (for example, zinc blende structure) Is preferred. Specifically, GaP is preferable.
  • the difference in lattice constant between the first shell and the second shell described above is smaller because the surface defects of the obtained core-shell particles are reduced.
  • the difference in lattice constant with the second shell is preferably 10% or less.
  • the second shell is ZnSe (difference in lattice constant: 3.8%) or ZnS (difference in lattice constant: 0.8%). ), And ZnS is more preferable.
  • the second shell when the second shell is a II-VI group semiconductor, other elements (for example, the above-described elements) are included in a range that does not affect the magnitude relationship of the band gap with the core (core ⁇ second shell). Group III elements and Group V elements) may be contained or doped. Similarly, when the second shell is a group III-V semiconductor, other elements (for example, the above-described group II elements and the above-described elements within a range not affecting the magnitude relationship of the band gap with the core (core ⁇ second shell)). Group VI element) may be contained or doped.
  • the above-described core, the first shell, and the second shell are all made of a crystal system having a zinc blende structure. Preferably there is.
  • the probability of excitons staying in the core increases, and the luminous efficiency becomes higher, so that the core band gap is the smallest among the above-described core, first shell, and second shell, and
  • the core and the first shell are preferably core-shell particles exhibiting a type 1 type band structure.
  • the core-shell particle of the present invention has a metal-containing organic compound containing a metal element and a hydrocarbon group on at least a part of the surface of the core-shell particle, that is, the surface of the second shell described above.
  • the metal-containing organic compound is preferably an organic acid salt of a metal element, and more preferably a fatty acid metal salt because the luminous efficiency is higher and the durability is better.
  • Examples of the metal element contained in the metal-containing organic compound include indium (In), zinc (Zn), gallium (Ga), cadmium (Cd), aluminum (Al), lithium (Li), sodium (Na), Examples include potassium (K), rubidium (Rb), cesium (Cs), beryllium (Be), magnesium (Mg), calcium (Ca), strontium (Sr), and barium (Ba).
  • it is preferably a Group 12 or 13 metal element of the periodic table, more preferably In or Zn, More preferably, it is Zn.
  • examples of the hydrocarbon group contained in the metal-containing organic compound include hydrocarbon groups derived from organic acids such as fatty acids and sulfonic acids, resulting in higher luminous efficiency and better durability. From the reason that the dispersion stability in the solution is improved, a hydrocarbon group having 11 to 20 carbon atoms is preferable, and a hydrocarbon group having 14 to 18 carbon atoms is more preferable.
  • the hydrocarbon group contained in the metal-containing organic compound is preferably a saturated hydrocarbon group. Such a hydrocarbon group is preferably an alkyl group.
  • an undecyl group derived from lauric acid (CH 3 (CH 2 ) 10 COOH), tridecanoic acid (CH 3 (CH 2 ) Dodecyl group derived from 11 COOH), tridecyl group derived from myristic acid (CH 3 (CH 2 ) 12 COOH), tetradecyl group derived from pentadecanoic acid (CH 3 (CH 2 ) 13 COOH), palmitic acid (CH Pentadecyl group derived from 3 (CH 2 ) 14 COOH), hexadecyl group derived from heptadecanoic acid (CH 3 (CH 2 ) 15 COOH), heptadecyl group derived from stearic acid (CH 3 (CH 2 ) 16 COOH), a nonadecyl group derived from arachidic acid (CH 3 (CH 2) 18 COOH) And the like.
  • the unsaturated hydrocarbon group include a hydrocarbon group derived from oleic
  • the core-shell particle of the present invention desirably has a coordinating molecule on the surface of the core-shell particle from the viewpoint of imparting dispersibility.
  • the coordinating molecule include a coordinating molecule A represented by the following formula (A) and containing a carboxyl group; a coordinating molecule B represented by the following formula (B) and containing a mercapto group; These are preferably used in combination.
  • R 1 and R 2 each independently represents an organic group.
  • organic group examples include a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent or a hetero atom, for example, an aliphatic hydrocarbon group such as an alkyl group or a cycloalkyl group; an aromatic group such as an aryl group; Hydrocarbon groups; unsaturated hydrocarbon groups such as vinyl and allyl groups; and the like.
  • the organic group represented by R 1 and R 2 in the above formulas (A) and (B) is preferably a linear aliphatic hydrocarbon group from the viewpoint of aggregation prevention, and has 8 to 25 carbon atoms. More preferably, it is an aliphatic hydrocarbon group.
  • ligand A represented by the above formula (A) include decanoic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid, erucic acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • ligand B represented by the formula (B) include dodecanethiol, octanethiol, decanethiol, tetradecanthiol, hexadecanethiol, HS— (CH 2 ) m —OH ( In the formula, m represents an integer of 11 to 16, and HS— (CH 2 ) m — (O—CH 2 CH 2 ) n —OCH 3 (wherein, m represents an integer of 11 to 16, n Represents an integer of 3 to 6.), etc., and these may be used alone or in combination of two or more.
  • the average particle diameter is preferably 2 nm or more, because it is easy to synthesize particles of uniform size and the emission wavelength can be easily controlled by the quantum size effect. Is more preferable.
  • the average particle diameter refers to the value of an arithmetic average obtained by directly observing at least 20 particles with a transmission electron microscope and calculating the diameter of a circle having the same area as the projected area of the particles.
  • the above-described method for producing core-shell particles for synthesizing the core-shell particles of the present invention comprises adding a Group III material containing a Group III element in a solvent containing a coordinating molecule.
  • a first step of heating and stirring the solution a second step of adding a group V raw material containing a group V element to form a core in the solution after the first step, and a solution after the second step,
  • the first shell raw material is added to form the first shell
  • the second shell raw material is added to the solution after the third step to form the second shell, thereby synthesizing the core-shell particles.
  • a method for producing core-shell particles comprising: a fourth step; and a fifth step of adding and heating a metal-containing organic compound containing a metal element and a hydrocarbon group to the solution after the fourth step.
  • the group III element and the group V element are the same as those described in the core-shell particle of the present invention described above. Below, the raw material and conditions in each processing step are explained in full detail.
  • the first step is a step of heating and stirring a solution in which a group III material containing a group III element is added to a solvent containing a coordination molecule.
  • Examples of the coordinating molecule used in the first step include the same as those described in the above-described core-shell particle of the present invention. Among these, oleic acid, palmitic acid, myristic acid, and stearic acid that promote the synthesis of the core and have an appropriate coordination power to the core are preferable.
  • a nonpolar solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher is preferably exemplified.
  • the nonpolar solvent include aliphatic saturated hydrocarbons such as n-decane, n-dodecane, n-hexadecane, and n-octadecane; 1-undecene, 1-dodecene, 1-hexadecene, 1- Aliphatic unsaturated hydrocarbons such as octadecene; trioctylphosphine; and the like. Of these, aliphatic unsaturated hydrocarbons having 12 or more carbon atoms are preferable, and 1-octadecene is more preferable.
  • Group III raw material added to the solvent containing the coordinating molecule include, for example, indium acetate, indium chloride, indium oxide, indium nitrate, indium sulfate, indium acid; aluminum phosphate, acetylacetate Natoaluminum, aluminum chloride, aluminum fluoride, aluminum oxide, aluminum nitrate, aluminum sulfate; acetylacetonatogallium, gallium chloride, gallium fluoride, gallium oxide, gallium nitrate, gallium sulfate; Or two or more of them may be used in combination.
  • the luminous efficiency is higher, and it is preferable to be a compound containing In because it is easy to control the emission wavelength in the visible range.
  • impurity ions such as chloride are difficult to be taken into the core, It is more preferable to use indium acetate that can easily realize high crystallinity.
  • a group II material containing a group II element may be added together with the group III material described above.
  • Specific examples of Group II materials containing Group II elements include, for example, dimethyl zinc, diethyl zinc, zinc carboxylate, acetylacetonato zinc, zinc iodide, zinc bromide, zinc chloride, zinc fluoride, and carbonic acid. Examples include zinc, zinc cyanide, zinc nitrate, zinc oxide, zinc peroxide, zinc perchlorate, zinc acetate, and zinc sulfate.
  • zinc acetate which is an acetate salt of Zn, is used because it does not contain impurities such as chlorides and is relatively compatible with the above-described coordination molecule and has a relatively high solubility in a solvent. Is preferred.
  • the above-mentioned coordination molecule and the group III raw material are preferably dissolved in the above-mentioned solvent, and are preferably dissolved by heating and stirring at a temperature of 100 to 180 ° C., for example. At this time, it is preferable to remove dissolved oxygen or moisture from the dissolved mixed solution by heating under reduced pressure. Moreover, it is preferable that the time required for the above-mentioned heat dissolution is 30 minutes or more.
  • the second step is a step of forming a core by adding a group V raw material containing a group V element to the solution after the first step.
  • a group V raw material containing a group V element it is preferable to make the group V raw material added at a 2nd process smaller than 0.5 with respect to the group III raw material added at the 1st process.
  • molar ratio is 2nd with respect to the group III raw material added at the 1st process. This refers to the molar ratio of the Group V raw material added in the process.
  • the Group V raw material added in the second step is in a molar ratio of 0.1 to the Group III raw material added in the first step. It is preferably less than 4, more preferably 0.38 to 0.25.
  • Group V materials containing Group V elements include, for example, tristrialkylsilylphosphine, trisdialkylsilylphosphine, trisdialkylaminophosphine; arsenic oxide, arsenic chloride, arsenic sulfate, arsenic bromide, arsenic iodide Nitrogen monoxide, nitric acid, ammonium nitrate; and the like.
  • compounds containing P are preferable, and for example, tristrialkylsilylphosphine and trisdialkylaminophosphine are preferable, and specifically, tristrimethylsilylphosphine is more preferable.
  • the third step is a step of forming the first shell by adding the first shell raw material to the solution after the second step.
  • the raw material of the first shell when the first shell is the above-described II-VI group semiconductor, the above-mentioned group II raw material including the group II element and the group VI raw material including the group VI element described later are included.
  • the first shell is the above-described group III-V semiconductor, a group III material containing the above group III element and a group V material containing the above group V element can be mentioned.
  • the group V material containing the group V element may be the same material as the group V material forming the core. A part of the group V raw material used in the process may be used, and only the group III raw material may be added in the third step.
  • Group VI raw materials include sulfur, alkylthiol, trialkylphosphine sulfide, trialkenylphosphine sulfide, alkylaminosulfide, alkenylaminosulfide, cyclohexyl isothiocyanate, diethyldithiocarbamic acid, and diethyl.
  • Dithiocarbamic acid Trithiocarbamic acid; trialkylphosphine selenium, trialkenylphosphine selenium, alkylaminoselenium, alkenylaminoselenium, trialkylphosphine telluride, trialkenylphosphine telluride, alkylamino telluride, alkenylamino telluride; and the like.
  • alkylthiol because the dispersibility of the obtained core-shell particles is good.
  • dodecanethiol or octanethiol it is more preferable to use dodecanethiol. preferable.
  • Group III materials and Group V materials it is preferable to use Group III materials and Group V materials.
  • a compound containing Ga for example, acetylacetonato gallium, gallium chloride, gallium fluoride, gallium oxide, gallium nitrate, gallium sulfate, etc.
  • Ga for example, acetylacetonato gallium, gallium chloride, gallium fluoride, gallium oxide, gallium nitrate, gallium sulfate, etc.
  • Ga chloride for example, acetylacetonato gallium, gallium chloride, gallium fluoride, gallium oxide, gallium nitrate, gallium sulfate, etc.
  • V group raw material it is preferable to use a part of V group raw material used at a 2nd process as mentioned above.
  • the fourth step is a step of adding the second shell raw material to the solution after the third step to form the second shell and synthesize the core-shell particles.
  • the raw material of the second shell when the second shell is the above-described II-VI group semiconductor, the above-mentioned group II raw material including the group II element and the above group VI raw material including the group VI element are included.
  • the second shell is the above-described group III-V semiconductor, a group III material containing the above group III element and a group V material containing the above group V element can be mentioned.
  • Group II materials it is preferable to use Group II materials and Group VI materials.
  • the Group II raw material it is preferable to use a compound containing Zn (particularly, a carboxylate of Zn).
  • alkylthiol it is preferable to use alkylthiol as the group VI raw material.
  • the fifth step is a step of adding and heating a metal-containing organic compound containing a metal element and a hydrocarbon group in the solution after the fourth step, and at least a part of the surface of the core-shell particles synthesized in the fourth step
  • a metal-containing organic compound is introduced into the substrate.
  • the heating means that the temperature at the time of adding the metal-containing organic compound or after the addition is set to a temperature of room temperature (23 ° C.) or higher. For example, if the solution in the fourth step described above is 240 ° C.
  • a mode of cooling to a temperature of 120 to 220 ° C. is also included.
  • the second shell material added in the fourth step is a group II material or group III element containing a group II element.
  • the amount of the metal-containing organic compound added in the fifth step is more than 0.5 in molar ratio to the Group II raw material or Group III raw material added in the fourth step. A large amount is preferable, and 0.7 to 10 is more preferable.
  • the heating temperature when adding the metal-containing organic compound is preferably 120 to 220 ° C., more preferably 140 to 180 ° C.
  • the heating temperature is 120 ° C. or higher, the metal-containing organic compound is likely to be bonded to the anion site (for example, S element) on the surface of the second shell by coordination bond or ionic bond,
  • the heating temperature is 220 ° C. or less, thermal decomposition of the added metal-containing organic compound and side reaction with the residual material are suppressed, and generation of defects that trap excitons can be suppressed.
  • the film of the present invention is a film containing the core-shell particles of the present invention described above.
  • a film of the present invention has high luminous efficiency, good durability, and is useful as a quantum dot.
  • a wavelength conversion film for display use a photoelectric conversion (or wavelength conversion) film for solar cells, a living body, and the like.
  • the present invention can be applied to a sign, a thin film transistor, and the like.
  • the film of the present invention is suitable for application to a down-conversion or down-shift type wavelength conversion film that absorbs light in a shorter wavelength region than the absorption edge of quantum dots and emits longer wave light. .
  • the film material as a base material which comprises the film of this invention is not specifically limited, Resin may be sufficient and a thin glass film
  • membrane may be sufficient.
  • ionomer polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polypropylene, polyester, polycarbonate, polystyrene, polyacrylonitrile, ethylene vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene-methacrylic acid
  • Examples 1 to 6 Add 32 mL of octadecene, 140 mg (0.48 mmol) of indium acetate, 48 mg (0.24 mmol) of zinc acetate and 485 mg (1.92 mmol) of palmitic acid into the flask, and heat and stir at 110 ° C. under vacuum to dissolve the raw materials sufficiently. And deaerated for 90 minutes. Next, the temperature of the flask was raised to 300 ° C. under a nitrogen flow, and when the temperature of the solution was stabilized, 0.18 mmol of tristrimethylsilylphosphine dissolved in about 4 mL of octadecene was added. Thereafter, the solution was heated at 230 ° C.
  • Example 7 Instead of adding zinc stearate, after cooling to the temperature of the fifth step shown in Table 1 below, 2 mmol of indium myristate was added and kept for about 2 hours in the same manner as in Example 1, InP (core) doped with Zn, GaP (first shell) covering the surface of the core, and ZnS (second shell) covering the surface of the first shell, and myristin on a part of the surface of the second shell A toluene dispersion of core-shell particles having indium oxide was obtained.
  • InP core
  • GaP first shell
  • ZnS second shell
  • Example 8> instead of adding zinc stearate, the method was the same as in Example 1 except that after cooling to the temperature of the fifth step shown in Table 1 below, 0.8 mmol of zinc oleate was added and kept for about 4 hours. And ZnP-doped InP (core), GaP (first shell) covering the surface of the core, and ZnS (second shell) covering the surface of the first shell, and a part of the surface of the second shell A toluene dispersion of core-shell particles containing zinc oleate was obtained.
  • core ZnP-doped InP
  • GaP first shell
  • ZnS second shell
  • Luminescence efficiency ⁇ Initial> The concentration of each of the prepared dispersions was adjusted so that the absorbance at an excitation wavelength of 450 nm was 0.2, and the emission intensity was measured using a fluorescence spectrophotometer FluoroMax-3 (manufactured by Horiba Joban Yvon). The light emission efficiency was calculated by making a relative comparison with a quantum dot sample with a known light emission efficiency. The obtained luminous efficiency is calculated as the ratio of the number of photons emitted to the number of photons absorbed from the excitation light. The results are shown in Table 1 below.
  • Each prepared dispersion was fixed at a position of 1 mW / cm 2 using a mercury lamp (wavelength 365 nm) and irradiated with ultraviolet rays. Note that the ultraviolet irradiation time was 105 minutes, and the irradiation amount was 6.3 J / cm 2 . Thereafter, the same luminous efficiency as that in the initial stage was measured. The results are shown in Table 1 below.

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Abstract

本発明は、発光効率が高く、耐久性にも優れたコアシェル粒子およびその製造方法、ならびに、コアシェル粒子を用いたフィルムを提供することを課題とする。本発明のコアシェル粒子は、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するコアと、コアの表面の少なくとも一部を覆う第１シェルと、第１シェルの少なくとも一部を覆う第２シェルとを有するコアシェル粒子であって、コアシェル粒子の表面の少なくとも一部に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を有する、コアシェル粒子である。

Description

コアシェル粒子、コアシェル粒子の製造方法およびフィルム
　本発明は、コアシェル粒子およびその製造方法ならびにコアシェル粒子を含有するフィルムに関する。
　コロイド状の半導体ナノ粒子（いわゆる量子ドット）への応用が期待される半導体微粒子として、これまでにＩＩ－ＶＩ族半導体微粒子や、ＩＩＩ－Ｖ族半導体微粒子等が知られている。
　これらの半導体微粒子の粒径は、数ナノメートルから十数ナノメートル程度である。
　また、このようなナノスケールの粒子は、いわゆる量子サイズ効果により、一般に粒径が小さくなるほどバンドギャップが大きくなり、紫外領域や近紫外領域等の短波長領域における発光を示す。
　そのため、このような半導体微粒子特有の光学特性を活かすべく、圧電素子、電子デバイス、発光素子、レーザー等、さまざまなデバイスへの応用が研究開発されている。
　非特許文献１において、量子ドットの化学的な合成法であるホットソープ法（ホットインジェクション法とも呼ばれる）が提案されて以来、量子ドットの研究が世界中で盛んに行なわれるようになった。
　また、この量子ドットは、研究初期においてはＣｄやＰｂ元素を含むＩＩ－ＶＩ族半導体を中心に検討が行われていたが、ＣｄやＰｂ元素は特定有害物質使用制限（Restriction on Hazardous Substances：Ｒｏｈｓ）などの規制対象物質であることから、近年では、ＣｄやＰｂを含まない量子ドットの研究についても提案されている（例えば、特許文献１、非特許文献２等参照）。
特許第５１３７８２５号公報
C. B. Murrayら著「Synthesis and Characterization of Nearly Monodisperse CdE (E = S, Se, Te) Semiconductor Nanocrystallites」J. Am. Chem. Soc. 115号 8706-8715頁 (1993) S. Kimら著「Highly Luminescent InP/GaP/ZnS Nanocrystals and Their Application to White Light-Emitting Diodes」Journal of the American Chemical Society 134, 3804-3809 (2012).
　本発明者は、特許文献１や非特許文献２などに記載された多層のシェル層を有するコアシェル粒子について検討したところ、得られる半導体ナノ粒子の発光効率が劣る場合や、紫外線等に対する発光安定性（以下、「耐久性」ともいう。）が劣る場合があることを明らかとした。
　そこで、本発明は、発光効率が高く、耐久性にも優れたコアシェル粒子およびその製造方法、ならびに、コアシェル粒子を用いたフィルムを提供することを課題とする。
　本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するコアと、コアの表面の少なくとも一部を覆う第１シェルと、第１シェルの少なくとも一部を覆う第２シェルとを有するコアシェル粒子について、コアシェル粒子の表面の少なくとも一部に金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を有することにより、発光効率が高く、耐久性にも優れることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
　［１］　ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するコアと、コアの表面の少なくとも一部を覆う第１シェルと、第１シェルの少なくとも一部を覆う第２シェルとを有するコアシェル粒子であって、
　コアシェル粒子の表面の少なくとも一部に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を有する、コアシェル粒子。
　［２］　金属含有有機化合物が脂肪酸金属塩である、［１］に記載のコアシェル粒子。
　［３］　金属元素が周期律表の第１２族または第１３の金属元素である、［１］または［２］に記載のコアシェル粒子。
　［４］　フーリエ変換赤外分光分析による１４００ｃｍ－１以上１５００ｃｍ－１未満に存在するピークＬのピーク強度に対する、１５００ｃｍ－１以上１６００ｃｍ－１未満に存在するピークＭのピーク強度の比率が、０．３０以上である、［１］～［３］のいずれかに記載の半導体ナノ粒子。
　［５］　金属元素がインジウムまたは亜鉛である、［１］～［４］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［６］　金属元素が亜鉛である、［５］に記載のコアシェル粒子。
　［７］　金属含有有機化合物に含まれる炭化水素基が、炭素数１１～２０の炭化水素基である、［１］～［６］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［８］　金属含有有機化合物に含まれる炭化水素基が、飽和炭化水素基である、［１］～［７］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［９］　コアに含まれるＩＩＩ族元素がＩｎであり、コアに含まれるＶ族元素がＰ、ＮおよびＡｓのいずれかである、［１］～［８］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［１０］　コアに含まれるＩＩＩ族元素がＩｎであり、コアに含まれるＶ族元素がＰである、［９］に記載のコアシェル粒子。
　［１１］　コアが、更にＩＩ族元素を含有する、［１］～［１０］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［１２］　コアに含まれるＩＩ族元素がＺｎである、［１１］に記載のコアシェル粒子。
　［１３］　第１シェルが、ＩＩ族元素またはＩＩＩ族元素を含む、［１］～［１２］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［１４］　第１シェルが、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩ－ＶＩ族半導体、または、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩＩ－Ｖ族半導体である、［１］～［１３］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［１５］　第１シェルが、ＩＩ－ＶＩ族半導体である場合、ＩＩ族元素がＺｎであり、ＶＩ族元素がＳｅまたはＳであり、
　第１シェルが、ＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合、ＩＩＩ族元素がＧａであり、Ｖ族元素がＰである、［１４］に記載のコアシェル粒子。
　［１６］　第１シェルが、ＩＩＩ－Ｖ族半導体であり、ＩＩＩ族元素がＧａであり、Ｖ族元素がＰである、［１４］に記載のコアシェル粒子。
　［１７］　第２シェルが、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩ－ＶＩ族半導体、または、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩＩ－Ｖ族半導体である、［１］～［１６］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［１８］　第２シェルが、ＩＩ－ＶＩ族半導体であり、ＩＩ族元素がＺｎであり、ＶＩ族元素がＳである、［１７］に記載のコアシェル粒子。
　［１９］　コアと、第１シェルと、第２シェルとが、いずれも閃亜鉛鉱構造を有する結晶系である、［１］～［１８］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［２０］　コア、第１シェルおよび第２シェルのうち、コアのバンドギャップが最も小さく、かつ、コアおよび第１シェルがタイプ１型のバンド構造を示す、［１］～［１９］のいずれかに記載のコアシェル粒子。
　［２１］　［１］～［２０］のいずれかに記載のコアシェル粒子を合成するコアシェル粒子の製造方法であって、
　配位性分子を含む溶媒中にＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を添加した溶液を加熱撹拌する第１工程と、
　第１工程後の溶液中に、Ｖ族元素を含むＶ族原料を添加してコアを形成する第２工程と、
　第２工程後の溶液中に、第１シェルの原料を添加し、第１シェルを形成する第３工程と、
　第３工程後の溶液中に、第２シェルの原料を添加し、第２シェルを形成し、コアシェル粒子を合成する第４工程と、
　第４工程後の溶液中に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を添加し、加熱する第５工程と、を有する、コアシェル粒子の製造方法。
　［２２］　第４工程で添加した第２シェルの原料が、ＩＩ族元素を含むＩＩ族原料またはＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を含有し、
　第５工程で添加する金属含有有機化合物の添加量が、第４工程で添加したＩＩ族原料またはＩＩＩ族原料に対してモル比率で０．５よりも多い、［２１］に記載のコアシェル粒子の製造方法。
　［２３］　第５工程における加熱温度が１２０～２２０℃である、［２１］または［２２］に記載のコアシェル粒子の製造方法。
　［２４］　［１］～［２０］のいずれかに記載のコアシェル粒子を含有するフィルム。
　本発明によれば、発光効率が高く、耐久性にも優れたコアシェル粒子およびその製造方法、ならびに、コアシェル粒子を用いたフィルムを提供することができる。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
［コアシェル粒子］
　本発明のコアシェル粒子は、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するコアと、コアの表面の少なくとも一部を覆う第１シェルと、第１シェルの少なくとも一部を覆う第２シェルとを有するコアシェル粒子である。
　また、本発明のコアシェル粒子は、コアシェル粒子の表面の少なくとも一部に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を有する。
　本発明のコアシェル粒子は、コアシェル粒子の表面の少なくとも一部に金属含有有機化合物を有することにより、発光効率が高くなり、耐久性も良好となる。
　このように発光効率が高くなり、耐久性も良好となる理由は、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
　まず、コアシェル粒子の発光効率および耐久性が劣る要因として、コア粒子表面の欠陥（コアとシェルとの界面の欠陥）や、シェル表面の欠陥が考えられる。
　コア粒子表面の欠陥に関しては、コア粒子を多層のシェルで被覆することによって、コアとシェルとの界面の欠陥を低減または欠陥による影響を抑制し、高い発光効率が実現できると考えられる。
　一方、シェル表面の欠陥については、コアで生成した励起子の一部がシェルを通過（トンネル）し、コアシェル粒子の表面にトラップされることで発光効率の低下を招くことが知られている。そこで、本発明者は、励起子のトラップ現象が、紫外線等の光照射に対する発光安定性、すなわち、耐久性の低下の要因にもなっていると推測し、耐久性の向上のためには、シェル表面の欠陥を抑制することが重要な因子であると考えた。
　ここで、コアシェル粒子では、シェル表面に配位子を有していることが知られており、また、一般的な配位子は、カルボキシル基、アミノ基、チオール基等を有しているため、これらの置換基がシェルの陽イオンサイト（例えば、ＩＩ－ＶＩ族半導体におけるＺｎ）に配位していることが知られている。
　そのため、本発明のコアシェル粒子においては、表面の少なくとも一部に存在する金属含有有機化合物が、シェルの陰イオンサイト（例えば、ＩＩ－ＶＩ族半導体におけるＳ）にも配位結合やイオン結合などによって結合し欠陥を補強するため、耐久性が向上したと考えられる。
　本発明のコアシェル粒子は、発光効率がより高くなり、耐久性がより良好となる理由から、フーリエ変換赤外分光分析〔Fourier Transform Infrared Spectroscopy（以下、「ＦＴ－ＩＲ」ともいう。）〕により測定される、１４００ｃｍ－１以上１５００ｃｍ－１未満に存在するピークＬのピーク強度に対する、１５００ｃｍ－１以上１６００ｃｍ－１未満に存在するピークＭのピーク強度の比率（ピークＭ／ピークＬ）が、０．３０以上であるのが好ましく、０．５０～２．０であるのがより好ましい。
　ここで、ＦＴ－ＩＲによるピークＭおよびピークＬの検出方法は、以下の測定条件で測定した際に検出されるか否かで判断する。
　また、ピークＭおよびピークＬのピーク強度比は、以下の測定条件により観測される各ピークから、バックグラウンドを差し引き、ピークＬの最大ピーク強度に対するピークＭの最大ピーク強度の割合をいう。
　なお、ＦＴ－ＩＲ測定は、コアシェル粒子を含む分散液（溶媒：トルエン）をノンドープのＳｉ基板上に塗布し、窒素雰囲気下で乾燥させたサンプルを用いて行う。
　＜測定条件＞
　・測定装置：Ｎｉｃｏｌｅｔ４７００（透過配置、Ｔｈｒｍｏｆｉｓｈｅｒ製）
　・検出器：ＤＴＧＳ ＫＢｒ
　・光源：ＩＲ
　・測定アクセサリ：Trsnsmission E.S.P.
　・ビームスプリッター：ＫＢｒ
　・測定波数：４００～４０００ｃｍ-1
　・測定間隔：１．９２８ｃｍ-1
　・スキャン回数：３２
　・分解能：４
 〔コア〕
　本発明のコアシェル粒子が有するコアは、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有する、いわゆるＩＩＩ－Ｖ族半導体である。
　＜ＩＩＩ族元素＞
　ＩＩＩ族元素としては、具体的には、例えば、インジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）等が挙げられ、なかでも、Ｉｎであるのが好ましい。
　＜Ｖ族元素＞
　Ｖ族元素としては、具体的には、例えば、Ｐ（リン）、Ｎ（窒素）、Ａｓ（ヒ素）等が挙げられ、なかでも、Ｐであるのが好ましい。
　本発明においては、コアとして、上述したＩＩＩ族元素およびＶ族元素の例示を適宜組み合わせたＩＩＩ－Ｖ族半導体を用いることができるが、発光効率がより高くなり、発光半値幅が狭くなり、また、明瞭なエキシトンピークが得られる理由から、ＩｎＰ、ＩｎＮ、ＩｎＡｓであるのが好ましく、中でも、発光効率が更に高くなる理由から、ＩｎＰであるのがより好ましい。
　本発明においては、上述したＩＩＩ族元素およびＶ族元素以外に、更にＩＩ族元素を含有しているのが好ましく、特にコアがＩｎＰである場合、ＩＩ族元素としてのＺｎをドープさせることにより格子定数が小さくなり、ＩｎＰよりも格子定数の小さいシェル（例えば、後述するＧａＰ、ＺｎＳなど）との格子整合性が高くなる。
 〔第１シェル〕
　本発明のコアシェル粒子が有する第１シェルは、コアの表面の少なくとも一部を覆う材料である。
　ここで、本発明においては、第１シェルがコアの表面の少なくとも一部を被覆しているか否かは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型Ｘ線分光法（ＴＥＭ－ＥＤＸ）による組成分布解析によっても確認することが可能である。
　本発明においては、コアとの界面欠陥を抑制しやすくなる理由から、第１シェルがＩＩ族元素またはＩＩＩ族元素を含むことが好ましい。
　また、ＩＩ族元素またはＩＩＩ族元素を含む第１シェルとしては、例えば、後述するＩＩ－ＶＩ族半導体およびＩＩＩ－Ｖ族半導体の他、ＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩ－Ｖ族半導体（例えば、Ｚｎ3Ｐ2、Ｚｎ3Ｎ2など）、ＩＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩＩ－ＶＩ族半導体（例えば、Ｇａ2Ｏ3、Ｇａ2Ｓ3など）などが挙げられる。
　本発明においては、欠陥の少ない良質な結晶相が得られる理由から、第１シェルが、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩ－ＶＩ族半導体、または、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩＩ－Ｖ族半導体であるのが好ましく、上述したコアとの格子定数の差が小さいＩＩＩ－Ｖ族半導体であるのがより好ましい。
　＜ＩＩ－ＶＩ族半導体＞
　上記ＩＩ－ＶＩ族半導体に含まれるＩＩ族元素としては、具体的には、例えば、亜鉛（Ｚｎ）、カドミウム（Ｃｄ）、マグネシウム（Ｍｇ）等が挙げられ、なかでもＺｎであるのが好ましい。
　また、上記ＩＩ－ＶＩ族半導体に含まれるＶＩ族元素としては、具体的には、例えば、硫黄（Ｓ）、酸素（Ｏ）、セレン（Ｓｅ）、テルル（Ｔｅ）等が挙げられ、なかでもＳまたはＳｅであるのが好ましく、Ｓであるのがより好ましい。
　第１シェルとして、上述したＩＩ族元素およびＶＩ族元素の例示を適宜組み合わせたＩＩ－ＶＩ族半導体を用いることができるが、上述したコアと同一または類似の結晶系（例えば、閃亜鉛鉱構造）であるのが好ましい。具体的には、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、またはそれらの混晶であるのが好ましく、ＺｎＳｅであるのがより好ましい。
　＜ＩＩＩ－Ｖ族半導体＞
　上記ＩＩＩ－Ｖ族半導体に含まれるＩＩＩ族元素としては、具体的には、例えば、インジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）等が挙げられ、なかでも、Ｇａであるのが好ましい。
　また、上記ＩＩＩ－Ｖ族半導体に含まれるＶ族元素としては、具体的には、例えば、Ｐ（リン）、Ｎ（窒素）、Ａｓ（ヒ素）等が挙げられ、なかでも、Ｐであるのが好ましい。
　第１シェルとして、上述したＩＩＩ族元素およびＶ族元素の例示を適宜組み合わせたＩＩＩ－Ｖ族半導体を用いることができるが、上述したコアと同一または類似の結晶系（例えば、閃亜鉛鉱構造）であるのが好ましい。具体的には、ＧａＰであるのが好ましい。
　本発明においては、得られるコアシェル粒子の表面欠陥が少なくなる理由から、上述したコアと第１シェルとの格子定数の差が小さい方が好ましく、具体的には、上述したコアと第１シェルとの格子定数の差が１０％以下であることが好ましい。
　具体的には、上述したコアがＩｎＰである場合、上述した通り、第１シェルはＺｎＳｅ（格子定数の差：３．４％）、または、ＧａＰ（格子定数の差：７．１％）であることが好ましく、特に、コアと同じＩＩＩ－Ｖ族半導体であり、コアと第１シェルとの界面に混晶状態を作りやすいＧａＰであることがより好ましい。
　また、本発明においては、第１シェルがＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合、コアとのバンドギャップの大小関係（コア＜第１シェル）に影響を与えない範囲で他の元素（例えば、上述したＩＩ族元素およびＶＩ族元素）を含有またはドープしていてもよい。同様に、第１シェルがＩＩ－ＶＩ族半導体である場合、コアとのバンドギャップの大小関係（コア＜第１シェル）に影響を与えない範囲で他の元素（例えば、上述したＩＩＩ族元素およびＶ族元素）を含有またはドープしていてもよい。
 〔第２シェル〕
　本発明のコアシェル粒子が有する第２シェルは、上述した第１シェルの表面の少なくとも一部を覆う材料である。
　ここで、本発明においては、第２シェルが第１シェルの表面の少なくとも一部を被覆しているか否かは、例えば、透過型電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型Ｘ線分光法（ＴＥＭ－ＥＤＸ）による組成分布解析によっても確認することが可能である。
　本発明においては、第１シェルとの界面欠陥を抑制し、また、欠陥の少ない良質な結晶相が得られる理由から、第２シェルが、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩ－ＶＩ族半導体、または、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩＩ－Ｖ族半導体であるのが好ましく、材料自体の反応性が高く、より結晶性の高いシェルが容易に得られる理由から、ＩＩ－ＶＩ族半導体であるのがより好ましい。
　なお、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素ならびにＩＩＩ族元素およびＶ族元素としては、いずれも、第１シェルにおいて説明したものが挙げられる。
　第２シェルとして、上述したＩＩ族元素およびＶＩ族元素の例示を適宜組み合わせたＩＩ－ＶＩ族半導体を用いることができるが、上述したコアと同一または類似の結晶系（例えば、閃亜鉛鉱構造）であるのが好ましい。具体的には、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、またはそれらの混晶であるのが好ましく、ＺｎＳであるのがより好ましい。
　第２シェルとして、上述したＩＩＩ族元素およびＶ族元素の例示を適宜組み合わせたＩＩＩ－Ｖ族半導体を用いることができるが、上述したコアと同一または類似の結晶系（例えば、閃亜鉛鉱構造）であるのが好ましい。具体的には、ＧａＰであるのが好ましい。
　本発明においては、得られるコアシェル粒子の表面欠陥が少なくなる理由から、上述した第１シェルと第２シェルとの格子定数の差が小さい方が好ましく、具体的には、上述した第１シェルと第２シェルとの格子定数の差が１０％以下であることが好ましい。
　具体的には、上述した第１シェルがＧａＰである場合、上述した通り、第２シェルはＺｎＳｅ（格子定数の差：３．８％）、または、ＺｎＳ（格子定数の差：０．８％）であることが好ましく、ＺｎＳであることがより好ましい。
　また、本発明においては、第２シェルがＩＩ－ＶＩ族半導体である場合、コアとのバンドギャップの大小関係（コア＜第２シェル）に影響を与えない範囲で他の元素（例えば、上述したＩＩＩ族元素およびＶ族元素）を含有またはドープしていてもよい。同様に、第２シェルがＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合、コアとのバンドギャップの大小関係（コア＜第２シェル）に影響を与えない範囲で他の元素（例えば、上述したＩＩ族元素およびＶＩ族元素）を含有またはドープしていてもよい。
　本発明においては、エピタキシャル成長が容易となり、各層間の界面欠陥を抑制しやすくなる理由から、上述したコアと、第１シェルと、第２シェルとが、いずれも閃亜鉛鉱構造を有する結晶系であるのが好ましい。
　また、本発明においては、コアにエキシトンが滞在する確率が増大し、発光効率がより高くなる理由から、上述したコア、第１シェルおよび第２シェルのうち、コアのバンドギャップが最も小さく、かつ、コアおよび第１シェルがタイプ１型のバンド構造を示すコアシェル粒子であるのが好ましい。
 〔金属含有有機化合物〕
　本発明のコアシェル粒子は、コアシェル粒子の表面、すなわち、上述した第２シェルの表面の少なくとも一部に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を有する。
　本発明においては、上記金属含有有機化合物は、金属元素の有機酸塩であることが好ましく、発光効率がより高くなり、耐久性がより良好となる理由から、脂肪酸金属塩であることがより好ましい。
　上記金属含有有機化合物に含まれる金属元素としては、例えば、インジウム（Ｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、カドミウム（Ｃｄ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）、ベリリウム（Ｂｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）等が挙げられる。
　これらのうち、発光効率がより高くなり、耐久性がより良好となる理由から、周期律表の第１２族または第１３の金属元素であることが好ましく、ＩｎまたはＺｎであることがより好ましく、Ｚｎであるのが更に好ましい。
　一方、上記金属含有有機化合物に含まれる炭化水素基としては、脂肪酸やスルホン酸等の有機酸由来の炭化水素基が挙げられ、発光効率がより高くなり、また、耐久性がより良好となり、更に、溶液中での分散安定性が向上する理由から、炭素数１１～２０の炭化水素基であることが好ましく、炭素数１４～１８の炭化水素基であることがより好ましい。
　また、同様の理由から、金属含有有機化合物に含まれる炭化水素基が、飽和炭化水素基であることが好ましい。
　このような炭化水素基としては、アルキル基であることが好ましく、具体的には、例えば、ラウリン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１０ＣＯＯＨ）に由来するウンデシル基、トリデカン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１１ＣＯＯＨ）に由来するドデシル基、ミリスチン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１２ＣＯＯＨ）に由来するトリデシル基、ペンタデカン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１３ＣＯＯＨ）に由来するテトラデシル基、パルミチン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１４ＣＯＯＨ）に由来するペンタデシル基、ヘプタデカン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１５ＣＯＯＨ）に由来するヘキサデシル基、ステアリン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１６ＣＯＯＨ）に由来するヘプタデシル基、アラキジン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）１８ＣＯＯＨ）に由来するノナデシル基などが挙げられる。
　なお、不飽和炭化水素基としては、例えば、オレイン酸（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯＨ）に由来する炭化水素基などが挙げられる。
　上記金属含有有機化合物の好適例である脂肪酸金属塩の具体例としては、例えば、ラウリン酸リチウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、ラウリン酸マグネシウム、ラウリン酸カルシウム、ラウリン酸バリウムなどのラウリン酸金属塩；ミリスチン酸リチウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸マグネシウム、ミリスチン酸カルシウム、ミリスチン酸インジウム、ミリスチン酸バリウムなどのミリスチン酸金属塩；パルミチン酸リチウム、パルミチン酸ナトリウム、パルミチン酸カリウム、パルミチン酸マグネシウム、パルミチン酸カルシウム、パルミチン酸バリウムなどのパルミチン酸金属塩；ステアリン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸ガリウム、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸インジウム、ステアリン酸亜鉛などのステアリン酸金属塩；オレイン酸インジウム、オレイン酸ガリウム、オレイン酸亜鉛などのオレイン酸金属塩；等が挙げられる。
 〔配位性分子〕
　本発明のコアシェル粒子は、分散性を付与する観点から、コアシェル粒子の表面に配位性分子を有していることが望ましい。
　配位性分子としては、例えば、下記式（Ａ）で表され、カルボキシル基を含む配位性分子Ａ；下記式（Ｂ）で表され、メルカプト基を含む配位性分子Ｂ；等が挙げられ、これらを併用するのが好ましい。
　Ｒ１－ＣＯＯＨ　・・・（Ａ）
　Ｒ２－ＳＨ　・・・（Ｂ）
　ここで、式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に有機基を表す。
　上記有機基としては、置換基やヘテロ原子を有していてもよい１価の炭化水素基が挙げられ、例えば、アルキル基、シクロアルキル基などの脂肪族炭化水素基；アリール基などの芳香族炭化水素基；ビニル基、アリル基などの不飽和炭化水素基；等が挙げられる。
　上記式（Ａ）および（Ｂ）中のＲ１およびＲ２が示す有機基としては、凝集防止の観点から、直鎖状の脂肪族炭化水素基であるのが好ましく、炭素数８～２５の脂肪族炭化水素基であるのがより好ましい。
　上記式（Ａ）で表される配位子Ａとしては、具体的には、例えば、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エルカ酸等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　また、上記式（Ｂ）で表される配位子Ｂとしては、具体的には、例えば、ドデカンチオール、オクタンチオール、デカンチオール、テトラデカンチオール、ヘキサデカンチオール、ＨＳ－（ＣＨ２）ｍ－ＯＨ（式中、ｍは１１～１６の整数を表す。）、ＨＳ－（ＣＨ２）ｍ－（Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２）ｎ－ＯＣＨ３（式中、ｍは１１～１６の整数を表し、ｎは３～６の整数を表す。）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
 〔平均粒子径〕
　本発明のコアシェル粒子は、均一なサイズの粒子を合成しやすく、かつ、量子サイズ効果による発光波長の制御が容易となる理由から、平均粒子径は２ｎｍ以上であるのが好ましく、１０ｎｍ以下であるのがより好ましい。
　ここで、平均粒子径は、透過電子顕微鏡で少なくとも２０個の粒子を直接観察し、粒子の投影面積と同一面積を有する円の直径を算出し、それらの算術平均の値をいう。
［コアシェル粒子の製造方法］
　上述した本発明のコアシェル粒子を合成するコアシェル粒子の製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう。）は、配位性分子を含む溶媒中にＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を添加した溶液を加熱撹拌する第１工程と、第１工程後の溶液中に、Ｖ族元素を含むＶ族原料を添加してコアを形成する第２工程と、第２工程後の溶液中に、第１シェルの原料を添加し、第１シェルを形成する第３工程と、第３工程後の溶液中に、第２シェルの原料を添加し、第２シェルを形成し、コアシェル粒子を合成する第４工程と、第４工程後の溶液中に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を添加し、加熱する第５工程と、を有する、コアシェル粒子の製造方法である。
　ここで、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素については、上述した本発明のコアシェル粒子において説明したものと同様である。
　以下に、各処理工程における原料や条件について詳述する。
 〔第１工程〕
　第１工程は、配位性分子を含む溶媒中にＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を添加した溶液を加熱撹拌する工程である。
　＜配位性分子＞
　第１工程において使用する配位性分子としては、上述した本発明のコアシェル粒子において説明したものと同様のものが挙げられる。なかでも、コアの合成を促進し、コアへの適度な配位力を有するオレイン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸が好ましい。
　＜溶媒＞
　第１工程において使用する溶媒としては、１７０℃以上の沸点を有する非極性溶媒が好適に挙げられる。
　非極性溶媒としては、具体的には、例えば、ｎ－デカン、ｎ－ドデカン、ｎ－ヘキサデカン、ｎ－オクタデカンなどの脂肪族飽和炭化水素；１－ウンデセン、１－ドデセン、１－ヘキサデセン、１－オクタデセンなどの脂肪族不飽和炭化水素；トリオクチルホスフィン；等が挙げられる。
　これらのうち、炭素数１２以上の脂肪族不飽和炭化水素が好ましく、１－オクタデセンがより好ましい。
　＜ＩＩＩ族原料＞
　上述した配位性分子を含む溶媒中に添加するＩＩＩ族原料としては、具体的には、例えば、酢酸インジウム、塩化インジウム、酸化インジウム、硝酸インジウム、硫酸インジウム、インジウム酸；リン酸アルミニウム、アセチルアセトナトアルミニウム、塩化アルミニウム、フッ化アルミニウム、酸化アルミニウム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム；アセチルアセトナトガリウム、塩化ガリウム、フッ化ガリウム、酸化ガリウム、硝酸ガリウム、硫酸ガリウム；等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらのうち、発光効率がより高くなり、可視域での発光波長制御がし易いという理由から、Ｉｎを含む化合物であることが好ましく、特に、塩化物などの不純物イオンがコアに取り込まれ難く、高い結晶性を実現しやすい酢酸インジウムを用いるのがより好ましい。
　＜ＩＩ族原料＞
　本発明の製造方法においては、第１工程において、上述したＩＩＩ族原料とともに、ＩＩ族元素を含むＩＩ族原料を添加してもよい。
　ＩＩ族元素を含むＩＩ族原料としては、具体的には、例えば、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、亜鉛カルボキシル酸塩、アセチルアセトナト亜鉛、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、炭酸亜鉛、シアン化亜鉛、硝酸亜鉛、酸化亜鉛、過酸化亜鉛、亜鉛過塩素酸塩、酢酸亜鉛、硫酸亜鉛等が挙げられる。
　これらのうち、塩化物などの不純物を含まず、かつ、上述した配位性分子との相溶性や溶媒への溶解性が比較的高いという理由から、Ｚｎの酢酸塩である、酢酸亜鉛を用いるのが好ましい。
　＜加熱撹拌条件＞
　第１工程において、上述した配位性分子およびＩＩＩ族原料は、上述した溶媒に溶解させるのが好ましく、例えば、１００～１８０℃の温度で加熱撹拌して溶解させることが好ましい。なお、この際に、減圧条件下で加熱することより、溶解させた混合溶液から溶存酸素や水分などを除去することが好ましい。
　また、上述した加熱溶解に要する時間は、３０分以上であることが好ましい。
 〔第２工程〕
　第２工程は、第１工程後の溶液中に、Ｖ族元素を含むＶ族原料を添加してコアを形成する工程である。
　本発明の製造方法においては、第２工程で添加するＶ族原料を、第１工程で添加したＩＩＩ族原料に対してモル比率で０．５よりも小さくすることが好ましい。これにより、コア粒子表面に金属カチオンが多く存在しやすくなり、第１工程にて使用する配位性分子が配位しやすくなることから、高い発光特性を実現しやすくなる。
　なお、モル比率は、第２工程で添加するＶ族原料の一部を第３工程における第１シェルの原料としても使用する場合であっても、第１工程で添加したＩＩＩ族原料に対する第２工程で添加するＶ族原料のモル比率をいう。
　また、コアの表面においてＩＩＩ族元素由来の金属カチオンがより多く存在しうる理由から、第２工程で添加するＶ族原料が、第１工程で添加したＩＩＩ族原料に対してモル比率で０．４よりも小さいことが好ましく、０．３８～０．２５であることが好ましい。
　＜Ｖ族原料＞
　Ｖ族元素を含むＶ族原料としては、具体的には、例えば、トリストリアルキルシリルホスフィン、トリスジアルキルシリルホスフィン、トリスジアルキルアミノホスフィン；酸化砒素、塩化砒素、硫酸砒素、臭化砒素、ヨウ化砒素；一酸化窒素、硝酸、硝酸アンモニウム；等が挙げられる。
　これらのうち、Ｐを含む化合物であるのが好ましく、例えば、トリストリアルキルシリルホスフィン、トリスジアルキルアミノホスフィンを用いるのが好ましく、具体的には、トリストリメチルシリルホスフィンを用いるのがより好ましい。
 〔第３工程〕
　第３工程は、第２工程後の溶液中に、第１シェルの原料を添加し、第１シェルを形成する工程である。
　ここで、第１シェルの原料としては、第１シェルが上述したＩＩ－ＶＩ族半導体である場合には、上述したＩＩ族元素を含むＩＩ族原料および後述するＶＩ族元素を含むＶＩ族原料が挙げられ、第１シェルが上述したＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合には、上述したＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料および上述したＶ族元素を含有するＶ族原料が挙げられる。
　また、第１シェルが、上述したＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合には、Ｖ族元素を含むＶ族原料については、コアを形成するＶ族原料と同一原料であってもよいため、第２工程で使用するＶ族原料の一部を使用し、第３工程においてはＩＩＩ族原料のみを添加する態様であってもよい。
　＜ＶＩ族原料＞
　ＶＩ族元素を含むＶＩ族原料としては、具体的には、例えば、硫黄、アルキルチオール、トリアルキルホスフィンスルフィド、トリアルケニルホスフィンスルフィド、アルキルアミノスルフィド、アルケニルアミノスルフィド、イソチオシアン酸シクロヘキシル、ジエチルジチオカルバミン酸、ジエチルジチオカルバミン酸；トリアルキルホスフィンセレン、トリアルケニルホスフィンセレン、アルキルアミノセレン、アルケニルアミノセレン、トリアルキルホスフィンテルリド、トリアルケニルホスフィンテルリド、アルキルアミノテルリド、アルケニルアミノテルリド；等が挙げられる。
　これらのうち、得られるコアシェル粒子の分散性が良好となる理由から、アルキルチオールを用いるのが好ましく、具体的には、ドデカンチオール、オクタンチオールを用いるのがより好ましく、ドデカンチオールを用いるのが更に好ましい。
　これらの材料のうち、ＩＩＩ族原料およびＶ族原料を用いるのが好ましい。
　特に、ＩＩＩ族原料としては、Ｇａを含む化合物（例えば、アセチルアセトナトガリウム、塩化ガリウム、フッ化ガリウム、酸化ガリウム、硝酸ガリウム、硫酸ガリウム等）を用いるのがより好ましく、Ｇａの塩化物を用いるのが更に好ましい。
　なお、Ｖ族原料としては、上述した通り、第２工程で使用するＶ族原料の一部を用いるのが好ましい。
 〔第４工程〕
　第４工程は、第３工程後の溶液中に、第２シェルの原料を添加し、第２シェルを形成し、コアシェル粒子を合成する工程である。
　ここで、第２シェルの原料としては、第２シェルが上述したＩＩ－ＶＩ族半導体である場合には、上述したＩＩ族元素を含むＩＩ族原料および上述したＶＩ族元素を含むＶＩ族原料が挙げられ、第２シェルが上述したＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合には、上述したＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料および上述したＶ族元素を含有するＶ族原料が挙げられる。
　これらの原料のうち、ＩＩ族原料およびＶＩ族原料を用いるのが好ましい。
　特に、ＩＩ族原料としては、Ｚｎを含む化合物（特に、Ｚｎのカルボン酸塩）を用いるのが好ましい。
　また、ＶＩ族原料としては、アルキルチオールを用いるのが好ましい。
 〔第５工程〕
　第５工程は、第４工程後の溶液中に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を添加し、加熱する工程であり、第４工程で合成したコアシェル粒子の表面の少なくとも一部に金属含有有機化合物を導入する工程である。
　ここで、金属含有有機化合物については、上述した本発明のコアシェル粒子において説明したものと同様である。
　また、加熱とは、金属含有有機化合物を添加する際または添加した後の温度を室温（２３℃）以上の温度とすること意味し、例えば、上述した第４工程の溶液が２４０℃であれば、第５工程において、例えば、１２０～２２０℃の温度に冷却する態様も含まれる。
　本発明においては、第５工程で添加する金属含有有機化合物によるコアシェル粒子の表面被覆の観点から、第４工程で添加した第２シェルの原料が、ＩＩ族元素を含むＩＩ族原料またはＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を含有し、かつ、第５工程で添加する金属含有有機化合物の添加量が、第４工程で添加したＩＩ族原料またはＩＩＩ族原料に対してモル比率で０．５よりも多いことが好ましく、０．７～１０であることがより好ましい。
　また、本発明においては、上記金属含有有機化合物を添加する際の加熱温度は１２０～２２０℃であることが好ましく、１４０～１８０℃であるのがより好ましい。
　加熱温度が１２０℃以上であることにより、上記金属含有有機化合物が第２シェルの表面の陰イオンサイト（例えば、Ｓ元素）に対して配位結合やイオン結合などによる結合が生じやすくなり、また、加熱温度が２２０℃以下であることにより、添加した上記金属含有有機化合物の熱分解や残留材料との副反応が抑制され、励起子をトラップする欠陥の生成を抑制することができる。
［フィルム］
　本発明のフィルムは、上述した本発明のコアシェル粒子を含有するフィルムである。
　このような本発明のフィルムは、発光効率が高く、耐久性が良好となり、量子ドットとして有用であるため、例えば、ディスプレイ用途の波長変換フィルム、太陽電池の光電変換（または波長変換）フィルム、生体標識、薄膜トランジスタ等に適用することができる。特に、本発明のフィルムは、量子ドットの吸収端よりも短波の領域の光を吸収し、より長波の光を放出するダウンコンバージョン、または、ダウンシフト型の波長変換フィルムへの応用が好適である。
　また、本発明のフィルムを構成する母材としてのフィルム材料は特に限定されず、樹脂であってもよく、薄いガラス膜であってもよい。
　具体的には、アイオノマー、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体、エチレン－メタクリル酸共重合体フィルム、ナイロン等をベースとする樹脂材料が挙げられる。
　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
　＜実施例１～６＞
　フラスコ中に３２ｍＬのオクタデセン、酢酸インジウム１４０ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）、酢酸亜鉛４８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、パルミチン酸４８５ｍｇ（１．９２ｍｍｏｌ）を加え、真空下で１１０℃加熱攪拌を行い、原料を十分溶解させると共に９０分間脱気を行った。
　次いで、窒素フロー下でフラスコを３００℃まで昇温し、溶液の温度が安定したところで、約４ｍＬのオクタデセンに溶解させた０．１８ｍｍｏｌのトリストリメチルシリルホスフィンを加えた。その後、溶液を２３０℃にした状態で１２０分間加熱した。溶液が赤色に着色し粒子（コア）が形成されている様子が確認された。
　次いで、溶液を２００℃に加熱した状態において、８ｍＬのオクタデセンに溶解させた、塩化ガリウム３０ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）及びオレイン酸１８８μＬ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、１時間ほど加熱することで、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とＧａＰ（第１シェル）とを有するコアシェル粒子前駆体の分散液を得た。
　次いで、分散液の温度を室温に冷却した後に０．９３ｍｍｏｌのオレイン酸亜鉛を添加し、分散液を２４０℃に加熱し、４時間程キープした。その後、ドデカンチオールを１．５５ｍｌ（６．５５ｍｍｏｌ）加え、２時間程キープした。
　次いで、得られた分散液を下記表１に示す第５工程の温度まで冷却した後、０．８ｍｍｏｌのステアリン酸亜鉛を添加し、４時間程キープした。その後、分散液を室温まで冷却し、エタノールを加え、遠心分離を行い、粒子を沈殿させた。上澄みを廃棄した後、トルエン溶媒に分散させた。
　このようにして、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とコアの表面を覆うＧａＰ（第１シェル）と第１シェルの表面を覆うＺｎＳ（第２シェル）とを有し、第２シェルの表面の一部にステアリン酸亜鉛を有するコアシェル粒子のトルエン分散液を得た。
　＜実施例７＞
　ステアリン酸亜鉛の添加に代えて、下記表１に示す第５工程の温度まで冷却した後、２ｍｍｏｌのミリスチン酸インジウムを添加し、２時間程キープした以外は、実施例１と同様の方法で、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とコアの表面を覆うＧａＰ（第１シェル）と第１シェルの表面を覆うＺｎＳ（第２シェル）とを有し、第２シェルの表面の一部にミリスチン酸インジウムを有するコアシェル粒子のトルエン分散液を得た。
　＜実施例８＞
　ステアリン酸亜鉛の添加に代えて、下記表１に示す第５工程の温度まで冷却した後、０．８ｍｍｏｌのオレイン酸亜鉛を添加し、４時間程キープした以外は、実施例１と同様の方法で、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とコアの表面を覆うＧａＰ（第１シェル）と第１シェルの表面を覆うＺｎＳ（第２シェル）とを有し、第２シェルの表面の一部にオレイン酸亜鉛を有するコアシェル粒子のトルエン分散液を得た。
　＜比較例１＞
　フラスコ中に３２ｍＬのオクタデセン、酢酸インジウム１４０ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）、酢酸亜鉛４８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、パルミチン酸４８５ｍｇ（１．９２ｍｍｏｌ）を加え、真空下で１１０℃加熱攪拌を行い、原料を十分溶解させると共に９０分間脱気を行った。
　次いで、窒素フロー下でフラスコを３００℃まで昇温し、溶液の温度が安定したところで、約４ｍＬのオクタデセンに溶解させた０．１８ｍｍｏｌのトリストリメチルシリルホスフィンを加えた。その後、溶液を２３０℃にした状態で１２０分間加熱した。溶液が赤色に着色し粒子（コア）が形成されている様子が確認された。
　次いで、溶液を２００℃に加熱した状態において、８ｍＬのオクタデセンに溶解させた、塩化ガリウム３０ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）及びオレイン酸１８８μＬ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、１時間ほど加熱することで、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とＧａＰ（第１シェル）とを有するコアシェル粒子前駆体の分散液を得た。
　次いで、分散液の温度を室温に冷却した後に０．９３ｍｍｏｌのオレイン酸亜鉛を添加し、分散液を２４０℃に加熱し、４時間程キープした。その後、ドデカンチオールを１．５５ｍｌ（６．５５ｍｍｏｌ）加え、２時間程キープした。
　次いで、得られた分散液を室温まで冷却し、エタノールを加え、遠心分離を行い、粒子を沈殿させた。上澄みを廃棄した後、トルエン溶媒に分散させた。
　このようにして、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とコアの表面を覆うＧａＰ（第１シェル）と第１シェルの表面を覆うＺｎＳ（第２シェル）とを有するコアシェル粒子のトルエン分散液を得た。
　＜比較例２＞
　ステアリン酸亜鉛の添加に代えて、下記表１に示す第５工程の温度まで冷却した後、０．８ｍｍｏｌのステアリン酸を添加し、４時間程キープした以外は、実施例１と同様の方法で、ＺｎがドープされたＩｎＰ（コア）とコアの表面を覆うＧａＰ（第１シェル）と第１シェルの表面を覆うＺｎＳ（第２シェル）とを有し、第２シェルの表面の一部にステアリン酸を有するコアシェル粒子のトルエン分散液を得た。
 〔ＦＴ－ＩＲ〕
　調製した各分散液について、上述した方法により、ＦＴ－ＩＲにより１４００ｃｍ－１以上１５００ｃｍ－１未満に存在するピークＬおよび１５００ｃｍ－１以上１６００ｃｍ－１未満に存在するピークＭの検出の有無、ならびに、ピーク強度比（ピークＭ／ピークＬ）を測定した。結果を下記表１に示す。
 〔発光効率〕
　＜初期＞
　調製した各分散液について、４５０ｎｍの励起波長における吸光度が０．２となるように濃度を調製し、蛍光分光光度計ＦｌｕｏｒｏＭａｘ－３（堀場ジョバンイボン社製）を用いて発光強度測定を行った。そして、発光効率既知の量子ドット試料と相対比較する事で、発光効率の算出を行なった。得られた発光効率は励起光からの吸収フォトン数に対する発光フォトン数の割合として算出したものである。結果を下記表１に示す。
　＜紫外線照射後＞
　調製した各分散液に対して、水銀ランプ（波長３６５ｎｍ）を用いて、１ｍＷ／ｃｍ２となる位置で固定して、紫外線を照射した。なお、紫外線の照射時間は１０５分とし、照射量は６．３Ｊ／ｃｍ2とした。
　その後、初期と同様の発光効率の測定を行った。結果を下記表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示す結果から、第５工程を行わず、コアシェル粒子の表面に金属含有有機化合物を導入しない場合は、初期の発光効率は高かったが、紫外線照射後の発光効率が２５％以上低下し、耐久性が低いことが分かった（比較例１）。
　また、第５工程において、金属元素を含まないステアリン酸のみを導入した場合は、初期の発光効率は高かったが、紫外線照射後の発光効率が２０％以上低下し、耐久性が低いことが分かった（比較例２）。
　これに対し、第５工程において金属含有有機化合物を添加し、コアシェル粒子の表面に金属含有有機化合物を導入した場合は、いずれも、発光効率が高く、また、紫外線照射後の発光効率も高く、耐久性が良好となることが分かった（実施例１～８）。
　特に、実施例３および８の対比から、金属含有有機化合物が飽和脂肪族金属塩であると、耐久性がより良好となることが分かった。

Claims (24)

  1. 　ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するコアと、前記コアの表面の少なくとも一部を覆う第１シェルと、前記第１シェルの少なくとも一部を覆う第２シェルとを有するコアシェル粒子であって、
    　前記コアシェル粒子の表面の少なくとも一部に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を有する、コアシェル粒子。
  2. 　前記金属含有有機化合物が脂肪酸金属塩である、請求項１に記載のコアシェル粒子。
  3. 　前記金属元素が周期律表の第１２族または第１３の金属元素である、請求項１または２に記載のコアシェル粒子。
  4. 　フーリエ変換赤外分光分析による１４００ｃｍ－１以上１５００ｃｍ－１未満に存在するピークＬのピーク強度に対する、１５００ｃｍ－１以上１６００ｃｍ－１未満に存在するピークＭのピーク強度の比率が、０．３０以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の半導体ナノ粒子。
  5. 　前記金属元素がインジウムまたは亜鉛である、請求項１～４のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  6. 　前記金属元素が亜鉛である、請求項５に記載のコアシェル粒子。
  7. 　前記金属含有有機化合物に含まれる前記炭化水素基が、炭素数１１～２０の炭化水素基である、請求項１～６のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  8. 　前記金属含有有機化合物に含まれる前記炭化水素基が、飽和炭化水素基である、請求項１～７のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  9. 　前記コアに含まれる前記ＩＩＩ族元素がＩｎであり、前記コアに含まれる前記Ｖ族元素がＰ、ＮおよびＡｓのいずれかである、請求項１～８のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  10. 　前記コアに含まれる前記ＩＩＩ族元素がＩｎであり、前記コアに含まれる前記Ｖ族元素がＰである、請求項９に記載のコアシェル粒子。
  11. 　前記コアが、更にＩＩ族元素を含有する、請求項１～１０のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  12. 　前記コアに含まれる前記ＩＩ族元素がＺｎである、請求項１１に記載のコアシェル粒子。
  13. 　前記第１シェルが、ＩＩ族元素またはＩＩＩ族元素を含む、請求項１～１２のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  14. 　前記第１シェルが、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩ－ＶＩ族半導体、または、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩＩ－Ｖ族半導体である、請求項１～１３のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  15. 　前記第１シェルが、前記ＩＩ－ＶＩ族半導体である場合、前記ＩＩ族元素がＺｎであり、前記ＶＩ族元素がＳｅまたはＳであり、
    　前記第１シェルが、前記ＩＩＩ－Ｖ族半導体である場合、前記ＩＩＩ族元素がＧａであり、前記Ｖ族元素がＰである、請求項１４に記載のコアシェル粒子。
  16. 　前記第１シェルが、前記ＩＩＩ－Ｖ族半導体であり、前記ＩＩＩ族元素がＧａであり、前記Ｖ族元素がＰである、請求項１４に記載のコアシェル粒子。
  17. 　前記第２シェルが、ＩＩ族元素およびＶＩ族元素を含有するＩＩ－ＶＩ族半導体、または、ＩＩＩ族元素およびＶ族元素を含有するＩＩＩ－Ｖ族半導体である、請求項１～１６のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  18. 　前記第２シェルが、前記ＩＩ－ＶＩ族半導体であり、前記ＩＩ族元素がＺｎであり、前記ＶＩ族元素がＳである、請求項１７に記載のコアシェル粒子。
  19. 　前記コアと、前記第１シェルと、前記第２シェルとが、いずれも閃亜鉛鉱構造を有する結晶系である、請求項１～１８のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  20. 　前記コア、前記第１シェルおよび前記第２シェルのうち、前記コアのバンドギャップが最も小さく、かつ、前記コアおよび前記第１シェルがタイプ１型のバンド構造を示す、請求項１～１９のいずれか１項に記載のコアシェル粒子。
  21. 　請求項１～２０のいずれか１項に記載のコアシェル粒子を合成するコアシェル粒子の製造方法であって、
    　配位性分子を含む溶媒中にＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を添加した溶液を加熱撹拌する第１工程と、
    　第１工程後の前記溶液中に、Ｖ族元素を含むＶ族原料を添加してコアを形成する第２工程と、
    　第２工程後の前記溶液中に、第１シェルの原料を添加し、第１シェルを形成する第３工程と、
    　第３工程後の前記溶液中に、第２シェルの原料を添加し、第２シェルを形成し、コアシェル粒子を合成する第４工程と、
    　第４工程後の前記溶液中に、金属元素および炭化水素基を含む金属含有有機化合物を添加し、加熱する第５工程と、を有する、コアシェル粒子の製造方法。
  22. 　前記第４工程で添加した前記第２シェルの原料が、ＩＩ族元素を含むＩＩ族原料またはＩＩＩ族元素を含むＩＩＩ族原料を含有し、
    　前記第５工程で添加する前記金属含有有機化合物の添加量が、前記第４工程で添加した前記ＩＩ族原料または前記ＩＩＩ族原料に対してモル比率で０．５よりも多い、請求項２１に記載のコアシェル粒子の製造方法。
  23. 　前記第５工程における加熱温度が１２０～２２０℃である、請求項２１または２２に記載のコアシェル粒子の製造方法。
  24. 　請求項１～２０のいずれか１項に記載のコアシェル粒子を含有するフィルム。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3511395A1 (en) * 2018-01-11 2019-07-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot, production method thereof, and electronic device including the same
JPWO2018062041A1 (ja) * 2016-09-29 2019-09-05 富士フイルム株式会社 半導体ナノ粒子含有分散液、及び、フィルム
WO2020213365A1 (ja) * 2019-04-16 2020-10-22 日本化学工業株式会社 ＩｎＰ量子ドット前駆体の製造方法及びＩｎＰ系量子ドットの製造方法
EP3653685A4 (en) * 2017-07-11 2020-12-30 TCL Technology Group Corporation QUANTUM POINT AND METHOD FOR PREPARING QUANTUM POINTS

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3336158B1 (en) * 2016-12-14 2023-03-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Emissive nanocrystal particle, method of preparing the same and device including emissive nanocrystal particle
CN109609117A (zh) * 2018-12-21 2019-04-12 苏州星烁纳米科技有限公司 发光器件及其制备方法
CN113710615A (zh) * 2019-04-26 2021-11-26 信越化学工业株式会社 量子点、波长转换材料、背光源、图像显示装置及量子点的制造方法
US20220259492A1 (en) * 2019-06-13 2022-08-18 Shoei Chemical Inc. Semiconductor nanoparticle complex, semiconductor nanoparticle complex dispersion liquid, semiconductor nanoparticle complex composition, and semiconductor nanoparticle complex cured film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011026472A (ja) * 2009-07-27 2011-02-10 Sharp Corp 半導体ナノ粒子蛍光体
JP2011080067A (ja) * 2009-10-09 2011-04-21 Samsung Electronics Co Ltd ナノ複合粒子及びその製造方法、並びにナノ複合粒子を含む素子
JP2011231141A (ja) * 2010-04-23 2011-11-17 Sharp Corp 半導体ナノ粒子蛍光体

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5137825A (ja) 1974-09-26 1976-03-30 Seiko Instr & Electronics Daikasutodedokeikeesu
WO2006134599A1 (en) 2005-06-15 2006-12-21 Yissum Research Development Company Of The Hebrew University Of Jerusalem Iii-v semiconductor core-heteroshell nanocrystals
GB0814458D0 (en) * 2008-08-07 2008-09-10 Nanoco Technologies Ltd Surface functionalised nanoparticles
US9957442B2 (en) * 2010-09-16 2018-05-01 Yissum Research Development Company Of The Hebrew University Of Jerusalem Ltd. Anistropic semiconductor nanoparticles
KR101874413B1 (ko) 2011-10-18 2018-07-05 삼성전자주식회사 무기 리간드를 갖는 양자점 및 그의 제조방법
KR102043269B1 (ko) * 2012-02-03 2019-11-12 루미리즈 홀딩 비.브이. 높은 양자 수율과 안정성으로 매트릭스 내에 나노 입자를 분산시키는 신규 방법 및 물질
TWI596188B (zh) * 2012-07-02 2017-08-21 奈米系統股份有限公司 高度發光奈米結構及其製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011026472A (ja) * 2009-07-27 2011-02-10 Sharp Corp 半導体ナノ粒子蛍光体
JP2011080067A (ja) * 2009-10-09 2011-04-21 Samsung Electronics Co Ltd ナノ複合粒子及びその製造方法、並びにナノ複合粒子を含む素子
JP2011231141A (ja) * 2010-04-23 2011-11-17 Sharp Corp 半導体ナノ粒子蛍光体

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
GREC O TONINO ET AL.: "InP/ZnSe/ZnS core- multishell quantum dots for improved luminescence efficiency", PROCEEDINGS OF SPIE 8424, NANOPHOTONICS IV, 1 May 2012 (2012-05-01), pages 842439, XP060002362 *
KIM SUNGWOO ET AL.: "Highly Luminescent InP/GaP/ ZnS Nanocrystals and Their Aplication to White Light-Emitting Diodes", JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 134, no. 8, 2012, pages 3804 - 3809, XP055332559 *
KIM SUNGWOO ET AL.: "Reverse Type-I ZnSe/InP/ZnS Core/Shell/Shell Nanocrystals:Cadmium-Free Quantum Dots for Visible Luminescence", SMALL, vol. 7, no. 1, 2011, pages 70 - 73, XP055055783 *
THUY UNG THI DIEU ET AL.: "Luminescence properties of In(Zn)P alloy core/Zns shell quantum dots", APPLIED PHYSICS LETTERS, vol. 97, pages 193104, XP055004346 *
XI LIFEI ET AL.: "Understanding the Role of Single Molecular ZnS Precursors in the Synthesis of In(Zn)P/ZnS Nanocrystals", APPLIED MATERIALS & INTERFACES, vol. 6, 2014, pages 18 233 - 18242, XP055383550 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2018062041A1 (ja) * 2016-09-29 2019-09-05 富士フイルム株式会社 半導体ナノ粒子含有分散液、及び、フィルム
EP3653685A4 (en) * 2017-07-11 2020-12-30 TCL Technology Group Corporation QUANTUM POINT AND METHOD FOR PREPARING QUANTUM POINTS
US11312898B2 (en) 2017-07-11 2022-04-26 Tcl Technology Group Corporation Quantum dot and preparation method thereof
EP3511395A1 (en) * 2018-01-11 2019-07-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot, production method thereof, and electronic device including the same
US11365348B2 (en) 2018-01-11 2022-06-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot, production method thereof, and electronic device including the same
WO2020213365A1 (ja) * 2019-04-16 2020-10-22 日本化学工業株式会社 ＩｎＰ量子ドット前駆体の製造方法及びＩｎＰ系量子ドットの製造方法
CN113905980A (zh) * 2019-04-16 2022-01-07 日本化学工业株式会社 InP量子点前体的制造方法和InP系量子点的制造方法
US11692134B2 (en) 2019-04-16 2023-07-04 Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Method for producing InP quantum dot precursor and method for producing InP-based quantum dot

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