WO2016055166A2 - Beschichtungsfolie, schichtaufbau, sowie verfahren zum beschichten eines substrats - Google Patents

Beschichtungsfolie, schichtaufbau, sowie verfahren zum beschichten eines substrats Download PDF

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WO2016055166A2 PCT/EP2015/002001 EP2015002001W WO2016055166A2 WO 2016055166 A2 WO2016055166 A2 WO 2016055166A2 EP 2015002001 W EP2015002001 W EP 2015002001W WO 2016055166 A2 WO2016055166 A2 WO 2016055166A2
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation

Definitions

  • the invention relates to a method for coating a substrate, in which a coating material is transferred by laser irradiation from a carrier to the substrate.
  • the invention relates to a coating film suitable for carrying out the method and to a layer structure produced according to the method.
  • DE 102 37 732 B4 discloses a laser beam marking method in which a marking material is first applied to one side of a carrier substrate.
  • the array of carrier substrate and target substrate is then processed with a transfer / conversion laser beam such that the marking material is transferred and bonded to the target substrate from the carrier substrate, the marker material being received in recesses of the carrier substrate such that transfer occurs in a preferred direction ,
  • At least one pigment-containing layer which may be in the form of a plastic film is brought into contact with a substrate to be printed surface in order then to be transferred for example by means' of a Nd-YAG laser, excimer laser or a nitrogen laser pigments to the substrate surface.
  • the substrate may be a glass or plastic article.
  • pigments DE 195 17 625 A1 mentions carbon, metal compounds and metals.
  • CONFIRMATION COPY US 6,177,151 Bl discloses a method for direct laser-based labeling, which in addition to the transfer of metals to a substrate and the order of numerous other materials, such as materials
  • Workpieces to be marked may consist of metal, plastic, ceramics, glass or glass ceramics.
  • DE 101 52 073 AI describes a laser transfer film, which is intended for permanent labeling of components.
  • carrier material for example, a PVC film or PET film is used.
  • a colored laser marking is for example from the
  • the layer system used for plastic parts is made up of two superimposed layers, wherein the first layer contains an energy absorber and the second layer serves as a labeling medium.
  • the invention is based on the object, a laser transfer method, that is working with a carrier medium method for laser-based labeling or other structured coating of workpieces, compared to the cited prior art, especially in terms of ease of use, variety of applications, as well as reliable, precise Reproducibility of the parameters of the coating produced by the process.
  • This object is achieved by a method for coating a substrate according to claim 1. Further, the object is achieved by a suitable for use in the process coating film according to claim 12. Furthermore, the object is achieved by a layer structure according to claim
  • a carrier film made of PET polyethylene terephthalate
  • a coating material is deposited by means of physical vapor deposition, ie PVD (physical vapor deposition) coating.
  • the carrier film coating can be formed either by the coating material alone or by the coating material in combination with at least one further component.
  • the coated carrier film is brought into areal contact with a substrate to be coated. Subsequently, from a partial surface of the carrier foil by laser irradiation, in particular irradiation with a pulsed laser,
  • the laser beam can strike the coating material applied to the carrier film punctiform, linear or flat. After the transfer caused by the laser irradiation and, if appropriate, conversion of the coating material, the carrier foil with the non-transferred coating material still thereon is removed from the substrate, whereby the layer structure is completed.
  • a post-processing of the layer structure is usually not provided, but in principle - for example, by applying another layer - possible.
  • the coating can be applied to a variety of materials such as glass, metals, textiles, ceramics or plastic. As coating materials are all
  • Suitable materials that can be deposited by the PVD process are a variety of known coating materials available, which are selectable on the basis of their electrical, optical and mechanical properties and chemical resistance.
  • metallic coating materials are exemplified iron, gold, silver and titanium.
  • semiconductors and ceramic materials are usable as a coating material.
  • an SiO x N y -coating deposited in the PVD method that is to say a SiO x N y -PVD layer, is suitable as material with which the carrier foil is coated.
  • DE 10 2009 033 511 A1 which discloses silicon-oxide-nitrides as components of a micromirror arrangement
  • DE 10 2010 013 038 A1 which describes SiO x N y as a barrier layer for a photovoltaic cell
  • SiOxNy PVD layer forms a corrosion protection layer on the product.
  • the corrosion protection is thermally activated during the transfer of the material to the substrate by the SiO x N y layer irreversibly dissolves by heating by laser to typically several hundred degrees Celsius, and thus a sealed
  • the coating which can be produced from various materials can be applied to the substrate in the form of a label, a decoration or-in the case of metallic coating materials-in the form of printed conductors.
  • the layer thickness is preferably minimized to such an extent that the desired effect just barely occurs.
  • the thickness of the coating material on the coating film can be less than 100 nm.
  • Various color effects can be generated in a rational manner by varying the parameters of the laser irradiation during the production of the coating in a single operation.
  • the carrier film coating is constructed in three layers.
  • an intermediate layer (“Laser Release"), on which the coating material is deposited, is located directly on the carrier film
  • the sum of the thickness of the intermediate layer and the thickness of the cover layer is preferably not greater than the thickness of the cover layer ("laser adhesive") provided for direct contacting of the substrate
  • Coating material for example, at most half as large as the thickness of the coating material.
  • the carrier foil coating is formed by two metal layers, wherein one layer is the main coating component and the other layer is an auxiliary component.
  • the auxiliary component is located between the carrier film and the main coating component and has a substantially lower thickness than the main coating component, for example less than one quarter of the thickness of the main coating component.
  • the main coating component is gold and the auxiliary component is tin.
  • the gold is preferably present in a thickness of at least 30 nm and at most 300 nm and the tin in a thickness of at least 2 nm and at most 80 nm.
  • the entire carrier film coating is formed exclusively by a single metallic component.
  • This may in particular be a titanium layer.
  • a part of the titanium can be deliberately oxidized, resulting in different color effects depending on the parameters set.
  • Titanium layer has to produce part surfaces of a substrate to be coated in different colors. In this case, sharp transitions between the different colored partial surfaces can be produced.
  • Protective layer is formed on the substrate.
  • the coating is thus not only resistant to corrosion itself, but also represents a protective coating against corrosion on the product.
  • the gentle melting even at low energies is favored by a high nanoporosity of the coating material located on the substrate.
  • a carrier film is preferably used, to which different materials are applied, which differ from each other in terms of their porosity:
  • a PVD layer for example of tin
  • another material for example gold, with less or virtually no porosity and a smaller layer thickness is sputtered or vapor-deposited onto this layer.
  • Carrier film on the substrate is achievable by one and the same point of the substrate several times with material
  • Substrate is performed several times in succession, in temporally separate steps. This is possible in two different ways: Either the Carrier film between the laser irradiations shifted on the surface of the substrate, so that at each
  • Irradiation material is removed from another surface portion of the carrier sheet, or the local relation between the carrier sheet and substrate remains during the
  • Substrate be coated one or more times, the material transfer from the carrier film to the substrate in a significantly wide interval of possible distances between the carrier film and substrate feasible. In this case, for example, a distance between substrate and carrier film of up to 0.2 mm or even up to 0.4 mm are present. If known, in which areas the surface of the carrier film
  • Substrate is deepened, for example, only the
  • recessed areas, only the surrounding areas or all areas of the substrate are coated by transferred from the carrier film material.
  • the material undergoes a chemical change in this way, it can be used to generate targeted color effects. For example, it comes during the material transfer to a dependent on the path length oxidation of the material.
  • the different degree of oxidation perceptible to the finished product with the naked eye corresponds to the position of the depressions on the substrate surface. This is especially true in cases where titanium is transferred from the carrier sheet to the substrate. With titanium as coating material, therefore, even without variation of the parameters of the laser irradiation are closed layers
  • Substrate are recognizable, generated by the aforementioned variation of parameters of the laser irradiation.
  • FIGS. 1 and 2 show an example of a laser-assisted application of a coating material to a substrate using a three-layer coated carrier film
  • FIGS. 3 and 4 in illustrations analogous to FIGS. 1 and 2
  • Components namely gold and tin, formed carrier film coating.
  • a laser emitter 1 serves to transfer a coating material from a carrier film 3 made of PET (polyethylene terephthalate), that is, a polyester film, to a substrate 4
  • a carrier film 3 made of PET (polyethylene terephthalate), that is, a polyester film
  • Substrate 4 in all exemplary embodiments is in each case a workpiece made of a non-metallic material
  • the carrier film 3 is transparent and has a thickness of 75 m.
  • the coating material 2 together with further components (FIG. 1, FIG. 3) or alone (FIG. 2) forms a carrier film coating denoted by 5.
  • the coating material 2 is deposited as a PVD layer on the carrier film 3.
  • the coating material 2 can be applied to the substrate 4 by sputtering or vapor deposition.
  • the carrier film coating 5 is therefore very uniform and can be produced with high material quality.
  • the carrier film coating 5 is constructed in three layers: The coating material 2 is separated from the carrier film 3 by an intermediate layer 6, which contributes significantly to easy detachability of the carrier film 3 from the coating material 2 after the end of the laser irradiation. That on the
  • Carrier film 3 located coating material 2 is covered by a cover layer 7, which forms a surface of the total designated 8 coating film and acts as a primer.
  • the intermediate layer 6 and the cover layer 7 are each only a few nm thick. Overall, the thickness of the carrier film coating 5 is between 80 nm and 300 nm. This is an opaque, that is opaque coating. Thinner, semi-transparent layers can likewise be transferred to the substrate 4.
  • Arrangement of coating film 8 and substrate 4 processed by means of a dashed line in Fig. 1 symbolized laser beam.
  • the laser beam almost completely penetrates the transparent carrier film 3 and heats the coating material 2, which thereby acts on the substrate 4 is transmitted and firmly connects with this.
  • Coating film 8 is transferred to the substrate, this may be subjected to an at least partial chemical conversion and in particular with components of the
  • FIGS. 3 and 4 illustrate two different embodiments, which differ from one another with regard to the materials used, but not with regard to the cross-sectional configurations which can be seen in the figures.
  • Carrier film coating 5 exclusively of titanium as
  • Coating material 2 is formed.
  • the laser irradiation transforms a part of the titanium into titanium oxide, which in a targeted way produces different color effects on the titanium dioxide
  • Substrate 4 can be achieved.
  • the carrier film coating 5 is 250 nm thick and is in the PVD method with the following
  • Titanium target power 2 x 2000
  • the carrier film coating 5 can be produced, for example, using a CC800 / 9 sputtering system from CemeCon AG, D-52146 Würselen. The transfer of the coating material 2 of the
  • Coating foil 8 onto the substrate 4 takes place with the aid of an Nd-YAG laser of the type PowerLine E R-10 from Rofin-Sinar, Madison, MI 48170, USA, with the following settings:
  • the variation of the overlap generates different colors of the coating material 2 on the substrate 4, namely glass.
  • interference effects play a role.
  • An intermediate layer 6 or a cover layer 7 are in
  • Embodiment according to FIGS. 3 and 4 is not required, since the coating material 2, namely titanium, takes over the function of these layers. In the same way as on
  • Glass can titanium as a coating material 2 with adjustable color, depending on the thickness opaque or in any fine gradations more or less translucent, even on steel, ceramic, plastic, porcelain and textiles, both of synthetic fibers and natural fibers applied.
  • the surface of the substrate 4 structures for example in the form of depressions, have, which have an influence on the coating color.
  • the carrier film coating 5 is formed by a gold-tin alloy as the coating material 2.
  • the proportion of gold is greater than the proportion to tin in the coating material 2.
  • the forming on the substrate gold-tin layer has a golden color and is very adhesive.
  • the carrier film coating 5 is purely metallic in the embodiment of FIGS.
  • FIGS. 5 and 6 it is not constructed as a single layer, but as a two-layer, namely, a main coating component 9 and an auxiliary component 10.
  • the auxiliary component 10 separates the main coating component 9 from the carrier film 3.
  • the auxiliary component 10 is in the form of a tin layer with a thickness of 2 to 80 nm.
  • the main coating component 9 is a
  • Components 9, 10 of the carrier film coating 5 are sputtered onto the carrier film 3.
  • the main coating component 9 is detached from the carrier film 3, almost simultaneously a portion of the tin forming the auxiliary component 10 reaching the interface between the main coating component 9 and the substrate 4, namely an article made of glass.
  • tin used is in a purity of more than 98%, the gold also used for sputtering in a purity of at least 99.99% before.
  • the chamber pressure during coating is about 700 mPa.
  • the auxiliary component 10 (tin) deposited on the carrier film by the PVD method has a thickness of 50 nm, and the main coating component 9 (gold) has a thickness of 200 nm.
  • the coating material 2 has a uniform coloring on the substrate 4.

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Abstract

Ein Substrat (4), insbesondere aus einem nichtmetallischen Werkstoff, wird auf folgende Weise beschichtet: - Auf eine Trägerfolie (3) aus Polyethylenterephthalat wird durch physikalische Gasphasenabscheidung ein Beschichtungsmaterial (2) abgeschieden, - die mit dem Beschichtungsmaterial (2) versehene Trägerfolie (3) wird in Kontakt mit einem zu beschichtenden Substrat (4) gebracht, - durch Laserbestrahlung wird Beschichtungsmaterial (2) partiell von der Trägerfolie (3) auf das Substrat (4) übertragen, - die Trägerfolie (3) samt nicht übertragenem Beschichtungsmaterial (2) wird vom Substrat (4) entfernt.

Description

Beschreibung
Beschich ungsfolie , Schichtaufbau , sowie Verfahren zum
Beschichten eines Substrats
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats, bei welchem ein Beschichtungsmaterial durch Laserbestrahlung von einem Träger auf das Substrat übertragen wird. Neben einem solchen Laser-Transferverfahren betrifft die Erfindung eine zur Durchführung des Verfahrens geeignete Beschichtungsfolie sowie einen gemäß dem Verfahren hergestellten Schichtaufbau.
Die DE 102 37 732 B4 offenbart ein Laserstrahlmarkierungs- verfahren, bei welchem zunächst ein Markierungsmaterial auf einer Seite eines Trägersubstrats aufgebracht wird.
Anschließend wird diejenige Seite des Trägersubstrats, die das Markierungsmaterial trägt, auf einem Zielsubstrat
angeordnet. Die Anordnung aus Trägersubstrat und Zielsubstrat wird dann derart mit einem Transfer/Konversions-Laserstrahl bearbeitet, dass das Markierungsmaterial vom Trägersubstrat zum Zielsubstrat transferiert und mit diesem verbunden wird, wobei das Markierungsmaterial derart in Ausnehmungen des Trägersubstrats aufgenommen ist, dass der Transfer in einer Vorzugsrichtung erfolgt.
Ein weiteres laserbasiertes Verfahren zum Bedrucken fester Substratoberflächen ist beispielsweise in der DE 195 17 625 AI offenbart. Im Rahmen dieses Verfahrens wird eine
wenigstens ein Pigment enthaltende Schicht, welche in Form einer Kunststofffolie vorliegen kann, in Berührung mit einer zu bedruckenden Substratoberfläche gebracht, um anschließend beispielsweise mit Hilfe' eines Nd-YAG-Lasers , Excimer-Lasers oder Stickstoff-Lasers Pigmente auf die Substratoberfläche zu übertragen. Bei dem Substrat kann es sich beispielsweise um einen Glas- oder Kunststoffgegenständ handeln. Als Pigmente sind in der DE 195 17 625 AI Kohlenstoff, Metallverbindungen und Metalle genannt.
BESTÄTIGUNGSKOPIE Die US 6,177,151 Bl offenbart ein Verfahren zum direkten laserbasierten Beschriften, welches neben dem Transfer von Metallen auf ein Substrat auch den Auftrag zahlreicher anderer Materialien, beispielsweise Materialien mit
speziellen dielektrischen, piezoelektrischen oder elektro- optischen Eigenschaften, sowie Halbleitern ermöglichen soll. Das aus der US 6,177,151 Bl bekannte Verfahren arbeitet mit einem gepulsten Laser.
Bei einem aus der WO 99/16625 AI bekannten Lasermarkierungsverfahren erfolgt die Laserbearbeitung mittels eines
defokusierten Laserstrahls. Zu markierende Werkstücke können hierbei aus Metall, Kunststoff, Keramik, Glas oder Glas- keramik bestehen.
Die DE 101 52 073 AI beschreibt eine Laser-Transferfolie, welche zum dauerhaften Beschriften von Bauteilen vorgesehen ist. Als Trägermaterial wird hierbei beispielsweise eine PVC- Folie oder PET-Folie verwendet.
Eine farbige Lasermarkierung ist zum Beispiel aus der
DE 10 2004 053 376 AI bekannt. Ein zur Markierung von
Kunststoffteilen verwendetes Schichtsystem ist hierbei aus zwei übereinanderliegenden Schichten aufgebaut, wobei die erste Schicht einen Energieabsorber enthält und die zweite Schicht als Beschriftungsmedium dient.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Laser- Transferverfahren, das heißt ein mit einem Trägermedium arbeitendes Verfahren zum laserbasierten Beschriften oder sonstigen strukturierten Beschichten von Werkstücken, gegenüber dem genannten Stand der Technik insbesondere hinsichtlich Anwenderfreundlichkeit, Vielfalt der Einsatzmöglich- keiten, sowie zuverlässiger, präziser Reproduzierbarkeit der Parameter der mit dem Verfahren hergestellten Beschichtung weiterzuentwickeln . Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats gemäß Anspruch 1. Weiter wird die Aufgabe gelöst durch eine zur Verwendung in dem Verfahren geeignete Beschichtungsfolie nach Anspruch 12. Ferner wird die Aufgabe gelöst durch einen Schichtaufbau nach Anspruch
23, welcher mit Hilfe einer Beschichtungsfolie gemäß Anspruch 12 durch das Verfahren nach Anspruch 1 herstellbar ist. Im Folgenden im Zusammenhang mit den Vorrichtungen, das heißt der Beschichtungsfolie und dem Schichtaufbau, erläuterte Ausgestaltungen und Vorteile der Erfindung gelten sinngemäß für das Beschichtungsverfahren und umgekehrt.
Für das Beschichtungsverfahren wird eine Trägerfolie aus PET ( Polyethylenterephthalat) verwendet, auf welcher durch physi- kaiische Gasphasenabscheidung, das heißt PVD-Beschichtung (physical vapor deposition) , ein Beschichtungsmaterial abgeschieden ist. Hierbei kann die Trägerfolienbeschichtung entweder durch das Beschichtungsmaterial allein oder durch das Beschichtungsmaterial in Kombination mit mindestens einer weiteren Komponente gebildet sein. In jedem Fall wird die beschichtete Trägerfolie in einen flächigen Kontakt mit einem zu beschichtenden Substrat gebracht. Anschließend wird von einer Teilfläche der Trägerfolie durch Laserbestrahlung, insbesondere Bestrahlung mit einem gepulsten Laser,
Beschichtungsmaterial von der Trägerfolie auf das Substrat übertragen .
Bei der Übertragung ist je nach den verwendeten Materialien und Parametern der Verfahrensführung eine teilweise oder vollständige Umwandlung des Beschichtungsmaterials möglich.
Der Laserstrahl kann beispielsweise punktförmig, linienförmig oder flächig auf das auf die Trägerfolie aufgebrachte Beschichtungsmaterial treffen. Nach der durch die Laserbestrahlung bewirkten Übertragung und gegebenenfalls Umwandlung von Beschichtungsmaterial wird die Trägerfolie mit noch darauf befindlichem, nicht übertragenem Beschichtungsmaterial vom Substrat entfernt, womit der Schichtaufbau fertiggestellt ist. Eine Nachbearbeitung des Schichtaufbaus ist in der Regel nicht vorgesehen, jedoch prinzipiell - beispielsweise durch Aufbringen einer weiteren Schicht - möglich.
Die Beschichtung kann auf unterschiedlichste Materialien wie Glas, Metalle, Textilien, Keramik oder Kunststoff aufgetragen werden. Als Beschichtungsmaterialien sind sämtliche
Materialien geeignet, die im PVD-Verfahren abscheidbar sind. Hierbei steht eine Vielzahl an sich bekannter Beschichtungsmaterialien zur Verfügung, welche anhand ihrer elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften sowie der chemischen Beständigkeit auswählbar sind. Als metallische Beschichtungsmaterialien sind beispielhaft Eisen, Gold, Silber und Titan zu nennen. Ebenso sind Halbleiter und keramische Materialien als Beschichtungsmaterial verwendbar. Des weiteren eignet sich eine im PVD-Verfahren abgeschiedene SiOxNy-Beschichtung, das heißt eine SiOxNy-PVD-Schicht , als Material, mit welchem die Trägerfolie beschichtet ist. In diesem Zusammenhang wird auf die Offenlegungsschriften DE 10 2009 033 511 AI, welche Silizium-Oxid-Nitride als Komponenten einer Mikrospiegel- anordnung offenbart, sowie DE 10 2010 013 038 AI, welche SiOxNy als Barriereschicht für eine Fotovoltaikzelle
beschreibt, verwiesen.
Die zunächst auf der Trägerfolie befindliche, auf eine
Produktoberfläche, das heißt Substratoberfläche, transferierte SiOxNy-PVD-Schicht bildet eine Korrosionsschutzschicht auf dem Produkt. Hierbei wird der Korrosionsschutz während der Übertragung des Materials auf das Substrat thermisch aktiviert, indem die SiOxNy-Schicht durch Aufheizen per Laser auf typischerweise einige hundert Grad Celsius irreversibel zerfließt und damit eine abgedichtete
Produktoberfläche erzeugt wird.
Die aus verschiedenen Materialien herstellbare Beschichtung kann beispielsweise in Form einer Beschriftung, eines Dekors oder - im Fall metallischer Beschichtungsmaterialien - in Form von Leiterbahnen auf das Substrat aufgebracht werden. In Anwendungsfällen, in denen durch die Beschriftung hauptsächlich ein optischer Effekt erzielt werden soll, ist die Schichtdicke vorzugsweise soweit minimiert, dass sich der gewünschte Effekt gerade noch einstellt. Bei metallischen Beschichtungsmaterialien kann die Dicke des Beschichtungs- materials auf der Beschichtungsfolie hierbei weniger als 100 nm betragen. Verschiedene Farbeffekte sind in rationeller Weise durch Variation der Parameter der Laserbestrahlung bei der Herstellung der Beschichtung in einem einzigen Arbeits- gang erzeugbar.
Gemäß einer ersten möglichen Ausgestaltung ist die Träger- folienbeschichtung dreilagig aufgebaut. Hierbei befindet sich unmittelbar auf der Trägerfolie eine Zwischenschicht („Laser Release"), auf welcher das Beschichtungsmaterial abgeschieden ist. Das Beschichtungsmaterial wiederum ist durch eine
Deckschicht („Laser Adhesive") abgedeckt, die zur unmittelbaren Kontaktierung des Substrats vorgesehen ist. Die Summe aus der Dicke der Zwischenschicht und der Dicke der Deck- schicht ist vorzugsweise nicht größer als die Dicke des
Beschichtungsmaterials, beispielsweise maximal halb so groß wie die Dicke des Beschichtungsmaterials.
Gemäß einer anderen möglichen Ausgestaltung ist die Träger- folienbeschichtung durch zwei Metallschichten gebildet, wobei es sich bei einer Schicht um die Hauptbeschichtungskomponente und bei der anderen Schicht um eine Hilfskomponente handelt. Die Hilfskomponente befindet sich zwischen der Trägerfolie und der Hauptbeschichtungskomponente und weist eine wesent- lieh geringere Dicke als die Hauptbeschichtungskomponente, beispielsweise weniger als ein Viertel der Dicke der Hauptbeschichtungskomponente auf. In vorteilhafter Materialkombination handelt es sich bei der Hauptbeschichtungskomponente um Gold und bei der Hilfskomponente um Zinn. Hierbei liegt das Gold vorzugsweise in einer Dicke von mindestens 30 nm und höchstens 300 nm und das Zinn in einer Dicke von mindestens 2 nm und höchstens 80 nm vor. Überraschenderweise hat sich gezeigt, dass sehr haftfeste, beständige, goldene Kennzeichnungen oder sonstige Be- schichtungen auch mit einer Trägerfolie herstellbar sind, auf welche im PVD-Verfahren zunächst Gold, vorzugsweise in einer Dicke von 30 bis 300 nm, und anschließend eine im Vergleich zur Goldschicht dünnere Zinnschicht, vorzugsweise in einer Dicke von 2 bis 80 nm, abgeschieden ist.
Ebenso ist es möglich, auf der Trägerfolie gleichzeitig verschiedene Materialien, insbesondere Gold und Zinn, abzuscheiden. Hierfür kommt entweder die Verwendung verschiedener Targets oder eines Legierungstargets in Betracht. In beiden Fällen sind mit dem betreffenden Verfahren auf dem Substrat extrem haltbare, golden glänzende Beschichtungen erzeugbar, deren Dicke vorzugsweise mindestens 10 nm und höchstens
400 nm beträgt.
Gemäß einer ebenfalls möglichen Ausgestaltung ist die gesamte Trägerfolienbeschichtung ausschließlich durch eine einzige metallische Komponente gebildet. Hierbei kann es sich insbesondere um eine Titanschicht handeln. Bei der Übertragung des Titans auf das Substrat mittels Laserbestrahlung kann gezielt ein Teil des Titans oxidiert werden, womit sich je nach eingestellten Parametern unterschiedliche Farbeffekte ergeben. Somit ist es möglich, in einem einzigen Arbeitsgang unter Verwendung einer Beschichtungsfolie, welche zusätzlich zur Trägerfolie nur eine einzige Metallschicht, nämlich
Titanschicht, aufweist, Teilflächen eines zu beschichtenden Substrats verschiedenfarbig herzustellen. Hierbei sind scharfe Übergänge zwischen den verschiedenfarbigen Teilflächen herstellbar.
Als weitere chemische Elemente, die insbesondere als
Bestandteile von Legierungen zur Erzeugung einer Beschichtung gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren geeignet sind, sind neben Gold Zirkon und Chrom zu nennen. Die von der Trägerfolie auf das Substrat übertragenen Materialien werden während des Transfers durch den Lasersrahl schon bei niedriger Energie angeschmolzen, so dass eine dichte
Schutzschicht auf dem Substrat entsteht. Die Beschichtung ist somit nicht nur selbst korrorionsbeständig, sondern stellt auch eine vor Korrosion schützende Schutzschicht auf dem Produkt dar. Das schonende Anschmelzen bereits bei niedrigen Energien wird begünstigt durch eine hohe Nanoporosität des auf dem Substrat befindlichen Beschichtungsmaterials .
Insbesondere zum Transfer dicker Schichten wird vorzugsweise eine Trägerfolie verwendet, auf die verschiedene Materialien aufgebracht sind, die sich hinsichtlich ihrer Porosität voneinander unterscheiden: Gemäß einer möglichen Verfahrensführung wird auf die aus PET gefertigte Trägerfolie zunächst eine PVD-Schicht, beispielsweise aus Zinn, mit sehr hoher Porosität aufgesputtert . Auf diese Schicht wird anschließend ein anderes Material, beispielsweise Gold, mit geringerer oder praktisch fehlender Porosität und geringerer Schichtdicke aufgesputtert oder aufgedampft. Mit diesem
Schichtaufbau auf der Trägerfolie ist es im Vergleich zu vollständig nicht porösen Schichten möglich, größere
Materialmengen auf das Substrat zu übertragen, wobei das übertagene Material zu einem großen Teil unverdampft auf die Substratoberfläche gelangt. Allgemein trägt die Beimischung von Zinn zu dem zu übertragenden, auf die Trägerfolie
abgeschiedenen Material zu einer Erhöhung des Materialtransfers bei der Laserbestrahlung bei.
Eine weitere Steigerung des Materialtransfers von der
Trägerfolie auf das Substrat ist erzielbar, indem ein und dieselbe Stelle des Substrats mehrfach mit Material
beaufschlagt wird, welches mittels Laserbestrahlung von der Trägerfolie - eventuell unter chemischen Umwandlungen - freigesetzt wird. Eine mehrfache Materialbeaufschlagung ist hierbei gleichbedeutend mit einer Laserbestrahlung, welche, bezogen auf einen bestimmten Punkt auf der Oberfläche des
Substrats, mehrfach hintereinander, in zeitlich voneinander getrennten Verfahrensschritten, durchgeführt wird. Dies ist auf zwei unterschiedliche Weisen möglich: Entweder wird die Trägerfolie zwischen den Laserbestrahlungen auf der Oberfläche des Substrats verschoben, so dass bei jeder
Bestrahlung Material von einem anderen Oberflächenabschnitt der Trägerfolie abgetragen wird, oder die örtliche Relation zwischen Trägerfolie und Substrat bleibt während der
Gesamtdauer der beipielsweise zwei oder drei Bestrahlungsvorgänge gleich.
Unabhängig davon, ob einzelne Oberflächenbereiche des
Substrats einfach oder mehrfach beschichtet werden, ist der Materialtransfer von der Trägerfolie auf das Substrat in einem signifikant breiten Intervall möglicher Abstände zwischen Trägerfolie und Substrat realisierbar. Hierbei kann beispielsweise ein Abstand zwischen Substrat und Trägerfolie von bis zu 0,2 mm oder sogar bis zu 0,4 mm vorliegen. Sofern bekannt ist, in welchen Bereichen die Oberfläche des
Substrats vertieft ist, können beispielsweise nur die
vertieften Bereiche, nur die umgebenden Bereiche oder sämtliche Bereiche des Substrats durch von der Trägerfolie übertragenes Material beschichtet werden.
Der unterschiedlich lange Weg, den von der Trägerfolie durch die Laserbestrahlung abgelöstes Material bis zu dessen Ab- scheidung auf der Substratoberfläche zurücklegt, ist in
Fällen, in denen das Material auf diesem Weg eine chemische Veränderung erfährt, nutzbar, um gezielte Farbeffekte zu generieren. Beispielsweise kommt es während des Materialtransfers zu einer von der Weglänge abhängigen Oxidation des Materials. Der unterschiedliche, am fertiggestellten Produkt mit bloßem Auge erkennbare Grad der Oxidation korrespondiert mit der Lage der Vertiefungen auf der Substratoberfläche. Dies gilt insbesondere in Fällen, in denen Titan von der Trägerfolie auf das Substrat transferiert wird. Mit Titan als Beschichtungmaterial sind somit selbst ohne Variation der Parameter der Laserbestrahlung geschlossene Schichten
generierbar, die gleichzeitig eine Struktur, beispielsweise in Form eines Dekors, einer Sicherungskennzeichnung oder einer Beschriftung, aufweisen. Optional werden weitere oder verstärkte Farbeffekte, wobei scharfe Konturen auf dem
Substrat erkennbar sind, durch die bereits erwähnte Variation von Parametern der Laserbestrahlung erzeugt.
Mit jeder der möglichen Ausgestaltungen des Laser-Transferverfahrens sind äußerst robuste, haftfeste Beschichtungen auf verschiedensten Oberflächen erzeugbar. Gerade die geringe Schichtdicke trägt aufgrund praktisch fehlender Kanten an den Konturen der Beschichtung maßgeblich dazu bei, dass mechanische Angriffe an der Beschichtung, etwa bei Reinigungsarbeiten an den beschichteten Gegenständen, kaum möglich sind. Die Abmessungen eines Gegenstandes werden durch dessen
Beschichtung mit dem Laser-Transferverfahren nicht
signifikant verändert.
Nachfolgend werden mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand einer Zeichnung näher erläutert. Hierin zeigen, jeweils in schematisierter Darstellung: Fig. 1 und 2 ein Beispiel einer lasergestützten Aufbringung eines Beschichtungsmaterials auf ein Substrat unter Verwendung einer dreilagig beschichteten Trägerfolie, Fig. 3 und 4 in Darstellungen analog Fig. 1 und 2 weitere
Beispiele von Beschichtungsverfahren, welche mit einer einlagig, nämlich mit Titan
beziehungsweise mit einer Gold-Zinn-Legierung, beschichteten Trägerfolie arbeiten,
Fig. 5 und 6 ein Beschichtungsverfahren mit einer aus zwei
Komponenten, nämlich Gold und Zinn, gebildeten Trägerfolienbeschichtung.
In jedem der Ausführungsbeispiele dient ein Laserstrahler 1 (Nd-YAG-Laser) der Übertragung eines Beschichtungsmaterials von einer Trägerfolie 3 aus PET (Polyethylenterephthalat ) , das heißt einer Polyesterfolie, auf ein Substrat 4. Bei dem Substrat 4 handelt es sich in allen Ausführungsbeispielen jeweils um ein Werkstück aus einem nicht metallischen
Werkstoff, nämlich Glas oder Keramik. Die Trägerfolie 3 ist transparent und weist eine Dicke von 75 m auf.
Das Beschichtungsmaterial 2 bildet zusammen mit weiteren Komponenten (Fig. 1, Fig. 3) oder allein (Fig. 2) eine mit 5 bezeichnete Trägerfolienbeschichtung . In jedem Fall ist das Beschichtungsmaterial 2 als PVD-Schicht auf der Trägerfolie 3 abgeschieden. Insbesondere kann das Beschichtungsmaterial 2 durch Sputtern oder Aufdampfen auf das Substrat 4 aufgebracht werden. Die Trägerfolienbeschichtung 5 ist damit sehr gleichmäßig und mit hoher Materialqualität herstellbar. Im Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 und 2 ist die Träger- folienbeschichtung 5 dreilagig aufgebaut: Das Beschichtungsmaterial 2 ist von der Trägerfolie 3 durch eine Zwischenschicht 6 getrennt, welche maßgeblich zur leichten Ablös- barkeit der Trägerfolie 3 vom Beschichtungsmaterial 2 nach Beendigung der Laserbestrahlung beiträgt. Das auf der
Trägerfolie 3 befindliche Beschichtungsmaterial 2 ist durch eine Deckschicht 7 abgedeckt, welche eine Oberfläche der insgesamt mit 8 bezeichneten Beschichtungsfolie bildet und als Haftvermittler fungiert. Die Zwischenschicht 6 sowie die Deckschicht 7 sind jeweils nur wenige nm dick. Insgesamt beträgt die Dicke der Trägerfolienbeschichtung 5 zwischen 80 nm und 300 nm. Es handelt sich hierbei um eine undurchsichtige, das heißt deckende Beschichtung. Auch dünnere, semitransparente Schichten können in gleicher Weise auf das Substrat 4 übertragen werden.
Nachdem die Beschichtungsfolie 8 plan auf das Substrat 4 aufgelegt wurde, wie in Fig. 1 dargestellt, wird die
Anordnung aus Beschichtungsfolie 8 und Substrat 4 mittels eines in Fig. 1 gestrichelt symbolisierten Laserstrahls bearbeitet. Der Laserstrahl durchdringt hierbei nahezu vollständig die transparente Trägerfolie 3 und erhitzt das Beschichtungsmaterial 2, welches hierdurch auf das Substrat 4 übertragen wird und sich fest mit diesem verbindet. Nach Beendigung des Laserbeschriftungsvorgangs hat die Deckschicht 7, soweit sie in den beschichteten, das heißt
beschrifteten oder anderweitig strukturierten, Bereichen auf dem Substrat 4 verbleibt, nicht notwendigerweise die in der symbolisierten Darstellung nach Fig. 2 ersichtliche Gestalt und Dicke. Das Beschichtungsmaterial 2, welches von der
Beschichtungsfolie 8 auf das Substrat übertragen wird, kann hierbei einer zumindest teilweisen chemischen Umwandlunng unterworfen sein und insbesondere mit Bestandteilen der
Zwischenschicht 6 und/oder der Deckschicht 7 reagieren.
Ebenso können beim Beschichtungsvorgang gezielt Reaktionen zwischen dem Beschichtungsmaterial 2 und/oder der Deckschicht 7 und dem Substrat 4 ausgelöst werden.
Die Fig. 3 und 4 illustrieren zwei verschiedene Ausführungsbeispiele, die sich hinsichtlich der verwendeten Materialien, nicht jedoch hinsichtlich der in den Figuren erkennbaren Querschnittsgestaltungen voneinander unterscheiden.
Im ersten Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 und 4 ist die
Trägerfolienbeschichtung 5 ausschließlich aus Titan als
Beschichtungsmaterial 2 gebildet. Durch die Laserbestrahlung wird ein Teil des Titans in Titanoxid verwandelt, womit in gezielter Weise unterschiedliche Farbeffekte auf dem
Substrat 4 erzielbar sind. Die Trägerfolienbeschichtung 5 ist 250 nm dick und wird im PVD-Verfahren mit folgender
Parametereinstellung auf der Trägerfolie 3 abgeschieden:
Startdruck: 3 mPa
Druck während der Beschichtung : ca. 600
Titan-Targetleistung: 2 x 2000
Argon-Partialdruck: 300 min
Beschichtungszeit : 1200 s
Die Trägerfolienbeschichtung 5 ist beispielsweise mit einer Sputteranlage des Typs CC800/9 der Fa. CemeCon AG, D-52146 Würselen, herstellbar. Die Übertragung des Beschichtungsmaterials 2 von der
Beschichtungsfolie 8 auf das Substrat 4 erfolgt mit Hilfe eines Nd-YAG-Lasers des Typs PowerLine E R-10 der Fa. Rofin- Sinar, Plymouth, MI 48170, USA, mit folgenden Einstellungen:
Stromstärke : 23,5 A
Frequenz : 10 kHz
Geschwindigkeit : 300 mm/
Linienbreite : 0 , 1 mm
Pulsbreite : 1 μπι
Überlapp : 0% , 35%
Durch die Variation des Überlapps werden unterschiedliche Farben des Beschichtungsmaterials 2 auf dem Substrat 4, nämlich Glas, generiert. Für die diversen Farbeffekte spielen Interferenzeffekte eine Rolle. Zur Erzeugung
unterschiedlicher Farben ist außer einer Veränderung des Überlapps auch eine Variation der Schrittweite oder der
Stromstärke möglich.
Eine Zwischenschicht 6 oder eine Deckschicht 7 sind im
Ausführungsbeispiel nach den Fig. 3 und 4 nicht erforderlich, da das Beschichtungsmaterial 2, nämlich Titan, die Funktion dieser Schichten mit übernimmt. In gleicher Weise wie auf
Glas kann Titan als Beschichtungsmaterial 2 mit einstellbarer Farbe, je nach Dicke deckend oder in beliebig feinen Abstufungen mehr oder weniger durchscheinend, auch auf Stahl, Keramik, Kunststoff, Porzellan sowie Textilien, sowohl aus Kunstfasern als auch aus Naturfasern, aufgebracht werden. In nicht dargestellter Weise kann die Oberfläche des Substrats 4 Strukturen, beispielsweise in Form von Vertiefungen, aufweisen, welche Einfluss auf die Beschichtungsfarbe haben. Im weiteren, ebenfalls in den Fig. 3 und 4 veranschaulichten Ausführungsbeispiel ist die Trägerfolienbeschichtung 5 durch eine Gold-Zinn-Legierung als Beschichtungsmaterial 2 gebildet. Hierbei ist der Anteil an Gold größer als der Anteil an Zinn im Beschichtungsmaterial 2. Die sich auf dem Substrat bildende Gold-Zinn-Schicht weist eine goldene Färbung auf und ist sehr haftfest. Ebenso wie in den Ausführungsbeispielen nach den Fig. 3 und 4 ist auch im Ausführungsbeispiel nach den Fig. 5 und 6 die Trägerfolienbeschichtung 5 rein metallisch. Im Fall von Fig. 5 und 6 ist sie jedoch nicht einlagig, sondern zweilagig, nämlich aus einer Hauptbeschichtungskomponente 9 und einer Hilfskomponente 10, aufgebaut. Hierbei trennt die Hilfskomponente 10 die Hauptbeschichtungskomponente 9 von der Trägerfolie 3. Die Hilfskomponente 10 liegt in Form einer Zinnschicht mit einer Dicke von 2 bis 80 nm vor. Bei der Hauptbeschichtungskomponente 9 handelt es sich um eine
Goldschicht mit einer Dicke von 30 bis 300 nm. Beide
Komponenten 9,10 der Trägerfolienbeschichtung 5 sind auf die Trägerfolie 3 aufgesputtert . Bei der Bestrahlung mit dem Laserstrahler 1 wird die Hauptbeschichtungskomponente 9 von der Trägerfolie 3 abgelöst, wobei nahezu gleichzeitig ein Teil des die Hilfskomponente 10 bildenden Zinns zur Grenzfläche zwischen der Hauptbeschichtungskomponente 9 und dem Substrat 4, nämlich einem Gegenstand aus Glas, gelangt.
Hierdurch wird eine extrem starke Haftung und hohe Abriebfestigkeit des Beschichtungsmaterials 2 auf dem Substrat 4 erreicht.
Das als Targetmaterial beim Sputtern, das heißt bei der
Herstellung der Beschichtungsfolie 8 durch Beschichten der Trägerfolie 3, verwendete Zinn liegt in einer Reinheit von mehr als 98%, das ebenfalls zum Sputtern verwendete Gold in einer Reinheit von mindestens 99,99% vor.
Folgende Parameter sind beim Sputtern eingestellt: Beschichtung mit Zinn:
Ar-Partialdruck: 380 min
Sn-Targetleistung : 1 kW Beschichtungszeit : 300 s
Beschichtung mit Gold: Ar-Partialdruck: 380 min
Au-Targetleistung: 600 W
Beschichtungszeit: 1800 s
Der Kammerdruck beträgt beim Beschichten etwa 700 mPa. Die auf der Trägerfolie durch das PVD-Verfahren abgeschiedene Hilfskomponente 10 (Zinn) hat eine Dicke von 50 nm, die Hauptbeschichtungskomponente 9 (Gold) eine Dicke von 200 nm.
Beim späteren Übertrag des Beschichtungsmaterials 2 auf das Substrat 4 sind folgende Lasereinstellungen vorgenommen:
Stromstärke: 23,5 A
Frequenz: 30 kHz
Geschwindigkeit: 750 mm/s
Linienbreite: 0,04 mm
Pulsbreite: 1 μτ
Überlapp: 25%
Im Unterschied zu den Ausführungsbeispielen nach den Fig. 3 und 4 weist in diesem Fall das Beschichtungsmaterial 2 auf dem Substrat 4 eine einheitliche Färbung auf.
Bezugszeichenliste
1 Laserstrahler
2 Beschichtungsmaterial
3 Trägerfolie
4 Substrat
5 Trägerfolienbeschichtung
6 Zwischenschicht
7 Deckschicht
8 Beschichtungsfolie
9 Hauptbeschichtungs omponente
10 HilfsKomponente

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zum Beschichten eines Substrats (4), mit
folgenden Merkmalen:
Auf eine Trägerfolie (3) aus Polyethylenterephthalat wird durch physikalische Gasphasenabscheidung ein Beschichtungsmaterial (2) abgeschieden,
die mit dem Beschichtungsmaterial (2) versehene
Trägerfolie (3) wird in Kontakt mit einem zu beschichtenden Substrat (4) gebracht,
durch Laserbestrahlung wird Beschichtungsmaterial (2) partiell von der Trägerfolie (3) auf das Substrat (4) übertragen,
die Trägerfolie (3) samt nicht übertragenem Beschichtungsmaterial (2) wird vom Substrat (4) entfernt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf die Trägerfolie (3) vor der Abscheidung des Be- schichtungsmaterials (2) eine Zwischenschicht (6) aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, dass auf die Trägerfolie (3) nach der Abscheidung des Beschichtungsmaterials (2) eine
Deckschicht (7) aufgebracht wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, dass als Beschichtungsmaterial (2) gleichzeitig zwei verschiedene Metalle auf die
Trägerfolie (3) aufgebracht werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass als Metalle Zinn und Gold verwendet werden.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, dass als Beschichtungsmaterial (2) zunächst ein Material höherer Porosität und anschließend ein Material geringerer Porosität auf die Trägerfolie (3) aufgebracht wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Trägerfolie (3) ausschließlich Beschichtungsmaterial (2) einheitlicher Zusammensetzung abgeschieden wird und bei der Übertragung von Beschichtungsmaterial (2) auf das Substrat (4) durch Variation von Parametern der Laserbearbeitung in einem einzigen Arbeitsgang verschiedene Farbeffekte auf dem Substrat (4) erzeugt werden .
Verfahren nach Anspruch 1 oder 7, dadurch
gekennzeichnet, dass verschiedene Farbeffekte dadurch erzielt werden, dass unterschiedliche Flächenbereiche der Trägerfolie (3) während deren Laserbestrahlung verschieden weit vom Substrat (4) entfernt sind.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Laserbestrahlung, bezogen auf einen festen Punkt auf der Oberfläche des Substrats (4), mehrfach hintereinander, in zeitlich voneinander
getrennten Verfahrensschritten, durchgeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerfolie (3) zwischen den Laserbestrahlungen auf der Oberfläche des Substrats (4) verschoben wird.
Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerfolie (3) zwischen den Laserbestrahlungen auf der Oberfläche des Substrats (4) in unveränderter
Position gehalten wird.
Beschichtungsfolie (8), mit einer Trägerfolie (3) aus Polyethylenterephthalat sowie einer auf der Trägerfolie (3) befindlichen Trägerfolienbeschichtung (5) , welche eine PVD-Schicht aus einem zur Übertragung auf ein Substrat (4) per Laserbestrahlung geeigneten
Beschichtungsmaterial (2) umfasst.
Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 12, dadurch
gekennzeichnet, dass die Trägerfolienbeschichtung (5) eine Dicke von nicht mehr als 400 nm hat.
Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerfolienbeschichtung (5) dreischichtig aufgebaut ist, wobei sich zwischen der Trägerfolie (3) und dem Beschichtungsmaterial (2) eine Zwischenschicht (6) und auf dem Beschichtungsmaterial (2) eine Deckschicht (7) befindet, und wobei die Summe aus der Dicke der Zwischenschicht (6) und der Dicke der Deckschicht (7) nicht größer als die Dicke des
Beschichtungsmaterials (2) ist.
15. Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerfolienbeschichtung (5) durch ein zweischichtig aufgebautes Beschichtungs- material (2) aus einer Hauptbeschichtungskomponente (9) und einer Hilfskomponente (10) gebildet ist, wobei die Hilfskomponente (10) dünner als die Hauptbeschichtungskomponente (9) ist und die Trägerfolie (3) kontaktiert. 16. Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, dass die Hauptbeschichtungskomponente (9) durch Gold mit einer Dicke von mindestens 30 nm und höchstens 300 nm und die Hilfskomponente (10) durch Zinn mit einer Dicke von mindestens 2 nm und höchstens 80 nm gebildet ist.
17. Beschichtungsfolie (8) nach einem der Ansprüche 12 bis
15, dadurch gekennzeichnet, dass das
Beschichtungsmaterial (2) eine Legierung, insbesondere Gold-Zinn-Legierung, umfasst.
18. Beschichtungsfolie (8) nach einem der Ansprüche 12 bis
16, dadurch gekennzeichnet, dass das
Beschichtungsmaterial (2) eine SiOxNy-PVD-Schicht umfasst .
19. Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerfolienbeschichtung (5) zweischichtig aufgebaut ist, wobei eine Goldschicht die Trägerfolie (3) kontaktiert und sich auf der Goldschicht eine im Vergleich zu dieser dünnere Zinnschicht
befindet .
20. Beschichtungsfolie (8) nach einem der Ansprüche 12 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass das
Beschichtungsmaterial (2) porös, insbesondere nanoporös, ist .
21. Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 20, dadurch
gekennzeichnet, dass die Porosität des Beschichtungsmaterials (2) von der Trägerfolie (3) nach außen
abnimmt, wobei eine Schicht höherer Porosität eine größere Schichtdicke als eine Schicht geringerer
Porosität aufweist.
22. Beschichtungsfolie (8) nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerfolienbeschichtung (5) durch ein einschichtiges Beschichtungsmaterial (2) aus Titan gebildet ist und eine Dicke von mindestens 30 nm und höchstens 300 nm aufweist.
23. Schichtaufbau, umfassend ein Substrat (4) sowie ein
durch das Verfahren nach Anspruch 1 auf das Substrat (4) aufgebrachtes, strukturiertes Beschichtungsmaterial (2).
24. Schichtaufbau nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (4) Glas ist.
25. Schichtaufbau nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (4) ein metallischer Werkstoff ist.
26. Schichtaufbau nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (4) ein textiles Material ist.
27. Schichtaufbau nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (4) ein keramisches Material ist.
28. Schichtaufbau nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (4) ein Kunststoff ist.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020135064A1 (de) 2020-12-29 2022-06-30 Ara-Coatings GmbH & Co. KG Beschichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrats
DE102020135061A1 (de) 2020-12-29 2022-06-30 Ralph Domnick Beschichtungsverfahren und Silizium enthaltende Beschichtung
CN115890008A (zh) * 2023-02-21 2023-04-04 苏州智慧谷激光智能装备有限公司 玻璃激光打白码方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19517625A1 (de) 1995-05-13 1996-11-14 Budenheim Rud A Oetker Chemie Verfahren zum musterförmigen Bedrucken fester Substratoberflächen
WO1999016625A1 (en) 1997-09-08 1999-04-08 Thermark, Llc Laser marking method
US6177151B1 (en) 1999-01-27 2001-01-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Matrix assisted pulsed laser evaporation direct write
DE10152073A1 (de) 2001-10-25 2003-05-08 Tesa Ag Laser-Transferfolie zum dauerhaften Beschriften von Bauteilen
DE10237732B4 (de) 2002-08-17 2004-08-26 BLZ Bayerisches Laserzentrum Gemeinnützige Forschungsgesellschaft mbH Laserstrahlmarkierungsverfahren sowie Markierungsvorrichtung zur Laserstrahlmarkierung eines Zielsubstrats
DE102004053376A1 (de) 2003-11-10 2005-06-09 Merck Patent Gmbh Farbige Lasermarkierung
DE102009033511A1 (de) 2009-07-15 2011-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Mikrospiegelanordnung mit Anti-Reflexbeschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE102010013038A1 (de) 2010-03-26 2011-09-29 Sunfilm Ag Verfahren zum Bearbeiten eines Substrats für mindestens eine Fotovoltaikzelle sowie Anordnung umfassend ein solches Substrat und Fotovoltaikzelle

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4430390C2 (de) * 1993-09-09 1995-08-10 Krone Ag Verfahren zur Herstellung von strukturierten Metallisierungen auf Oberflächen
JP2002222694A (ja) * 2001-01-25 2002-08-09 Sharp Corp レーザー加工装置及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
JP2003249351A (ja) * 2002-02-22 2003-09-05 Sharp Corp 有機led素子の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19517625A1 (de) 1995-05-13 1996-11-14 Budenheim Rud A Oetker Chemie Verfahren zum musterförmigen Bedrucken fester Substratoberflächen
WO1999016625A1 (en) 1997-09-08 1999-04-08 Thermark, Llc Laser marking method
US6177151B1 (en) 1999-01-27 2001-01-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Matrix assisted pulsed laser evaporation direct write
DE10152073A1 (de) 2001-10-25 2003-05-08 Tesa Ag Laser-Transferfolie zum dauerhaften Beschriften von Bauteilen
DE10237732B4 (de) 2002-08-17 2004-08-26 BLZ Bayerisches Laserzentrum Gemeinnützige Forschungsgesellschaft mbH Laserstrahlmarkierungsverfahren sowie Markierungsvorrichtung zur Laserstrahlmarkierung eines Zielsubstrats
DE102004053376A1 (de) 2003-11-10 2005-06-09 Merck Patent Gmbh Farbige Lasermarkierung
DE102009033511A1 (de) 2009-07-15 2011-01-20 Carl Zeiss Smt Ag Mikrospiegelanordnung mit Anti-Reflexbeschichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
DE102010013038A1 (de) 2010-03-26 2011-09-29 Sunfilm Ag Verfahren zum Bearbeiten eines Substrats für mindestens eine Fotovoltaikzelle sowie Anordnung umfassend ein solches Substrat und Fotovoltaikzelle

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020135064A1 (de) 2020-12-29 2022-06-30 Ara-Coatings GmbH & Co. KG Beschichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrats
DE102020135061A1 (de) 2020-12-29 2022-06-30 Ralph Domnick Beschichtungsverfahren und Silizium enthaltende Beschichtung
WO2022144299A1 (de) 2020-12-29 2022-07-07 Ara-Coatings GmbH & Co. KG Beschichtung und verfahren zum beschichten eines substrats
WO2022144315A1 (de) 2020-12-29 2022-07-07 Ralph Domnick Beschichtungsverfahren und silizium enthaltende beschichtung
DE102020135064B4 (de) 2020-12-29 2022-12-22 Ara-Coatings GmbH & Co. KG Beschichtung und Verfahren zum Beschichten eines Substrats
CN115890008A (zh) * 2023-02-21 2023-04-04 苏州智慧谷激光智能装备有限公司 玻璃激光打白码方法

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Publication number Publication date
WO2016055166A3 (de) 2016-06-09
DE102014015119A1 (de) 2016-04-14

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