WO2017013985A1 - 固化物、固化物の製造方法及び固化物の安定化方法 - Google Patents

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WO2017013985A1
WO2017013985A1 PCT/JP2016/068325 JP2016068325W WO2017013985A1 WO 2017013985 A1 WO2017013985 A1 WO 2017013985A1 JP 2016068325 W JP2016068325 W JP 2016068325W WO 2017013985 A1 WO2017013985 A1 WO 2017013985A1
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WO
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solidified product
compound
solidified
bond
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PCT/JP2016/068325
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English (en)
French (fr)
Inventor
後藤 良孝
Original Assignee
コニカミノルタ株式会社
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09BDISPOSAL OF SOLID WASTE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B09B3/00Destroying solid waste or transforming solid waste into something useful or harmless
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid

Definitions

  • the present invention relates to a solidified compound having a Si—N bond, a method for producing the same, and a method for stabilizing the compound. More specifically, in particular, by solidifying and detoxifying a compound having a Si—N bond stably, there is no generation of odor, and a solidified product that can be safely disposed of, a method for producing the same, and The present invention relates to a method for stabilizing a solidified product for further stabilizing the produced solidified product.
  • a film made of silica is used as an insulating film, a dielectric film, a protective film, a hydrophilic film, and the like.
  • a film made of silica include an interlayer insulating film, a planarization film, a passivation film, and an element isolation insulating film for semiconductor elements such as LSI (Large Scale Integration) and TFT (Thin Film Transistor) liquid crystal display devices. Widely used as a body.
  • a method for producing such a silica film for example, a PVD method (Physical Vapor Deposition), a CVD method (Chemical Vapor Deposition), a wet coating method, and the like are known.
  • a method for forming a silica film by low-temperature firing a solution containing a compound having a Si—N bond is applied onto a substrate by a wet method, and the formed coating film is made by a method such as firing.
  • a method for converting the film into a film There is known a method for converting the film into a film.
  • a silica film formed by a wet coating method using a compound having a Si—N bond has attracted particular attention in recent years because of its excellent film quality.
  • examples of the compound having a Si—N bond include aminosilane, silazane, silylacetamide, silylimidazole, trimethylsilyl azide, and the like, and the Si—N bond is mainly obtained by a reaction between an organosilicon compound and an amine,
  • organosilazane the method of synthesizing a compound having a Si—N bond includes a reaction between halogenosilane and ammonia, an amine, a reaction between silane and ammonia, an alkali metal salt of an amine, and an organosilyl metal compound. Formed by reaction with ammonia.
  • Such a compound having a Si—N bond has higher reactivity with respect to moisture than a normal organic compound, and therefore needs to be handled with care. Specifically, since Si—N bond causes hydrolysis and is accompanied by heat of reaction, when handling such a compound, in order to suppress hydrolysis reaction as much as possible, moisture (humidity) is blocked, Various measures and cautions are required, such as using containers with high heat resistance.
  • the solution containing the compound having a Si—N bond is a very active solution with respect to moisture and oxygen, there are many problems in the waste liquid disposal method simultaneously with its handling.
  • an organic solvent such as ketones or hydrocarbons is used as a solvent for dissolving and diluting a compound having a Si—N bond.
  • a method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • Patent Document 1 A method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed.
  • Patent Document 1 A method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • Patent Document 1 A method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • Patent Document 1 A method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • Patent Document 1 A method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • Patent Document 1 A method for recovering and treating polysilazane using a large amount is disclosed (for example, Patent Document 1).
  • the entire solidified product is not completely modified to silica, and when it becomes a solidified product, only the solidified product surface is modified to silica, and unreacted Si-
  • the compound having an N bond remains as it is.
  • the above formula (1) or formula (2) As a result, there are concerns about the occurrence of problems such as fire due to the reaction heat generated, explosion due to hydrogen generation, and odor due to ammonia gas generation.
  • polysilazane is a polymer compound having a Si—N bond as a basic unit, and does not require a large facility and uses a wet coating apparatus having a relatively simple configuration. It is known as a material that can form a high-quality silica-based insulating film even in a narrow gap.
  • a silica coating formed by wet coating using this polysilazane having a Si—N bond has been used in a wide range of fields in recent years because of its excellent film quality and high gas barrier properties. Even in this case, a large amount of a solution containing polysilazane having a used Si—N bond is generated, and these polysilazane solutions are very active solutions. Had many challenges.
  • the conventional method for discarding a compound having a Si—N bond requires a large amount of an organic solvent for disposal, and requests disposal from a disposal specialist. Therefore, it is not practical for a waste liquid containing a compound having a large amount of Si—N bonds.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and its solution is to modify and solidify a compound having a Si—N bond to make it harmless, and thus it can be safely processed without generation of odor. It is to provide a solidified product that can be produced, a method for producing the same, and a method for stabilizing the solidified product for further stabilizing the produced solidified product.
  • the present inventor in the process of studying the cause of the above problems, etc., the compound A having a Si—N bond, the second group, the thirteenth group of the long periodic table, the silicon and the carbon Harmless by mixing compound B containing at least one element selected from the group consisting of elements of group 14 except for oxidising compound A having an Si—N bond using compound B as an oxidation catalyst
  • compound B a method of reforming and drying to SiO 2 to form a solidified product
  • the compound having Si—N bonds can be modified and solidified to render it harmless, so that it can be safely processed without generation of odor. It was found that a solidified product that can be obtained was obtained, and the present invention was achieved.
  • the content ratio of the solidified pieces having a particle size exceeding 22.4 mm is 20% by mass or less per 5.0 g of the sample solidified product.
  • At least one element selected from the group consisting of elements of Group 2, Group 13 and Group 14 constituting Compound B is aluminum (Al), indium (In), gallium (Ga), magnesium ( The solidified product according to any one of Items 1 to 3, which is at least one selected from Mg), calcium (Ca), germanium (Ge), and boron (B).
  • a drying method for forming a solidified product by subjecting the mixture to a drying treatment is at least one method selected from a natural drying method, a heat drying method, a vacuum drying method, an ultrasonic drying method, and a suction drying method.
  • the content ratio of the solidified pieces having a particle size exceeding 22.4 mm is about 5.0 g of the sample solidified product.
  • Item 9 The method for producing a solidified product according to any one of Items 6 to 8, wherein the compound A having an Si-N bond is polysilazane.
  • At least one element selected from the group consisting of elements of Group 2, Group 13 and Group 14 constituting Compound B is aluminum (Al), indium (In), gallium (Ga), magnesium ( The solidified product according to any one of items 6 to 9, which is at least one selected from Mg), calcium (Ca), germanium (Ge), and boron (B). Production method.
  • the solvent contained in the compound A having a Si—N bond before mixing is a nonpolar solvent
  • the nonpolar solvent content contained in the solidified product after the drying treatment measured by the headspace GC method is 1
  • a method for stabilizing a solidified product comprising stabilizing the solidified product according to any one of items 1 to 5, A method for stabilizing a solidified product, wherein the solidified product is put into a hydrophilic solvent for stabilization.
  • the compound A having a Si—N bond such as polysilazane
  • the compound B containing a metal element of Group 2, 13 or 14 is subjected to oxidation treatment with the compound B containing a metal element of Group 2, 13 or 14 to be converted to SiO 2 .
  • a coating solution containing polysilazane As a method for forming a functional film using a coating solution containing a compound having Si—N bond, especially polysilazane, a coating solution containing polysilazane is applied onto a target substrate, and the coating film is baked.
  • a method of converting to a silica (SiO 2 ) film by a method such as the above is known.
  • a silica film formed by such a wet coating method using polysilazane has attracted particular attention in recent years because of its excellent film quality.
  • the peripheral portion of the substrate has a thickness greater than that of the normal part due to the proximity of the supplied coating liquid.
  • a thick film portion that becomes thicker is formed, and the coating liquid wraps around the back surface of the substrate.
  • the coating liquid containing polysilazane formed at the end of the base material is usually applied after applying the coating liquid containing polysilazane.
  • An edge bead remove process (hereinafter also referred to as an EBR process) is performed by applying or spraying a processing solvent that dissolves polysilazane to the thick film part to remove the coating film formed on the peripheral part.
  • a back rinse is performed to clean the back surface.
  • polysilazane can react with unintentional pollutants, including the atmosphere, ie OH-donating chemicals such as water, alcohols, aldehydes and the like.
  • unintentional pollutants including the atmosphere, ie OH-donating chemicals such as water, alcohols, aldehydes and the like.
  • the reaction as shown in the above formulas (1) and (2), polysilazane is decomposed to generate hydrogen gas, ammonia gas, and silane gas.
  • the reaction heat causes corrosion of the container due to overheating, and further causes a fire concern. Therefore, polysilazane waste has the problem that it must be stabilized so that it does not undergo further degradation when it comes into contact with unintentional contaminants.
  • the decomposition is delayed by selecting and diluting an organic solvent in a dedicated waste container so as to further suppress the decomposition.
  • a solution containing unstable polysilazane is stored until the waste liquid is filled in the waste holding container. Once the holding container is filled, the internal pressure of the waste is reduced for temporary stabilization of the waste. It is transferred to a drum having an exhaust port so as not to rise. Finally, the drum is sealed and sent to a waste disposal facility. Meanwhile, for the polysilazane to be discarded, a large amount of diluting solvent must be used, and a dedicated warehouse for storing the waste solvent must be secured. I had a problem.
  • the surface region (shell part) of the formed solidified product is modified from polysilazane to SiO 2 by heating and drying treatment. Although it is rendered harmless, the heating / drying process does not proceed sufficiently in the central region (core portion), and a part remains polysilazane.
  • the solidified product in such a state undergoes reforming of the internal polysilazane during the storage process, and ammonia gas and hydrogen gas are generated, or the same problem occurs when it is put into water.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and technical features thereof are as follows.
  • the constitutional feature of the solidified product of the present invention is that the compound A having a Si—N bond and the group consisting of elements of Group 2 and Group 13 of the long-period periodic table and Group 14 excluding silicon and carbon are included.
  • the compound B containing at least one selected element is configured as an oxidation catalyst for the compound A.
  • a compound such as a group A and a group 13 in the periodic periodic table as an oxidation catalyst is added to a solvent, for example, a compound A having a Si—N bond containing a nonpolar solvent.
  • a compound B containing at least one element selected from the group consisting of elements is added to prepare a mixed solution.
  • the compound having Si—N bonds is modified to SiO 2 by volatilizing the solvent. It is a method that can be detoxified by solidifying, and as a result, can be safely disposed of without odor generation.
  • a compound B containing at least one element selected from the group consisting of Group 2 and Group 13 of the periodic periodic table and Group 14 elements excluding silicon and carbon is obtained. It acts as an oxidation catalyst that promotes the conversion reaction of compound A having a Si—N bond to SiO 2 , and the oxidation reaction proceeds almost uniformly over the entire solidified product, including not only the solidified product surface but also the inside of the solidified product. Environment can be constructed, unreacted substances (for example, polysilazane) can be significantly reduced, the solidified product can be crushed in a subsequent process, exposed to a high temperature and high humidity environment, or in an active solution. Even if a solid material is added to the material, it is possible to remarkably reduce the occurrence of the reaction represented by the above formulas (1) and (2), and as a result, an extremely safe solidified product can be realized. It was.
  • the solidified product of the present invention includes at least one selected from the group consisting of the compound A having a Si—N bond and the elements of Group 2 and Group 13 of the long-period periodic table and Group 14 excluding silicon and carbon. It is comprised from the compound B (oxidation catalyst) containing a seed element.
  • This feature is a technical feature common to or corresponding to the claimed invention.
  • a solidified piece having a particle size exceeding 22.4 mm in the particle size distribution measured in accordance with the JIS Z 8815 screening test method It is preferable that the mass ratio per 5.0 g is 20% by mass or less because it is a fine solidified product and has an advantage that the conversion reaction to SiO 2 can proceed from the surface to the inside.
  • the compound A having an Si—N bond is polysilazane from the viewpoint of more effectively expressing the object of the present invention.
  • At least one element selected from the group consisting of Group 2, Group 13 and Group 14 elements excluding silicon and carbon constituting Compound B is aluminum (Al), indium (In), gallium It is at least one selected from (Ga), magnesium (Mg), calcium (Ca), germanium (Ge), and boron (B), and more preferably that the element is aluminum (Al).
  • the compound A having an Si—N bond effectively is preferable from the viewpoint that it can be oxidized and detoxified.
  • the method for producing a solidified product of the present invention comprises a compound A having a Si—N bond and a group consisting of Group 2 and Group 13 of the long-period periodic table and Group 14 elements excluding silicon and carbon.
  • a compound B containing at least one selected element is mixed and then dried and solidified to produce a solidified product.
  • the method of drying and solidifying the mixture is at least one method selected from a natural drying method, a heat drying method, a vacuum drying method, an ultrasonic drying method, and a suction drying method, and a compound having a Si—N bond It is preferable from the viewpoint that A and compound B can be dried to form a solidified product.
  • the solvent contained in the compound A having a Si—N bond before mixing is a nonpolar solvent, and the nonpolar solvent content contained in the solidified product after the drying treatment measured by a headspace GC method is determined. 1.2 mass% or less is preferable.
  • dibutyl ether or xylene as the nonpolar solvent from the viewpoint of dissolving the compound A having a So—N bond such as polysiloxane.
  • is used to mean that the numerical values described before and after it are included as the lower limit value and the upper limit value.
  • the solidified product of the present invention includes at least one selected from the group consisting of the compound A having a Si—N bond and the elements of Group 2 and Group 13 of the long-period periodic table and Group 14 excluding silicon and carbon. It comprises a compound B (oxidation catalyst) containing a seed element. Specifically, the compound A having the Si—N bond and the compound B are mixed and then dried and solidified. Thus, a solidified product is produced.
  • FIG. 1 is a flowchart showing an example of a typical process for producing a solidified product by modifying a compound containing a Si—N bond.
  • the main process of the method for producing a solidified product of the present invention includes a compound A having a Si—N bond dissolved in a nonpolar solvent, and an element belonging to Group 2, Group 13, or Group 14.
  • Compound B which is an oxidation catalyst composed of, for example, is introduced into an adjustment kettle having a stirrer or the like and mixed to prepare a mixture.
  • the mixing ratio of Compound A and Compound B at this time is not particularly limited.
  • the amount of Compound B added is in the range of 0.1 to 10% by mass.
  • it is in the range of 0.1 to 5.0% by mass.
  • the oxidation treatment of the compound A by the compound B proceeds, and the compound A is modified to SiO 2 .
  • ammonia and hydrogen gas are generated by the reforming reaction as shown in the above formulas (1) and (2).
  • the adjustment kettle can be a closed system and recovered by a recovery device or the like for safe processing. it can.
  • the treatment temperature at this time is not particularly limited and can be selected within a temperature range of 10 to 80 ° C. However, it is preferable to carry out the treatment without heating at a temperature near room temperature.
  • the mixture is dried to remove the nonpolar solvent to form a fine solidified product.
  • the reforming reaction almost proceeds at the stage of the mixture, so that the solidified product is reformed to SiO 2 from the surface to the inside and has an unreacted Si—N bond. It has the characteristic that the residual rate of compound A becomes very low.
  • the content ratio of the solidified product pieces having a particle size exceeding 2.4 mm is 5.0 g of sample solidified product. It is preferable to manufacture in the state which is 20 mass% or less per.
  • the solidified product of the present invention can stably form a solidified product having a size distribution as defined above by producing the solidified product according to the above flow.
  • the solidified product produced by such a method may be processed ("disposal treatment 1" described in FIG. 1) in the solidified state as it is. Further, the produced solidified product is further poured into a hydrophilic solvent to completely oxidize a compound containing a Si—N bond which may be slightly remaining, to form SiO 2 , and then to the solution. In this state, the process (“discard process 2” shown in FIG. 1) may be performed.
  • the “solidified product” as used in the present invention is a conventionally known “layer” or “film” containing a compound containing Si—N bonds or modified SiO 2 held on the surface of a substrate such as a resin film.
  • a substrate such as a resin film.
  • the compound having Si—N bond or a modified product thereof is not held on the support but is independently present alone.
  • the mass ratio per 5.0 g of the solidified product having a particle size exceeding 2.4 mm is 20% by mass or less. It is a preferred embodiment.
  • the particle size distribution of the solidified product in the present invention is measured by the following method in accordance with JIS Z 8815 “Sieving Test Method”.
  • Sieving method A method of manually sieving and vibrating the screen by hand.
  • the particle size range measured by preliminary sieving is classified as 1) over 22.4 mm, 2) over 4 mm, 22.4 mm or less, 3) over 1 mm, 4 mm or less, 4) 1 mm or less.
  • 1) the content ratio with respect to the total mass of the solidified product classified as exceeding 22.4 mm is obtained.
  • the particle size referred to here represents the major axis size of the solidified product for measurement.
  • the drying method applicable to the formation of the solidified product of the present invention is not particularly limited, and generally used drying means can be applied. Specifically, natural drying, heat drying, vacuum At least one method selected from a drying method, an ultrasonic drying method and a suction drying method, or a combination of two or more methods can be used.
  • the method of drying and solidifying the mixture composed of Compound A and Compound B is at least one method selected from a natural drying method, a heat drying method, a vacuum drying method, an ultrasonic drying method and a suction drying method. Preferably there is.
  • the natural drying method applicable to the present invention is an atmospheric pressure environment, a temperature range of 10 to 80 ° C., a relative humidity of 8 to 80% RH, and a wind speed of 0 to 5.0 m / s. In this method, the drying process is performed.
  • the heat drying method applicable to the present invention is a method of drying in a temperature range of 46 to 200 ° C. under an atmospheric pressure environment, and there are no particular restrictions on the applied humidity conditions and wind speed.
  • the vacuum drying method applicable to the present invention is not particularly limited, but the temperature range is 40 to 200 ° C., and the pressure is 1 ⁇ 10 2 to 1 ⁇ 10 5 Pa. preferable.
  • the conditions of the ultrasonic drying method applicable to the present invention are not particularly limited, but a method of drying by irradiating ultrasonic waves with a frequency of 1 to 10 kHz is preferable, and the treatment temperature and humidity at that time are not particularly limited.
  • the suction drying method applicable to the present invention is not particularly limited, but it is a method of sucking and circulating the air in the tank with a powerful fan and exhausting part of the air to dry. There is no particular limitation on humidity.
  • the compound A having an Si—N bond according to the present invention is not particularly limited, but polysilazane is a preferable embodiment in that the effects of the present invention can be further exhibited.
  • the polysilazane referred to in the present invention is a polymer having a silicon-nitrogen bond, and SiO 2 having a bond such as Si—N, Si—H, N—H, etc., Si 3 N 4 , and both intermediate solid solutions SiO x N y is a ceramic precursor inorganic polymer such as y .
  • Polysilazane 1 a compound having a structure represented by the general formula (I)
  • the polysilazane according to the present invention is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (I).
  • R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, vinyl group or (trialkoxysilyl) alkyl group. .
  • R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different.
  • examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms.
  • the aryl group include aryl groups having 6 to 30 carbon atoms.
  • non-condensed hydrocarbon groups such as phenyl group, biphenyl group, terphenyl group; pentarenyl group, indenyl group, naphthyl group, azulenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, fluorenyl group, acenaphthylenyl group, preadenenyl group
  • a condensed polycyclic hydrocarbon group such as an Can be mentioned.
  • examples of the (trialkoxysilyl) alkyl group include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms having a silyl group substituted with an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.
  • R 1 to R 3 More specific examples include 3- (triethoxysilyl) propyl group and 3- (trimethoxysilyl) propyl group.
  • Substituents present as necessary in R 1 to R 3 are not particularly limited. For example, an alkyl group, a halogen atom, a hydroxy group (—OH), a mercapto group (—SH), a cyano group (— CN), sulfo group (—SO 3 H), carboxy group (—COOH), nitro group (—NO 2 ) and the like. It should be noted that the substituent present if necessary is not the same as R 1 to R 3 to be substituted. For example, when R 1 to R 3 are alkyl groups, they are not further substituted with an alkyl group.
  • R 1 , R 2 and R 3 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a phenyl group, a vinyl group, 3 -(Triethoxysilyl) propyl group or 3- (trimethoxysilylpropyl) group.
  • n represents an integer
  • the polysilazane having the structure represented by the general formula (I) is preferably determined to have a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • one of preferable embodiments is perhydropolysilazane (abbreviation: PHPS) in which all of R 1 , R 2, and R 3 are hydrogen atoms.
  • Polysilazane 2 a compound having a structure represented by the general formula (II)
  • the polysilazane is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (II).
  • R 1 ′ , R 2 ′ , R 3 ′ , R 4 ′ , R 5 ′ and R 6 ′ each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, An aryl group, a vinyl group or a (trialkoxysilyl) alkyl group.
  • R 1 ′ , R 2 ′ , R 3 ′ , R 4 ′ , R 5 ′ and R 6 ′ may be the same or different.
  • the substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, vinyl group or (trialkoxysilyl) alkyl group has the same definition as described in the general formula (I), and thus the description thereof is omitted here. .
  • n ′ and p are each an integer, and the polysilazane having the structure represented by the general formula (II) is determined to have a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol. It is preferable. Note that n ′ and p may be the same number or different numbers.
  • Polysilazane 3 a compound having a structure represented by the general formula (III)
  • the polysilazane is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (III).
  • R 1 ′′ , R 2 ′′ , R 3 ′′ , R 4 ′′ , R 5 ′′ , R 6 ′′ , R 7 ′′ , R 8 ′′ and R 9 ′′ are each independently A hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, vinyl group or (trialkoxysilyl) alkyl group.
  • R 1 ′′ , R 2 ′′ , R 3 ′′ , R 4 ′′ , R 5 ′′. , R 6 ′′ , R 7 ′′ , R 8 ′′ and R 9 ′′ may be the same or different.
  • the substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, vinyl group or (trialkoxysilyl) alkyl group is the same as the definition of the general formula (I), and thus the description thereof is omitted here.
  • n ′′, p ′′ and q are each an integer, and the polysilazane having the structure represented by the general formula (III) has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol. It is preferable to be determined as follows. Note that n ′′, p ′′, and q may be the same or different.
  • R 1 ′′ , R 3 ′′ and R 6 ′′ each represent a hydrogen atom
  • R 2 ′′ , R 4 ′′ , R 5 ′′ and R 8 ′′ each represent a methyl group.
  • R 9 ′′ represents a (triethoxysilyl) propyl group
  • R 7 ′′ represents an alkyl group or a hydrogen atom.
  • organopolysilazane in which part of the hydrogen atom bonded to Si is substituted with an alkyl group or the like can impart toughness to a ceramic film made of hard and brittle polysilazane by having an alkyl group such as a methyl group.
  • perhydropolysilazane and organopolysilazane may be selected as appropriate according to the application, and may be used in combination.
  • Perhydropolysilazane is presumed to have a structure in which a linear structure and a ring structure centered on a 6-membered ring and / or an 8-membered ring coexist. Its molecular weight is approximately 600 to 2000 (polystyrene conversion) in terms of number average molecular weight (Mn), and there are liquid or solid substances, and the state varies depending on the molecular weight.
  • polysilazanes are commercially available in a solution state dissolved in an organic solvent.
  • examples of commercially available polysilazane solutions include NN120-10, NN120-20, NAX120-20, NN110, NN110, NN310, NN320, NL110A, NL120A, NL120-20, NL150A, NP110, NP140, manufactured by AZ Electronic Materials Co., Ltd. SP140 etc. are mentioned.
  • polysilazane examples include, but are not limited to, for example, a silicon alkoxide-added polysilazane obtained by reacting the above polysilazane with a silicon alkoxide (Japanese Patent Laid-Open No. 5-238827), a glycidol reacted Glycidol-added polysilazane (Japanese Patent Laid-Open No. 6-122852) obtained by reaction, alcohol-added polysilazane obtained by reacting alcohol (Japanese Patent Laid-Open No.
  • metal carboxylate obtained by reacting metal carboxylate Addition polysilazane (JP-A-6-299118), acetylacetonate complex-added polysilazane obtained by reacting a metal-containing acetylacetonate complex (JP-A-6-306329), metal obtained by adding metal fine particles Fine particle added policy Zhang such (JP-A-7-196986), and a polysilazane ceramic at low temperatures.
  • Non-polar solvent In the production process of the solidified product of the present invention, it is preferable to provide the compound A having an Si—N bond according to the present invention, particularly polysilazane, in a state dissolved in a nonpolar solvent.
  • Common nonpolar solvents include (A) Aromatic compounds: benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, trimethylbenzene, triethylbenzene, decahydronaphthalene, etc. (B) Chain saturated hydrocarbons: n-pentane, i-pentane, n-hexane, i-hexane, n-heptane, i-heptane, n-octane, i-octane, n-nonane, i-nonane, n -Decane, i-decane, etc.
  • Cyclic saturated hydrocarbons cyclohexane, ethylcyclohexane, methylcyclohexane, p-menthane, etc.
  • Cyclic unsaturated hydrocarbons cyclohexene, dipentene (limonene), etc.
  • Ethers Dipropyl ether, dibutyl ether, diethyl ether, methyl tertiary butyl ether (MTBE), anisole and the like.
  • the nonpolar solvent applicable to the present invention is a solvent having a characteristic of stably dissolving polysilazane and the like, and dibutyl ether, xylene, and naphtha are preferable, and among them, dibutyl ether or xylene is particularly preferable.
  • beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, and radium are classified as Group 2 elements.
  • Group 13 element boron, aluminum, gallium, indium, thallium, and ununtrium are classified.
  • germanium, tin, lead, and flerobium are classified into this as a group 14 element except carbon and silicon.
  • Compound B containing at least one element selected from the group consisting of Group 2, Group 13, and Group 14 elements excluding silicon and carbon in Compound A having Si—N bond The reason why the solvent can be volatilized and the compound A having an active Si—N bond is deactivated (oxidized) to be rendered harmless and a safe solidified product can be obtained as follows. is doing.
  • Compound B containing at least one element selected from the group consisting of Group 2 and Group 13 of the periodic periodic table and Group 14 elements excluding silicon and carbon is used as an oxidation catalyst for Compound A. Acts to promote the SiO 2 reaction of the compound A having Si—N bonds, and when the solidified product is formed, the reaction can be promoted substantially uniformly over the entire solidified product including not only the surface but also the deep part. . As a result, unreacted substances can be remarkably reduced, and the solidified product is pulverized in the subsequent process due to heat generation, exposed to a high-temperature and high-humidity environment, or even if the solidified product is put into an active solution. The occurrence of reactions as shown in the above formulas (1) and (2) was remarkably suppressed, and a highly safe solidified product could be realized.
  • An example of the compound B according to the present invention includes a metal alkoxide compound as an example.
  • metal alkoxide compound Specific examples of the metal alkoxide compound include, for example, beryllium acetylacetonate, trimethyl borate, triethyl borate, tri-n-propyl borate, triisopropyl borate, tri-n-butyl borate, tri-tert-butyl borate, Magnesium ethoxide, magnesium ethoxyethoxide, magnesium methoxyethoxide, magnesium acetylacetonate, aluminum trimethoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri n-propoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum tri n-butoxide, aluminum tri sec-butoxide, aluminum tri-tert-butoxide, aluminum acetylacetonate, acetoalkoxyaluminum diisopropylate, aluminum ethyl Cetoacetate diisopropylate, aluminum ethyl acetoacetate di n-butyrate, aluminum diethyl
  • a compound having a branched alkoxy group is preferable from the viewpoint of reactivity and solubility, and a compound having a 2-propoxy group or a sec-butoxy group is more preferable.
  • the compound which has an ethoxy group from a viewpoint which can obtain the stable solidified material is preferable.
  • metal alkoxide compounds having an acetylacetonate group are also preferred.
  • the acetylacetonate group is preferable because it has an interaction with the central element of the alkoxide compound due to the carbonyl structure, so that handling is easy.
  • a compound having a plurality of types of the alkoxide group or acetylacetonate group is more preferable from the viewpoints of reactivity and film composition.
  • the central element of the metal alkoxide compound an element that easily forms a coordinate bond with a nitrogen atom in polysilazane is preferable, and Al or B having a high Lewis acidity is more preferable.
  • the compound B according to the present invention includes aluminum (Al), indium (In), gallium (Ga), magnesium (Mg), calcium (Ca), germanium (Ge), and boron (B).
  • it is a compound containing at least one element selected from the group consisting of, and specific examples of preferred metal alkoxide compounds include magnesium ethoxide, triisopropyl borate, aluminum trisec-butoxide, aluminum ethylacetate.
  • metal alkoxide compound a commercially available product or a synthetic product may be used.
  • commercially available products include, for example, AMD (aluminum diisopropylate monosec-butyrate), ASBD (aluminum secondary butyrate), ALCH (aluminum ethyl acetoacetate diisopropylate), ALCH-TR (aluminum tris).
  • Ethyl acetoacetate Ethyl acetoacetate
  • aluminum chelate M aluminum alkyl acetoacetate / diisopropylate
  • aluminum chelate D aluminum chelate
  • aluminum chelate A W
  • AL-M acetoalkoxy aluminum diisopropylate, Ajinomoto Fine Chemical Co., Ltd.
  • Moth Chicks series manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.
  • the coating liquid containing polysilazane inert gas atmosphere. This is to prevent the metal alkoxide compound from reacting with moisture and oxygen in the atmosphere and causing intense oxidation.
  • Al element-containing compound examples include anosoclacese, alumina, aluminosilicate, aluminate, sodium aluminate, alexandrite, ammonium leucite, yttrium / aluminum / garnet, feldspar, osarizawa stone, omphacite, pyroxene, Sericite, gibbsite, sanidine, sapphire, aluminum oxide, aluminum hydroxide oxide, aluminum bromide, aluminum twelve boride, aluminum nitrate, muscovite, aluminum hydroxide, lithium aluminum hydride, cedar, spinel, diaspore, Aluminum arsenide, Peacock (pigment), plagioclase, jadeite, cryolite, hornblende, aluminum fluoride, zeolite, Brazilite, vesuvite, B-alumina solid electrolyte, petotite, sodalite, organic aluminum Compounds,
  • Magnesium element-containing compounds include zinc green glaze, magnesium sulfite, magnesium benzoate, carnalite, magnesium perchlorate, magnesium peroxide, talc, pyroxene, olivine, magnesium acetate, magnesium oxide, serpentine, magnesium bromide , Magnesium nitrate, magnesium hydroxide, spinel, ordinary amphibole, ordinary pyroxene, magnesium fluoride, magnesium sulfide, magnesium sulfate, lozenge, etc.
  • Calcium element-containing compounds include: Araleite, Calcium Sulfite, Calcium Benzoate, Egyptian Blue, Calcium Chloride, Calcium Chloride Hydroxide, Calcium Chlorate, Ash Chromium Meteorite, Scheelite, Pumiceite, Wollastonite, Peroxide Calcium, calcium phosphate, calcium cyanamide, calcium hypochlorite, calcium cyanide, calcium bromide, heavy superphosphate, calcium oxalate, calcium bromate, calcium nitrate, calcium hydroxide, hornblende, normal Pyroxene, calcium fluoride, fluoroapatite, calcium iodide, calcium iodate, johansen pyroxene, calcium sulfide, calcium sulfate, chlorite, chlorite, green agate, calcium phosphate and the like.
  • gallium element-containing compound examples include gallium oxide (III), gallium hydroxide (III), gallium nitride, gallium arsenide, gallium iodide (III), and gallium phosphate.
  • boron element-containing compounds include boron oxide, boron tribromide, boron trifluoride, boron triiodide, sodium cyanoborohydride, diborane, boric acid, trimethyl borate, borax, borazine, borane, boronic acid, etc. Can be mentioned.
  • Germanium element-containing compound examples include organic germanium compounds, inorganic germanium compounds, germanium oxide, and the like.
  • Indium element-containing compound examples include indium oxide and indium chloride.
  • the solidified product of the present invention it is preferable that after the solidified product is formed, the solidified product is charged into a hydrophilic solvent and subjected to stabilization treatment (disposal treatment 2).
  • the hydrophilic solvent is a solvent that dissolves substantially uniformly in water.
  • the hydrophilic solvent include water, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol; glycols such as ethylene glycol and diethylene glycol; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; and the like.
  • the hydrophilic solvent is preferably water or a mixed solvent of water and a hydrophilic solvent.
  • the solidified product of the present invention can be safely disposed of by putting it in a hydrophilic solvent, completely oxidizing the remaining polysilazane, etc., and modifying it to SiO 2 .
  • the solidified product and the production method thereof include a polysilazane solution waste liquid collected during production, a cleaning liquid containing polysilazane, a polysilazane liquid after use, etc.
  • the disposal process is performed, generation of ammonia and hydrogen gas can be suppressed, a large amount of organic solvent is not required, and the present invention can be applied to a disposal process of solidified products that can be safely rendered harmless.
  • Preparation of solidified product >> [Preparation of solidified product 1] (Preparation of liquid mixture 1) Compound A: 231.8 g of dibutyl ether solution containing 20% by mass of uncatalyzed perhydropolysilazane (Merck Co., Ltd., NN120-20) Nonpolar solvent: 1277.6 g of dibutyl ether The two solutions were mixed to prepare a mixed solution 1.
  • a solidified product 12 was prepared in the same manner as the drying method except that drying was performed by the following vacuum drying method instead of the natural drying method.
  • a solidified product 13 was prepared in the same manner as the drying method except that drying was performed by the following ultrasonic drying method instead of the natural drying method.
  • a solidified product 14 was prepared in the same manner as the drying method except that drying was performed by the following suction drying method instead of the natural drying method.
  • Each of the solidified products prepared above was collected as a measurement sample by 5.0 g, and the ratio (mass%) of solids having a particle size exceeding 22.4 mm was measured by a JIS Z 8815 sieving test.
  • GC / MS (model number: 6890GC / 5973A) manufactured by Agilent Technologies was used as a measuring device. 100 mg of the solidified product was precisely weighed, 10 mL of methanol was added, and ultrasonic extraction was performed. The supernatant was filtered through a chromatodisc, and then the nonpolar solvent (dibutyl ether or xylene) was quantified using the GC / MS.
  • the solidified product formed from the compound A defined in the present invention and the compound B which is the oxidation catalyst generates ammonia due to the unreacted compound A in the solidified product.
  • the amount is extremely low, and it can be seen that the reforming process has progressed completely to the inside of the solidified product, solidified, and rendered harmless.
  • the present invention by modifying and solidifying a compound having a Si—N bond and detoxifying it, it is possible to obtain a solidified product that can be safely processed without generation of odor, and an insulating film. It can be applied to waste liquid treatment of a compound having a Si—N bond after being used for forming a silica film to be applied to a dielectric film, a protective film, a hydrophilized film or the like.

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Abstract

本発明の目的は、Si-N結合を有する化合物を、改質して固化し、無害化することで、臭気の発生がなく、安全に処理することができる固化物とその製造方法、及び製造した固化物を更に安定化するための固化物の安定化方法を提供することである。 本発明の固化物は、Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bより構成されていることを特徴とする。

Description

固化物、固化物の製造方法及び固化物の安定化方法
 本発明は、Si-N結合を有する化合物の固化物と、その製造方法及び安定化方法に関する。より詳しくは、特に、Si-N結合を有する化合物を、安定的に固化し、無害化することにより、臭気の発生がなく、かつ安全に廃棄処理することができる固化物とその製造方法、及び製造した固化物を更に安定化するための固化物の安定化方法に関する。
 従来、シリカより構成されている膜は、絶縁膜、誘電体膜、保護膜、親水化膜等として利用することが広く知られている。このようなシリカより構成されている膜は、例えば、LSI(Large Scale Integration)、TFT(Thin Film Transistor)液晶表示装置等の半導体素子の層間絶縁膜、平坦化膜、パッシベーション膜、素子間分離絶縁体等として広く利用されている。
 このようなシリカ膜の製造方法としては、例えば、PVD法(Physical Vapor Deposition)、CVD法(Chemical Vapor Deposition)、湿式塗布法等が知られている。これらの製造方法の中でも、低温焼成によりシリカ膜を形成する方法として、Si-N結合を有する化合物を含む溶液を基材上に湿式法により塗布し、形成した塗膜を焼成等の方法によりシリカの膜に転化する方法が知られている。Si-N結合を有する化合物を用いた湿式塗布法によって形成されたシリカ膜は、膜質が優れていることから、近年特に注目を集めている。
 一般的に、Si-N結合を有する化合物としては、例えば、アミノシラン、シラザン、シリルアセトアミド、シリルイミダゾール、トリメチルシリルアジド等があり、Si-N結合は主に有機ケイ素化合物とアミンの反応で得られ、オルガノシラザンとして知られているが、Si-N結合を有する化合物の合成法には、ハロゲノシランとアンモニア、アミンとの反応、シランとアンモニア、アミンのアルカリ金属塩との反応、有機シリル金属化合物とアンモニアとの反応により形成される。
 このようなSi-N結合を有する化合物は、水分に対しては通常の有機化合物より反応性が高く、そのため取り扱いに注意を要することが必要となる。具体的には、Si-N結合は加水分解を起こし、その際に反応熱を伴うため、このような化合物を取り扱う時には、加水分解反応を極力抑えるため、水分(湿度)を遮断することや、耐熱性の高い容器を使用するなど、様々な対応や注意が必要とされている。
 また、Si-N結合を有する化合物を含む溶液は、水分や酸素に対し非常に活性な溶液であるため、その取扱いと同時に、残液の廃液方法にも多くの課題を抱えていた。
 Si-N結合を有する化合物は、大気中の水分や酸素と反応した場合、下記に示す式(1)及び式(2)のように進行し、シリカ(SiO)の生成と共に、NHガスやHガスが発生することになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 上記式(1)及び(2)で示すような反応が進行すると、Si-N結合を有する化合物のゲル化、過度な反応熱の発生、NHガスやHガスの発生等が生じるため、これらを廃棄する際には、上記のような問題を防止する必要がある。
 このような問題に対し、Si-N結合を有する化合物の溶解性を向上させるため、ケトン類や炭化水素類等の有機溶媒を、Si-N結合を有する化合物を溶解及び希釈のための溶媒として大量に使用して、ポリシラザンを回収及び処理する方法が開示されている(例えば、特許文献1。)。しかしながら、ここで提案されている方法では、Si-N結合を有する化合物を含む多量の有機溶媒が生じるため、その多量の廃液の処理に多大の費用と時間を費やすことになる。
 上記のような多量の希釈溶媒を使用しないでSi-N結合を有する化合物を処理する方法としては、Si-N結合を有する化合物を含有する溶液中の溶媒を揮発及び乾燥させて固化させる方法が考えられる。
 しかしながら、単に、乾燥手段のみで固化させる方法では、固化物全体が完全にシリカに改質せず、固化物になる際に固化物表面だけがシリカに改質し、内部に未反応のSi-N結合を有する化合物がそのまま残留することになる。その結果、廃棄中あるいは固化物の保管中に、温度、湿度条件、廃棄量の複合因子によって、内部に残存しているSi-N結合を有する化合物において、上記式(1)又は式(2)で示すような反応が徐々に進行し、その結果、生じた反応熱による火災や水素発生による爆発、アンモニアガス発生による臭気などの問題の発生が懸念されるため、実用化には至っていない。
 Si-N結合を有する化合物の中でも、特に、ポリシラザンは、Si-N結合を基本ユニットとする高分子化合物であり、大型の設備を必要とせず、比較的簡単な構成の湿式塗布装置を用いて、狭い隙間にも品質のよいシリカ系絶縁膜を形成できる材料として知られている。
 このSi-N結合を有するポリシラザンを用いて、湿式塗布法により形成されたシリカ被膜は、膜質が優れ、高いガスバリアー性を実現することができることから、近年巾広い分野で使用されてきているが、この場合でも、使用済みのSi-N結合を有するポリシラザンを含む溶液が多量に発生し、これらのポリシラザン溶液は非常に活性な溶液のため、上記のような取扱いと同時にその廃液の処理方法には多くの課題を有していた。
 すなわち、従来のSi-N結合を有する化合物の廃棄方法は、廃棄する際に多量の有機溶媒を必要とすること、また廃棄専門業者に廃棄を依頼するため、処理コストが膨大であり、かつ多数のドラム缶を保管する専用の場所の確保が必要であるため、多量のSi-N結合を有する化合物を含む廃液に対しては現実的でなかった。
 従って、Si-N結合を有する化合物の廃棄に際し、多量の有機溶媒を必要とせず、改質固化して無害化することで、簡便、かつ安全に処理する方法の開発が要望されている。
特開2014-203858号公報
 本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、Si-N結合を有する化合物を、改質及び固化し、無害化することで、臭気の発生がなく、安全に処理することができる固化物とその製造方法、及び製造した固化物を更に安定化するための固化物の安定化方法を提供することである。
 本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bとを混合し、化合物Bを酸化触媒として用い、Si-N結合を有する化合物Aを酸化して、無害のSiOに改質乾燥して固化物を形成する方法により、Si-N結合を有する化合物を、改質及び固化し、無害化することで、臭気の発生がなく、安全に処理することができる固化物を得ることができることを見いだし、本発明に至った。
 すなわち、本発明の上記問題は、下記の手段により解決される。
 1.Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bより構成されていることを特徴とする固化物。
 2.JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定した粒径分布において、粒径が22.4mmを超える固化物片の含有比率が、試料固化物5.0gあたり20質量%以下であることを特徴とする第1項に記載の固化物。
 3.前記Si-N結合を有する化合物Aが、ポリシラザンであることを特徴とする第1項又は第2項に記載の固化物。
 4.前記化合物Bを構成する第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)から選択される少なくとも1種であることを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の固化物。
 5.前記第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)であることを特徴とする第4項に記載の固化物。
 6.Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bとを混合させて混合物を形成したのち、当該混合物に乾燥処理を施して固化物を形成することを特徴とする固化物の製造方法。
 7.前記混合物に乾燥処理を施して固化物を形成する乾燥方法が、自然乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、超音波乾燥法及び吸引乾燥法から選択される少なくとも1つ方法であることを特徴とする第6項に記載の固化物の製造方法。
 8.前記乾燥処理後の固化物を、JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定される粒径分布において、粒径が22.4mmを超える固化物片の含有比率が、試料固化物5.0gあたり20質量%以下とすることを特徴とする第6項又は第7項に記載の固化物の製造方法。
 9.前記Si-N結合を有する化合物Aが、ポリシラザンであることを特徴とする第6項から第8項までのいずれか一項に記載の固化物の製造方法。
 10.前記化合物Bを構成する第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)から選択される少なくとも1種であることを特徴とする第6項から第9項までのいずれか一項に記載の固化物の製造方法。
 11.前記化合物Bを構成する第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)であることを特徴とする第10項に記載の固化物の製造方法。
 12.前記混合前のSi-N結合を有する化合物Aに含まれる溶媒が非極性溶媒であり、かつヘッドスペースGC法により測定される前記乾燥処理後の固化物に含まれる非極性溶媒含有量を、1.2質量%以下とすることを特徴とする第6項から第11項までのいずれか一項に記載の固化物の製造方法。
 13.前記非極性溶媒として、ジブチルエーテル又はキシレンを用いることを特徴とする第12項に記載の固化物の製造方法。
 14.第1項から第5項までのいずれか一項に記載の固化物を安定化する固化物の安定化方法であって、
 前記固化物を親水性溶媒中に投入して安定化することを特徴とする固化物の安定化方法。
 本発明の上記手段により、ポリシラザン等のSi-N結合を有する化合物Aを、第2族、第13族又は第14族の金属元素を含む化合物Bにより酸化処理を行うことにより、SiOに改質固化し、無害化することで、臭気の発生がなく、安全に処理することができる固化物とその製造方法、及び製造した固化物を更に安定化するための固化物の安定化方法を提供することができる。
 本発明において、上記のようなSi-N結合を有する化合物を安全に廃棄処理することができる理由としては、以下のように推察している。
 はじめに、前述の繰り返しにはなるが、従来の使用済みのSi-N結合を有する化合物(代表的には、ポリシラザン)の廃棄方法とその問題点について説明する。
 Si-N結合を有する化合物、とりわけ、ポリシラザンを含有する塗布液を用いた機能性膜の形成方法としては、対象とする基材上に、ポリシラザンを含む塗布液を塗布し、その塗膜を焼成等の方法によりシリカ(SiO)の膜に転化する方法が知られている。ポリシラザンを用い、このような湿式塗布法によって形成されたシリカ被膜は、膜質が優れていることから、近年特に注目を集めている。
 一方、ポリシラザンを用いた湿式塗布法においては、ポリシラザンを含む塗布液を基材上に塗布した際、基材の周縁部には、供給される塗布液の液寄り等により、正規部より膜厚が厚くなる厚膜部が形成されるとともに、基板裏面に、当該塗布液がまわり込むという問題が発生する。この基材端部での塗膜の膜厚の不均一化(厚膜化)を防ぐため、通常ポリシラザンを含む塗布液を塗布した後、基材の端部に形成されたポリシラザンを含む塗布液の厚膜部に、ポリシラザンを溶解する処理用溶媒を塗布又は噴射して、周縁部に形成された塗布膜を除去するエッジビードリムーブ処理(以下、EBR処理とも称する)が行われ、これとともに基材の裏面側に周り込んで付着したポリシラザンを除去する目的で、裏面を清浄にするため、バックリンスが行われる。
 このようなポリシラザンを含む塗布液の塗布に伴い生じる洗浄液等の残液に関しては、いくつかの問題を抱えている。ポリシラザンは、大気中も含め非意図的に存在する汚染物質、すなわち、OH-供与化学物質である水、アルコール類、アルデヒド類などと反応する可能性がある。その反応により、前記式(1)及び式(2)で示したように、ポリシラザンが分解して水素ガスとアンモニアガスとシランガスとが生じる。更には反応熱により過熱により容器を腐食、更には火災の懸念まで生じる。そのためポリシラザン廃棄物は、非意図的な汚染物質に接触した場合にさらに分解を受けないよう、安定化させなくてはならないという問題を抱えている。
 現在の廃液処理工程では、専用の廃棄物保持容器に、さらに分解を抑制するように有機溶媒を選択し希釈させることで分解を遅延させている。
 そして、廃棄物保持容器に廃液が満杯になるまで、不安定なポリシラザンを含む溶液を貯留し、該保持容器が一旦満杯になると、廃棄物の一時的な安定化のため、廃棄物は内圧が上がらないように排気口を有するドラムに移される。最終的にこのドラムは密封されて廃棄物処理施設に送られる。その間、廃棄するポリシラザンに対し、多量の希釈溶媒を使用しなければならないこと、且つ、廃棄溶媒を保管する専用倉庫を確保しなければならないことなど、現状としては、コスト面や管理面などで大きな問題を抱えていた。
 また、使用済みのポリシラザン溶液を単に加熱乾燥して固化物にしようとした場合には、加熱及び乾燥処理により、形成した固化物の表面領域(シェル部)は、ポリシラザンからSiOへ改質され無害化されるが、中心部領域(コア部)では加熱・乾燥処理が十分に進行せず、一部はポリシラザンのまま残留している状態になる。このような状態の固化物は、保存する過程で内部のポリシラザンの改質が進行し、アンモニアガスや水素ガスが生じ、あるいは水中に投入した際にも、同様の問題が発生する。
 本発明は、上記問題を踏まえてなされたものであり、その技術的特徴は以下のとおりである。
 本発明の固化物の構成上の特徴は、Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bを化合物Aの酸化触媒として構成していることを特徴とするものである。
 具体的には、溶媒、例えば、非極性溶媒を含むSi-N結合を有する化合物Aに、酸化触媒として周期型周期表の第2族、第13族、及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bを添加して混合液を調製した後、溶媒を揮発させることにより、Si-N結合を有する化合物を、SiOに改質して固化することで、無害化することができ、その結果、臭気の発生がなく、安全に廃棄処理することができる方法である。
 すなわち、固化物を形成する過程で、周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bが、Si-N結合を有する化合物AのSiOへの転化反応を促進させる酸化触媒として作用し、固化物表面のみでなく、固化物の内部も含め固化物全体に渡りほぼ均一に酸化反応が進行する環境を構築させることができ、未反応物(例えば、ポリシラザン)を著しく低減させることができ、後工程で固化物を粉砕したり、高温高湿環境下に曝されたり、あるいは活性な溶液中に固形物が投入されても、前記式(1)や式(2)で示すような反応の発生を著しく低減することができ、その結果、極めて安全性の高い固化物を実現することができた。
Si-N結合を含む化合物の固化物を製造する工程の概要を示すフロー図
 本発明の固化物は、Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物B(酸化触媒)より構成されていることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する又は対応する技術的特徴である。
 本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定した粒径分布において、粒径が22.4mmを超える固化物片の5.0gあたりの質量比率が、20質量%以下であることが、微細な固化物であり、表面から内部までSiOへの転化反応を進行させることができる利点を有する点で好ましい。
 また、前記Si-N結合を有する化合物Aが、ポリシラザンであることが、本発明の目的をより効果的に発現させることができる観点から好ましい。
 また、化合物Bを構成する第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)から選択される少なくとも1種であること、更には、当該元素がアルミニウム(Al)であることが、より効果的にSi-N結合を有する化合物Aを、酸化することができ、無害化することができる観点から好ましい。
 一方、本発明の固化物の製造方法は、Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bとを混合させたのち、乾燥固化して固化物を作製することを特徴とする。
 また、混合物を乾燥固化する方法が、自然乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、超音波乾燥法及び吸引乾燥法から選択される少なくとも1つ方法であることが、Si-N結合を有する化合物Aと化合物Bを乾燥して固化物を形成することができる観点から好ましい。
 また、前記混合前のSi-N結合を有する化合物Aに含まれる溶媒が非極性溶媒であり、かつヘッドスペースGC法により測定される前記乾燥処理後の固化物に含まれる非極性溶媒含有量を、1.2質量%以下とすることが好ましい。
 また、非極性溶媒として、ジブチルエーテル又はキシレンを用いることが、ポリシロキサン等のSo-N結合を有する化合物Aを溶解することができる観点から好ましい。
 以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本発明において示す「~」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
 《固化物の製造方法の全体フロー》
 本発明の固化物は、Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物B(酸化触媒)より構成されていることを特徴とし、具体的には、前記Si-N結合を有する化合物Aと、前記化合物Bとを、混合させたのち、乾燥固化して、固化物を製造することを特徴とする。
 図1は、Si-N結合を含む化合物を改質処理して固化物を製造する代表的な工程の一例を示すフロー図である。
 本発明の固化物の製造方法の主要プロセスとしては、図1に示すように、非極性溶媒に溶解したSi-N結合を有する化合物Aと、第2族、第13族又は第14族の元素から構成される酸化触媒である化合物Bを、例えば、攪拌機等を有する調整釜内で投入して、混合して混合物を調製する。この時の化合物Aと化合物Bの混合比率としては、特に制限はないが、おおむね、化合物Aを100質量%としたとき、化合物Bの添加量は0.1~10質量%の範囲内であり、好ましくは0.1~5.0質量%の範囲内である。
 次いで、化合物A、非極性溶媒及び化合物Bで構成される混合物内において、化合物Bによる化合物Aの酸化処理が進行し、化合物AがSiOへと改質される。この時、前記式(1)及び(2)で示すように改質反応により、アンモニアや水素ガスが発生するが、調整釜を密閉系とし、回収装置等により回収して安全に処理することができる。この時の処理温度としては、特に制限はなく、10~80℃の温度範囲で選択できるが、好ましくは、室温近傍の温度で加熱せずに行うことが好ましい。
 次いで、この混合物に対し、乾燥処理を施して、非極性溶媒を除去することにより、微細な固化物を形成する。この時、固化物においては、混合物の段階で改質反応がほぼ進行しているため、形成された固化物の表面から内部まで、SiOへ改質され、未反応のSi-N結合を有する化合物Aの残留率が極めて低くなるという特徴を有している。
 この時、固化物の形状サイズとしては、JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定した粒径分布において、粒径が2.4mmを超える固化物片の含有比率が、試料固化物5.0gあたり20質量%以下である状態で製造することが好ましい。
 本発明の固化物は、上記フローで製造することにより、上記で規定するサイズ分布の固化物を安定して形成することができる。
 このような方法で製造した固化物は、そのまま固化物の状態で、処理(図1に記載の「廃棄処理1」)してもよい。また、製造した固化物を、更に親水性溶媒中に投入して、わずかに残留している可能性のあるSi-N結合を含む化合物を完全に酸化して、SiO化した後、当該溶液の状態で処理(図1に記載の「廃棄処理2」)を行ってもよい。
 本発明でいう「固化物」とは、従来知られている樹脂フィルム等の基材表面に保持されているSi-N結合を含む化合物や改質されたSiOを含む「層」や「膜」の形態ではなく、Si-N結合を有する化合物やその改質物が、支持体に保持されていなく、独立して単独で存在している状態であると定義する。
 〔固化物のサイズ〕
 本発明の固化物としては、JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定した粒径分布において、粒径が2.4mmを超える固化物片の5.0gあたりの質量比率が、20質量%以下であることが好ましい態様である。
 以下、JIS Z 8815 ふるい分け試験方法による具体的な測定方法について説明する。
 本発明における固化物は、JIS Z 8815の「ふるい分け試験方法」に準拠した下記の方法により、その粒径分布を測定する。
 ふるい分け方法:手動でふるい分け、ふるいを手で振動させながら行う方法。
 製造した固化物5.0gを採取し、JIS Z 8815に準拠した方法で、測定する。予備ふるい分けにより測定される粒径範囲は、1)22.4mmを超えるもの、2)4mmを超え、22.4mm以下、3)1mmを超え、4mm以下、4)1mm以下、に分類され、本発明では、1)22.4mmを超えるものに分類される固化物の全質量に対する含有比率を求める。ここでいう粒径とは、測定上、固化物の長径サイズを表す。
 固形物の大きさが22.4mmを超える固化物の比率が20質量%を超えると、固化物表面でなく内部に多くの溶媒が取り込まれやすい形状となる。即ち、表面のみ固化され、かつ固化物の内部は完全に改質反応(酸化反応)が完結していないために、固化物が衝撃で粉砕されたりすると、内部の反応していない部位が反応し始め、その際、外部環境によってはアンモニアが発生したり、反応熱が発生するという現象が生じる可能性がある。
 〔乾燥処理〕
 本発明の固化物の形成に適用可能な乾燥方法としては、特に制限はなく、一般に広く用いられている乾燥手段を適用することができ、具体的には、自然乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、超音波乾燥法及び吸引乾燥法から選択される少なくとも1つ方法、あるいは2つ以上の方法を組み合わせて行うことができる。
 (乾燥固化手段)
 主に、化合物A及び化合物Bより構成される混合物を乾燥固化する方法としては、自然乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、超音波乾燥法及び吸引乾燥法から選択される少なくとも1つ方法であることが好ましい。
 (自然乾燥法)
 本発明に適用可能な自然乾燥法とは、大気圧環境下で、10~80℃の温度範囲で、相対湿度8~80%RHの範囲内で、風速0~5.0m/sの範囲内で乾燥処理を行う方法である。
 (加熱乾燥法)
 本発明に適用可能な加熱乾燥法とは、大気圧環境下で、46~200℃の温度範囲で乾燥する方法であり、適用する湿度条件や風速に関しては特に制限はない。
 (真空乾燥法)
 本発明に適用可能な真空乾燥法とは、特に制約はないが、温度範囲は40~200℃の範囲内であり、圧力は1×10~1×10Paの範囲内とすることが好ましい。
 (超音波乾燥)
 本発明に適用可能な超音波乾燥法の条件として、特に制約はないが、1~10kHzの周波数の超音波を照射して乾燥する方法が好ましく、その時の処理温度や湿度に特に制限はない。
 (吸引乾燥)
 本発明に適用可能な吸引乾燥法の条件として、特に制約はないが、強力なファンで槽内の空気を吸い込み,循環させ,一部を排気して乾燥させる方法であり、その時の温度条件や湿度に特に制限はない。
 《固化物の構成材料》
 次いで、本発明の固化物の構成材料の詳細について説明する。
 [Si-N結合を有する化合物A]
 本発明に係るSi-N結合を有する化合物Aとしては、特に制限はないが、ポリシラザンであることが、本発明の効果をより発揮することができる点で好ましい態様である。
 本発明でいうポリシラザンとは、ケイ素-窒素結合を有するポリマーであり、Si-N、Si-H、N-H等の結合を有するSiO、Si、及び両方の中間固溶体SiO等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
 (ポリシラザン1:一般式(I)で表される構造を有する化合物)
 具体的には、本発明に係るポリシラザンは、好ましくは下記の一般式(I)で表される構造を有する化合物である。
 一般式(I)
   -〔Si(R)(R)-N(R)〕
 上記一般式(I)において、R、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、置換又は非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基である。この際、R、R及びRは、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。ここで、アルキル基としては、炭素原子数が1~8の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が挙げられる。より具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などがある。また、アリール基としては、炭素原子数が6~30のアリール基が挙げられる。より具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などの非縮合炭化水素基;ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基、アセナフチレニル基、プレイアデニル基、アセナフテニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、アセフェナントリレニル基、アセアントリレニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基などの縮合多環炭化水素基が挙げられる。(トリアルコキシシリル)アルキル基としては、炭素原子数が1~8のアルコキシ基で置換されたシリル基を有する炭素原子数1~8のアルキル基が挙げられる。より具体的には、3-(トリエトキシシリル)プロピル基、3-(トリメトキシシリル)プロピル基などが挙げられる。上記R~Rに、必要に応じて存在する置換基は、特に制限はないが、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基(-OH)、メルカプト基(-SH)、シアノ基(-CN)、スルホ基(-SOH)、カルボキシ基(-COOH)、ニトロ基(-NO)などがある。なお、必要により存在する置換基は、置換するR~Rと同じとなることはない。例えば、R~Rがアルキル基の場合には、さらにアルキル基で置換されることはない。これらのうち、好ましくは、R、R及びRは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、フェニル基、ビニル基、3-(トリエトキシシリル)プロピル基又は3-(トリメトキシシリルプロピル)基である。
 また、上記一般式(I)において、nは整数を表し、一般式(I)で表される構造を有するポリシラザンが、150~150000g/モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。
 上記一般式(I)で表される構造を有する化合物において、好ましい態様の一つは、R、R及びRのすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザン(略称:PHPS)である。
 (ポリシラザン2:一般式(II)で表される構造を有する化合物)
 また、ポリシラザンとしては、下記一般式(II)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
 一般式(II)
   -〔Si(R1′)(R2′)-N(R3′)〕n′-〔Si(R4′)(R5′)-N(R6′)〕
 上記一般式(II)において、R1′、R2′、R3′、R4′、R5′及びR6′は、それぞれ独立して、水素原子、置換又は非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基である。この際、R1′、R2′、R3′、R4′、R5′及びR6′は、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。上記における、置換又は非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基は、上記一般式(I)で説明した定義と同様であるため、ここでの説明は省略する。
 また、上記一般式(II)において、n′及びpは、各々整数であり、一般式(II)で表される構造を有するポリシラザンが150~150000g/モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。なお、n′及びpは、同じ数であってもあるいは異なる数であってもよい。
 上記一般式(II)で表されるポリシラザンのうち、
 1)R1′、R3′及びR6′が各々水素原子を表し、R2′、R4′及びR5′が各々メチル基を表す化合物、
 2)R1′、R3′及びR6′が各々水素原子を表し、R2′、R4′が各々メチル基を表し、R5′がビニル基を表す化合物、
 3)R1′、R3′、R4′及びR6′が各々水素原子を表し、R2′及びR5′が各々メチル基を表す化合物、が好ましい。
 (ポリシラザン3:一般式(III)で表される構造を有する化合物)
 また、ポリシラザンとしては、下記一般式(III)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
 一般式(III)
   -〔Si(R1″)(R2″)-N(R3″)〕n″-〔Si(R4″)(R5″)-N(R6″)〕p″-〔Si(R7′)(R8″)-N(R9″)〕q
 上記一般式(III)において、R1″、R2″、R3″、R4″、R5″、R6″、R7″、R8″及びR9″は、それぞれ独立して、水素原子、置換又は非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基である。この際、R1″、R2″、R3″、R4″、R5″、R6″、R7″、R8″及びR9″は、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。上記における、置換又は非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基は、上記一般式(I)の定義と同様であるため、ここでの説明は省略する。
 また、上記一般式(III)において、n″、p″及びqは、各々整数であり、一般式(III)で表される構造を有するポリシラザンが、150~150000g/モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。なお、n″、p″及びqは、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。
 上記一般式(III)のポリシラザンのうち、R1″、R3″及びR6″が各々水素原子を表し、R2″、R4″、R5″及びR8″が各々メチル基を表し、R9″が(トリエトキシシリル)プロピル基を表し、R7″がアルキル基又は水素原子を表す化合物が好ましい。
 一方、そのSiと結合する水素原子部分の一部がアルキル基等で置換されたオルガノポリシラザンは、メチル基等のアルキル基を有することにより、硬くてもろいポリシラザンによるセラミック膜に靭性を持たせることができる利点がある。このため、用途に応じて適宜、これらパーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。
 パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と6員環及び/又は8員環を中心とする環構造とが共存する構造を有していると推定されている。その分子量は数平均分子量(Mn)で約600~2000程度(ポリスチレン換算)で、液体又は固体の物質があり、その状態は分子量により異なる。
 これらのポリシラザンは、有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されている。ポリシラザン溶液の市販品としては、例えば、AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のNN120-10、NN120-20、NAX120-20、NN110、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NL120-20、NL150A、NP110、NP140、SP140等が挙げられる。
 本発明で使用できるポリシラザンの別の例としては、以下に制限されないが、例えば、上記ポリシラザンにケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン(特開平5-238827号公報)、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン(特開平6-122852号公報)、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン(特開平6-240208号公報)、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン(特開平6-299118号公報)、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン(特開平6-306329号公報)、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン(特開平7-196986号公報)等の、低温でセラミック化するポリシラザンが挙げられる。
 〈非極性溶媒〉
 本発明の固化物の製造工程においては、本発明に係るSi-N結合を有する化合物A、特に、ポリシラザンは、非極性溶媒に溶解した状態で提供することが好ましい。
 一般的な非極性溶媒としては、
 (イ)芳香族化合物:ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、およびデカヒドロナフタレン等、
 (ロ)鎖状飽和炭化水素:n-ペンタン、i-ペンタン、n-ヘキサン、i-ヘキサン、n-ヘプタン、i-ヘプタン、n-オクタン、i-オクタン、n-ノナン、i-ノナン、n-デカン、およびi-デカン等、
 (ハ)環状飽和炭化水素:シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、およびp-メンタン等、
 (ニ)環状不飽和炭化水素:シクロヘキセン、およびジペンテン(リモネン)等、
 (ホ)エーテル類:ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル(MTBE)、アニソール等が挙げられる。
 本発明に適用可能な非極性溶媒は、ポリシラザン等を安定して溶解する特性を備えた溶媒であり、ジブチルエーテル、キシレン、ナフサが好ましく、その中でも、ジブチルエーテル又はキシレンを用いることが特に好ましい。
 [周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物B]
 本発明に係る化合物Bにおいて、第2族の元素としては、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウムが分類される。第13族の元素としては、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ウンウントリウムがこれに分類される。また、炭素及びケイ素を除く第14族の元素としては、ゲルマニウム、スズ、鉛、フレロビウムがこれに分類される。
 本発明においては、その中でも、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)から選択される少なくとも1種であることが好ましく、特には、アルミニウム(Al)であることが好ましい。
 Si-N結合を有する化合物Aに、周期型周期表の第2族、第13族、及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bを添加した後、溶媒を揮発させて、活性なSi-N結合を有する化合物Aを失活(酸化)させて、無害化して安全な固化物を得ることができる理由は、以下のように推測している。
 周期型周期表の第2族、第13族、及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bが、化合物Aに対して酸化触媒として作用し、Si-N結合を有する化合物AのSiO化反応を促進させ、固化物を形成した際に、表面のみでなく深部も含め固化物全体に渡りほぼ均一に反応を促進させることができる。その結果、未反応物を著しく低減させることができ、後工程で固化物が発熱等により粉砕したり、高温高湿環境下にさらされたり、活性な溶液中に固化物が投入されても再度、前記式(1)、式(2)で示すような反応の発生を著しく抑制し、安全性の高い固化物を実現することができたものである。
 〔化合物Bの具体例〕
 本発明に係る化合物Bの例としては、その一例として、金属アルコキシド化合物が挙げられる。
 (金属アルコキシド化合物)
 金属アルコキシド化合物の具体例としては、例えば、ベリリウムアセチルアセトネート、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリn-プロピル、ホウ酸トリイソプロピル、ホウ酸トリn-ブチル、ホウ酸トリtert-ブチル、マグネシウムエトキシド、マグネシウムエトキシエトキシド、マグネシウムメトキシエトキシド、マグネシウムアセチルアセトネート、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリn-プロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリn-ブトキシド、アルミニウムトリsec-ブトキシド、アルミニウムトリtert-ブトキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムエチルアセトアセテートジn-ブチレート、アルミニウムジエチルアセトアセテートモノn-ブチレート、アルミニウムジイソプロピレートモノsec-ブチレート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、ビス(エチルアセトアセテート)(2,4-ペンタンジオナト)アルミニウム、アルミニウムアルキルアセトアセテートジイソプロピレート、アルミニウムオキサイドイソプロポキサイドトリマー、アルミニウムオキサイドオクチレートトリマー、カルシウムメトキシド、カルシウムエトキシド、カルシウムイソプロポキシド、カルシウムアセチルアセトネート、ガリウムメトキシド、ガリウムエトキシド、ガリウムイソプロポキシド、ガリウムアセチルアセトナート、ゲルマニウムメトキシド、ゲルマニウムエトキシド、ゲルマニウムイソプロポキシド、ゲルマニウムn-ブトキシド、ゲルマニウムtert-ブトキシド、エチルトリエトキシゲルマニウム、ストロンチウムイソプロポキシド、トリス(2,4-ペンタンジオナト)インジウム、インジウムイソプロポキシド、インジウムn-ブトキシド、インジウムメトキシエトキシド、スズn-ブトキシド、スズtert-ブトキシド、スズアセチルアセトネート、バリウムジイソプロポキシド、バリウムtert-ブトキシド、バリウムアセチルアセトネート、タリウムエトキシド、タリウムアセチルアセトネート、鉛アセチルアセトネートなどが挙げられる。
 これら金属アルコキシド化合物の中でも、反応性、溶解性等の観点から分岐状のアルコキシ基を有する化合物が好ましく、2-プロポキシ基、又はsec-ブトキシ基を有する化合物がより好ましい。また、安定した固化物を得ることができる観点から、エトキシ基を有する化合物が好ましい。
 さらに、アセチルアセトナート基を有する金属アルコキシド化合物もまた好ましい。アセチルアセトナート基は、カルボニル構造によりアルコキシド化合物の中心元素と相互作用を有するため、取り扱い性が容易になり好ましい。さらに好ましくは上記のアルコキシド基、又はアセチルアセトナート基を複数種有する化合物が、反応性や膜組成の観点からより好ましい。
 また、金属アルコキシド化合物の中心元素としては、ポリシラザン中の窒素原子と配位結合を形成しやすい元素が好ましく、ルイス酸性が高いAl又はBがより好ましい。
 本発明に係る化合物Bとしては、更には、前述のとおり、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含有する化合物であることが好ましく、好ましい金属アルコキシド化合物の具体例としては、マグネシウムエトキシド、ホウ酸トリイソプロピル、アルミニウムトリsec-ブトキシド、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート、カルシウムイソプロポキシド、インジウムイソプロポキシド、ガリウムイソプロポキシド、アルミニウムジイソプロピレートモノsec-ブチレート、アルミニウムエチルアセトアセテートジn-ブチレート、又はアルミニウムジエチルアセトアセテートモノn-ブチレートを挙げることができる。
 金属アルコキシド化合物は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の具体的な例としては、例えば、AMD(アルミニウムジイソプロピレートモノsec-ブチレート)、ASBD(アルミニウムセカンダリーブチレート)、ALCH(アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート)、ALCH-TR(アルミニウムトリスエチルアセトアセテート)、アルミキレートM(アルミニウムアルキルアセトアセテート・ジイソプロピレート)、アルミキレートD(アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート)、アルミキレートA(W)(アルミニウムトリスアセチルアセトネート)(以上、川研ファインケミカル株式会社製)、プレンアクト(登録商標)AL-M(アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、味の素ファインケミカル株式会社製)、オルガチックスシリーズ(マツモトファインケミカル株式会社製)等が挙げられる。
 なお、金属アルコキシド化合物を用いる場合は、ポリシラザンを含む塗布液と不活性ガス雰囲気下で混合することが好ましい。金属アルコキシド化合物が大気中の水分や酸素と反応し、激しく酸化が進むことを抑制するためである。
 (金属アルコキシド以外の化合物B)
 また、金属アルコキシド化合物以外では、下記に示すような化合物を使用することができる。
 〈アルミニウム元素含有化合物〉
 アルミニウム元素含有化合物としては、例えば、アノーソクレース、アルミナ、アルミノケイ酸塩、アルミン酸、アルミン酸ナトリウム、アレキサンドライト、アンモニウム白榴石、イットリウム・アルミニウム・ガーネット、黄長石、尾去沢石、オンファス輝石、輝石、絹雲母、ギブス石、サニディン、サファイア、酸化アルミニウム、水酸化酸化アルミニウム、臭化アルミニウム、十二ホウ化アルミニウム、硝酸アルミニウム、白雲母、水酸化アルミニウム、水素化アルミニウムリチウム、杉石、スピネル、ダイアスポア、ヒ化アルミニウム、ピーコック(顔料)、微斜長石、ヒスイ輝石、氷晶石、普通角閃石、フッ化アルミニウム、沸石、ブラジル石、ベスブ石、Bアルミナ固体電解質、ペツォッタイト、方ソーダ石、有機アルミニウム化合物、リシア輝石、リチア雲母、硫酸アルミニウム、緑柱石、緑泥石、緑簾石、リン化アルミニウム、リン酸アルミニウム等を挙げることができる。
 〈マグネシウム元素含有化合物〉
 マグネシウム元素含有化合物としては、亜鉛緑礬、亜硫酸マグネシウム、安息香酸マグネシウム、カーナライト、過塩素酸マグネシウム、過酸化マグネシウム、滑石、頑火輝石、カンラン石、酢酸マグネシウム、酸化マグネシウム、蛇紋石、臭化マグネシウム、硝酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、スピネル、普通角閃石、普通輝石、フッ化マグネシウム、硫化マグネシウム、硫酸マグネシウム、菱苦土鉱等。
 〈カルシウム元素含有化合物〉
 カルシウム元素含有化合物としては、アラレ石、亜硫酸カルシウム、安息香酸カルシウム、エジプシャンブルー、塩化カルシウム、塩化水酸化カルシウム、塩素酸カルシウム、灰クロム柘榴石、灰重石、灰鉄輝石、灰簾石、過酸化カルシウム、過リン酸石灰、カルシウムシアナミド、次亜塩素酸カルシウム、シアン化カルシウム、臭化カルシウム、重過リン酸石灰、シュウ酸カルシウム、臭素酸カルシウム、硝酸カルシウム、水酸化カルシウム、普通角閃石、普通輝石、フッ化カルシウム、フッ素燐灰石、ヨウ化カルシウム、ヨウ素酸カルシウム、ヨハンセン輝石、硫化カルシウム、硫酸カルシウム、緑閃石、緑簾石、緑簾、リン酸カルシウム等を挙げることができる。
 〈ガリウム元素含有化合物〉
 ガリウム元素含有化合物としては、酸化ガリウム(III)、水酸化ガリウム(III)、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、ヨウ化ガリウム(III)、リン酸ガリウム等を挙げることができる。
 〈ホウ素元素含有化合物〉
 ホウ素元素含有化合物としては、酸化ホウ素、三臭化ホウ素、三フッ化ホウ素、三ヨウ化ホウ素、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ジボラン、ホウ酸、ホウ酸トリメチル、ホウ砂、ボラジン、ボラン、ボロン酸等を挙げることができる。
 〈ゲルマニウム元素含有化合物〉
 ゲルマニウム元素含有化合物としては、有機ゲルマニウム化合物、無機ゲルマニウム化合物、酸化ゲルマニウム等を挙げることができる。
 〈インジウム元素含有化合物〉
 インジウム元素含有化合物としては、酸化インジウム、塩化インジウム等を挙げることができる。
 [親水性溶媒]
 本発明の固化物においては、固化物を形成した後、固化物を親水性溶媒中に投入して安定化処理(廃棄処理2)を施すことが好ましい。
 本発明でいう親水性溶媒とは、水に略均一に溶解する溶媒である。親水性溶媒としては、水の他に、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのグリコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類;などが挙げられる。上記親水性溶媒は、好ましくは、水、又は、水と親水性溶媒の混合溶媒が挙げられる。
 本発明の固化物においては、親水性溶媒中に投入して、残留しているポリシラザン等を完全に酸化処理して、SiOに改質することにより、安全に廃棄することができる。
 《固化物及びその製造方法の適用分野》
 固化物及びその製造方法は、例えば、ガスバリアー性フィルムの製造において、ガスバリアー層の形成にポリシラザン溶液を用いる場合、製造時に回収したポリシラザン溶液廃液、ポリシラザンを含む洗浄液、使用後のポリシラザン液等の廃棄処理を行う場合に、アンモニアや水素ガスの発生を抑制し、多量の有機溶媒を必要とせず、安全に無害化することができる固化物の廃棄処理等に適用することができる。
 以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。
 《固化物の調製》
 〔固化物1の調製〕
 (混合液1の調製)
 化合物A:無触媒のパーヒドロポリシラザンを20質量%含むジブチルエーテル溶液(メルク株式会社製、NN120-20)    231.8g
 非極性溶媒:ジブチルエーテル            1277.6g
 上記2液を混合して、混合液1を調製した。
 (乾燥処理による固化物の調製:自然乾燥法)
 上記混合液1をシャーレ中に投入し、自然乾燥法として、23℃、55%RHの環境下で、風速0.5m/秒の条件で、48時間の乾燥処理を行い、非極性溶媒を揮発させて、固化物1を形成した。
 〔固化物2の調製〕
 (混合液2の調製)
 化合物A:無触媒のパーヒドロポリシラザンを20質量%含むジブチルエーテル溶液(メルク株式会社製、NN120-20)    231.8g
 化合物B:ALCH(川研ファインケミカル株式会社製、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート)        30.6g
 非極性溶媒:ジブチルエーテル            1277.6g
 上記3液を混合して、混合液2を調製した。
 (乾燥処理による固化物の調製)
 上記混合液2をシャーレ中に投入し、60℃、55%RHの環境下で、風速0.5m/秒の条件で、48時間の乾燥処理を行い、非極性溶媒を揮発させて、固化物2を調製した。
 〔固化物3の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Bとして、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートに代えて、同量のインジウム(III)イソプロポキシド(和光純薬工業株式会社製)を用いた以外は同様にして、固化物3を調製した。
 〔固化物4の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Bとして、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートに代えて、同量のガリウム(III)イソプロポキシド(和光純薬工
業株式会社製)を用いた以外は同様にして、固化物4を調製した。
 〔固化物5の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Bとして、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートに代えて、同量のマグネシウムエトキシド(和光純薬工業株式会社製)を用いた以外は同様にして、固化物5を調製した。
 〔固化物6の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Bとして、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートに代えて、同量のカルシウムイソプロポキシド(SIGMA-ALDRICH社製)を用いた以外は同様にして、固化物6を調製した。
 〔固化物7の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Bとして、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートに代えて、同量のゲルマニウム(IV)イソプロポキシド(和光純薬工業株式会社製)を用いた以外は同様にして、固化物7を調製した。
 〔固化物8の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Bとして、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレートに代えて、同量のホウ酸トリイソプロピル(和光純薬工業株式会社製)を用いた以外は同様にして、固化物8を調製した。
 〔固化物9の調製〕
 上記固化物2の調製において、非極性溶媒として、ジブチルエーテルに代えて、同量のキシレンを用いた以外は同様にして、固化物9を調製した。
 〔固化物10の調製〕
 上記固化物2の調製において、化合物Aとして、無触媒のパーヒドロポリシラザンを20質量%含むジブチルエーテル溶液の単独構成に代えて、無触媒のパーヒドロポリシラザンを20質量%含むジブチルエーテル溶液(メルク株式会社製、NN120-20)の185.44gと、アミン触媒を含むパーヒドロポリシラザンの20質量%ジブチルエーテル溶液(メルク株式会社製、NAX120-20)の46.36gの混合液に変更した以外は同様にして、固化物10を調製した。
 〔固化物11の調製〕
 上記固化物2の調製において、乾燥方法として、自然乾燥法に代えて、下記の加熱乾燥法により乾燥を行った以外は同様にして、固化物11を調製した。
 (加熱乾燥法)
 シャーレに入れた固化物を、大気圧下、150℃で5時間の乾燥処理を行った。
 〔固化物12の調製〕
 上記固化物2の調製において、乾燥方法として、自然乾燥法に代えて、下記の真空乾燥法により乾燥を行った以外は同様にして、固化物12を調製した。
 (真空乾燥法)
 シャーレに入れた固化物を、1×10Paの減圧下で、100℃で2時間の乾燥処理を行った。
 〔固化物13の調製〕
 上記固化物2の調製において、乾燥方法として、自然乾燥法に代えて、下記の超音波乾燥法により乾燥を行った以外は同様にして、固化物13を調製した。
 (超音波乾燥法)
 シャーレに入れた固化物を、大気圧下、45℃で5kHzの超音波を5時間照射して乾燥処理を行った。
 〔固化物14の調製〕
 上記固化物2の調製において、乾燥方法として、自然乾燥法に代えて、下記の吸引乾燥法により乾燥を行った以外は同様にして、固化物14を調製した。
 (吸引乾燥法)
 シャーレに入れた固化物を、大気圧下、60℃で15m/分の風速を4時間吸引排気させて乾燥処理を行った。
 《固化物の特性値の測定及び評価》
 〔固化物の粒径測定〕
 JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠し、粒径範囲が22.4mmを超える固化物の含有比率を下記の方法により測定した。
 上記調製した各固化物を測定試料として5.0g採取し、JIS Z 8815のふるい分け試験により、粒径が22.4mmを超える固形物の比率(質量%)を測定した。
 〔固化物中の非極性溶媒量の測定〕
 固化物中に含まれる非極性溶媒の残留量を、ヘッドスペースGC法により測定した。
 測定装置として、アジレントテクノロジー社製のGC/MS(型番:6890GC/5973A)を用いた。固化物100mgを精秤して10mLのメタノールを加えて超音波抽出を行った。上澄み液をクロマトディスクで濾過した後、上記GC/MSを用いて、非極性溶媒(ジブチるエーテル又はキシレン)の定量を行った。
 〔アンモニア発生量の測定〕
 23℃、100gの水を200mlのポリ瓶容器に入れ、固化物を5g採取し、投入した。次いで、ポリ瓶容器の蓋を閉めて5分間放置した後、蓋を開けのアンモニア発生量をアンモニア測定器として株式会社シロ産業社製の品番:M693-800XP(0.1ppmから50ppmで、解像度が、0.1ppm)を用いて測定した。
 なお、測定値が50ppmを超えた場合には、株式会社ジコー製のGAXT-A-DL(測定レンジ0~100ppm、分解能1ppm)を用いて測定した。
 〔嗅覚評価〕
 上記アンモニア発生量の測定において、水中に固化物を投入した後、蓋を開けた際のアンモニア臭の状況を20人の一般モニターに判定してもらい、下記の基準によりランク付けし、20人の総点数を求め、これを嗅覚評価の尺度とした。
 5:強烈な臭いである(アンモニア濃度:約40ppm程度)
 4:強い臭いである(アンモニア濃度:約10ppm程度)
 3:容易にアンモニア臭と感知できる臭いである(アンモニア濃度:約2.0ppm程度)
 2:やっとアンモニア臭であると感知できる弱い臭い(アンモニア濃度:約0.6ppm程度)
 1:ほとんどアンモニア臭が感知できない(アンモニア濃度:約0.1ppm程度)
 以上により得られた結果を、表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表1に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する化合物Aと、酸化触媒である化合物Bより形成した固化物は、固化物中での未反応の化合物Aに起因するアンモニアの発生量が極めて低く、固化物内部まで完全に改質処理が進行して固化し、無害化されていることが分かる。
 本発明によれば、Si-N結合を有する化合物を、改質及び固化し、無害化することで、臭気の発生がなく、安全に処理することができる固化物を得ることができ、絶縁膜、誘電体膜、保護膜、親水化膜等に適用するシリカ膜を形成する際に使用したのちのSi-N結合を有する化合物の廃液処理に適用することができる。

Claims (14)

  1.  Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bより構成されていることを特徴とする固化物。
  2.  JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定した粒径分布において、粒径が22.4mmを超える固化物片の含有比率が、試料固化物5.0gあたり20質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の固化物。
  3.  前記Si-N結合を有する化合物Aが、ポリシラザンであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の固化物。
  4.  前記化合物Bを構成する第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の固化物。
  5.  前記第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)であることを特徴とする請求項4に記載の固化物。
  6.  Si-N結合を有する化合物Aと、長周期型周期表の第2族、第13族及びケイ素と炭素を除く第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む化合物Bとを混合させて混合物を形成したのち、当該混合物に乾燥処理を施して固化物を形成することを特徴とする固化物の製造方法。
  7.  前記混合物に乾燥処理を施して固化物を形成する乾燥方法が、自然乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、超音波乾燥法及び吸引乾燥法から選択される少なくとも1つ方法であることを特徴とする請求項6に記載の固化物の製造方法。
  8.  前記乾燥処理後の固化物を、JIS Z 8815 ふるい分け試験方法に準拠して測定される粒径分布において、粒径が22.4mmを超える固化物片の含有比率が、試料固化物5.0gあたり20質量%以下とすることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の固化物の製造方法。
  9.  前記Si-N結合を有する化合物Aが、ポリシラザンであることを特徴とする請求項6から請求項8までのいずれか一項に記載の固化物の製造方法。
  10.  前記化合物Bを構成する第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ゲルマニウム(Ge)及びホウ素(B)から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項6から請求項9までのいずれか一項に記載の固化物の製造方法。
  11.  前記化合物Bを構成する第2族、第13族及び第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素が、アルミニウム(Al)であることを特徴とする請求項10に記載の固化物の製造方法。
  12.  前記混合前のSi-N結合を有する化合物Aに含まれる溶媒が非極性溶媒であり、かつヘッドスペースGC法により測定される前記乾燥処理後の固化物に含まれる非極性溶媒含有量を、1.2質量%以下とすることを特徴とする請求項6から請求項11までのいずれか一項に記載の固化物の製造方法。
  13.  前記非極性溶媒として、ジブチルエーテル又はキシレンを用いることを特徴とする請求項12に記載の固化物の製造方法。
  14.  請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の固化物を安定化する固化物の安定化方法であって、
     前記固化物を親水性溶媒中に投入して安定化することを特徴とする固化物の安定化方法。
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