WO2015033721A1

WO2015033721A1 - 表示パネル

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Publication number: WO2015033721A1
Application number: PCT/JP2014/070485
Authority: WO
Inventors: 寿史渡辺; 昌行兼弘; 仲西　洋平
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2013-09-04
Filing date: 2014-08-04
Publication date: 2015-03-12
Also published as: US20160202516A1; US9964810B2

Abstract

　表示パネル（１０）は、一対の基板（１１、１２）および一対の基板間に保持された表示媒体層（１４）を備え、表示領域（ＲＡ）および表示領域の外側の額縁領域（ＲＦ）が規定されており、額縁領域の内側において一対の基板および液晶層を貫通する孔（１０Ａ）が形成されており、一対の基板間において孔を囲むように配置された孔周辺シール部（１３Ａ）を備え、孔周辺シール部が角部または突出部（１３ｐ）を有する。

Description

表示パネル

　本発明は、表示領域内に孔が設けられた表示パネルに関する。

　一般に、透過型の液晶表示装置は、液晶パネル、バックライトユニット、液晶パネルに各種の電気信号を供給するための回路基板や電源、および、これらを収容する筐体などを備えている。

　液晶パネルには、複数の画素が配列された表示領域（アクティブエリア）と、その外側に位置する額縁領域（非アクティブエリア）とが設けられている。表示領域には、画素電極やＴＦＴ（ｔｈｉｎ　ｆｉｌｍ　ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などが設けられており、画像や映像が表示される。一方、額縁領域には、液晶材料を基板間に封止するためのシール材、走査線または信号線に接続された配線やモノリシックに形成された駆動回路、外部駆動回路に接続される端子などが配置されており、画像や映像の表示のために用いられない。

　液晶パネルの額縁領域は、表示に寄与しない領域であるので、狭小化されることが好ましい。しかし、液晶パネルの狭額縁化が年々進んではいるものの、額縁領域を無くすことは原理的に困難である。

　以前より、表示パネルの額縁領域を狭小化する、あるいは、目立たなくする方法が検討されている。本出願人は、特許文献１において、表示パネルの観察者側に透光性カバーを設ける表示装置を開示している。この表示装置において、透光性カバーの端部には、レンズとして機能する凸曲面部分が設けられている。

　透光性カバーの凸曲面部分（レンズ部）は、典型的には、表示パネルの額縁領域と、額縁領域近傍の表示領域の一部（以下、周辺表示領域と呼ぶ場合がある）とを覆うように配置される。周辺表示領域に配列された画素（周辺画素）から出射された光は、レンズ部で屈折し、その結果、額縁領域の前方に画像が拡大されて表示される。これにより、額縁領域が目立ちにくくなる、あるいは、額縁領域が存在しないように見える。

　上記のような表示装置を用いれば、例えばスマートフォンなどの携帯型の電子機器において、観察者側パネル面の略全域を表示領域として提供することが可能になる。このような電子機器は、機器のサイズに対して情報表示が可能な領域が大きいので、機器の小型化という観点から有利である。

国際公開第２０１０／０８９９９８号特開２００５－４６３５２号公報特開２００９－４７９０２号公報特開２００４－３２９６９４号公報

　観察者側パネル面の全体を表示に利用しようとする試みがなされているが、額縁領域を完全に無くしてしまうと、従来、前面の額縁領域に配置されていた物理的なボタンやカメラ等を設けるスペースが無くなる。

　これに対し、本出願人は、国際出願第ＰＣＴ／ＪＰ２０１４／０５４９６６号において、表示パネルの額縁領域内側の領域すなわち表示領域内に貫通孔を設け、この貫通孔にボタン等の入力デバイスを設置する構成を開示している。参考のために、国際出願第ＰＣＴ／ＪＰ２０１４／０５４９６６号の開示内容の全てを、本明細書に援用する。

　液晶パネルの表示領域に貫通孔を設ける構成は、例えば、特許文献２～４にも開示されている。特許文献２および３には、貫通孔を避けるようにして画素を駆動するための配線を巡らせる構成が開示されている。また、特許文献４には、孔の周辺に設けられるシール材やスペーサについての記載がある。

　しかし、本発明者の検討の結果、例えば液晶材料のような流動性を有する材料を用いて表示媒体層を構成する場合において、従来の構成では、表示パネルに貫通孔を設けたときに、孔の周りで表示品位が低下しやすいことが分かった。

　本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、表示領域に孔を有する表示パネルにおいて表示品位の低下を防止することをその目的とする。

　本発明の実施形態による表示パネルは、一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、前記孔周辺シール部が角部または突出部を有する。

　ある実施形態において、上記の表示パネルは、前記表示媒体層を囲むように設けられた外側シール部を有し、前記外側シール部の一部には、開口部が設けられており、前記孔周辺シール部の前記角部または前記突出部は、前記外側シール部の前記開口部から見て前記孔の奥側の位置において、前記開口部と前記孔とを通る直線上または前記直線の近傍に設けられている。

　ある実施形態において、上記の表示パネルは、前記表示媒体層を囲むように設けられた外側シール部を有し、前記外側シール部は、閉じた環状に設けられ、前記孔周辺シール部の前記角部または前記突出部は、前記表示領域の中心から見て前記孔の奥側の位置において、前記孔と前記表示領域の中心とを通る直線上または前記直線の近傍に設けられている。

　ある実施形態において、前記孔周辺シール部は前記角部を有し、前記孔は前記孔周辺シール部の前記角部に対応する角部を有している。

　本発明の実施形態による表示パネルは、一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの層状体とを備え、前記少なくとも１つの層状体は、前記孔周辺シール部に接する前記孔周辺シール部の外側の領域において非形成領域を有しており、前記非形成領域におけるセルギャップが、他の領域におけるセルギャップよりも大きい。

　ある実施形態において、前記少なくとも１つの層状体は、カラーフィルタ層、オーバーコート層、保護層、および、層間絶縁層のうちの少なくとも１つを含む。

　本発明の実施形態による表示パネルは、一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの垂直配向膜とを備え、前記少なくとも１つの垂直配向膜は、前記孔周辺シール部に接する前記孔周辺シール部の外側の領域において非形成領域を有している。

　本発明の実施形態による電子機器は、上記いずれかの表示パネルと、前記表示パネルの前記孔に配置された入出力デバイスとを備える。

　本発明の実施形態による液晶パネルの製造方法は、一対の基板を用意する工程と、前記一対の基板のうちの一方の基板上に外側シール部および孔周辺シール部を設ける工程と、前記孔周辺シール部から離れた位置に供給された液晶材料を流動させることによって、少なくとも前記一方の基板の基板面上に液晶材料を広げる工程と、前記一対の基板を前記外側シール部および孔周辺シール部を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の前記孔周辺シール部が設けられた領域の内側に孔を形成する工程とを包含し、前記孔周辺シール部は、角部または突出部を有し、前記液晶材料を広げる工程において、前記液晶材料は、前記孔周辺シール部の周囲を、前記孔周辺シール部に沿って回り込む少なくとも２つの互いに向きが異なる流れによって広がり、前記少なくとも２つの向きが異なる流れの合流地点において前記孔周辺シール部の前記角部または突出部が配置されている。

　本発明の実施形態による表示パネルによれば、表示領域内に貫通孔を設けた場合にも、孔周辺での表示品位の低下が防止される。

参考例１による液晶パネルの製造工程を示す図であり、（ａ１）～（ａ３）はそれぞれ別の工程を示す斜視図であり、（ｂ１）～（ｂ４）は、液晶封止工程における孔周りの様子を拡大して示す斜視図である。参考例２による液晶パネルの製造工程を示す図であり、（ａ１）～（ａ３）はそれぞれ別の工程を示す斜視図である。本発明の実施形態１による液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。（ａ）～（ｃ）は、実施形態１の液晶表示装置が備える液晶パネルの作製工程において、孔周辺を液晶材料が流動する様子を順に示す。実施形態１の液晶パネルの種々の形態を説明するための図であり、（ａ）は角部の角度を示し、（ｂ）は参考例のパネル構成を示し、（ｃ）および（ｄ）は変形例のパネル構成を示す平面図である。（ａ）および（ｂ）は、実施形態１の液晶パネルの別の変形例を示す平面図である。本発明の実施形態２による液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。実施形態２の液晶パネルの種々の形態を説明するための図であり、（ａ）～（ｄ）はそれぞれ別のパネル構成を示す平面図である。本発明の実施形態３による液晶表示装置の構成を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面図である。実施形態３の液晶パネルの孔周辺の構成を拡大して示す断面図である。（ａ）～（ｃ）は、実施形態３の液晶パネルの作製工程において孔周辺を液晶材料が流動する様子を順に示す。実施形態３の液晶パネルの作製工程の一例を説明するための図でり、（ａ）は平面図、（ｂ）および（ｃ）は、基板貼り合わせ直前および基板貼り合わせ後の様子をそれぞれ示す断面図である。本発明の実施形態４の液晶パネルを説明するための図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。本発明の実施形態５の液晶パネルを説明するための図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は孔周辺部分を拡大して示す平面図であり、（ｃ）は（ｂ）に対応する参考例の平面図である。本発明の実施形態５の液晶パネルを備える液晶表示装置を説明するための図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。

　まず、本発明の実施形態を説明する前に、本発明者によって見出された、表示領域に貫通孔を設けた表示パネルにおいて生じ得る孔周りでの表示不良の発生要因について説明する。なお、以下には表示媒体層として液晶層を有するパネル（液晶パネル）について説明するが、電気泳動表示装置やエレクトロウェッティング表示装置が備える表示パネルなどの、液晶パネル以外の流動性を有する表示媒体層を有する表示パネルについても、同様の説明が適用される。

　液晶パネルの表示領域に貫通孔を設ける場合、基板間に液晶材料を適切に封止するためには、孔の部分から液晶材料が漏れないようにしなければならない。このため、基板周縁部に沿って外枠のシール部（以下、外側シール部と呼ぶ）を設けるとともに、基板を貫通する孔の周りにもシール部（以下、孔周辺シール部と呼ぶ）を設けて、基板間に液晶材料を封止する必要がある。

　ところが、本発明者が検討したところ、孔周辺シール部が設けられた液晶パネルにおいて、真空注入法やＯＤＦ（Ｏｎｅ　Ｄｒｏｐ　Ｆｉｌｌ）法によって、基板間に液晶材料を付与する際に、孔周辺シール部の周りで気泡が発生する場合があることがわかった。以下、具体的に説明する。

　図１（ａ１）～（ａ３）、（ｂ１）～（ｂ４）は、真空注入法によって液晶層を形成する参考例１による液晶パネルの製造工程を示す。

　まず、図１（ａ１）に示すように、液晶材料を注入するための隙間を空けて対向配置された一対の基板９０が用意される。一対の基板９０は、その周縁に設けられた外側シール部９３Ｂによって貼り合わせられている。本参考例では、液晶真空注入法によって基板間に液晶層を設けるので、外側シール部９３Ｂには、液晶注入口２３Ｂが設けられている。

　また、外側シール部９３Ｂによって囲まれた領域の内部において、一対の基板９０を貫通するように孔１０Ａが形成されており、孔１０Ａの周囲には、閉じた環状の孔周辺シール部９３Ａが設けられている。

　貼り合わせた一対の基板９０（いわゆる空セル）は真空環境下に置かれ、ここで液晶注入口２３Ｂが液晶材料に接触させられる。次に、これを大気圧に戻すことによって、図１（ａ２）に示すように、液晶注入口２３Ｂから空セル内に液晶材料ＬＣが注入される。液晶材料ＬＣは、液晶注入口２３Ｂから、空セルの奥に向かって基板間の空隙を広がっていく。

　このとき、図１（ｂ１）に示すように、空セル内に侵入した液晶材料ＬＣは、孔１０Ａ外側の孔周辺シール部９３Ａに手前側から接した後、孔周辺シール部９３Ａを回り込むようにして孔シール部９３Ａの奥側へ広がっていく。しかし、孔周辺シール部９３Ａの形状が例えば円環状の場合などにおいて、液晶材料ＬＣが最初に到達する部分の反対側（孔１０Ａの背後の部分）に液晶材料が迅速に回り込めないことがある。その結果、図１（ｂ２）に示すように、孔１０Ａの左右から回り込んだ液晶材料ＬＣが、孔周辺シール部９３Ａの外周に沿って流動できず、孔１０Ａの背後において空隙Ａを形成するように合流する。

　その後、図１（ｂ３）に示すように、孔１０Ａの背後に空隙Ａを残したまま液晶材料ＬＣの注入が進行する。なお、上記のようにして形成される空隙Ａの大きさは真空度によって左右され、真空度が低いほど大きな空隙Ａが形成される。

　このようにして液晶注入工程が行われると、図１（ａ３）および図１（ｂ４）に示すように、注入口２３Ｂを封止樹脂１９Ｂによって封止した後に、空隙Ａが分散することによって形成された細かい気泡Ｂが、孔１０Ａの周りに残ることになる。気泡Ｂが残存していると、孔周りの表示品位は低下する。なお、気泡Ｂは、孔が円形の場合だけでなく、四角形等の他の形状の場合であっても生じることがある。

　以上、真空注入法によって液晶充填工程を行う場合に、孔周辺シール部９３Ａの近傍で液晶層に気泡が生じる過程を説明したが、ＯＤＦ法によって液晶充填工程を行う場合にも気泡が発生することがある。以下、具体的に説明する。

　図２（ａ１）～（ａ３）は、ＯＤＦ法によって液晶層を形成する、参考例２による液晶パネルの製造工程を示す。

　まず、図２（ａ１）に示すように、真空中で、一方の基板９１上に、外側シール部９３Ｂおよび孔周辺シール部９３Ａを付与するとともに、パネルの中央部の滴下位置ＤＰに液晶材料ＬＣを滴下し、その後、一方の基板９１を他方の基板９２と貼り合わせた後に紫外線照射などによりシール部を硬化させる。なおＯＤＦ法では、液晶材料が硬化前のシール部に接触し汚染されることを避けるために、シール部から離れた位置（通常ではパネルの中央部付近）に滴下されることが多い。

　この貼り合わせ工程において、図２（ａ２）に示すように、液晶材料ＬＣが、滴下位置ＤＰを中心として周囲に向かって基板間を広がっていく。

　この場合にも、図１（ｂ１）～（ｂ４）に示した場合と同様に、液晶材料が最初に孔周辺シール部９３Ａに接する側とは反対側（すなわち、滴下位置ＤＰの側とは反対側）において、空隙Ａが残ったまま液晶材料ＬＣが広がり、これによって、図２（ａ３）に示すように、孔１０Ａの周囲に気泡Ｂが残存してしまうことがあった。

　そこで、本発明者は、孔１０Ａの周りに気泡Ｂが発生することを防ぐ方法について鋭意研究を行った。その結果、孔周辺シール部の形状や、孔の周りでの表示パネルの構成を適切に設計することで、気泡の発生を低減し得ることを見出した。

　以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下に説明する実施形態に限定されるものではない。

（実施形態１）
　図３（ａ）および（ｂ）は、実施形態１の液晶パネル１０を備える液晶表示装置１００を示す平面図および断面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）のｘ－ｘ線に沿った断面を示す。

　液晶表示装置１００は、液晶パネル１０を備える限り、種々の電子機器であってよい。本明細書では、液晶パネル１０を備えた電子機器全般を「液晶表示装置」と称することがある。同様に、表示パネルを備えた電子機器全般を「表示装置」と称することがある。

　液晶表示装置（あるいは電子機器）１００は、例えば、携帯型ゲーム機、スマートフォン、モバイルフォン、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄｉｇｉｔａｌ　Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、タブレット型端末、電子ブックリーダー、音楽プレーヤー、カメラ、電子辞書、電子ノート、ナビゲーションシステム、表示装置、パーソナルコンピュータ、ウェアラブルコンピュータ、腕時計、遊戯機、テレビジョン、インフォメーションディスプレイなどであってもよい。

　また、以下には、表示媒体層として液晶層を利用する表示パネル（すなわち液晶パネル）を例示するが、本発明の実施形態はこれに限られるものではない。電気泳動表示装置、エレクトロウェッティング表示装置など、流動性を有する他の表示媒体層を用いる表示パネルを備えた種々の電子機器において、以下に説明する構成を適用することができる。

　以下、液晶表示装置１００の具体的な構成を説明する。液晶表示装置１００は、液晶パネル１０と、液晶パネル１０の背面側に配置された回路基板２０とを備えている。液晶表示装置１００は透過型の液晶表示装置であり、液晶パネル１０と回路基板２０との間にはバックライト４０が設けられている。

　バックライト４０は、ＬＥＤなどの光源に加え、導光板、拡散板、反射板などの光学素子を備えるエッジライト型のバックライトであってよい。また、バックライト４０は、面発光素子等を用いて構成された直下型（面発光型）のバックライトであってもよい。

　液晶パネル１０は、画素がアレイ状に配置されたＴＦＴ基板（アクティブマトリクス基板）１１と、ＴＦＴ基板１１に間隙を空けて対向するように配置された対向基板１２と、これら一対の基板１１、１２の間に保持される液晶層１４とを備えている。また、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２の外側面には、偏光板や位相差フィルムなどで構成される光学フィルム層１５が粘着層を介して貼りつけられている。

　液晶表示装置１００の表示モードは種々のものであって良い。例えば、フルカラー表示を行う垂直配向（ＶＡ）モードの場合、ＴＦＴ基板１１には、ＴＦＴおよびこれに接続される画素電極が各画素ごとに設けられ、対向基板１２には、共通電極や、カラーフィルタ層、ブラックマトリクスなどが設けられる。また、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ　Ｆｉｅｌｄ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなどの横電界モードの場合、ＴＦＴ基板１１には、複数のスリットや細長電極部分を有する画素電極や、この画素電極との間に横電界を生じさせるための共通電極などが設けられる。また、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）を利用する表示モードでは、光学フィルム層１５は設けられていなくても良い。

　本実施形態の液晶表示装置１００において、額縁領域ＲＦの内側（すなわち、表示領域ＲＡ）に、液晶パネル１０を貫通する孔１０Ａが設けられている。孔１０Ａの内側には、後述する入出力デバイス３０が配置されている。

　孔１０Ａの直径は、入出力デバイス３０の態様に応じた任意の大きさであって良いが、例えば、約１ｍｍ～約１５ｍｍに設定される。また、本実施形態の構成は、孔１０Ａの径が、特に１０ｍｍ以下と比較的小さい場合に、後述する気泡の発生の抑制に関して効果的である。

　液晶パネル１０において、孔１０Ａの周りには、孔周辺シール部１３Ａが設けられている。また、液晶パネル１０の周縁には、外枠状の外側シール部１３Ｂが設けられている。本実施形態では、真空注入法によって液晶材料が封入されるので、外側シール部１３Ｂに液晶注入口２３Ｂが設けられており、この液晶注入口２３Ｂは封止樹脂１９Ｂによって封止されている。この構成において、液晶層１４は、外側シール部１３Ｂと封止樹脂１９Ｂ、さらに孔周辺シール部１３Ａによって、一対の基板１１、１２の間に密封されている。

　本実施形態において、概ね円環状を為す孔周辺シール部１３Ａの一部には、「く」の字型の角部または突出部１３Ｐ（以下、「角部１３Ｐ」と称する）が設けられている。角部１３Ｐは、液晶注入口２３Ｂと孔１０Ａの中心とを通る直線ｌ１上またはその近傍であって、孔１０Ａにおける液晶注入口２３Ｂに近い側とは反対側（注入口２３Ｂから見て孔１０Ａの奥側）の位置に設けられている。

　なお、本明細書では、液晶パネル１０の周辺に形成された額縁領域ＲＦの内側の領域を、便宜上、表示領域ＲＡと呼んでいるが、表示領域ＲＡには、表示に寄与しない領域（外側の額縁領域ＲＦ以外の非表示領域）が含まれていても良い。図２（ｂ）に示すように、本実施形態では、孔１０Ａの周辺において、表示領域ＲＡ内に非表示領域ＲＦ２が形成されている。非表示領域ＲＦ２には、孔１０Ａ自体や孔周辺シール部１３Ａ、あるいは、孔１０Ａ近辺の光漏れを防止する遮光部材（図示せず）が設けられた領域などが含まれる。

　ここで、液晶パネル１０における液晶層１４の形成工程を説明する。

　図４（ａ）～（ｃ）は、真空注入法によって空セルに液晶材料ＬＣを注入するときの、孔１０Ａの周辺における液晶材料ＬＣの流れを示す。

　図４（ａ）に示すように、注入口２３Ｂ（図３（ａ）参照）の側から空セルの奥へと液晶材料ＬＣが注入されていく過程において、液晶材料ＬＣは、孔周辺シール材１３Ａの手前側に接触し、その後、孔周辺シール材１３Ａに沿って左右に分かれて孔周辺シール材１３Ａの奥側へと広がっていく。

　次に、図４（ｂ）に示すように、孔周辺シール材１３Ａの奥側に液晶材料ＬＣが左右から回り込むが、このとき、孔周辺シール材１３Ａに角部１３Ｐが設けられているので、液晶材料ＬＣは、孔周辺シール材１３Ａに沿ったまま流動し、角部１３Ｐの付近で、孔周辺シール材１３Ａの左右から回り込んだ流れが合流する。このため、図１（ｂ２）に示した場合とは異なり、孔１０Ａの奥側に空隙Ａが形成されることは防止される。

　その後、図４（ｃ）に示すように、孔１０のさらに奥側へと液晶材料ＬＣが注入されていく。そして、空セルに液晶材料が完全に注入された後にも、図１（ｂ４）に示した場合と異なり、孔１０Ａの周りに気泡Ｂが発生することはなく、したがって、孔１０Ａの周囲での表示品位の低下は防止される。

　以下、再び図３（ａ）および（ｂ）を参照しながら、液晶表示装置１００の構成をさらに説明する。

　本実施形態において、液晶表示装置１００は、孔１０Ａに配置された入出力デバイス３０を備えている。入出力デバイス３０は、例えば、押下型の電気スイッチであり、例えば、スマートフォンに設けられたハードウェアボタンがこれに該当する。

　ここで、入出力デバイス３０についてより詳細に説明する。液晶表示装置１００において、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０の孔１０Ａの内部に配置されており、コネクタを介して回路基板２０に接続されている。なお、本実施形態では、液晶パネル１０と回路基板２０との間に配置されるバックライト４０にも貫通孔が設けられており、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０およびバックライト４０を貫通する孔を通って回路基板２０に接続されている。

　入出力デバイス３０は、ユーザからの入力を受け取る物理的・電気的なスイッチ、ボタンや、外光を受光することができる光学素子、あるいは、音声出力デバイスや、発光デバイスなど、種々のデバイスであってよい。

　より具体的には、入出力デバイス３０は、ユーザからの入力（直接操作）を受け取る、押しボタン、方向キー（十字キー）、アナログスティック、タッチパネル（タッチセンサ）、ロータリスイッチ（ボリュームコントローラ）、回転式セレクタ（ジョグダイヤル）、トグルスイッチ、トラックボール、トラックパッド、スティック型ポインティングデバイス、ハードウェアキーボードなどであってよい。

　また、入出力デバイス３０は、光学的な入力を受け取る、撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサなど）、光学素子（ファイバオプティックフェイスプレートなど）、光学センサ（照度センサや近接センサなど）を含む。その他、温度センサ、マイクロフォン、ＨＤＭＩ（登録商標）やＵＳＢなどの入力端子、プラグやコンセントなどの配線端子などであってよい。

　さらに、入出力デバイス３０は、スピーカーなどの音声出力装置や、ＬＥＤなどの発光デバイスなどであっても良く、あるいは、液晶パネル１０とは別個に独立して動作する表示デバイスなどであってもよい。

　入出力デバイス３０は、液晶パネル１０の背面側に配置される回路基板２０に対して、物理的、電気的あるいは光学的に接続されている。入出力デバイス３０からの信号、または、入出力デバイス３０への信号は、回路基板２０に設けられた各種処理部において処理／生成されてよい。

　入出力デバイス３０として、例えば、ボリュームコントローラを用いる場合、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０の観察者側面から突出する部分を有していても良い。また、入出力デバイス３０は、液晶パネル１０から突出する部分として、孔１０Ａの口径よりも大きい径を有する拡幅部分を有していても良い。この拡幅部分によって孔周りの非表示領域ＲＦ２を隠すようにすれば、入出力デバイス３０と表示画面との一体感を向上させることができる。なお、拡幅部分は、孔１０Ａを介して、入出力デバイス３０を回路基板２０に実装した後に、入出力デバイス３０に対して固定するようにして設けてもよい。

　また、入出力デバイス３０は、着脱可能な部分を含んでいても良く、例えば、液晶パネル１０の孔１０Ａの内部に配置され回路基板２０と接続される動作部と、動作部に対して着脱可能なスティック部とから構成されていてもよい。この場合、動作部に設けられた嵌合孔やネジ穴に、必要に応じてユーザがスティック部を装着することによって、アナログコントローラなどの入力デバイスとして使用することができる。

　ここで、ＴＦＴ基板１１における、孔１０Ａの周囲の配線について説明する。孔１０Ａの周囲では、例えば、特許文献２および３に開示されているように、マトリクス配線が、孔１０Ａを避けるように形成されていてよい。

　液晶表示装置１００では、垂直方向に延びるソース配線（図示せず）および水平方向に延びるゲート配線（図示せず）が、孔１０Ａを迂回するように設けられる。この構成において、孔１０Ａの周辺以外ではマトリクス状に画素を設けることができ、ゲート配線およびソース配線に接続されたＴＦＴを介して画素に信号を供給することにより、画像などを表示することができる。なお、画素に設けられるＴＦＴのチャネルは、アモルファスシリコン、結晶性を示す低温ポリシリコン、あるいは、Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体などの酸化物半導体などから形成されていて良い。Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体は、アモルファスでもよいし、結晶質部分を含んでもよい。

　ただし、孔１０Ａを迂回させて配線を行うことで、孔１０Ａの周囲には、画素を配置できない領域が形成されることがある。この場合、表示に利用することができない孔周りの配線領域を、光漏れを防止するために、ブラックマトリクスで覆っても良い。なお、図１４を用いて後述するように、この孔周りの配線領域は、孔周辺シール部１３Ａによって少なくとも１部が覆われていても良い。

　本実施形態の液晶表示装置１００は、液晶パネル１０の表示領域内（例えば、孔１０Ａおよび入出力デバイス３０の周囲）に、入出力デバイス３０に関連する画像を表示できるように構成されていてもよい。例えば、入出力デバイス３０としてボリュームコントローラを設ける場合、ユーザの操作により決定された現在のボリュームの大きさを、入出力デバイス３０の周囲に表示させるようにしても良い。

　入出力デバイス３０に関連する情報をその周辺に表示させることによって、ユーザの利便性を高めることができる。また、現在の入出力デバイス３０の機能がどのようなものであるかを、表示画像によってユーザに認識させることが可能である。このため、入出力デバイス３０を多目的に使用しやすいという利点も得られる。

　孔周辺に表示する画像の制御は、公知の画像処理装置（画像処理部）によって行うことが可能である。画像処理装置は、例えば、回路基板上に設けられた演算処理ユニットやグラフィック処理ユニット、メモリなどを含んでいて良い。画像処理装置は、入出力デバイス３０から出力された信号に基づいて画像データを生成することができるように構成されており、これにより、入出力デバイス３０の周囲に関連画像を表示させることができる。

　また、液晶表示装置１００において、液晶パネル１０の観察者側にタッチパネルが設けられていてもよい。タッチパネルは公知の構成を有していて良く、アウトセル型、オンセル型、またはインセル型のタッチパネルを任意に利用することができる。なお、インセル型のタッチパネルでは、液晶パネル１０の内部において、タッチセンサを構成する電極（複数のセンサ配線）等が設けられる。

　次に、図５および図６を参照しながら、本実施形態の液晶パネル１０の種々の形態を説明する。

　図５（ａ）は、孔周辺シール部１３Ａに設けられる角部１３Ｐの形状を説明するための図である。図示するように、角部１３Ｐは、その角度θによって形状が規定されてよい。角部１３Ｐの角度θは、例えば、４５°～１７０°に設定される。この角度θは、孔１０Ａのサイズや液晶材料の流動性、セルギャップなどを考慮して適宜設定されてよい。

　下記の表１は、角部１３Ｐの角度θを４５°～１８０°の範囲で変更したときの、孔周辺に気泡が発生したかどうかの観察結果を示す表である。「気泡の有無」の欄において、○は気泡が発生しなかったことを示し、△は気泡が発生しない場合とした場合とがあったことを示し、×は気泡が発生したことを示す。表１に示すように、角部の角度θが４５°～１７０°の範囲の場合に、角部を設けない場合（すなわち角度θが１８０°の場合）に比べて、気泡の発生の抑制に効果があることがわかる。また、表１の結果から、角部の角度θは、４５°～１５０°に設定されることが特に好ましいことがわかる。

　なお、図５（ｂ）に示すように、角度θが４５°未満の鋭角を為す場合、孔１０Ａの形成が困難となる場合が多い。このため、角度θは４５°以上に設定されることが好ましいが、適切に孔の加工が行えるのであれば、角度θは４５°未満であってもよい。

　また、図５（ｃ）は、孔１０Ａの形状が略正方形である場合のパネル構造を示す。この場合、孔周辺シール部１３Ａの形状も、孔１０Ａに対応した形状を有する。表示に利用できる領域を増加させるためには、孔周辺シール部１３Ａの形状も孔１０Ａに対応する形状であることが好ましい。

　ただし、孔周辺シール部１３Ａにおいても、孔の背後側（すなわち、液晶注入口２３Ｂの側とは反対側）に角部１３Ｐが設けられている。この構成において、液晶注入口２３Ｂから空セルの奥側に液晶材料を注入するときに、角部１３Ｐが設けられていることで、気泡の発生を防止することができる。

　図５（ｄ）は、さらに別の変形例を示す。図５（ｄ）に示す形態では、液晶注入口２３Ｂが、図における液晶パネルの右辺において、かつ、右辺の中央からずれた位置（具体的には下辺寄りの位置）に設けられている。この場合、液晶注入工程において、液晶材料の広がりのスピードが早い領域と、遅い領域とが形成される。図示する例では、図５（ｄ）において実線の矢印Ｖ１で示すように、孔１０Ａの上側では液晶材料の広がりが早く、図５（ｄ）において破線の矢印Ｖ２で示すように、孔１０Ａの下側では液晶材料の広がりが遅い。この結果、孔１０Ａの上下に二手に分かれて回り込む液晶材料の合流地点が、液晶注入口２３Ｂと孔１０Ａとの中心とを通る直線ｌ１からずれた位置になることが考えられる。この場合、気泡の発生をより効果的に防止するために、角部１３Ｐを、想定される液晶材料の合流地点、すなわち、直線ｌ１からずれた位置に設けるようにしても良い。

　ただし、角部１３Ｐの頂点は、典型的には、上記直線ｌ１上またはその近傍に設けられる。具体的には、上記の直線ｌ１と、孔１０Ａの中心と角部１３Ｐの頂点とを結ぶ直線が為す角度が例えば０°～４０°となるような位置に、角部１３Ｐの頂点が配置される。

　図６（ａ）および（ｂ）は、本実施形態の液晶パネルのさらなる変形例を示す。図６（ａ）および（ｂ）に示すように、孔周辺シール部１３Ａは、孔１０Ａの形状に対応して、正方形または楕円形の形状を有している。この構成において、孔周辺シール部１３Ａが有する角部１３Ｐや突出部１３Ｐ’は、孔１０Ａの中心と注入口２３Ｂとを通る直線ｌ１の近傍に配置されている。この場合、注入口２３Ｂから注入される液晶材料が孔周辺シール部１３Ａの後ろに回り込んだときに空隙が形成されることが防止され、孔周りでの表示品位の低下を抑制することができる。

　ここで、液晶パネル１０のより具体的な作製工程を説明する。

　まず、公知の方法によってＴＦＴ基板１１および対向基板１２を作製した後、片側の基板（ここではＴＦＴ基板１１）上に、シール材が付与される。シール材は、公知のディスペンサ装置を用いて、例えば、約１ｍｍの幅を有する線状に設けられる。シール材の材料としては、紫外線硬化性や熱硬化性の樹脂材料（アクリル樹脂など）を用いることができ、例えば、積水化学工業社製のＵＶ硬化性シール剤「フォトレック」などを使用することができる。

　シール材を付与する工程において、ＴＦＴ基板１１の周縁部には、外枠状の外側シール材が設けられ、また、後の工程で貫通孔１０Ａ（図１（ａ３）参照）を形成する領域の周囲には、孔周辺シール材が設けられる。孔周辺シール材は、外側シール材で囲まれた領域の内部に設けられる。

　孔周辺シール材において注入口２３Ｂの対向側には角部が設けられる。角部は、上記のディスペンサ装置を適切に制御することで形成することができる。ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを対向配置させた後、熱や紫外線によってシール材を硬化させることによって、外側シール部１３Ｂや、角部１３Ｐを有する孔周辺シール部１３Ａが形成されるとともに、基板１１、１２の貼り合わせ工程が完了する。なお、対向基板１２の基板面全体にわたって、高さが揃った複数のフォトスペーサを設けておくことによって、パネル面全体にわたってセルギャップを所望の厚さに設定しやすい。

　次に、孔周辺シール部１３Ａの内側において、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２を貫通する貫通孔１０Ａ（孔１０Ａ）が形成される。孔１０Ａは、例えば、スクライブ（レーザスクライブまたはメカニカルスクライブ）によって、または、レーザ、ドリルなどを用いて、あるいは、ウォータジェットによって形成することができる。なお、孔１０Ａを形成する工程は、液晶注入工程の後に行われても良い。

　このようにして、液晶注入口２３Ｂを除いて、外部に対して封止された空間が一対の基板１１、１２間に形成され、いわゆる空セルが完成する。なお、空セルに液晶材料を注入する工程は、図４（ａ）～（ｃ）を用いて前述した通りであり、このようにして、孔周りの気泡の発生を抑制しながら、貫通孔１０Ａが設けられた液晶パネル１０を得ることができる。

　本実施形態の液晶パネル１０を備える液晶表示装置１００によれば、真空注入法によって液晶層を形成する場合において、表示領域ＲＡ内に設けた孔１０Ａを通る入出力デバイス３０を配置できるとともに、孔１０Ａの周りでの表示品位の低下を防止することができる。

（実施形態２）
　図７（ａ）および（ｂ）は、実施形態２の液晶パネル１０２を備える液晶表示装置２００の構成を示す平面図および断面図である。本実施形態では、実施形態１の液晶パネル１０とは異なり、真空注入法ではなく、ＯＤＦ法によって基板間に液晶材料が封止される。なお、簡単のため、本実施形態において、実施形態１と同様の構成要素には同じ参照符号を付すとともに、詳細な説明を省略することがある。

　図７（ａ）および（ｂ）に示すように、本実施形態の液晶パネル１０２の表示領域にも貫通孔１０Ａが設けられており、その周囲には、液晶層１４を基板間に封止するための孔周辺シール部１３Ａが設けられている。また、液晶パネル１０２の周縁には、閉じた環状の外側シール部１３Ｂが設けられている。本実施形態ではＯＤＦ法によって液晶材料を基板間に封止するので、外側シール部１３Ｂに液晶注入口は設けられていない。

　本実施形態においても、孔周辺シール部１３Ａは、角部１３Ｐを有している。ただし、角部１３Ｐは、ＯＤＦ法において液晶が滴下される位置ＤＰ（ここでは、液晶パネル１０の略中央の位置）と、孔１０Ａの中心とを通る直線ｌ２上またはその近傍であって、孔１０Ａにおける液晶滴下位置ＤＰとは反対側（液晶滴下位置ＤＰから見て孔１０Ａの奥側）の位置に設けられている。

　ここで、液晶パネル１０２の作製工程を説明する。

　まず、一方の基板（例えばＴＦＴ基板１１）上に、公知のディスペンサ装置を用いて、図７（ａ）に示す外側シール部１３Ｂおよび孔周辺シール部１３Ａに対応するシール材を付与する。シール材は、実施形態１と同様に、紫外線硬化性や熱硬化性の樹脂材料（アクリル樹脂など）を用いて、例えば、約１ｍｍの幅を有する線状に設けられる。次に、真空下で、シール材が付与された基板上の中央部付近の位置ＤＰに、液晶材料を滴下する。

　その後、２枚の基板すなわちＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを貼り合わせる工程が行われる。この工程において、シール材と液晶材料が接する前に、熱や紫外線によりシール材を硬化させることによって、外側シール部１３Ｂおよび孔周辺シール部１３Ａが形成される。

　また、外側シール部１３Ｂおよび孔周辺シール部１３Ａが形成された後、液晶材料が基板面全体に広がることによって、液晶層１４が形成される。液晶層１４は、基板間の、外側シール部１３Ｂの内側かつ孔周辺シール部１３Ａの外側の空間に充填される。

　このとき、孔周辺シール部１３Ａには、孔１０Ａ挟んで液晶滴下位置ＤＰと対向する側に角部１３Ｐが設けられているので、液晶滴下位置ＤＰから広がる液晶材料が、孔周辺シール部１３Ａの後ろに回り込んだときに空隙が形成されることが防止される。

　最後に、孔周辺シール部１３Ａの内側に、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２を貫通する孔１０Ａが形成される。孔１０Ａは、例えば、スクライブ（レーザスクライブまたはメカニカルスクライブ）によって、または、レーザ、ドリルなどを用いて、あるいは、ウォータジェットによって形成することができる。

　本実施形態の液晶パネル１０２を備える液晶表示装置２００によれば、ＯＤＦ法によって液晶層を形成する場合において、表示領域ＲＡ内に設けた孔１０Ａを通る入出力デバイス３０を配置できるとともに、孔１０Ａの周りでの表示品位の低下を防止することができる。

　図８（ａ）～（ｄ）は、本実施形態の液晶パネルの種々の態様を示す。なお、下記に説明するいずれの態様においても、ＯＤＦ法によって液晶層の形成工程が行われる。図８（ａ）～（ｄ）のそれぞれにおいて、各態様における液晶材料の滴下位置ＤＰがそれぞれ示されている。なお、いずれの態様においても、液晶パネルの外周部に設けられた外側シール部１３Ｂは、その内側に液晶層を封止できるように、パネルの辺に沿って閉じた環状に設けられている。

　図８（ａ）は、図７（ａ）および（ｂ）に示した態様と同様に、液晶パネルの下側領域において円形の孔１０Ａが設けられている態様を示す。この態様では、滴下位置ＤＰがパネルの中央近辺にあり、角部１３Ｐは、孔周辺シール部１３Ａの下側に形成されている。また、図８（ｂ）は、図８（ａ）に示す構成において、孔１０Ａの形状が正方形の場合を示している。この場合にも、孔周辺シール部１３Ａの下側に、角部１３Ｐが設けられている。

　図８（ｃ）は、円形の孔１０Ａがパネルの中央部に設けられている態様を示す。図示する態様において、液晶の滴下位置ＤＰは、パネルの上側領域に配置されている。この場合にも、孔周辺シール部１３Ａの下向きに角部１３Ｐが設けられる。角部１３Ｐが設けられる位置は、液晶の滴下位置ＤＰと孔１０Ａとの位置によって適宜選択されてよい。

　図８（ｄ）は、円形の孔１０Ａがパネルの中央部に設けられるとともに、パネルの上側領域および下側領域の２カ所において、液晶の滴下位置ＤＰが設定されている。この場合、２カ所の液晶滴下位置ＤＰに付与された液晶材料が、基板貼り合わせ工程において、上下両側から孔周辺シール部１３Ａに向かって流動する。上下両側から流動してきた液晶材料は、典型的には、孔１０Ａの左右の位置で合流する。このような態様においては、孔１０Ａの左右の位置にそれぞれ角部１３Ｐを設けておくことによって、孔周辺シール部１３Ａに沿わせて液晶材料を流動させることができ、気泡の発生を抑制することができる。

（実施形態３）
　図９（ａ）および（ｂ）は、実施形態３の液晶パネル１０３を備える液晶表示装置３００の構成を示す平面図および断面図である。本実施形態では、実施形態１および実施形態２の液晶パネル１０、１０２とは異なり、孔周辺シール部１３Ａに角部または突出部１３Ｐを設けるのではなく、孔周辺シール部１３Ａの周辺において、液晶材料が流動し易い領域が形成されている。なお、簡単のため、本実施形態において、実施形態１と同様の構成要素には同じ参照符号を付すとともに、詳細な説明を省略することがある。

　本実施形態では、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２の液晶層１４側に層状体３５が設けられている。ただし、この層状体３５は、孔周辺シール部１３Ａ外側の所定幅の領域と重なる開口領域３６を有している。開口領域３６は、層状体３５が設けられていない領域３６であり、この領域３６におけるセル厚は、他の領域におけるセル厚よりも大きい。

　図１０は、液晶パネル１０３の孔１０Ａ（なお、図１０では、後に孔１０Ａが形成される部分１０Ａ’が示されている）の周辺を拡大して示す断面図である。対向基板１２に設けられる層状体３５には、カラーフィルタ層（１～２μｍ）や、オーバーコート層（２～３μｍ）などが含まれていて良い。また、ＴＦＴ基板１１に設けられる層状体３５には、ＴＦＴを覆う無機保護膜（約０．２μｍ）や有機絶縁材料などから形成される平坦化膜（２～３μｍ）などが含まれていて良い。

　層状体３５が形成されていない開口領域３６は、セル厚が厚くなっている領域であり、例えば、層状体３５が形成されている領域でのセル厚が約３μｍであるのに対して、開口領域３６ではセル厚が約７μｍとなる。また、開口領域３６は、孔周辺シール部１３Ａの外側に所定の幅（例えば、０．１～１ｍｍ程度）を有するように設けられている。開口領域３６は、層状体３５を形成する工程において、フォトリソグラフィ法などを用いて、対応する領域に開口を設けることで形成される。

　このように層状体３５が存在しない開口領域３６を設けておくことによって、図１１（ａ）に示すように、液晶注入工程において、液晶材料ＬＣが孔１０Ａの両側から奥に回り込むように流動する際に、開口領域３６における液晶材料ＬＣの流動速度が比較的大きいことで、開口領域３６に優先的に液晶材料ＬＣが流れ込み、これによって、図１１（ｂ）に示すように、空隙が形成されることなく孔１０Ａの奥で液晶材料が合流する。従って、図１１（ｃ）に示すように、孔１０Ａの周りでの気泡の発生が防止される。

　図１２（ａ）～（ｃ）は、本実施形態の液晶パネル１０３の製造工程の一例を説明するための図である。

　まず、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とを用意するが、図１２（ｂ）に示されるように、対向基板１２において、層状体３５（ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ層１８ａやオーバーコート層１８ｂ）を、孔１０Ａを設ける領域１０Ａ’の周囲には設けないようにする。また、ＴＦＴ基板１１において、層状体３５（パッシベーション層１７ａや有機層間絶縁層１７ｂ）を、孔１０Ａを設ける領域１０Ａ’の周囲には設けないようにする。

　これにより、画素配列領域３７のセル厚（約３μｍ）に比べて、孔周辺のセル厚が大きい開口領域３６でのセル厚は約４μｍほど厚くなる。なお、ＴＦＴ基板１１および対向基板１２に設けられる透明電極１９ａも、画素配列領域３７にのみ存在していればよい。また、ＴＦＴ基板１１上に設けられるＴＦＴやソース配線、ゲート配線等を含む回路層１９ｂは、孔１０Ａの周辺で迂回する配線を含んでいるので、セル厚が大きい領域３６の内側に形成される部分を含んでいても良い。

　次に、図１２（ａ）および（ｂ）に示すように、本実施形態では、一方の基板（ここではＴＦＴ基板１１）にシール材を付与する工程において、孔周辺シール部１３Ａを形成するためのシール材１３’が、後に孔１０Ａが形成される領域１０Ａ’の中心に、点状または面状に付与される。

　その後、基板貼り合わせ工程において、付与されたシール材１３’が基板によって押し広げられ、孔を形成すべき領域１０Ａ’の周囲に広がる。ただし、シール材１３’は、押し広げられた後にも、層状体３５が存在する部分に達しないような分量（すなわち、層状体３５の開口領域３６の全体を覆わない分量）に調整されており、図１２（ｃ）に示すように、シール材を硬化させて孔周辺シール部１３Ａが形成された後にも、孔周辺シール部１３Ａの外側において、セル厚が大きい領域（開口領域３６）が残存する。

　その後、図１１を用いて説明した通り、液晶層を基板間に充填する工程が行われる。液晶層の充填工程は、真空注入法によって行われても良いし、ＯＤＦ法によって行われても良い。いずれの場合にも、液晶注入口２３Ｂまたは液晶滴下位置ＤＰから孔１０Ａの方向に向かって流動する液晶材料ＬＣが、層状体３５の開口領域３６において比較的速やかに孔１０Ａの裏側へと回り込むため、気泡の発生を防止することができる。

　その後、図示しない工程において、実施形態１および２と同様に、ＴＦＴ基板１１、対向基板１２および孔周辺シール材１３Ａを貫通するように孔１０Ａが設けられ、表示領域内に孔１０Ａを有する液晶パネルを得ることができる。なお、孔１０Ａを形成する工程は、上記の液晶充填工程の前に行うことも可能である。

　本実施形態の液晶パネル１０３を備える液晶表示装置３００によれば、真空注入法またはＯＤＦ法のいずれかによって液晶層を形成する場合において、表示領域ＲＡ内に設けた孔１０Ａを通る入出力デバイス３０を配置できるとともに、孔１０Ａの周りでの表示品位の低下を防止することができる。

（実施形態４）
　図１３（ａ）および（ｂ）は、実施形態４の液晶パネル１０４を説明するための図である。本実施形態の液晶パネル１０４が実施形態３の液晶パネル１０３と異なる点は、孔１０Ａの周りにおいて、層状体３５ではなく、垂直配向膜３８を設けない開口領域３９が形成されている点である。

　図１３（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶パネル１０４では、垂直配向膜３８が、孔周辺シール部１３Ａの外側において所定の幅で設けられていない領域が存在する。液晶注入工程において、この領域３９では、垂直配向膜３８が設けられている領域とは異なり、垂直配向膜３８の配向規制力によって液晶分子の流動性が低下することがない。このため、図１１（ａ）～（ｃ）を用いて説明した実施形態４の場合と同様に、孔周辺シール部１３Ａの近傍における液晶材料の回り込みがその他の領域よりも促進される。これによって、気泡が発生しにくい構成とすることができる。

　なお、本実施形態の構成によれば、真空注入法およびＯＤＦ法のいずれを利用する場合にも、気泡発生を抑制する効果が得られる。

（実施形態５）
　図１４（ａ）は、実施形態５の液晶パネル１０５を示し、図１４（ｂ）は液晶パネル１０５における孔１０Ａの周辺の領域を拡大して示す。また、図１４（ｃ）は、参考例の液晶パネルの孔周辺の拡大図である。

　図１４（ａ）および（ｂ）からわかるように、液晶パネル１０５では、孔１０Ａが、孔周辺シール部１３Ａと同様（相似）の形状を有している。すなわち、孔１０Ａは、孔周辺シール部１３Ａの角部１３Ｐに対応する位置に、角部１０Ｐを有している。

　孔１０Ａの周囲において、孔周辺シール部１３Ａと重なるように配線が設けられる。なお、図１４（ａ）には、１本のソース配線４のみを示しているが、多数のソース配線およびゲート配線が、孔周辺シール部１３Ａと重なるように設けられていて良い。一方で、孔周辺シール部１３Ａが存在する領域に画素Ｐｘを設けることはない。この領域は、光漏れ防止のために典型的にはブラックマトリクスで覆われている。

　このため、図１４（ｃ）に示すように、孔１０Ａの形状と孔周辺シール部１３Ａの形状とが異なっていると、非表示領域ＲＦ２の幅が、部分的に太くなる箇所が発生する。このように非表示領域ＲＦ２の幅が均一でないと、見た目が良くない場合が多い。

　また、図１５（ａ）および（ｂ）に示すように、孔１０Ａの周辺にレンズ部（曲面部）を有する透光性カバー５０を液晶パネル１０の前面に配する場合、非表示領域の幅が一定でないと、太いところだけ非表示領域が見えてしまう（レンズ部による拡大像が表示されない）ので、見た目が良くないという問題がある。このため、孔１０Ａの形状と孔周辺シール部１３の形状とを相似させることで、非表示領域の幅を一定にし、これによって、非表示領域が観察されにくい構成とすることができる。

　以上、本発明の実施形態について説明したが、種々の改変が可能であることは言うまでもない。例えば、孔周辺シール部１３Ａは、図１（ｂ２）に示した空隙Ａを埋めるような突出部を有する形状を有していても良く、必ずしも角部を有している必要はない。また、角部は、２本の直線ではなく、２本の曲線が交わる形状を有していても良い。

　本明細書は、以下の項目に記載の表示パネル、表示装置および液晶パネルの製造方法を開示している。

　[項目１]
　一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、前記孔周辺シール部が角部または突出部を有する、表示パネル。

　項目１の表示パネルによれば、孔周辺において表示媒体層に気泡が発生することが抑制され、これによって、表示品位の低下を防止することができる。

　[項目２]
　前記表示媒体層を囲むように設けられた外側シール部を有し、前記外側シール部の一部には、開口部が設けられており、前記孔周辺シール部の前記角部または前記突出部は、前記外側シール部の前記開口部から見て前記孔の奥側の位置において、前記開口部と前記孔とを通る直線上または前記直線の近傍に設けられている、項目１に記載の表示パネル。

　項目２に記載の表示パネルによれば、真空注入法で液晶材料を基板間に封止する場合に、孔周辺における表示媒体層での気泡の発生を効果的に抑制することができる。

　[項目３]
　前記表示媒体層を囲むように設けられた外側シール部を有し、前記外側シール部は、閉じた環状に設けられ、前記孔周辺シール部の前記角部または前記突出部は、前記表示領域の中心から見て前記孔の奥側の位置において、前記孔と前記表示領域の中心とを通る直線上または前記直線の近傍に設けられている、項目１に記載の表示パネル。

　項目３に記載の表示パネルによれば、ＯＤＦ法で液晶材料を基板間に封止する場合に、孔周辺における表示媒体層での気泡の発生を効果的に抑制することができる。

　[項目４]
　前記孔周辺シール部は、前記角部を有し、前記孔は、前記孔周辺シール部の前記角部に対応する角部を有している、項目１から３のいずれかに記載の表示パネル。

　項目４の表示パネルによれば、孔周辺シール部に対応して設けられる遮光領域を目立ちにくくすることができる。

　[項目５]
　一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの層状体とを備え、前記少なくとも１つの層状体は、前記孔周辺シール部に接する前記孔周辺シール部の外側の領域において非形成領域を有しており、前記非形成領域におけるセルギャップが、他の領域におけるセルギャップよりも大きい、表示パネル。

　項目５の表示パネルによれば、孔周辺において表示媒体層に気泡が発生することが抑制され、これによって、表示品位の低下を防止することができる。

　[項目６]
　前記少なくとも１つの層状体は、カラーフィルタ層、オーバーコート層、保護層、および、層間絶縁層のうちの少なくとも１つを含む、項目５に記載の表示パネル。

　項目６の表示パネルによれば、表示パネルに設けられたカラーフィルタ層、オーバーコート層、保護層、または、層間絶縁層を利用して、表示媒体層での気泡の発生を抑制することができる。

　[項目７]
　一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの垂直配向膜とを備え、前記少なくとも１つの垂直配向膜は、前記孔周辺シール部に接する前記孔周辺シール部の外側の領域において非形成領域を有している、表示パネル。

　項目７の表示パネルによれば、孔周辺において表示媒体層に気泡が発生することが抑制され、これによって、表示品位の低下を防止することができる。

　[項目８]
　項目１から７のいずれかに記載の表示パネルと、前記表示パネルの前記孔に配置された入出力デバイスとを備える電子機器。

　項目８の電子機器によれば、表示領域に入出力デバイスが設けられた電子機器において、孔周囲での表示品位を向上させることができる。

　[項目９]
　一対の基板を用意する工程と、前記一対の基板のうちの一方の基板上に外側シール部および孔周辺シール部を設ける工程と、前記孔周辺シール部から離れた位置に供給された液晶材料を流動させることによって、前記一方の基板の基板面上に液晶材料を広げる工程と、前記一対の基板を前記外側シール部および孔周辺シール部を介して貼り合わせる工程と、前記一対の基板の前記孔周辺シール部が設けられた領域の内側に孔を形成する工程とを包含し、前記孔周辺シール部は、角部または突出部を有し、前記液晶材料を広げる工程において、前記液晶材料は、前記孔周辺シール部の周囲を、前記孔周辺シール部に沿って回り込む少なくとも２つの互いに向きが異なる流れによって広がり、前記少なくとも２つの向きが異なる流れの合流地点において前記孔周辺シール部の前記角部または突出部が配置されている、液晶パネルの製造方法。

　項目９の液晶パネルの製造方法によれば、孔周辺において液晶層に気泡が発生することが抑制され、これによって、表示品位の低下を防止することができる。

　本発明の実施形態による表示パネルは、携帯型ゲーム機、スマートフォン等の種々の電子機器において広く利用される。

１００　液晶表示装置（電子機器）
１０　液晶パネル
１０Ａ　貫通孔
１１　ＴＦＴ基板
１２　対向基板
１３Ａ　孔周辺シール部
１３Ｂ　外側シール部
１３Ｐ　角部または突出部
１４　液晶層
１５　光学フィルム層
２０　駆動回路
２３Ｂ　液晶注入口
３０　入出力デバイス
４０　バックライト
ＲＦ　額縁領域（非アクティブエリア）
ＲＡ　表示領域（アクティブエリア）

Claims

　一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、
　前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部を備え、
　前記孔周辺シール部が角部または突出部を有する、表示パネル。
　前記表示媒体層を囲むように設けられた外側シール部を有し、
　前記外側シール部の一部には、開口部が設けられており、
　前記孔周辺シール部の前記角部または前記突出部は、前記外側シール部の前記開口部から見て前記孔の奥側の位置において、前記開口部と前記孔とを通る直線上または前記直線の近傍に設けられている、請求項１に記載の表示パネル。
　前記表示媒体層を囲むように設けられた外側シール部を有し、
　前記外側シール部は、閉じた環状に設けられ、
　前記孔周辺シール部の前記角部または前記突出部は、前記表示領域の中心から見て前記孔の奥側の位置において、前記孔と前記表示領域の中心とを通る直線上または前記直線の近傍に設けられている、請求項１に記載の表示パネル。
　一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、
　前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、
　前記一対の基板のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの層状体とを備え、
　前記少なくとも１つの層状体は、前記孔周辺シール部に接する前記孔周辺シール部の外側の領域において非形成領域を有しており、前記非形成領域におけるセルギャップが、他の領域におけるセルギャップよりも大きい、表示パネル。
　一対の基板および前記一対の基板間に保持された表示媒体層を備え、表示領域および前記表示領域の外側の額縁領域が規定されており、前記額縁領域の内側において前記一対の基板および前記表示媒体層を貫通する孔が形成されている表示パネルであって、
　前記一対の基板間において、前記孔を囲むように配置された孔周辺シール部と、
　前記一対の基板のうちの少なくとも一方に形成された少なくとも１つの垂直配向膜とを備え、
　前記少なくとも１つの垂直配向膜は、前記孔周辺シール部に接する前記孔周辺シール部の外側の領域において非形成領域を有している、表示パネル。