JP2002222694A - レーザー加工装置及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
の、画素発光部の有機物層を転写法で形成する場合に、
少なくとも発光層を含む有機物層を周囲環境から保護す
ることのできるレーザー加工装置、及びそれを用いた有
機エレクトロルミネッセンス表示パネルを提供する。 【解決手段】 ドナー基板５０１と第１電極が形成され
た基板５０３とを、転写をするための台にセットしてロ
ーラーで両者を貼り合わせた後に、不活性ガス雰囲気に
あるグローブボックス内に配置した。続いて、レーザー
加工装置から電磁波レーザー５０５を照射して転写を実
施する。転写終了後にドナー基板５０１を引き剥がす
と、基板５０３には、電磁波レーザー５０５が照射され
た部分だけ、少なくとも発光層を含む有機物層５０２が
転写される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー加工装置
及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示パ
ネルに関するものであり、さらに詳しくは、素子構成が
基板／第１電極／少なくとも発光層を含む有機物層／第
２電極である有機エレクトロルミネッセンス素子を画素
発光部に用いる有機エレクトロルミネッセンス表示パネ
ルにおける有機物層の形成方法として転写法を用いる場
合のレーザー加工装置及びそれを用いた有機エレクトロ
ルミネッセンス表示パネルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】マルチメディアの時代を迎え、マン・マ
シンインターフェイスとしてのディスプレイパネルに対
する要望が急速に高まってきている。その中で、液晶表
示パネルは、薄型、低消費電力などの特長を有すること
から、広く用いられている。

【０００３】液晶表示パネルをフルカラー表示させるた
めには、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の画素部を形
成する必要があるが、液晶表示パネルの場合は、Ｒ、Ｇ
及びＢの各色を透過するカラーフィルターを用いて、こ
の目的を達成している。これらのカラーフィルターを
Ｒ、Ｇ及びＢに微細にパタンニングする方法としては、
これまでは、よく知られた一般的なフォトリソグラフィ
法を用いるのが一般的であった。

【０００４】しかし、現在は、ディスプレイの高精細化
が進んでおり、パタンニングが困難になりつつある。ま
た、現像時に有機溶剤などの現像液を多量に用いるの
で、環境に与える影響が懸念される。

【０００５】そこで、近年は、有機化合物からなるカラ
ーフィルターのパタンニング形成方法として、転写法が
注目されている。

【０００６】転写法を液晶表示パネルのカラーフィルタ
ーの形成方法として用いる場合、ＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）フィルムなどから構成されるドナー基
板上に、転写すべき薄膜層を蒸着法、スピンコート法あ
るいは印刷法などで形成し、それを成膜すべき基板に貼
り合わせ、ドナー基板側からレーザー光などの熱源を加
えて、ドナー基板側に形成されている薄膜層を基板側に
転写する。その後、ドナー基板を剥がせば、熱源の照射
された部分だけが基板側に転写されることになる。

【０００７】転写法に用いるドナー基板の構成として
は、特に限定されるものではないが、エネルギー源とし
てレーザー光を用いる場合には、熱伝播層、光−熱変換
層あるいは剥離層などの形成されたフィルムを用いると
転写効率が向上する。

【０００８】転写法の優れた点としては、ドナー基板上
に薄膜層を形成するときには特にパタンニングの必要が
ないことや、転写時にレーザー光や熱源の照射された部
分だけがドナー基板から基板に転写されることである。
また、環境への負荷が小さいことも、優れた点として挙
げることができる。

【０００９】転写処理を行う際には、ドナー基板と基板
とを密着させることが多い。転写法での成膜原理は、レ
ーザー光が照射されたり、あるいは熱が照射されたりし
た領域の温度が瞬間的に上昇し、溶融しあるいは昇華す
ることによる。これは、瞬間的な現象であり、有機物薄
膜には損傷を与えずに、ドナー基板上に成膜したものが
そのまま基板側に形成されるものである。

【００１０】図５には、転写法で、基板にカラーフィル
ターなどの有機物薄膜を成膜するときの模式図を示す。

【００１１】ドナー基板（１０１）には、スピンコート
法や蒸着法などの公知の方法で成膜された有機物薄膜層
（１０２）が構成されている。ドナー基板（１０１）
は、ＰＥＴフィルム単体でもかまわないが、多くの場合
は、良好な転写ができるように、熱−光変換層、熱伝播
層あるいは剥離層などが適宜、設定されている。

【００１２】このドナー基板（１０１）を、有機物薄膜
層（１０２）側が、例えば透明電極ラインの配線された
ような基板（１０３）に接触する側になるように、密着
させる。ここで、密着させる方法としては、多くの場
合、ローラーや真空ラミネート法などを用いる。

【００１３】続いて、熱源（１０４）から熱（１０５）
を、ドナー基板（１０１）側から照射する。熱源（１０
４）としてはレーザー光が用いられる。熱源（１０４）
とドナー基板（１０１）との間の距離は、あまり大きく
なるとレーザー強度が低下してしまうため都合悪いが、
途中にレンズ（１０６）、スリット（１０７）などを適
宜、設置することにより、良好な転写条件を設定するこ
とができる。

【００１４】一方、液晶表示パネルに代わる次世代のデ
ィスプレイパネルとして、有機エレクトロルミネッセン
ス素子を画素発光部に用いた有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルが開発されつつある。

【００１５】有機エレクトロルミネッセンス素子を画素
発光部に用いた有機エレクトロルミネッセンス素子は、
素子構成が、基板／第１電極／少なくとも発光層を含む
有機物層／第２電極である発光素子であり、薄型、全固
体型、面状自発光、高速応答といった特長を有する。

【００１６】図６には、一般的な構成である、第１電極
側から発光を取り出す有機エレクトロルミネッセンス素
子の構造断面図を示す。

【００１７】透明な基板（２０１）の上に透明な第１電
極（２０２）が形成され、さらにその上に、少なくとも
発光層を含む有機物層（２０３）と、金属薄膜などから
構成される第２電極（２０４）が形成されている。

【００１８】発光（２０５）は、透明な基板（２０１）
と透明な第１電極（２０２）とを通して得られる。第１
電極としては、ほとんどの場合、ＩＴＯ（酸化インジウ
ム錫）が用いられている。ＩＴＯは、液晶表示パネルな
どで広く用いられており、配線形成が容易であるため、
その技術を有機エレクトロルミネッセンス素子に転用す
ることができる。

【００１９】有機エレクトロルミネッセンス素子の発光
原理は、電極間に電圧を印加すると、この発光層に一方
の電極から電子が注入されるとともに、他方の電極から
ホールが注入され、これらの電子とホールとの再結合に
より、発光層から面状発光が得られることに基づいてい
る。

【００２０】したがって、面状発光を得るためには、ど
ちらか一方の電極が透明であることが望ましく、多くの
場合は、基板上に設ける第１電極に透明導電膜を用いて
発光を取り出している。このとき、発光を取り出すに
は、基板についても透明でなければならない。すなわ
ち、素子構成は、透明な基板／透明な第１電極／少なく
とも発光層を含む有機物層／透明でなくても構わない第
２電極というものである。

【００２１】次に、有機エレクトロルミネッセンス素子
の作製プロセスについて記す。基板上に形成する第１電
極については、前述のとおり、多くの場合、ＩＴＯが用
いられており、スパッタ法などで基板の全面に形成した
後に、公知のフォトリソグラフィ法で所定の形状にパタ
ンニングすることが可能である。高精細になっても、Ｉ
ＴＯの加工精度は高く、問題はない。

【００２２】また、有機物層上に形成する第２電極には
金属薄膜が用いられ、これは、電子ビーム法、スパッタ
法あるいは蒸着法などにより形成する。

【００２３】一方、少なくとも発光層を含む有機物層の
形成方法としては、有機物層が低分子系材料の場合は蒸
着法を、高分子材料の場合はスピンコート法を用いるの
が一般的である。

【００２４】しかし、有機エレクトロルミネッセンス素
子を画素発光部に用いたディスプレイパネルを作製する
ときには、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光層の塗り分けが必要であ
り、シャドウマスク法や、インクジェット法などを用い
て実施することになるが、これらの方法では、高精細化
が非常に困難である。

【００２５】そこで、高精細化に向けての課題を解決す
るために、有機エレクトロルミネッセンス素子の新たな
成膜方法として、液晶表示パネルのカラーフィルター形
成に用いられている転写法を、有機エレクトロルミネッ
センス素子の薄膜層を形成する方法に応用することが提
案されている。

【００２６】有機エレクトロルミネッセンス素子の少な
くとも発光層を含む有機物層を転写法で実施するものと
しては、特開平９−１６７６８４号公報、特開平１０−
２０８８８１号公報及び特開平１１−２６０５４９号公
報などで開示されているように、ＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）フィルムなどから構成されるドナー基
板上に、転写すべき有機物薄膜層を蒸着法、スピンコー
ト法あるいはスパッタ法などで形成し、それを成膜すべ
き基板に貼り合わせて、ドナー基板側からレーザー光や
熱などのエネルギーを加えて、ドナー基板側に形成され
ている有機物薄膜層を基板側に転写するというものであ
る。これらの有機エレクトロルミネッセンス素子に用い
る有機化合物は、低分子系でも高分子系でもよい。

【００２７】これまで、これらの有機物層の成膜方法と
しては、蒸着法、あるいはインクジェット法、スピンコ
ート法、印刷法などが採用されている。

【００２８】この転写法の利点は、ドナー基板上に形成
された積層の薄膜が、転写時にレーザー光や熱源の照射
された部分だけ、ドナー基板から基板にそのまま逆構成
で形成されるので、シャドウマスク法やインクジェット
法などでは困難であった高精細化が容易であることであ
る。また、ドナー基板上に有機物薄膜層を形成するとき
には、特にパタンニングの必要がないことである。

【００２９】また、各層の形成方法については、第１電
極はＩＴＯを公知のフォトリソグラフィ法で形成する。
そして、有機物層の形成方法としては、有機物層が低分
子系材料の場合は蒸着法を、高分子材料の場合はスピン
コート法を用いるのが一般的である。有機エレクトロル
ミネッセンス素子を画素発光部に用いたディスプレイパ
ネルを作製するときには、発光層の塗り分けが必要であ
るが、この場合は、発色の異なる発光層が形成されたド
ナー基板を用いて順次転写していくことにより達成され
る。また、有機物層上に作成する第２電極には金属薄膜
が用いられ、電子ビーム法、スパッタ法あるいは蒸着法
などにより形成する。

【００３０】

【発明が解決しようとする課題】ところが、有機エレク
トロルミネッセンス表示パネルの画素発光部に用いる有
機物層は、耐性がきわめて低いことが知られている。特
に、大気中に放置しておくと、水分や酸素分により損傷
し、その結果として、見栄えのよい表示パネルを作るこ
とが難しいという問題がある。

【００３１】そこで、ほとんどの場合は、第１電極と、
少なくとも発光層を含む有機物層と、第２電極とが、大
気に暴露されないような封止処理を行っているのが現状
である。また、さらに万全を期して、吸水剤や酸素吸着
剤が封印されることもある。

【００３２】これは液晶表示パネルのカラーフィルター
とは非常に大きい違いである。すなわち、液晶表示パネ
ルのカラーフィルターは、膜厚にはそれほどの制限がな
く、多くの場合は数ミクロン程度の膜厚となっており、
膜厚の分布・バラツキに対する制限はそれほど厳しいも
のではない。

【００３３】さらに、バックライトや反射光の特定波長
だけを透過できればよく、多くの場合は色素などを分散
させたようなカラーフィルムを用いればよかった。した
がって、大気中での耐性は充分なものであり、転写時の
環境を特に考慮する必要はなく、図５に示すような、大
気に接した環境で転写を実施することができるものであ
る。

【００３４】ところが、有機エレクトロルミネッセンス
表示パネルの画素発光部に用いる有機物層を転写法で形
成する場合、有機物層の膜厚はせいぜい２０００Å程度
であり、カラーフィルターの場合よりも大幅に薄い。し
たがって、大気中に暴露されたときの損傷が非常に大き
い。

【００３５】また、液晶表示パネルのカラーフィルター
のように光を透過するのとは異なり、有機エレクトロル
ミネッセンス表示パネルの画素発光部の有機物層には、
直接電流が流れる。したがって、膜厚の分布・バラツキ
に対して非常にデリケートである。さらに、多くの場
合、有機物層は、特性向上のために複数の有機物薄膜が
積層された構成を有している。したがって、大気中で転
写を実施すると、各薄膜の界面において剥離といった問
題が発生することになる。

【００３６】以上の点を考慮すると、有機エレクトロル
ミネッセンス表示パネルの画素発光部となる有機物層を
転写法で形成する場合には、液晶表示パネルのカラーフ
ィルターの形成時よりも、水分や酸素分の影響を排除し
た環境で転写をしなければならないことになる。

【００３７】しかし、これまでの有機エレクトロルミネ
ッセンス表示パネルの、画素発光部の有機物層を転写法
で形成する場合には、充分な検討がされておらず、少な
くとも発光層を含む有機物層を周囲環境から保護するこ
とは考慮されていなかった。

【００３８】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、有機エレクトロルミネッセンス表示パネ
ルの、画素発光部の有機物層を転写法で形成する場合
に、少なくとも発光層を含む有機物層を周囲環境から保
護することのできるレーザー加工装置、及びそれを用い
た有機エレクトロルミネッセンス表示パネルを提供する
ことを目的とする。

【００３９】

【課題を解決するための手段】本発明の１つの観点によ
れば、転写を行うための熱源と転写が行われる基板との
間に透明性基板を備えてなる隔壁が設けられ、転写の行
われる側が少なくとも不活性ガス中または真空中にあ
り、前記熱源から発せられた電磁波が前記隔壁の透明性
基板を通して前記基板へ伝達されるように構成されてな
ることを特徴とするレーザー加工装置が提供される。

【００４０】隔壁は、転写用熱源と転写用基板との間に
設けられるものであり、透明性基板を備えてなる。熱源
としては例えばレーザー光発生装置が用いられる。転写
用基板に用いられる材質については、特に限定されるも
のではないが、例えば、透明なガラス板が用いられる。
隔壁の透明性基板は、前記熱源から発せられた電磁波を
通過させて、転写用基板へ伝達する。

【００４１】転写の行われる側が少なくとも不活性ガス
中または真空中にあるのは、転写用ドナー基板におけ
る、少なくとも発光層を含む有機物層の損傷を防止する
ためである。不活性ガスの種類は特に限定されない。窒
素ガスやアルゴンガスなどが用いられる。

【００４２】前記熱源から発せられた電磁波は、前記隔
壁の透明性基板を通して前記基板へ伝達されて、転写が
実施される。

【００４３】このように構成されているレーザー加工装
置によれば、転写の行われる側が少なくとも不活性ガス
中または真空中にあるので、有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルの、画素発光部の有機物層を転写法で形
成する場合に、少なくとも発光層を含む有機物層を周囲
環境から保護することができる。

【００４４】本発明のレーザー加工装置は、前記熱源
が、ＹＡＧレーザーまたはＹＬＦレーザーであるのが好
ましい。

【００４５】このように構成されているレーザー加工装
置によれば、レーザーの出力安定性がよいため、転写さ
れた有機物層の膜厚や膜質が均一になり、良好な有機エ
レクトロルミネッセンス素子を得ることができる。

【００４６】本発明のレーザー加工装置は、前記熱源
が、レーザーであり、前記基板を設置するためのチャン
バーと、このチャンバーに設けられレーザー光を透過さ
せるための窓とを備え、レーザー光をそのチャンバーの
外部からその窓を通して照射することにより、前記基板
を大気から遮断した状態で前記電磁波が前記基板へ伝達
されるものであるのが好ましい。

【００４７】このように構成されているレーザー加工装
置によれば、チャンバー内を不活性ガス雰囲気または真
空雰囲気にしておき、前記基板を大気から遮断した状態
で、チャンバーの外部からその窓を通してレーザー光を
前記基板へ照射することができるので、少なくとも発光
層を含む有機物層を周囲環境から保護することができ
る。

【００４８】本発明のレーザー加工装置における前記透
明性基板は、熱源からの波長の透過率が９０％以上のも
のであるのが好ましい。この透過率が９０％に満たない
ものであるときには熱源からの電磁波がドナー基板にあ
まり良好に伝わらない、ことが実験により確かめられた
からである。

【００４９】このように構成されているレーザー加工装
置によれば、熱源からの電磁波をドナー基板にいっそう
良好に伝達することができる。

【００５０】本発明のレーザー加工装置は、前記透明性
基板が、凸レンズ形状の集光機能を有しているのが好ま
しい。

【００５１】このように構成されているレーザー加工装
置によれば、熱源からの電磁波が効果的に伝播されるの
で、転写の効率を向上させることができる。

【００５２】本発明の別の観点によれば、請求項１〜５
のいずれか１つに記載のレーザー加工装置を用いて作製
した有機エレクトロルミネッセンス表示パネルであっ
て、素子構成が、基板／第１電極／少なくとも発光層を
含む有機物層／第２電極であり、少なくとも発光層を含
む有機物層を転写法で形成することを特徴とする有機エ
レクトロルミネッセンス表示パネルが提供される。

【００５３】このように構成されている有機エレクトロ
ルミネッセンス表示パネルによれば、従来と同じ素子構
成であるにもかかわらず、少なくとも発光層を含む有機
物層が、前記のように周囲環境から保護されて形成され
ているので、良好な発光を得ることができる。

【００５４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施態様を図面に
基づいて詳しく説明する。なお、これによって本発明が
限定されるものではない。

【００５５】実施例１ （その１） 転写用のドナー基板を用意する。転写用の
ドナー基板としてのベース基板に関しては、多くの場
合、フィルム、特にＰＥＴフィルムが用いられる。ＰＥ
Ｔフィルムは、各種フィルムの中では耐熱性がよく、ま
た、適度の柔軟性を有するので都合がよいものである。
フィルムの厚さについては、特に限定されるものではな
いが、耐久性と転写のしやすさを考慮すれば、厚さ５０
ミクロン〜１ミリメートル程度のものが望ましい。転写
の効率を高くするために、ドナー基板には、光−熱変換
層、熱伝播層及び剥離層を形成した。

【００５６】（その２） ドナー基板に、少なくとも発
光層を含む有機物層を成膜する。（その１）で示したド
ナー基板に、少なくとも発光層を含む有機物層を成膜に
より形成する。有機物層に用いる材料としては、特に限
定されるものではなく、一般的な有機エレクトロルミネ
ッセンス素子に用いられている材料を適宜、使用するこ
とができる。成膜方法としては、よく知られた真空蒸着
法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法、キャ
スト法などを適宜、選択して使用することができる。ま
た、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機物層は、
多くの場合、素子特性の向上のために、発光層以外に
も、電荷輸送層や電荷注入層が導入されているが、後ほ
ど転写することを考慮すれば、ドナー基板上には、逆の
順序で積層されていなければならない。例えば、素子構
成が、基板／第１電極／ホール注入層／ホール輸送層／
発光層／電子輸送層／第２電極である有機エレクトロル
ミネッセンス素子を作製するのであれば、ドナー基板上
に、電子輸送層／発光層／ホール輸送層／ホール注入層
の順に各層を形成すればよい。

【００５７】（その３） 基板に第１電極を形成する。
基板に用いる材質については、特に限定されるものでは
ないが、多くの場合、透明なガラスやプラスチックフィ
ルムが用いられている。また、第１電極には透明電極材
料が用いられる。具体的には、ＩＴＯ（酸化インジウム
錫）、酸化錫、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃−ＺｎＯ系材料）
などが挙げられる。膜厚については、適宜、設定すれば
よいが、ＩＴＯを用いる場合には、５００Å〜２０００
Å程度の膜厚にすることが好ましい。成膜法としては、
公知の手法が可能であり、電子ビーム法、スパッタ法、
スプレー法などを用いることができる。また、完全に透
明でなくてもよいのであれば、金や白金などの金属薄膜
を用いてもよい。これらを公知のフォトリソグラフィ法
やドライエッチング法などにより所定形状にパタンニン
グすることができる。パタンニング後に第１電極表面を
洗浄することにより、有機エレクトロルミネッセンス素
子の発光状態が改善される。

【００５８】（その４） ドナー基板と基板とを不活性
ガス中に配置する。前記ドナー基板と第１電極が形成さ
れた基板とを、転写をするための台にセットしてローラ
ーで両者を貼り合わせた後に、不活性ガス雰囲気にある
グローブボックス内に配置した。ここで、不活性ガスと
しては、露点がマイナス７５℃以下である、充分に乾燥
した窒素ガスを用いた。なお、不活性ガスの種類として
は、特に限定されるものではなく、窒素ガスの他にも、
アルゴンガスなどを用いることが可能である。ドナー基
板と基板とを不活性ガス中に配置することにより、有機
物薄膜は水分や酸素分による損傷を受けない。また、熱
源は、図２に示すようにグローブボックスの中に配置し
てもよいが、その場合は、熱源の操作性が悪くなるう
え、グローブボックスの容量を大きくしなければならな
い。そこで、図３に示すように、グローブボックスの内
部にはドナー基板と基板だけをセットし、隔壁としての
グローブボックスの上部に、熱源から発せられた電磁波
（レーザー）を透過するような透明性基板からなる窓を
設けた。この窓に用いる材質は、特に限定されるもので
はないが、熱源としてＹＡＧレーザーを用いる場合に
は、石英やホウケイ酸ガラスなどを用いることが可能で
ある。ただし、電磁波を９０％以上、透過するものであ
ることが望まれる。透過率が９０％未満であると、熱源
からの電磁波がドナー基板に良好に伝わらない。さら
に、別の例として、図４に示すように、透明性の窓の形
状を凸レンズ構造にした。このような構造にすることに
より、電磁波が効果的にドナー基板に伝播し、転写の効
率が向上する。

【００５９】（その５） ドナー基板と基板とを貼り合
わせて転写する。続いて、転写するためのレーザー加工
装置から電磁波レーザーを照射して転写を実施する。ま
た、転写のエネルギー源としての熱源にＹＡＧレーザー
光を用いる場合には、ＰＥＴフィルムだけでは透明のた
めに転写性が悪い。そこで、フィルム上に熱伝播層や光
−熱変換層などを適宜、形成することにより、転写効率
を向上させることができる。ＹＡＧレーザーは、発振波
長が１０６４ｎｍであり、出力安定性が数％以内ときわ
めてよく、高出力を得ることができる。そのため、実際
に転写を行った際に、転写された有機物層の膜厚が均一
となり、良好な有機エレクトロルミネッセンス素子を得
ることができる。また、熱源としてＹＬＦレーザー光を
用いると、熱レンズ効果がきわめて小さいという特性を
持つため、レーザー発振出力、ビーム位置、ビーム拡が
り角の安定性がＹＡＧレーザー光の場合よりも優れるこ
とになり、有機エレクトロルミネッセンス素子の特性の
向上をさらに期待することができる。転写終了後にドナ
ー基板を引き剥がすと、基板には、電磁波レーザーが照
射された部分だけ、少なくとも発光層を含む有機物層が
転写される。

【００６０】（その６） 第２電極を形成し、封止処理
を行う。一般的な抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、
スパッタ法などにより形成する。第２電極の膜厚につい
ては、用いる第２電極材料の種類にもよるが、５００Å
〜２０００Å程度の間で決定されることが多い。第２電
極の形成後に封止処理を施し、端子部を接続することに
より、少なくとも発光層を含む有機物層が転写法で形成
される有機エレクトロルミネッセンス表示パネルが完成
する。以上の（その１）〜（その６）を実施例１とし
た。

【００６１】実施例２ 基本的には実施例１とほぼ同じであるが、実施例１の
（その４）で記す、ドナー基板と基板とを貼り合わせて
転写するプロセスにおいて、ドナー基板と基板とを、熱
源から発せられた電磁波（レーザー）を透過するような
透明性基板からなる窓を上部に設けたグローブボックス
に配置して、真空引きした状態で転写を行った。以上を
実施例２とした。

【００６２】比較例 基本的には実施例１とほぼ同じであるが、実施例１の
（その４）で記す、ドナー基板と基板とを貼り合わせて
転写するプロセスを、液晶表示パネルのカラーフィルタ
ー形成時と同様に、大気中で実施した。以上を比較例と
した。

【００６３】上述の実施例１、実施例２及び比較例の結
果について、図１の表に示す。この表からわかるよう
に、実施例１及び実施例２の有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルについては良好な発光を得られたが、比
較例のプロセスで作製した有機エレクトロルミネッセン
ス表示パネルについては、黒点（ダークスポット）と呼
ばれる非発光領域が随所に見られ、表示パネルとしての
見栄えは著しく悪いものであった。また、発光効率につ
いても、実施例１及び実施例２の有機エレクトロルミネ
ッセンス表示パネルよりも劣っていた。

【００６４】

【発明の効果】請求項１に係るレーザー加工装置にあっ
ては、転写を行うための熱源と転写が行われる基板との
間に透明性基板を備えてなる隔壁が設けられ、転写の行
われる側が少なくとも不活性ガス中または真空中にあ
り、前記熱源から発せられた電磁波が前記隔壁の透明性
基板を通して前記基板へ伝達されるように構成されてな
ることを特徴とする。したがって、転写の行われる側が
少なくとも不活性ガス中または真空中にあるので、有機
エレクトロルミネッセンス表示パネルの、画素発光部の
有機物層を転写法で形成する場合に、少なくとも発光層
を含む有機物層を周囲環境から保護することができる。

【００６５】請求項２に係るレーザー加工装置にあって
は、前記熱源が、ＹＡＧレーザーまたはＹＬＦレーザー
であるので、レーザーの出力安定性がよいため、転写さ
れた有機物層の膜厚が均一になり、良好な有機エレクト
ロルミネッセンス素子を得ることができる。

【００６６】請求項３に係るレーザー加工装置にあって
は、前記熱源が、レーザーであり、前記基板を設置する
ためのチャンバーと、このチャンバーに設けられレーザ
ー光を透過させるための窓とを備え、レーザー光をその
チャンバーの外部からその窓を通して照射することによ
り、前記基板を大気から遮断した状態で前記電磁波が前
記基板へ伝達されるものである。したがって、チャンバ
ー内を不活性ガス雰囲気または真空雰囲気にしておき、
前記基板を大気から遮断した状態で、チャンバーの外部
からその窓を通してレーザー光を前記基板へ照射するこ
とができるので、少なくとも発光層を含む有機物層を周
囲環境から保護することができる。

【００６７】請求項４に係るレーザー加工装置にあって
は、熱源からの波長の透過率が９０％以上のものである
ので、熱源からの電磁波をドナー基板にいっそう良好に
伝達することができる。

【００６８】請求項５に係るレーザー加工装置にあって
は、前記透明性基板が、凸レンズ形状の集光機能を有し
ているので、熱源からの電磁波が効果的に伝播されて、
転写の効率を向上させることができる。

【００６９】請求項６に係る有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルにあっては、請求項１〜５のいずれか１
つに記載のレーザー加工装置を用いて作製した有機エレ
クトロルミネッセンス表示パネルであって、素子構成
が、基板／第１電極／少なくとも発光層を含む有機物層
／第２電極であり、少なくとも発光層を含む有機物層を
転写法で形成することを特徴とする。したがって、従来
と同じ素子構成であるにもかかわらず、少なくとも発光
層を含む有機物層が、前記のように周囲環境から保護さ
れて形成されているので、良好な発光を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の実施の形態に係る実施例１、
実施例２及び比較例のそれぞれで作製した有機エレクト
ロルミネッセンス表示パネルの点灯状態の結果をまとめ
た表である。

【図２】図２は、転写法で基板に有機エレクトロルミネ
ッセンス表示パネルの画素発光部となる有機物薄膜を成
膜する、本発明の実施の形態に係る方法の１つであり、
レーザー加工装置全体がグローブボックスで覆われてい
る状態を示す模式図である。

【図３】図３は、転写法で基板に有機エレクトロルミネ
ッセンス表示パネルの画素発光部となる有機物薄膜を成
膜する、本発明の実施の形態に係る方法の別の１つであ
り、基板とドナー基板とがグローブボックスで覆われて
いる状態を示す模式図である。

【図４】図４は、転写法で基板に有機エレクトロルミネ
ッセンス表示パネルの画素発光部となる有機物薄膜を成
膜する、本発明の実施の形態に係る方法のさらに別の１
つであり、基板とドナー基板とがグローブボックスで覆
われている状態を示す模式図である。

【図５】図５は、従来技術により、転写法で液晶用基板
にカラーフィルターの有機物薄膜を成膜する方法を示す
模式図である。

【図６】図６は、従来技術における、一般的な有機エレ
クトロルミネッセンス素子の断面図である。

【符号の説明】

４０１、５０１、６０１ ドナー基板 ４０２、５０２、５０２ 有機物薄膜層 ４０３、５０３、６０３ 基板 ４０４、５０４、６０４ 熱源 ４０５、５０５、６０５ レーザー ４０６、５０６、６０６ レンズ ４０７、５０７、６０７ スリット ５０８ 透明性基板からなる窓 ６０９ 凸レンズ構造の窓

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 転写を行うための熱源と転写が行われる
   基板との間に透明性基板を備えてなる隔壁が設けられ、
   転写の行われる側が少なくとも不活性ガス中または真空
   中にあり、前記熱源から発せられた電磁波が前記隔壁の
   透明性基板を通して前記基板へ伝達されるように構成さ
   れてなることを特徴とするレーザー加工装置。
2. 【請求項２】 前記熱源が、ＹＡＧレーザーまたはＹＬ
   Ｆレーザーであることを特徴とする請求項１に記載のレ
   ーザー加工装置。
3. 【請求項３】 前記熱源が、レーザーであり、前記基板
   を設置するためのチャンバーと、このチャンバーに設け
   られレーザー光を透過させるための窓とを備え、レーザ
   ー光をそのチャンバーの外部からその窓を通して照射す
   ることにより、前記基板を大気から遮断した状態で前記
   電磁波が前記基板へ伝達されることを特徴とする請求項
   １または２に記載のレーザー加工装置。
4. 【請求項４】 前記透明性基板は、熱源からの波長の透
   過率が９０％以上のものであることを特徴とする請求項
   １〜３のいずれか１つに記載のレーザー加工装置。
5. 【請求項５】 前記透明性基板が、凸レンズ形状の集光
   機能を有していることを特徴とする請求項１〜４のいず
   れか１つに記載のレーザー加工装置。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか１つに記載のレ
   ーザー加工装置を用いて作製した有機エレクトロルミネ
   ッセンス表示パネルであって、素子構成が、基板／第１
   電極／少なくとも発光層を含む有機物層／第２電極であ
   り、少なくとも発光層を含む有機物層を転写法で形成す
   ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示
   パネル。