WO2017080937A1 - Abbildende optik zur abbildung eines objektfeldes in ein bildfeld sowie projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden optik - Google Patents

Abbildende optik zur abbildung eines objektfeldes in ein bildfeld sowie projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden optik Download PDF

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WO2017080937A1
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imaging
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mirror
dimension
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PCT/EP2016/076774
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Alexander Wolf
Hans-Jürgen Rostalski
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Carl Zeiss Smt Gmbh
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    • G02B17/0642—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
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    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70316—Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements

Definitions

  • the invention relates to an imaging optics or projection optics for imaging an object field in an image field. Furthermore, the invention relates to an optical system with such a projection optics, a projection apparatus with such an optical system, a method for producing a micro- or nanostructured component with such Schwarzionsbehchtungsstrom and produced by this method micro- or nanostructured device.
  • Projection optics of the type mentioned are known from JP 2002-048977 A, US 5,891,806, which describes a projection exposure system of the "proximity type", from the
  • the imaging optics is designed for use in projection lithography, in particular for use in EUV projection lithography.
  • the second object field dimension can run parallel to a scanning direction of a projection exposure apparatus in which the imaging optics is used.
  • the first reflection surface coordinate of the NI mirror usually does not run parallel to the first Cartesian object field coordinate.
  • the aspect ratio of the used reflection area of the NI mirror may be 4.4. This aspect ratio may be smaller and may be 4.3. This aspect ratio may be smaller and equal to 4.2 or 4.1. This aspect ratio may be less than 4, may be less than 3.8, may be less than 3.5, and may be 3.4. This aspect ratio may be less than 3.4, may be less than 3.3, may be less than 3.2, and may be 3.1.
  • An imaging optic according to claim 2 has been found to be particularly suitable.
  • An embodiment according to claim 3 can ensure, for the three GI-mirrors with the aspect ratio greater than 1, that a reflection surface dimension in a folding plane of the GI-mirror does not become too large there.
  • the second object field dimension is regularly located in this folding plane.
  • An embodiment according to claim 4 leads to advantageously compact GI mirror dimensions.
  • the condition for the largest diameter of the reflection surface used can apply to every GI mirror of the imaging optics.
  • the largest diameter can be 397.5 mm.
  • the largest diameter may be smaller than 380 mm, may be smaller than 370 mm and may be 368.1 mm.
  • An embodiment according to claim 5 leads to an advantageously compact mirror dimensioning.
  • the last mirror in the image light beam path which specifies a picture-side numerical aperture, is advantageously compact.
  • the largest diameter may be 840.2 mm, may be less than 800 mm and may be 797.2 mm.
  • An embodiment according to claim 6 is advantageous overall compact in the direction of parallel to the second Schmfeldko- ordinate extending dimension.
  • This edge length parallel to the second object field coordinate may be smaller than 1800 mm and may be 1766 mm.
  • Image field dimensions of the imaging optics may be greater than 1 mm x 10 mm and may, for. B. 1 mm x 26 mm or 1.2 mm x 26 mm.
  • a picture-side numerical aperture according to claim 7 leads to a high structural resolution of the imaging optics.
  • the image-side numerical aperture may be 0.55 or 0.6 and may be even larger.
  • the light source may be an EUV light source.
  • a DUV light source for example a light source with a wavelength of 193 nm, can also be used as an alternative.
  • a projection apparatus according to claim 9
  • a production method according to claim 10 and a micro- or nanostructured component according to claim 11 correspond to those which have already been explained above with reference to the imaging optics and the optical system.
  • a semiconductor component for example a memory chip, can be produced using the projection exposure apparatus.
  • FIG. 1 shows schematically a projection exposure apparatus for EUV microlithography
  • FIG. 2 shows in a meridional section an embodiment of an imaging optical system which can be used as a projection objective in the projection exposure apparatus according to FIG. 1, wherein an imaging beam path for main beams and for an upper and a lower coma beam of two selected field points is shown;
  • Fig. 3 is a view of the imaging optics of FIG. 2, seen from the direction of view
  • FIG. III in Fig. 2; 4 shows plan views on edge contours of optically used surfaces of the mirrors of the imaging optics according to FIGS. 2 and 3;
  • FIG. 5 shows, in a representation similar to FIG. 2, a further embodiment of an imaging optical system which can be used as a projection objective in the projection exposure apparatus according to FIG. 1;
  • FIG. 5 shows, in a representation similar to FIG. 2, a further embodiment of an imaging optical system which can be used as a projection objective in the projection exposure apparatus according to FIG. 1;
  • Fig. 6 is a view of the imaging optics of FIG. 5, seen from the direction of view
  • FIG. 7 shows plan views on edge contours of optically used surfaces of the mirrors of the imaging optics according to FIGS. 5 and 6;
  • FIGS. 8 to 16 in FIGS. 5 to 7 similar representations show further embodiments of an imaging optic usable as a projection objective in the projection exposure apparatus according to FIG. 1.
  • a projection exposure apparatus 1 for microlithography has a light source 2 for illuminating light or imaging light 3.
  • the light source 2 is an EUV light source which emits light in a wavelength range, for example, between 5 nm and 30 nm, in particular between 5 nm and 15 nm. generated.
  • the light source 2 can be a plasma-based light source (laser-produced plasma (LPP), gas-discharge produced plasma (GDP)) or even a synchrotron-based light source, for example a free-electron laser (FEL) act.
  • LPP laser-produced plasma
  • GDP gas-discharge produced plasma
  • FEL free-electron laser
  • the light source 2 may in particular be a light source with a wavelength of 13.5 nm or a light source with a wavelength of 6.9 nm. Other EUV wavelengths are possible.
  • wavelengths for example visible wavelengths or also other wavelengths which can be used in microlithography (for example DUV, deep ultraviolet) and for the suitable laser light sources and / or LED light sources are available (for example 365 nm, 248 nm) nm, 193 nm, 157 nm, 129 nm, 109 nm) for the illumination light guided in the projection exposure apparatus 1 3 possible.
  • a beam path of the illumination light 3 is shown extremely schematically in FIG.
  • An illumination optical system 6 is used to guide the illumination light 3 from the light source 2 to an object field 4 in an object plane 5.
  • the object field 4 is imaged into an image field 8 in an image plane 9 with a predetermined reduction scale using projection optics or imaging optics 7.
  • a Cartesian xyz coordinate system is indicated in the drawing, from which the respective positional relationship of the components shown in the figures results.
  • the x-direction is perpendicular to the plane of the drawing into it.
  • the y-direction runs to the left and the z-direction to the top.
  • the object field 4 and the image field 8 are bent or curved in the projection optics 7 and, in particular, have a partial ring shape.
  • An absolute radius of curvature of the image field 8 is 81 mm.
  • the object field 4 and the image field 8 have an xy aspect ratio greater than 1.
  • the object field 4 thus has a longer object field dimension in the x direction and a shorter object field dimension in the y direction. These object field dimensions run along the field coordinates x and y.
  • the object field 4 is accordingly spanned by the first Cartesian object field coordinate x along the first, larger (longer) object field dimension and the second Cartesian object field coordinate y along the second, smaller (shorter) object field dimension.
  • the third Cartesian coordinate z which is perpendicular to these two object field coordinates x and y, is also referred to below as the normal coordinate.
  • the first object field coordinate x and the normal coordinate z span a first imaging light plane xz, which is also referred to below as the sagittal plane.
  • the span coordinates x and z of the first imaging light plane xz contain the larger object field dimension x.
  • the second object field coordinate y and the normal coordinate z span a second imaging light plane yz, which is also referred to below as the meridional plane.
  • the projection optical unit 7 according to FIG. 2 reduces in the first imaging light level xz by a factor of 4 and in the second imaging light level yz by a factor of 8.
  • the projection optics 7 is an anamorphic projection optics.
  • Other reduction scales in the two imaging light levels xz, yz are also possible, for example 3x, 5x, 6x, 7x or even reduction scales which are larger than 8x.
  • the projection optics 7 can also have the same reduction scale in the two imaging light planes xz, yz, for example a reduction by a factor of 8.
  • Other reduction scales are also possible, for example 4x, 5x or even scale-down scales which are larger as 8x.
  • the respective reduction scale may cause a picture reversal or not, which is also illustrated below by a corresponding sign of the reduction scale.
  • the image plane 9 is arranged parallel to the object plane 5 in the projection optics 7 in the embodiment according to FIG. Shown here is a coincident with the object field 4 section of a reflection mask 10, which is also referred to as a reticle.
  • the reticle 10 is supported by a reticle holder 10a.
  • the reticle holder 10a is displaced by a reticle displacement drive 10b.
  • the image through the projection optics 7 takes place on the surface of a substrate 11 in FIG.
  • the substrate holder 12 is displaced by a wafer or substrate displacement drive 12a.
  • FIG. 1 schematically shows a bundle of rays 13 of the illumination light 3 entering between the reticle 10 and the projection optics 7 and between the projection optics 7 and the substrate 11 a ray bundle 14 of the illuminating light emitting from the projection optics 7. 3 is shown.
  • An image field-side numerical aperture (NA) of the projection optics 7 is not reproduced to scale in FIG.
  • the projection exposure apparatus 1 is of the scanner type. Both the reticle 10 and the substrate 11 are scanned in the y direction during operation of the projection exposure apparatus 1. A stepper type of the projection exposure apparatus 1 in which a stepwise displacement of the reticle 10 and of the substrate 11 in the y direction takes place between individual exposures of the substrate 11 is also possible. These displacements are synchronized with each other by appropriate control of the displacement drives 10b and 12a.
  • FIG. 2 and 3 show the optical design of a first embodiment of the projection optics 7.
  • FIG. 2 shows the projection optics 7 in a meridional section, that is to say the beam path of the imaging light 3 in the yz plane.
  • the meridional plane yz is also referred to as the second imaging light plane.
  • FIG. 3 shows the imaging beam path of the projection optics 7 in the sagittal plane xz.
  • a first imaging light plane XZHR is the plane which is spanned at the respective location of the beam path of the imaging light 3 from the first Cartesian object field coordinate x and a current imaging light main propagation direction ZHR.
  • the imaging light main propagation direction ZHR is the beam direction of a main beam 16 of a central field point.
  • this imaging light main propagation direction ZHR generally changes. This change can be described as a tilting of the instantaneous imaging light main propagation direction ZHR about the first Cartesian object field coordinate x by a tilt angle which is equal to the deflection angle of this main beam 16 of the central field point on the respective mirror Ml to M8 considered.
  • the first imaging light plane XZHR is also referred to as the first imaging light plane xz for the sake of simplification.
  • the second imaging light plane yz also includes the imaging light main propagation direction ZHR and is perpendicular to the first imaging light plane XZHR. Since the projection optical system 7 is folded exclusively in the meridional plane yz, the second imaging light plane yz coincides with the meridional plane. 2, the beam path in each case shows three individual beams 15, which emanate from five object field points which are spaced from one another in the y direction in FIG. Shown are principal rays 16, ie individual rays 15 that run through the center of a pupil in a pupil plane of the projection optics 7, and in each case an upper and a lower coma ray of these two object field points. Starting from the object field 4, the main rays 16 with a normal to the object plane 5 an angle CRAO of 5.4 °.
  • the object plane 5 lies parallel to the image plane 9.
  • the projection optics 7 has a image-side numerical aperture of 0.55.
  • the projection optics 7 according to FIG. 2 has a total of eight mirrors, which are numbered consecutively in the order of the beam path of the individual beams 15, starting from the object field 4, with Ml to M8.
  • FIGS. 2 to 4 Shown in FIGS. 2 to 4 are sections of the calculated reflection surfaces of the mirrors M1 to M8. A subarea of these calculated reflection surfaces is used. Only this actually used area of the reflection surfaces is actually present, plus a projection in the real mirrors M1 to M8. These useful reflection surfaces are supported in known manner by mirror bodies.
  • the mirrors M1, M4, M7 and M8 are designed as mirrors for normal incidence, that is, as mirrors to which the imaging light 3 strikes with an angle of incidence which is smaller than 45 °. Overall, therefore, the projection optics 7 according to FIG. 2 have four mirrors M1, M4, M7 and M8 for normal incidence. These levels of normal incidence are also referred to as NI (Normal Incidence) levels.
  • NI Normal Incidence
  • the mirrors M2, M3, M5 and M6 are mirrors for grazing incidence of the illumination light 3, ie mirrors, on which the illumination light 3 occurs with angles of incidence which are greater than 60 °.
  • a typical angle of incidence of the individual beams 15 of the imaging light 3 on the grazing incidence mirrors M2, M3 and M5, M6 is in the region of 80 °.
  • the pro- jetationsoptik 7 of FIG. 2 exactly four mirrors M2, M3, M5 and M6 for grazing incidence. These grazing incidence mirrors are also referred to as GI (grazing incidence) levels.
  • the mirrors M2 and M3 form a pair of mirrors arranged directly behind one another in the beam path of the imaging light 3.
  • the mirrors M5 and M6 form a pair of mirrors arranged directly behind one another in the beam path of the imaging light 3.
  • the mirror pairs M2, M3 on the one hand and M5, M6 on the other hand reflect the imaging light 3 so that the angles of incidence of the individual beams 15 on the respective mirrors M2, M3 and M5, M6 of these two mirror pairs add.
  • the respective second mirror M3 and M6 of the respective mirror pair M2, M3 and M5, M6 thus amplifies a deflecting effect which the respective first mirror M2, M5 exerts on the respective individual beam 15.
  • This arrangement of the mirrors of the mirror pairs M2, M3 and M5, M6 corresponds to that which is described in DE 10 2009 045 096 Al for an illumination optical system.
  • the grazing incidence mirrors M2, M3, M5 and M6 each have very large absolute radius values, ie deviate comparatively slightly from a flat surface. These grazing incidence mirrors M2, M3, M5 and M6 have a comparatively low refractive power, that is, a lower beam-shaping effect, such as an overall concave or convex mirror.
  • the mirrors M2, M3, M5 and M6 contribute to the specific and especially to the local aberration correction.
  • a deflection direction is defined below on the basis of the respective meridional sections shown. 2
  • a deflecting effect of the respective mirror in the clockwise direction that is to say a deflection to the right, is identified by the abbreviation "R.”
  • the mirror M2 of the projection optics 7 has such a deflecting effect, for example “ R ".
  • a deflecting effect of a mirror in the counterclockwise direction, that is to say to the left, as seen from the respective beam direction incident on this mirror, is identified by the abbreviation "L.”
  • the mirrors M1 and M5 of the projection optics 7 are examples of the deflecting effect "L”.
  • a weakly or not at all deflecting effect of a mirror with a folding angle f for which: -1 ° ⁇ f ⁇ 1 °, is marked with the abbreviation "0."
  • the mirror M7 of the projection optics 7 is an example of the deflecting effect "0".
  • the projection optics 7 for the mirrors M1 to M8 have the following sequence of redirecting effects: LRRRLLOR.
  • all described embodiments of the projection optics can be mirrored around a plane that runs parallel to the xz plane, without changing basic imaging properties.
  • the sequence of the deflecting effects which, for example, in the case of projection optics, which results from corresponding reflection from the projection optics 7, changes in the following order: RLLLRR0L.
  • a choice of the deflecting effect ie a choice of a direction of the respective incident beam, for example on the mirror M4 and a choice of a deflection of the mirror pairs M2, M3 and M5, M6 is selected in each case so that an available space for the projection optics 7 space used efficiently becomes.
  • the mirrors M1 to M8 carry a coating which optimizes the reflectivity of the mirrors M1 to M8 for the imaging light 3.
  • This may be a ruthenium coating, a molybdenum coating or a molybdenum coating having a topmost layer of ruthenium.
  • a coating of, for example, a layer of molybdenum or ruthenium may be used.
  • These highly reflective layers, in particular the mirrors Ml, M4, M7 and M8 for normal incidence can be embodied as multilayer layers, wherein successive layers can be made of different materials. Alternate layers of material can also be used.
  • a typical multi-layer layer may comprise fifty bilayers each of one layer of molybdenum and one layer of silicon.
  • a mirror refiectivity is determined as a function of the angle of incidence of a guide beam, ie a main beam of a central object field point, on each mirror surface and combined multiplicatively with the system transmission.
  • the mirror M8 is used in a reflective manner around the passage opening 17. All other mirrors M1 to M7 have no passage opening and are used in a coherently coherent area reflective.
  • the projection optics 7 has exactly one first-level intermediate image 18 in the imaging light beam path between the mirrors M6 and M7.
  • This first-level intermediate image 18 is located in the region of the passage opening 17.
  • a distance between the passage opening 17 and the image field 8 is more than four times as large as a distance between the passage opening 17 and the first-level intermediate image 18.
  • the imaging light 3 passes through exactly two second-plane intermediate images 19 and 20.
  • the first of these two second-plane intermediate images 19 lies in the imaging light beam path between the mirrors M2 and M3.
  • the other of the two second-level intermediate images 20 lies in the imaging beam path between the mirrors M5 and M6.
  • the number of first-level intermediate images ie, exactly one first-level intermediate image in projection optics 7, and the number of second-level intermediate images, that is, exactly two second-level intermediate images in projection optics 7, are different from one another in projection optics 7.
  • This number of intermediate images differs in the projection optics 7 by exactly one.
  • the second imaging light plane yz in which the larger number of intermediate images, namely the two second-level intermediate images 19 and 20, is present, coincides with the folding plane yz of the GI mirrors M2, M3 and M5, M6.
  • the second-level intermediate images are not perpendicular to the main beam 16 of the central field point, which defines the imaging light main propagation direction ZHR.
  • An inter-frame tilt angle ie a deviation from this vertical arrangement, is basically arbitrary and can be between 0 ° and +/- 89 °.
  • Auxiliaries 18a, 19a, 20a can be arranged in the area of intermediate images 18, 19, 20. These auxiliary devices 18a to 20a can be field diaphragms for at least sectionally defining a boundary of the imaging light bundle.
  • a field intensity presetting device in the manner of a UNICOM, in particular with finger apertures staggered in the x direction, can also be arranged in one of the intermediate image planes of the intermediate images 18 to 20.
  • the mirrors M1 to M8 are designed as freeform surfaces which can not be described by a rotationally symmetrical function.
  • Other embodiments of the projection optics 7 are also possible in which at least one of the mirrors M1 to M8 is designed as a rotationally symmetric asphere. All mirrors M1 to M8 can also be designed as such aspheres.
  • a free-form surface can be described by the following free-form surface equation (Equation 1):
  • r is the distance to the reference axis of the free-form surface equation
  • Ci, C 2 , C3... Denote the coefficients of the free-form surface series expansion in the powers of x and y.
  • Equation (1) thus describes a biconical freeform surface.
  • freeform surfaces can also be described using two-dimensional spline surfaces.
  • examples include Bezier curves or non-uniform rational basis Splines (non-uniform rational base splines, NURBS).
  • two-dimensional spline surfaces may be described by a mesh of points in an xy plane and associated z-values or by these points and their associated slopes.
  • the complete surface is obtained by interpolating between the mesh points using, for example, polynomials or functions that have certain continuity and differentiability properties. Examples of this are analytical functions.
  • FIG. 4 shows edge contours of the reflection surfaces acted on by the mirrors M1 to M8 of the projection optics 7, in each case with the imaging light 3, that is to say the so-called footprints of the mirrors M1 to M8.
  • These edge contours are each shown in an x / y diagram which corresponds to the local x and y coordinates of the respective mirror M1 to M8. The illustrations are to scale in millimeters. In the representation of the mirror M8 also the passage opening 17 is shown.
  • these GI mirrors also have no extreme extent in the y direction.
  • a y / x Aspect ratio corresponding surface dimension of the reflection surfaces of these GI mirrors M2, M3, M5 and M6 is greater than 1 only for the mirror M6, where it is about 2.2. None of the GI mirrors has a y / x aspect ratio greater than 2.2. The most strongly deviates from the value 1 in the mirrors M1 to M8 of the projection optics 7, the y / x aspect ratio in the mirror M4, where it is about 1: 3.4. For all other mirrors, the y / x aspect ratio ranges between 2.25: 1 and 1: 2.25.
  • a pupil-defining aperture diaphragm AS is arranged in the projection optical system 7 in the imaging light beam path between the mirrors M1 and M2. In the area of the aperture stop AS, the entire imaging light beam is accessible over its entire circumference.
  • the optical design data of the reflection surfaces of the mirrors Ml to M8 of the projection optics 7 can be seen from the following tables. These optical design data respectively start from the image plane 9 and thus describe the respective projection optics in the reverse direction of the imaging light 3 between the image plane 9 and the object plane 5.
  • the first of these tables gives an overview of the design data of the projection optics 7 and summarizes the numerical aperture NA, the calculated design wavelength for the imaging light, the reduction factors ⁇ x and ⁇ y in the two imaging light planes xz and yz, the magnitudes of the image field in the x and y directions, an image field curvature, an image error value rms, and a diaphragm location.
  • This curvature is defined as the inverse radius of curvature of the field.
  • the image error value is given in ⁇ (ml), ie depending on the design wavelength. This is the rms value of the wavefront error.
  • Negative radii values mean concave curves in the section of the respective surface with the considered plane (xz, yz), which is spanned by a surface normal at the vertex with the respective curvature direction (x, y).
  • the two radii Radius x, Radiux y can explicitly have different signs.
  • the powers Power x (P x ), Power y (P y ) at the vertices are defined as:
  • AOI here denotes an angle of incidence of the guide beam to the surface normal.
  • Coefficients C n which are not tabulated, each have the value 0.
  • the fourth table also indicates the amount along which the respective mirror decentred (DCY) from a reference surface in the y direction, was shifted in the z direction (DCZ) and tilted (TLA, TLC).
  • DCY mirror decentred
  • TLA tilted
  • the twist angle is given in degrees. It is decentered first, then tilted.
  • the reference surface in the decentering is in each case the first surface of the specified optical design data.
  • a decentering in the y and in the z direction is indicated.
  • the image plane is also tabulated as the first surface, the object plane as the last surface, and possibly an aperture surface (referred to as "aperture")
  • the fifth table also indicates the transmission data of the mirrors M8 to M1, namely their reflectivity for the angle of incidence of an illuminating light beam incident centrally on the respective mirror The total transmission is given as a proportion factor which remains of an incident intensity after reflection at all mirrors of the projection optics.
  • the sixth table indicates a boundary of the diaphragm AS as a polygon in local coordinates xyz.
  • the shutter AS is decentered and tilted as described above.
  • a total Refiekt technically the projection optics 7 is about 8%.
  • the reference axes of the mirrors are generally tilted with respect to a normal to the image plane 9, as the tabulated tilt values make clear.
  • the image field 8 has an x-extension of two times 13 mm and a y-extension of 1 mm.
  • the projection optics 7 is optimized for an operating wavelength of the illumination light 3 of 13.5 nm.
  • Bounding of a diaphragm surface of the diaphragm results from puncture points at the diaphragm surface of all beams of the illumination light 3, which propagate at the field center with a full image-side telecentric aperture in the direction of the diaphragm surface.
  • the boundary is an inner boundary.
  • the diaphragm AS can lie in one plane or can also be embodied in three dimensions.
  • the extent of the diaphragm AS can be smaller in the scanning direction (y) than in the cross-scanning direction (x).
  • An overall length of the projection optics 7 in the z-direction, ie a distance between the object plane 5 and the image plane 9, is approximately 2160 mm.
  • a pupil obscuration in the projection optics 7 is 18% of the total aperture of the entrance pupil. Less than 18% of the numerical aperture are thus obscured due to the passage opening 17.
  • the construction of the obscurant boundary takes place analogously to the construction of the diaphragm boundary explained above in connection with the diaphragm 18. When executed as Obskurationsbrende it is at the boundary to an outer boundary of the aperture.
  • an area which can not be illuminated due to the obscuration is smaller than 0.18 2 of the area of the entire system pupil.
  • the unilluminated area within the system pupil may have a different extent in the x-direction than in the y-direction.
  • the unilluminated area in the system pupil may be round, elliptical, square or rectangular. This non-illuminable area in the system pupil may also be decentered with respect to a center of the system pupil in the x-direction and / or in the y-direction.
  • a y-distance dois between a central object field point and a central field point is about 1290 mm.
  • a working distance between the mirror M7 and the image plane 9 is 80 mm.
  • the mirrors of the projection optics 7 can be accommodated in a cuboid with the xyz edge lengths 796 mm x 2033 mm x 1577 mm.
  • the projection optics 7 is approximately telecentric on the image side.
  • a mean wavefront error rms is 6.38 ⁇ .
  • FIGS. 5 to 7 A further embodiment of a projection optical system 21 will now be explained with reference to FIGS. 5 to 7, which may be used instead of the projection optical system 7 in the projection exposure apparatus 1 according to FIG. Components and functions, which have already been explained above in connection with FIGS. 1 to 4, optionally bear the same reference numbers and will not be discussed again in detail.
  • the mirrors M1 to M8 are again designed as free-form surface mirrors, for which the free-form surface equation (1) given above applies.
  • the following table once again shows the mirror parameters of the mirrors M1 to M8 of the projection optics 21.
  • Three of the four GI mirrors M2, M3, M5 and M6 have a y / x aspect ratio of its reflection area that is smaller than 1.
  • the GH mirror M6 has a y / x aspect ratio of its reflection area that is smaller than 2.1.
  • the mirror M4 has a y / x aspect ratio of about 1: 4.1.
  • the largest maximum mirror diameter also has the mirror M8 with 909.4 mm.
  • the next larger mirror M1 has a maximum mirror diameter of 500.1 mm.
  • All other mirrors M2 to M7 have a maximum mirror diameter that is less than 500 mm.
  • Four of the eight mirrors have a mirror diameter smaller than 400 mm.
  • the optical design data of the projection optics 21 can be found in the following tables, which correspond in their structure to the tables for the projection optics 7 according to FIG. 2.
  • a total reflectivity of the projection optics 21 is about 8%.
  • the projection optics 21 has an image field 8 with an x dimension of 2 ⁇ 13 mm and a y dimension of 1.2 mm.
  • the image field is curved with an absolute radius of curvature of 81 mm.
  • the projection optics 21 has a picture-side numerical aperture of 0.55.
  • the projection optics 21 In the first imaging light plane xz, the projection optics 21 has a reduction factor ⁇ x of 4.00.
  • Yz in the second image-light-level 21 has the projection optics Reduce a factor ß y of 8.00.
  • An object-side main beam angle is 5.4 °.
  • a pupil obscuration is 15%.
  • An object image offset dois is about 1120 mm.
  • the mirrors of the projection optics 21 can be accommodated in a cuboid with xyz edge lengths of 909 mm ⁇ 1766 mm ⁇ 1584 mm.
  • the reticle 10 and thus the object plane 5 are at an angle T of
  • This tilt angle T is indicated in FIG. 5.
  • a working distance between the wafer-near mirror M7 and the image plane 9 is about 80 mm.
  • a mean wavefront error rms is 7.32 ⁇ .
  • FIG. 7 again shows the edge contours of the reflection surfaces of the mirrors M1 to M8 of the projection optics 21.
  • FIGS. 8 to 10 A further embodiment of a projection optical system 22 will now be explained with reference to FIGS. 8 to 10, which instead of the projection optical system 7 in the projection exposure apparatus 1 according to FIG. 1 can be used.
  • the next larger maximum mirror diameter is the M4 mirror with 608.1 mm.
  • the next largest maximum mirror diameter of the mirror Ml has 500.7 mm.
  • the mirror diameters of the further mirrors M2, M3 and M5 to M7 are each less than 500 mm.
  • the NI mirror M4 has an x / y aspect ratio of about 4.3: 1.
  • the x / y aspect ratio of three of the four GI mirrors, namely mirrors M2, M3, and M5, is each greater than one.
  • the optical design data of the projection optics 22 can be found in the following tables, which correspond in their structure to the tables for the projection optics 7 according to FIG. 2.
  • a total reflectivity of the projection optics 22 is about 8%.
  • the projection optics 22 has an image field 8 with an x dimension of 2 ⁇ 13 mm and a y dimension of 1.2 mm.
  • the image field is curved with an absolute radius of curvature of 81 mm.
  • the projection optics 22 has a numerical aperture of 0.55.
  • a reduction factor is xz 4.0 ( ⁇ x ) in the first imaging light plane and yz -8.0 ( ⁇ y ) in the second imaging light plane.
  • a main beam angle CRA to a normal on the object field 4 is 5.4 °.
  • a maximum pupil obscuration is 16%.
  • An object image offset dois is about 1380 mm.
  • the mirrors of the projection optics 22 can be accommodated in a cuboid with xyz edge lengths 840 mm ⁇ 2160 mm ⁇ 1598 mm.
  • the object plane 5 and the image plane 9 extend at an angle of 0.3 ° to each other.
  • a working distance between the wafer-closest mirror M5 and the image plane 9 is 81 mm.
  • a mean wavefront error rms is 6.32 ⁇ .
  • the mirrors M1 to M8 are in turn designed as free-form surfaces, for which the free-form surface equation (1) given above applies.
  • the following table again shows the mirror parameters of the mirrors M1 to M8 of the projection optics 23.
  • the NI mirror M4 has an x / y aspect ratio of about 4.4.
  • FIG. 13 again shows the edge contours of the reflection surfaces of the mirrors M1 to M8.
  • the optical design data of the projection optics 23 can be taken from the following tables, whose structure corresponds to the tables for the projection optics 7 according to FIG. 2.
  • the projection optics 23 has a total transmission of about 8%.
  • the projection optics 23 has an image field 8 with an x dimension of 2 ⁇ 13 mm and a y dimension of 1.0 mm.
  • the image field is curved with an absolute radius of curvature of 81 mm.
  • the projection optics 23 has a picture-side numerical aperture of 0.60.
  • the reduction factor ⁇ x is 4.00.
  • the reduction factor ⁇ y is -8.00.
  • An object field side main beam angle is 5.4 °.
  • a maximum pupil obscuration is 11%.
  • the projection optics 23 has a total transmission of about 6.8%.
  • An object image offset dois is about 1340 mm.
  • the mirrors of the projection optics 23 can be accommodated in a cuboid with xyz edge lengths 1060 mm ⁇ 2025 mm ⁇ 1634 mm.
  • the object plane 5 and the image plane 9 extend at an angle of 0.4 ° to one another.
  • a working distance between the wafer-closest mirror M7 and the image plane 9 is 77 mm.
  • a mean wavefront error rms is about 7.69 ⁇ .
  • a further embodiment of a projection optical system 24 which can be used instead of the projection optical system 7 in the projection exposure apparatus 1 according to FIG. 1 is explained below with reference to FIGS. 14 to 16.
  • the mirrors M1 to M8 are again designed as free-form mirrors, for which the free-form surface equation (1) given above applies.
  • the following table again shows the mirror parameters of the mirrors M1 to M8 of the projection optics 24.
  • the mirror M4 has an x / y aspect ratio of about 3.1.
  • the largest mirror diameter has the last mirror M8 of about 872.3 mm. None of the other mirrors M1 to M7 has a larger diameter than 580 mm. Five of the seven mirrors have a smaller maximum diameter than 350 mm. None of the GI mirrors has a maximum mirror diameter larger than 370 mm.
  • 16 shows the edge contours of the reflection surfaces of the mirrors M1 to M8.
  • the optical design data of the projection optics 24 can be found in the following tables, which correspond in their structure to the tables for the projection optics 7 according to FIG. 2.
  • the projection optical system 24 has an image field size in the x-direction of twice 13.0 mm and in the y-direction of 1.2 mm.
  • An image-side numerical aperture in the projection optics 24 is 0.55.
  • a reduction factor in the first imaging light plane is xz 4.00 ( ⁇ x ) and in the second imaging light plane yz is -8.00 ( ⁇ y ).
  • An object-side main beam angle CRA is 4.9 °.
  • a pupil obscuration is a maximum of 17%.
  • the projection optics 24 has a total transmission of about 8%.
  • An object image offset dois is approximately 1310 mm in the projection optical system 24.
  • the mirrors of the projection optics 24 can be accommodated in a cuboid with the xyz edge lengths 872 mm ⁇ 2229 mm ⁇ 1678 mm.
  • the object plane 5 is tilted about the x-axis relative to the image plane 9 by 0.2 °.
  • a working distance between the wafer-near mirror M7 and the image plane 9 is 80 mm.
  • a mean wavefront error rms is approximately 7.7 ⁇ .
  • NA numerical aperture
  • Fieldsize X image field extent in x-direction
  • Fieldsize Y image field extent in y-direction
  • field curvature field curvature and total reflectivity or system transmission (transmission)
  • the notation "N” refers to a normal incidence (Nl) level and the term “G” refers to a grazing incidence (Gl) level.
  • the power sequences “+” stands for a concave and "-" for a convex mirror surface.
  • the embodiments according to FIGS. 2 and 11 have identical refractive power sequences.
  • the embodiments according to FIGS. 2, 5, 11 and 14 have identical refractive power sequences in x.
  • the embodiments of FIGS. 2, 8 and 11 have identical refractive power sequences in y.
  • the embodiments according to FIGS. 5 and 14 have identical refractive power sequences in y.
  • the refractive power sequence of the embodiment of FIG. 8 in x differs from that of all other embodiments.
  • Mirrors with different signs of the refractive power in x and y represent saddle surfaces or toric surfaces. Insofar as GI mirrors occur in one of the exemplary embodiments, they each occur at least in pairs, as the mirror type sequence can be seen in Table II.
  • the projection exposure apparatus 1 is used as follows: First, the reflection mask 10 or the reticle and the substrate or the wafer 11 are provided. Subsequently, a structure on the reticle 10 is projected onto a photosensitive layer of the wafer 11 by means of the projection exposure apparatus 1. By developing the photosensitive layer, a microstructure or nanostructure is then produced on the wafer 11 and thus the microstructured component.

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Abstract

Eine abbildende Optik (7) für die Projektionslithographie hat eine Mehrzahl von Spiegeln (M1 bis 8) zur Führung von Abbildungslicht (3) von einem Objektfeld (4) in ein Bildfeld (8). Das Objektfeld (4) ist aufgespannt von zwei Objektfeldkoordinaten (x, y). Längs einer ersten, größeren Objektfelddimension und längs einer zweiten, kleineren Objektfelddimension. Die abbildende Optik (7) hat mindestens zwei Gl-Spiegel (M2, M3, M5, M6) und mindestens einen NI-Spiegel (M4), der zwischen zwei Gl-Spiegeln (M3, M5) im Abbildungslicht- Strahlengang angeordnet ist. Eine genutzte Reflexionsfläche des Nl-Spiegels (M4) hat ein Aspektverhältnis (x/y) zwischen einer Flächendimension längs einer ersten Reflexionsflächenkoordinate (x) und einer Flächendimension längs einer zweiten Reflexionskoordinate (y) parallel zur zweiten Objektfelddimension, das kleiner ist als 4,5. Es resultiert eine abbildende Optik, deren Herstellungskosten reduziert sind.

Description

Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbe- lichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
Die vorliegende Patentanmeldung nimmt die Priorität der deutschen Patentanmeldung DE 10 2015 221 984.4 in Anspruch, deren Inhalt durch Bezugnahme hierin aufgenommen wird.
Die Erfindung betrifft eine abbildende Optik beziehungsweise Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld. Ferner betrifft die Erfindung ein optisches System mit einer derartigen Projektionsoptik, eine Projektionsbehchtungsanlage mit einem derartigen optischen System, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbehchtungsanlage sowie ein mit diesem Verfahren hergestelltes mikro- beziehungsweise nanostrukturiertes Bauelement.
Projektionsoptiken der eingangs genannten Art sind bekannt aus der JP 2002-048977 A, der US 5,891,806, die eine Projektionsbelichtungsanlage vom "Proximity-Type" beschreibt, aus der
DE 10 2015 209 827 AI und aus der WO 2008/141 686 AI sowie aus der WO 2015/014 753 AI .
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine abbildende Optik der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass deren Herstellungskosten reduziert sind.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine abbildende Optik mit den im Anspruch 1 genannten Merkmalen.
Die abbildende Optik ist zum Einsatz in der Projektions lithographie, insbesondere zum Einsatz in der EUV-Projektionslithographie ausgelegt.
Die zweite Objektfelddimension kann parallel zu einer Scanrichtung einer Projektionsbelichtungsanlage verlaufen, in der die abbildende Optik zum Einsatz kommt. Die erste Reflexionsflä- chenkoordinate des NI-Spiegels verläuft in der Regel nicht parallel zur ersten kartesischen Ob- jektfeldkoordinate. Das Aspektverhältnis der genutzten Reflexionsfläche des NI-Spiegels kann 4,4 betragen. Dieses Aspektverhältnis kann kleiner sein und kann 4,3 betragen. Dieses Aspektverhältnis kann kleiner sein und 4,2 oder 4,1 betragen. Dieses Aspektverhältnis kann kleiner sein als 4, kann kleiner sein als 3,8, kann kleiner sein als 3,5 und kann 3,4 betragen. Dieses Aspektverhältnis kann kleiner sein als 3,4, kann kleiner sein als 3,3, kann kleiner sein als 3,2 und kann 3,1 betragen.
Eine abbildende Optik nach Anspruch 2 hat sich als besonders geeignet herausgestellt.
Eine Ausführung nach Anspruch 3 kann für die drei Gl-Spiegel mit dem Aspektverhältnis größer als 1 sicherstellen, dass dort eine Reflexionsflächendimension in einer Faltebene des Gl-Spiegels nicht zu groß wird. In dieser Faltebene liegt regelmäßig die zweite Objektfelddimension.
Eine Ausführung nach Anspruch 4 führt zu vorteilhaft kompakten GI-Spiegeldimensionen. Die Bedingung für den größten Durchmesser der genutzten Reflexionsfläche kann für jeden GI- Spiegel der abbildenden Optik gelten. Der größte Durchmesser kann 397,5 mm betragen. Der größte Durchmesser kann kleiner sein als 380 mm, kann kleiner sein als 370 mm und kann 368,1 mm betragen.
Eine Ausführung nach Anspruch 5 führt zu einer vorteilhaft kompakten Spiegeldimensionierung. Insbesondere der letzte Spiegel im Abbildungslicht-Strahlengang, der eine bildseitige numerische Apertur vorgibt, ist vorteilhaft kompakt. Der größte Durchmesser kann 840,2 mm betragen, kann kleiner sein als 800 mm und kann 797,2 mm betragen.
Eine Ausführung nach Anspruch 6 ist insgesamt in Richtung der parallel zur zweiten Bildfeldko- ordinate verlaufenden Dimension vorteilhaft kompakt. Diese Kantenlänge parallel zur zweiten Objektfeldkoordinate kann kleiner sein als 1800 mm und kann 1766 mm betragen.
Bildfelddimensionen der abbildenden Optik können größer sein als 1 mm x 10 mm und können z. B. 1 mm x 26 mm oder 1,2 mm x 26 mm betragen. Eine bildseitige numerische Apertur nach Anspruch 7 führt zu einer hohen Strukturauflösung der abbildenden Optik. Die bildseitige numerische Apertur kann 0,55 oder 0,6 betragen und kann noch größer sein.
Die Vorteile eines optischen Systems nach Anspruch 8, entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die abbildende Optik bereits erläutert wurden.
Bei der Lichtquelle kann es sich um eine EUV-Lichtquelle handeln. Auch eine DUV- Lichtquelle, also beispielsweise eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 193 nm, kann alternativ zum Einsatz kommen.
Die Vorteile einer Projektionsbehchtungsanlage nach Anspruch 9, eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 10 und eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauteils nach Anspruch 11 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die abbildende Optik und das optische System bereits erläutert wurden. Hergestellt kann mit der Projektionsbelichtungsanlage insbesondere ein Halbleiter-Bauteil, beispielsweise ein Speicherchip.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:
Fig. 1 schematisch eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV- Mikrolithographie;
Fig. 2 in einem Meridionalschnitt eine Ausführung einer abbildenden Optik, die als Projektionsobjektiv in der Projektionsbelichtungsanlage nach Fig. 1 einsetzbar ist, wobei ein Abbildungsstrahlengang für Hauptstrahlen und für einen oberen und einen unteren Komastrahl zweier ausgewählter Feldpunkte dargestellt ist;
Fig. 3 eine Ansicht der abbildenden Optik nach Fig. 2, gesehen aus Blickrichtung
III in Fig. 2; Fig. 4 Aufsichten auf Randkonturen optisch genutzter Flächen der Spiegel der abbildenden Optik nach den Fig. 2 und 3;
Fig. 5 in einer zu Fig. 2 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung einer abbildenden Optik, einsetzbar als Projektionsobjektiv in der Projektionsbelich- tungsanlage nach Fig. 1;
Fig. 6 eine Ansicht der abbildenden Optik nach Fig. 5, gesehen aus Blickrichtung
VI in Fig. 5;
Fig. 7 Aufsichten auf Randkonturen optisch genutzter Flächen der Spiegel der abbildenden Optik nach den Fig. 5 und 6;
Fig. 8 bis Fig. 16 in zu den Fig. 5 bis 7 jeweils ähnlichen Darstellungen weitere Ausführungen einer abbildenden Optik, einsetzbar als Projektionsobjektiv in der Projektionsbelichtungsanlage nach Fig. 1.
Eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie hat eine Lichtquelle 2 für Beleuchtungslicht beziehungsweise Abbildungslicht 3. Bei der Lichtquelle 2 handelt es sich um eine EUV-Lichtquelle, die Licht in einem Wellenlängenbereich beispielsweise zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere zwischen 5 nm und 15 nm, erzeugt. Bei der Lichtquelle 2 kann es sich um eine plasmabasierte Lichtquelle (lasererzeugtes Plasma (laser-produced plasma, LPP), gasentladungserzeugtes Plasma (gas-discharge produced plasma, GDP)) oder auch um eine synchrotronbasierte Lichtquelle, zum Beispiel einen Freie-Elektronen-Laser (FEL) handeln. Bei der Lichtquelle 2 kann es sich insbesondere um eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 13,5 nm oder um eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 6,9 nm handeln. Auch andere EUV- Wellenlängen sind möglich. Generell sind sogar beliebige Wellenlängen, zum Beispiel sichtbare Wellenlängen oder auch andere Wellenlängen, die in der Mikrolithographie Verwendung finden können (zum Beispiel DUV, tiefes Ultraviolett) und für die geeigneten Laserlichtquellen und/oder LED-Lichtquellen zur Verfügung stehen (beispielsweise 365 nm, 248 nm, 193 nm, 157 nm, 129 nm, 109 nm), für das in der Projektionsbelichtungsanlage 1 geführte Beleuchtungslicht 3 möglich. Ein Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 ist in der Fig. 1 äußerst schematisch dargestellt.
Zur Führung des Beleuchtungslichts 3 von der Lichtquelle 2 hin zu einem Objektfeld 4 in einer Objektebene 5 dient eine Beleuchtungsoptik 6. Mit einer Projektionsoptik beziehungsweise abbildenden Optik 7 wird das Objektfeld 4 in ein Bildfeld 8 in einer Bildebene 9 mit einem vorgegebenen Verkleinerungsmaßstab abgebildet.
Zur Erleichterung der Beschreibung der Projektionsbehchtungsanlage 1 sowie der verschiedenen Ausführungen der Projektionsoptik 7 ist in der Zeichnung ein kartesisches xyz-Koordinaten- system angegeben, aus dem sich die jeweilige Lagebeziehung der in den Figuren dargestellten Komponenten ergibt. In der Fig. 1 verläuft die x-Richtung senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y- Richtung verläuft nach links und die z-Richtung nach oben. Das Objektfeld 4 und das Bildfeld 8 sind bei der Projektionsoptik 7 gebogen beziehungsweise gekrümmt und insbesondere teilringförmig ausgeführt. Ein absoluter Krümmungsradius des Bildfeldes 8 beträgt 81 mm. Alternativ ist es möglich, das Objektfeld 4 und das Bildfeld 8 recht- eckförmig auszuführen. Das Objektfeld 4 und das Bildfeld 8 haben ein xy- Aspektverhältnis größer als 1. Das Objektfeld 4 hat also eine längere Objektfelddimension in der x-Richtung und eine kürzere Objektfelddimension in der y-Richtung. Diese Objektfelddimensionen verlaufen längs der Feldkoordinaten x und y.
Das Objektfeld 4 ist dementsprechend aufgespannt von der ersten kartesischen Objektfeldkoordinate x längs der ersten, größeren (längeren) Objektfelddimension und der zweiten kartesischen Objektfeldkoordinate y längs der zweiten, kleineren (kürzeren) Objektfelddimension. Die dritte kartesische Koordinate z, die senkrecht auf diesen beiden Objektfeldkoordinaten x und y steht, wird nachfolgend auch als Normalkoordinate bezeichnet.
Die erste Objektfeldkoordinate x und die Normalkoordinate z spannen eine erste Abbildungs- licht-Ebene xz auf, die nachfolgend auch als Sagittalebene bezeichnet ist. Die Aufspann- Koordinaten x und z der ersten Abbildungslicht-Ebene xz enthalten die größere Objektfelddimension x. Die zweite Objektfeldkoordinate y und die Normalkoordinate z spannen eine zweite Abbildungslicht-Ebene yz auf, die nachfolgend auch als Meridionalebene bezeichnet ist. Für die Projektionsoptik 7 kann eines der in den Fig. 2ff dargestellten Ausführungsbeispiele eingesetzt werden. Die Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 verkleinert in der ersten Abbildungslicht- Ebene xz um einen Faktor 4 und in der zweiten Abbildungslicht-Ebene yz um einen Faktor 8.
Bei der Projektionsoptik 7 handelt es sich um eine anamorphotische Projektionsoptik. Auch an- dere Verkleinerungsmaßstäbe in den beiden Abbildungslicht-Ebene xz, yz sind möglich, zum Beispiel 3x, 5x, 6x, 7x oder auch Verkleinerungsmaßstäbe, die größer sind als 8x. Alternativ kann die Projektionsoptik 7 auch in den beiden Abbildungslicht-Ebenen xz, yz den jeweils gleichen Verkleinerungsmaßstab aufweisen, beispielsweise eine Verkleinerung um einen Faktor 8. Auch andere Verkleinerungsmaßstäbe sind dann möglich, zum Beispiel 4x, 5x oder auch Ver- kleinerungsmaßstäbe, die größer sind als 8x. Der jeweilige Verkleinerungsmaßstab kann eine Bildumkehr herbeiführen oder nicht, was nachfolgend auch durch eine entsprechende Vorzeichenangabe des Verkleinerungsmaßstabes verdeutlicht ist.
Die Bildebene 9 ist bei der Projektionsoptik 7 in der Ausführung nach Fig. 2 parallel zur Objekt- ebene 5 angeordnet. Abgebildet wird hierbei ein mit dem Objektfeld 4 zusammenfallender Ausschnitt einer Reflexionsmaske 10, die auch als Retikel bezeichnet wird. Das Retikel 10 wird von einem Retikelhalter 10a getragen. Der Retikelhalter 10a wird von einem Retikelverlagerungsan- trieb 10b verlagert. Die Abbildung durch die Projektionsoptik 7 erfolgt auf die Oberfläche eines Substrats 11 in
Form eines Wafers, der von einem Substrathalter 12 getragen wird. Der Substrathalter 12 wird von einem Wafer- beziehungsweise Substratverlagerungsantrieb 12a verlagert.
In der Fig. 1 ist schematisch zwischen dem Retikel 10 und der Projektionsoptik 7 ein in diese einlaufendes Strahlenbündel 13 des Beleuchtungslichts 3 und zwischen der Projektionsoptik 7 und dem Substrat 11 ein aus der Projektionsoptik 7 auslaufendes Strahlenbündel 14 des Beleuch- tungslichts 3 dargestellt. Eine bildfeldseitige numerische Apertur (NA) der Projektionsoptik 7 ist in der Fig. 1 nicht maßstäblich wiedergegeben.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 ist vom Scannertyp. Sowohl das Retikel 10 als auch das Substrat 11 werden beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 in der y-Richtung gescannt. Auch ein Steppertyp der Projektionsbelichtungsanlage 1 , bei dem zwischen einzelnen Belichtungen des Substrats 11 eine schrittweise Verlagerung des Retikels 10 und des Substrats 11 in der y- Richtung erfolgt, ist möglich. Diese Verlagerungen erfolgen synchronisiert zueinander durch entsprechende Ansteuerung der Verlagerungsantriebe 10b und 12a.
Fig. 2 und 3 zeigen das optische Design einer ersten Ausführung der Projektionsoptik 7. Die Fig. 2 zeigt die Projektionsoptik 7 in einem Meridionalschnitt, also den Strahlengang des Abbildungslichts 3 in der yz-Ebene. Die Meridional ebene yz wird auch als zweite Abbildungslicht- Ebene bezeichnet. Die Fig. 3 zeigt den Abbildungsstrahlengang der Projektionsoptik 7 in der Sagittalebene xz. Eine erste Abbildungslicht-Ebene XZHR ist diejenige Ebene, die am jeweiligen Ort des Strahlengangs des Abbildungslichts 3 aufgespannt ist von der ersten kartesischen Objektfeldkoordinate x und einer momentanen Abbildungslicht-Hauptpropagationsrichtung ZHR. Die Abbildungslicht-Hauptpropagationsrichtung ZHR ist die Strahlrichtung eines Hauptstrahls 16 eines zentralen Feldpunktes. Bei jeder Spiegelreflexion an den Spiegeln Ml bis M8 ändert sich diese Abbildungslicht-Hauptpropagationsrichtung ZHR in der Regel. Diese Änderung kann beschrieben werden als eine Verkippung der momentanen Abbildungslicht-Hauptpropagations- richtung ZHR um die erste kartesische Objektfeldkoordinate x um einen Kippwinkel, der gleich dem Umlenkwinkel dieses Hauptstrahls 16 des zentralen Feldpunktes am jeweils betrachteten Spiegel Ml bis M8 ist. Nachfolgend wird die erste Abbildungslicht-Ebene XZHR vereinfachend auch als erste Abbildungslicht-Ebene xz bezeichnet.
Die zweite Abbildungslicht-Ebene yz enthält ebenfalls die Abbildungslicht-Hauptpropagations- richtung ZHR und steht senkrecht auf der ersten Abbildungslicht-Ebene XZHR. Da die Projektionsoptik 7 ausschließlich in der Meridionalebene yz gefaltet ist, fällt die zweite Abbildungslicht-Ebene yz mit der Meridionalebene zusammen. Dargestellt ist in der Fig. 2 der Strahlengang jeweils dreier Einzelstrahlen 15, die von fünf in der Fig. 2 zueinander in der y-Richtung beabstandeten Objektfeldpunkten ausgehen. Dargestellt sind Hauptstrahlen 16, also Einzelstrahlen 15, die durch das Zentrum einer Pupille in einer Pupillenebene der Projektionsoptik 7 verlaufen, sowie jeweils ein oberer und ein unterer Komastrahl die- ser beiden Objektfeldpunkte. Ausgehend vom Objektfeld 4 schließen die Hauptstrahlen 16 mit einer Normalen auf die Objektebene 5 einen Winkel CRAO von 5,4 ° ein.
Die Objektebene 5 liegt parallel zur Bildebene 9. Die Projektionsoptik 7 hat eine bildseitige numerische Apertur von 0,55.
Die Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 hat insgesamt acht Spiegel, die in der Reihenfolge des Strahlengangs der Einzelstrahlen 15, ausgehend vom Objektfeld 4, mit Ml bis M8 durchnummeriert sind.
Dargestellt sind in der Fig. 2 bis 4 Ausschnitte der berechneten Reflexionsflächen der Spiegel Ml bis M8. Genutzt wird ein Teilbereich dieser berechneten Reflexionsflächen. Lediglich dieser tatsächlich genutzte Bereich der Reflexionsflächen ist zuzüglich eines Überstandes bei den realen Spiegeln Ml bis M8 tatsächlich vorhanden. Diese Nutz-Reflexionsflächen werden in bekann- ter Weise von Spiegelkörpern getragen.
Bei der Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 sind die Spiegel Ml, M4, M7 und M8 als Spiegel für normalen Einfall ausgeführt, also als Spiegel, auf die das Abbildungslicht 3 mit einem Einfallswinkel trifft, der kleiner ist als 45 °. Insgesamt hat die Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 also vier Spiegel Ml, M4, M7 und M8 für normalen Einfall. Diese Spiegel für normalen Einfall werden auch als NI(Normal Incidence)-Spiegel bezeichnet.
Die Spiegel M2, M3, M5 und M6 sind Spiegel für streifenden Einfall des Beleuchtungslichts 3, also Spiegel, auf die das Beleuchtungslicht 3 mit Einfallswinkeln auftritt, die größer sind als 60 °. Ein typischer Einfallswinkel der Einzelstrahlen 15 des Abbildungslichts 3 auf den Spiegeln M2, M3 sowie M5, M6 für streifenden Einfall liegt im Bereich von 80 °. Insgesamt hat die Pro- jektionsoptik 7 nach Fig. 2 genau vier Spiegel M2, M3, M5 und M6 für streifenden Einfall. Diese Spiegel für streifenden Einfall werden auch als GI(Grazing Incidence)-Spiegel bezeichnet.
Die Spiegel M2 und M3 bilden ein direkt im Strahlengang des Abbildungslichts 3 hintereinander angeordnetes Spiegel-Paar. Auch die Spiegel M5 und M6 bilden ein im Strahlengang des Abbildungslichts 3 direkt hintereinander angeordnetes Spiegel-Paar.
Die Spiegel-Paare M2, M3 einerseits und M5, M6 andererseits reflektieren das Abbildungslicht 3 so, dass sich die Ausfallswinkel der Einzelstrahlen 15 auf den jeweiligen Spiegeln M2, M3 beziehungsweise M5, M6 dieser beiden Spiegel-Paare addieren. Der jeweils zweite Spiegel M3 und M6 des jeweiligen Spiegel-Paares M2, M3 und M5, M6 verstärkt also eine umlenkende Wirkung, die der jeweils erste Spiegel M2, M5 auf den jeweiligen Einzelstrahl 15 ausübt. Diese Anordnung der Spiegel der Spiegel-Paare M2, M3 beziehungsweise M5, M6 entspricht derjenigen, die in der DE 10 2009 045 096 AI für eine Beleuchtungsoptik beschrieben ist.
Die Spiegel M2, M3, M5 und M6 für streifenden Einfall haben jeweils sehr große absolute Radiuswerte, weichen von einer ebenen Fläche also vergleichsweise gering ab. Diese Spiegel M2, M3, M5 und M6 für streifenden Einfall haben eine vergleichsweise geringe Brechkraft, also eine geringere bündelformende Wirkung, wie ein insgesamt konkaver oder konvexer Spiegel. Die Spiegel M2, M3, M5 und M6 tragen zur spezifischen und insbesondere zur lokalen Abbildungsfehlerkorrektur bei.
Zur Charakterisierung einer umlenkenden Wirkung der Spiegel der Projektionsoptik 7 wird nachfolgend anhand der jeweils dargestellten Meridionalschnitte eine Umlenkrichtung definiert. Gesehen in der jeweils einfallenden Strahlrichtung im Meridionalschnitt beispielsweise nach Fig. 2 wird eine umlenkende Wirkung des jeweiligen Spiegels im Uhrzeigersinn, also eine Ablenkung nach rechts, mit dem Kürzel„R" gekennzeichnet. Der Spiegel M2 der Projektionsoptik 7 hat beispielsweise eine solche umlenkende Wirkung„R". Eine umlenkende Wirkung eines Spiegels entgegen dem Uhrzeigersinn, also nach links, gesehen aus der jeweils auf diesen Spiegel einfallenden Strahlrichtung, wird mit dem Kürzel„L" gekennzeichnet. Die Spiegel Ml und M5 der Projektionsoptik 7 sind Beispiele für die umlenkende Wirkung„L". Eine schwach oder überhaupt nicht umlenkende Wirkung eines Spiegels mit einem Faltwinkel f, für den gilt: -1° <f < 1°, wird mit dem Kürzel„0" gekennzeichnet. Der Spiegel M7 der Projektionsoptik 7 ist ein Beispiel für die umlenkende Wirkung„0". Ingesamt hat die Projektionsoptik 7 für die Spiegel Ml bis M8 folgende Abfolge umlenkender Wirkungen: LRRRLLOR. Grundsätzlich können alle beschriebenen Ausführungsbeispiele der Projektionsoptiken um eine Ebene, die parallel zur xz-Ebene verläuft, gespiegelt werden, ohne dass sich hierbei grundlegende Abbildungseigenschaften ändern. Allerdings ändert sich dann natürlich die Abfolge der umlenkenden Wirkungen, die beispielsweise bei einer Projektionsoptik, die durch entsprechende Spiegelung aus der Projektionsoptik 7 hervorgeht, folgende Reihenfolge hat: RLLLRR0L.
Eine Wahl der Umlenkwirkung, also eine Wahl einer Richtung des jeweils einfallenden Strahls beispielsweise auf den Spiegel M4 und eine Wahl einer Ablenkrichtung der Spiegelpaare M2, M3 sowie M5, M6 wird jeweils so gewählt, dass ein für die Projektionsoptik 7 zur Verfügung stehender Bauraum effizient genutzt wird.
Die Spiegel Ml bis M8 tragen eine die Refiektivität der Spiegel Ml bis M8 für das Abbildungslicht 3 optimierende Beschichtung. Hierbei kann es sich um eine Ruthenium-Beschichtung, um eine Molybdän-Beschichtung oder um eine Molybdän-Beschichtung mit einer obersten Schicht aus Ruthenium handeln. Bei den Spiegeln M2, M3, M5 und M6 für streifenden Einfall kann eine Beschichtung mit beispielsweise einer Lage aus Molybdän oder Ruthenium zum Einsatz kommen. Diese hoch reflektierenden Schichten insbesondere der Spiegel Ml, M4, M7 und M8 für normalen Einfall können als Mehrlagen-Schichten ausgeführt sein, wobei aufeinanderfolgende Schichten aus unterschiedlichen Materialien gefertigt sein können. Auch alternierende Materialschichten können zum Einsatz kommen. Eine typische Mehrlagenschicht kann fünfzig Bilagen aus jeweils einer Schicht Molybdän und einer Schicht Silizium aufweisen.
Zur Berechnung einer Gesamt-Refiektivität der Projektionsoptik 7 wird eine Systemtransmission wie folgt berechnet: Eine Spiegel-Refiektivität wird in Abhängigkeit vom Einfallswinkel eines Führungsstrahls, also eines Hauptstrahls eines zentralen Objektfeldpunktes, an jeder Spiegelflä- che bestimmt und multiplikativ zur Systemtransmission zusammengefasst.
Details zur Refiektivitätsberechnung sind erläutert in der WO 2015/014 753 AI . Weitere Informationen zur Reflexion an einem GI-Spiegel (Spiegel für streifenden Einfall) finden sich in der WO 2012/126 867 A. Weitere Informationen zur Reflektivität von NI-Spiegeln (Normal Incidence Spiegeln) finden sich in der DE 101 55 711 A.
Eine Gesamt-Reflektivität beziehungsweise System- oder Gesamttransmission der Projektionsoptik 7, die sich als Produkt der Reflektivitäten aller Spiegel Ml bis M8 der Projektionsoptik 7 ergibt, beträgt etwa R = 8 %. Der Spiegel M8, also der im Abbildungsstrahlengang letzte Spiegel vor dem Bildfeld 8, hat eine Durchtrittsöffnung 17 zum Durchtritt des Abbildungslichts 3, das vom drittletzten Spiegel M6 hin zum vorletzten Spiegel M7 reflektiert wird. Der Spiegel M8 wird um die Durchtrittsöffnung 17 herum reflektiv genutzt. Alle anderen Spiegel Ml bis M7 haben keine Durchtrittsöffnung und werden in einem lückenlos zusammenhängenden Bereich reflektiv genutzt.
In der ersten Abbildungslicht-Ebene xz hat die Projektionsoptik 7 genau ein Erstebenen- Zwischenbild 18 im Abbildungslicht-Strahlengang zwischen den Spiegeln M6 und M7. Dieses Erstebenen-Zwischenbild 18 liegt im Bereich der Durchtrittsöffnung 17. Ein Abstand zwischen der Durchtrittsöffnung 17 und dem Bildfeld 8 ist mehr als viermal so groß als ein Abstand zwi- sehen der Durchtrittsöffnung 17 und dem Erstebenen-Zwischenbild 18.
In der zur ersten Abbildungslicht-Ebene xz senkrechten zweiten Abbildungslicht-Ebene yz (vergleiche Fig. 2) verläuft das Abbildungslicht 3 durch genau zwei Zweitebenen- Zwischenbilder 19 und 20. Das erste dieser beiden Zweitebenen- Zwischenbilder 19 liegt im Abbildungslicht- Strahlengang zwischen den Spiegeln M2 und M3. Das andere der beiden Zweitebenen- Zwischenbilder 20 liegt im Abbildungsstrahlengang zwischen den Spiegeln M5 und M6.
Die Anzahl der Erstebenen-Zwischenbilder, bei der Projektionsoptik 7 also genau ein Erstebenen-Zwischenbild, und die Anzahl der Zweitebenen-Zwischenbilder, bei der Projektionsoptik 7 also genau zwei Zweitebenen-Zwischenbilder, sind bei der Projektionsoptik 7 voneinander verschieden. Diese Anzahl der Zwischenbilder unterscheidet sich bei der Projektionsoptik 7 um genau eins. Die zweite Abbildungslicht-Ebene yz, in der die größere Anzahl an Zwischenbildern, nämlich die beiden Zweitebenen- Zwischenbilder 19 und 20, vorliegt, fällt mit der Faltebene yz der GI- Spiegel M2, M3 sowie M5, M6 zusammen. Die Zweitebenen-Zwischenbilder stehen in der Re- gel nicht senkrecht auf dem Hauptstrahl 16 des zentralen Feldpunktes, der die Abbildungslicht- Hauptpropagationsrichtung ZHR definiert. Ein Zwischenbild-Kippwinkel, also eine Abweichung von dieser senkrechten Anordnung, ist grundsätzlich beliebig und kann zwischen 0° und +/- 89° liegen. Im Bereich der Zwischenbilder 18, 19, 20 können Hilfseinrichtungen 18a, 19a, 20a angeordnet sein. Bei diesen Hilfseinrichtungen 18a bis 20a kann es sich um Feldblenden zur zumindest abschnittsweisen Definition einer Berandung des Abbildungslichtbündels handeln. Auch eine Fel- dintensitäts- Vorgabeeinrichtung nach Art eines UNICOM, insbesondere mit in x-Richtung gestaffelten Fingerblenden, kann in einer der Zwischenbildebenen der Zwischenbilder 18 bis 20 angeordnet sein.
Die Spiegel Ml bis M8 sind als nicht durch eine rotationssymmetrische Funktion beschreibbare Freiformflächen ausgeführt. Es sind auch andere Ausführungen der Projektionsoptik 7 möglich, bei denen mindestens einer der Spiegel Ml bis M8 als rotationssymmetrische Asphäre ausge- führt ist. Auch alle Spiegel Ml bis M8 können als derartige Asphären ausgeführt sein.
Eine Freiformfläche kann durch folgende Freiformflächengleichung (Gleichung 1) beschrieben werden:
2 . 2
cxx + C V
\ + ^ - (\ + kx )(cxx)2 - (\ + ky )(cyy)2
+ Cxx + C2y
+ C3x2 + C4xy + C5y2
+ C6x3 + ... + C9y3
+ C10x4 + ... + C12x2y2 + - + C14y4
+ C15x5 + ... + C20y5
+ C21x6 + ... + C24x3y3 + ... + C27y6
+ ...
(1)
Für die Parameter dieser Gleichung (1) gilt:
Z ist die Pfeilhöhe der Freiformfläche am Punkt x, y, wobei x2 + y2 = r2. r ist hierbei der Abstand zur Referenzachse der Freiformflächengleichung
In der Freiformflächengleichung (1) bezeichnen Ci, C2, C3 ... die Koeffizienten der Freiformflächen-Reihenentwicklung in den Potenzen von x und y.
Im Falle einer konischen Grundfläche ist cx, cy eine Konstante, die der Scheitelpunktkrümmung einer entsprechenden Asphäre entspricht. Es gilt also cx = 1/RX und cy = 1/Ry. kx und ky entsprechen jeweils einer konischen Konstante einer entsprechenden Asphäre. Die Gleichung (1) be- schreibt also eine bikonische Freiformfläche.
Eine alternativ mögliche Freiformfläche kann aus einer rotationssymmetrischen Referenzfläche erzeugt werden. Derartige Freiformflächen für Reflexionsflächen der Spiegel von Projektionsoptiken von Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie sind bekannt aus der
US 2007-0058269 AI .
Alternativ können Freiformflächen auch mit Hilfe zweidimensionaler Spline-Oberflächen beschrieben werden. Beispiele hierfür sind Bezier-Kurven oder nicht-uniforme rationale Basis- Splines (non-uniform rational basis splines, NURBS). Zweidimensionale Spline-Oberflächen können beispielsweise durch ein Netz von Punkten in einer xy-Ebene und zugehörige z- Werte oder durch diese Punkte und ihnen zugehörige Steigungen beschrieben werden. Abhängig vom jeweiligen Typ der Spline-Oberfläche wird die vollständige Oberfläche durch Interpolation zwi- sehen den Netzpunkten unter Verwendung zum Beispiel von Polynomen oder Funktionen, die bestimmte Eigenschaften hinsichtlich ihrer Kontinuität und Differenzierbarkeit haben, gewonnen. Beispiele hierfür sind analytische Funktionen.
Fig. 4 zeigt Randkonturen der auf den Spiegeln Ml bis M8 der Projektionsoptik 7 jeweils mit dem Abbildungslicht 3 beaufschlagten Reflexionsflächen, also die sogenannten Footprints der Spiegel Ml bis M8. Dargestellt sind diese Randkonturen jeweils in einem x/y-Diagramm, welches den lokalen x- und y-Koordinaten des jeweiligen Spiegels Ml bis M8 entspricht. Die Darstellungen sind maßstäblich in Millimetern. Bei der Darstellung des Spiegels M8 ist zudem die Durchtrittsöffnung 17 dargestellt.
Die nachfolgende Tabelle fasst die Parameter "maximaler Einfallswinkel", "Reflexionsflächener- streckung in x-Richtung", "Reflexionsflächenerstreckung in y-Richtung" und "maximaler Spiegeldurchmesser" für die Spiegel Ml bis M8 zusammen:
Ml M2 M3 M4 M5 M6 M7 M8
maximaler
16.8 82.6 79.3 14.4 83.3 83.6 20.0 8.6
Einfallswinkel [°]
Reflexionsflächenerstreckung in 490.6 369.9 397.5 529.7 347.2 128.4 307.9 796.0
x-Richtung [mm]
Reflexionsflächenerstreckung in 248.5 298.7 269.3 157.5 258.6 279.3 177.6 778.5
y-Richtung [mm]
maximaler
Spiegeldurchmesser 490.6 371 .0 397.5 529.7 358.1 283.6 307.9 797.2
[mm]
Aufgrund der Zweitebenen- Zwischenbilder 19 und 20 im Bereich der Gl-Spiegel M2, M3, M5 und M6 haben auch diese Gl-Spiegel keine extreme Erstreckung in der y-Richtung. Ein y/x- Aspektverhältnis entsprechender Flächendimension der Reflexionsflächen dieser Gl-Spiegel M2, M3, M5 und M6 ist nur für den Spiegel M6 größer als 1 und beträgt dort etwa 2,2. Keiner der Gl-Spiegel hat ein y/x- Aspektverhältnis, das größer ist als 2,2. Am stärksten weicht bei den Spiegeln Ml bis M8 der Projektionsoptik 7 das y/x- Aspektverhältnis beim Spiegeln M4 vom Wert 1 ab und beträgt dort etwa 1 :3,4. Bei allen anderen Spiegeln liegt das y/x- Aspektverhältnis im Bereich zwischen 2,25: 1 und 1 :2,25.
Den größten maximalen Spiegeldurchmesser hat der die bildseitige numerische Apertur vorgebende Spiegeln M8 mit einem Durchmesser von 797.2 mm. Keiner der anderen Spiegeln Ml bis M7 hat einen maximalen Durchmesser, der größer ist als 70 % des maximalen Spiegeldurchmessers des Spiegels M8. Sieben der acht Spiegel haben einen maximalen Durchmesser, der kleiner ist als 530 mm. Sechs der acht Spiegel haben einen maximalen Durchmesser, der kleiner ist als 400 mm. Insbesondere haben alle vier Gl-Spiegel M2, M3, M5 und M6 der Projektionsoptik 7 einen maximalen Durchmesser, der kleiner ist als 400 mm.
Eine pupillendefinierende Aperturblende AS ist bei der Projektionsoptik 7 im Abbildungslicht- Strahlengang zwischen den Spiegeln Ml und M2 angeordnet. Im Bereich der Aperturblende AS ist das gesamte Abbildungslicht-Strahlenbündel über seinen gesamten Umfang zugänglich. Die optischen Designdaten der Reflexionsflächen der Spiegel Ml bis M8 der Projektionsoptik 7 können den nachfolgenden Tabellen entnommen werden. Diese optischen Designdaten gehen jeweils von der Bildebene 9 aus, beschreiben die jeweilige Projektionsoptik also in umgekehrter Laufrichtung des Abbildungslichts 3 zwischen der Bildebene 9 und der Objektebene 5. Die erste dieser Tabellen gibt einen Überblick über die Designdaten der Projektionsoptik 7 und fasst zusammen die numerische Apertur NA, die gerechnete Designwellenlänge für das Abbildungslicht, die Verkleinerungsfaktoren ßx und ßy in den beiden Abbildungslicht-Ebenen xz und yz, die Größen des Bildfeldes in x- und y-Richtung, eine Bildfeldkrümmung, einen Bildfehlerwert rms sowie einen Blendenort. Diese Krümmung ist definiert als der inverse Krümmungsra- dius des Feldes. Der Bildfehlerwert ist angegeben in ητλ (ml), also abhängig von der Designwellenlänge. Es handelt sich hierbei um den rms- Wert des Wellenfrontfehlers. Die zweite dieser Tabellen gibt zu den optischen Oberflächen der optischen Komponenten Scheitelpunktsradien (Radius x = Rx, Radius y = Ry) und Brechkraftwerte (Power x, Power y) an. Negative Radienwerte bedeuten zum einfallenden Beleuchtungslicht 3 hin konkave Kurven im Schnitt der jeweiligen Oberfläche mit der betrachteten Ebene (xz, yz), die von einer Flächennormalen im Scheitelpunkt mit der jeweiligen Krümmungsrichtung (x, y) aufgespannt wird. Die beiden Radien Radius x, Radiux y können explizit verschiedene Vorzeichen haben.
Die Scheitelpunkte an jeder optischen Fläche sind definiert als Auftreffpunkte eines Führungsstrahls, der von einer Objektfeldmitte entlang einer Symmetrieebene x=0, also der Zeichenebene der Fig. 2 (Meridionalebene) hin zum Bildfeld 8 geht.
Die Brechkräfte Power x (Px), Power y (Py) an den Scheitelpunkten sind definiert als:
2 cos ,40/
P X
2
P y
R cos AOI
AOI bezeichnet hierbei einen Einfallswinkel des Führungsstrahls zur Oberflächennormalen.
Die dritte Tabelle gibt für die Spiegel Ml bis M8 in mm die konischen Konstanten kx und ky, den Scheitelpunktradius Rx (= Radius x) und die Freiformflächen-Ko effizienten Cn an. Koeffizienten Cn, die nicht tabelliert sind, haben jeweils den Wert 0.
In der vierten Tabelle ist noch der Betrag angegeben, längs dem der jeweilige Spiegel, ausgehend von einer Bezugsfläche in der y-Richtung dezentriert (DCY), in der z-Richtung verschoben (DCZ) und verkippt (TLA, TLC) wurde. Dies entspricht einer Parallelverschiebung und einer Verkippung beim Freiformflächen-Designverfahren. Verschoben wird dabei in y- und in z- Richtung in mm und verkippt um die x- Achse und um die z- Achse. Der Verdrehwinkel ist dabei in Grad angegeben. Es wird zunächst dezentriert, dann verkippt. Die Bezugsfläche bei der De- zentrierung ist jeweils die erste Fläche der angegebenen optischen Designdaten. Auch für das Objektfeld 4 ist eine Dezentrierung in y- und in z-Richtung angegeben. Neben den den einzelnen Spiegeln zugeordneten Flächen sind in der vierten Tabelle auch die Bildebene als erste Fläche, die Objektebene als letzte Fläche sowie ggf. eine Blendenfläche (mit der Bezeichnung„Blende") tabelliert. Die fünfte Tabelle gibt noch die Transmissionsdaten der Spiegel M8 bis Ml an, nämlich deren Reflektivität für den Einfallswinkel eines zentral auf den jeweiligen Spiegel treffenden Beleuchtungslichtstrahls. Die Gesamttransmission wird als Anteilsfaktor angegeben, der von einer einfallenden Intensität nach Reflexion an allen Spiegeln der Projektionsoptik verbleibt.
Die sechste Tabelle gibt eine Berandung der Blende AS als Polygonzug in lokalen Koordinaten xyz an. Die Blende AS wird noch wie oben beschrieben dezentriert und verkippt.
Ausführungsbeispiel Fig. 2
NA 0.55
Wellenlänge 13.5 nm beta_x 4.0 beta_y -8.0
Feldgröße_x 26.0 mm
Feldgröße_y 1.0 mm
Feldkrümmung 0.012345 1/mm rms 6.38 ml
Blende AS
Tabelle 1 zu Fig. 2
OberRadius_x[mm] Power_x[1/mm] Radius_y[mm] Power_y[1/mm] Betriebsfläche modus
M8 -802.5022033 0.0024725 -736.5041758 0.0027372 REFL
M7 1243.5083386 -0.0016083 408.9827364 -0.0048902 REFL
M6 22312.0067884 -0.0000171 -16523.5937662 0.0006351 REFL
M5 4163.9295323 -0.0001084 18509.1514396 -0.0004789 REFL
M4 -1806.9481349 0.0010804 -1096.9073876 0.0018680 REFL
M3 4670.5254167 -0.0001206 -2109.0449047 0.0033674 REFL
M2 1429.2250169 -0.0003655 -7307.6455425 0.0010478 REFL
M1 -2048.646281 1 0.0009424 -1454.2373585 0.0014247 REFL Tabelle 2 zu Fig. 2
Koeffizient M8 M7 M6
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX -802.50220330 1243.50833900 22312.00679000
4.85422738e-09 -1.10124327e-06 3.74610966e-08 7.18145215e-09 -1.23749863e-06 -2.8294067e-08 -3.309331 13e-1 1 1.13040963e-09 1.071 14581 e-10 izient M8 M7 M6
C12 -6.07276398e-11 5.81614962e-09 -1.47027594e-11
C14 -2.19699403e-11 5.41786865e-09 -9.22980287e-11
C16 1.2529286e-14 -4.65721628e-12 -2.44004417e-13
C18 3.57525204e-14 -2.17441266e-11 9.21757333e-14
C20 1.54469467e-14 -1.31152306e-11 -2.16387941e- 13
C21 -5.78496382e-17 3.79034877e-15 -1.24133606e-15
C23 -1.75402378e-16 4.67344887e-14 -5.28479755e-16
C25 -1.6867679e-16 1.0218487e-13 -6.99885553e-16
C27 -5.0066194e-17 8.60105303e-14 -6.14088227e-16
C29 2.41962297e-20 -3.41493347e-17 -9.64493071 e-18
C31 9.54008439e-20 -2.77443047e-16 -1.10620144e-17
C33 8.62911805e-20 -4.27136772e-16 -2.38591705e-18
C35 3.06810403e-20 -3.96481139e-16 -1.52996781 e-18
C36 -9.49878915e-23 2.56283044e-20 2.50941142e-19
C38 -4.04628869e-22 4.41860202e-19 2.15384959e-19
C40 -6.38784166e-22 1.97203693e-18 1.43829194e-19
C42 -4.24266693e-22 3.8723228e-18 1.83536295e-20
C44 -***39115e-23 2.09002325e-18 -3.2343075e-21
C46 4.27367614e-26 -2.39900704e-22 -1.5902046e-21
C48 2.25739256e-25 -3.94241942e-21 2.48435372e-21
C50 3.40555516e-25 -1.32645387e-20 1.50741344e-21
C52 2.50767942e-25 -2.41941145e-20 1.44847456e-23
C54 6.31767248e-26 -1.44567056e-20 1.36023061 e-23
C55 -1.14156531e-28 -3.59772628e-25 -1.59047894e-22
C57 -7.04262728e-28 3.75691126e-24 -3.64084904e-23
C59 -1.42525165e-27 2.65423247e-23 -4.53171863e-24
C61 -1.36315348e-27 6.57151804e-23 -5.32955976e-24
C63 -6.45715404e-28 2.90531881 e-23 -9.34085875e-25
C65 -1.40785044e-28 1.00456746e-22 1.82858911 e-25
C67 1.11172135e-31 -3.93999722e-27 1.05351666e-24
C69 5.99618803e-31 -2.6778863e-26 8.43744328e-26
C71 1.01644152e-30 -5.75732629e-26 -1.73430971 e-25
C73 8.91032389e-31 8.55034755e-26 -7.84026675e-26
C75 3.84721585e-31 5.76888561 e-25 -3.1275055e-27
C77 6.45952447e-32 6.20707141e-25 6.92666259e-28
C78 -4.67456965e-34 1.31144272e-29 1.69211417e-26
C80 -2.64593025e-33 5.14418461e-29 1.74151568e-27
C82 -7.95615629e-33 3.36679465e-28 1.86625109e-27
C84 -1.3103537e-32 1.43843695e-27 -6.28256188e-28
C86 -1.11888544e-32 3.37581122e-27 -1.8204036e-28
C88 -4.79970403e-33 7.22562446e-27 -7.64275523e-31
C90 -8.32563472e-34 -6.07736036e-29 9.042147e-31
C92 -6.66723925e-38 2.69073098e-33 0
C94 -2.26214693e-37 -1.22568055e-30 0
C96 2.3985196e-37 -9.01274512e-30 0
C98 1.82545447e-36 -3.75361828e-29 0
C100 2.08198826e-36 -9.53216447e-29 0
C102 7.71704055e-37 -1.32501141e-28 0
C104 1.48278618e-37 -8.71910506e-29 0
C105 6.36031163e-40 -1.17611618e-34 0
C107 3.05864811e-39 6.89106973e-34 0
C109 1.19510104e-38 1.18211346e-32 0 cm 3.26134462e-38 6.84415336e-32 0
C113 4.54844445e-38 2.22650877e-31 0 Koeffizient M8 M7 M6
C115 3.1790603e-38 4.75226303e-31 0 C117 1.1 1615375e-38 5.20368105e-31 0 C119 1.7028603e-39 3.37791747e-31 0 C121 7.09450969e-43 0 0 C123 7.07503038e-42 0 0 C125 2.01498298e-41 0 0 C127 3.10462528e-41 0 0 C129 2.89416996e-41 0 0 C131 1.77146401e-41 0 0 C133 7.32317896e-42 0 0 C135 1.39621644e-42 0 0 C136 -2.96560175e-45 0 0 C138 -2.26575326e-44 0 0 C140 -8.91865658e-44 0 0 C142 -2.21194891e-43 0 0 C144 -3.36496878e-43 0 0 C146 -3.1 1967074e-43 0 0 C148 -1.70730657e-43 0 0 C150 -5.1 1020132e-44 0 0 C152 -6.67658875e-45 0 0
Tabelle 3a zu Fig. 2
Koeffizient M5 M4 M3
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX 4163.92953200 -1806.94813500 4670.52541700
C7 -2.10132761e-08 -1.96042016e-09 1.62660277e-07 C9 -5.5879311e-08 3.22887466e-07 -8.79201149e-08 C10 6.60356299e-11 -3.81682851e-12 1.08915894e-10 C12 2.48281963e-11 -2.19025544e-11 -1.3244389e-10 C14 1.92771173e-10 -1.41550222e-09 1.12386197e-10 C16 7.70206237e-14 6.80369184e-15 4.0728942e-13 C18 9.37492897e-14 -1.78308403e-13 -5.63814016e-13 C20 6.37804542e-13 3.31994899e-12 2.99697615e-13 C21 -7.62109996e-16 1.52010309e-17 -7.87021013e-16 C23 -2.31567068e-16 3.25142814e-17 3.28215159e-16 C25 5.85177474e-16 -2.09682708e-16 -9.61071038e-16 C27 2.99541817e-15 -1.35100083e-14 7.32414862e-16 C29 -4.91106991e-18 4.99874737e-20 -3.51025207e-19 C31 -9.27434598e-19 -2.8099415e-19 -3.82994126e-20 C33 3.0221538e-18 1.63143999e-18 -2.57263738e-18 C35 1.40322409e-17 1.30314788e-17 7.96878133e-19 C36 -2.37319526e-21 2.28892392e-23 -2.63311888e-21 C38 -2.43593156e-20 -4.74899498e-22 1.49767874e-21 C40 -3.73597452e-20 -2.71606304e-21 4.4850654e-21 C42 -2.75480203e-21 -3.77947198e-20 9.97805784e-22 C44 6.50052182e-20 -2.66467491 e-19 7.10627982e-21 C46 -9.92859949e-23 2.01370768e-25 -6.42903854e-24 C48 -2.71002436e-22 -3.80209813e-24 -1.0454636e-23 C50 -5.85944963e-22 -3.16816605e-23 -1.77246378e-23 C52 -2.44401021e-24 -5.86338683e-22 -4.25156431 e-23 C54 3.13651795e-22 4.61395099e-21 7.27525754e-23 Koeffizient M5 M4 M3
C55 -2.81447556e-25 2.93595222e-28 -3.18477132e-27 C57 -1.25304807e-24 7.37416289e-27 -2.66231286e-26 C59 -2.52989315e-24 1.71633598e-25 6.56672764e-26 C61 -3.04309752e-24 6.15735146e-25 1.49215316e-25 C63 5.79561246e-25 5.66886933e-24 -4.84841763e-25 C65 1.26297109e-24 5.90956041 e-23 2.21369837e-25 C67 -3.16492539e-27 2.45670952e-30 -4.18839007e-29 C69 -7.1955939e-27 1.25097063e-28 -1.06626833e-29 C71 -8.05663512e-27 2.5799422e-27 3.82609687e-28 C73 -6.16735799e-27 1.66088461 e-26 1.27614952e-27 C75 2.45791988e-27 1.60858762e-25 -1.01011905e-27 C77 3.34992721 e-27 5.1 1099651 e-25 2.17655593e-28 C78 8.93661109e-31 1.54942222e-33 -2.07565832e-31 C80 -1.57719074e-29 -2.59783981 e-32 4.13101141e-31 C82 -1.39846025e-30 -1.12125967e-30 -1.39211849e-30 C84 -1.60155592e-29 -1.08554078e-29 -4.47749969e-30 C86 7.83403749e-31 3.00541444e-29 6.80498312e-32 C88 1.03927553e-30 1.01025288e-28 1.31408439e-30 C90 4.40879896e-30 -3.17393318e-27 -2.41376037e-31 C92 0 1.21290856e-35 0 C94 0 -6.97164866e-34 0 C96 0 -3.76392034e-32 0 C98 0 -3.9154796e-31 0 C100 0 -1.00983894e-30 0 C102 0 -1.17861553e-29 0 C104 0 -7.56974861 e-29 0 C105 0 -5.03089559e-39 0 C107 0 1.21893179e-37 0 C109 0 -3.79618188e-36 0 C111 0 -2.53653057e-34 0 C113 0 -1.36970492e-33 0 C115 0 -6.98012733e-33 0 C117 0 -5.26436344e-32 0 C119 0 -3.64914866e-31 0
Tabelle 3b zu Fig. 2
Koeffizient M2 M1
KY 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 RX 1429.22501700 -2048.64628100
C7 7.4622147e-08 -2.31373688e-08 C9 ■8.10665986e-08 9.69618686e-08 C10 2.3651995e-10 7.70563479e-11 C12 ■1.35391995e-10 1.62407858e-10 C14 ■8.60024366e-11 -1.55949448e-10 C16 ■3.44597706e-13 -9.83300637e-14 C18 ■2.48577607e-13 -3.20060625e-14 C20 2.16024415e-13 4.37205194e-13 C21 4.67712475e-16 1.37083456e-16 C23 ■1.29361412e-15 4.83890959e-16 C25 1.1 1170813e-15 1.45379564e-15 C27 1.17088742e-15 -1.23794576e-15 Koeffizient M2 M1
C29 -1.9995481 1 e-18 -7.79973128e-20
C31 -6.26403797e-19 1.67798127e-18
C33 7.9948687e-18 -1.67559956e-18
C35 -1.23765777e-18 5.71 1 18565e-18
C36 2.41757429e-21 9.22440784e-23
C38 -6.33033004e-21 1.16466581 e-21
C40 9.08593022e-21 -3.51002077e-21
C42 7.91314282e-21 -9.1 1809175e-21
C44 -2.59058326e-20 -2.61095722e-20
C46 -1.69806535e-23 -1.09576134e-24
C48 -4.33727594e-23 -9.67843942e-25
C50 -4.22905968e-23 -1.41219977e-23
C52 -1.50413625e-22 -2.22956868e-23
C54 5.31 164199e-23 2.31646331 e-22
C55 -3.21318676e-26 2.98282317e-27
C57 8.72314313e-26 -9.88569935e-28
C59 1.89674196e-25 -4.04215227e-26
C61 -1.40693088e-25 9.1573951 1 e-26
C63 2.35769523e-25 1.62156366e-24
C65 8.29420086e-25 -4.13233056e-25
C67 -4.29878349e-29 1.66584653e-29
C69 2.38881015e-29 1.23079349e-28
C71 1.28270131 e-27 5.50642326e-28
C73 4.01624753e-27 2.89609863e-27
C75 5.98305592e-27 -2.31029808e-27
C77 1.38915802e-27 -2.6679793e-27
C78 1.04493779e-30 -2.55298292e-32
C80 -1.58146043e-30 8.91 180571 e-32
C82 -1.56362155e-30 9.46761877e-31
C84 5.63052564e-30 3.071 1769e-30
C86 1.95541207e-29 -1.75342289e-29
C88 1.35361791 e-29 -6.61302266e-29
C90 -8.57848052e-31 -3.62265578e-29
C92 0 -1.19933805e-34
C94 0 -7.79292368e-34
C96 0 -4.28319407e-33
C98 0 -2.0509339e-32
C100 0 -4.49301451 e-32
C102 0 1.02922373e-31
C104 0 2.23284149e-31
C105 0 8.94654006e-38
C107 0 -4.41662281 e-37
C109 0 -1.0321 1557e-35 cm 0 -4.02647882e-35
C1 13 0 -1.78956629e-35
C1 15 0 5.52147433e-34
C1 17 0 1.15153432e-33
C1 19 0 3.53557632e-34
Tabelle 3c zu Fig. 2
Oberfläche DCX DCY DCZ
Bildebene 0.00000000 0.00000000 0.00000000 M8 0.00000000 0.00000000 692.70142831 Oberfläche DCX DCY DCZ
M7 0.00000000 -150.28584966 1 1 1 59359570 M6 0.00000000 91.27036997 1045 61507253 M5 0.00000000 306.22020224 1333 94328576 M4 0.00000000 770.16161797 1574 59599473 M3 0.00000000 -374.43222682 1523 77570437 M2 0.00000000 -766.22921483 1249 466341 14 Blende 0.00000000 -952.91 164371 850 45570284 M1 0.00000000 -1 125.64750674 481 25412677
Objektebene 0.00000000 -1287.1783331 1 2159 96480376 Tabelle 4a zu Fig. 2
Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
Bildebene -0.00000000 0.00000000 -0.00000000 M8 -7.25005294 0.00000000 -0.00000000 M7 -14.50010589 180.00000000 0.00000000 M6 64.39760913 0.00000000 -0.00000000 M5 40.35585328 0.00000000 180.00000000 M4 -75.02066924 0.00000000 -0.00000000 M3 18.76967537 0.00000000 180.00000000 M2 49.96195183 0.00000000 -0.00000000 Blende -16.29884106 180.00000000 0.00000000 M1 -9.78845456 180.00000000 0.00000000
Objektebene -0.003741 13 0.00000000 -0.00000000 Tabelle 4b zu Fig. 2
Oberfläche Einfallswinkel [deg] Reflektivität
M8 7.20888333 0.66016470 M7 0.129601 15 0.66566464 M6 79.01248894 0.86504588 M5 76.95981254 0.83543426 M4 12.55617051 0.64772556 M3 73.64353526 0.77974628 M2 74.8589261 1 0.80146525 M1 15.13099267 0.63853353
Gesamttransmission 0.0821 Tabelle 5 zu Fig. 2
X[mm] Y[mm] Z[mm]
0.00000000 82.43009082 0.00000000 31.79239431 81.29896143 0.00000000 62.83013696 77.93470818 0.00000000 92.36959037 72.42536601 0.00000000 1 19.68996413 64.92012578 0.00000000 144.10694307 55.63281 166 0.00000000 164.98868473 44.84406140 0.00000000 181.77450930 32.89878215 0.00000000 193.99658660 20.1961781 1 0.00000000 201.30371857 7.17073797 0.00000000 203.48438474 -5.73573759 0.00000000 200.48525652 -18.10720836 0.00000000 192.42071841 -29.58358391 0.00000000 X[mm] Y[mm] Z[mm]
179.56818162 -39.88041272 0.00000000
162.34630896 -48.79671362 0.00000000
141.28022436 -56.21519078 0.00000000
1 16.96363543 -62.09879565 0.00000000
90.02718200 -66.48455774 0.00000000
61.1 1784172 -69.47043875 0.00000000
30.88942232 -71.18579378 0.00000000
0.00000000 -71.74270619 0.00000000
-30.88942232 -71.18579378 0.00000000
-61.1 1784172 -69.47043875 0.00000000
-90.02718200 -66.48455774 0.00000000
-1 16.96363543 -62.09879565 0.00000000
-141.28022436 -56.21519078 0.00000000
-162.34630896 -48.79671362 0.00000000
-179.56818162 -39.88041272 0.00000000
-192.42071841 -29.58358391 0.00000000
-200.48525652 -18.10720836 0.00000000
-203.48438474 -5.73573759 0.00000000
-201.30371857 7.17073797 0.00000000
-193.99658660 20.1961781 1 0.00000000
-181.77450930 32.89878215 0.00000000
-164.98868473 44.84406140 0.00000000
-144.10694307 55.63281 166 0.00000000
-1 19.68996413 64.92012578 0.00000000
-92.36959037 72.42536601 0.00000000
-62.83013696 77.93470818 0.00000000
-31.79239431 81.29896143 0.00000000
Tabelle 6 zu Fig. 2
Eine Gesamt-Refiektivität der Projektionsoptik 7 beträgt etwa 8 %. Die Referenzachsen der Spiegel sind in der Regel gegenüber einer Normalen auf die Bildebene 9 verkippt, wie die tabellierten Verkippungswerte deutlich machen.
Das Bildfeld 8 hat eine x-Erstreckung von zwei mal 13 mm und eine y-Erstreckung von 1 mm. Die Projektionsoptik 7 ist optimiert für eine Betriebswellenlänge des Beleuchtungslichts 3 von 13,5 nm.
Eine Berandung einer Blendenfiäche der Blende (vgl. auch die Tabelle 6 zur Fig. 2) ergibt sich durch Durchstoßpunkte an der Blendenfiäche aller Strahlen des Beleuchtungslichts 3, die bildsei- tig am Feldmittelpunkt mit einer vollen bildseitigen telezentrischen Apertur in Richtung der Blendenfiäche propagieren. Bei der Ausführung der Blende als Aperturblende handelt es sich bei der Berandung um eine innere Berandung. Die Blende AS kann in einer Ebene liegen oder auch dreidimensional ausgeführt sein. Die Ausdehnung der Blende AS kann in Scanrichtung (y) kleiner sein als in cross-Scanrichtung (x). Eine Baulänge der Projektionsoptik 7 in der z-Richtung, also ein Abstand zwischen der Objektebene 5 und der Bildebene 9, beträgt etwa 2160 mm.
Eine Pupillenobskuration beträgt bei der Projektionsoptik 7 18 % der gesamten Apertur der Eintrittspupille. Weniger als 18 % der numerischen Apertur sind aufgrund der Durchtrittsöffnung 17 also obskuriert. Die Konstruktion der Obskurationsberandung erfolgt analog der vorstehend im Zusammenhang mit der Blende 18 erläuterten Konstruktion der Blendenberandung. Bei der Ausführung als Obskurationsblende handelt es sich bei der Berandung um eine äußere Berandung der Blende. In einer Systempupille der Projektionsoptik 7 ist eine aufgrund der Obskuration nicht beleuchtbare Fläche kleiner als 0, 182 der Fläche der gesamten Systempupille. Die nicht beleuchtete Fläche innerhalb der Systempupille kann in der x-Richtung eine andere Ausdehnung haben als in der y-Richtung. Die nicht beleuchtete Fläche in der Systempupille kann rund, elliptisch, quadratisch oder rechteckig sein. Diese nicht beleuchtbare Fläche in der Systempupille kann zudem in Bezug auf ein Zentrum der Systempupille in der x-Richtung und/oder in der y- Richtung dezentriert sein.
Ein y- Abstand dois zwischen einem zentralen Objektfeldpunkt und einem zentralen Bildfeld- punkt beträgt etwa 1290 mm. Ein Arbeitsabstand zwischen dem Spiegel M7 und der Bildebene 9 beträgt 80 mm. Die Spiegel der Projektionsoptik 7 können in einem Quader mit den xyz-Kantenlängen 796 mm x 2033 mm x 1577 mm untergebracht werden.
Die Projektionsoptik 7 ist bildseitig näherungsweise telezentrisch. Ein mittlerer Wellenfrontfehler rms beträgt 6,38 ηιλ. Anhand der Fig. 5 bis 7 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Projektionsoptik 21 erläutert, die anstelle der Projektionsoptik 7 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 nach Fig. 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die vorstehend im Zusammenhang mit den Fig. 1 bis 4 bereits erläutert wurden, tragen gegebenenfalls die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
Die Spiegel Ml bis M8 sind wiederum als Freiformflächen-Spiegel ausgeführt, für die die vorstehend angegebene Freiformflächengleichung (1) gilt. Die nachfolgende Tabelle zeigt wiederum die Spiegelparameter der Spiegel Ml bis M8 der Projektionsoptik 21.
Ml M2 M3 M4 M5 M6 M7 M8
maximaler
18.0 82.7 79.2 15.4 82.7 83.2 19.6 8.4
Einfallswinkel [°]
Reflexionsflächen- erstreckung in 500.0 387.8 412.1 495.9 320.5 123.3 377.8 909.0
x-Richtung [mm]
Reflexionsflächen- erstreckung in 254.2 303.5 217.8 121.7 221.3 254.2 191.6 884.0
y-Richtung [mm]
maximaler
Spiegeldurchmesser 500.1 390.0 412.2 496.1 326.3 258.1 378.0 909.4
[mm]
Drei der vier Gl-Spiegel M2, M3, M5 und M6 haben ein y/x- Aspektverhältnis seiner Reflexions- fläche, das kleiner ist als 1. Der Gl-Spiegel M6 hat ein y/x- Aspektverhältnis seiner Reflexionsfläche, das kleiner ist als 2,1. Der Spiegel M4 hat ein y/x- Aspektverhältnis von etwa 1 :4,1.
Den größten maximalen Spiegeldurchmesser hat auch hier der Spiegel M8 mit 909,4 mm. Der nächstgrößere Spiegel Ml hat einen maximalen Spiegeldurchmesser von 500,1 mm. Alle ande- ren Spiegel M2 bis M7 haben einen maximalen Spiegeldurchmesser, der kleiner ist als 500 mm. Vier der acht Spiegel haben einen Spiegeldurchmesser, der kleiner ist als 400 mm. Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 21 können den nachfolgenden Tabellen entnommen werden, die in ihrem Aufbau den Tabellen zur Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 entsprechen.
Ausführungsbeispiel Fig. 5
NA 0.55
Wellenlänge 13.5 nm beta_x 4.0 beta_y -8.0
Feldgröße_x 26.0 mm
Feldgröße_y 1.2 mm
Feldkrümmung 0.012345 1/mm rms 7.32 ml
Blende AS Tabelle 1 zu Fig. 5
OberRadius_x[mm] Power_x[1/mm] Radius_y[mm] Power_y[1/mm] Betriebsfläche modus
M8 -940.0617618 0.0021 140 -840.2295581 0.0023956 REFL
M7 1928.9734306 -0.0010368 451.1570534 -0.0044331 REFL
M6 67185.8399361 -0.0000058 -95593.5289239 0.0001069 REFL
M5 3969.9634388 -0.0001 127 -26268.24631 1 1 0.0003405 REFL
M4 -1644.4855893 0.001 1803 -936.8967374 0.0021995 REFL
M3 5545.7476060 -0.0001019 -1763.0659005 0.0040141 REFL
M2 1750.674381 1 -0.0002831 -7605.8431739 0.0010610 REFL
M1 -2196.1980747 0.0008724 -1547.9396447 0.0013487 REFL
Tabelle 2 zu Fig. 5
Koeffizient M8 M7 M6
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX -940.06176180 1928.97343100 67185.83994000
C7 7.62497428e-09 -8.57639147e-07 1.54886469e-08
C9 4.97628952e-09 -9.99097263e-07 1.7981249e-08
C10 -1.78774467e-1 1 5.98726407e-10 1.27439073e-10
C12 -3.68949094e-1 1 3.30093917e-09 -4.54971207e-1 1
C14 -1.48006849e-1 1 4.48291579e-09 2.61502943e-1 1
C16 1.19469362e-14 -1.97262516e-12 -1.86187323e-13
C18 2.06260918e-14 -1.13369576e-1 1 -5.16762903e-14
C20 6.73188531 e-15 -6.84864355e-12 1.59975109e-13
C21 -2.442351 e-17 1.30460398e-15 2.24463245e-16
C23 -8.05572299e-17 1.71660461 e-14 -1.20746517e-15
C25 -8.37074918e-17 5.32208098e-14 -9.94385751 e-16
C27 -2.52600807e-17 5.44225377e-14 1.1700494e-15
C29 1.49720569e-20 -9.38573354e-18 -3.76248016e-17
C31 4.41397537e-20 -9.78201006e-17 7.24046077e-18
C33 3.44595455e-20 -2.08907367e-16 -9.14462766e-19
C35 1.00184621 e-20 -1.67962928e-16 7.77909486e-18
C36 -3.04471535e-23 4.75208488e-21 -4.46742594e-19
C38 -1.38182759e-22 9.81780945e-20 1.30465357e-18 Koeffizient M8 M7 M6
C40 -2.32391801 e-22 6.07471253e-19 2.32156832e-19 C42 -1.58479253e-22 1.30152795e-18 -1.30550515e-20 C44 -3.55412325e-23 7.68316032e-19 2.70030383e-20 C46 1.9389914e-26 -4.01545245e-23 1.26802584e-20 C48 7.59407934e-26 -6.65432869e-22 -7.05217687e-21 C50 9.45028792e-26 -2.26535734e-21 -1.71513506e-21 C52 5.81726748e-26 -3.4567483e-21 -8.2060824e-22 C54 1.26116442e-26 -1.37469551 e-21 -2.24584841e-23 C55 -2.99356247e-29 -4.50986103e-27 3.72162755e-23 C57 -1.79943344e-28 6.84634464e-25 -4.02496029e-22 C59 -3.79371622e-28 5.60548802e-24 -8.19691792e-23 C61 -4.01438917e-28 1.4529786e-23 -1.32329541 e-23 C63 -2.15579655e-28 1.08042106e-23 -7.08574489e-24 C65 -4.64996596e-29 1.80236429e-23 -5.54040576e-25 C67 2.02091944e-32 -5.63995413e-28 -4.97720727e-25 C69 1.31010773e-31 -9.26319661 e-27 1.65961753e-24 C71 2.69538916e-31 -6.51166229e-26 4.74689338e-25 C73 2.82179482e-31 -1.98884581 e-25 8.24977258e-26 C75 1.39901502e-31 -2.38611223e-25 -2.61713331e-26 C77 2.8801261e-32 -9.27090584e-26 -1.84248153e-27 C78 -7.2976325e-35 4.2747446e-31 -4.46147518e-27 C80 -4.8441275e-34 3.6322151 e-30 2.64999204e-26 C82 -1.72032993e-33 6.81159649e-29 1.77710333e-26 C84 -2.82560075e-33 4.14104646e-28 3.15445422e-27 C86 -2.19501492e-33 1.13243636e-27 4.52014997e-28 C88 -8.08969738e-34 1.51509437e-27 -4.20751415e-29 C90 -1.23421096e-34 5.43162152e-28 -1.9482289e-30 C92 4.3661147e-38 6.39314773e-34 0 C94 1.2948377e-37 -5.09327657e-32 0 C96 1.56475778e-37 -2.70270623e-31 0 C98 1.17135874e-37 -4.17109526e-31 0 C100 -2.2164768e-39 -2.83826635e-31 0 C102 -5.09426132e-38 -3.86051226e-31 0 C104 -2.25621183e-38 1.2451787e-31 0 C105 5.21451219e-41 -1.15450758e-36 0 C107 3.69839027e-40 4.98860771 e-35 0 C109 2.39074148e-39 4.57400102e-34 0 cm 6.40693939e-39 1.17311174e-33 0
C113 7.52463073e-39 6.69924954e-34 0 C115 4.13779574e-39 -1.76196881 e-33 0 C117 1.05974458e-39 1.36394362e-36 0 C119 1.18135063e-40 5.46823374e-34 0 C121 1.50128376e-44 0 0 C123 5.71442659e-43 0 0 C125 2.03807113e-42 0 0 C127 3.64316795e-42 0 0 C129 3.90631453e-42 0 0 C131 2.5122016e-42 0 0 C133 9.10058853e-43 0 0 C135 1.50573991 e-43 0 0 C136 -2.58023942e-46 0 0 C138 -2.24059058e-45 0 0 C140 -1.06043362e-44 0 0 C142 -2.84523862e-44 0 0 Koeffizient M8 M7 M6
C144 -4.27367363e-44 0 0
C146 -3.71965178e-44 0 0
C148 -1.8721749e-44 0 0
C150 -5.20772272e-45 0 0
C152 -6.31758988e-46 0 0 Tabelle 3a zu Fig. 5
Koeffizient M5 M4 M3
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX 3969.96343900 -1644.48558900 5545.74760600
C7 -6.39513036e-08 4.59950055e-09 1.80743263e-07 C9 -1.5017407e-07 6.28364058e-07 -1.10965537e-07 C10 8.52587701 e-11 -5.06881673e-12 3.95138036e-11 C12 -2.47660778e-11 5.37301883e-12 -2.06666309e-10 C14 3.74198936e-11 -2.5397412e-09 2.40085756e-10 C16 1.29736535e-13 1.08572755e-14 3.5701404e-13 C18 -8.68563834e-14 -4.93480814e-13 -9.1790881e-13 C20 -2.50836675e-13 7.09853994e-12 4.67116604e-13 C21 -9.77703397e-16 2.60781551e-17 -6.7114944e-16 C23 2.38813114e-16 -7.06272175e-18 2.45838924e-16 C25 -1.04147534e-16 -1.45243395e-15 -1.02545139e-15 C27 -4.16728425e-16 -1.23708615e-14 7.89225583e-16 C29 -4.96986975e-18 1.1 1248771e-19 -1.26267243e-19 C31 3.31558149e-18 -9.04095469e-19 -1.36495548e-18 C33 2.53002417e-18 4.85763094e-18 -5.58121292e-19 C35 -2.50118694e-18 2.27833008e-16 -1.87848367e-18 C36 2.09216699e-22 1.72943619e-23 -1.73254351 e-21 C38 5.38097573e-21 -2.36262205e-21 2.05861283e-21 C40 1.4856735e-20 -2.02482242e-20 -4.31771208e-21 C42 6.07086976e-21 9.96632775e-20 1.14114612e-20 C44 -4.31290448e-20 3.49660054e-18 2.1 1906577e-20 C46 -5.18098806e-23 -5.53662398e-25 -2.99015703e-24 C48 -2.99253322e-22 -2.23394881 e-23 -3.9876167e-24 C50 -1.38543108e-22 -2.24614331e-22 -3.67713989e-23 C52 -3.53076267e-22 2.83176923e-21 -2.6203102e-22 C54 -2.09030917e-22 5.21734292e-20 2.95685809e-22 C55 -2.82529552e-25 8.53661206e-28 -3.35005205e-27 C57 -3.58319443e-24 5.0364398e-26 -1.96477668e-26 C59 -4.29933193e-24 7.27741408e-25 1.34877357e-25 C61 -4.35164002e-25 -3.70172805e-25 9.08466291 e-25 C63 -4.31612597e-24 -1.65512418e-23 -1.15821486e-24 C65 5.74566859e-25 -3.54839213e-22 9.75105989e-25 C67 -8.31856725e-27 2.23913867e-29 -7.53092542e-30 C69 -3.03135923e-26 9.24067287e-28 6.97106649e-29 C71 -6.34159858e-27 1.29441651 e-26 2.59341661 e-28 C73 -1.45964284e-27 7.21404487e-26 2.42170553e-27 C75 -1.93255602e-26 -5.34524622e-25 6.10793347e-27 C77 7.65786113e-27 -7.05057312e-24 -7.52722442e-27 C78 -9.6627235e-31 -2.01181857e-33 -1.18301807e-31 C80 -4.64023731 e-29 -2.2908469e-31 2.05691034e-31 C82 -4.21140793e-29 -9.08557064e-30 -2.86985661 e-30 Koeffizient M5 M4 M3
C84 1.14175315e-29 1.81010784e-31 -8.51064858e-30 C86 -7.952672e-30 1.14283042e-27 -2.99648638e-29 C88 -3.06560966e-29 2.97065585e-27 3.1957382e-29 C90 1.739769e-29 -1.53356387e-26 -5.55236415e-29 C92 0 -9.35479925e-35 0 C94 0 -1.1 1066562e-32 0 C96 0 -2.7117545e-31 0 C98 0 -2.16812021e-30 0 C100 0 6.49579619e-30 0 C102 0 8.30122741e-29 0 C104 0 1.33368175e-28 0 C105 0 7.63062872e-39 0 C107 0 -1.33707919e-36 0 C109 0 -6.17114636e-35 0 C111 0 -1.93752659e-33 0 C113 0 -1.47555389e-32 0 C115 0 1.51767677e-32 0 C117 0 3.13470054e-31 0 C119 0 -4.06330463e-32 0
Tabelle 3b zu Fig. 5
Koeffizient M2 M1
KY 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 RX 1750.67438100 -2196.19807500
C7 4.7297134e-09 -4.86481906e-09 C9 -5.36155645e-08 6.01275614e-08 C10 1.59151467e-10 7.46596389e-11 C12 -2.02398537e-10 1.45342585e-10 C14 3.12252434e-11 -1.08723836e-10 C16 -3.31390341e-13 -9.34448438e-14 C18 -2.42004872Θ-14 -7.70625615e-14 C20 4.45566248e-13 1.57106949e-13 C21 3.80206914e-16 8.49056831 e-17 C23 -9.56343255e-16 3.07262613e-16 C25 1.45687793e-15 4.12831935e-16 C27 9.96110057e-16 -6.78360599e-16 C29 -1.35242776e-18 -8.09472368e-20 C31 3.878658e-19 8.74413523e-19 C33 5.84002502e-18 -7.39905067e-20 C35 4.45642888e-19 2.28066485e-18 C36 1.95686187e-21 7.10067552e-23 C38 -1.88113443e-21 1.34398924e-21 C40 7.17808853e-21 4.93020658e-22 C42 1.48440454Θ-20 -1.09302223e-21 C44 -1.8863007e-20 -6.93027773e-21 C46 -1.4738118e-23 -9.80248468e-25 C48 -2.76214199e-23 -1.05148019e-23 C50 1.62454625e-23 -5.72823473e-23 C52 1.6767595Θ-24 -8.17398356e-23 C54 -5.46813238Θ-23 8.69674176e-23 C55 -2.01826152e-26 2.31220573e-28 Koeffizient M2 M1
C57 2.24379893e-26 -1.69336589e-26 C59 1.46483916e-25 -1.55947876e-25 C61 2.76717073e-25 -3.16491948e-25 C63 3.60699347e-25 2.52372061 e-25 C65 6.49680396e-25 -4.13953744e-25 C67 -7.2725905e-30 1.76604001e-29 C69 2.64991096e-28 1.97905218e-28 C71 9.95789009e-28 1.53395973e-27 C73 2.1901547e-27 5.10156455e-27 C75 3.93340903e-27 3.79217645e-27 C77 4.25386162e-27 -2.13756483e-28 C78 5.51457855e-31 1.73082408e-33 C80 -6.10075425e-31 2.51373647e-31 C82 -5.64817815e-31 2.65475898e-30 C84 1.48472093e-30 1.19081526e-29 C86 5.14461598e-30 1.48221822e-29 C88 9.48397385e-30 -3.58732144e-30 C90 7.31964218e-30 8.78094036e-30 C92 0 -1.05729528e-34 C94 0 -1.18735654e-33 C96 0 -1.1292592e-32 C98 0 -5.84661259e-32 C100 0 -1.20686328e-31 C102 0 -7.00065014e-32 C104 0 7.63092948e-33 C105 0 -2.71068349e-38 C107 0 -1.37360137e-36 C109 0 -1.78911485e-35 C111 0 -1.1 1895866e-34 C113 0 -3.08686012e-34 C115 0 -3.09249328e-34 C117 0 -4.89479255e-35 C119 0 -2.12968606e-34
Tabelle 3c zu Fig. 5
Oberfläche DCX DCY DCZ
Blendenebene 0.00000000 0.00000000 0 00000000
M8 0.00000000 0.00000000 789 65404564 M7 0.00000000 -156.74162415 111 54216970 M6 0.00000000 75.82209555 1117 68346177 M5 0.00000000 264.33972449 1378 11700369 M4 0.00000000 672.72538896 1599 35824164 M3 0.00000000 -141.59750086 1584 88117058 M2 0.00000000 -505.63142958 1344 24717896 Blende 0.00000000 -737.61173826 911 36439031 M1 0.00000000 -958.90354606 498 42669138
Objektebene 0.00000000 -1120.89995218 2199 99050736 Tabelle 4a zu Fig. 5
Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
Blendenebene -0.00000000 0.00000000 -0.00000000
M8 -6.50750638 0.00000000 -0.00000000 Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
M7 -13.01501276 180.00000000 0.00000000
M6 65.542841 17 0.00000000 -0.00000000
M5 41.27356560 0.00000000 180.00000000
M4 -75.26753205 0.00000000 -0.00000000
M3 17.24201595 0.00000000 180.00000000
M2 47.63941851 0.00000000 -0.00000000
Blende 3.43166576 180.00000000 0.00000000
M1 -1 1.37413742 180.00000000 0.00000000
Objektebene -0.06157975 0.00000000 -0.00000000
Tabelle 4b zu Fig. 5
Oberfläche Einfallswinkel [deg] Reflektivität
M8 6.47147520 0.661281 18 M7 0.1 1653216 0.66566419 M6 78.70978085 0.86086591 M5 77.07792270 0.83722518 M4 13.94320818 0.64306998 M3 73.58463359 0.77865080 M2 75.65025415 0.81475558 M1 16.66193250 0.63186641
Gesarnttransmission 0.0818
Tabelle 5 zu Fig. 5
X[mm] Y[mm] Z[mm]
0.00000000 89.66980683 0.00000000 32.26933636 88.49883199 0.00000000 63.80242161 85.00678770 0.00000000 93.86826885 79.25859655 0.00000000 121.74851975 71.36984717 0.00000000 146.74869993 61.51615592 0.00000000 168.21452338 49.94208075 0.00000000 185.55384755 36.96581320 0.00000000 198.26379471 22.97584784 0.00000000 205.96026358 8.41653940 0.00000000 208.40508531 -6.23816130 0.00000000 205.52599380 -20.51954235 0.00000000 197.42538052 -33.99995929 0.00000000 184.37470881 -46.32063692 0.00000000 166.79373383 -57.20679974 0.00000000 145.21783608 -66.47143800 0.00000000 120.26075163 -74.01 138993 0.00000000 92.58074849 -79.79782652 0.00000000 62.85560742 -83.85970028 0.00000000 31.76805617 -86.25747226 0.00000000 0.00000000 -87.04886980 0.00000000 -31.76805617 -86.25747226 0.00000000 -62.85560742 -83.85970028 0.00000000 -92.58074849 -79.79782652 0.00000000 -120.26075163 -74.01 138993 0.00000000 -145.21783608 -66.47143800 0.00000000 -166.79373383 -57.20679974 0.00000000 -184.37470881 -46.32063692 0.00000000 X[mm] Y[mm] Z[mm]
197.42538052 -33.99995929 0.00000000
205.52599380 -20.51954235 0.00000000
208.40508531 -6.23816130 0.00000000
205.96026358 8.41653940 0.00000000
198.26379471 22.97584784 0.00000000
185.55384755 36.96581320 0.00000000
168.21452338 49.94208075 0.00000000
146.74869993 61.51615592 0.00000000
121.74851975 71.36984717 0.00000000
-93.86826885 79.25859655 0.00000000
-63.80242161 85.00678770 0.00000000
-32.26933636 88.49883199 0.00000000
Tabelle 6 zu Fig. 5
Eine Gesamt-Reflektivität der Projektionsoptik 21 beträgt etwa 8 %. Die Projektionsoptik 21 hat ein Bildfeld 8 mit einer x-Dimension von 2 x 13 mm und einer y- Dimension von 1,2 mm. Das Bildfeld liegt gekrümmt mit einem absoluten Krümmungsradius von 81 mm vor. Die Projektionsoptik 21 hat eine bildseitige numerische Apertur von 0,55. In der ersten Abbildungslicht-Ebene xz hat die Projektionsoptik 21 einen Verkleinerungsfaktor ßx von 4,00. In der zweiten Abbildungslicht-Ebene yz hat die Projektionsoptik 21 einen Verkleinerungs- faktor ßy von 8,00. Ein objektseitiger Hauptstrahlwinkel beträgt 5,4°. Eine Pupillenobskuration beträgt 15 %. Ein Objekt-Bild- Versatz dois beträgt etwa 1120 mm. Die Spiegel der Projektionsoptik 21 können in einem Quader mit xyz-Kantenlängen von 909 mm x 1766 mm x 1584 mm untergebracht werden. Das Retikel 10 und damit die Objektebene 5 sind um einen Winkel T von
-0,1° um die x- Achse verkippt. Dieser Kippwinkel T ist in der Fig. 5 angedeutet.
Ein Arbeitsabstand zwischen dem wafemächsten Spiegel M7 und der Bildebene 9 beträgt etwa 80 mm. Ein mittlerer Wellenfrontfehler rms beträgt 7,32 ηιλ.
Fig. 7 zeigt wiederum die Randkonturen der Reflexionsflächen der Spiegel Ml bis M8 der Projektionsoptik 21.
Anhand der Fig. 8 bis 10 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Projektionsoptik 22 erläutert, die anstelle der Projektionsoptik 7 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 nach Fig. 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die vorstehend im Zusammenhang mit den Fig. 1 bis 7 bereits erläutert wurden, tragen gegebenenfalls die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
Für die Spiegel Ml bis M8 gilt wiederum die vorstehend angegebene Freiformflächengleichung (1)·
Die nachfolgende Tabelle zeigt wiederum die Spiegelparameter der Spiegel Ml bis M8 der Projektionsoptik 22.
Ml M2 M3 M4 M5 M6 M7 M8
maximaler
19.4 83.2 78.9 14.6 83.4 81.3 20.4 8.4
Einfallswinkel [°]
Reflexionsflächen- erstreckung in 500.6 415.3 464.4 608.0 438.7 157.9 331.3 839.6
x-Richtung [mm]
Reflexionsflächen- erstreckung in 258.0 319.6 315.9 139.9 276.0 289.4 175.9 821.2
y-Richtung [mm]
maximaler
Spiegeldurchmesser 500.7 416.9 464.4 608.1 440.2 293.8 331.3 840.2
[mm]
Den größten Spiegeldurchmesser hat hier wiederum der letzte Spiegel im Abbildungsstrahlengang M8 mit 840,2 mm. Den nächstgrößeren maximalen Spiegeldurchmesser hat der Spiegel M4 mit 608,1 mm. Den nächstgrößeren maximalen Spiegeldurchmesser hat der der Spiegel Ml mit 500,7 mm. Die Spiegeldurchmesser der weiteren Spiegel M2, M3 sowie M5 bis M7 sind jeweils kleiner als 500 mm.
Der NI-Spiegel M4 hat ein x/y- Aspektverhältnis von etwa 4,3: 1. Das x/y- Aspektverhältnis von drei der vier GI-Spiegel, nämlich der Spiegel M2, M3 und M5, ist jeweils größer als 1.
Fig. 10 zeigt wiederum die Randkonturen der Reflexionsflächen der Spiegel Ml bis M8 der Projektionsoptik 22. Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 22 können den nachfolgenden Tabellen entnommen werden, die in ihrem Aufbau den Tabellen zur Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 entsprechen.
Ausführungsbeispiel Fig. 8
NA 0.55
Wellenlänge 13.5 nm beta_x 4.0 beta_y -8.0
Feldgröße_x 26.0 mm
Feldgröße_y 1.2 mm
Feldkrümmung 0.012345 1/mm rms 6.32 ml
Blende AS
Tabelle 1 zu Fig. 8
OberRadius_x[mm] Power_x[1/mm] Radius_y[mm] Power_y[1/mm] Betriebsfläche modus
M8 -851.0361523 0.0023330 -772.1034778 0.0026093 REFL
M7 1546.8239627 -0.0012930 394.6694678 -0.0050675 REFL
M6 -202333.1456610 0.0000022 -10187.2890997 0.0008677 REFL
M5 8912.8787588 -0.0000480 169600.7233122 -0.0000551 REFL
M4 -1924.8246697 0.0010145 -1 122.2826293 0.0018252 REFL
M3 8381.6578186 -0.0000650 -2584.1884987 0.0028424 REFL
M2 1663.9595421 -0.0002907 -9018.2564818 0.0009168 REFL
M1 -2366.4461630 0.0008036 -1573.3008227 0.0013369 REFL
Tabelle 2 zu Fig. 8
Koeffizient M8 M7 M6
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX -851.03615230 1546.82396300 -202333.14570000
C7 8.22353195e-09 -1.1254404e-06 5.70321402e-08
C9 1.06800922e-08 -1.61066543e-06 -4.04332858e-08
C10 -2.32081625e-1 1 9.01260368e-10 9.97049994e-1 1
C12 -4.81965523e-1 1 5.41498721 e-09 -3.87882762e-1 1
C14 -1.78337439e-1 1 6.95736847e-09 -8.07590068e-1 1
C16 1.53703977e-14 -3.72727079e-12 -2.22606408e-13
C18 3.92824351 e-14 -2.3049091 e-1 1 1.39174244e-13
C20 1.4121 1822e-14 -1.33256083e-1 1 -1.58580213e-13
C21 -3.81721312e-17 2.57394252e-15 -1.15923561 e-15
C23 -1.24510595e-16 3.79123979e-14 6.26522278e-16
C25 -1.24327748e-16 1.02191353e-13 -3.15498125e-16
C27 -4.02771064e-17 1.05686173e-13 8.01345954e-17
C29 2.36036771 e-20 -2.32704295e-17 2.86986088e-18
C31 9.23476141 e-20 -2.50971866e-16 -6.31866033e-18
C33 7.42391485e-20 -4.69584608e-16 -1.77467853e-18
C35 2.13920436e-20 -4.20709884e-16 1.93080313e-18 Koeffizient M8 M7 M6
C36 -5.75028905e-23 1.36974288e-20 1.20047411 e-19 C38 -2.56478559e-22 2.99082116e-19 1.58313804e-19 C40 -4.17528537e-22 1.63802081 e-18 3.48230344e-20 C42 -2.93237802e-22 3.53149682e-18 -1.30664337e-20 C44 -6.5240127e-23 2.22557903e-18 9.34200365e-21 C46 3.26730959e-26 -1.31769525e-22 1.87467922e-22 C48 1.65647684e-25 -2.54108407e-21 -9.7459547e-23 C50 2.06003704e-25 -8.02218967e-21 4.24535452e-22 C52 1.25828823e-25 -1.08154448e-20 -3.60660032e-23 C54 2.94874126e-26 -4.52045601 e-21 3.08426535e-23 C55 -6.97828495e-29 -8.04789954e-27 -3.02842858e-23 C57 -3.93224712e-28 2.36826803e-24 -3.05704402e-23 C59 -8.5715617e-28 1.91225859e-23 -1.61986274e-23 C61 -9.44354252e-28 5.47973494e-23 -5.89325036e-25 C63 -4.92557976e-28 5.42718964e-23 1.75162691 e-25 C65 -9.53675468e-29 -2.41144334e-23 1.37982154e-25 C67 8.56161307e-32 -2.13597878e-27 1.42425027e-25 C69 5.45793082e-31 -3.1078544e-26 1.57057755e-25 C71 1.08872714e-30 -1.66326237e-25 -3.00238819e-26 C73 1.12115534e-30 -6.38207957e-25 -1.34557376e-26 C75 6.1 1516854e-31 -1.02076137e-24 3.36558839e-27 C77 1.73978227e-31 -1.03262553e-24 2.84928864e-28 C78 -2.15434724e-34 2.23358192e-30 1.67334485e-27 C80 -1.42981408e-33 2.69345444e-29 -7.09831855e-29 C82 -4.31511841e-33 3.21344558e-28 9.35814833e-28 C84 -6.50204276e-33 1.66879067e-27 5.92963244e-28 C86 -4.98319988e-33 4.54510687e-27 -5.80186138e-29 C88 -1.71245423e-33 4.96070699e-27 1.15834488e-29 C90 -2.25973101 e-34 1.01639976e-26 -5.5330398e-32 C92 -4.67191518e-38 -6.25563325e-33 0 C94 -5.22713002e-37 -4.34830237e-31 0 C96 -1.89944414e-36 -3.56929016e-30 0 C98 -2.81867609e-36 -1.1 1408817e-29 0 C100 -2.00885345e-36 -3.36202301 e-30 0 C102 -9.14331673e-37 1.99813966e-29 0 C104 -3.93192552e-37 5.1763834e-29 0 C105 2.59858488e-40 -1.30912151e-35 0 C107 1.91340725e-39 2.51076736e-34 0 C109 7.28860105e-39 3.88659065e-33 0 cm 1.43323996e-38 1.93195701 e-32 0
C113 1.56110989e-38 3.48086283e-32 0 C115 8.98701927e-39 -5.48720528e-32 0 C117 1.6511978e-39 -1.29982627e-31 0 C119 -1.30949821 e-40 -4.96284696e-31 0 C121 4.23660664e-43 0 0 C123 4.15160139e-42 0 0 C125 1.39771326e-41 0 0 C127 2.53124046e-41 0 0 C129 2.68371578e-41 0 0 C131 1.59135165e-41 0 0 C133 5.46251923e-42 0 0 C135 1.15209039e-42 0 0 C136 -1.17664747e-45 0 0 C138 -1.02663575e-44 0 0 Koeffizient M8 M7 M6
C140 -4.20279722e-44 0 0
C142 -9.68210854e-44 0 0
C144 -1.33553594e-43 0 0
C146 -1.14971336e-43 0 0
C148 -5.92069859e-44 0 0
C150 -1.53968726e-44 0 0
C152 -1.21262169e-45 0 0
Tabelle 3a zu Fig. 8
Koeffizient M5 M4 M3
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX 8912.87875900 -1924.82467000 8381.65781900
C7 -8.57268768e-08 2.54807038e-08 1.55608617e-07 C9 -6.40759103e-08 5.25166423e-07 -7.37308994e-08 C10 2.6897543e-11 -5.54870269e-13 -2.18140873e-11 C12 -2.7546226e-11 -4.63238035e-11 -6.24966108e-12 C14 1.73068149e-10 -2.87565404e-09 4.78306365e-11 C16 -2.16934555e-14 2.88286746e-14 1.42144476e-13 C18 -3.78830935e-14 -1.16294514e-13 -2.62164582e-13 C20 2.23511026e-13 1.06010033e-11 1.19479387e-13 C21 -2.93742356e-16 1.20280745e-17 -4.13931787e-16 C23 1.03921979e-16 -8.1527366e-17 2.34105392e-16 C25 -1.01100395e-16 2.07655296e-16 -4.5300826e-16 C27 1.02450572e-15 -2.86240941e-14 -2.49592968e-17 C29 -1.10251956e-18 3.89793994e-20 -3.28703583e-19 C31 6.87189608e-19 3.58723632e-19 2.34944949e-19 C33 -9.50730177e-19 2.17310978e-17 2.18611821e-19 C35 2.23205339e-18 1.22715871 e-16 3.44365927e-20 C36 -2.99662129e-22 1.5227569e-23 -8.39841059e-22 C38 -2.28852461 e-21 -2.49850063e-22 4.49849691 e-23 C40 -6.61286925e-21 3.66778349e-21 -1.00697786e-21 C42 -6.83118232e-21 -7.87351542e-20 -1.93220209e-21 C44 4.74805065e-21 -1.20795235e-18 1.39567847e-21 C46 -6.19052002e-24 -2.95842767e-27 -8.0421363e-25 C48 -4.53218038e-23 -1.86701681 e-24 -7.51188458e-26 C50 -3.53355801 e-23 -1.94682324e-22 6.58138946e-24 C52 9.66685993e-24 -2.54695991 e-21 -2.24468037e-23 C54 4.68338408e-23 1.56039907e-20 2.3689314e-23 C55 -3.36029673e-27 3.64770651 e-29 -1.64579218e-27 C57 -1.50039295e-25 2.97142578e-27 -4.39616284e-27 C59 -1.58152693e-25 -9.31466014e-27 -3.28807432e-27 C61 1.40480231e-25 -5.43887391 e-25 9.68467712e-26 C63 3.42078317e-25 -7.81685653e-24 -1.21580745e-25 C65 3.34544742e-25 2.49081993e-22 5.2524997e-26 C67 -1.91985692e-28 1.23915532e-30 -4.34996752e-30 C69 -6.19652043e-28 5.59164321 e-29 1.1395921 e-29 C71 5.78399459e-28 2.46635389e-27 -6.03194547e-29 C73 6.06143848e-28 6.4010328e-26 3.18629423e-28 C75 2.14114816e-27 5.89668384e-25 2.4585905e-29 C77 8.34473509e-28 -3.8312013e-25 -3.30336043e-28 C78 -2.63013498e-32 -3.04381081 e-35 1.90506513e-33 C80 -8.58668923e-31 -5.52823344e-33 2.0730057e-32 Koeffizient M5 M4 M3
C82 3.6604218e-31 1.5262269e-31 -7.57202598e-32 C84 1.22304772e-30 1.81454202e-29 -8.86741054e-31 C86 3.96796879e-31 2.84600101 e-28 -5.95886159e-31 C88 4.7506545e-30 3.52745373e-27 9.5255502e-31 C90 1.01760514e-31 -5.7803578e-26 -1.26507199e-30 C92 0 1.87739314e-36 0 C94 0 -2.22865742e-34 0 C96 0 -1.0891435e-32 0 C98 0 -4.24411917e-31 0 C100 0 -6.24102946e-30 0 C102 0 -4.91277622e-29 0 C104 0 -1.05847058e-28 0 C105 0 2.44803895e-40 0 C107 0 3.63856827e-38 0 C109 0 -9.85256801 e-37 0 cm 0 -1.48844151 e-34 0
C113 0 -3.24054187e-33 0 C115 0 -4.83253562e-32 0 C117 0 -4.56856787e-31 0 C119 0 2.64024429e-30 0
Tabelle 3b zu Fig. 8
Koeffizient M2 M1
KY 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 RX 1663.95954200 -2366.44616300
C7 -2.6256998e-08 -1.88881955e-08 C9 -4.49213586e-08 6.43389667e-08 C10 1.54586082e-10 6.46192823e-11 C12 -1.21371886e-10 1.31169767e-10 C14 -4.33390669e-11 -1.78376811e-10 C16 -2.73749675e-13 -8.16202701e-14 C18 -2.92834639e-13 -1.77336534e-13 C20 5.30808959e-13 1.28125779e-13 C21 3.92239718e-16 7.7481034e-17 C23 -7.40201663e-16 2.19947215e-16 C25 1.08355999e-15 8.51061497e-16 C27 2.44427707e-15 -7.69477857e-16 C29 -1.06269965e-18 -5.04698618e-20 C31 -4.88332067e-19 1.20045157e-18 C33 9.46993181e-18 -1.0606871 e-18 C35 3.12945049e-18 4.10938248e-18 C36 1.53705534e-21 4.30277308e-23 C38 -1.32914259e-21 1.09041364e-21 C40 9.35384761 e-21 1.32436368e-22 C42 1.83272246e-20 5.94189415e-21 C44 -1.6258077e-20 -1.73278155e-20 C46 -8.69830376e-24 -8.70142065e-25 C48 -1.83642254e-23 -4.10900663e-24 C50 7.81204363e-24 -3.66083552e-23 C52 -7.6675503e-23 -1.57882422e-22 C54 -7.16811746e-24 1.75681164e-22 Koeffizient M2 M1
C55 1.00553344e-27 1.85224361 e-28 C57 9.61086623e-27 -9.92933564e-27 C59 9.22836469e-26 -9.27618468e-26 C61 5.03417067e-26 -3.91366057e-25 C63 8.18957345e-26 3.55969196e-26 C65 5.4051668e-25 -2.60900198e-25 C67 -4.59015691 e-29 1.5260942e-29 C69 5.56437743e-29 1.29590808e-28 C71 5.74425184e-28 5.1841973e-28 C73 1.78819681 e-27 3.0919993e-27 C75 3.84503995e-27 5.78715704e-27 C77 1.77868051 e-27 -1.1835767e-27 C78 7.746135e-32 -6.58196385e-34 C80 -6.03716849e-32 1.87038385e-31 C82 1.75693025e-32 1.10323344e-30 C84 9.46185586e-31 6.41534647e-30 C86 6.92515865e-30 1.83718563e-29 C88 9.33866138e-30 2.26352334e-29 C90 1.35684272e-30 -8.39131456e-30 C92 0 -7.45481971 e-35 C94 0 -9.20444921 e-34 C96 0 -3.82571455e-33 C98 0 -2.02038771 e-32 C100 0 -4.58610144e-32 C102 0 -2.19149074e-31 C104 0 1.21942322e-31 C105 0 -2.04017375e-39 C107 0 -1.13152305e-36 C109 0 -8.67384688e-36 C1 1 1 0 -3.73813523e-35 C1 13 0 -1.42966936e-34 C1 15 0 -5.28437513e-34 C1 17 0 5.05058256e-36 C1 19 0 -4.57963592e-34
Tabelle 3c zu Fig. 8
Oberfläche DCX DCY DCZ
Blendenebene 0.00000000 0.00000000 0.00000000
M8 0.00000000 0.00000000 730.47846317
M7 0.00000000 -152.90056746 1 12.82201342
M6 0.00000000 78.36865349 1047.05612597
M5 0.00000000 389.10924804 1414.16174057
M4 0.00000000 812.27571998 1612.23227806
M3 0.00000000 -265.50935323 1603.53836219
M2 0.00000000 -726.85543010 1316.88850383
Blende 0.00000000 -960.14137189 921.36601541
M1 0.00000000 -1210.40105284 497.06555821
Objektebene 0.00000000 -1383.95499737 2195.69303406
Tabelle 4a zu Fig. 8
Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
Blendenebene -0.00000000 0.00000000 -0.00000000 Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
M8 -6.95201256 0.00000000 -0.00000000
M7 -13.9040251 1 180.00000000 0.00000000
M6 62.92468079 0.00000000 -0.00000000
M5 37.41808021 0.00000000 180.00000000
M4 -77.22753094 0.00000000 -0.00000000
M3 16.15812057 0.00000000 180.00000000
M2 45.66062220 0.00000000 -0.00000000
Blende -17.71808396 180.00000000 0.00000000
M1 -12.34949612 180.00000000 0.00000000
Objektebene 0.33384010 0.00000000 -0.00000000
Tabelle 4b zu Fig. 8
Oberfläche Einfallswinkel[deg] Reflektivität
M8 6.91276625 0.66062902 M7 0.12878534 0.66566461 M6 76.92252636 0.83486647 M5 77.65337591 0.84578931 M4 12.48133148 0.64795820 M3 74.19981712 0.78989266 M2 76.00169981 0.82045940 M1 18.03253830 0.62503760
Gesarnttransmission 0.0815
Tabelle 5 zu Fig. 8
X[mm] Y[mm] Z[mm]
0.00000000 79.44891448 0.00000000 33.44609853 78.35210193 0.00000000 66.09827943 75.08959780 0.00000000 97.17379795 69.74566864 0.00000000 125.91323007 62.46267647 0.00000000 151.59477634 53.44369041 0.00000000 173.55179314 42.95465388 0.00000000 191.19420271 31.32416265 0.00000000 204.03313655 18.93717691 0.00000000 21 1.70619028 6.21863897 0.00000000 213.99952587 -6.39415339 0.00000000 210.86350256 -18.48584486 0.00000000 202.41900580 -29.6947841 1 0.00000000 188.951 191 14 -39.73468794 0.00000000 170.88870987 -48.40435562 0.00000000 148.771 13918 -55.58900603 0.00000000 123.21255397 -61.25733366 0.00000000 94.87031062 -65.45439617 0.00000000 64.42418298 -68.28828106 0.00000000 32.56662812 -69.90208600 0.00000000 0.00000000 -70.42283034 0.00000000 -32.56662812 -69.90208600 0.00000000 -64.42418298 -68.28828106 0.00000000 -94.87031062 -65.45439617 0.00000000 -123.21255397 -61.25733366 0.00000000 -148.771 13918 -55.58900603 0.00000000 -170.88870987 -48.40435562 0.00000000 X[mm] Y[mm] Z[mm]
-188.951 191 14 -39.73468794 0.00000000 -202.41900580 -29.6947841 1 0.00000000 -210.86350256 -18.48584486 0.00000000 -213.99952587 -6.39415339 0.00000000 -21 1.70619028 6.21863897 0.00000000 -204.03313655 18.93717691 0.00000000 -191.19420271 31.32416265 0.00000000 -173.55179314 42.95465388 0.00000000 -151.59477634 53.44369041 0.00000000 -125.91323007 62.46267647 0.00000000 -97.17379795 69.74566864 0.00000000 -66.09827943 75.08959780 0.00000000 -33.44609853 78.35210193 0.00000000
Tabelle 6 zu Fig. 8
Eine Gesamt-Reflektivität der Projektionsoptik 22 beträgt etwa 8 %. Die Projektionsoptik 22 hat ein Bildfeld 8 mit einer x-Dimension von 2 x 13 mm und einer y- Dimension von 1,2 mm. Das Bildfeld liegt gekrümmt mit einem absoluten Krümmungsradius von 81 mm vor. Die Projektionsoptik 22 hat eine numerische Apertur von 0,55. Ein Verkleinerungsfaktor beträgt in der ersten Abbildungslicht-Ebene xz 4,0 (ßx) und in der zweiten Abbildungslicht-Ebene yz -8,0 (ßy). Ein Hauptstrahlwinkel CRA zu einer Normalen auf dem Objekt- feld 4 beträgt 5,4°. Eine maximale Pupillenobskuration beträgt 16 %. Ein Objekt-Bildversatz dois beträgt etwa 1380 mm. Die Spiegel der Projektionsoptik 22 können in einem Quader mit xyz-Kantenlängen 840 mm x 2160 mm x 1598 mm untergebracht werden.
Die Objektebene 5 und die Bildebene 9 verlaufen mit einem Winkel von 0,3° zueinander.
Ein Arbeitsabstand zwischen dem wafernächsten Spiegel M5 und der Bildebene 9 beträgt 81 mm. Ein mittlerer Wellenfrontfehler rms beträgt 6,32 ηιλ.
Anhand der Fig. 11 bis 13 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Projektionsoptik 23 erläutert, die anstelle der Projektionsoptik 7 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 nach Fig. 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die vorstehend im Zusammenhang mit den Fig. 1 bis 10 bereits erläutert wurden, tragen gegebenenfalls die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. Die Spiegel Ml bis M8 sind wiederum als Freiformflächen ausgestaltet, für die die oben angegebene Freiformflächengleichung (1) gilt.
Die nachfolgende Tabelle zeigt wiederum die Spiegelparameter der Spiegel Ml bis M8 der Pro- j ektionsoptik 23.
Ml M2 M3 M4 M5 M6 M7 M8
maximaler
16.8 83.8 79.4 13.7 82.6 83.7 23.2 7.8
Einfallswinkel [°]
Reflexionsflächen- erstreckung in 537.0 463.6 511.9 707.8 437.8 222.7 382.8 1060.2
x-Richtung [mm]
Reflexionsflächen- erstreckung in 272.8 340.3 266.9 160.1 223.6 233.2 201.1 1038.2
y-Richtung [mm]
maximaler
Spiegeldurchmesser 537.1 463.9 512.0 707.8 438.1 252.4 382.9 1060.6
[mm]
Drei der vier Gl-Spiegel haben ein x/y- Aspektverhältnis, das größer ist als 1. Der Nl-Spiegel M4 hat ein x/y- Aspektverhältnis von etwa 4,4.
Den größten Spiegeldurchmesser hat wiederum der Spiegel im Abbildungslicht- Strahlengang letzte Spiegel M8 mit 1060 mm. Den nächstgrößeren Spiegeldurchmesser hat der Spiegel M4 mit einem maximalen Spiegeldurchmesser von 707,8 mm. Die anderen Spiegel Ml bis M3 sowie M5 bis M7 haben jeweils einen maximalen Spiegeldurchmesser, der kleiner ist als 550 mm. Vier der acht Spiegel haben einen maximalen Spiegeldurchmesser, der kleiner ist als 500 mm.
Fig. 13 zeigt wiederum die Randkonturen der Reflexionsflächen der Spiegel Ml bis M8.
Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 23 können den nachfolgenden Tabellen ent- nommen werden, die in ihrem Aufbau den Tabellen zur Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 entsprechen. Ausführungsbeispiel Fig. 11
NA 0.6
Wellenlänge 13.5 nm beta_x 4.0 beta_y -8.0
Feldgröße_x 26.0 mm
Feldgröße_y 1.0 mm
Feldkrümmung 0.012345 1/mm rms 7.69 ml
Blende AS
Tabelle 1 zu Fig. 11
OberRadius_x[mm] Power_x[1/mm] Radius_y[mm] Power_y[1/mm] Betriebsfläche modus
M8 -976.0549264 0.0020372 -893.9607135 0.0022503 REFL
M7 1605.4488755 -0.0012457 413.7247105 -0.0048341 REFL
M6 10301.5015885 -0.0000380 -21202.8072073 0.0004824 REFL
M5 3635.0365565 -0.0001307 16701.6709302 -0.0005042 REFL
M4 -1820.9646398 0.0010765 -1080.2806166 0.0018888 REFL
M3 4841.0405977 -0.0001 159 -2073.3089952 0.0034384 REFL
M2 1827.2419697 -0.0002758 -14444.8000814 0.0005495 REFL
M1 -2377.3222124 0.0008136 -1375.5962463 0.0015034 REFL
Tabelle 2 zu Fig. 11
Koeffizient M8 M7 M6
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX -976.05492640 1605.44887500 10301.50159000
C7 2.19828378e-10 -6.36356922e-07 4.00562767e-08 C9 -9.98389871 e-10 -3.65016004e-07 -4.12528422e-08 C10 -1.45764106e-1 1 5.71969655e-10 1.08957891 e-10 C12 -2.52771 135e-1 1 2.46670725e-09 -4.70662581 e-1 1 C14 -1.02760462e-1 1 3.54420919e-09 -1.39245857e-10 C16 2.03106665e-15 -1.54734742e-12 -5.12435244e-13 C18 2.6654738e-15 -7.13079933e-12 1.30925964e-13 C20 1.17154825e-15 -4.75131372e-12 -4.62559187e-13 C21 -1.63294322e-17 6.02217641 e-16 -8.74551041 e-16 C23 -5.13321666e-17 1.70725636e-14 2.05417956e-15 C25 -5.16679749e-17 5.1300394e-14 2.82778542e-16 C27 -1.52982188e-17 5.95502512e-14 -1.76294366e-15 C29 2.34938434e-21 -5.87047318e-18 1.79292389e-17 C31 9.53875955e-21 -8.02159693e-17 3.53677984e-18 C33 7.41837531 e-21 -1.44760898e-16 4.75224443e-18 C35 3.17781966e-21 -1.53389098e-16 -8.67749489e-18 C36 -1.74669803e-23 4.64238531 e-21 4.46663739e-20 C38 -8.12917271 e-23 7.97874167e-20 -9.13846086e-20 C40 -1.33686469e-22 5.38558802e-19 4.82591287e-20 C42 -8.89282942e-23 1.35242561 e-18 -1.72228538e-20 C44 -2.1 1369558e-23 1.03204921 e-18 -4.12209424e-20 C46 3.70185157e-27 -1.50196108e-23 -1.29159987e-21 C48 1.71782297e-26 -6.95842931 e-22 -1.39616084e-21 C50 2.22143444e-26 -3.09804936e-21 -2.08627777e-21 Koeffizient M8 M7 M6
C52 1.53089006e-26 -6.98533988e-21 -9.76842727e-22 C54 4.26761031 e-27 -7.26036629e-21 2.22191067e-23 C55 -1.41052783e-29 1.46190475e-26 -2.60137326e-24 C57 -7.4039309e-29 8.85137564e-25 4.26678678e-24 C59 -1.55590461 e-28 4.9319069e-24 -1.47414496e-23 C61 -1.53106603e-28 1.54676307e-23 -9.68568796e-24 C63 -7.24629635e-29 2.28420484e-23 -8.46512694e-24 C65 -1.29675849e-29 1.32974652e-23 1.94534917e-24 C67 3.92163993e-33 -3.06130187e-28 4.60816293e-26 C69 3.32571387e-32 -2.585229e-27 7.15188958e-26 C71 6.41931602e-32 6.54914392e-27 1.76430762e-25 C73 7.54394662e-32 3.13410623e-26 6.6239737e-26 C75 4.59718108e-32 1.00112056e-25 -3.27980476e-26 C77 1.13027094e-32 3.27676767e-25 1.06724729e-26 C78 -4.10206054e-35 -8.70027245e-31 3.4135289e-29 C80 -3.39233217e-34 -3.89320993e-30 -1.06150735e-28 C82 -1.03021092e-33 5.93753999e-30 1.02974453e-27 C84 -1.56850907e-33 1.90450094e-28 9.23265145e-28 C86 -1.28386624e-33 5.05025861 e-28 3.74030197e-28 C88 -5.48685031 e-34 3.6172057e-28 -5.51970409e-29 C90 -9.80914435e-35 1.01240632e-27 1.89034544e-29 C92 -1.39157061 e-39 -4.57873831 e-33 0 C94 -4.31708386e-39 -8.382893e-32 0 C96 -3.44448678e-38 -1.07210993e-30 0 C98 -8.25658658e-38 -5.03791613e-30 0 C100 -1.01825796e-37 -1.28669615e-29 0 C102 -6.84513059e-38 -1.76911459e-29 0 C104 -1.711747e-38 -1.82821708e-29 0 C105 4.649962e-41 8.1726139e-36 0 C107 4.70430643e-40 1.10616456e-34 0 C109 1.81720607e-39 1.18250099e-33 0 cm 3.65304902e-39 6.82975313e-33 0
C113 4.19723988e-39 2.53159388e-32 0 C115 2.7839518e-39 5.81649573e-32 0 C117 1.01869286e-39 8.98654673e-32 0 C119 1.61205615e-40 5.72497092e-33 0 C121 2.29413381 e-44 0 0 C123 1.71241151e-43 0 0 C125 5.53566908e-43 0 0 C127 1.03511867e-42 0 0 C129 1.16673722e-42 0 0 C131 8.00578935e-43 0 0 C133 3.25315947e-43 0 0 C135 5.89466945e-44 0 0 C136 -1.1 1109234e-46 0 0 C138 -1.20653366e-45 0 0 C140 -5.12337794e-45 0 0 C142 -1.18813824e-44 0 0 C144 -1.67120445e-44 0 0 C146 -1.47117042e-44 0 0 C148 -7.95032735e-45 0 0 C150 -2.44327164e-45 0 0 C152 -3.25752244e-46 0 0 Tabelle 3a zu Fig. 11
Koeffizient M5 M4 M3
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX 3635.03655600 -1820.96464000 4841.04059800
C7 2.57009749e-08 -2.1294935e-08 1.36712069e-07 C9 -3.72582374e-08 1.93421757e-07 -8.74500595e-08 C10 7.8233734e-11 -5.89084686e-12 8.62494237e-11 C12 8.02780698e-11 -3.37543666e-11 -1.7088634e-10 C14 2.61049117e-10 -1.32261075e-09 4.48492651 e-11 C16 3.09661447e-13 -1.58818149e-14 2.77450683e-13 C18 2.10045635e-13 -2.15865369e-13 -3.34113276e-13 C20 1.21021701e-12 1.15393712e-12 -5.85921541 e-15 C21 -2.41896476e-16 4.65141242e-18 -5.50559018e-16 C23 9.52938781 e-16 -1.35366331 e-17 -5.52843264e-17 C25 1.39124833e-15 -1.67400723e-15 -4.64366814e-17 C27 6.63375073e-15 -1.05535916e-14 2.5490439e-18 C29 -8.16482841e-19 8.38156716e-21 -7.32373211 e-19 C31 3.59438789e-18 -6.23501959e-19 -9.06845758e-19 C33 8.86781642e-18 -3.90825082e-18 -3.35013376e-19 C35 3.76466129e-17 5.37595901 e-17 -7.91688697e-19 C36 -1.28304836e-21 1.03112096e-23 -9.50827489e-22 C38 -4.52259774e-21 -4.62084609e-23 -6.54130884e-22 C40 1.56604929e-20 -2.7292065e-21 -8.74034942e-23 C42 3.88773358e-20 2.03483548e-20 -6.5838669e-22 C44 1.67428046e-19 2.93995381 e-20 -2.53948758e-21 C46 -3.0360884e-23 5.21312924e-26 -2.68013198e-24 C48 -7.21185982e-23 -1.33972726e-24 -4.9222184e-24 C50 5.18088318e-23 -1.24105283e-24 -4.7933984e-24 C52 6.16975585e-23 3.06933511e-23 -1.70412044e-23 C54 4.24660998e-22 -5.64955517e-22 6.4347066e-24 C55 -1.6271291e-26 4.63650557e-29 -3.42069517e-27 C57 -3.57240815e-25 5.55114689e-28 2.25863789e-27 C59 -6.31556667e-25 -1.84905509e-26 9.28486516e-27 C61 4.61447251e-25 -3.08585922e-25 8.51712637e-26 C63 -3.71561263e-25 -3.12378903e-24 1.7529979e-25 C65 9.5860185e-26 -1.8010687e-23 6.62427176e-26 C67 -2.47265617e-28 5.41712208e-31 -1.55256743e-29 C69 -2.06239914e-27 -2.35057884e-30 1.99164113e-29 C71 -1.5921589e-27 -1.41339304e-28 9.91860891e-29 C73 3.03522588e-27 -9.69554851 e-28 1.00634728e-28 C75 -2.62981493e-27 2.0508857e-27 9.00855813e-28 C77 -2.18840864e-27 6.06084993e-26 -8.26691103e-28 C78 -1.17239422e-32 4.89119743e-35 5.58604671 e-33 C80 -1.16854407e-30 -2.02407723e-33 -3.28747822e-32 C82 -3.08998618e-30 -2.20096684e-32 -1.14542118e-31 C84 -7.89273413e-31 2.74906624e-30 -6.79261258e-31 C86 6.84152967e-30 3.72337204e-29 -3.89967939e-30 C88 -5.7080773e-30 2.22680476e-28 -1.91337022e-30 C90 -3.51317215e-30 3.87680038e-28 -5.50880595e-30 C92 0 -8.38453643e-37 0 C94 0 -3.55006604e-35 0 Koeffizient M5 M4 M3
C96 0 1.26938434e-33 0
C98 0 2.33863016e-32 0
C100 0 2.18103556e-31 0
C102 0 5.016293e-31 0
C104 0 3.62790298e-31 0
C105 0 1.09066038e-40 0
C107 0 -7.25422962e-39 0
C109 0 2.22890362e-37 0
C111 0 6.88589895e-37 0
C113 0 4.02220615e-35 0
C115 0 -1.2216709e-34 0
C117 0 -7.73545378e-34 0
C119 0 1.85443438e-34 0 Tabelle 3b zu Fig. 11
Koeffizient M2 M1
KY 0.00000000 0.00000000
KX 0.00000000 0.00000000
RX 1827.24197000 -2377.32221200
C7 1.56502368e-09 -7.13513756e-08
C9 -6.26911734e-08 9.17471292e-08
C10 1.41230769e-10 8.40766962e-11
C12 -3.04910182e-10 2.91023473e-10
C14 -2.30510407e-11 4.31755807e-12
C16 -3.52691423e-13 -4.53670074e-14
C18 -1.0320651 e-13 -5.95941991e-14
C20 -9.51064717e-14 1.66558381 e-13
C21 9.84316426e-17 1.66149114e-16
C23 -1.35395637e-15 1.32371152e-16
C25 1.21597267e-15 5.833456e-16
C27 -1.1674039e-15 -3.68408362e-17
C29 -7.74261965e-19 -2.40580867e-19
C31 -2.76522987e-19 1.65773059e-18
C33 1.05241218e-18 5.48856019e-20
C35 -5.10437615e-18 -4.42162143e-19
C36 -3.81741873e-22 2.43979093e-23
C38 -2.88594691 e-21 1.66336126e-21
C40 5.24127138e-21 -3.88130319e-21
C42 -3.41854736e-21 -1.10874925e-20
C44 -1.25112141e-20 -4.08279493e-21
C46 -4.9140382e-24 -2.57343371 e-25
C48 -1.97383935e-24 -1.97810927e-24
C50 1.54345126e-23 7.29885252e-24
C52 -2.12401718e-23 4.19211248e-23
C54 -2.0430002e-23 9.62634178e-23
C55 1.23131058e-26 -6.15974781 e-28
C57 -2.05893454e-26 -9.39989994e-27
C59 1.38955401e-26 2.09944038e-26
C61 3.74456493e-26 2.7448534e-25
C63 1.73774336e-26 1.00440987e-24
C65 1.25560997e-25 8.58767365e-25
C67 -3.17910229e-30 6.91958428e-31 Koeffizient M2 M1
C69 -4.10898094e-29 4.696358e-29 C71 1.75258658e-29 6.04823906e-29 C73 -1.04296772e-28 4.77800782e-28 C75 6.93775083e-28 -6.02584377e-29 C77 9.48135271 e-28 -6.53478917e-27 C78 -1.23543362e-31 1.39551165e-32 C80 2.24525835e-31 1.34737938e-31 C82 5.09289774e-31 1.31968764e-32 C84 3.55196448e-31 -2.26117025e-30 C86 -6.08086773e-32 -1.48860877e-29 C88 1.95350165e-30 -4.62935115e-29 C90 1.69949878e-30 -1.38625073e-29 C92 0 1.78614456e-35 C94 0 -1.46012632e-34 C96 0 1.16037236e-34 C98 0 8.65517951 e-34 C100 0 -3.13867819e-33 C102 0 3.97265573e-32 C104 0 9.3511929e-32 C105 0 -4.77493951 e-38 C107 0 -7.34006931 e-37 C109 0 -1.17359681 e-36 C111 0 7.86504888e-36 C113 0 6.86341896e-35 C115 0 3.49056747e-34 C117 0 7.18775288e-34 C119 0 2.32566387e-34
Tabelle 3c zu Fig. 11
Oberfläche DCX DCY DCZ
Blendenebene 0.00000000 0.00000000 0 .00000000
M8 0.00000000 0.00000000 848.28205269 M7 0.00000000 -162.88773890 109.30511934 M6 0.00000000 65.26456604 1144.36946351 M5 0.00000000 232.71909805 1381 .58868170 M4 0.00000000 709.32039347 1630.18877097 M3 0.00000000 -458.15012351 1529.45343974 M2 0.00000000 -838.71048856 1239.83802566 Blende 0.00000000 -994.31028446 889.36154956 M1 0.00000000 -1164.93718040 505.03769572
Objektebene 0.00000000 -1338.70151052 2200.17508279 Tabelle 4a zu Fig. 11
Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
Blendenebene -0.00000000 0.00000000 -0.00000000
M8 -6.21527522 0.00000000 -0.00000000
M7 -12.43055045 180.00000000 0.00000000
M6 66.17547111 0.00000000 -0.00000000
M5 41.16424832 0.00000000 180.00000000
M4 -73.76071870 0.00000000 -0.00000000
M3 21.10177461 0.00000000 180.00000000
M2 51.66618772 0.00000000 -0.00000000 Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
Blende -21.28832791 180.00000000 0.00000000 M1 -9.04340489 180.00000000 0.00000000
Objektebene 0.35280539 0.00000000 -0.00000000 Tabelle 4b zu Fig. 11
Oberfläche Einfallswinkel [deg] Reflektivität
M8 6.18142908 0.66168421 M7 0.1 1878457 0.66566427 M6 78.72475666 0.86107409 M5 76.26057332 0.82458650 M4 1 1.42975349 0.65103680 M3 73.70682018 0.78091870 M2 75.40680465 0.81073422 M1 14.74080091 0.64008245
Gesamttransmission 0.0825
Tabelle 5 zu Fig. 11
X[mm] Y[mm] Z[mm]
0.00000000 86.20922226 0.00000000 36.72382480 84.97541559 0.00000000 72.60627184 81.30635297 0.00000000 106.81704274 75.30020814 0.00000000 138.54746210 67.12445749 0.00000000 167.02142858 57.020951 16 0.00000000 191.50920870 45.30980142 0.00000000 21 1.34639358 32.38840096 0.00000000 225.95894895 18.72172915 0.00000000 234.89419168 4.82024813 0.00000000 237.85573593 -8.79637599 0.00000000 234.73598499 -21.64530437 0.00000000 225.63532277 -33.32461514 0.00000000 210.85823653 -43.54394285 0.00000000 190.88425204 -52.13722338 0.00000000 166.321481 17 -59.05987397 0.00000000 137.85765833 -64.37417564 0.00000000 106.22378637 -68.22254961 0.00000000 72.17738489 -70.78761836 0.00000000 36.50050531 -72.24403204 0.00000000 0.00000000 -72.71484378 0.00000000 -36.50050531 -72.24403204 0.00000000 -72.17738489 -70.78761836 0.00000000 -106.22378637 -68.22254961 0.00000000 -137.85765833 -64.37417564 0.00000000 -166.321481 17 -59.05987397 0.00000000 -190.88425204 -52.13722338 0.00000000 -210.85823653 -43.54394285 0.00000000 -225.63532277 -33.32461514 0.00000000 -234.73598499 -21.64530437 0.00000000 -237.85573593 -8.79637599 0.00000000 -234.89419168 4.82024813 0.00000000 -225.95894895 18.72172915 0.00000000 -21 1.34639358 32.38840096 0.00000000 X[mm] Y[mm] Z[mm]
-191.50920870 45.30980142 0.00000000 -167.02142858 57.020951 16 0.00000000 -138.54746210 67.12445749 0.00000000 -106.81704274 75.30020814 0.00000000 -72.60627184 81.30635297 0.00000000 -36.72382480 84.97541559 0.00000000
Tabelle 6 zu Fig. 11
Die Projektionsoptik 23 hat eine Gesamttransmission von etwa 8 %. Die Projektionsoptik 23 hat ein Bildfeld 8 mit einer x-Dimension von 2 mal 13 mm und einer y- Dimension von 1,0 mm. Das Bildfeld liegt gekrümmt mit einem absoluten Krümmungsradius von 81 mm vor. Die Projektionsoptik 23 hat eine bildseitige numerische Apertur von 0,60.
In der ersten Abbildungslicht-Ebene xz ist der Verkleinerungsfaktor ßx 4,00. In der zweiten Ab- bildungslicht-Ebene yz ist der Verkleinerungsfaktor ßy -8,00. Ein objektfeldseitiger Hauptstrahlwinkel beträgt 5,4°. Eine maximale Pupillenobskuration beträgt 11 %. Die Projektionsoptik 23 hat eine Gesamttransmission von etwa 6,8 %.
Ein Objekt-Bildversatz dois beträgt etwa 1340 mm. Die Spiegel der Projektionsoptik 23 können in einem Quader mit xyz-Kantenlängen 1060 mm x 2025 mm x 1634 mm untergebracht werden.
Bei der Projektionsoptik 23 verlaufen die Objektebene 5 und die Bildebene 9 unter einem Winkel von 0,4° zueinander. Ein Arbeitsabstand zwischen dem wafernächsten Spiegel M7 und der Bildebene 9 beträgt 77 mm. Ein mittlerer Wellenfrontfehler rms beträgt etwa 7,69 ηιλ.
Anhand der Fig. 14 bis 16 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer Projektionsoptik 24 erläutert, die anstelle der Projektionsoptik 7 bei der Projektionsbelichtungsanlage 1 nach Fig. 1 zum Einsatz kommen kann.
Komponenten und Funktionen, die vorstehend im Zusammenhang mit den Fig. 1 bis 13 bereits erläutert wurden, tragen gegebenenfalls die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. Die Spiegel Ml bis M8 sind wiederum als Freiformfiächen-Spiegel ausgeführt, für die die vorstehend angegebene Freiformflächengleichung (1) gilt.
Die nachfolgende Tabelle zeigt wiederum die Spiegelparameter der Spiegel Ml bis M8 der Pro- jektionsoptik 24.
Der Spiegel M4 hat ein x/y- Aspektverhältnis von etwa 3,1.
Ml M2 M3 M4 M5 M6 M7 M8
maximaler
18.2 82.1 80.4 12.9 83.8 81.7 20.6
Einfallswinkel [°] im
Reflexionsflächen- erstreckung in 469.6 320.2 364.3 579.8 330.3 162.0 273.1 871.9
x-Richtung [mm]
Reflexionsflächen- erstreckung in 237.5 354.0 308.4 190.1 255.4 257.5 206.0 857.9
y-Richtung [mm] 15
maximaler
Spiegeldurchmesser 469.8 368.1 364.8 579.9 338.1 266.6 273.2 872.3
[mm]
Den größten Spiegeldurchmesser hat der letzte Spiegel M8 von etwa 872,3 mm. Keiner der an- deren Spiegeln Ml bis M7 hat einen größeren Durchmesser als 580 mm. Fünf der sieben Spiegel haben einen kleineren maximalen Durchmesser als 350 mm. Keiner der GI-Spiegel hat einen maximalen Spiegeldurchmesser, der größer ist als 370 mm.
Fig. 16 zeigt die Randkonturen der Reflexionsflächen der Spiegeln Ml bis M8.
Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 24 können den nachfolgenden Tabellen entnommen werden, die in ihrem Aufbau den Tabellen zur Projektionsoptik 7 nach Fig. 2 entsprechen.
Ausführungsbeispiel Fig. 14
NA 0.55
Wellenlänge 13.5 nm beta_x 4.0 beta_y -8.0 Feldgröße_x 26.0 mm
Feldgröße_y 1.2 mm Feldkrümmung 0.012345 1/mm rms 7.7 ml Blende AS
Tabelle 1 zu Fig. 14
OberRadius_x[mm] Power_x[1/mm] Radius_y[mm] Power_y[1/mm] Betriebsfläche modus
M8 -846.9724012 0.0023447 -826.8226473 0.0024360 REFL
M7 853.1079988 -0.0023444 521.1284629 -0.0038378 REFL
M6 12387.0674460 -0.0000385 -7874.4479637 0.0010664 REFL
M5 3684.7892162 -0.0001 153 -415388.1 158876 0.0000227 REFL
M4 -1890.0093745 0.0010377 -1 179.0939089 0.0017297 REFL
M3 1914.3380123 -0.0002630 -3265.5960252 0.0024327 REFL
M2 1009.3281633 -0.0005199 -8476.1578337 0.0008993 REFL
M1 -1839.1919908 0.0010399 -1533.5196808 0.0013638 REFL
Tabelle 2 zu Fig. 14
Koeffizient M8 M7 M6
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX -846.97240120 853.10799880 12387.06745000
C7 1.2320395e-08 -1.10223453e-06 4.71730563e-08 C9 -1.16005845e-09 -2.98278131 e-07 -5.3389029e-08 C10 -2.0423661 1 e-1 1 1.78106299e-09 9.05156021 e-1 1 C12 -4.54132962e-1 1 6.1235371 1 e-09 -1.03359082e-1 1 C14 -2.40367475e-1 1 5.08477087e-09 -1.64730548e-10 C16 1.77843692e-14 -8.07912869e-12 -5.57266573e-14 C18 2.01 124106e-14 -1.6167378e-1 1 -9.91603275e-14 C20 4.10729539e-15 -7.359141 15e-12 -4.67930188e-13 C21 -3.20814752e-17 9.41630194e-15 -7.15980298e-16 C23 -1.06488731 e-16 6.391 17479e-14 1.381 10923e-16 C25 -1.14439569e-16 1.061 17399e-13 -1.04361583e-15 C27 -3.77999342e-17 4.96949958e-14 1.73894357e-16 C29 2.60054296e-20 -8.06963682e-17 2.75272685e-18 C31 5.50028986e-20 -2.96316741 e-16 -7.50105218e-18 C33 3.70562779e-20 -3.00433027e-16 -6.94368156e-19 C35 1.42854705e-20 -2.2964871 1 e-16 4.26271462e-18 C36 -4.60596848e-23 6.9213141 1 e-20 9.05436047e-21 C38 -2.05873444e-22 7.7464303e-19 -1.33099001 e-19 C40 -3.3383545e-22 2.15541971 e-18 -4.181 1 1548e-20 C42 -2.27079989e-22 2.70298127e-18 -5.40235414e-21 C44 -6.30295138e-23 1.40217381 e-18 -2.84168534e-20 C46 3.75400319e-26 -1.14341942e-21 -6.32863915e-22 C48 1.10078875e-25 -5.43635692e-21 4.69331841 e-22 C50 1.26265607e-25 -9.32893259e-21 5.77175439e-22 C52 8.33497479e-26 -1.13644482e-20 -2.98864274e-22 C54 2.00021285e-26 -6.04762304e-21 -2.34720669e-22 C55 -5.91 182486e-29 1.16957749e-24 7.21565155e-24 C57 -3.1494251 e-28 1.2279641 1 e-23 -1.28570543e-25 C59 -6.57074254e-28 3.55297455e-23 2.24855854e-23 C61 -6.6062298e-28 5.08203578e-23 -1.55822253e-25 izient M8 M7 M6
C63 -3.3623666e-28 2.31215095e-23 -6.517115e-25
C65 -6.04041979e-29 -1.25746228e-23 9.46438643e-25
C67 7.42620668e-32 -5.15614263e-28 1.1 1822802e-25
C69 3.03590667e-31 -5.75779942e-26 -2.24690875e-26
C71 5.33963015e-31 -2.80774548e-25 -6.01942492e-27
C73 5.21323573e-31 -7.52374968e-25 -2.19602179e-26
C75 2.59187184e-31 -8.50473137e-25 1.43241195e-26
C77 -8.62385553e-33 1.13161567e-25 1.02565112e-26
C78 -1.46891831 e-34 8.75817967e-32 -1.38339869e-27
C80 -1.00682817e-33 1.87433e-29 3.62550261 e-28
C82 -2.88560889e-33 1.00248412e-27 -5.85727759e-28
C84 -4.13548699e-33 4.67230535e-27 -5.29132467e-28
C86 -3.3652948e-33 9.51617567e-27 1.70844702e-29
C88 -1.60170466e-33 9.06067387e-27 5.25684627e-29
C90 -2.60609186e-34 3.37692234e-27 2.06314078e-29
C92 -2.01160817e-38 -5.48890415e-31 0
C94 -1.07137119e-37 -3.31305082e-30 0
C96 -3.65980529e-37 -5.7458122e-30 0
C98 -5.30998728e-37 -2.43038114e-30 0
C100 -5.48265982e-37 2.81796705e-29 0
C102 -4.91185122e-37 6.15964021e-29 0
C104 5.16017552e-38 3.1 1055245e-30 0
C105 1.30887811e-40 8.41812594e-36 0
C107 1.08604904e-39 7.7469187e-33 0
C109 4.28513307e-39 1.21879325e-32 0
C111 8.34074932e-39 -6.262806e-32 0
C113 8.89084695e-39 -2.88292697e-31 0
C115 6.12303433e-39 -6.81118618e-31 0
C117 3.29331725e-39 -7.0452395e-31 0
C119 4.85587891 e-40 -2.43594128e-31 0
C121 4.2188167e-43 1.53572715e-36 0
C123 2.4324299e-42 -7.53625277e-36 0
C125 6.75774304e-42 -2.29876953e-34 0
C127 1.07671213e-41 -9.43774343e-34 0
C129 1.02263161 e-41 -1.73631618e-33 0
C131 5.96074699e-42 -2.628547e-33 0
C133 2.39193735e-42 -2.9304751 e-33 0
C135 2.42057211e-43 -6.02371961 e-34 0
C136 -7.41800075e-46 4.48389771 e-39 0
C138 -6.68889241 e-45 -3.30564593e-38 0
C140 -2.65690996e-44 4.1 1242391e-37 0
C142 -5.79200648e-44 4.15570507e-36 0
C144 -7.67227313e-44 1.28277521e-35 0
C146 -6.4258078e-44 2.39774859e-35 0
C148 -3.43925844e-44 3.45224439e-35 0
C150 -1.23729775e-44 2.88769432e-35 0
C152 -1.80030431 e-45 9.78156794e-36 0
Tabelle 3a zu Fig. 14
Koeffizient M5 M4 M3
KY 0.00000000 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 0.00000000 RX 3684.78921600 -1890.00937500 1914.33801200 Koeffizient M5 M4 M3
C7 -1.18441223e-07 4.82838464e-09 2.64819336e-07
C9 -7.56475041 e-08 3.49378793e-07 -6.38036447e-08
C10 6.04878431 e-11 -1.84051484e-12 4.64197765e-11
C12 -2.23709381 e-10 1.09280358e-10 6.18069921e-11
C14 1.562198e-10 -7.28651667e-10 7.83230576e-11
C16 3.34028351e-14 2.38952065e-14 4.12679488e-13
C18 -3.00086748e-13 -1.96777276e-13 -4.32270063e-13
C20 4.68319284e-13 1.35355146e-12 8.40087274e-14
C21 -4.0702865e-16 7.40532658e-18 -8.81423887e-16
C23 -2.36288628e-16 1.00712117e-18 9.92956862e-16
C25 -4.97432802e-16 7.598711e-17 -3.686827e-16
C27 1.81191641e-15 7.88304423e-17 -8.23646195e-17
C29 -2.06197001e-18 1.384685e-20 -1.1842489e-18
C31 1.13052156e-19 -2.57856348e-19 1.96732721e-20
C33 -1.90139505e-18 4.80769598e-18 1.26971686e-18
C35 3.95527556e-18 2.77912532e-17 -7.90318924e-19
C36 -5.35303599e-21 1.69716842e-23 -3.14125518e-21
C38 7.68100312e-21 -1.48206479e-22 1.43308149e-21
C40 -7.2244406e-22 3.42034323e-21 -4.99750813e-21
C42 -2.4634504e-20 3.6436736e-20 7.70706811e-21
C44 -2.00431385e-21 -2.45500848e-19 2.74487979e-21
C46 5.18193203e-23 -1.01297263e-25 -1.44657698e-23
C48 8.75679392e-23 4.79637256e-25 2.74117762e-24
C50 -3.53128094e-23 9.94327619e-24 -1.03711253e-23
C52 -6.60467887e-23 -5.22184057e-22 -2.92843985e-23
C54 1.51518204e-22 1.07459088e-21 1.12713962e-23
C55 1.59948709e-25 -8.20323086e-29 -1.77185804e-26
C57 1.77247597e-25 -2.74918664e-27 3.96509337e-26
C59 -7.63267432e-26 -1.97739674e-26 -3.49426355e-26
C61 4.43767655e-26 -3.78630703e-25 3.46924008e-26
C63 4.79776834e-25 -9.93260359e-25 -1.91536464e-25
C65 2.33370237e-24 1.99117001 e-24 -2.90090272e-26
C67 -6.22107865e-28 -3.47445925e-31 1.54529133e-29
C69 -2.80330445e-27 8.00579883e-30 2.22647601 e-28
C71 -2.7708788e-28 8.66604501 e-30 -3.78783104e-28
C73 -4.70246478e-28 2.29017464e-27 3.59269229e-28
C75 4.3527901 e-27 5.39425603e-26 8.58505666e-28
C77 1.12154448e-26 -8.33422427e-26 -2.07149081e-28
C78 -1.09052444e-30 8.02911291e-34 2.88900861 e-31
C80 -7.89753097e-30 4.92272668e-32 -7.56973433e-31
C82 -6.22313726e-30 7.30249575e-31 -1.96564197e-31
C84 4.94271486e-31 3.92211632e-30 2.72814487e-30
C86 -5.27875299e-30 5.30860827e-29 -3.72111076e-30
C88 1.13764862e-29 1.17646094e-28 2.94159718e-30
C90 1.82757598e-29 -1.25531699e-30 -9.02850462e-31
C92 0 7.83484698e-36 0
C94 0 9.01532973e-35 0
C96 0 -4.79518858e-34 0
C98 0 -5.81406734e-34 0
C100 0 -2.90065241 e-31 0
C102 0 -4.77939068e-30 0
C104 0 2.48822193e-30 0
C105 0 -7.9516104e-39 0
C107 0 -3.36132761 e-37 0 Koeffizient M4 M3
C109 -7.97463555e-36 0 C111 -7.1384024e-35 0 C113 -1.23920171 e-34 0 C115 -6.7658379e-33 0 C117 -1.07711846e-32 0 C119 -6.20607675e-33 0 C121 -3.42863929e-41 0 C123 -1.19294188e-39 0 C125 -5.42537125e-39 0 C127 9.13126811e-38 0 C129 -9.62175253e-37 0 C131 1.28691362e-35 0 C133 1.83991188e-34 0 C135 -5.1 120586e-35 0 C136 2.80529867e-44 0 C138 7.81010551e-43 0 C140 2.50483237e-41 0 C142 4.37654706e-40 0 C144 1.40349982e-39 0 C146 1.49878457e-39 0 C148 3.40726155e-37 0 C150 1.41219028e-37 0 C152 8.65494549e-37 0
Tabelle 3b zu Fig. 14
Koeffizient M2 M1
KY 0.00000000 0.00000000 KX 0.00000000 0.00000000 RX 1009.32816300 -1839.19199100
C7 1.15791194e-07 -2.10330873e-08 C9 2.81311304e-08 5.71004481 e-08 C10 4.01603347e-10 4.59920641 e-11 C12 8.47431965e-11 3.20362129e-11 C14 9.19800647e-11 -3.17268047e-10 C16 -1.8578156e-13 -5.62526332e-14 C18 1.88101838e-13 -1.96202126e-13 C20 3.44146806e-13 1.22222735e-12 C21 1.15227647e-15 1.03457192e-16 C23 3.0610184e-16 2.14948323e-16 C25 1.98806887e-15 1.63315386e-15 C27 3.999433e-16 -1.33842851 e-15 C29 ■4.50764941 e-18 1.51178198e-21 C31 ■1.13520012e-18 6.18047072e-19 C33 6.60379251 e-18 -1.12071413e-18 C35 •1.74979748e-18 1.14458337e-17 C36 2.95341334e-21 1.98193002e-22 C38 2.46269942e-21 7.84748626e-22 C40 1.36636713e-20 -5.27670983e-22 C42 1.5532345e-20 2.44131348e-21 C44 ■1.17688916e-21 -6.42589825e-20 C46 ■6.18840191e-23 2.95669522e-24 C48 ■2.51133676e-23 2.00150274e-23 Koeffizient M2 M1
C50 3.0813624Θ-23 4.43919683e-23
C52 -4.22236698Θ-23 -1.64910744e-23
C54 6.54578986e-23 4.32519 92e-22
C55 2.15112054e-25 -9.51670115e-28
C57 1.51154184e-25 -1.86216769e-26
C59 8.91248971e-26 -4.4849987e-26
C61 2.63763707e-25 4.12891153e-25
C63 2.0115816e-25 2.46668429e-24
C65 3.67076445e-25 7.34843371 e-25
C67 -7.24836449e-28 -5.59655462e-29
C69 -7.70098473e-28 -7.1 1547944e-28
C71 -6.62633874e-28 -3.24543794e-27
C73 1.00156146e-27 -1.97472208e-27
C75 3.5914817e-27 3.23563967e-27
C77 9.53490791 e-28 -9.64699548e-27
C78 -2.46263824e-30 -2.12417285e-33
C80 7.61167971 e-32 2.7946236e-31
C82 1.847629e-30 5.37219032e-31
C84 2.28947077e-30 -8.78841496e-30
C86 2.84930933e-30 -7.51226179e-29
C88 9.09305572e-30 -1.65688665e-28
C90 1.09479255e-30 -8.37782627e-29
C92 0 7.67960769e-34
C94 0 1.35391537e-32
C96 0 9.00825477e-32
C98 0 2.75308176e-31
C100 0 1.2784506e-31
C102 0 -3.88159724e-31
C104 0 2.07989087e-31
C105 0 2.12255803e-37
C107 0 -1.4203208e-36
C109 0 1.53126381e-36
C111 0 2.08254131 e-34
C113 0 1.37075784e-33
C115 0 5.1 1989116e-33
C117 0 8.17509278e-33
C119 0 3.7508084e-33
C121 0 -3.93652753e-39
C123 0 -9.55254973e-38
C125 0 -7.79678377e-37
C127 0 -3.53176885e-36
C129 0 -7.68950802e-36
C131 0 1.02208584e-36
C133 0 4.31237688e-36
C135 0 4.47529766e-36
C136 0 -1.42825014e-42
C138 0 -7.8391962e-42
C140 0 -1.33765614e-40
C142 0 -1.8482486e-39
C144 0 -1.33522767e-38
C146 0 -5.18348707e-38
C148 0 -1.50711848e-37
C150 0 -1.3717832e-37
C152 0 -1.16771891e-37 Tabelle 3c zu Fig. 14
Oberfläche DCX DCY DCZ
Blendenebene 0.00000000 0.00000000 0.00000000
M8 0.00000000 0.00000000 764.87463088 M7 0.00000000 -158.53849802 1 13.21489784
0 0.00000000 0.00000000 764.87463088 M6 0.00000000 86.34182753 1 1 19.77576203 M5 0.00000000 333.1 1529690 1400.28752103
0 0.00000000 537.84440339 1491 .60942852 M4 0.00000000 932.59477536 1667.69263218
0 0.00000000 500.55820963 1654.36759348 M3 0.00000000 -245.43161019 1631 .35948722 M2 0.00000000 -754.40672617 1327.40237617 Blende 0.00000000 -928.07425481 1016.19380735 M1 0.00000000 -1 164.61229001 592.32260943
Objektebene 0.00000000 -1306.78021 133 2164.1 1 1 15577 Tabelle 4a zu Fig. 14
Oberfläche TLA[deg] TLB[deg] TLC[deg]
Blendenebene -0.00000000 0.00000000 -0.00000000
M8 -6.83676056 0.00000000 -0.00000000
M7 -13.673521 1 1 180.00000000 0.00000000
0 -6.83676056 0.00000000 -0.00000000
M6 62.49377625 0.00000000 -0.00000000
M5 36.35045780 0.00000000 180.00000000
0 -65.96015802 0.00000000 -0.00000000
M4 -77.09678973 0.00000000 -0.00000000
0 -88.23342144 180.00000000 0.00000000
M3 16.30599639 0.00000000 180.00000000
M2 45.84102562 0.00000000 -0.00000000
Blende 10.38881906 180.00000000 0.00000000
M1 -1 1.99751813 180.00000000 0.00000000
Objektebene 0.16832671 0.00000000 -0.00000000 Tabelle 4b zu Fig. 14
Oberfläche Einfallswinkel [deg] Reflektivität
M8 6.80012089 0.66080000 M7 0.10985487 0.66566394 M6 76.22085727 0.82395733 M5 77.73256209 0.84694751 M4 1 1.29255719 0.65141292 M3 75.41836224 0.81092646 M2 74.78959663 0.80027009 M1 17.00752705 0.63022445
Gesamttransmission 0.0818
Tabelle 5 zu Fig. 14
X[mm] Y[mm] Z[mm]
0.00000000 90.04906552 0.00000000 27.17672876 88.8042781 1 0.00000000 X[mm] Y[mm] Z[mm]
53.75800651 85.10509967 0.00000000
79.15063786 79.05636488 0.00000000
102.7671 1337 70.83014507 0.00000000
124.03168128 60.661 19735 0.00000000
142.391 18547 48.84039770 0.00000000
157.33281 155 35.70702920 0.00000000
168.40917370 21.64080208 0.00000000
175.26797040 7.05330433 0.00000000
177.68020215 -7.62340188 0.00000000
175.55982644 -21.95350582 0.00000000
168.97007983 -35.51873897 0.00000000
158.1 1599180 -47.941 10633 0.00000000
143.32617194 -58.90548689 0.00000000
125.02877485 -68.18143822 0.00000000
103.72645526 -75.64056189 0.00000000
79.97390644 -81.26286617 0.00000000
54.35988096 -85.12393131 0.00000000
27.49435009 -87.35550229 0.00000000
0.00000000 -88.08219552 0.00000000
-27.49435009 -87.35550229 0.00000000
-54.35988096 -85.12393131 0.00000000
-79.97390644 -81.26286617 0.00000000
-103.72645526 -75.64056189 0.00000000
-125.02877485 -68.18143822 0.00000000
-143.32617194 -58.90548689 0.00000000
-158.1 1599180 -47.941 10633 0.00000000
-168.97007983 -35.51873897 0.00000000
-175.55982644 -21.95350582 0.00000000
-177.68020215 -7.62340188 0.00000000
-175.26797040 7.05330433 0.00000000
-168.40917370 21.64080208 0.00000000
-157.33281 155 35.70702920 0.00000000
-142.391 18547 48.84039770 0.00000000
-124.03168128 60.661 19735 0.00000000
-102.7671 1337 70.83014507 0.00000000
-79.15063786 79.05636488 0.00000000
-53.75800651 85.10509967 0.00000000
-27.17672876 88.8042781 1 0.00000000
Tabelle 6 zu Fig. 14
Die Projektionsoptik 24 hat eine Bildfeldgröße in der x-Richtung von zweimal 13,0 mm und in der y-Richtung von 1 ,2 mm.
Eine bildseitige numerische Apertur beträgt bei der Projektionsoptik 24 0,55. Ein Verkleinerungsfaktor beträgt in der ersten Abbildungslicht-Ebene xz 4,00 (ßx) und in der zweiten Abbildungslicht-Ebene yz -8,00 (ßy). Ein objektseitiger Hauptstrahlwinkel CRA beträgt 4,9°. Eine Pupillenobskuration beträgt maximal 17 %. Die Projektionsoptik 24 hat eine Gesamttransmission von etwa 8 %.
Ein Objekt-Bildversatz dois beträgt bei der Projektionsoptik 24 etwa 1310 mm. Die Spiegel der Projektionsoptik 24 können in einem Quader mit den xyz-Kantenlängen 872 mm x 2229 mm x 1678 mm untergebracht werden.
Bei der Projektionsoptik 24 ist die Objektebene 5 um die x- Achse relativ zur Bildebene 9 um 0,2° verkippt. Ein Arbeitsabstand zwischen dem wafernächsten Spiegeln M7 und der Bildebene 9 beträgt 80 mm. Ein mittlerer Wellenfrontfehler rms beträgt etwa 7,7 ηιλ.
Einige Daten vorstehend beschriebener Projektionsoptiken sind in den nachfolgenden Tabellen I und II nochmals zusammengefasst. Die jeweils erste Spalte dient zur Zuordnung der Daten zum jeweiligen Ausführungsbeispiel.
In der nachfolgenden Tabelle I sind die optischen Parameter numerische Apertur (NA), Bildfeldausdehnung in x-Richtung (Fieldsize X), Bildfeldausdehnung in y-Richtung (Fieldsize Y), Bildfeldkrümmung (Field Curvature) und Gesamt-Reflektivität beziehungsweise Systemtransmission (Transmission) zusammengefasst.
In der nachfolgenden Tabelle II sind die Parameter„Abfolge des Spiegeltyps" (Mirror Type Order),„Abfolge der Spiegel-Umlenkwirkung" (Mirror Rotation Order),„Brechkraftabfolge in der xz-Ebene" (x Power Order) sowie„Brechkraftabfolge in der yz-Ebene" (y Power Order) ange- geben. Diese Abfolgen beginnen jeweils mit dem letzten Spiegel im Strahlengang, folgen also der umgekehrten Strahlrichtung. Die Abfolge„LORRLLLR" bezieht sich auf die Umlenkwirkung in der Reihenfolge M8 bis Ml, beispielsweise bei der Ausführung nach Fig. 2.
FIG. NA FIELDSIZE X FIELDSIZE Y FIELD CURVATURE TRANSMISSION%
2 0,55 26 1 0,0123455 8,21
5 0,55 26 1,2 0,0123455 8,18
8 0,55 26 1,2 0,0123455 8,15
11 0,6 26 1 0,0123455 8,25
14 0,55 26 1,2 0,0123455 8,18 Tabelle I
MIRROR TYPE MIRROR ROTATION
FIG xPOWER ORDER yPOWER ORDER
ORDER ORDER
2 N NGGNGGN LO LLL +— +-+ +-+-++++
5 N NGGNGGN LORRLLLR +— +-+ +-++++++
8 N NGGNGGN LORRLLLR +-+-+-+ +-+-++++
11 N NGGNGGN LORRLLLR +— +-+ +-+-++++
14 N NGGNGGN LORRLLLR +— +-+ +-++++++
Tabelle II Beim Spiegeltyp bezieht sich die Angabe„N" auf einen normal incidence (Nl)-Spiegel und die Bezeichnung„G" auf einen grazing incidence (Gl)-Spiegel. Bei den Brechkraftabfolgen steht „+" für eine konkave und„-" für eine konvexe Spiegelfläche. Beim Vergleich der Brechkraftabfolgen in x und y ist zu sehen, dass beispielsweise die Ausführungen nach den Fig. 2 und 11 identische Brechkraft- Abfolgen haben. Die Ausführungen nach den Fig. 2, 5, 11 und 14 haben in x identische Brechkraft- Abfolgen. Die Ausführungen nach den Fig. 2, 8 und 11 haben in y identische Brechkraftabfolgen. Die Ausführungen nach den Fig. 5 und 14 haben in y identische Brechkraftabfolgen. Die Brechkraft- Abfolge der Ausführung nach Fig. 8 in x unterscheidet sich von derjenigen aller anderen Ausführungen. Spiegel mit unterschiedlichen Vorzeichen der Brechkraft in x und y stellen Sattelflächen beziehungsweise torische Flächen dar. Soweit in ei- nem der Ausführungsbeispiele GI-Spiegel auftreten, treten diese jeweils zumindest paarweise auf, wie der Spiegeltyp- Abfolge in der Tabelle II zu entnehmen ist.
Zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauteils wird die Projektionsbelichtungs- anlage 1 folgendermaßen eingesetzt: Zunächst werden die Reflexionsmaske 10 beziehungsweise das Retikel und das Substrat beziehungsweise der Wafer 11 bereitgestellt. Anschließend wird eine Struktur auf dem Retikel 10 auf eine lichtempfindliche Schicht des Wafers 11 mithilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 projiziert. Durch Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht wird dann eine Mikro- oder Nanostruktur auf dem Wafer 11 und somit das mikrostrukturierte Bauteil erzeugt.

Claims

Patentansprüche
1. Abbildende Optik (7; 21; 22; 23; 24) für die Projektionslithographie
mit einer Mehrzahl von Spiegeln (Ml bis M8) zur Führung von Abbildungslicht (3) von einem Objektfeld (4) in einer Objektebene (5) in ein Bildfeld (8) in einer Bildebene (9) längs eines Abbildungslicht-Strahlengangs,
wobei das Objektfeld (4) aufgespannt ist von
einer ersten kartesischen Objektfeldkoordinate (x) längs einer ersten, größeren Objektfelddimension und
einer zweiten kartesischen Objektfeldkoordinate (y) längs einer zweiten Objektfelddimension, die kleiner ist als die erste Objektfelddimension,
wobei die abbildende Optik (7; 21; 22; 23; 24) mindestens zwei Gl-Spiegel (M2, M3,
M5, M6) aufweist,
wobei die abbildende Optik (7; 21; 22; 23; 24) mindestens einen Nl-Spiegel (M4) aufweist, der zwischen zwei GI-Spiegeln (M3, M5) im Abbildungslicht-Strahlengang angeordnet ist,
wobei eine genutzte Reflexionsfläche des NI-Spiegels (M4) ein Aspektverhältnis (x/y) zwischen
einer Flächendimension längs einer ersten Reflexionsflächenkoordinate (x) und einer Flächendimension längs einer zweiten Reflexionsflächenkoordinate (y) parallel zur zweiten Objektfelddimension aufweist,
— das kleiner ist als 4,5.
2. Abbildende Optik nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch mindestens vier Gl-Spiegel (M2, M3, M6, M7).
3. Abbildende Optik nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch mindestens drei GI- Spiegel (M2, M3, M5),
wobei eine genutzte Reflexionsfläche dieser drei Gl-Spiegel (M2, M3, M5) ein Aspektverhältnis (x/y) zwischen
einer Flächendimension längs einer ersten Reflexionsflächenkoordinate (x) und einer Flächendimension längs einer zweiten Reflexionsflächenkoordinate (y) parallel zur zweiten Objektfelddimension aufweist,
— das größer ist als 1.
Abbildende Optik (7; 24) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein größter Durchmesser einer genutzten Reflexionsfläche der GI-Spiegel der abbildenden Optik (7) kleiner ist als 400 mm.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass ein größter Durchmesser einer genutzten Reflexionsfläche jedes Spiegels (Ml bis M8) der abbildenden Optik (22) kleiner ist als 850 mm.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die genutzten Reflexionsflächen der Spiegel der abbildenden Optik (21) in einem Quader untergebracht werden können, dessen Kantenlänge in Richtung einer Bildfeldkoordinate (y), die parallel zur zweiten kartesischen Objektfeldkoordinate verläuft, kleiner ist als 2000 mm.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch eine bildseitige numerisch Apertur von mindestens 0,5.
Optisches System
mit einer abbildenden Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
mit einer Beleuchtungsoptik (6) zur Beleuchtung des Objektfeldes (4) mit Beleuchtungslicht (3) einer Lichtquelle (2).
Projektionsbelichtungsanlage mit einem optischen System nach Anspruch 8 und mit einer Lichtquelle (2) zur Erzeugung des Beleuchtungslichts (3). Verfahren zur Herstellung eines strukturierten Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten:
Bereitstellen eines Retikels (10) und eines Wafers (11),
Projizieren einer Struktur auf dem Retikel (10) auf eine lichtempfindliche Schicht des Wafers (11) mithilfe der Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 9, Erzeugen einer Mikro- beziehungsweise Nanostruktur auf dem Wafer (11). 11. Strukturiertes Bauteil, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 10.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021511552A (ja) * 2018-01-25 2021-05-06 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Ｅｕｖマイクロリソグラフィ用の結像光学ユニット
US11892283B2 (en) 2019-09-30 2024-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Measuring apparatus for interferometrically determining a surface shape

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017216893A1 (de) 2017-09-25 2019-03-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
DE102018105404A1 (de) 2018-03-08 2019-09-12 Wobben Properties Gmbh Windenergieanlage mit mehrstufigem Magnetgetriebe
DE102019202759A1 (de) 2019-02-28 2019-04-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projek-tionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102019208961A1 (de) * 2019-06-19 2020-12-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik und Projektionsbelichtungsanlage mit einer solchen Projektionsoptik
DE102021205774A1 (de) * 2021-06-08 2022-12-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5891806A (en) 1996-04-22 1999-04-06 Nikon Corporation Proximity-type microlithography apparatus and method
JP2002048977A (ja) 2000-08-01 2002-02-15 Nikon Corp 反射光学系及びこの光学系を用いたプロキシミティ露光装置
DE10155711A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Fraunhofer Ges Forschung Spiegel für den EUV-Spektralbereich
US20070058269A1 (en) 2005-09-13 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
WO2008141686A1 (de) 2007-05-23 2008-11-27 Carl Zeiss Ag Spiegeloptik und abbildungsverfahren zum seitenrichtigen und aufrechten abbilden eines objektes in ein bildfeld
DE102009045096A1 (de) 2009-09-29 2010-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem mit einer Spiegelanordnung aus zwei Spiegeln
WO2012126867A1 (en) 2011-03-22 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Deflection mirror and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a deflection mirror
DE102014208770A1 (de) * 2013-07-29 2015-01-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik
DE102015209827A1 (de) 2015-05-28 2015-09-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19923609A1 (de) * 1998-05-30 1999-12-02 Zeiss Carl Fa Ringfeld-4-Spiegelsysteme mit konvexem Primärspiegel für die EUV-Lithographie
GB0505794D0 (en) * 2005-03-22 2005-04-27 Keene Laura Beam transformer
EP2136231A1 (de) * 2008-06-17 2009-12-23 Carl Zeiss SMT AG Katadioptrisches System mit hoher Apertur
WO2010116705A1 (ja) * 2009-04-06 2010-10-14 パナソニック株式会社 光学系および撮像装置
DE102009030501A1 (de) * 2009-06-24 2011-01-05 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes
DE102010062597A1 (de) * 2010-12-08 2012-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektives optisches Abbildungssystem
DE102014203187A1 (de) * 2014-02-21 2015-08-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5891806A (en) 1996-04-22 1999-04-06 Nikon Corporation Proximity-type microlithography apparatus and method
JP2002048977A (ja) 2000-08-01 2002-02-15 Nikon Corp 反射光学系及びこの光学系を用いたプロキシミティ露光装置
DE10155711A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Fraunhofer Ges Forschung Spiegel für den EUV-Spektralbereich
US20070058269A1 (en) 2005-09-13 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
WO2008141686A1 (de) 2007-05-23 2008-11-27 Carl Zeiss Ag Spiegeloptik und abbildungsverfahren zum seitenrichtigen und aufrechten abbilden eines objektes in ein bildfeld
DE102009045096A1 (de) 2009-09-29 2010-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem mit einer Spiegelanordnung aus zwei Spiegeln
WO2012126867A1 (en) 2011-03-22 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Deflection mirror and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a deflection mirror
DE102014208770A1 (de) * 2013-07-29 2015-01-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik
WO2015014753A1 (en) 2013-07-29 2015-02-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit
DE102015209827A1 (de) 2015-05-28 2015-09-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ULRICH W ET AL: "TRENDS IN OPTICAL DESIGN OF PROJECTION LENSES FOR UV-AND EUV-LITHOGRAPHY", OPTOMECHATRONIC MICRO/NANO DEVICES AND COMPONENTS III : 8 - 10 OCTOBER 2007, LAUSANNE, SWITZERLAND; [PROCEEDINGS OF SPIE , ISSN 0277-786X], SPIE, BELLINGHAM, WASH, vol. 4146, 3 August 2000 (2000-08-03), pages 13 - 24, XP008016224, ISBN: 978-1-62841-730-2, DOI: 10.1117/12.406667 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021511552A (ja) * 2018-01-25 2021-05-06 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Ｅｕｖマイクロリソグラフィ用の結像光学ユニット
JP7284766B2 (ja) 2018-01-25 2023-05-31 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Ｅｕｖマイクロリソグラフィ用の結像光学ユニット
US11892283B2 (en) 2019-09-30 2024-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Measuring apparatus for interferometrically determining a surface shape

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Publication number Publication date
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