WO2015025657A1 - 表示部品、表示装置、及びテレビ受信装置 - Google Patents

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display area
display
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film formation
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喜田 哲也
豊 澤山
博之 岡副
義之 井原
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シャープ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a display component, a display device, and a television receiver.
  • a liquid crystal panel which is a main component constituting a liquid crystal display device has the following configuration. That is, the liquid crystal panel includes at least a pair of glass substrates, a liquid crystal while being sandwiched between the pair of substrates, and an alignment film that is provided on a plate surface inside the pair of substrates and aligns the liquid crystal. I have. As an example of such a liquid crystal panel, one described in Patent Document 1 below is known.
  • the CF substrate provided with the color filter is divided into a display area and a non-display area surrounding the display area, and the display area has a relative film thickness.
  • a thick color filter is provided, whereas a non-display area is provided with a light shielding layer having a relatively thin film thickness.
  • the present invention has been completed based on the above circumstances, and an object thereof is to make the thickness of the alignment film uniform.
  • the display component of the present invention includes a substrate divided into a display region and a non-display region surrounding the display region, a display element provided in a form overlapping the surface of the substrate in the display region, and at least in the display region
  • An alignment film that is provided so as to cover the display element and has a film thickness changing portion that changes so that the film thickness gradually decreases toward the outside, and is arranged adjacent to the display area in the non-display area.
  • a film formation control unit that controls the film formation of the alignment film so that the film thickness changing unit is arranged in the non-display region by being provided so as to overlap the surface of the substrate.
  • the material of the alignment film that is in a liquid state is supplied to the display area of the substrate provided with the display element, and the alignment is performed by the material flowing so as to spread on the substrate.
  • a film is formed.
  • the display element is provided in the display area in the substrate so as to overlap the surface, there is a difference in height between the surface of the display element and the surface in the non-display area of the substrate. As a result, there is a concern that a film thickness changing portion that changes so as to gradually decrease in thickness toward the outside is formed in a part of the alignment film formed in the display region.
  • the non-display area is arranged adjacent to the display area and the film formation control unit is provided so as to overlap the surface of the substrate, so that the film thickness changing part is arranged in the non-display area. Since the formation of the alignment film is controlled, the thickness of the alignment film in the display region is made uniform. Thereby, the display quality related to the display made using the display component is improved.
  • the following configuration is preferable.
  • the film formation control unit is provided so as to surround the display area over the entire circumference. In this way, when the alignment film is formed, the formation of the alignment film is controlled so that the film thickness changing portion is arranged in the non-display region by the film formation control unit provided so as to surround the display region over the entire circumference. Therefore, the situation where the film thickness changing portion is formed in the display region can be avoided more reliably.
  • the film formation control unit is formed so that the surface thereof is disposed at a position higher than the surface of the display element.
  • the alignment film material is first provided in a form surrounding the display area over the entire circumference and the surface of the alignment film is the display element.
  • the film formation control unit disposed at a position higher than the surface of the film is allowed to stay in the display region, and then flows onto the non-display region side by riding on the film formation control unit.
  • the film thickness changing portion is more reliably arranged in the non-display area and the film thickness of the alignment film is more preferably uniformized in the display area.
  • a second substrate that is bonded to the substrate so as to face the substrate, a liquid crystal that is sandwiched between the substrate and the second substrate, and surrounds the liquid crystal and the substrate.
  • a seal portion that seals the liquid crystal by interposing between the second substrate and the film formation control portion is disposed closer to the display area than the seal portion.
  • a gap between the second substrate and the second substrate In this case, the liquid crystal sandwiched between the substrate and the second substrate is sealed by being surrounded by the seal portion. Since the film formation control unit provided on the substrate is disposed with a gap between the second substrate and the substrate, for example, when the substrate and the second substrate are bonded together, the film formation control unit is dropped on the display region side.
  • the liquid crystal When the applied liquid crystal is expanded, the liquid crystal easily reaches the seal portion by passing through a gap formed between the film formation control unit and the second substrate. This makes it difficult for air to remain in the space surrounded by the seal portion between the two substrates, so that bubbles are less likely to be generated in the liquid crystal, so that the display quality associated with the display made using the display component is improved. It is said that it is hard to fall.
  • the film formation control unit includes the non-display In the region, it is provided so as to overlap the surface of the light shielding portion.
  • the light-shielding portion provided so as to overlap the surface of the substrate at least in the non-display area has a height lower than that of the display element.
  • the thickness change portion is likely to be formed in a part of the alignment film formed due to the height difference.
  • the non-display area is provided with the film formation control unit so as to overlap the surface of the light shielding part, so that the film formation of the alignment film is controlled so that the film thickness changing part is arranged in the non-display area.
  • the film thickness of the alignment film in the display area is preferably made uniform.
  • the film formation control unit is made of the same material as the display element, and the thickness thereof is equal to the thickness of the display element. In this way, when manufacturing the display component, the film formation control unit can be formed in the process of forming the display element. In addition, when the display element and the film formation control unit are formed by patterning, for example, by a photolithography method, the display element and the film formation control unit have the same thickness. It is not necessary to use a complicated object such as a mask. As described above, the film formation control unit can be easily formed at low cost.
  • the display element is made of a color filter that selectively transmits light in a specific wavelength region, whereas the film formation control unit is made of the same material as the color filter.
  • the film formation control unit is made of the same material as the light shielding unit, and the light shielding unit and the film formation control unit are formed by patterning, for example, by photolithography, a halftone mask or a gray tone mask is used as the photomask. Need to do.
  • the film formation control unit is made of the same material as the color filter, it is possible to avoid the necessity of using a halftone mask or a gray tone mask as a photomask. It can be easily formed at low cost.
  • the color filter is composed of a plurality of coloring portions arranged in a matrix in the display region, and the film formation control portion is located at an end of the display region in the coloring portion. It is provided in a form that continues to. In this way, compared with the case where the film formation control unit is provided away from the coloring part located at the end of the display area, the film formation control part and the coloring part located at the end of the display area are compared. Since steps and gaps are avoided between them, the cross-sectional shape of the alignment film to be formed is difficult to be complicated, which is more suitable for keeping the uniformity of the alignment film thickness high.
  • a light-shielding portion provided at least in the non-display area and provided to overlap the surface of the substrate is provided, and the film formation control unit is provided to overlap the light-shielding portion in the non-display area.
  • the film formation control unit is made of the same material as the light shielding portion. If the film formation control unit is made of a material different from that of the light shielding unit, the material needs to satisfy conditions such as wettability with respect to the light shielding unit, but the film formation control unit is made of the same material as the light shielding unit. With this configuration, it is not necessary to consider such conditions.
  • a second substrate that is bonded to the substrate so as to face the substrate, a liquid crystal that is sandwiched between the substrate and the second substrate, and surrounds the liquid crystal and the substrate.
  • a seal portion that seals the liquid crystal by being interposed between the second substrate, and the film formation control portion is spaced from the seal portion and spaced from the display area. It is arranged at the position. In this case, the liquid crystal sandwiched between the substrate and the second substrate is sealed by being surrounded by the seal portion.
  • the film formation control unit is arranged at a position near the display region with a space from the seal unit, when forming the alignment film, for example, the material of the alignment film is formed in the non-display region. Even when the material spreads beyond the seal portion side, it is difficult for the material to reach the seal portion. This makes it difficult for the alignment film to be disposed so as to overlap the seal portion, and it is difficult for the alignment film to adversely affect the sealing performance.
  • the display device of the present invention includes the display component described above. According to such a display device, since the film formation control unit controls the film formation of the alignment film so that the film thickness changing portion is arranged in the non-display area, the display quality of the display device can be improved. .
  • the television receiver of the present invention includes the display device described above. According to such a television receiver, since the display quality of the display device is improved, it is possible to display a television image with excellent display quality.
  • the thickness of the alignment film can be made uniform.
  • FIG. 1 is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a television receiver according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the exploded perspective view which shows schematic structure of the liquid crystal display device with which a television receiver is equipped Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • the top view which shows the plane structure in the corner
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the state before forming a counter electrode and forming an alignment film in the manufacturing process of the CF substrate Sectional drawing which shows the state which supplied the material of alignment film to the display area in the manufacturing process of CF board
  • substrate Sectional drawing which shows the state which supplied the material of alignment film to the display area in the manufacturing process of CF board
  • substrate Sectional drawing which shows the state before bonding a CF board
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • the top view which shows the plane structure in the corner
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • Sectional drawing which shows the cross-sectional structure which cut
  • FIGS. 1 A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
  • the liquid crystal display device 10 is illustrated.
  • a part of each drawing shows an X axis, a Y axis, and a Z axis, and each axis direction is drawn to be a direction shown in each drawing.
  • the upper side shown in FIG. 3 be a front side, and let the lower side of the figure be a back side.
  • the television receiver TV includes a liquid crystal display device 10, front and back cabinets Ca and Cb that are accommodated so as to sandwich the liquid crystal display device 10, a power source P, a tuner T, And a stand S.
  • the liquid crystal display device (display device) 10 has a horizontally long (longitudinal) rectangular shape (rectangular shape) as a whole and is accommodated in a vertically placed state.
  • the liquid crystal display device 10 includes a liquid crystal panel 11 that is a display panel and a backlight device (illumination device) 12 that is an external light source, which are integrated by a frame-like bezel 13 or the like. Is supposed to be retained.
  • the liquid crystal panel 11 is sandwiched between a pair of transparent (translucent) substrates 20 and 21 and a pair of substrates 20 and 21, and changes in optical characteristics as an electric field is applied.
  • Each of the pair of substrates 20 and 21 includes a glass substrate (substrate) GS, and a predetermined structure is stacked on the glass substrate GS.
  • the one arranged on the back side is an array substrate (second substrate, TFT substrate, active matrix substrate) 20, and the front side (light What is arranged on the emission side) is a CF substrate (display component, counter substrate) 21.
  • the liquid crystal panel 11 has a display area (active area) AA on the center side of the screen where images can be displayed and a frame shape (frame shape) surrounding the display area AA on the outer peripheral edge side of the screen. It is divided into areas (non-active areas) NAA.
  • the screen size of the liquid crystal panel 11 is, for example, about 32 inches, and is generally a size that is classified as a medium size. It is possible to change to A pair of front and back polarizing plates (not shown) are attached to the outer surface sides of the substrates 20 and 21, respectively.
  • the backlight device 12 includes a chassis 14 having a substantially box shape having a light emitting portion 14 c that opens to the front side, that is, the light emitting side (the liquid crystal panel 11 side), and the light emitting portion of the chassis 14.
  • the optical member 15 arranged so as to cover 14c and the frame 16 for pressing the light guide plate 19 described below from the front side are provided.
  • a light guide plate 19 leading to the light emitting side) is accommodated.
  • the backlight device 12 has an LED substrate 18 disposed at one end (the back side shown in FIG. 2, the right side shown in FIG. 3) of the both ends of the long side.
  • Each LED 17 mounted on 18 is unevenly distributed near one end portion on the long side of the liquid crystal panel 11.
  • the backlight device 12 according to the present embodiment is an edge light type (side light type) of a one-side light incident type in which light is incident on the light guide plate 19 only from one side. Below, each component of the backlight apparatus 12 is demonstrated sequentially.
  • the chassis 14 is made of, for example, a metal plate such as an aluminum plate. As shown in FIGS. 2 and 3, the chassis 14 has a horizontally long bottom plate 14a and each side (a pair of long sides) of the bottom plate 14a. And a pair of short sides) side plates 14b rising from the outer ends toward the front side.
  • the chassis 14 (bottom plate 14a) has a long side direction that coincides with the X-axis direction, and a short side direction that coincides with the Y-axis direction.
  • Substrates such as a control board and an LED drive circuit board (not shown) are attached to the back side of the bottom plate 14a. Further, the frame 16 and the bezel 13 can be screwed to the side plate 14b.
  • the optical member 15 has a horizontally long rectangular shape when viewed in a plane, like the liquid crystal panel 11 and the chassis 14.
  • the optical member 15 is placed on the front side (light emission side) of the light guide plate 19 and is disposed between the liquid crystal panel 11 and the light guide plate 19 so as to transmit light emitted from the light guide plate 19. At the same time, the transmitted light is emitted toward the liquid crystal panel 11 while giving a predetermined optical action.
  • the optical member 15 is composed of a plurality of (three in the present embodiment) sheet-like members stacked on each other, and specifically, for example, from among a diffusion sheet, a lens sheet, a reflective polarizing sheet, and the like. It is selected and used as appropriate. In FIG. 3, for convenience, the three optical members 15 are simplified to one.
  • the frame 16 is formed in a frame shape (frame shape) extending along the outer peripheral end portion of the light guide plate 19, and the outer peripheral end portion of the light guide plate 19 extends from the front side over substantially the entire circumference. It is possible to hold down.
  • a first reflective sheet R1 that reflects light is attached to the inner surface of one long side portion facing the LED substrate 18 (LED 17) of the pair of long side portions in the frame 16, as shown in FIG. Yes.
  • the first reflection sheet R1 has a size extending almost over the entire length of the long side portion of the frame 16, and the end portion of the light guide plate 19 facing the LED 17 and the LED substrate 18 are collectively displayed on the front side. It is supposed to cover from. Further, the frame 16 can receive the outer peripheral end of the liquid crystal panel 11 from the back side.
  • the LED 17 has a configuration in which an LED chip is sealed with a resin material on a substrate portion fixed to the LED substrate 18.
  • the LED chip has a single main emission wavelength, and specifically, one that emits blue light in a single color is used.
  • the resin material that seals the LED chip is dispersed and blended with a phosphor that emits a predetermined color when excited by the blue light emitted from the LED chip.
  • the LED 17 generally emits white light as a whole. It is supposed to be emitted.
  • the LED 17 is a so-called top surface light emitting type in which a surface opposite to the mounting surface with respect to the LED substrate 18 is a main light emitting surface.
  • the LED board 18 on which a plurality of the LEDs 17 are mounted has a long plate shape extending along the long side direction (X-axis direction) of the chassis 14,
  • the chassis 14 is attached to one long side side plate 14b.
  • the LED substrate 18 has an inner plate surface facing the end surface of the light guide plate 19, and a plurality of LEDs 17 are intermittently arranged in parallel at substantially equal intervals along the long side direction of the LED substrate 18.
  • Each LED 17 mounted on the LED substrate 18 has an optical axis that substantially coincides with the Y-axis direction (direction parallel to the plate surface of the liquid crystal panel 11).
  • the light guide plate 19 is made of a synthetic resin material (for example, acrylic) having a refractive index sufficiently higher than air and substantially transparent, and is similar to the liquid crystal panel 11 and the bottom plate 14a of the chassis 14 as shown in FIGS. It is a flat plate having a horizontally long shape when viewed from above.
  • the front-side plate surface of the light guide plate 19 is a light emitting surface 19a that emits internal light toward the optical member 15 and the liquid crystal panel 11 side.
  • the pair of long-side end surfaces that are adjacent to the plate surface of the light guide plate 19 and have a longitudinal shape along the X-axis direction, one side (the back side shown in FIG. 2, the right side shown in FIG.
  • the light guide plate 19 introduces light emitted from the LED 17 along the Y-axis direction from the light incident surface 19b and travels to the optical member 15 side (front side, light emission side) while propagating the light inside. Thus, the light can be emitted from the light emission surface 19a.
  • the first reflection sheet R1 described above is arranged on the front side of the space held between the LED 17 and the light incident surface 19b, whereas the first reflection sheet R1 is arranged on the back side of the space.
  • the second reflection sheet R2 is arranged so as to sandwich the same space therebetween.
  • Both reflection sheets R1 and R2 are arranged so as to sandwich the LED 17 side end portion of the light guide plate 19 and the LED 17 in addition to the space. Thereby, the light from LED17 can be made to inject efficiently with respect to the light-incidence surface 19b by repeatedly reflecting between both reflection sheet R1, R2.
  • the plate surface 19 c opposite to the light emitting surface 19 a can reflect the light in the light guide plate 19 and rise to the front side as shown in FIG. 3.
  • Three reflective sheets R3 are provided so as to cover almost the entire area.
  • the third reflection sheet R ⁇ b> 3 is disposed between the bottom plate 14 a of the chassis 14 and the light guide plate 19.
  • a light reflection pattern (see FIG. 5) is formed on the opposite surface 19c of the light guide plate 19 by reflecting the light in the light guide plate 19 toward the light emission surface 19a to emit the light from the light emission surface 19a. (Not shown) is formed.
  • the pair of substrates 20 and 21 constituting the liquid crystal panel will be sequentially described in detail.
  • the array substrate 20 On the inner surface side (the liquid crystal 22 side, the surface facing the CF substrate 21) in the display area AA of the array substrate 20, as shown in FIG. 4, a TFT (Thin Film) which is a switching element having three electrodes 24a to 24c is provided.
  • Transistors 24 and pixel electrodes 25 are provided side by side in a matrix (matrix shape) along the plate surface of the array substrate 20, and around the TFTs 24 and the pixel electrodes 25, gates having a lattice shape are provided.
  • the wiring 26 and the source wiring 27 are disposed so as to surround them.
  • the gate wiring 26 and the source wiring 27 are both made of a metal material, and an insulating film (not shown) is interposed between the intersecting portions.
  • a gate wiring 26 and a source wiring 27 are connected to the gate electrode 24a and the source electrode 24b of the TFT 24, respectively.
  • an insulating film (organic insulating film) 34 made of a resin material that is substantially transparent and has an insulating property is interposed between the TFT 24 and the pixel electrode 25.
  • the insulating film 34 is formed in a solid shape over almost the entire area of the array substrate 20.
  • the pixel electrode 25 is made of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), and has a vertically long rectangular shape in plan view in a region surrounded by the gate wiring 26 and the source wiring 27.
  • the pixel electrode 25 is connected to the drain electrode 24c of the TFT 24 by a drain wiring (not shown with the contact holes) through a contact hole provided in a form opening in the insulating film 34 partially.
  • an array substrate side alignment film 28 for aligning liquid crystal molecules contained in the liquid crystal 22 is formed so as to face the liquid crystal 22.
  • the array substrate-side alignment film 28 is made of, for example, polyimide, and is formed in a solid shape so as to extend over the display area AA and the non-display area NAA in the array substrate 20, and more specifically, the entire area of the display area AA.
  • the non-display area NAA is arranged over an inner peripheral side part (a part adjacent to the display area AA).
  • the array substrate-side alignment film 28 is a photo-alignment film capable of aligning liquid crystal molecules along the light irradiation direction when irradiated with light of a specific wavelength region (for example, ultraviolet rays).
  • . 7 is an end view in which the vicinity of the outer end portion of the liquid crystal panel 11 is cut from the display area AA to the non-display area NAA.
  • the TFT 24 is simplified and the source wiring 27 is illustrated. Omitted.
  • the array substrate 20 is provided with a capacitor wiring (auxiliary capacitor wiring, storage capacitor wiring, Cs wiring) 33 that is parallel to the gate wiring 26 and overlaps the pixel electrode 25 in plan view. ing.
  • the capacitor wiring 33 is arranged alternately with the gate wiring 26 in the Y-axis direction.
  • the gate wiring 26 is disposed between the pixel electrodes 25 adjacent to each other in the Y-axis direction, whereas the capacitor wiring 33 is disposed at a position that substantially crosses the central portion of each pixel electrode 25 in the Y-axis direction.
  • the end portion of the array substrate 20 is provided with a terminal portion routed from the gate wiring 26 and the capacitor wiring 33 and a terminal portion routed from the source wiring 27.
  • Each signal or reference potential is input from a control board that is not to be operated, whereby the driving of each TFT 24 arranged in parallel in a matrix is individually controlled.
  • a color filter 29 and a light shielding portion (black matrix) 30 are formed so as to overlap the surface. Is provided. Among them, the color filter 29 is relatively disposed on the upper layer side, and the light shielding portion 30 is relatively disposed on the lower layer side (FIG. 7).
  • the color filter 29 includes a photosensitive resin material containing a pigment for coloring, and is formed by patterning the CF substrate 21 by a known photolithography method in a manufacturing process.
  • the color filter 29 has a large number of coloring portions 29 ⁇ / b> R and 29 ⁇ / b> G that are arranged in a matrix (matrix shape) in positions that overlap each pixel electrode 25 on the array substrate 20 side when viewed in plan. , 29B.
  • Each of the coloring portions 29R, 29G, and 29B has a vertically long rectangular shape in plan view following the outer shape of the opposing pixel electrode 25, and constitutes a pixel (unit pixel) together with the opposing pixel electrode 25.
  • the color filter 29 configures a colored portion group by alternately arranging the colored portions 29R, 29G, and 29B that respectively exhibit red, green, and blue along the row direction (X-axis direction).
  • a red colored portion 29R is located at the left end shown in FIGS. 5 and 6, a green colored portion 29G is adjacent to the right, and a blue colored portion 29B is adjacent to the right. 5 and 6, a blue colored portion 29B is disposed at the right end, a green colored portion 29G is disposed on the left side, and a red colored portion 29R is disposed on the left side.
  • Each of the colored portions 29R, 29G, and 29B constituting the color filter 29 selectively transmits light in a specific wavelength region.
  • the red colored portion (red colored portion) 29R selectively transmits light in the red wavelength region (about 600 nm to about 780 nm), that is, red light.
  • the green colored portion (green colored portion) 29G selectively transmits light in the green wavelength region (about 500 nm to about 570 nm), that is, green light.
  • the blue colored portion (blue colored portion) 29B selectively transmits light in a blue wavelength region (about 420 nm to about 500 nm), that is, blue light.
  • the light shielding portion 30 has a high light shielding property by including a light shielding material (for example, carbon black) in the photosensitive resin material, and is formed by patterning on the CF substrate 21 by a known photolithography method in the manufacturing process. Has been.
  • the thickness of the light shielding portion 30 is thinner than the thickness of each of the colored portions 29R, 29G, and 29B forming the color filter 29 (FIG. 7).
  • the light-shielding portion 30 is arranged so as to partition the color portions 29R, 29G, and 29B adjacent to each other in the display area AA of the CF substrate 21, thereby preventing color mixing between pixels.
  • the inter-pixel light-shielding part (lattice-shaped light-shielding part) 30a and the frame-like light-shielding part 30b having a frame shape in the non-display area NAA of the CF substrate 21 are configured.
  • the inter-pixel light-shielding portion 30a is formed in a lattice shape so as to overlap with the gate wiring 26 and the source wiring 27 on the array substrate 20 side in a plan view.
  • the inter-pixel light-shielding portion 30a has a configuration in which a large number of frame-like portions individually surrounding the coloring portions 29R, 29G, and 29B that form the color filter 29 are connected along the X-axis direction and the Y-axis direction. ing.
  • the inner peripheral end portion in the frame-shaped portion forming the inter-pixel light shielding portion 30a and the outer peripheral end portions in the coloring portions 29R, 29G, and 29B are arranged so as to overlap each other, and the overlapping portion on the inter-pixel light shielding portion 30a side.
  • the overlapping portions on the colored portions 29R, 29G, 29B side are arranged on the upper layer side, respectively. Note that the overlapping portions (climbing portions) on the colored portions 29R, 29G, and 29B side are thinner than non-overlapping portions that do not overlap with the inter-pixel light shielding portions 30a.
  • the frame-shaped light-shielding portion 30b is formed in a solid shape so as to be disposed over substantially the entire non-display area NAA of the CF substrate 21, and has a frame shape (endless annular shape) that surrounds the inter-pixel light-shielding portion 30a over the entire circumference when seen in a plan view. ).
  • a counter electrode 31 is provided to face the pixel electrode 25 on the array substrate 20 side.
  • the counter electrode 31 is made of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), and extends over a part of the non-display area NAA (part on the display area AA side) in addition to the entire display area AA on the CF substrate 21. It is formed in a solid shape and covers the entire area of the color filter 29 and a part of the light shielding part 30 (a part excluding the outer peripheral part of the frame-like light shielding part 30b).
  • a constant reference potential (common potential) is supplied to the counter electrode 31, and therefore, by supplying a predetermined potential to each pixel electrode 25 via each TFT 24, between the electrodes 25 and 31.
  • a predetermined potential difference can be generated.
  • the alignment state of the liquid crystal molecules is controlled by the electric field acting on the liquid crystal 22, and the transmitted light amount of the liquid crystal panel 11 is individually controlled for each pixel. Therefore, a color image is displayed with an appropriate gradation on the display area AA of the liquid crystal panel 11. 5 and 6, the counter electrode 31 is not shown.
  • columnar spacers for keeping the cell gap (thickness of the liquid crystal 22) between the substrates 20 and 21 constant.
  • Spacer 35 is provided on the surface of the counter electrode 31 in the display area AA of the CF substrate 21, as shown in FIG. 7, columnar spacers (photographs) for keeping the cell gap (thickness of the liquid crystal 22) between the substrates 20 and 21 constant.
  • the columnar spacer 35 is made of a substantially transparent photosensitive resin material, and is formed by patterning the CF substrate 21 by a known photolithography method in the manufacturing process.
  • the columnar spacer 35 has a tapered columnar shape that rises from the surface of the counter electrode 31 on the CF substrate 21 toward the array substrate 20, and its rising tip is the inner surface of the array substrate 20 (the array substrate-side alignment film 28.
  • the columnar spacer 35 is disposed at a position overlapping the inter-pixel light-shielding portion 30a in the light-shielding portion 30 when viewed in plan, and more specifically, the coloring portions 29R and 29G in the inter-pixel light-shielding portion 30a. , 29B are arranged at positions that overlap each corner of the frame-like portion that individually surrounds the frame 29B. Further, the cell gaps of both the substrates 20 and 21 are also maintained by the seal portion 23 surrounding the liquid crystal 22 described above.
  • the seal portion 23 is disposed in the vicinity of the outer peripheral end in the non-display area NAA, the insulating film 34 in the array substrate 20, the outer peripheral side portion in the frame-shaped light shielding portion 30 b of the CF substrate 21, and the outer peripheral end portion of the counter electrode 31. It is arranged to overlap.
  • 5 and 6 are plan views of the CF substrate 21, but the seal portion 23 is illustrated in order to represent the positional relationship of the color filter 29 and the light shielding portion 30 as viewed in the plane of the seal portion 23.
  • a CF substrate-side alignment film (alignment film) 32 for aligning liquid crystal molecules contained in the liquid crystal 22 is formed on the surface of the counter electrode 31 so as to face the liquid crystal 22.
  • the CF substrate-side alignment film 32 is made of, for example, polyimide, and is formed in a solid shape so as to extend over the display area AA and the non-display area NAA in the CF substrate 21.
  • the non-display area NAA is arranged over an inner peripheral side part (a part adjacent to the display area AA).
  • the CF substrate-side alignment film 32 is a photo-alignment film capable of aligning liquid crystal molecules along the light irradiation direction when irradiated with light (for example, ultraviolet rays) in a specific wavelength region. . 5 and 6, the illustration of the CF substrate side alignment film 32 is omitted.
  • the display area AA of the CF substrate 21 is provided with a relatively thick color filter 29 as shown in FIG. 7, whereas the non-display area NAA has a relatively thick film thickness.
  • a frame-shaped light shielding portion 30b of the thin light shielding portion 30 is provided, and there is a height difference between these surfaces.
  • the CF substrate-side alignment film 32 supplies a material that is in a liquid state at the time of film formation to the display area AA of the CF substrate 21 by an inkjet device (not shown), and the supplied material is the CF substrate. The film is formed by flowing so as to spread on the surface 21.
  • a film thickness changing portion 36 that changes so that the film thickness gradually decreases outward is easily formed at the outer peripheral end portion of the CF substrate side alignment film 32.
  • the film thickness changing portion 36 has an inclined surface whose surface has a downward gradient from the center side toward the outer end side (upward gradient from the outer end side toward the central side) in the CF substrate side alignment film 32. .
  • the film thickness changing portion 36 can be formed on a part or the whole of the outer peripheral end of the CF substrate side alignment film 32.
  • the material of the CF substrate-side alignment film 32 has a wavelength dependency in light absorption characteristics, and has a property of absorbing more light in a specific wavelength region than light in other wavelength regions.
  • the film thickness changing portion 36 the amount of absorption related to the light in the specific wavelength region described above is different from the portion where the film thickness is constant (film thickness uniform portion), and the film thickness is thereby caused.
  • the color relating to the transmitted light is different from the constant portion.
  • the array substrate 20 is provided with an insulating film 34 that also functions as a planarizing film, and there is almost no difference in height between the display area AA and the non-display area NAA.
  • the film thickness changing portion 36 as described above is hardly formed on the substrate side alignment film 28, or even if it is formed, the amount of change in the film thickness is very small, and color unevenness is hardly caused. It is supposed to be.
  • the CF substrate 21 according to the present embodiment is arranged adjacent to the display area AA in the non-display area NAA and overlaps the surface of the CF substrate 21 (
  • the film formation control unit 37 is provided so as to protrude from the surface of the CF substrate 21.
  • the surface of the portion adjacent to the display area AA in the non-display area NAA of the CF substrate 21 and the non-display area in the display area AA before the CF substrate-side alignment film 32 is formed by the film formation control unit 37. Since the height difference between the portion adjacent to the NAA (the portion of the color filter 29 located at the outer end of the display area AA) is reduced, the film thickness changing portion 36 is not arranged in the display area AA.
  • the formation of the CF substrate side alignment film 32 can be controlled so as to be arranged in the non-display area NAA. Thereby, the film thickness of the CF substrate-side alignment film 32 in the display area AA becomes uniform, so that it is possible to avoid color unevenness in the transmitted light of the CF substrate-side alignment film 32 in the display area AA. Therefore, color unevenness hardly occurs in the display image, and the display quality can be improved.
  • the film formation control unit 37 will be described in detail.
  • the film formation control unit 37 is disposed on the inner peripheral side portion of the non-display area NAA of the CF substrate 21, and the seal unit disposed on the outer peripheral side portion of the non-display area NAA. 23 and the display area AA. Specifically, the film formation control unit 37 is arranged at the inner peripheral end position (a position adjacent to the outer peripheral side of the display area AA) in the non-display area NAA of the CF substrate 21 and the frame-shaped light shielding part 30b of the light shielding part 30.
  • a frame that is provided so as to overlap the surface (a shape that overlaps in a plan view) and surrounds the display area AA (the inter-pixel light-shielding portion 30a and the color filter 29) over the entire circumference following the planar shape of the frame-shaped light shielding portion 30b. (Endless ring shape). Since the film formation control unit 37 having such a frame shape controls the film formation of the CF substrate side alignment film 32 over the entire circumference, the film thickness changing part 36 formed at the outer peripheral end thereof is a non-display area. The certainty that the NAA is formed is higher. As a result, a situation in which the film thickness changing portion 36 is formed in the display area AA is less likely to occur. Then, as shown in FIG.
  • the film formation control unit 37 has a surface 37a higher than the surface 29a of each of the coloring portions 29R, 29G, and 29B forming the color filter 29 (the array substrate 20 in the Z-axis direction). It is formed so that it may be a position close to As a result, when the CF substrate side alignment film 32 is formed, the film formation control unit 37 functions as a weir for the liquid material, so that an amount of material that can overcome the film formation control unit 37 is supplied. By doing so, the film thickness of the CF substrate-side alignment film 32 is easily made uniform in the display area AA surrounded by the film formation control unit 37.
  • the film formation control unit 37 is made of the same material as that of the color filter 29 as shown in FIGS. Specifically, the film formation control unit 37 is made of the same material as the red coloring unit 29R among the coloring units 29R, 29G, and 29B forming the color filter 29, and patterns the red coloring unit 29R by photolithography. Are simultaneously patterned (in the same process). Then, as shown in FIG. 8, the film forming control unit 37 has a thickness T1 equal to a thickness T2 of the red coloring unit 29R. Accordingly, with respect to the photomask used when the red coloring portion 29R and the film formation control unit 37 are patterned by the photolithography method, the light transmitting portion (light shielding portion) for patterning the red coloring portion 29R and the film formation control are provided.
  • the translucent part (light-shielding part) for patterning the part 37 can have the same structure. In other words, since it is not necessary to use a photomask having a complicated structure such as a halftone mask or a graytone mask, the cost associated with the photomask can be reduced and exposure defects and the like are less likely to occur.
  • the film formation control unit 37 can be formed.
  • the film formation control unit 37 is provided in a form that is continuous with the color portions 29R, 29G, and 29B that form the color filter 29 and that is positioned at the end of the display area AA. Accordingly, it is possible to avoid a step and a gap between the film formation control unit 37 and the coloring portions 29R, 29G, and 29B located at the end of the display area AA.
  • the CF substrate side alignment film 32 to be formed is formed.
  • the cross-sectional shape of the CF substrate becomes difficult to be complicated, whereby the uniformity of the film thickness of the CF substrate-side alignment film 32 can be made higher.
  • the film formation control unit 37 is located at the end of the display area AA.
  • the red colored portion 29R is continuously connected without having an interface.
  • the film formation control unit 37 is connected in a form having an interface with the green coloring portion 29G and the blue coloring portion 29B located at the end of the display area AA.
  • the film forming control unit 37 is made of the same material as the color filter 29, the surface thereof is covered with the counter electrode 31 over the entire area.
  • the film formation control unit 37 is disposed at a position closer to the display area AA than the seal part 23 in the non-display area NAA of the CF substrate 21, and a gap C is formed between the film formation control section 37 and the array substrate 20. It is arranged in the space. Specifically, the thickness T1 of the film formation control unit 37 is sufficiently thinner than the distance between the CF substrate 21 and the array substrate 20, and the light shielding unit 30 faces the thickness T1 of the film formation control unit 37.
  • the dimensions including the thicknesses of the electrode 31 and the CF substrate-side alignment film 32 are also thinner than the distance between the CF substrate 21 and the array substrate 20.
  • the counter electrode 31 and the CF substrate-side alignment film 32 stacked on the film formation control unit 37 form a gap C1 with respect to the structure on the array substrate 20 side (the insulating film 34 and the array substrate-side alignment film 28).
  • the liquid crystal material forming the liquid crystal 22 through the gap C1 can freely move between the display area AA side and the non-display area NAA. Therefore, when the substrates 20 and 21 are bonded to each other when the liquid crystal panel 11 is manufactured, the liquid crystal 22 dropped on the display area AA side is allowed to freely flow from the display area AA side to the non-display area NAA side, and the seal portion 23. Can be easily reached. This makes it difficult for air to remain in the space surrounded by the seal portion 23 between the two substrates 20 and 21, thereby preventing the occurrence of bubbles in the liquid crystal 22 and reducing the display quality of the display image. Is less likely to occur.
  • the film formation control unit 37 is arranged at a position near the display area AA with a gap C2 between the non-display area NAA of the CF substrate 21 and the seal part 23.
  • the film formation control unit 37 is arranged at a position near the display area AA with a gap C2 with respect to the seal unit 23, when the CF substrate side alignment film 32 is formed, for example, CF Even when the material of the substrate side alignment film 32 spreads beyond the film formation control unit 37 to the seal unit 23 side in the non-display area NAA, it is difficult for the material to reach the seal unit 23.
  • the gap C2 provided between the seal portion 23 and the film formation control unit 37 is a material that flows from the display area AA side toward the non-display area NAA side when the CF substrate side alignment film 32 is formed. Function as a spatial buffer. This makes it difficult for the CF substrate-side alignment film 32 to be disposed so as to overlap the seal portion 23, so that it is difficult for the seal performance to be adversely affected.
  • the liquid crystal panel 11 includes an array substrate manufacturing process for manufacturing the array substrate 20, a CF substrate manufacturing process for manufacturing the CF substrate 21, a bonding process for bonding the array substrate 20 and the CF substrate 21, It is supposed to be manufactured by going through.
  • description of the array substrate manufacturing process is omitted, and the CF substrate manufacturing process and the bonding process are described in detail.
  • the CF substrate manufacturing process will be described.
  • the color filter 29 and the film formation control unit 37 are formed by patterning by photolithography.
  • the color filter 29 includes a red coloring portion 29R, a green coloring portion 29G, and a blue coloring portion 29B, these are appropriately formed in a predetermined order.
  • the film formation control portion 37 is formed.
  • the counter electrode 31 having a solid pattern is formed, columnar spacers 35 are subsequently formed by patterning by photolithography as shown in FIG.
  • the CF substrate side alignment film 32 is formed by using an ink jet apparatus (not shown).
  • droplets PIM which are the material of the CF substrate-side alignment film 32
  • the display area AA is discharged. Let it land.
  • the droplet PIM that has landed on the display area AA of the glass substrate GS that forms the CF substrate 21 wets and spreads from the landing position on the surface of the counter electrode 31.
  • the CF substrate-side alignment film 32 is formed.
  • the droplet PIM that has landed at the position closest to the outer edge in the display area AA wets and spreads toward the non-display area NAA, and the film formation control is such that the surface 37a is higher than the surface 29a of the color filter 29. We will ride on part 37. That is, since the droplet PIM stays in the display area AA until it reaches the film formation control unit 37, the film thickness of the CF substrate side alignment film 32 is easily made uniform in the display area AA. Yes. In other words, the amount of the material (droplet PIM) of the CF substrate-side alignment film 32 supplied to the display area AA is set so that the material rides on the film formation control unit 37 and extends to the non-display area NAA.
  • the film formation control unit 37 is arranged so as to surround the display area AA over the entire circumference, it functions as a weir with respect to the droplet PIM of the CF substrate side alignment film 32 and the CF substrate in the display area AA. It is more preferable for making the thickness of the side alignment film 32 uniform. Then, even if the droplet PIM of the CF substrate side alignment film 32 on the film formation control unit 37 is solidified and the film thickness changing part 36 is formed there, the film thickness changing part 36 is not the display area AA. Since it is arranged in the non-display area NAA, it is possible to avoid color unevenness caused by the film thickness changing portion 36 in the display area AA. Thereby, the display quality related to the image displayed in the display area AA is high.
  • the bonding process will be described.
  • the bonding process as shown in FIG. 12, after the material forming the seal portion 23 is drawn and formed on the outer peripheral side portion of the non-display area NAA of the CF substrate 21 by a seal dispenser device (not shown), the display area AA of the CF substrate 21 is formed.
  • a number of liquid crystal material droplets LCM forming the liquid crystal 22 are dropped at predetermined intervals.
  • the array substrate 20 is disposed so as to face the CF substrate 21, and the array substrate 20 is bonded to the CF substrate 21 while being aligned in the direction along the plate surface.
  • the liquid crystal material droplet LCM forming the liquid crystal 22 is spread between the substrates 20 and 21.
  • the liquid crystal material droplet LCM forming the liquid crystal 22 flows from the display area AA side to the non-display area NAA side through the gap C1 and reaches the seal portion 23.
  • the liquid crystal 22 is uniformly filled in the display area AA and the non-display area NAA in the space between the substrates 20 and 21, and it is difficult for air to remain in the space. Air bubbles are less likely to be generated inside. Thus, the display quality can be improved.
  • the liquid crystal 22 is sealed by curing the seal portion 23, whereby the liquid crystal panel 11 is manufactured.
  • the CF substrate (display component) 21 of the present embodiment includes the glass substrate (substrate) GS divided into the display area AA and the non-display area NAA surrounding the display area AA, and the glass substrate in the display area AA.
  • the material of the CF substrate-side alignment film 32 in a liquid state is supplied to the display area AA in the glass substrate GS provided with the color filter 29.
  • the CF substrate side alignment film 32 is formed by flowing the material so as to spread on the glass substrate GS.
  • the display area AA in the glass substrate GS is provided with the color filter 29 so as to overlap with the surface thereof, it is between the surface 29a of the color filter 29 and the surface in the non-display area NAA of the glass substrate GS.
  • a film thickness changing portion 36 that changes so that the film thickness gradually decreases outward in a part of the CF substrate side alignment film 32 formed in the display area AA.
  • the non-display area NAA is provided adjacent to the display area AA and provided with the film formation control unit 37 so as to overlap the surface of the glass substrate GS, so that the film thickness changing part 36 is not displayed. Since the formation of the CF substrate side alignment film 32 is controlled so as to be arranged in the region NAA, the film thickness of the CF substrate side alignment film 32 in the display region AA is made uniform. Thereby, the display quality related to the display made using the CF substrate 21 is improved.
  • the film formation control unit 37 is provided so as to surround the display area AA over the entire circumference. In this way, when the CF substrate-side alignment film 32 is formed, the film thickness changing portion 36 is arranged in the non-display area NAA by the film formation control section 37 provided so as to surround the entire display area AA. Since the formation of the CF substrate-side alignment film 32 is controlled, the situation where the film thickness changing portion 36 is formed in the display area AA can be avoided more reliably.
  • the film formation control unit 37 is formed such that the surface 37 a is arranged at a position higher than the surface 29 a of the color filter 29.
  • the material of the CF substrate side alignment film 32 is supplied to the display area AA when forming the CF substrate side alignment film 32
  • the material of the CF substrate side alignment film 32 is first changed to the display area AA.
  • Is formed so as to surround the entire surface of the color filter 29 and the surface 37 a is placed in a position higher than the surface 29 a of the color filter 29.
  • NAA non-display area
  • the film thickness changing portion 36 is more reliably arranged in the non-display area NAA, and the film thickness of the CF substrate side alignment film 32 is more preferably uniformized in the display area AA.
  • an array substrate (second substrate) 20 that is bonded to the glass substrate GS that forms the CF substrate 21 with a space therebetween, and a liquid crystal that is sandwiched between the glass substrate GS and the array substrate 20. 22 and a seal portion 23 that surrounds the liquid crystal 22 and seals the liquid crystal 22 by being interposed between the glass substrate GS and the array substrate 20. Further, it is arranged at a position closer to the display area AA and is arranged with a gap C1 between it and the array substrate 20. In this way, the liquid crystal 22 sandwiched between the glass substrate GS forming the CF substrate 21 and the array substrate 20 is sealed by being surrounded by the seal portion 23.
  • the film formation control unit 37 provided on the glass substrate GS is disposed with a gap C1 between the glass substrate GS and the array substrate 20, for example, when the glass substrate GS and the array substrate 20 are bonded together, display is performed.
  • the liquid crystal 22 dropped on the area AA side is expanded, the liquid crystal 22 reaches the seal part 23 by passing through the gap C1 formed between the film formation control part 37 and the array substrate 20. It is easy to do. This makes it difficult for air to remain in the space surrounded by the seal portion 23 between the two substrates GS and 20, so that bubbles are less likely to be generated in the liquid crystal 22, and thus the CF substrate 21 is used.
  • the display quality related to the display is unlikely to deteriorate.
  • the film forming control unit includes a light shielding unit 30 which is disposed at least in the non-display area NAA and is provided so as to overlap the surface of the glass substrate GS forming the CF substrate 21 and whose height is lower than that of the color filter 29. 37 is provided so as to overlap the surface of the light shielding portion 30 in the non-display area NAA. In this case, since the light shielding portion 30 provided so as to overlap the surface of the glass substrate GS at least in the non-display area NAA has a lower height than the color filter 29, the color in the display area AA.
  • the non-display area NAA is provided with the film formation control unit 37 so as to overlap the surface of the light shielding unit 30, so that the film thickness changing unit 36 is arranged in the non-display area NAA. Therefore, the film thickness of the CF substrate-side alignment film 32 in the display area AA is preferably uniformized.
  • the film formation control unit 37 is made of the same material as that of the color filter 29, and the thickness T1 thereof is equal to the thickness T2 of the color filter 29. In this way, when the CF substrate 21 is manufactured, the film formation control unit 37 can be formed in the process of forming the color filter 29. In addition, when the color filter 29 and the film formation control unit 37 are formed by patterning, for example, by a photolithography method, the thicknesses T1 and T2 of the color filter 29 and the film formation control unit 37 are made equal, so that the photomask As a result, it is not necessary to use a complicated one such as a halftone mask or a gray tone mask. As described above, the film formation control unit 37 can be easily formed at low cost.
  • the display element is made of the color filter 29 that selectively transmits light in a specific wavelength region
  • the film formation control unit 37 is made of the same material as the color filter 29.
  • the film forming control unit is made of the same material as the light shielding unit 30, and the light shielding unit 30 and the film forming control unit are formed by patterning, for example, by photolithography, a halftone mask or a gray tone mask is used as the photomask. Need to be used.
  • the film formation control unit 37 is made of the same material as the color filter 29, it is possible to avoid the necessity of using a halftone mask or a gray tone mask as a photomask.
  • the portion 37 can be easily formed at low cost.
  • the color filter 29 is composed of a plurality of coloring portions 29R, 29G, and 29B arranged in a matrix in the display area AA, and the film forming control portion 37 displays the coloring portions 29R, 29G, and 29B. It is provided so as to continue to the one located at the end of the area AA. In this case, the film formation control unit 37 and the display area AA are compared with the case where the film formation control unit is provided away from the coloring parts 29R, 29G, and 29B located at the end of the display area AA.
  • the cross-sectional shape of the CF substrate-side alignment film 32 to be formed is difficult to be complicated, and thereby the CF substrate side This is more suitable for keeping the uniformity of the film thickness of the alignment film 32 high.
  • an array substrate 20 that is bonded to the glass substrate GS that forms the CF substrate 21 with a space therebetween, a liquid crystal 22 that is sandwiched between the glass substrate GS and the array substrate 20, and a liquid crystal 22 are provided.
  • a seal part 23 that seals the liquid crystal 22 by being interposed between the glass substrate GS and the array substrate 20, and the film formation control part 37 has a gap C 2 with respect to the seal part 23. It is arranged at a position near the display area AA. In this way, the liquid crystal 22 sandwiched between the glass substrate GS forming the CF substrate 21 and the array substrate 20 is sealed by being surrounded by the seal portion 23.
  • the film formation control unit 37 is arranged at a position near the display area AA with a gap C2 with respect to the seal unit 23, when the CF substrate side alignment film 32 is formed, for example, the CF substrate side alignment film Even when 32 materials spread beyond the film formation control unit 37 to the seal unit 23 side in the non-display area NAA, it is difficult for the material to reach the seal unit 23. This makes it difficult for the CF substrate-side alignment film 32 to be disposed so as to overlap the seal portion 23, and it is difficult for a situation that adversely affects the sealing performance to occur.
  • the liquid crystal display device (display device) 10 includes the above-described CF substrate 21.
  • the film formation control unit 37 controls the film formation of the CF substrate side alignment film 32 so that the film thickness changing unit 36 is arranged in the non-display area NAA. The display quality in the display device 10 is improved.
  • the television receiver TV includes the liquid crystal display device 10 described above. According to such a television receiver TV, since the display quality of the liquid crystal display device 10 is improved, a television image with an excellent display quality can be displayed.
  • the film forming control unit 137 is formed of the same material as the light shielding unit 130.
  • movement, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate
  • the film formation control unit 137 is formed of the same material as the light shielding unit 130, and is continuously connected to the frame-shaped light shielding unit 130b without having an interface. Yes.
  • the film formation control unit 137 is provided so as to be continuous with the inner peripheral side portion of the frame-shaped light shielding portion 130b. In other words, only the inner peripheral side portion of the frame-shaped light shielding portion 130b is partially thickened. It is formed by forming. Compared to the first embodiment described above, it is not necessary to consider conditions such as the wettability of the film formation control unit 137 with respect to the frame-shaped light shielding unit 130b, so that manufacturing is easy.
  • the light shielding unit 130 provided at least in the non-display area NAA and provided to overlap the surface of the glass substrate GS is provided.
  • the area NAA it is arranged so as to overlap the light shielding part 130 and is made of the same material as the light shielding part 130.
  • the film formation control unit 137 is made of a material different from that of the light shielding unit 130, the film formation control unit 137 may be used as a light shielding unit although the material needs to satisfy conditions such as wettability with respect to the light shielding unit 130. If the configuration is made of the same material as 130, it is not necessary to consider such conditions.
  • Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the formation range of the film formation control unit 237 is changed from the second embodiment.
  • action, and effect as above-mentioned Embodiment 2 is abbreviate
  • the film formation control unit 237 is formed in a range over almost the entire area of the frame-shaped light shielding unit 230b. That is, the film formation control unit 237 is formed by forming the frame-shaped light-shielding part 230b thicker than the inter-pixel light-shielding part (not shown) over almost the entire area.
  • the film formation control unit 337 is spaced from the coloring units 329 R, 329 G, and 329 B located at the end of the display area AA in the color filter 329. Arranged in position. That is, the film formation control unit 337 surrounds the color filter 329 over the entire circumference, but is arranged in a form separated from the coloring units 329R, 329G, and 329B positioned at the end of the display area AA. In such a configuration, a stepped portion is formed between the film formation control unit 337 and the coloring portions 329R, 329G, and 329B positioned at the end of the display area AA in a form positioned in the non-display area NAA.
  • the material of the CF substrate side alignment film 332 stays in the stepped portion, so that the film thickness changing portion 336 is within the stepped portion, that is, the non-display area NAA. Will be formed.
  • Embodiment 5 of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the thickness T3 of the film formation control unit 437 is changed from the fourth embodiment.
  • action, and effect as above-mentioned Embodiment 4 is abbreviate
  • the film formation control unit 437 has a thickness T3 that is thinner than a thickness T2 of the red coloring unit 429R that forms the color filter 429.
  • the thickness T3 of the film formation control unit 437 is different from the thickness T2 of the red coloring unit 429R in that the thickness T4 of the frame-shaped light shielding unit 430b stacked on the film formation control unit 437 in the light shielding unit 430. Is set to be equal to That is, the surface 437a of the film formation control unit 437 is flush with the surface 429a of the red coloring unit 429R.
  • the thickness T3 of the film formation control unit 437 is thinner than the thicknesses of the green coloring portion and the blue coloring portion (not shown) forming the color filter 429. Even in such a configuration, the surface of the portion adjacent to the display area AA in the non-display area NAA of the CF substrate 421 in the state before the CF substrate side alignment film 432 is formed by the film formation control unit 437. Since the height difference between the display area AA and the portion adjacent to the non-display area NAA is sufficiently relaxed, the film thickness changing portion 436 is arranged in the non-display area NAA without being arranged in the display area AA. Thus, the formation of the CF substrate-side alignment film 432 can be controlled.
  • Embodiment 6 of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the thickness T5 of the film formation control unit 537 is changed from the fourth embodiment.
  • movement, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate
  • the film formation control unit 537 has a thickness T5 that is substantially equal to the thickness T6 of the portion of the red coloring portion 529R that forms the color filter 529 that rides on the light shielding portion 530. It is said. Specifically, although the thickness T5 of the film formation control unit 537 is thinner than the thickness T2 of the red coloring portion 529R that forms the color filter 529, the thickness T6 of the portion of the red coloring portion 529R that rides on the light shielding portion 530 It is almost equal. Accordingly, the surface 537a of the film formation control unit 537 is flush with the surface of the portion of the red coloring portion 529R that rides on the light shielding portion 530.
  • the surface of the portion adjacent to the display area AA in the non-display area NAA of the CF substrate 521 in a state before the film formation control unit 537 forms the CF substrate-side alignment film 432. Since the height difference between the display area AA and the portion adjacent to the non-display area NAA is sufficiently relaxed, the film thickness changing portion 536 is arranged in the non-display area NAA without being arranged in the display area AA. Thus, the film formation of the CF substrate-side alignment film 532 can be controlled.
  • a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the thickness T7 of the film formation control unit 637 is changed from the above-described fourth embodiment.
  • movement, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate
  • the film formation control unit 637 has a thickness T7 that is thinner than a thickness T2 of the red coloring portion 629R that forms the color filter 629, and shields light from the red coloring portion 629R. It is made thinner than the thickness T6 of the part riding on the part 630. Accordingly, the surface 637a of the film formation control unit 637 is disposed at a position lower than the surface 629a of the red coloring portion 629R and lower than the surface of the portion of the red coloring portion 629R that rides on the light shielding portion 630. Yes.
  • the surface of the portion adjacent to the display area AA in the non-display area NAA of the CF substrate 621 in the state before the CF substrate side alignment film 632 is formed by the film formation control unit 637. Since the height difference between the display area AA and the portion adjacent to the non-display area NAA is sufficiently relaxed, the film thickness changing portion 636 is arranged in the non-display area NAA without being arranged in the display area AA. Thus, the formation of the CF substrate-side alignment film 632 can be controlled.
  • the film formation control unit 737 stacks the respective materials forming the coloring units 729 ⁇ / b> R (only the red coloring unit 729 ⁇ / b> R is illustrated) forming the color filter 729. It is formed with. Specifically, the film formation control unit 737 is made of the same material as the first colored layer 729R, the second layer 39 made of the same material as the green colored portion, and the same material as the blue colored portion. The third layer 40 and the third layer 40 are sequentially stacked. The thickness of the first layer 38 is substantially the same as the thickness of the red colored portion 729R, the second layer 39 is substantially the same as the thickness of the green colored portion, and the third layer 40 is the blue colored portion.
  • a ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
  • the material of the film formation control unit 837 is changed from the fourth embodiment.
  • action, and effect as above-mentioned Embodiment 4 is abbreviate
  • the film formation control unit 837 according to the present embodiment is made of the same material as the columnar spacer 835 as shown in FIG. Therefore, the film forming control unit 837 is formed by patterning at the same time (in the same process) when the columnar spacer 835 is patterned by photolithography.
  • the present invention is not limited to the embodiments described with reference to the above description and drawings.
  • the following embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
  • the specific thickness dimension of the film formation control unit can be appropriately changed.
  • the film formation control unit is formed so that the surface thereof is higher than the surface of the thickest colored portion in the color filter. It is preferable to set the thickness of the control unit.
  • the film formation control unit is made of the same material as the red coloring portion of the color filter.
  • the present invention also includes a filter made of the same material as the green colored portion and a film forming control portion made of the same material as the blue colored portion of the color filter.
  • the color filter has a three-color configuration of red, green, and blue.
  • a yellow colored portion is added to each of the colored portions of red, green, and blue.
  • the present invention can also be applied to a color filter having a color configuration.
  • the film formation control unit can be made of the same material as the yellow coloring unit.
  • a color filter that can transmit almost all visible light to each colored portion of red, green, and blue and has an uncolored portion having no wavelength selectivity added.
  • the present invention is also applicable to what is provided.
  • the film formation control unit can be made of the same material as the non-colored unit.
  • the film formation control unit has a three-layer structure made of the same material as the three color RGB color portions that form a color filter. Those having a two-layer structure made of the same material as the colored portions of two colors arbitrarily selected from the colored portions are also included in the present invention.
  • the present invention also includes a two-layer structure or a three-layer structure made of the same material as the two-color or three-color colored portion arbitrarily selected from four colored portions in combination with the above (3). included.
  • a two-layer structure or a three-layer structure made of the same material as two or three arbitrarily selected from three colored portions and non-colored portions is also used. Included in the invention.
  • the present invention includes the one using the film formation control unit having a four-layer structure made of the same material as the four types of colored portions described in the above (3) or (4).
  • the film formation control unit includes a layer made of the same material as at least one coloring unit arbitrarily selected from among the three coloring portions of RGB or four coloring portions. It is also possible to have a structure in which layers made of the same material as the columnar spacers are laminated.
  • the film forming control unit is configured to be made of the same material as the colored portion or the columnar spacer forming the color filter, but the resin layer (other than the color filter or the columnar spacer) on the CF substrate (for example, when there is a protrusion for controlling the alignment state of the liquid crystal in the VA liquid crystal panel, the film formation control unit may be formed of the same material as the resin layer. It is also possible to form the film formation control unit using a resin material that does not inherently exist on the CF substrate (a resin material dedicated to the film formation control unit).
  • the film formation control unit forms a frame shape that surrounds the display region over the entire circumference has been shown, but the film formation control unit is in the middle of extending along the circumferential direction of the display region.
  • the present invention can also be applied to a structure in which an opening (divided portion) is formed in the structure, that is, a structure having an end ring shape.
  • the light shielding portion is exemplified by the photosensitive resin material containing the light shielding material.
  • the light shielding portion is formed of a metal material having light shielding properties such as chromium. It doesn't matter if you do.
  • a substantially transparent synthetic resin resin substrate plastic substrate
  • the columnar spacer has a tapered columnar shape, but the columnar spacer may have a tapered prismatic shape.
  • the present invention includes those in which the diameter of the columnar spacer is constant.
  • the present invention includes a configuration in which spherical spacers (spacer beads) are dispersed in the display region instead of the columnar spacers.
  • TFT semiconductor film provided on the array substrate in addition to amorphous silicon, polycrystalline silicon (eg, CG silicon (eg, Continuous ⁇ ⁇ ⁇ Grain Silicon)) or oxide semiconductor (eg, In—Ga—Zn—O type) A semiconductor (indium gallium zinc oxide)) or the like.
  • amorphous silicon e.g, CG silicon (eg, Continuous ⁇ ⁇ ⁇ Grain Silicon)
  • oxide semiconductor eg, In—Ga—Zn—O type
  • a semiconductor indium gallium zinc oxide
  • liquid crystal display device including the one-side light incident type backlight device is illustrated, but the present invention can also be applied to a liquid crystal display device including the both-side light incident type backlight device. It is.
  • the edge light type is exemplified as the backlight device provided in the liquid crystal display device, but the present invention includes a backlight device of a direct type.
  • a transmissive liquid crystal display device including a backlight device that is an external light source has been exemplified.
  • the present invention is applied to a reflective liquid crystal display device that performs display using external light.
  • the backlight device can be omitted.
  • a TFT is used as a switching element of a liquid crystal display device.
  • the present invention can be applied to a liquid crystal display device using a switching element other than TFT (for example, a thin film diode (TFD)).
  • TFT thin film diode
  • the present invention can be applied to a liquid crystal display device for monochrome display in addition to a liquid crystal display device for color display.
  • the liquid crystal display device including the liquid crystal panel classified into the medium size is illustrated.
  • the liquid crystal display device is classified into a small size or a medium size, and a portable information terminal, a mobile phone (including a smartphone)
  • the present invention can also be applied to a liquid crystal display device including a liquid crystal panel used in various electronic devices such as notebook computers (including tablet-type notebook computers), digital photo frames, portable game machines, and electronic ink paper.
  • the present invention can also be applied to a liquid crystal display device used for an electronic device such as an electronic signboard (digital signage) or an electronic blackboard.
  • SYMBOLS 10 Liquid crystal display device (display device), 11 ... Liquid crystal panel (display panel), 20 ... Array substrate (2nd substrate), 21, 421, 521, 621 ... CF substrate (display component), 22 ... Liquid crystal, 23 ... seal part, 29, 329, 429, 529, 629, 729 ... color filter (display element), 29a, 429a, 629a ... surface, 29R, 329R, 429R, 529R, 629R, 729R ... red colored part (colored part) ), 29G, 329G... Green colored portion (colored portion), 29B, 329B...

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Abstract

CF基板21は、表示領域AAと表示領域AAを取り囲む非表示領域NAAとに区分されるガラス基板GSと、表示領域AAにおいてガラス基板GSの表面に重なる形で設けられるカラーフィルタ29と、少なくとも表示領域AAにおいてカラーフィルタ29を覆う形で設けられ、その一部に外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部36を有するCF基板側配向膜32と、非表示領域NAAにおいて表示領域AAに隣り合う形で配されるとともにガラス基板GSの表面に重なる形で設けられることで、膜厚変化部36が非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜を制御する成膜制御部37と、を備える。

Description

表示部品、表示装置、及びテレビ受信装置
 本発明は、表示部品、表示装置、及びテレビ受信装置に関する。
 従来、液晶表示装置を構成する主要部品である液晶パネルは、次のような構成とされる。すなわち、液晶パネルは、一対のガラス製の基板と、一対の基板間に挟持される間に液晶と、一対の基板の内側の板面上にそれぞれ設けられて液晶を配向させる配向膜とを少なくとも備えている。このような液晶パネルの一例として下記特許文献1に記載されたものが知られている。
特許第4768393号公報
(発明が解決しようとする課題)
 上記した特許文献1には、シール材と表示領域の間に印刷制御パターンとして、凹構造または凸構造を繰り返した構造を設けることにより、配向膜を形成する配向部材を排除するようにしたものが記載されている。
 しかしながら、液晶パネルを構成する一対の基板のうち、カラーフィルタが設けられたCF基板は、表示領域と、表示領域を取り囲む非表示領域とに区分され、このうちの表示領域には膜厚が相対的に厚いカラーフィルタが設けられているのに対して、非表示領域には膜厚が相対的に薄い遮光層が設けられている。つまり、CF基板における表示領域と非表示領域との間には、高低差が存在しているため、製造工程において配向膜をなす液体状態の材料が供給されると、その材料が表示領域側から非表示領域側へと流動し易くなっており、それに起因して表示領域と非表示領域とに跨る形で、配向膜に膜厚が外側に向けて次第に薄くなる部分が形成されることが懸念されていた。
 本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、配向膜の膜厚の均一化を図ることを目的とする。
(課題を解決するための手段)
 本発明の表示部品は、表示領域と前記表示領域を取り囲む非表示領域とに区分される基板と、前記表示領域において前記基板の表面に重なる形で設けられる表示素子と、少なくとも前記表示領域において前記表示素子を覆う形で設けられ、その一部に外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部を有する配向膜と、前記非表示領域において前記表示領域に隣り合う形で配されるとともに前記基板の表面に重なる形で設けられることで、前記膜厚変化部が前記非表示領域に配されるよう前記配向膜の成膜を制御する成膜制御部と、を備える。
 配向膜の成膜に際しては、液体状態とされる配向膜の材料を、表示素子が設けられた基板における表示領域に供給するようにしており、その材料が基板上において広がるよう流動することで配向膜が成膜されるようになっている。ここで、基板における表示領域には、その表面に重なる形で表示素子が設けられているため、表示素子の表面と基板の非表示領域における表面との間には高低差が生じており、それに起因して成膜される配向膜の一部に外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部が表示領域内に形成されることが懸念される。その点、非表示領域には、表示領域に隣り合う形で配されるとともに基板の表面に重なる形で成膜制御部が設けられることで、膜厚変化部が非表示領域に配されるよう配向膜の成膜が制御されるから、表示領域における配向膜の膜厚が均一化される。これにより、当該表示部品を用いてなされる表示に係る表示品位の向上が図られる。
 本発明の表示部品の実施態様として、次の構成が好ましい。
(1)前記成膜制御部は、前記表示領域を全周にわたって取り囲む形で設けられている。このようにすれば、配向膜の成膜に際しては、表示領域を全周にわたって取り囲む形で設けられる成膜制御部によって膜厚変化部が非表示領域に配されるよう配向膜の成膜が制御されるので、膜厚変化部が表示領域内に形成される事態がより確実に回避される。
(2)前記成膜制御部は、その表面が前記表示素子の表面よりも高い位置に配されるよう形成されている。このようにすれば、配向膜の成膜に際して、配向膜の材料が表示領域に供給されると、その配向膜の材料は、まず表示領域を全周にわたって取り囲む形で設けられるとともに表面が表示素子の表面よりも高い位置に配された成膜制御部によって表示領域内に滞留させられ、その後成膜制御部を乗り上げることで、非表示領域側へと流動する。これにより、膜厚変化部がより確実に非表示領域に配されるとともに表示領域において配向膜の膜厚がより好適に均一化される。
(3)前記基板に対して間隔を空けて対向状に貼り合わせられる第2の基板と、前記基板と前記第2の基板との間に挟持される液晶と、前記液晶を取り囲むとともに前記基板と前記第2の基板との間に介在することで前記液晶を封止するシール部と、が備えられており、前記成膜制御部は、前記シール部よりも前記表示領域寄りの位置に配されるとともに前記第2の基板との間に隙間を空けて配されている。このようにすれば、基板と第2の基板との間に挟持される液晶は、シール部によって取り囲まれることで封止されている。基板に設けられた成膜制御部は、第2の基板との間に隙間を空けて配されているので、例えば基板と第2の基板とを貼り合わせるのに伴って、表示領域側に滴下された液晶が押し拡げられる際には、その液晶が成膜制御部と第2の基板との間に空けられた隙間を通ることで、シール部にまで到達し易くなっている。これにより、両基板の間においてシール部に取り囲まれた空間内に空気が残存し難くなるので、液晶中に気泡が発生し難くなり、もって当該表示部品を用いてなされる表示に係る表示品位が低下し難いものとされる。
(4)少なくとも前記非表示領域に配されるとともに前記基板の表面に重なる形で設けられ且つ高さが前記表示素子よりも低い遮光部を備えており、前記成膜制御部は、前記非表示領域において前記遮光部の表面に重なる形で設けられている。このようにすれば、少なくとも非表示領域において基板の表面に重なる形で設けられる遮光部は、その高さが表示素子よりも低いものとされているため、表示領域における表示素子の表面と、非表示領域における遮光部の表面との間には高低差が生じており、それに起因して成膜される配向膜の一部に膜厚変化部が形成され易いものとされる。その点、非表示領域には、遮光部の表面に重なる形で成膜制御部が設けられることで、膜厚変化部が非表示領域に配されるよう配向膜の成膜が制御されるから、表示領域における配向膜の膜厚が好適に均一化される。
(5)前記成膜制御部は、前記表示素子と同じ材料からなり、その厚みが前記表示素子の厚みと等しいものとされる。このようにすれば、当該表示部品の製造に際して、表示素子を形成する工程にて成膜制御部を形成することができる。しかも、表示素子及び成膜制御部を例えばフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成する場合には、表示素子及び成膜制御部の厚みが等しくされていることで、フォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクのような複雑なものを使用する必要がないものとされる。以上により、成膜制御部を低コストでもって容易に形成することができる。
(6)前記表示素子は、特定の波長領域の光を選択的に透過するカラーフィルタからなるものとされるのに対し、前記成膜制御部は、前記カラーフィルタと同じ材料からなるものとされる。仮に成膜制御部を遮光部と同じ材料からなる構成とし、遮光部及び成膜制御部を例えばフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成した場合には、フォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクを使用する必要が生じる。これに対し、成膜制御部がカラーフィルタと同じ材料からなる構成とされることで、フォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクを使用する必然性が生じることが避けられるので、成膜制御部を低コストでもって容易に形成することが可能となる。
(7)前記カラーフィルタは、前記表示領域においてマトリクス状に平面配置される複数の着色部から構成されており、前記成膜制御部は、前記着色部のうち前記表示領域の端に位置するものに連なる形で設けられている。このようにすれば、仮に成膜制御部が表示領域の端に位置する着色部から離れた形で設けられた場合に比べると、成膜制御部と表示領域の端に位置する着色部との間に段差及び隙間が生じることが避けられるから、成膜される配向膜の断面形状が複雑化し難くなり、それにより配向膜の膜厚の均一性を高く保つ上でより好適となる。
(8)少なくとも前記非表示領域に配されるとともに前記基板の表面に重なる形で設けられる遮光部を備えており、前記成膜制御部は、前記非表示領域において前記遮光部と重なる形で配されるとともに前記遮光部と同じ材料からなるものとされる。仮に成膜制御部が遮光部とは異なる材料からなる構成とした場合には、その材料が遮光部に対する濡れ性などの条件を満たす必要があるものの、成膜制御部を遮光部と同じ材料からなる構成とすれば、そのような条件を考慮する必要がなくなる。
(9)前記基板に対して間隔を空けて対向状に貼り合わせられる第2の基板と、前記基板と前記第2の基板との間に挟持される液晶と、前記液晶を取り囲むとともに前記基板と前記第2の基板との間に介在することで前記液晶を封止するシール部と、が備えられており、前記成膜制御部は、前記シール部に対して間隔を空けて前記表示領域寄りの位置に配されている。このようにすれば、基板と第2の基板との間に挟持される液晶は、シール部によって取り囲まれることで封止されている。成膜制御部は、シール部に対して間隔を空けて表示領域寄りの位置に配されているから、配向膜を成膜する際に、例えば配向膜の材料が非表示領域において成膜制御部を超えてシール部側に広がった場合でも、当該材料がシール部にまで到達し難いものとされる。これにより、配向膜がシール部と重なる形で配置される事態が生じ難くなり、シール性能に悪影響が及ぶ事態が生じ難くなっている。
 本発明の表示装置は、上記した表示部品を備える。このような表示装置によれば、成膜制御部により膜厚変化部が非表示領域に配されるよう配向膜の成膜が制御されているので、当該表示装置における表示品位の向上が図られる。
 本発明のテレビ受信装置は、上記した表示装置を備える。このようなテレビ受信装置によれば、表示装置における表示品位の向上が図られているから、優れた表示品位のテレビ画像を表示することができる。
(発明の効果)
 本発明によれば、配向膜の膜厚の均一化を図ることができる。
本発明の実施形態1に係るテレビ受信装置の概略構成を示す分解斜視図 テレビ受信装置が備える液晶表示装置の概略構成を示す分解斜視図 液晶表示装置をその短辺方向(Y軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 アレイ基板の平面構成を示す拡大平面図 CF基板の平面構成を示す平面図 CF基板の角部における平面構成を示す平面図 液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 図7の拡大断面図 CF基板の製造工程において、対向電極を成膜し、配向膜を成膜する前の状態を示す断面図 CF基板の製造工程において、表示領域に配向膜の材料を供給した状態を示す断面図 CF基板の製造工程において、表示領域に配向膜の材料を供給した状態を示す断面図 液晶パネルの製造工程において、CF基板とアレイ基板とを貼り合わせる前の状態を示す断面図 本発明の実施形態2に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 本発明の実施形態3に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 本発明の実施形態4に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 CF基板の角部における平面構成を示す平面図 本発明の実施形態5に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 本発明の実施形態6に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 本発明の実施形態7に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 本発明の実施形態8に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図 本発明の実施形態9に係る液晶パネルの外端部をその長辺方向(X軸方向)に沿って切断した断面構成を示す断面図
 <実施形態1>
 本発明の実施形態1を図1から図12によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置10について例示する。なお、各図面の一部にはX軸、Y軸及びZ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図3に示す上側を表側とし、同図下側を裏側とする。
 本実施形態に係るテレビ受信装置TVは、図1に示すように、液晶表示装置10と、当該液晶表示装置10を挟むようにして収容する表裏両キャビネットCa,Cbと、電源Pと、チューナTと、スタンドSとを備えて構成される。液晶表示装置(表示装置)10は、全体として横長(長手)の方形状(矩形状)をなし、縦置き状態で収容されている。この液晶表示装置10は、図2に示すように、表示パネルである液晶パネル11と、外部光源であるバックライト装置(照明装置)12とを備え、これらが枠状のベゼル13などにより一体的に保持されるようになっている。
 先に、液晶パネル11の概略構成について説明する。液晶パネル11は、図7に示すように、一対の透明な(透光性を有する)基板20,21と、一対の基板20,21間に挟持されるとともに電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶材料を含む液晶22と、液晶22を取り囲むとともに一対の基板20,21間に介在することで液晶22を封止するシール部(封止部)23と、を少なくとも有している。一対の基板20,21は、それぞれガラス基板(基板)GSを備え、ガラス基板GS上に所定の構造物が積層された構成とされる。液晶パネル11を構成する両基板20,21のうち裏側(バックライト装置12側)に配されるものが、アレイ基板(第2の基板、TFT基板、アクティブマトリクス基板)20とされ、表側(光出射側)に配されるものが、CF基板(表示部品、対向基板)21とされている。この液晶パネル11は、画面中央側にあって画像が表示可能な表示領域(アクティブエリア)AAと、画面外周端側にあって表示領域AAの周りを取り囲む枠状(額縁状)をなす非表示領域(ノンアクティブエリア)NAAとに区分されている。また、この液晶パネル11の画面サイズは、例えば32インチ程度とされ、一般的には中型に分類される大きさとされているが、それ以外にも例えば10数インチから70数インチの範囲で適宜に変更することが可能である。なお、両基板20,21の外面側には、表裏一対の偏光板(図示せず)がそれぞれ貼り付けられている。
 続いて、バックライト装置12について説明する。バックライト装置12は、図2に示すように、表側、つまり光出射側(液晶パネル11側)に開口する光出射部14cを有した略箱型をなすシャーシ14と、シャーシ14の光出射部14cを覆う形で配される光学部材15と、次述する導光板19を表側から押さえるフレーム16とを備えている。さらにはシャーシ14内には、光源であるLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)17が実装されたLED基板(光源基板)18と、LED17からの光を導光して光学部材15(液晶パネル11、光出射側)へと導く導光板19とが収容されている。そして、このバックライト装置12は、その長辺側の両端部のうちの一方(図2に示す奥側、図3に示す右側)の端部にLED基板18が配されており、そのLED基板18に実装された各LED17が液晶パネル11における長辺側の一端部寄りに偏在していることになる。このように、本実施形態に係るバックライト装置12は、導光板19に対して片側からのみ入光される片側入光タイプのエッジライト型(サイドライト型)とされている。以下では、バックライト装置12の各構成部品について順次に説明する。
 シャーシ14は、例えばアルミニウム板などの金属板からなり、図2及び図3に示すように、液晶パネル11と同様に横長の方形状をなす底板14aと、底板14aにおける各辺(一対の長辺及び一対の短辺)の外端からそれぞれ表側に向けて立ち上がる側板14bとからなる。シャーシ14(底板14a)は、その長辺方向がX軸方向と一致し、短辺方向がY軸方向と一致している。底板14aの裏側には、図示しないコントロール基板やLED駆動回路基板などの基板類が取り付けられている。また、側板14bには、フレーム16及びベゼル13がねじ止め可能とされる。
 光学部材15は、図2に示すように、液晶パネル11及びシャーシ14と同様に平面に視て横長の方形状をなしている。光学部材15は、導光板19の表側(光出射側)に載せられていて液晶パネル11と導光板19との間に介在して配されることで、導光板19からの出射光を透過するとともにその透過光に所定の光学作用を付与しつつ液晶パネル11に向けて出射させる。光学部材15は、互いに積層される複数枚(本実施形態では3枚)のシート状の部材からなるものとされ、具体的には、例えば拡散シート、レンズシート、反射型偏光シートなどの中から適宜に選択して使用されている。なお、図3では、都合上3枚の光学部材15を1枚に簡略化して図示している。
 フレーム16は、図2に示すように、導光板19の外周端部に沿って延在する枠状(額縁状)に形成されており、導光板19の外周端部をほぼ全周にわたって表側から押さえることが可能とされる。フレーム16における一対の長辺部分のうち、LED基板18(LED17)と対向する一方の長辺部分における内面には、図3に示すように、光を反射させる第1反射シートR1が取り付けられている。第1反射シートR1は、フレーム16の長辺部分においてほぼ全長にわたって延在する大きさを有しており、導光板19におけるLED17と対向状をなす端部とLED基板18とを一括して表側から覆うものとされる。また、フレーム16は、液晶パネル11における外周端部を裏側から受けることができる。
 LED17は、図2及び図3に示すように、LED基板18に固着される基板部上にLEDチップを樹脂材により封止した構成とされる。LEDチップは、主発光波長が1種類とされ、具体的には、青色光を単色発光するものが用いられている。その一方、LEDチップを封止する樹脂材には、LEDチップから発せられた青色の光により励起されて所定の色を発光する蛍光体が分散配合されており、LED17は全体として概ね白色光を発するものとされる。このLED17は、LED基板18に対する実装面とは反対側の面が主発光面となる、いわゆる頂面発光型とされている。
 上記したLED17が複数実装されるLED基板18は、図2及び図3に示すように、シャーシ14の長辺方向(X軸方向)に沿って延在する、長手の板状をなしており、シャーシ14における一方の長辺側の側板14bに対して取り付けられている。LED基板18は、内側の板面が導光板19の端面と対向状をなしており、そこに複数のLED17がLED基板18の長辺方向に沿ってほぼ等間隔でもって間欠的に並列する形で実装されている。LED基板18に実装された各LED17は、その光軸がY軸方向(液晶パネル11の板面に並行する方向)とほぼ一致する。
 導光板19は、屈折率が空気よりも十分に高く且つほぼ透明な合成樹脂材料(例えばアクリルなど)からなり、図2及び図3に示すように、液晶パネル11及びシャーシ14の底板14aと同様に平面に視て横長の方形状をなす平板状とされている。導光板19における表側の板面は、内部の光を光学部材15及び液晶パネル11側に向けて出射させる光出射面19aとなっている。導光板19における板面に対して隣り合う外周端面であってX軸方向に沿って長手状をなす一対の長辺側の端面のうち、一方(図2に示す奥側、図3に示す右側)の端面は、LED17(LED基板18)と所定の空間を空けて対向状をなしており、これがLED17から発せられた光が入射される光入射面19bとなっている。そして、導光板19は、LED17からY軸方向に沿って発せられた光を光入射面19bから導入するとともに、その光を内部で伝播させつつ光学部材15側(表側、光出射側)へ向くよう立ち上げて光出射面19aから出射させることが可能とされる。また、LED17と光入射面19bとの間に保有される空間の表側には、既述した第1反射シートR1が配されているのに対し、同空間の裏側には、第1反射シートR1との間で同空間を挟み込む形で第2反射シートR2が配されている。両反射シートR1,R2は、上記空間に加えて導光板19におけるLED17側の端部及びLED17をも挟み込む形で配されている。これにより、LED17からの光を両反射シートR1,R2間で繰り返し反射することで、光入射面19bに対して効率的に入射させることができる。
 導光板19の板面のうち、光出射面19aとは反対側の板面19cには、図3に示すように、導光板19内の光を反射して表側へ立ち上げることが可能な第3反射シートR3がその概ね全域を覆う形で設けられている。言い換えると、第3反射シートR3は、シャーシ14の底板14aと導光板19との間に挟まれた形で配されている。なお、導光板19の反対板面19cには、導光板19内の光を光出射面19aに向けて反射させることで光出射面19aから出射させるための光反射部からなる光反射パターン(図示せず)が形成されている。
 続いて、液晶パネルを構成する一対の基板20,21について順次に詳しく説明する。先にアレイ基板20について説明する。アレイ基板20の表示領域AAにおける内面側(液晶22側、CF基板21との対向面側)には、図4に示すように、3つの電極24a~24cを有するスイッチング素子であるTFT(Thin Film Transistor)24及び画素電極25が、アレイ基板20の板面に沿って行列状(マトリクス状)に多数個ずつ並んで設けられるとともに、これらTFT24及び画素電極25の周りには、格子状をなすゲート配線26及びソース配線27が取り囲むようにして配設されている。ゲート配線26及びソース配線27は、共に金属材料からなり、互いに交差する部位間には図示しない絶縁膜が介在している。ゲート配線26とソース配線27とがそれぞれTFT24のゲート電極24aとソース電極24bとに接続されている。TFT24と画素電極25との間には、図7に示すように、ほぼ透明で且つ絶縁性を有する樹脂材料からなる絶縁膜(有機絶縁膜)34が介在する形で設けられている。絶縁膜34は、アレイ基板20のほぼ全域にわたってベタ状に形成されている。画素電極25は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電膜からなり、ゲート配線26及びソース配線27によって取り囲まれた領域において平面に視て縦長の方形状をなしている。この画素電極25は、絶縁膜34に部分的に開口する形で設けられたコンタクトホールを通してドレイン配線(コンタクトホール共々図示せず)によってTFT24のドレイン電極24cに接続されている。絶縁膜34及び画素電極25の表面には、液晶22に含まれる液晶分子を配向させるためのアレイ基板側配向膜28が液晶22に臨む形で形成されている。アレイ基板側配向膜28は、例えばポリイミドからなるものとされており、アレイ基板20における表示領域AAと非表示領域NAAとに跨る範囲にわたるようベタ状に形成され、詳しくは表示領域AAの全域と非表示領域NAAの内周側部分(表示領域AAに隣り合う部分)とにわたって配されている。このアレイ基板側配向膜28は、特定の波長領域の光(例えば紫外線など)が照射されることで、その光の照射方向に沿って液晶分子を配向させることが可能な光配向膜とされる。なお、図7は、液晶パネル11における外端部付近を、表示領域AAから非表示領域NAAに跨る形で切断した端面図であり、TFT24を簡略化して図示するとともに、ソース配線27の図示を省略している。
 アレイ基板20には、図4に示すように、ゲート配線26に並行するとともに画素電極25に対して平面に視て重畳する容量配線(補助容量配線、蓄積容量配線、Cs配線)33が設けられている。容量配線33は、Y軸方向についてゲート配線26と交互に配されている。ゲート配線26がY軸方向に隣り合う画素電極25の間に配されているのに対し、容量配線33は、各画素電極25におけるY軸方向のほぼ中央部を横切る位置に配されている。このアレイ基板20の端部には、ゲート配線26及び容量配線33から引き回された端子部及びソース配線27から引き回された端子部が設けられており、これらの各端子部には、図示しないコントロール基板から各信号または基準電位が入力されるようになっており、それにより行列状に並列配置された各TFT24の駆動が個別に制御される。
 次に、CF基板21について説明する。CF基板21における内面側(液晶22側、アレイ基板20との対向面側)には、図5及び図6に示すように、表面に重なる形でカラーフィルタ29及び遮光部(ブラックマトリクス)30が設けられている。このうち、カラーフィルタ29は、相対的に上層側に、遮光部30は、相対的に下層側にそれぞれ配されている(図7)。カラーフィルタ29は、感光性樹脂材料に着色のための顔料を含有させてなり、CF基板21に製造工程において既知のフォトリソグラフィ法によってパターニングされることで形成されている。カラーフィルタ29は、CF基板21の表示領域AAにおいて、アレイ基板20側の各画素電極25と平面に視て重畳する位置に行列状(マトリクス状)に平面配置される多数の着色部29R,29G,29Bから構成されている。各着色部29R,29G,29Bは、その外形が対向する画素電極25の外形に倣って平面に視て縦長の方形状をなしており、対向する画素電極25と共に画素(単位画素)を構成している。カラーフィルタ29は、赤色、緑色、青色をそれぞれ呈する各着色部29R,29G,29Bが行方向(X軸方向)に沿って交互に繰り返し並ぶことで着色部群を構成し、その着色部群が列方向(Y軸方向)に沿って多数並ぶ配置とされる。従って、カラーフィルタ29は、X軸方向について隣り合う着色部29R,29G,29Bが互いに異なる色を呈するのに対し、Y軸方向について隣り合う着色部29R,29G,29Bが同色を呈するものとされる。詳しくは、CF基板21の表示領域AAにおいては、図5及び図6に示す左端に赤色の着色部29Rが、その右隣に緑色の着色部29Gが、さらにその右隣に青色の着色部29Bがそれぞれ配されており、また図5及び図6に示す右端に青色の着色部29Bが、その左隣に緑色の着色部29Gが、さらにその左隣に赤色の着色部29Rがそれぞれ配されている。カラーフィルタ29を構成する各着色部29R,29G,29Bは、特定の波長領域の光を選択的に透過するものとされる。具体的には、赤色の着色部(赤色着色部)29Rは、図9に示すように、赤色の波長領域(約600nm~約780nm)の光、つまり赤色光を選択的に透過する。緑色の着色部(緑色着色部)29Gは、緑色の波長領域(約500nm~約570nm)の光、つまり緑色光を選択的に透過する。青色の着色部(青色着色部)29Bは、青色の波長領域(約420nm~約500nm)の光、つまり青色光を選択的に透過する。
 遮光部30は、感光性樹脂材料に遮光材料(例えばカーボンブラック)を含有させることで高い遮光性を有しており、CF基板21に製造工程において既知のフォトリソグラフィ法によってパターニングされることで形成されている。遮光部30は、その膜厚がカラーフィルタ29をなす各着色部29R,29G,29Bの膜厚よりも薄いものとされる(図7)。遮光部30は、図5及び図6に示すように、CF基板21の表示領域AAにおいて、互いに隣り合う各着色部29R,29G,29B間を仕切るよう配されることで画素間の混色を防止する画素間遮光部(格子状遮光部)30aと、CF基板21の非表示領域NAAにおいて、額縁状をなす額縁状遮光部30bとから構成されている。このうち、画素間遮光部30aは、アレイ基板20側のゲート配線26及びソース配線27に対して平面に視て重畳するよう格子状に形成されている。言い換えると、画素間遮光部30aは、カラーフィルタ29をなす各着色部29R,29G,29Bを個別に取り囲む枠状部分を、X軸方向及びY軸方向に沿って多数個ずつ連ねた構成とされている。画素間遮光部30aをなす枠状部分における内周端部と、各着色部29R,29G,29Bにおける外周端部とは、互いに重なり合う形で配されており、画素間遮光部30a側の重畳部が下層側に、各着色部29R,29G,29B側の重畳部が上層側にそれぞれ配されている。なお、各着色部29R,29G,29B側の重畳部(乗り上げ部分)は、画素間遮光部30aとは重畳しない非重畳部に比べて膜厚が薄いものとされる。額縁状遮光部30bは、CF基板21の非表示領域NAAのほぼ全域にわたって配されるようベタ状に形成されており、平面に視て画素間遮光部30aを全周にわたって取り囲む額縁状(無端環状)をなしている。
 CF基板21におけるカラーフィルタ29及び遮光部30の表面には、図7に示すように、アレイ基板20側の画素電極25と対向する対向電極31が設けられている。対向電極31は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電膜からなり、CF基板21における表示領域AAの全域に加えて、非表示領域NAAの一部(表示領域AA側の部分)にわたる形でベタ状に形成されており、カラーフィルタ29の全域と遮光部30の一部(額縁状遮光部30bの外周側部分を除いた部分)を覆っている。この対向電極31には、例えば一定の基準電位(共通電位)が供給されるので、各画素電極25に各TFT24を介してそれぞれ所定の電位を供給することで、両電極25,31の間に所定の電位差を生じさせることができる。両電極25,31間に生じる電位差に基づいて、液晶22に作用する電界によって液晶分子の配向状態が制御されるとともに、液晶パネル11の透過光量が各画素毎に個別に制御される。もって、液晶パネル11の表示領域AAにカラー画像が適切な階調でもって表示されるようになっている。なお、図5及び図6では、対向電極31の図示を省略している。
 CF基板21の表示領域AAにおける対向電極31の表面には、図7に示すように、両基板20,21間のセルギャップ(液晶22の厚さ)を一定に保持するための柱状スペーサ(フォトスペーサ)35が設けられている。柱状スペーサ35は、ほぼ透明な感光性樹脂材料からなり、CF基板21に製造工程において既知のフォトリソグラフィ法によってパターニングされることで形成されている。柱状スペーサ35は、CF基板21における対向電極31の表面からアレイ基板20側に向けて立ち上がる先細り状の円柱形状をなしており、その立ち上がり先端部がアレイ基板20の内面(アレイ基板側配向膜28の表面)に当接することで、互いに対向するアレイ基板20とCF基板21との間の間隔、つまりセルギャップを一定に保持することができる。柱状スペーサ35は、図6に示すように、遮光部30における画素間遮光部30aと平面に視て重畳する位置に配されており、詳しくは画素間遮光部30aのうち各着色部29R,29G,29Bを個別に取り囲む枠状部分の各角部と平面に視て重畳する位置に配されている。また、両基板20,21は、既述した液晶22を取り囲むシール部23によってもそのセルギャップが保持されている。シール部23は、非表示領域NAAにおける外周端付近に配されており、アレイ基板20における絶縁膜34と、CF基板21の額縁状遮光部30bにおける外周側部分及び対向電極31の外周端部とに対して重なる配置とされている。なお、図5及び図6は、CF基板21の平面図であるものの、カラーフィルタ29や遮光部30に対するシール部23の平面に視た位置関係を表すため、シール部23を図示している。
 そして、対向電極31の表面には、図7に示すように、液晶22に含まれる液晶分子を配向させるためのCF基板側配向膜(配向膜)32が液晶22に臨む形で形成されている。CF基板側配向膜32は、例えばポリイミドからなるものとされており、CF基板21における表示領域AAと非表示領域NAAとに跨る範囲にわたるようベタ状に形成され、詳しくは表示領域AAの全域と非表示領域NAAの内周側部分(表示領域AAに隣り合う部分)とにわたって配されている。このCF基板側配向膜32は、特定の波長領域の光(例えば紫外線など)が照射されることで、その光の照射方向に沿って液晶分子を配向させることが可能な光配向膜とされる。なお、図5及び図6では、CF基板側配向膜32の図示を省略している。
 ところで、CF基板21の表示領域AAには、図7に示すように、相対的に膜厚が厚いカラーフィルタ29が設けられているのに対し、非表示領域NAAには、相対的に膜厚が薄い遮光部30の額縁状遮光部30bが設けられており、これらの表面の間には高低差が生じている。これに対して、CF基板側配向膜32は、その成膜に際して液体状態とされる材料を、CF基板21の表示領域AAに対して図示しないインクジェット装置により供給し、供給された材料がCF基板21上にて広がるよう流動することで成膜されるようになっている。このとき、上記した高低差に起因してCF基板側配向膜32の外周端部には、外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部36が形成され易くなっている。この膜厚変化部36は、その表面がCF基板側配向膜32における中央側から外端側へ向けて下り勾配(外端側から中央側へ向けて上り勾配)となる傾斜状をなしている。膜厚変化部36は、CF基板側配向膜32の外周端部の一部または全域に形成され得るものとされる。CF基板側配向膜32の材料は、光の吸収特性に波長依存性があり、特定の波長領域の光を他の波長領域の光に比べて多く吸収する性質を有する。従って、膜厚変化部36では、上記した特定の波長領域の光に係る吸収量が、膜厚が一定とされる部分(膜厚均等部)とは異なっており、それに起因して膜厚が一定とされる部分とは透過光に係る色味が異なってしまう。このため、膜厚変化部36が表示領域AAに存在すると、表示画像に色ムラが生じ、表示品位が著しく低下することが懸念される。なお、アレイ基板20に関しては、平坦化膜としても機能する絶縁膜34が設けられていることもあって、表示領域AAと非表示領域NAAとで表面に殆ど高低差が生じていないため、アレイ基板側配向膜28には上記のような膜厚変化部36が殆ど形成されない、若しくは形成されたとしても膜厚の変化量がごく小さなものとなっており、色ムラを生じさせることは殆どないものとされる。
 そこで、本実施形態に係るCF基板21には、図5から図7に示すように、非表示領域NAAにおいて表示領域AAに隣り合う形で配されるとともに、CF基板21の表面に重なる形(CF基板21の表面から張り出す形)で成膜制御部37が設けられている。この成膜制御部37により、CF基板側配向膜32を成膜する前の状態において、CF基板21の非表示領域NAAにおける表示領域AAに隣り合う部分の表面と、表示領域AAにおける非表示領域NAAに隣り合う部分(カラーフィルタ29のうち表示領域AAの外端に位置する部分)との間の高低差が緩和されるので、膜厚変化部36が表示領域AAに配されることなく、非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜を制御することができる。これにより、表示領域AAにおけるCF基板側配向膜32の膜厚が均一なものとなるので、表示領域AAにおけるCF基板側配向膜32の透過光に色ムラが生じることが避けられる。もって、表示画像に色ムラが生じ難くなり、表示品位を高いものとすることができる。以下、成膜制御部37について詳しく説明する。
 成膜制御部37は、図5から図7に示すように、CF基板21の非表示領域NAAにおける内周側部分に配されており、非表示領域NAAの外周側部分に配されたシール部23と表示領域AAとの間に挟み込まれた形で配置されている。詳しくは、成膜制御部37は、CF基板21の非表示領域NAAにおける内周端位置(表示領域AAの外周側に隣接する位置)に配されるとともに遮光部30の額縁状遮光部30bの表面に重なる形(平面に視て重畳する形)で設けられており、額縁状遮光部30bの平面形状に倣って表示領域AA(画素間遮光部30a及びカラーフィルタ29)を全周にわたって取り囲む額縁状(無端環状)をなしている。このような額縁状をなす成膜制御部37によって、CF基板側配向膜32は、全周にわたって成膜が制御されるから、その外周端部に形成される膜厚変化部36が非表示領域NAAに形成される確実性がより高いものとなる。これにより、膜厚変化部36が表示領域AA内に形成される事態がより確実に生じ難くなる。その上で、成膜制御部37は、図8に示すように、その表面37aがカラーフィルタ29をなす各着色部29R,29G,29Bの表面29aよりも高い位置(Z軸方向についてアレイ基板20に近い位置)となるよう形成されている。これにより、CF基板側配向膜32の成膜時に、液体状とされる材料に対して成膜制御部37が堰として機能するので、成膜制御部37を乗り越えるだけの量の材料を供給するようにすれば、成膜制御部37により取り囲まれた表示領域AAにおいてCF基板側配向膜32の膜厚が均一化され易くなる。
 成膜制御部37は、図5から図7に示すように、カラーフィルタ29と同じ材料からなるものとされる。詳しくは、成膜制御部37は、カラーフィルタ29をなす各着色部29R,29G,29Bのうち、赤色の着色部29Rと同じ材料からなり、赤色の着色部29Rをフォトリソグラフィ法によりパターニングする際に同時に(同一工程にて)パターニングされている。そして、成膜制御部37は、図8に示すように、その厚みT1が赤色の着色部29Rの厚みT2と等しいものとされる。これにより、赤色の着色部29R及び成膜制御部37をフォトリソグラフィ法によりパターニングする際に用いるフォトマスクに関して、赤色の着色部29Rをパターニングするための透光部位(遮光部位)と、成膜制御部37をパターニングするための透光部位(遮光部位)とを同じ構造とすることができる。つまり、ハーフトーンマスクやグレートーンマスクなどのような複雑な構造を持つフォトマスクを使用する必要がなくなるので、フォトマスクに係るコストを低減させることができるとともに露光不良などが生じ難くなって容易に成膜制御部37を形成することができる。しかも、成膜制御部37は、カラーフィルタ29をなす各着色部29R,29G,29Bのうち、表示領域AAの端に位置するものに連なる形で設けられている。これにより、成膜制御部37と、表示領域AAの端に位置する着色部29R,29G,29Bとの間に段差及び隙間が生じることが避けられるから、成膜されるCF基板側配向膜32の断面形状が複雑化し難くなり、それによりCF基板側配向膜32の膜厚の均一性をより高いものとすることができる。詳しくは、表示領域AAの端に位置する着色部29R,29G,29Bには、その一部に赤色の着色部29Rが含まれているので、成膜制御部37は、表示領域AAの端に位置する赤色の着色部29Rに対して界面を有することなく連続的に繋げられている。一方、成膜制御部37は、表示領域AAの端に位置する緑色の着色部29G及び青色の着色部29Bに対して界面を有する形で連ねられている。なお、既述した通り、成膜制御部37は、カラーフィルタ29と同じ材料からなるものとされているから、その表面が対向電極31によって全域にわたって覆われている。
 成膜制御部37は、図8に示すように、CF基板21の非表示領域NAAにおいてシール部23よりも表示領域AA寄りの位置に配されるとともに、アレイ基板20との間に隙間Cを空けて配されている。詳しくは、成膜制御部37の厚みT1は、CF基板21とアレイ基板20との間の間隔よりも十分に薄いものとされており、成膜制御部37の厚みT1に遮光部30、対向電極31及びCF基板側配向膜32の各厚みを加えた寸法もCF基板21とアレイ基板20との間の間隔より薄くなっている。つまり、成膜制御部37に対して積層される対向電極31及びCF基板側配向膜32は、アレイ基板20側の構造物(絶縁膜34及びアレイ基板側配向膜28)に対して隙間C1を空けて配されており、当該隙間C1を通して液晶22をなす液晶材料が表示領域AA側と非表示領域NAAとの間を自由に行き来することが可能とされている。従って、液晶パネル11の製造に際して両基板20,21を貼り合わせる際に、表示領域AA側に滴下された液晶22を表示領域AA側から非表示領域NAA側へと自由に流動させ、シール部23へと容易に到達させることができる。これにより、両基板20,21間においてシール部23に取り囲まれた空間内に空気が残存し難くなるので、液晶22中に気泡が発生する事態が生じ難くなり、表示画像に係る表示品位の低下が生じ難くなる。
 成膜制御部37は、図8に示すように、CF基板21の非表示領域NAAにおいてシール部23との間に間隔C2を空けて表示領域AA寄りの位置に配されている。このように、成膜制御部37は、シール部23に対して間隔C2を空けて表示領域AA寄りの位置に配されているから、CF基板側配向膜32を成膜する際に、例えばCF基板側配向膜32の材料が非表示領域NAAにおいて成膜制御部37を超えてシール部23側に広がった場合でも、当該材料がシール部23にまで到達し難いものとされる。つまり、シール部23と成膜制御部37との間に空けられた間隔C2が、CF基板側配向膜32の成膜時に表示領域AA側から非表示領域NAA側へ向けて流動する材料に対して空間的なバッファとして機能することになる。これにより、CF基板側配向膜32がシール部23と重なる形で配置される事態が生じ難くなるので、シール性能に悪影響が及ぶ事態が生じ難くなっている。
 本実施形態は以上のような構造であり、続いて液晶パネル11の製造方法を説明する。本実施形態に係る液晶パネル11は、アレイ基板20を製造するアレイ基板製造工程と、CF基板21を製造するCF基板製造工程と、アレイ基板20とCF基板21とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、を経ることで製造されるものとされる。本実施形態ではアレイ基板製造工程について説明を省略し、CF基板製造工程及び貼り合わせ工程について詳しく説明する。
 CF基板製造工程について説明する。CF基板製造工程では、CF基板21をなすガラス基板GS上に遮光部30をフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成した後に、カラーフィルタ29及び成膜制御部37をフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成する。ここで、カラーフィルタ29には、赤色の着色部29R、緑色の着色部29G及び青色の着色部29Bが含まれているので、これらが所定の順序でもって適宜に形成されるのであるが、赤色の着色部29Rを形成する際に同時に成膜制御部37を形成する。その後、ベタ状のパターンである対向電極31を形成したら、続いて、図9に示すように、柱状スペーサ35をフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成する。そして、CF基板側配向膜32を図示しないインクジェット装置を用いて形成する。
 CF基板側配向膜32の成膜に際しては、インクジェット装置に備えられるノズルからCF基板側配向膜32の材料である液滴PIMをCF基板21をなすガラス基板GS上に吐出し、表示領域AAに着弾させる。CF基板21をなすガラス基板GSの表示領域AAに着弾した液滴PIMは、図10に示すように、対向電極31の表面において着弾位置から濡れ広がることで、同様に広がる隣の液滴PIMと繋がることで、CF基板側配向膜32を構成していく。ここで、表示領域AAにおける最も外端寄りの位置に着弾した液滴PIMは、非表示領域NAA側へと濡れ広がる過程で、カラーフィルタ29の表面29aよりも表面37aが高くされた成膜制御部37に乗り上げることになる。つまり、液滴PIMは、成膜制御部37に乗り上げるまでは表示領域AA内に滞留させられているので、表示領域AA内においてはCF基板側配向膜32の膜厚が均一化され易くなっている。言い換えると、表示領域AAに供給するCF基板側配向膜32の材料(液滴PIM)の量は、同材料が成膜制御部37に乗り上げて非表示領域NAAにまで広がるよう設定されるのが、表示領域AA内におけるCF基板側配向膜32の膜厚均一性を高める上で好ましい。しかも、成膜制御部37は、表示領域AAを全周にわたって取り囲む形で配されているので、CF基板側配向膜32の液滴PIMに対して堰として機能し、表示領域AA内におけるCF基板側配向膜32の膜厚を均一化する上でより好ましい。そして、成膜制御部37に乗り上げたCF基板側配向膜32の液滴PIMが固化し、そこに膜厚変化部36が形成されたとしても、その膜厚変化部36は表示領域AAではなく非表示領域NAAに配されることになるので、膜厚変化部36に起因する色ムラが表示領域AA内において生じることが避けられる。これにより、表示領域AAに表示される画像に係る表示品位が高いものとされる。
 インクジェット装置によってCF基板21をなすガラス基板GSの表示領域AAに供給されるCF基板側配向膜32の液滴PIMの量が図10に示したものよりも多い場合には、図11に示すように、CF基板側配向膜32の液滴PIMが成膜制御部37を乗り越える可能性がある。この場合でも、成膜制御部37とシール部23(図8を参照)との間には、間隔C2が空けられているから、CF基板側配向膜32の液滴PIMがシール部23の形成予定位置にまで到達する事態が生じ難いものとされる。これにより、CF基板側配向膜32がシール部23と重なる配置となる事態が避けられるので、シール部23のシール性能に悪影響が及ぶ事態が生じ難くなっている。
 次に貼り合わせ工程について説明する。貼り合わせ工程では、図12に示すように、CF基板21の非表示領域NAAにおける外周側部分にシール部23をなす材料を図示しないシールディスペンサ装置によって描画形成した後、CF基板21の表示領域AAに液晶22をなす液晶材料の液滴LCMを所定の間隔を空けつつ多数滴下する。そして、CF基板21に対してアレイ基板20を対向状に配置し、板面に沿う方向について位置合わせしつつアレイ基板20をCF基板21に貼り合わせる。貼り合わせが進行すると、液晶22をなす液晶材料の液滴LCMは、両基板20,21間にて押し拡げられる。このとき、非表示領域NAAにおいて表示領域AAを取り囲む形で額縁状をなす成膜制御部37上に積層された対向電極31及びCF基板側配向膜32とアレイ基板20との間には、隙間C1が空けられているので、液晶22をなす液晶材料の液滴LCMは、この隙間C1を通って表示領域AA側から非表示領域NAA側へと流動し、シール部23に到達する。これにより、両基板20,21間の空間には、表示領域AA及び非表示領域NAAに万遍なく液晶22が充填され、同空間に空気が残存する事態が生じ難くなっているので、液晶22中に気泡が発生し難くなる。もって、表示品位を高いものとすることができる。両基板20,21を貼り合わせたら、シール部23を硬化させることで、液晶22を封止し、もって液晶パネル11が製造される。
 以上説明したように本実施形態のCF基板(表示部品)21は、表示領域AAと表示領域AAを取り囲む非表示領域NAAとに区分されるガラス基板(基板)GSと、表示領域AAにおいてガラス基板GSの表面に重なる形で設けられるカラーフィルタ(表示素子)29と、少なくとも表示領域AAにおいてカラーフィルタ29を覆う形で設けられ、その一部に外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部36を有するCF基板側配向膜(配向膜)32と、非表示領域NAAにおいて表示領域AAに隣り合う形で配されるとともにガラス基板GSの表面に重なる形で設けられることで、膜厚変化部36が非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜を制御する成膜制御部37と、を備える。
 CF基板側配向膜32の成膜に際しては、液体状態とされるCF基板側配向膜32の材料を、カラーフィルタ29が設けられたガラス基板GSにおける表示領域AAに供給するようにしており、その材料がガラス基板GS上において広がるよう流動することでCF基板側配向膜32が成膜されるようになっている。ここで、ガラス基板GSにおける表示領域AAには、その表面に重なる形でカラーフィルタ29が設けられているため、カラーフィルタ29の表面29aとガラス基板GSの非表示領域NAAにおける表面との間には高低差が生じており、それに起因して成膜されるCF基板側配向膜32の一部に外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部36が表示領域AA内に形成されることが懸念される。その点、非表示領域NAAには、表示領域AAに隣り合う形で配されるとともにガラス基板GSの表面に重なる形で成膜制御部37が設けられることで、膜厚変化部36が非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜が制御されるから、表示領域AAにおけるCF基板側配向膜32の膜厚が均一化される。これにより、当該CF基板21を用いてなされる表示に係る表示品位の向上が図られる。
 また、成膜制御部37は、表示領域AAを全周にわたって取り囲む形で設けられている。このようにすれば、CF基板側配向膜32の成膜に際しては、表示領域AAを全周にわたって取り囲む形で設けられる成膜制御部37によって膜厚変化部36が非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜が制御されるので、膜厚変化部36が表示領域AA内に形成される事態がより確実に回避される。
 また、成膜制御部37は、その表面37aがカラーフィルタ29の表面29aよりも高い位置に配されるよう形成されている。このようにすれば、CF基板側配向膜32の成膜に際して、CF基板側配向膜32の材料が表示領域AAに供給されると、そのCF基板側配向膜32の材料は、まず表示領域AAを全周にわたって取り囲む形で設けられるとともに表面37aがカラーフィルタ29の表面29aよりも高い位置に配された成膜制御部37によって表示領域AA内に滞留させられ、その後成膜制御部37を乗り上げることで、非表示領域NAA側へと流動する。これにより、膜厚変化部36がより確実に非表示領域NAAに配されるとともに表示領域AAにおいてCF基板側配向膜32の膜厚がより好適に均一化される。
 また、CF基板21をなすガラス基板GSに対して間隔を空けて対向状に貼り合わせられるアレイ基板(第2の基板)20と、同ガラス基板GSとアレイ基板20との間に挟持される液晶22と、液晶22を取り囲むとともにガラス基板GSとアレイ基板20との間に介在することで液晶22を封止するシール部23と、が備えられており、成膜制御部37は、シール部23よりも表示領域AA寄りの位置に配されるとともにアレイ基板20との間に隙間C1を空けて配されている。このようにすれば、CF基板21をなすガラス基板GSとアレイ基板20との間に挟持される液晶22は、シール部23によって取り囲まれることで封止されている。ガラス基板GSに設けられた成膜制御部37は、アレイ基板20との間に隙間C1を空けて配されているので、例えばガラス基板GSとアレイ基板20とを貼り合わせるのに伴って、表示領域AA側に滴下された液晶22が押し拡げられる際には、その液晶22が成膜制御部37とアレイ基板20との間に空けられた隙間C1を通ることで、シール部23にまで到達し易くなっている。これにより、両基板GS,20の間においてシール部23に取り囲まれた空間内に空気が残存し難くなるので、液晶22中に気泡が発生し難くなり、もって当該CF基板21を用いてなされる表示に係る表示品位が低下し難いものとされる。
 また、少なくとも非表示領域NAAに配されるとともにCF基板21をなすガラス基板GSの表面に重なる形で設けられ且つ高さがカラーフィルタ29よりも低い遮光部30を備えており、成膜制御部37は、非表示領域NAAにおいて遮光部30の表面に重なる形で設けられている。このようにすれば、少なくとも非表示領域NAAにおいてガラス基板GSの表面に重なる形で設けられる遮光部30は、その高さがカラーフィルタ29よりも低いものとされているため、表示領域AAにおけるカラーフィルタ29の表面29aと、非表示領域NAAにおける遮光部30の表面との間には高低差が生じており、それに起因して成膜されるCF基板側配向膜32の一部に膜厚変化部36が形成され易いものとされる。その点、非表示領域NAAには、遮光部30の表面に重なる形で成膜制御部37が設けられることで、膜厚変化部36が非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜が制御されるから、表示領域AAにおけるCF基板側配向膜32の膜厚が好適に均一化される。
 また、成膜制御部37は、カラーフィルタ29と同じ材料からなり、その厚みT1がカラーフィルタ29の厚みT2と等しいものとされる。このようにすれば、当該CF基板21の製造に際して、カラーフィルタ29を形成する工程にて成膜制御部37を形成することができる。しかも、カラーフィルタ29及び成膜制御部37を例えばフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成する場合には、カラーフィルタ29及び成膜制御部37の厚みT1,T2が等しくされていることで、フォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクのような複雑なものを使用する必要がないものとされる。以上により、成膜制御部37を低コストでもって容易に形成することができる。
 また、表示素子は、特定の波長領域の光を選択的に透過するカラーフィルタ29からなるものとされるのに対し、成膜制御部37は、カラーフィルタ29と同じ材料からなるものとされる。仮に成膜制御部を遮光部30と同じ材料からなる構成とし、遮光部30及び成膜制御部を例えばフォトリソグラフィ法によりパターニングして形成した場合には、フォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクを使用する必要が生じる。これに対し、成膜制御部37がカラーフィルタ29と同じ材料からなる構成とされることで、フォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクを使用する必然性が生じることが避けられるので、成膜制御部37を低コストでもって容易に形成することが可能となる。
 また、カラーフィルタ29は、表示領域AAにおいてマトリクス状に平面配置される複数の着色部29R,29G,29Bから構成されており、成膜制御部37は、着色部29R,29G,29Bのうち表示領域AAの端に位置するものに連なる形で設けられている。このようにすれば、仮に成膜制御部が表示領域AAの端に位置する着色部29R,29G,29Bから離れた形で設けられた場合に比べると、成膜制御部37と表示領域AAの端に位置する着色部29R,29G,29Bとの間に段差及び隙間が生じることが避けられるから、成膜されるCF基板側配向膜32の断面形状が複雑化し難くなり、それによりCF基板側配向膜32の膜厚の均一性を高く保つ上でより好適となる。
 また、CF基板21をなすガラス基板GSに対して間隔を空けて対向状に貼り合わせられるアレイ基板20と、同ガラス基板GSとアレイ基板20との間に挟持される液晶22と、液晶22を取り囲むとともにガラス基板GSとアレイ基板20との間に介在することで液晶22を封止するシール部23と、が備えられており、成膜制御部37は、シール部23に対して間隔C2を空けて表示領域AA寄りの位置に配されている。このようにすれば、CF基板21をなすガラス基板GSとアレイ基板20との間に挟持される液晶22は、シール部23によって取り囲まれることで封止されている。成膜制御部37は、シール部23に対して間隔C2を空けて表示領域AA寄りの位置に配されているから、CF基板側配向膜32を成膜する際に、例えばCF基板側配向膜32の材料が非表示領域NAAにおいて成膜制御部37を超えてシール部23側に広がった場合でも、当該材料がシール部23にまで到達し難いものとされる。これにより、CF基板側配向膜32がシール部23と重なる形で配置される事態が生じ難くなり、シール性能に悪影響が及ぶ事態が生じ難くなっている。
 また、本実施形態に係る液晶表示装置(表示装置)10は、上記したCF基板21を備える。このような液晶表示装置10によれば、成膜制御部37により膜厚変化部36が非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜32の成膜が制御されているので、当該液晶表示装置10における表示品位の向上が図られる。
 また、本実施形態に係るテレビ受信装置TVは、上記した液晶表示装置10を備える。このようなテレビ受信装置TVによれば、液晶表示装置10における表示品位の向上が図られているから、優れた表示品位のテレビ画像を表示することができる。
 <実施形態2>
 本発明の実施形態2を図13によって説明する。この実施形態2では、成膜制御部137を遮光部130と同じ材料により形成したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部137は、図13に示すように、遮光部130と同じ材料により形成されており、額縁状遮光部130bに対して界面を有することなく連続的に繋げられている。成膜制御部137は、額縁状遮光部130bのうちの内周側部分に対して連なる形で設けられており、言い換えると額縁状遮光部130bの内周側部分のみを部分的に厚肉に形成することで形成されている。上記した実施形態1に比べると、額縁状遮光部130bに対する成膜制御部137の濡れ性などの条件を考慮する必要がないので、製造が容易なものとなる。
 以上説明したように本実施形態によれば、少なくとも非表示領域NAAに配されるとともにガラス基板GSの表面に重なる形で設けられる遮光部130を備えており、成膜制御部137は、非表示領域NAAにおいて遮光部130と重なる形で配されるとともに遮光部130と同じ材料からなるものとされる。仮に成膜制御部137が遮光部130とは異なる材料からなる構成とした場合には、その材料が遮光部130に対する濡れ性などの条件を満たす必要があるものの、成膜制御部137を遮光部130と同じ材料からなる構成とすれば、そのような条件を考慮する必要がなくなる。
 <実施形態3>
 本発明の実施形態3を図14によって説明する。この実施形態3では、上記した実施形態2から成膜制御部237の形成範囲を変更したものを示す。なお、上記した実施形態2と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部237は、図14に示すように、額縁状遮光部230bのほぼ全域にわたる範囲に形成されている。つまり、成膜制御部237は、額縁状遮光部230bをほぼ全域にわたって画素間遮光部(図示せず)よりも厚肉に形成することで形成されている。
 <実施形態4>
 本発明の実施形態4を図15または図16によって説明する。この実施形態4では、上記した実施形態1から成膜制御部337の配置(形成範囲)を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部337は、図15及び図16に示すように、カラーフィルタ329のうち表示領域AAの端に位置する着色部329R,329G,329Bとの間に間隔を空けた位置に配されている。つまり、成膜制御部337は、カラーフィルタ329を全周にわたって取り囲んでいるものの、表示領域AAの端に位置する着色部329R,329G,329Bからは分離された形で配置されている。このような構成では、成膜制御部337と、表示領域AAの端に位置する着色部329R,329G,329Bとの間には、非表示領域NAAに位置する形で段差部が生じているので、CF基板側配向膜332を成膜する際には、CF基板側配向膜332の材料が上記段差部に滞留することになるので、膜厚変化部336が同段差部内、つまり非表示領域NAAに形成されることになる。
 <実施形態5>
 本発明の実施形態5を図17によって説明する。この実施形態5では、上記した実施形態4から成膜制御部437の厚みT3を変更したものを示す。なお、上記した実施形態4と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部437は、図17に示すように、その厚みT3がカラーフィルタ429をなす赤色の着色部429Rの厚みT2よりも薄いものとされる。詳しくは、成膜制御部437の厚みT3は、赤色の着色部429Rの厚みT2との差が、遮光部430のうち成膜制御部437に対して積層される額縁状遮光部430bの厚みT4と等しくなるよう設定されている。つまり、成膜制御部437の表面437aは、赤色の着色部429Rの表面429aと面一状をなしている。また、成膜制御部437の厚みT3は、カラーフィルタ429をなす緑色の着色部及び青色の着色部(図示せず)の各厚みよりも薄いものとされる。このような構成であっても、成膜制御部437によって、CF基板側配向膜432を成膜する前の状態において、CF基板421の非表示領域NAAにおける表示領域AAに隣り合う部分の表面と、表示領域AAにおける非表示領域NAAに隣り合う部分との間の高低差が十分に緩和されるので、膜厚変化部436が表示領域AAに配されることなく、非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜432の成膜を制御することができる。
 <実施形態6>
 本発明の実施形態6を図18によって説明する。この実施形態6では、上記した実施形態4から成膜制御部537の厚みT5を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部537は、図18に示すように、その厚みT5がカラーフィルタ529をなす赤色の着色部529Rのうち、遮光部530に乗り上げた部分の厚みT6とほぼ等しいものとされる。詳しくは、成膜制御部537の厚みT5は、カラーフィルタ529をなす赤色の着色部529Rの厚みT2よりは薄いものの、赤色の着色部529Rのうち、遮光部530に乗り上げた部分の厚みT6とほぼ等しくなっている。従って、成膜制御部537の表面537aは、赤色の着色部529Rのうちの遮光部530に乗り上げた部分の表面と面一状をなしている。このような構成であっても、成膜制御部537によって、CF基板側配向膜432を成膜する前の状態において、CF基板521の非表示領域NAAにおける表示領域AAに隣り合う部分の表面と、表示領域AAにおける非表示領域NAAに隣り合う部分との間の高低差が十分に緩和されるので、膜厚変化部536が表示領域AAに配されることなく、非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜532の成膜を制御することができる。
 <実施形態7>
 本発明の実施形態7を図19によって説明する。この実施形態7では、上記した実施形態4から成膜制御部637の厚みT7を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部637は、図19に示すように、その厚みT7がカラーフィルタ629をなす赤色の着色部629Rの厚みT2よりも薄く、且つ赤色の着色部629Rのうちの遮光部630に乗り上げた部分の厚みT6よりも薄くされている。従って、成膜制御部637の表面637aは、赤色の着色部629Rの表面629aよりも低く、且つ赤色の着色部629Rのうちの遮光部630に乗り上げた部分の表面よりも低い位置に配されている。このような構成であっても、成膜制御部637によって、CF基板側配向膜632を成膜する前の状態において、CF基板621の非表示領域NAAにおける表示領域AAに隣り合う部分の表面と、表示領域AAにおける非表示領域NAAに隣り合う部分との間の高低差が十分に緩和されるので、膜厚変化部636が表示領域AAに配されることなく、非表示領域NAAに配されるようCF基板側配向膜632の成膜を制御することができる。
 <実施形態8>
 本発明の実施形態8を図20によって説明する。この実施形態8では、上記した実施形態1から成膜制御部737の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態1と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部737は、図20に示すように、カラーフィルタ729をなす各着色部729R(赤色の着色部729Rのみを図示している)をなすそれぞれの材料を積層することで形成されている。詳しくは、成膜制御部737は、赤色の着色部729Rと同じ材料からなる第1層38と、緑色の着色部と同じ材料からなる第2層39と、青色の着色部と同じ材料からなる第3層40と、を順次に積層した構成とされる。第1層38の厚みは、赤色の着色部729Rの厚みとほぼ同じとされ、第2層39は、緑色の着色部の厚みとほぼ同じとされ、第3層40は、青色の着色部の厚みとほぼ同じとされる。従って、赤色の着色部729R及び第1層38をフォトリソグラフィ法によりパターニングする際に用いるフォトマスクとしてハーフトーンマスクやグレートーンマスクなどを用いる必要がないものとされる。これは、緑色の着色部及び第2層39をパターニングする際や、青色の着色部及び第3層40をパターニングする際に用いるフォトマスクに関しても同様である。
 <実施形態9>
 本発明の実施形態9を図21によって説明する。この実施形態9では、上記した実施形態4から成膜制御部837の材料を変更したものを示す。なお、上記した実施形態4と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
 本実施形態に係る成膜制御部837は、図21に示すように、柱状スペーサ835と同じ材料からなるものとされる。従って、成膜制御部837は、柱状スペーサ835をフォトリソグラフィ法によりパターニングする際に同時に(同一工程にて)パターニングされて形成されている。
 <他の実施形態>
 本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
 (1)上記した各実施形態以外にも、成膜制御部の具体的な厚み寸法は適宜に変更可能である。例えば、カラーフィルタを構成する各着色部の厚みが各色毎に異なっていた場合には、成膜制御部の表面が、カラーフィルタの中で最も厚い着色部の表面よりも高くなるよう、成膜制御部の厚みを設定するのが好ましい。
 (2)上記した各実施形態(実施形態8,9を除く)では、成膜制御部がカラーフィルタのうちの赤色の着色部と同じ材料からなる場合を示したが、成膜制御部がカラーフィルタのうちの緑色の着色部と同じ材料からなる構成としたものや、成膜制御部がカラーフィルタのうちの青色の着色部と同じ材料からなる構成としたものも本発明に含まれる。
 (3)上記した各実施形態では、カラーフィルタが赤色、緑色及び青色の3色構成とされたものを例示したが、赤色、緑色及び青色の各着色部に、黄色の着色部を加えて4色構成としたカラーフィルタを備えたものにも本発明は適用可能である。その場合、成膜制御部を黄色の着色部と同じ材料からなる構成とすることも可能である。
 (4)上記した(3)以外にも、赤色、緑色及び青色の各着色部に、全可視光を殆ど透過することができ、波長選択性を有さない無着色部を追加したカラーフィルタを備えたものにも本発明は適用可能である。その場合、成膜制御部を無着色部と同じ材料からなる構成とすることも可能である。
 (5)上記した実施形態8では、成膜制御部がカラーフィルタをなすRGBの3色の着色部と同じ材料からなる3層構造としたものを示したが、成膜制御部を、3色の着色部の中から任意に選択される2色の着色部と同じ材料からなる2層構造としたものも本発明に含まれる。また、上記した(3)と組み合わせて4色の着色部の中から任意に選択される2色または3色の着色部と同じ材料からなる2層構造または3層構造としたものも本発明に含まれる。さらには、上記した(4)と組み合わせて、3色の着色部及び無着色部の中から任意に選択される2つまたは3つと同じ材料からなる2層構造または3層構造としたものも本発明に含まれる。また、上記した(3)または(4)に記載した4種類の着色部と同じ材料からなる4層構造とした成膜制御部を用いたものも本発明に含まれる。
 (6)上記した(5)以外にも、成膜制御部を、RGBの3色の着色部または4つの着色部の中から任意に選択される少なくとも1つの着色部と同じ材料からなる層と、柱状スペーサと同じ材料からなる層とを積層させた構成とすることも可能である。
 (7)上記した各実施形態では、成膜制御部がカラーフィルタをなす着色部または柱状スペーサと同じ材料からなる構成のものを示したが、CF基板にカラーフィルタや柱状スペーサ以外の樹脂層(例えばVA型の液晶パネルにおいて液晶の配向状態を制御するための突部)が存在する場合は、その樹脂層と同じ材料によって成膜制御部を形成しても構わない。また、CF基板に本来的に存在しない樹脂材料(成膜制御部専用の樹脂材料)を用いて成膜制御部を形成することも可能である。
 (8)上記した各実施形態では、成膜制御部が表示領域を全周にわたって取り囲む額縁状をなす場合を示したが、成膜制御部が表示領域の周方向に沿って延在するものの途中に開口部(分断箇所)が形成された構成、つまり有端環状をなす構成とされるものにも本発明は適用可能である。
 (9)上記した各実施形態では、CF基板側配向膜を成膜する際にインクジェット装置を用いた場合を示したが、例えばスクリーン印刷装置やフレキソ印刷装置などを用いることも可能である。
 (10)上記した各実施形態では、CF基板側配向膜(アレイ基板側配向膜)の材料として光配向材料を用い、紫外線の照射によって配向処理がなされる光配向膜を形成するようにした場合を示したが、ラビングによって配向処理がなされるCF基板側配向膜(アレイ基板側配向膜)を形成したものにも本発明は適用可能である。
 (11)上記した各実施形態では、遮光部が感光性樹脂材料に遮光材料を含有させた構成とされるものを例示したが、例えばクロムなどの遮光性を有する金属材料によって遮光部を形成するようにしても構わない。その他、液晶パネルをなすアレイ基板及びCF基板に備えられるガラス製のガラス基板に代えて、例えばほぼ透明な合成樹脂製の樹脂基板(プラスチック基板)を用いることも可能である。
 (12)上記した各実施形態では、柱状スペーサが先細りの円柱状をなす場合を示したが、柱状スペーサが先細りの角柱状をなす構成としても構わない。また、柱状スペーサの径寸法が一定とされるものも本発明に含まれる。
 (13)上記した各実施形態以外にも、柱状スペーサに代えて球状スペーサ(スペーサビーズ)を表示領域内に散布するようにしたものも本発明に含まれる。
 (14)アレイ基板に備えられるTFTの半導体膜に関しては、アモルファスシリコンの他、多結晶シリコン(例えば、CGシリコン(Continuous Grain Silicon)など)や酸化物半導体(例えば、In-Ga-Zn-O系半導体(酸化インジウムガリウム亜鉛))など)を用いることが可能である。
 (15)上記した各実施形態では、片側入光型のバックライト装置を備えた液晶表示装置について例示したが、両側入光型のバックライト装置を備えた液晶表示装置にも本発明は適用可能である。
 (16)上記した各実施形態では、液晶表示装置が備えるバックライト装置としてエッジライト型のものを例示したが、直下型のバックライト装置を用いるようにしたものも本発明に含まれる。
 (17)上記した各実施形態では、外部光源であるバックライト装置を備えた透過型の液晶表示装置を例示したが、本発明は、外光を利用して表示を行う反射型液晶表示装置にも適用可能であり、その場合はバックライト装置を省略することができる。
 (18)上記した各実施形態では、液晶表示装置のスイッチング素子としてTFTを用いたが、TFT以外のスイッチング素子(例えば薄膜ダイオード(TFD))を用いた液晶表示装置にも適用可能であり、またカラー表示する液晶表示装置以外にも、白黒表示する液晶表示装置にも適用可能である。
 (19)上記した各実施形態では、中型に分類される液晶パネルを備えた液晶表示装置について例示したが、例えば、小型または中小型に分類され、携帯型情報端末、携帯電話(スマートフォンを含む)、ノートパソコン(タブレット型ノートパソコンを含む)、デジタルフォトフレーム、携帯型ゲーム機、電子インクペーパなどの各種電子機器などに用いされる液晶パネルを備える液晶表示装置にも本発明は適用可能である。また、テレビ受信装置に用いられる液晶表示装置以外にも、電子看板(デジタルサイネージ)、電子黒板などの電子機器に用いられる液晶表示装置にも本発明は適用可能である。
 10…液晶表示装置(表示装置)、11…液晶パネル(表示パネル)、20…アレイ基板(第2の基板)、21,421,521,621…CF基板(表示部品)、22…液晶、23…シール部、29,329,429,529,629,729…カラーフィルタ(表示素子)、29a,429a,629a…表面、29R,329R,429R,529R,629R,729R…赤色の着色部(着色部)、29G,329G…緑色の着色部(着色部)、29B,329B…青色の着色部(着色部)、30,130,430,530,630…遮光部、32,332,432,532,632…CF基板側配向膜(配向膜)、36,336,436,536,636…膜厚変化部、37,137,237,337,437,537,637,737,837…成膜制御部、37a,437a,537a,637a…表面、AA…表示領域、C1…隙間、C2…間隔、GS…ガラス基板(基板)、NAA…非表示領域、TV…テレビ受信装置

Claims (12)

  1.  表示領域と前記表示領域を取り囲む非表示領域とに区分される基板と、
     前記表示領域において前記基板の表面に重なる形で設けられる表示素子と、
     少なくとも前記表示領域において前記表示素子を覆う形で設けられ、その一部に外側へ向けて膜厚が次第に薄くなるよう変化する膜厚変化部を有する配向膜と、
     前記非表示領域において前記表示領域に隣り合う形で配されるとともに前記基板の表面に重なる形で設けられることで、前記膜厚変化部が前記非表示領域に配されるよう前記配向膜の成膜を制御する成膜制御部と、を備える表示部品。
  2.  前記成膜制御部は、前記表示領域を全周にわたって取り囲む形で設けられている請求項1記載の表示部品。
  3.  前記成膜制御部は、その表面が前記表示素子の表面よりも高い位置に配されるよう形成されている請求項2記載の表示部品。
  4.  前記基板に対して間隔を空けて対向状に貼り合わせられる第2の基板と、前記基板と前記第2の基板との間に挟持される液晶と、前記液晶を取り囲むとともに前記基板と前記第2の基板との間に介在することで前記液晶を封止するシール部と、が備えられており、
     前記成膜制御部は、前記シール部よりも前記表示領域寄りの位置に配されるとともに前記第2の基板との間に隙間を空けて配されている請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の表示部品。
  5.  少なくとも前記非表示領域に配されるとともに前記基板の表面に重なる形で設けられ且つ高さが前記表示素子よりも低い遮光部を備えており、
     前記成膜制御部は、前記非表示領域において前記遮光部の表面に重なる形で設けられている請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の表示部品。
  6.  前記成膜制御部は、前記表示素子と同じ材料からなり、その厚みが前記表示素子の厚みと等しいものとされる請求項5記載の表示部品。
  7.  前記表示素子は、特定の波長領域の光を選択的に透過するカラーフィルタからなるものとされるのに対し、前記成膜制御部は、前記カラーフィルタと同じ材料からなるものとされる請求項5または請求項6記載の表示部品。
  8.  前記カラーフィルタは、前記表示領域においてマトリクス状に平面配置される複数の着色部から構成されており、
     前記成膜制御部は、前記着色部のうち前記表示領域の端に位置するものに連なる形で設けられている請求項7記載の表示部品。
  9.  少なくとも前記非表示領域に配されるとともに前記基板の表面に重なる形で設けられる遮光部を備えており、
     前記成膜制御部は、前記非表示領域において前記遮光部と重なる形で配されるとともに前記遮光部と同じ材料からなるものとされる請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の表示部品。
  10.  前記基板に対して間隔を空けて対向状に貼り合わせられる第2の基板と、前記基板と前記第2の基板との間に挟持される液晶と、前記液晶を取り囲むとともに前記基板と前記第2の基板との間に介在することで前記液晶を封止するシール部と、が備えられており、
     前記成膜制御部は、前記シール部に対して間隔を空けて前記表示領域寄りの位置に配されている請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の表示部品。
  11.  請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の表示部品を備える表示装置。
  12.  請求項11に記載の表示装置を備えるテレビ受信装置。
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