WO2015070826A1 - Patrón de camuflado con líneas ondulantes - Google Patents

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WO2015070826A1
WO2015070826A1 PCT/CO2014/000005 CO2014000005W WO2015070826A1 WO 2015070826 A1 WO2015070826 A1 WO 2015070826A1 CO 2014000005 W CO2014000005 W CO 2014000005W WO 2015070826 A1 WO2015070826 A1 WO 2015070826A1
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WO
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pattern
design
camouflage
camouflaged
color
Prior art date
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PCT/CO2014/000005
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English (en)
French (fr)
Inventor
Iván Harvey MORA GÁMEZ
Original Assignee
Ministerio De Defensa - Fuerza Aérea Colombiana
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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F41—WEAPONS
    • F41H—ARMOUR; ARMOURED TURRETS; ARMOURED OR ARMED VEHICLES; MEANS OF ATTACK OR DEFENCE, e.g. CAMOUFLAGE, IN GENERAL
    • F41H3/00—Camouflage, i.e. means or methods for concealment or disguise
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F41—WEAPONS
    • F41H—ARMOUR; ARMOURED TURRETS; ARMOURED OR ARMED VEHICLES; MEANS OF ATTACK OR DEFENCE, e.g. CAMOUFLAGE, IN GENERAL
    • F41H3/00—Camouflage, i.e. means or methods for concealment or disguise
    • F41H3/02—Flexible, e.g. fabric covers, e.g. screens, nets characterised by their material or structure

Definitions

  • This application refers to a camouflage pattern based on two designs, the first of them a camouflaged pattern composed of two or more colors, two or more shades or two or more shades of the same color, which It has different reflectances, and a second design, comprising a series of superimposed diagonal wavy lines on the pattern of the first design, which together produce reflectance of the light spectrum at different wavelengths, which generates an optical effect that increases the ability to blend in with the environment and go unnoticed in different environments, including: jungle, forest, savanna, desert, and urban, both day and night, even with the use of night vision equipment.
  • the pattern of the invention can be applied to different surfaces, including textiles, footwear, helmets, vehicles, aircraft, boats, structures, buildings, firearms and any other material of intent.
  • camouflage patterns arises in response to the intention of man to become invisible and begins in 1942 with the pattern known as "duck hunter", which associated with the model that has large irregular patches of various colors on a background solid. Variations of the original pattern were reproduced by Americans and foreign companies of the 1960s and 1990s and were marketed as sports hunting clothes. This style of camouflage is also often called “spot” or "patch” of duck hunter. Although its use is common, this camouflage pattern lacks an effect that provides depth and does not allow to achieve a camouflage effect in environments other than nature, such as: asphalt, snow, desert, etc.
  • the "brush stroke” camouflage used by Major Denison of the British army, who took a khaki cloth and applied color with a brush, to generate a brush effect and thus create a pattern camouflage for paratroopers, who were likely to be targeted by enemy snipers.
  • the term brushstroke refers to the brush strokes painted with these brushes, which resulted in wide color patterns.
  • the brushstroke pattern was used in British uniforms during the sixties and was copied by several countries in Africa, the Middle East and Asia. This pattern influenced the development of other derived patterns such as the French “lizard” and the "tiger stripe” of the Vietnamese.
  • this design represented at the time it has the disadvantage of being a handmade design and therefore, it does not have a defined pattern that allows it to adapt forms of nature and thus produce an optical effect of deceived or invisibility.
  • splinter pattern refers to the camouflage designs originated in the German Wehrmacht that incorporate geometric shapes with an overprint of rain lines, and for descending patterns, Although the overprint of "rain” was a feature of the original German designs, the term “splinter” encompasses all designs that have geometric shapes that resemble splintered fragments of glass or other fragile materials.
  • the original German term for this pattern was Splittertarn (splinter camouflage) or Splittermuster (splinter pattern)
  • the "normal DPM model” was developed for temperate climates and consists of the integration of black, brown and phosphorescent green colors, embodied in a khaki or light brown background. There are dozens of variations made designed for tropical climates and some for desert climates. He DPM pattern remains in use in the British Army, but is gradually being replaced by the new multi-terrain pattern (TP). The problem with this design is that once the material wears out and the colors fade, which produces an easily detectable visual effect.
  • This camouflage pattern consists of the mixture of spots of different colors that resemble those in the environment, but their distribution is very wide ranges, which negatively affects the visual effect of camouflage.
  • the "rain” pattern design refers to a camouflage design that incorporates a strong percentage “vertically aligned” strips “or” spots " that simulate the image of the falling rain.
  • the German Wehrmacht used this feature in various camouflage patterns, mainly in the Splittermuster (splinter) and Sumpfmuster (swamp) designs. These patterns were subsequently modified, but the concept of "falling rain” (in which the raindrops themselves were isolated as the main feature on a solid colored background) arose from the Warsaw Pact countries of Eastern Europe.
  • Camouflage design widely used in military uniforms was developed in 1971 by the United States and is known as the "Chocolate Chip” design.
  • This camouflage pattern originally comprised six colors and emerged in response to the conditions found in the rocky deserts of California.
  • the original design included spots in two shades of medium brown on large areas of sand and light brown, dotted with smaller rock shapes printed in matt black and white.
  • This design had its peak in utility between 1981 and 1991. It was initially used by US military personnel serving in Park, but its most frequent use was during Operation Desert / Storm Shield (the Persian Gulf War) and later in the deployments to Somalia.
  • micropatterns The theory behind micropatterns is that large colored spots with sharp profiles are easier to see, while the fading or blur of the edges of the color patches make the contours more difficult to define.
  • digital has been used to refer to any camouflage design that incorporates pixels instead of organic shapes to create the design.
  • pixelated camouflage is more precise. The first country to adopt a true digital model was Canada, which presented its CADPAT (Canadian Pattern) in 1997.
  • patent CA2442558 refers to a camouflage material that has a granite appearance , made from intermingled colored grains in which about 21% of said colored grains have a light green color; approximately 6% of said colored grains exhibit a brown color; approximately 48% of said colored grains exhibit a medium green color, and over 25% of said colored grains exhibit a black color.
  • the benefits identified for this design is the reduction in the probability of detection by night vision devices.
  • the basis of the camouflaged effect achieved by this pattern is the play of colors of different wavelengths that allows hiding in spaces with similar shades. This is how the model now has three variations: the temperate forest (TW), arid region (AR), and winter / Arctic (WA).
  • the temperate forest pattern (CADPAT TW) has four specific colors: light green, green, brown and black, and was first introduced in 1996, on the deck of a new helmet put into service dark. At the same time, the pattern was also introduced in a new individual camouflage net.
  • the CADPAT (AR) arid region pattern used in uniforms for desert operations, near the desert, and the environmental conditions of the savanna, includes three different colors of brown, while the winter / Arctic pattern was introduced as an update for monochromatic winter targets to further improve the camouflage capability of the soldier day and night, including camouflage ability when observed with infrared (NIR) technology.
  • MARPAT Marine Pattern
  • CADPAT Canadian Pattern
  • This uniform has two official versions: forest and desert, and currently, there is the process of urban pattern development, although an unofficial model is also being perfected, in gray, white and black colors
  • the disruptive camouflage pattern system consists of a macro pattern and a micro pattern, in which the micropattern consists of sharp-edged pixels, proportional to the size of a camouflaged object, the pixels they are in at least four colors with a variety of dark and light colors in which the pattern is repeated at set intervals and, within the repetition of the design, the lightest color is a base color that includes approximately 5% of the repetition, the next darkest color is included in approximately 47% of the repetition, the next darkest color is present approximately in 30% of the repetition, and the darker color that includes approximately 18% of the repetition, the micropatter pixels create the macro pattern patterns, the specific combinations of the micropatter pixels that generate the macro pattern patterns can be of the same color or of different colors, the shapes of the macro pattern disturb the shape of the camouflaged subject, the proportion of light to dark pixels in the micro pattern, combined with the effect of the micro and the macro pattern produces a disruptive camouflage for both the human eye and
  • the micropattern consists of sharp-edged pixels
  • the patent DE202009018499U1 was also located, which presents a camouflage pattern with a polygonal scheme where adjacently the shapes that make up the camouflage pattern are attached uniformly. Provides flexible camouflage to different objects.
  • the disadvantage of this patent is that it does not establish the proportion of the colors used in the shapes, nor the distance between the elements of the polygonal surface, which prevents determining the shape through which the pattern can be applied to any type of surface.
  • patent CA2257688C was found, entitled “Product and method of deception", which makes use of "optical illusion” to generate a camouflaged pattern that has three (03) completely different regions from each other.
  • the invention of this application provides camouflage material that deceives animals (using the infrared pattern) and not humans.
  • the disadvantage of this patent is that the concept of deception does not have a pixelated that distributes colors in different proportions, which does not allow the pattern to be adapted to different environmental environments.
  • this design was made to deceive the animal eye and not the human eye.
  • the pattern of the present invention manages to enhance the camouflage effect by combining two designs that combine a pattern of lines ⁇ / l / W ⁇ u i tt ⁇
  • FIG. 1 Photograph of personnel in military uniform made with a printed fabric with the camouflage pattern with diagonal wavy lines of the present invention (A) and personnel in military uniform made with a fabric without wavy lines (B)
  • Figure 3 Photograph of a person using a uniform with the invention pattern, taken at a distance of 10 meters, where it is observed that the uniform mimics the color of the background structure.
  • Figure 4 Photograph of a person wearing a uniform with the pattern of the present invention, taken at a distance of 150 meters, where the effect of loss of contour definition is shown, allowing to improve camouflage capacity with the environment.
  • Figure 5 Photograph of a person wearing a uniform with the pattern of the present invention, taken at a distance of 2 meters, showing the effect of camouflage in the jungle environment.
  • Figure 6 Photograph of a person wearing a uniform with the pattern of the present invention, taken at a distance of 5 meters from the - - ⁇ - g ⁇ VV i) fl 3 ⁇ 4
  • Figure 7 Photograph of a person wearing a uniform with the pattern of the present invention, taken at a distance of 1 meter, showing the effect of camouflage in the dry forest environment.
  • Figure 8 Photograph of a person wearing a uniform with the pattern of the present invention, taken at a distance of 3 meters, showing the effect of camouflage in the dry forest environment.
  • Figure 9 Photograph of a person wearing a uniform with the pattern of the present invention, taken at a distance of 3 meters, showing the effect of camouflage on flat land with savanna climate.
  • Figure 10 Photograph of a person A wearing a uniform with the present invention pattern and a person B wearing a uniform with a pattern different from that of the present invention, taken under daylight at a distance of 5 meters.
  • Figure 11 Photograph of a person A wearing a uniform with the present invention pattern and a person B wearing a uniform with a pattern different from that of the present invention, taken by using a night vision device at a distance of 2 meters.
  • the present application is directed to a camouflaged pattern characterized in that it comprises two overlapping designs, where the first design is a camouflaged print that comprises between 2 and 15 colors, of different hue or hue, where the combination of light and dark colors alternate, and the second design placed on the first, which comprises a series of diagonal wavy lines (2), which can be oriented in the same direction or can be found in opposite directions intersecting to create a mesh, which forms rhombuses (3).
  • Said diagonal undulating lines are sinusoidal lines and that when cutting the print of the first design generates a series of small irregular sections, whose frequency in nature is high, so that the human eye perceives them as normal and ignores them, because Consider part of the environment.
  • the camouflaged pattern comprises between 3 and 6 colors or shades, which combine to create a micropattern (4) which is repeated throughout the pattern of the present invention.
  • the predominant color in the pattern of the first pattern is the lightest or the second lightest color.
  • said predominant color is present in a proportion of 30% to 60% of the total pattern.
  • Said first design comprises a pattern selected from the group consisting of pixelated camouflage, stains, stripes, brush strokes or strips.
  • the first design comprises a pixelated pattern, where the undulating lines cut at least once each pixel.
  • the second design which consists of diagonal undulating lines distributed along the pattern, where the distance between said diagonal undulating lines can be equal along the pattern.
  • the distance between the diagonal undulating lines may vary as length of the pattern, said distance being smaller in some areas of the pattern and greater in others.
  • the relationship between the distance between the undulating lines of the second design and the dimension of the side of the pixels that are part of the first design is in a proportion between 0.1 and 2.
  • proportion is equal to 1
  • the distance between the wavy lines is equal to the dimension of the side of the pixels.
  • the undulating lines of the second design are sinusoidal, they form ridges.
  • the distance between the wave crests of the undulating lines of the second design is the same.
  • the design is also part of the present invention where the distance between crest and crest of the line is varied along the pattern.
  • Another important aspect of the present invention is the color of the wavy lines that are part of the second pattern.
  • the diagonal wavy lines must be the same color as one of the colors of the first design to reduce the contrast of the pattern with respect to the environment where it is located.
  • the lines are the same color as one of the colors of the first design, and even better, said lines are of the most predominant color in the first design, this in order to generate a greater reflectance of the light spectrum and create an effect of Three-dimensional design, when placing the mesh design on the fragments of the same color in the first design the lines of the mesh are lost, which makes the segments of the same color of the mesh come into view. This information is processed by the human brain, causing a sense of depth.
  • the wavy lines hide the edges of the shapes to which the pattern is applied, which makes visual acuity difficult, preventing contours and shapes from being defined and thus reducing the probability that the object covered with the pattern is detected and identified, which ultimately results in an increase in the survival rate of military personnel from countries in conflict.
  • camouflage pattern of the present invention In order to demonstrate the effects achieved with the camouflage pattern of the present invention, a series of field studies were carried out, where a group of people were dressed in uniforms whose fabric incorporates the camouflage pattern of the present invention and a second group of People were uniformed with a clothing that did not present the overlapping mesh design.
  • Figure 2 shows a group (A) composed of four people who wear the uniform with the pattern of the invention and a group (B) of four people who have a pixelated uniform that lacks undulating lines and have a pattern different pixelated.
  • Figure 4 it is shown how the reflected light effect on the surface of the aircraft is in turn reflected by the camouflage pattern causing a similarity that prevents the user of the pattern from being detected at a distance of 150 meters.
  • Figure 10 shows a camouflage user without undulating lines (B) resting on the body of the user of the camouflage pattern of the invention (A), 95% of the observers considered that the user's body (A) was a rock on which the user (B) rested, who was easily detectable.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)

Abstract

La presente solicitud hace referencia a un patrón de camuflaje basado en dos diseños, el primero de ellos un estampado camuflado compuesto de dos a 15 colores, dos o más tonalidades o dos o más matices del mismo color, que tiene diferentes reflectancias, y un segundo diseño, que comprende una serie de líneas ondulantes diagonales superpuestas sobre el estampado del primer diseño, preferiblemente formando una malla de rombos, que en conjunto aumentan la capacidad de mimetizarse con el ambiente en distintos entornos, entre ellos: selva, bosque, sabana, desierto, y urbano, tanto de día como de noche, aun con el uso de equipos de visión nocturna.

Description

PATRÓN DE CAMUFLADO CON LÍNEAS ONDULANTES Campo técnico La presente solicitud hace referencia a un patrón de camuflaje basado en dos diseños, el primero de ellos un estampado camuflado compuesto de dos o más colores, dos o más tonalidades o dos o más matices del mismocolor, que tiene diferentes reflectancias, y un segundo diseño, que comprende una serie de líneas ondulantes diagonales superpuestas sobre el estampado del primer diseño, que en conjunto producen reflectancia del espectro lumínico en distintas longitudes de onda, lo cual genera un efecto óptico que aumenta la capacidad de mimetizarse con el ambiente y pasar desapercibido en distintos entornos, entre ellos: selva, bosque, sabana, desierto, y urbano, tanto de día como de noche, aun con el uso de equipos de visión nocturna.
El patrón de la invención puede ser aplicado a diferentes superficies, entre ellas textiles, calzado, cascos, vehículos, aeronaves, embarcaciones, estructuras, edificaciones, armas de fuego y cualquier otro material de intendencia.
Estado de la técnica
El desarrollo de patrones de camuflaje surge como respuesta a la intención del hombre por hacerse invisible e inicia en 1942 con el patrón conocido como "cazador de pato", el cual seasoció con el modelo que tiene manchas grandes e irregulares de varios colores sobre un fondo sólido. Las variaciones del patrón original fueron reproducidas por los americanos y las compañías extranjeras de los años sesenta y de los años noventa y se comercializaron como ropa para la caza deportiva. Este estilo de camuflaje también se llama a menudo "mancha" o "parche" de cazador de pato. A pesar que su uso es común, este patrón de camuflaje carece de un efecto que proporcione profundidad y no permite lograr un efecto de camuflaje en ambientes diferentes a la naturaleza, tales como: el asfalto, la nieve, el desierto, etc.
En procura de mejorar ese primer intento surgió el camuflaje de "pincelada", utilizado por el Mayor Denison del ejército Británico, quien tomó una tela de color caqui y le aplico color con un cepillo, para generar un efecto de pincel y así crear un patrón de camuflaje para los paracaidistas, quienes eran susceptibles de ser blanco de francotiradores del enemigo. El término pincelada se refiere a los brochazos pintados con estos cepillos, que dieron lugar a patrones anchos de color. El patrón de pincelada fue empleado en uniformes británicos durante los años sesenta y fue copiado por varios países en África, el Medio Este y Asia. Este patrón influyó en el desarrollo de otros patrones derivados como "el lagarto" francés y la "raya del tigre" de losvietnamitas. A pesar del aporte que en su momento representó este diseño, tiene la desventaja de ser un diseño hecho a mano y por ende, no posee un patrón definido que le permita adaptar formas de la naturaleza y de esta forma producir un efecto óptico de engañó o invisibilidad.
Paralelo al patrón de pincelada, Estados Unidos planteó el patrón ERDL conocido como "patrón de hoja", usado durante la guerra de Vietnam, este diseño consiste en formas orgánicas verdes con manchas marrones y formas de hierbas con ramas de negro y un fondo verde lima. A pesar que varios diseños han sido derivados del patrón de hoja, todos tienden a tener formas superpuestas más gruesas y grandes áreas de color sólido. En el patrón original era predominantemente verde y se caracterizaba por tener formas de ramas estrechas e irregulares en dos o más colores, sobre un fondo sólido.
Como ya se mencionó, los franceses optaron por el patrón de camuflaje "Leopardo", el cual fue conocido localmente por los paracaidistas franceses durante la guerra de Argelia como "lagarto". Este patrón desciende directamente del diseño británico denominado "pincelada". Existen dos versiones del patrón de lagarto, un patrón donde las rallas tienen orientación vertical y otro con orientación horizontal, los patrones franceses creados en 1950 eran horizontales, pero los elaborados por Portugal poco después fueron verticales.
Por la época en que surgió el patrón de camuflaje "Leopardo", se desarrolló el patrón denominado "patrón astilla", el cual se refiere a los diseños de camuflaje originados en la Wehrmacht alemana que incorporan formas geométricas con una sobreimpresión de líneas de lluvia, y para los patrones descendientes, Aunque la sobreimpresión de "lluvia" era una característica de los diseños alemanes originales, el término "astilla" abarca todos los diseños que tienen formas geométricas que se asemejan a fragmentos astillados de vidrio u otros materiales frágiles. El término alemán original para este patrón fue Splittertarn (camuflaje astilla) o Splittermuster (patrón astilla)
En el estado de la técnica también se encuentra el patrón rompecabezas, que a diferencia de la mayoría de los patrones de camuflaje ya mencionados, no se derivó de un patrón particular. El más prominente de los patrones de rompecabezas fue el desarrollado por Bélgica en la década de 1956. Aunque los primeros patrones de camuflajes belgas fueron influenciados por el diseño de pinceladas, este diseño rompió esquemas y reunió una categoría de diseños de camuflaje que se caracteriza por tener formas que se asemejan a las piezas de un rompecabezas. En 1960 surge el Material del Patrón Disociador (DPM), uno de los modelos ampliamente copiados en el mundo. Muchos países tienen sus propias variaciones de este patrón para adaptarlo al bosque normal o al desierto. El "modelo de DPM normal" se desarrolló para los climas templados y consiste en la integración de los colores negro, castaño y verde fosforescente, plasmados en un fondo color caqui o café claro. Hay docenas de variaciones hechas pensadas para climas tropicales y algunos para los climas del desierto. El patrón DPM permanece en uso enel Ejército británico, pero está siendo reemplazado gradualmente por el nuevo patrón multi-terreno ( TP). El problema de este diseño es que una vez se desgasta el material y los colores se destiñen, lo que produce un efecto visual fácilmente detectable. Este patrón de camuflaje consiste en la mezcla de manchas de diferentes colores que se asemejan a los que hay en el ambiente, pero la distribución de los mismos es de rangos muy amplios lo que afecta negativamente el efecto visual de camuflaje. Por la época en que se desarrolló el diseño DPM y el patrón "leopardo", también surgió el diseño patrón de "lluvia", el cual se refiere a un diseño de camuflaje que incorpora un fuerte porcentaje "tiras" o "manchas" alineadas verticalmente que simulan la imagen de la lluvia cayendo. Durante la Segunda Guerra Mundial, la Wehrmacht alemana utilizó esta característica en varios patrones de camuflaje, principalmente en los diseños Splittermuster (astilla) y Sumpfmuster (pantano). Estos patrones fueron posteriormente modificados, pero el concepto de "lluvia cayendo" (en la que las propias gotas de lluvia se aislaron como la característica principal en un fondo de color sólido) surgió de los países del Pacto de Varsovia de Europa del Este. El gobierno de Sudáfrica incluso reprodujo el patrón para sus Unidades de Fuerzas Especiales, donde el patrón se ganó el apodo de "manchas de arroz". Polonia parece haber sido el primer país del Pacto de Varsovia en producir un diseño simplificado del "patrón lluvia", que consiste en finas tiras de lluvia marrón sobre un fondo gris de campo. Otro patrón de camuflado ampliamente reconocido es el que ha sido denominado patrón "rayas de tigre", que se refiere a una familia de diseños de camuflaje desarrollados en el Sudeste asiático (especialmente la República de Vietnam) durante la década de 1960. El término "rayas de tigre" (o "modelo del tigre") se refiere a la similitud rudimentaria entre las estrechas pinceladas del diseño del camuflaje y el diseño del cuero natural del género Panthera tigris. El primer modelo del patrón "rayas de tigre" era una copia de fabricación local del patrón del lagarto francés producido para el Cuerpo de Marina Vietnamita (Soc Rán Thüy Quan Luc-Chién). Entre las variaciones de este patrón se encuentran diseños que incluye rayas de diferentes colores o tonalidades dibujadas sobre un fondo que comprende verde y marrones. Otras variaciones se asocian a la cantidad de rayas y ellas son conocidas como versiones "escasa" y "densa".
Otro diseño de camuflaje ampliamente empleado en los uniformes militares fue desarrollado en 1971 por Estados Unidos y es conocido como diseño "Chip de Chocolate". Este patrón de camuflaje comprendió originalmente seis colores y surgió como respuesta a las condiciones encontradas en los desiertos rocosos de California. El diseño original comprendía manchas en dos tonos de café mediano sobre zonas extensas de color arena y café claro, salpicado de formas de rocas más pequeñas impresas en negro y blanco mate. Este diseño tuvo su pico de utilidad entre 1981 y 1991. Fue usado inicialmente por el personal militar de Estados Unidos que sirve en el Sinaí, pero su uso más frecuente fue durante la Operación Escudo del Desierto / Tormenta (la Guerra del Golfo Pérsico) y más tarde en los despliegues a Somalia. Con el tiempo se estableció que el diseño tenía una eficacia limitada en muchos de los áridos desiertos de arena del Golfo Pérsico y el norte de África, ya partir de 1991 fue sustituido por el patrón del desierto de tres colores. Sin embargo, el diseño de seis colores originales ha sido empleado por muchas naciones, y ha dado lugar a una gran variedad de derivados utilizando diferentes combinaciones de colores.
En 1981 , se incluyó el término "bosque", que se aplica generalmente para el patrón "bosque" m81 de USA (que a su vez se derivó del patrón m1948 ERDL) y todos sus derivados. El camuflaje "bosque" se basa en el patrón arbolado m81 y ha sido uno de los patrones de camuflaje más reproducidos y modificados. Este diseño ha sido el más usado por las Fuerzas Militares en todo el mundo e incluso, muchos uniformes militares aún lo emplean. En la actualidad, el diseño camuflaje más popular es el reconocido como término "digital", el cual ha sido diseñado utilizando algoritmos informáticos que están programados para crear micropatrones para la disrupción efectiva (diseños de camuflaje orgánicos, convencionales y/o analógosusados para macropatrones). La teoría detrás de micropatrones es que las grandes manchas de color con perfiles afilados son más fáciles de ver, mientras que el desvanecimiento o la falta de definición de los bordes de los parches de color hacen que los contornos sean más difíciles de definir. En su uso común, sin embargo, el término digital ha sido empleado para referirse a cualquier diseño de camuflaje que incorpora píxeles en lugar de formas orgánicas para crear el diseño. Aunque el término camuflaje "pixelado" es más preciso. El primer país en adoptar un verdadero modelo digital fue Canadá, que presentó su CADPAT (Patrón canadiense) en 1997. Entre las patentes que se relacionan con este diseño está la patente CA2442558, que se refiere a un material de camuflaje que tiene un aspecto granítico, elaborada a partir de granos de colores entremezclados en el que alrededor del 21% de dichos granos coloreados presentan un color verde claro; aproximadamente el 6% de dichos granos de colores exhiben un color marrón; aproximadamente el 48% de dichos granos de colores exhiben un color verde medio , y sobre el 25% de dichos granos de color exhiben un color negro. Entre los beneficios identificados para este diseño está la reducción de la probabilidad de detección por dispositivos de visión nocturna.
La base del efecto camuflado logrado por este patrón es el juego de colores de diferentes longitudes de onda que permite ocultarse en espacios con tonalidades similares. Es así como el modelo cuenta hoy en día con tres variaciones: el bosque templado (TW), región árida (AR), y el invierno / ártico (WA). El patrón bosque templado (CADPAT TW) tiene cuatro colores específicos: verde claro, verde, marrón y negro, y se introdujo por primera vez en 1996, sobre la cubierta de un nuevo casco puesto en servicio oscuridad. Al mismo tiempo, el patrón también se introdujo en una nueva red de camuflaje individual. El patrón para las regiones áridas CADPAT (AR), empleado en uniformes para las operaciones en el desierto, cerca del desierto, y las condiciones ambientales de la sabana, incluye tres colores diferentes de marrón, mientras que el patrón invierno/ártico se introdujo como una actualización para los blancos monocromáticos de invierno a fin de mejorar aún más la capacidad de camuflaje del soldado de día y de noche, incluida la capacidad de camuflaje al ser observado con tecnología (NIR) de infrarrojos. Finalmente, existe el patrón CADPAT urbano diseñado para las áreas metropolitanas. El MARPAT (Marine Pattern) es un camuflaje de diseño digital, muy similar al CADPAT (Canadian Pattern). Está formado por bloques cuadrados y rectangulares de colores marrón, verde y negro, que bien combinados entre sí, hacen un patrón de disrupción muy eficaz. Este uniforme tiene dos versiones oficiales.bosque y desierto, y actualmente, se encuentra el proceso del desarrollo del patrón urbano, aunque también se está perfeccionando un modelo no oficial, en colores grises, blancos y negros
La patentes US6805957, que protege este patrón establece que el sistema de patrón de camuflaje disruptivo consiste de un macro patrón y un micro patrón, en el que el micropatrón está formado por píxeles de bordes afilados, proporcionales al tamaño de un objeto camuflado, los píxeles son al menos en cuatro colores con una variedad de colores oscuros y claros en el que el patrón se repite en intervalos establecidos y, dentro de la repetición del diseño, el color más claro es un color de base que incluye de aproximadamente 5 % de la repetición, el siguiente color más oscuro se incluye en aproximadamente 47 % de la repetición, el siguiente color más oscuro está presente aproximadamente en el 30% de la repetición , y el color más oscuro que incluye aproximadamente en el 18% de la repetición, los pixeles del micropatrón crean las formas del macropatrón, las combinaciones específicas de los pixeles del micropatrón que generan las formas del macropatrón pueden ser del mismo color o de diferentes colores, las formas del macropatrón perturba la formar del sujeto camuflado, la proporción de pixeles claros a oscuros en el micropatrón, combinado con el efecto del micro y el macro patrón produce un camuflaje disruptivo tanto para el ojo humano como los dispositivo de luz infrarroja y el sujeto camuflado tiene un valor de luminosidad (L*), que es comparable al espacio negativo que rodea el sujeto camuflado.
A partir de los dos desarrollos antes mencionados, muchos países han adoptado diseños pixelados o "digitales", algunos muy eficaces, y otros que tienen una relación más estrecha con la moda actual de diseño de camuflaje pragmático.
Otra información sobre camuflado se encuentra en la patente US8307748B2, Diseño y Método de Camuflaje Multi-Rango, cuyo patrón presenta una matriz compuesta de celdas (pixeles), en la que existe una variación de color mínima entre celdas vecinas, la cual, permite ocultar el objeto a grandes distancias. La desventaja de esta patente radica en que el método de variación mínima de colores no permite que un mismo patrón pueda adaptarse a diferentes ambientes del entorno.
En el estado de la técnica también se ubicó la patente DE202009018499U1 , que presenta un patrón de camuflaje con un esquema poligonal en donde de manera adyacente se unen de manera uniforme las formas que conforman el patrón de camuflaje. Proporciona un camuflaje flexible a diferentes objetos. La desventaja de esta patente radica en que no establece la proporción de los colores utilizados en las formas, ni la distancia entre los elementos de la superficie poligonal, lo cual impide determinar la forma a través de la cual se pueda aplicar el patrón a cualquier tipo de superficie.
Finalmente, se encontró la patente CA2257688C, titulada "Producto y método de engaño", la cual hace uso de la "ilusión óptica" para generar un patrón de camuflado que posee tres (03) regiones completamente diferentes entre sí. Aunque existe un tipo de malla dentro de una de las regiones del patrón de camuflado, ésta se relaciona con especificaciones de dibujo técnico donde dicha malla designa un color particular, además, la malla no está superpuesta sobre un patrón pixelado. La invención de esta solicitud proporciona material de camuflaje que engaña a los animales (usando el patrón infrarrojo) y no a los humanos. La desventaja de esta patente radica en que el concepto de engaño no cuenta con un pixelado que distribuya colores en diferentes proporciones, lo cual no permite adaptar el patrón a distintos ambientes del entorno. Además, este diseño fue realizado para engañar el ojo animal y no el ojo humano.
Considerando la información anterior es evidente que los patrones conocidos en el estado de la técnica se basaban en la combinación de colores para simular las tonalidades y formas que se encuentran en el entorno. Esto hace, que a pesar de los avances alcanzados, sea necesario reproducir el patrón en diferentes colores y tonalidades, para que el camuflaje se adecuado para el terreno donde se pretende pasar inadvertido.
Así las cosas, es evidente que existe la necesidad de contar con un patrón de camuflaje multi- terreno, que permitiera reducir la percepción de objeto cubierto con dicho patrón, independientemente del lugar en que dicho objeto se encuentre ubicado.
El patrón de la presente invención logra potenciar el efecto de camuflaje mediante la combinación de dos diseños que combinan un patrón de líneas Π/l/W ¿ u i t t υ
10 ondulantes diagonales, que al sobreponerse sobre un estampado camuflado, desvían la atención del observador, quien al enfrentarse con múltiples longitudes de onda de la luz reflectada sobre el patrón, no perciben el objeto debido a la ilusión óptica que dichas longitudes de onda generan en el cerebro.
Descripción de las figuras
Figura 1. Patrón de camuflaje con líneas ondulantes diagonales de la presente invención
Figura 2. Fotografía de personal con uniforme militar confeccionado con una tela impresa con el patrón de camuflaje con líneas ondulantes diagonales de la presente invención (A) y personal con uniforme militar confeccionado con una tela sin líneas ondulantes (B)
Figura 3. Fotografía de una persona usando ununiforme con el patrón invención, tomada a una distancia de 10 metros, donde se observa que el uniforme se mimetiza con el color de la estructura de fondo.
Figura 4. Fotografía de una persona usando un uniforme con el patrón de la presenteinvención, tomada a una distancia de 150 metros, donde se muestra el efecto de pérdida de la definición del contorno, permitiendo mejorar la capacidad de camuflaje con el entorno.
Figura 5. Fotografía de una persona usando un uniforme con el patrón de la presente invención, tomada a una distancia de 2 metros, mostrando el efecto de camuflaje en el entorno selvático.
Figura 6. Fotografía de una persona usando un uniforme con el patrón de la presente invención, tomada a una distancia de 5 metros de la - - · - g υ V V i) fl ¾
11 persona que está en primer plano, mostrando el efecto de camuflaje en el entorno selvático.
Figura 7. Fotografía de una persona usando un uniforme con el patrón de la presente invención, tomada a una distancia de 1 metro, mostrando el efecto de camuflaje en el entorno de bosque seco.
Figura 8. Fotografía de una persona usando un uniforme con el patrón de la presente invención, tomada a una distancia de 3 metros, mostrando el efecto de camuflaje en el entorno de bosque seco.
Figura 9. Fotografía de una persona usando un uniforme con el patrón de la presente invención, tomada a una distancia de 3 metros, mostrando el efecto de camuflaje en terrenos llanos con clima de sabana.
Figura 10. Fotografía de una persona A usando un uniforme con el patrónde la presenteinvención y una persona B usando un uniforme con un patróndistinto al de la presente invención, tomada bajo la luz del día a una distancia de 5 metros.
Figura 11. Fotografía de una persona A usando un uniforme con el patrónde la presenteinvención y una persona B usando un uniforme con un patróndistinto al de la presente invención, tomada mediante el empleo de un dispositivo visión nocturna a una distancia de 2 metros.
Descripción detallada La presente solicitud está dirigida a un patrón de camuflado caracterizado porque comprende dos diseños superpuestos, donde el primer diseño es un estampado camuflado que comprende entre 2 y 15 colores, de diferente tonalidad o matiz, donde se alternan la combinación de colores claros y oscuros, y el segundo diseño colocado sobre el primero, que comprende una serie de líneas ondulantes diagonales (2) ,que pueden estar orientadas en una misma dirección o pueden encontrarse en direcciones opuestas entrecruzándose para crear una malla, que forma rombos (3).
Dichas líneas ondulantes diagonales son líneas sinusoidales y que al cortar el estampado del primer diseño genera una serie de pequeñas secciones irregulares, cuya frecuencia en la naturaleza es elevada, por lo que el ojo humano las percibe como normal y las pasa por alto, pues lo considera parte del entorno.
En una alternativa de la invención, el estampado camuflado comprende entre 3 y 6 colores o tonalidades, que se combinan para crear un micropatrón (4) el cual se repite a lo largo del patrón de la presente invención.
En una modalidad preferida, el color predominante en el patrón del primer estampado es el color más claro o el segundo más claro. Preferible dicho color predominante está presente en una proporción de 30% a 60% del total del patrón.
Dicho primer diseño comprende un estampado seleccionando entre el grupo que consiste de camuflado pixelado, manchas, franjas, pinceladas o tiras. Preferiblemente, el primer diseño comprende un estampado pixelado, donde las líneas ondulantes cortan al menos una vez cada pixel.
El segundo diseño, que consta de líneas ondulantes diagonales distribuidas a lo largo del patrón, donde la distancia entre dichas líneas ondulantes diagonales puede ser igual a lo largo del patrón. En una alternativa de la invención, la distancia entre las líneas ondulantes diagonales puede variar a lo largo del patrón, siendo dicha distancia menor en algunas áreas del patrón y mayor en otras.
De preferencia, la relación entre la distancia existente entre las líneas ondulantes del segundo diseñoy la dimensión del lado de los pixeles que hacen parte del primer diseño está en una proporción entre 0,1 y 2. Siendo, la mejor opción aquellos diseños donde dicha proporción es igual a 1 , es decir, la distancia entre las líneas ondulantes es igual a la dimensión del lado de los pixeles.
Complementando lo anterior, dado que las líneas ondulantes del segundo diseño son sinusoidales, ellas forman crestas. Preferiblemente, la distancia entre las crestas de las ondas de las líneas ondulantes del segundo diseño es igual. No obstante, también hace parte de la presente invención el diseño donde la distancia entre cresta y cresta de la línea ondúlate variar a lo largo del patrón.
Otro aspecto importante de la presente invención es el color de las líneas ondulantes que hacen parte del segundo patrón. Las líneas ondulantes diagonales deben ser del mismo color que uno de los colores del primer diseño para reducir contraste del patrón con respecto al entorno donde se encuentra ubicado.
Preferiblemente, las líneas son del mismo color que uno de los colores del primer diseño, y aún mejor, dichas líneas son del color más predominante en el primer diseño, esto con el fin de generar una mayor reflectancia del espectro lumínico y crear un efecto de tridimensionalidad en el diseño, puesto al colocar el diseño de la malla sobre los fragmentos del mismo color en el primer diseño las líneas de la malla se pierden, lo ha hace que los segmentos del mismo color de la malla salten a la vista. Esta información es procesada por el cerebro humando, originando una sensación de profundidad. Sumado a lo expuesto en el párrafo anterior, las líneas ondulantes ocultan las aristas de las formas a las cuales se aplica el patrón, lo que dificulta la agudeza visual, impidiendo que se definan contornos y formas y por ende, reduce la probabilidad de que el objeto cubierto con el patrón sea detectado e identificado, lo que finalmente redunda en un aumento de la tasa supervivencia del personal militar de países en conflicto.
Ejemplos
En procura de evidenciar los efectos alcanzados con el patrón de camuflaje de la presente invención se realizaron una serie de estudios de campo, donde un grupo de personas fue vestido con uniformes cuya tela incorpora el patrón de camuflaje de la presente invención y un segundo grupo de personas fue uniformada con una indumentaria que no presentaba el diseño de malla superpuesta.
Para establecer la percepción sobre el nivel de detección e identificación de las personas que conforman los grupos antes definidos se sometió un grupo 50 observadores a la prueba de determinar en fotografías y en forma presencial la ubicación del personal uniformado, para determinar cuál uniforme permitía un mayor camuflaje.
Dentro de este contexto la Figura 2 muestra un grupo (A) compuesto de cuatro personas que portan el uniforme con el patrón de la invención y un grupo (B) de cuatro personas que tienen un uniforme pixelado que carece de líneas ondulantes y presentan un patrón pixelado distinto. El 90% de los observadores encuestados consideró que el patrón de la invención era menos detectable, llamaba menos la atención y presentaba mayor similitud con el entorno. Al someter el grupo de observadores a la fotografía consignada en la Figura 3, se encontró que el 80% de ellos percibía el color del uniforme del mismo todo que el de la estructura junto a la cual se encontraba la persona usuaria del patrón de la invención. Al acercarse, se pudo establecer que tal afirmación era incorrecta pues el uniforme es gris y las tonalidades verdosas son el resultado de la reflectancia del espectro luminoso sobre el patrón aquí reivindicado.
En la Figura 4, se evidencia cómo la reflectada del efecto luminoso sobre la superficie de la aeronave es a su vez reflectada por el patrón de camuflaje causando una similitud que impide que el usuario del patrón sea detectado a una distancia de 150 metros.
Al realizar las pruebas en diferentes terrenos y ambientes se encontró que a pesar de emplear un color poco común en la naturaleza como son las diferentes tonalidades del gris, se lograba un buen camuflaje, independientemente de si el espacio donde se encontraba el usuario del uniforme con el patrón era selva (Figura 5 y 6), bosque seco (Figura 7 y 8) y sabana (Figura 9), en todos los casos, los observadores participantes en el experimento manifestaron dificultad en detectar, pero en especial en identificar la persona uniformada con el patrón de la presente invención, indistintamente del terreno en que se tomó la fotografía o se efectuó la prueba.
Al contrastar el nivel de camuflaje entre los dos patrones evaluados en la prueba a la luz del día, se encontró que el 90 % de los encuestados veían con mayor facilidad al usuario del patrón sin líneas (B) que al usuario del patrón de la presente invención (A).
Finalmente, los dos grupos de usuarios fueron sometidos a la detección mediante dispositivos de visión nocturna. En la Figura 10 se muestra un usuario del camuflado sin líneas ondulantes (B) apoyado sobre el cuerpo del usuario del patrón de camuflado de la invención (A), el 95% de los observadores consideró que el cuerpo del usuario (A) era una roca sobre la cual se apoyaba el usuario (B), quien era fácilmente detectable.
En vista de los resultados de las pruebas efectuadas, es evidente que existe una reducción en el nivel de percepción, detección e identificación del usuario del patrón de la presente solicitud. Lo que demuestra la existencia de un efecto inesperado, pues la inclusión de las líneas diagonales del segundo diseño que conforma el patrón de camuflaje de la invención aumenta el nivel de camuflaje del usuario independientemente del terreno y el ambiente en que éste se encuentra.

Claims

REIVINDICACIONES
1. Un patrón de camuflado caracterizado porque comprende dos diseños superpuestos, donde el primer diseño es un estampado camuflado que comprende entre 2y 15 colores, y un segundo diseño colocado sobre el primero, que comprende una serie de líneas ondulantes diagonales, que tienen la misma dirección o que se encuentran en direcciones opuestas entrecruzándose para formar una malla.
2. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque el primer diseño alterna la combinación de colores claros y oscuros.
3. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque preferiblemente el primer diseño es un estampado camuflado que comprende entre 3 y 6 colores.
4. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque el color predominante en el primer estampado es el color más claro o el segundo más claro.
5. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque el color predominante está presente en una proporción de 30% a 60% del color total del patrón.
6. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque el primer diseño comprende un micropatrón que se repite a lo largo del patrón total.
7. El patrón de camuflado de una cualquiera de lasreivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque el primer diseño comprende un estampado seleccionando entre el grupo que consiste de pixelado, manchas, franjas, pinceladas o tiras.
8. El patrón de camuflado de la reivindicación 7, caracterizado porque preferiblemente el primer diseño comprende un estampado pixelado.
9. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque la distancia entre las líneas ondulantes diagonales pueden ser igual o desigual a lo largo del patrón.
10. El patrón de camuflado de la reivindicación 9, caracterizado porque la relación entre la distancia de las líneas ondulantes y la dimensión del lado de los pixeles que hacen parte del primer diseño estáen una proporción entre 0,1 y 2.
11. El patrón de camuflado de la reivindicación 8, caracterizado la proporción entre la distancia de las líneas ondulantes y la dimensión del lado de los pixeles que hacen parte del primer diseño es igual a 1 , es decir, la distancia entre las líneas ondulantes es igual a la dimensión del lado de los pixeles.
12. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque la distancia entre las crestas de las ondas de las líneas ondulantes pueden ser igual o desigual a lo largo del patrón.
13. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque preferiblemente el patrón comprende líneas ondulantes diagonales que se encuentran en direcciones opuestas, de manera que al entrecruzarse, sus intersecciones crean una malla en forma de rombos.
14. El patrón de camuflado de la reivindicación 13, caracterizado porque los rombos de la malla del segundo diseño son irregulares.
15. El patrón de camuflado de la reivindicación 1 , caracterizado porque las líneas ondulantes diagonales son del mismo color que uno de los colores del primer diseño.
16. El patrón de camuflado de la reivindicación 15, caracterizado porque las líneas ondulantes son del mismo color que el color más predominante en el primer diseño.
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