WO2014129320A1 - 樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル - Google Patents

樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル Download PDF

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WO2014129320A1
WO2014129320A1 PCT/JP2014/052888 JP2014052888W WO2014129320A1 WO 2014129320 A1 WO2014129320 A1 WO 2014129320A1 JP 2014052888 W JP2014052888 W JP 2014052888W WO 2014129320 A1 WO2014129320 A1 WO 2014129320A1
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WO
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black matrix
resin
substrate
resin black
pigment
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PCT/JP2014/052888
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English (en)
French (fr)
Inventor
井上欣彦
相原涼介
Original Assignee
東レ株式会社
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present invention relates to a resin black matrix substrate and a touch panel.
  • Resin black matrix is a photosensitive black resin composition containing a resin and a light-shielding material such as carbon black, coated on a transparent substrate such as glass and dried to form a black film, which is then formed into a lattice pattern by photolithography. It is formed by fine patterning.
  • a transparent electrode such as an ITO electrode is formed on a black matrix formed on the cover glass.
  • Patent Documents 1 to 3 As a technique for reducing the reflectance of the black matrix surface, a black matrix having two layers is known (Patent Documents 1 to 3). In addition, a technique of laminating a resin layer containing a black pigment on a resin layer containing a black dye is also known (Patent Document 4).
  • JP 2006-011180 A JP-A-7-134208 Japanese Patent Laid-Open No. 7-248412 JP 7-073211
  • the conventional two-layer black matrix requires the presence of a metal thin film layer or a light reflecting layer containing metal fine particles, and is used for touch panel applications that require high insulation. It was extremely difficult. Furthermore, it was insufficient in terms of color matching with the black display portion of the display.
  • the present invention provides a resin black matrix substrate comprising a resin black matrix that has a low reflectance and can match the color of the black display portion of the display despite its thin film thickness and high light shielding properties. With the goal.
  • (3) The resin black matrix substrate according to claim 1 or 2 wherein the first resin black matrix contains a blue pigment and a red pigment, or contains a purple pigment.
  • a liquid crystal display device in which the color filter substrate according to (8) above and a counter substrate are bonded together, and a liquid crystal compound is filled in a gap between the two.
  • a display device in which the color filter substrate according to (8) above and a light emitting element are bonded together.
  • the resin black matrix substrate of the present invention although the resin black matrix is thin and has a high light shielding property, the reflectance is low, and the color of the resin black matrix and the black display portion of the display are easily matched. It becomes possible.
  • the resin black matrix substrate of the present invention is suitable for a touch panel because the thickness of the resin black matrix can be reduced.
  • the resin black matrix (hereinafter “resin BM”) substrate of the present invention includes a transparent substrate, a first resin BM (hereinafter “resin BM (A)”) formed on the transparent substrate, A second resin BM (hereinafter referred to as “resin BM (B)”) formed on the resin BM (A), and the film thickness of the resin BM (A) is 0.7 ⁇ m or more.
  • the transmission chromaticity coordinates are in the range of 0.001 ⁇ x ⁇ 0.300 and 0.001 ⁇ y ⁇ 0.250, and the two layers of the resin BM (A) and the resin BM (B)
  • the optical density (hereinafter referred to as “OD value”) is 3.5 or more.
  • the film thickness of the resin BM (A) needs to be 0.7 ⁇ m or more, preferably 0.7 to 2.0 ⁇ m, more preferably 0.7 to 1.5 ⁇ m.
  • the film thickness of the resin BM (A) is less than 0.7 ⁇ m, the light reflected at the interface between the resin BM (A) and the transparent substrate is reflected at the interface between the resin BM (A) and the resin BM (B).
  • the visibility of the resin BM from the transparent substrate side deteriorates due to the interference with the light.
  • the film thickness of resin BM (A) exceeds 2.0 micrometers, the transparent electrode for touchscreens, etc. on resin BM may break.
  • transmission chromaticity coordinates of the resin BM (A) must be in the range of 0.001 ⁇ x ⁇ 0.300 and 0.001 ⁇ y ⁇ 0.250, and 0.150 ⁇ x ⁇ 0.300 and 0 It is preferable to be in the range of .010 ⁇ y ⁇ 0.250.
  • transmission chromaticity coordinates refers to coordinates of transmission chromaticity in the CIE 1931 color system measured with a C light source and a two-degree field of view.
  • the measurement of the transmission chromaticity coordinates of the resin BM (A) is performed using a microspectroscope in a state where only the coating film of the photosensitive colored resin composition for forming the resin BM (A) is formed on the glass substrate. This can be done by measuring the coating film. Since the transmission chromaticity coordinates of the resin BM (A) are in the above range, the transmission chromaticity can be changed from blue to violet, and the resin BM visually recognized on the transparent substrate side can be made deeper black. .
  • two-layer BM the transmission chromaticity coordinates of the resin BM (A) on the resin BM substrate of the present invention on which a BM composed of two layers of the resin BM (A) and the resin BM (B) (hereinafter “two-layer BM”) is formed.
  • the portion where the first-layer resin BM (resin BM (A)) is exposed the portion where the resin BM (B) is not laminated. This can be done by measuring using a vessel.
  • the composition of the resin BM (A) is analyzed to reproduce the photosensitive colored resin composition used to form the resin BM (A), and glass Measure the coating film using a microspectroscope in a state where only the coating film of the photosensitive colored resin composition is formed on the substrate so as to have the same film thickness as the resin BM (A) to be measured.
  • the transmission chromaticity coordinates can be obtained.
  • the OD value of the two-layer BM needs to be 3.5 or more, and is preferably 4.0 or more.
  • the OD value of the two-layer BM is less than 3.5, the light shielding property is insufficient, and stray light from the metal wiring on the BM and the display on the back surface of the touch panel substrate is visually recognized.
  • the OD value of the two-layer BM can be obtained by a known measurement method. Specifically, the intensity of each of the incident light and transmitted light of the two-layer BM formed on the transparent substrate using a microspectroscope can be measured and calculated from the following equation (1).
  • the OD value per 1 ⁇ m of film thickness of the resin BM (A) is preferably 0.5 to 2.0, and preferably 0.5 to 1.5. More preferred. If the OD value per 1 ⁇ m film thickness of the resin BM (A) is less than 0.2, the film thickness must be increased to obtain the desired transmission chromaticity and light shielding property, and the touch panel on the resin BM. There is a possibility that the transparent electrode for use will be disconnected. On the other hand, if the OD value per 1 ⁇ m film thickness of the resin BM (A) exceeds 2.0, it is necessary to increase the concentration of the pigment contained in the resin BM, and the reflectance of the resin BM becomes high.
  • the OD value per 1 ⁇ m thickness of the resin BM (B) is preferably 2.5 or more, and more preferably 3.0 to 6.0. If the OD value per 1 ⁇ m film thickness of the resin BM (B) is less than 2.5, it is necessary to increase the film thickness in order to obtain a desired light shielding property. May break.
  • both of the resin BM (A) and the resin BM (B) are formed by a photolithography method using a photosensitive colored resin composition. Is mentioned.
  • the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM contains a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator, and a solvent.
  • Examples of the colorant contained in the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM (A), that is, the colorant contained in the resin BM (A) include organic pigments, inorganic pigments, and dyes. It is done. Organic pigments or inorganic pigments excellent in chemical resistance, heat resistance and light resistance are preferred, and blue pigments or purple pigments are more preferred. In particular, it is more preferable that it contains both a blue pigment and a red pigment, or is a violet pigment.
  • the ratio of the blue pigment / red pigment is preferably 80/20 to 30/70, more preferably 80/20 to 40/60 in terms of mass ratio. When the proportion of the blue pigment is too high, the reflection color tone becomes black with a strong bluish color, which is not preferable. On the other hand, when the ratio of the red pigment is too high, the reflection color tone is not preferable because it is a grayish black with strong redness.
  • blue pigments examples include C.I. I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78 or 79.
  • I. CI Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6 or 60 are preferred.
  • I. Pigment Blue 15: 6 is more preferable.
  • Examples of purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49 or 50.
  • I. Pigment Violet 19 or 23 is preferred, and C.I. I. Pigment Violet 23 is more preferable.
  • red pigments examples include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 53: 2, 53: 3, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 60, 63, 63: 1, 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 83, 88, 90: 1, 1 01, 101: 1, 104, 108, 108: 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 1 9, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200,
  • I. Pigment Red 48 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, or 254 is preferred, and C.I. I. Pigment Red 177, 209, 224, 242 or 254 is more preferable.
  • Resin BM (A) may contain other pigments in addition to these blue pigment, red pigment and purple pigment in order to adjust the reflection color more accurately.
  • examples of other pigments include green pigments, yellow pigments, and orange pigments.
  • green pigments examples include C.I. I. Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55 or 58. I. Pigment Green 7, 36 or 58 is preferable.
  • yellow pigments examples include C.I. I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 17 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184
  • orange pigments examples include C.I. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78 or 79.
  • I. Pigment Orange 38 or 71 is preferred.
  • the colorant contained in the resin BM (B) is preferably a black pigment in order to improve the light shielding property of the resin BM (B).
  • the black pigment include carbon black, resin-coated carbon black, titanium black, chromium oxide, iron oxide, aniline black, perylene pigment, C.I. I. Solvent black 123; a composite oxide containing titanium, manganese, iron, copper, or cobalt; and a pseudo black pigment in which a colored pigment such as a red pigment, a blue pigment, or a green pigment is mixed.
  • Carbon black or titanium black is preferable, and carbon black or titanium nitride is more preferable because it has high light shielding properties. These may be used alone or in combination.
  • titanium black is titanium nitride represented by TiN, low-order titanium oxide represented by Ti n O 2n-1 (1 ⁇ n ⁇ 20), TiN x O y (0 ⁇ x ⁇ 2.0, 0. It refers to titanium oxynitride and titanium nitride expressed by 1 ⁇ y ⁇ 2.0).
  • Titanium nitride contains titanium nitride as a main component, and usually contains titanium oxide, low-order titanium oxide, and titanium oxynitride as subcomponents.
  • Examples of the alkali-soluble resin contained in the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM include an epoxy resin, an acrylic resin, a siloxane resin, and a polyimide resin.
  • An acrylic resin or a polyimide resin is preferred because of excellent heat resistance of the coating film and storage stability of the composition.
  • acrylic resin for example, an acrylic resin having a carboxyl group is preferable, and a copolymer of an unsaturated carboxylic acid and an ethylenically unsaturated compound is more preferable.
  • unsaturated carboxylic acid examples include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and vinyl acetic acid.
  • Examples of the copolymerizable ethylenically unsaturated compound include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, N-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, iso-butyl acrylate, iso-butyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, acrylic acid unsaturated carboxylic acid alkyl esters such as n-pentyl, n-pentyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate or benzyl methacrylate; sty
  • a quaternary copolymer of monomers selected from the group consisting of methacrylic acid, acrylic acid, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate and styrene is preferable.
  • the weight average molecular weight (Mw) is 2,000 to 100,000 and the acid value is 70 to 150 (mgKOH / g).
  • an acrylic resin having an ethylenically unsaturated group in the side chain is preferable because sensitivity during exposure and development is improved.
  • an acryl group or a methacryl group is preferable.
  • the acrylic resin having an ethylenically unsaturated group in the side chain can be obtained, for example, by adding an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an alicyclic epoxy group to the carboxyl group of an acrylic resin having a carboxyl group. it can.
  • acrylic resin having an ethylenically unsaturated group in the side chain examples include Cyclomer (registered trademark) P (Daicel Chemical Industries, Ltd.), which is a commercially available acrylic resin, or an alkali-soluble cardo resin.
  • Mw weight average molecular weight
  • acid value is 70 to 150 (mgKOH / g).
  • the weight average molecular weight (Mw) is a weight average molecular weight obtained by measuring a measurement sample by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a carrier and converting it using a calibration curve with standard polystyrene.
  • the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM may further contain a monomer or an oligomer.
  • the monomer or oligomer include polyfunctional or monofunctional acrylic monomers or oligomers.
  • the polyfunctional acrylic monomer or oligomer include bisphenol A diglycidyl ether (meth) acrylate, poly (meth) acrylate carbamate, modified bisphenol A epoxy (meth) acrylate, adipic acid 1,6-hexanediol (meth) Acrylic ester, phthalic anhydride propylene oxide (meth) acrylic ester, trimellitic acid diethylene glycol (meth) acrylic ester, rosin-modified epoxy di (meth) acrylate, alkyd-modified (meth) acrylate, full orange acrylate oligomer, tripropylene Glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether
  • a compound having a functional group of 3 or more is preferable, a compound having a functional group of 5 or more is more preferable, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or dipentaerythritol penta (meth) acrylate is more preferable. .
  • the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM contains a black pigment or the like that absorbs ultraviolet rays effective for photocrosslinking, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or dipentaerythritol penta (meth) acrylate
  • a (meth) acrylate having a fluorene ring having a lot of aromatic rings and high water repellency in the molecule it is preferable to use a (meth) acrylate having a fluorene ring having a lot of aromatic rings and high water repellency in the molecule.
  • Examples of the photopolymerization initiator contained in the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM include benzophenone compounds, acetophenone compounds, oxanthone compounds, imidazole compounds, benzothiazole compounds, benzoxazole compounds, Examples include oxime ester compounds, carbazole compounds, triazine compounds, phosphorus compounds; or inorganic photopolymerization initiators such as titanates.
  • benzophenone N, N′-tetraethyl-4,4′-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylaminobenzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, Benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal, ⁇ -hydroxyisobutylphenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane Irgacure (registered trademark) 369 (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone), 379 (2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl ] -1- [4- 4- 4-
  • photopolymerization initiator selected from the group consisting of Ptomer N-1919 and Adeka Cruz NCI-831. Two or more photopolymerization initiators may be used in combination.
  • the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM may contain an adhesion improving agent in order to improve adhesion to a glass plate or a silicon wafer.
  • the adhesion improving agent include a silane coupling agent or a titanium coupling agent.
  • the addition amount of the adhesion improving agent is generally about 0.2 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the alkali-soluble resin.
  • the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM may contain a polymer dispersant in order to improve the dispersion stability of the colorant.
  • a polymer dispersant include a polyethyleneimine polymer dispersant, a polyurethane polymer dispersant, and a polyallylamine polymer dispersant.
  • the addition amount of the polymer dispersant is generally about 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant.
  • the composition ratio of the colorant / resin component in the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM is preferably in the range of 80/20 to 40/60 by mass ratio, and adhesion, pattern processability and OD In order to balance the values, the range of 75/25 to 50/50 is more preferable.
  • the resin component refers to a polymer, a monomer, an oligomer and a polymer dispersant contained in the photosensitive colored resin composition. If the resin component is too small, the adhesion between the resin BM and the substrate becomes poor. On the other hand, if the amount of the coloring material is too small, the optical density (OD value / ⁇ m) of the resin BM is lowered.
  • water or an organic solvent can be appropriately selected according to the dispersion stability of the colorant to be dispersed and the solubility of the resin component to be added.
  • organic solvent include esters, aliphatic alcohols, (poly) alkylene glycol ether solvents, ketones, amide polar solvents, or lactone polar solvents.
  • Examples of the organic solvent when an acrylic resin is used as the alkali-soluble resin include diethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 247 ° C.), benzyl acetate (boiling point 214 ° C.), ethyl benzoate (boiling point 213 ° C.), methyl benzoate (boiling point 200 ° C.).
  • solvents examples include ethylene glycol monomethyl ether (boiling point 124 ° C.), ethylene glycol monoethyl ether (boiling point 135 ° C.), propylene glycol monoethyl ether (boiling point 133 ° C.), diethylene glycol monomethyl ether (boiling point 193 ° C.).
  • a solvent having a boiling point of 150 to 200 ° C. contains 30 to 75% by mass.
  • a mixed solvent is preferred.
  • the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM may contain a surfactant in order to prevent Benard cells while ensuring applicability and smoothness of the colored coating.
  • the addition amount of the surfactant is preferably 0.001 to 10 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant.
  • the surfactant examples include an anionic surfactant such as ammonium lauryl sulfate or polyoxyethylene alkyl ether sulfate triethanolamine; a cationic surfactant such as stearylamine acetate or lauryltrimethylammonium chloride; lauryldimethylamine oxide or lauryl.
  • Amphoteric surfactants such as carboxymethylhydroxyethyl imidazolium betaine; Nonionic surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether or sorbitan monostearate; Silicone interfaces having polydimethylsiloxane as the main skeleton An activator; or a fluorosurfactant.
  • the concentration of the solid content excluding the solvent in the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM is preferably 2 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass from the viewpoint of coating property and drying property.
  • Examples of the method for producing the photosensitive colored resin composition used for forming the resin BM include a method in which a pigment is directly dispersed in a resin solution using a disperser, or a pigment in water or an organic solvent using a disperser.
  • Examples of the pigment dispersion method include a ball mill, a sand grinder, a three-roll mill, and a high-speed impact mill.
  • a bead mill is preferred from the viewpoint of dispersion efficiency and fine dispersion. Examples of the bead mill include a coball mill, a basket mill, a pin mill, and a dyno mill.
  • the bead mill for example, titania beads, zirconia beads, or zircon beads are preferable.
  • the diameter of the beads used for dispersion is preferably 0.01 to 5.0 mm, more preferably 0.03 to 1.0 mm.
  • the bead diameter used for dispersion is preferably as small as 0.03 to 0.10 mm.
  • beads having a bead diameter of 0.10 mm or more are preferable in order to obtain a sufficient crushing force.
  • a photosensitive colored resin composition is applied on a transparent substrate.
  • the method for applying the photosensitive colored resin composition on the substrate include a dipping method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method or a wire bar method, a method of immersing a substrate in a solution, or a solution on a substrate.
  • the method of spraying is mentioned.
  • substrate by processing the board
  • the transparent substrate examples include quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, or inorganic glass such as soda lime glass having a silica-coated surface; or an organic plastic film or sheet.
  • the coating film is heated and dried by air drying, heat drying, vacuum drying, or the like to form a dry film.
  • air drying heat drying, vacuum drying, or the like
  • the obtained dry film is subjected to pattern processing using a method such as photolithography after forming an oxygen barrier film as necessary. Thereafter, if necessary, after removing the oxygen blocking film, the resin BM is obtained by further drying by heating and curing.
  • the thermosetting conditions vary depending on the resin, but when an acrylic resin is used, it is preferably heated at 200 to 250 ° C. for 1 to 60 minutes.
  • the reflection chromaticity of the resin BM is calculated from the CIE L * a * b * color system using the reflection spectrum with respect to the standard C light source according to the method of JIS-Z8729. Generally, the chromaticity values (a *, b *) are used.
  • the resin BM in the resin BM substrate of the present invention is composed of multiple layers, the light reflected at the interface of each layer interferes, and the measured value may not match the visually recognized hue. Therefore, in the present invention, a sample BM formed with printing ink was used as a comparison object, and a judgment was made by visual sensory evaluation under sunlight.
  • the reflected color tone is preferably less glossy and has a bluish reflective color tone.
  • the touch panel substrate of the present invention is obtained by further forming an insulating film and a transparent electrode on the resin BM substrate of the present invention.
  • the jumper wiring 5 made of a transparent electrode such as ITO is formed on the transparent substrate 2.
  • the following method can be used.
  • an ITO film is formed on the transparent substrate 2 on which the two-layer BM is formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method.
  • a novolac positive resist is applied on the ITO film, the positive resist is dried, exposed and developed, and then the ITO film is etched with an acid to pattern the ITO film.
  • the jumper wiring 5 is formed by peeling the positive resist with alkali.
  • a first insulating film 6 is formed on the jumper wiring 5.
  • the second insulating film 10 may be formed on the resin BM for the purpose of protecting the resin BM.
  • the insulating film both an organic film and an inorganic film are preferably used.
  • the insulating film made of an organic film is formed by applying, drying, exposing, developing, and heat-curing a general acrylic negative resist.
  • the metal wiring 7 is formed on the resin BM and / or on the second insulating film.
  • a method for forming the metal wiring for example, a metal film having a three-layer structure in which a Mo layer, an Al layer, and a Mo layer are sequentially formed is formed by sputtering, and then the metal film is patterned in the same manner as the jumper wiring. The method of performing is mentioned.
  • a transparent electrode 8 is formed on the transparent substrate 2 in the same manner as the jumper wiring 5 so as to be electrically connected to the metal wiring 7.
  • the protective film 9 is formed so as to cover each member formed as described above.
  • the protective film 9 both an organic film and an inorganic film are preferably used.
  • the color filter of the present invention is one in which red, green or blue pixels are formed in a portion (hereinafter referred to as an opening) where the two-layer resin BM is not formed on the resin BM substrate of the present invention.
  • red, green or blue pixels are formed by a known method.
  • Examples of the material of the pixel include an inorganic film whose film thickness is controlled so as to transmit only arbitrary light, or a colored resin film in which a dye or pigment is dispersed in a binder resin. Among these, a colored resin film in which a pigment is dispersed in a binder resin is preferable.
  • the binder resin include acrylic copolymer, polyvinyl alcohol, polyamide, and polyimide. From the viewpoint of heat resistance and chemical resistance, polyimide is preferable.
  • pigment those excellent in light resistance, heat resistance and chemical resistance are preferable.
  • red pigments examples include C.I. I. Pigment Red 9, 48, 97, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 177, 179, 180, 190, 192, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240 or 254.
  • orange pigments examples include C.I. I. Pigment orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 or 71.
  • yellow pigments examples include C.I. I. Pigment Yellow 12, 13, 14, 17, 20, 24, 83, 86, 93, 94, 95, 109, 110, 117, 125, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 168, 173, 180 or 185.
  • purple pigments examples include C.I. I. Pigment violet 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 40 or 50.
  • blue pigments examples include C.I. I. Pigment blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 22, 60, 64 or 80.
  • green pigments examples include C.I. I. Pigment green 7, 10, 36 or 58.
  • pigments may be subjected to surface treatment such as rosin treatment, acidic group treatment, basic treatment or the like, and a pigment derivative may be added as a dispersant, as necessary.
  • An overcoat film may be formed on the pixel as necessary.
  • the overcoat film include an epoxy film, an acrylic epoxy film, an acrylic film, a siloxane polymer film, a polyimide film, a silicon-containing polyimide film, and a polyimidesiloxane film.
  • a transparent conductive film may be further formed on the overcoat film.
  • the transparent conductive film include an oxide thin film such as ITO having a film thickness of about 0.1 ⁇ m.
  • Examples of the method for producing the ITO film include a sputtering method and a vacuum evaporation method.
  • a liquid crystal display device can be produced by laminating the color filter substrate and the counter substrate of the present invention and filling a gap between them with a liquid crystal compound. May form a fixed spacer.
  • the fixed spacer refers to a spacer that is fixed at a specific location on the color filter substrate and contacts the counter substrate when a liquid crystal display device is manufactured. Thus, a certain gap is maintained between the counter substrate and the liquid crystal compound is filled between the gaps.
  • a display device can be manufactured by bonding the color filter substrate of the present invention and a light emitting element.
  • organic electroluminescence element As the light emitting element, an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as “organic EL element”) is preferable.
  • the display device of the present invention effectively shields excess light from the light emitting element in black display and suppresses reflection of external light by utilizing the feature that the two-layer resin BM substrate has high OD and low reflection. A clear display with high contrast can be obtained.
  • a flexible color filter substrate can be produced.
  • a flexible display device can be obtained by bonding the flexible color filter substrate and the light emitting element. If an organic EL element is used as the light emitting element, a flexible organic EL display can be produced.
  • a resin BM having a desired film thickness is formed on a chemically tempered glass (Gorilla; manufactured by Corning) having a thickness of 0.7 mm, and measured using a microspectroscope (MCPD2000; manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) with a C light source and a two-degree field of view.
  • MCPD2000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.
  • the transmission chromaticity coordinates in the CIE 1931 color system were measured.
  • the OD value of the two-layer resin BM is determined by measuring the two-layer resin BM formed on the transparent substrate using a microspectroscope (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., MCPD300). It calculated from Formula (1).
  • the OD value per 1 ⁇ m thickness of the resin BM is such that a resin BM having a thickness of 1.0 ⁇ m is formed on a chemically tempered glass having a thickness of 0.7 mm, and the resin BM is obtained using a microspectroscope (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., MCPD300).
  • the intensity of each of the incident light and transmitted light from the coating surface was measured and calculated from the following formula (1).
  • OD value log 10 (I 0 / I) (1)
  • I 0 Incident light intensity
  • I Transmitted light intensity.
  • a resin BM having a desired film thickness was formed on a chemically tempered glass having a thickness of 0.7 mm, and the reflection chromaticity from the glass surface was measured using a spectroscopic clock (UV-2500PC; manufactured by Shimadzu Corporation) (measurement) Wavelength region: 300 to 780 nm, sampling pitch: 1.0 nm, scan speed: low speed, slit width: 2.0 nm).
  • a black printing ink (GLS-912; manufactured by Teikoku Ink) was printed on a chemically tempered glass having a thickness of 0.7 mm using a 230 mesh plate so that the thickness after drying was 10 ⁇ m, and then at 150 ° C. for 30 minutes. Oven drying was performed to prepare a sample BM.
  • a desired resin BM was formed on a chemically tempered glass having a thickness of 0.7 mm, and visually compared with the above sample BM under sunlight, and the reflection color tone was determined based on the following criteria.
  • Synthesis of acrylic polymer (P-1) 100 parts by mass of the copolymer obtained after synthesizing a methyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer (mass composition ratio 30/40/30) by the method described in the literature (Japanese Patent No.
  • the preliminary dispersion was supplied to an ultra apex mill (manufactured by Kotobuki Kogyo Co., Ltd.) equipped with a centrifugal separator filled with 0.05 mm ⁇ zirconia beads (YTZ balls; manufactured by Netulen) and dispersed for 3 hours at a rotational speed of 8 m / s.
  • Colorant dispersion DR-1 was obtained in the same manner as colorant dispersion DB-1, except that red organic pigment PR254 (manufactured by BASF) was used as the colorant instead of blue organic pigment PB15: 6.
  • a colorant dispersion DV-1 was obtained in the same manner as the colorant dispersion DB-1, except that a purple organic pigment PV23 (manufactured by Clariant) was used instead of the blue organic pigment PB15: 6 as the colorant.
  • titanium nitride particles manufactured by Nissin Engineering Co., Ltd.
  • the pre-dispersed liquid was supplied to an ultra apex mill (manufactured by Kotobuki Industries) equipped with a centrifugal separator filled with 75% 0.05 mm ⁇ zirconia beads, and dispersed at a rotational speed of 8 m / s for 3 hours to obtain a solid concentration of 25
  • a colorant dispersion DK-2 having a mass%, colorant / resin (mass ratio) 80/20 was obtained.
  • a photosensitive colored resin composition A-1 having a blue pigment / red pigment (mass ratio) of 40/60 was prepared.
  • Example 1 The prepared photosensitive colored resin composition A-1 was filtered through a 2 ⁇ m Teflon (registered trademark) filter, and then applied onto a 0.7 ⁇ m thick chemically tempered glass substrate so that the film thickness became 1.5 ⁇ m (after post-baking). The coating was applied with a spin coating apparatus 1H-DS manufactured by Mikasa Corporation. The substrate coated with the photosensitive colored resin composition A-1 was heated for 2 minutes with pin-shaped protrusions on a hot plate at 90 ° C., and further pre-baked by leaving the substrate directly on the hot plate for 2 minutes. . A mask aligner (PEM-6M; manufactured by Union Optics Co., Ltd.) was used for this coating film, and ultraviolet rays were exposed at a dose of 200 mJ / cm 2 through a resolution test mask.
  • PEM-6M manufactured by Union Optics Co., Ltd.
  • the BM (B)- has a thickness of 1.4 ⁇ m on the BM (A) -1 substrate. 1 was formed to prepare a two-layer BM-1.
  • Example 2 A BM (A) -2 substrate was obtained in the same manner as BM (A) -1, except that A-2 was used as the photosensitive colored resin composition.
  • Example 3 A BM (A) -3 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-2 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • the BM (B)- has a thickness of 1.4 ⁇ m on the BM (A) -3 substrate. 1 was formed to prepare a two-layer BM-3.
  • Example 4 A BM (A) -4 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-2 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.7 ⁇ m.
  • the BM (B)- has a thickness of 1.4 ⁇ m on the BM (A) -4 substrate. 1 was formed to prepare a two-layer BM-4.
  • Example 5 A BM (A) -5 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-3 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was adjusted to 1.5 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -5 substrate in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-6.
  • Example 6 A BM (A) -6 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-3 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • the BM (B)- has a thickness of 1.4 ⁇ m on the BM (A) -6 substrate. 1 was formed to prepare a two-layer BM-6.
  • Example 7 A BM (A) -7 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-3 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.7 ⁇ m.
  • Example 8 A BM (A) -8 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-4 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.5 ⁇ m.
  • Example 9 A BM (A) -9 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-4 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -9 substrate, in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-9.
  • a BM (A) -10 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-4 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.7 ⁇ m.
  • Example 11 A BM (A) -11 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-5 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was adjusted to 1.5 ⁇ m.
  • the BM (B)- has a thickness of 1.4 ⁇ m on the BM (A) -11 substrate. 1 was formed to prepare a two-layer BM-11.
  • Example 12 A BM (A) -12 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-5 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • a BM (A) -13 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-5 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.7 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -13 substrate in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-13.
  • a BM (A) -14 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-6 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.5 ⁇ m.
  • a BM (A) -15 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-6 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • Example 16 A BM (A) -16 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-6 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.7 ⁇ m.
  • Example 17 A BM (A) -17 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-7 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was adjusted to 1.5 ⁇ m.
  • Example 18 A BM (A) -18 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-7 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • Example 19 A BM (A) -19 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-7 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.7 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -19 substrate, in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-19.
  • a BM (A) -20 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-1 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • a BM (A) -21 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-2 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.5 ⁇ m.
  • a BM (A) -22 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-3 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.5 ⁇ m.
  • a BM (A) -23 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-4 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.5 ⁇ m.
  • a BM (A) -24 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-5 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 0.5 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -24 substrate in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-24.
  • a BM (A) -25 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-6 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.5 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -25 substrate in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-25.
  • a BM (A) -26 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-6 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • a BM (A) -27 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-7 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.5 ⁇ m.
  • a BM (A) -28 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-7 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • BM (B)- so that the film thickness is 1.4 ⁇ m on the BM (A) -28 substrate in the same manner as BM (A) -1, except that B-1 is used as the photosensitive colored resin composition. 1 was formed to prepare a two-layer BM-28.
  • a BM (A) -29 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-8 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.5 ⁇ m.
  • a BM (A) -30 substrate was obtained in the same manner as BM-1, except that A-8 was used as the photosensitive colored resin composition and the film thickness was 1.0 ⁇ m.
  • a single layer BM is formed on a glass substrate to a thickness of 1.4 ⁇ m in the same manner as BM (A) -1, except that A-1 is not used as the photosensitive colored resin composition and B-1 is used. -31 was formed.
  • Table 1 shows the composition of the colorant dispersion used in Examples 1 to 19 and Comparative Examples 1 to 12, and Table 2 shows the composition of the photosensitive colored resin composition.
  • Tables 3 and 4 show the evaluation results of BM (A), BM (B), and two-layer BM prepared using the photosensitive colored resin composition.
  • a pigment is used as the coloring material, it is excellent in chemical resistance and heat resistance as compared with BM using a dye.
  • the resin BM substrate of the present invention can be preferably used as a BM substrate and a decoration substrate of a display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device, an inorganic EL display device, or a plasma display display device. It can be used more preferably as a cover glass integrated touch panel resin BM substrate.

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Abstract

本発明は、樹脂ブラックマトリクスの膜厚が薄く遮光性が高いにも関わらず、反射率が低く、樹脂ブラックマトリクスとディスプレイの黒表示部分との色目を、容易に合わせることが可能となる樹脂ブラックマトリクス基板を提供することを目的とする。 本発明は、透明基板（２）と、該透明基板の上に形成された、第一の樹脂ブラックマトリクス（３）と、該第一の樹脂ブラックマトリクスの上に形成された、第二の樹脂ブラックマトリクス（４）とを備え、上記第一の樹脂ブラックマトリクスの膜厚が、０．７μｍ以上であり、かつ、透過色度座標が、０．００１≦ｘ≦０．３００および０．００１≦ｙ≦０．２５０の範囲にあり、上記第一の樹脂ブラックマトリクスおよび上記第二の樹脂ブラックマトリクスの２層の光学濃度が、３．５以上である、樹脂ブラックマトリクス基板を提供する。

Description

樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル
　本発明は、樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネルに関する。
　ディスプレイ用のブラックマトリクスとして、クロム系材料を用いた金属薄膜に代えて、近年、コストや環境汚染の低減が可能な樹脂ブラックマトリクスが開発されている。樹脂ブラックマトリクスは、樹脂とカーボンブラック等の遮光材を含有する感光性黒色樹脂組成物を、ガラス等の透明基板上に塗布および乾燥して黒色被膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法により格子状に微細パターン化することで形成される。また、例えば最近提案されているカバーガラス一体型タッチパネルでは、カバーガラスに形成されたブラックマトリクス上に、ＩＴＯ電極等の透明電極が形成される。
　ディスプレイの表示領域を広く見せるためには、ディスプレイの黒表示部分と、カバーガラス上の樹脂ブラックマトリクスとの色目を合わせる必要があるが、樹脂ブラックマトリクス表面の反射率が高いため、ディスプレイの黒表示部分との境界が明瞭となることが問題視されていた。
　ブラックマトリクス表面の反射率を低減する技術としては、２層からなるブラックマトリクスが知られている（特許文献１～３）。また、黒色染料を含有する樹脂層の上に黒色顔料を含有する樹脂層を積層する技術も知られている（特許文献４）。
特開２００６－０１１１８０号公報 特開平７－１３４２０８号公報 特開平７－２４８４１２号公報 特開平７－０７２３２１号公報
　しかしながら、従来の２層からなるブラックマトリクスは、金属薄膜の層、または、金属微粒子を含有する光反射層の存在を必須とするものであり、高い絶縁性が要求されるタッチパネル用途に用いることは極めて困難であった。さらにはディスプレイの黒表示部分との色目一致の面からも不十分なものであった。
　また、黒色染料を含有する樹脂層の上に黒色顔料を含有する樹脂層を積層したブラックマトリクスについても、色調調整が困難であり、さらには下層が耐薬品性や耐熱性に劣るという問題点も指摘されていた。
　本発明は、膜厚が薄く遮光性も高いにも関わらず、反射率が低く、ディスプレイの黒表示部分との色目を合わせることが可能な樹脂ブラックマトリクスを備える、樹脂ブラックマトリクス基板を提供することを目的とする。
（１）　透明基板と、該透明基板の上に形成された、第一の樹脂ブラックマトリクスと、該第一の樹脂ブラックマトリクスの上に形成された、第二の樹脂ブラックマトリクスとを備え、上記第一の樹脂ブラックマトリクスの膜厚が、０．７μｍ以上であり、かつ、透過色度座標が、０．００１≦ｘ≦０．３００および０．００１≦y≦０．２５０の範囲にあり、上記第一の樹脂ブラックマトリクスおよび上記第二の樹脂ブラックマトリクスからなる２層の樹脂ブラックマトリクス光学濃度が、３．５以上である、樹脂ブラックマトリクス基板。
（２）　上記第一の樹脂ブラックマトリクスは、青色顔料または紫色顔料を含有する、上記（１）に記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
（３）　上記第一の樹脂ブラックマトリクスは、青色顔料および赤色顔料を含有するか、または紫色顔料を含有する、請求項１または２記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
（４）　上記第一の樹脂ブラックマトリクスの膜厚１μｍ当たりの光学濃度が、０．５～２．０である、上記（１）～（３）のいずれかに記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
（５）　上記第二の樹脂ブラックマトリクスは、黒色顔料を含有する、上記（１）～（４）のいずれかに記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
（６）　上記黒色顔料は、カーボンブラックまたはチタン窒化物である、上記（５）に記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
（７）　上記（１）～（６）のいずれかに記載の樹脂ブラックマトリクス基板上に、絶縁膜および透明電極が、さらに形成されたタッチパネル。
（８）　上記（１）～（６）のいずれかに記載の樹脂ブラックマトリクス基板の開口部に、赤、緑または青の画素が形成されている、カラーフィルター基板。
（９）　上記（８）に記載のカラーフィルター基板と、対向基板とを貼合せ、両者の間のギャップに、液晶化合物が充填されている、液晶表示装置。
（１０）　上記（８）に記載のカラーフィルター基板と、発光素子とを貼り合わせた、表示デバイス。
（１１）　前記発光素子が有機ＥＬ素子である、（１０）に記載の発光デバイス。
　本発明の樹脂ブラックマトリクス基板によれば、樹脂ブラックマトリクスの膜厚が薄く遮光性も高いにも関わらず、反射率が低く、樹脂ブラックマトリクスとディスプレイの黒表示部分との色目を、容易に合わせることが可能となる。本発明の樹脂ブラックマトリクス基板は、樹脂ブラックマトリクスの膜厚を薄くできることから、タッチパネル用として好適である。
本発明の樹脂ブラックマトリクス基板を用いたタッチパネル基板の一態様を示す模式図である。 本発明の樹脂ブラックマトリクス基板を用いたタッチパネル基板の他の一態様を示す模式図である。
　本発明の樹脂ブラックマトリクス（以下、「樹脂ＢＭ」）基板は、透明基板と、該透明基板の上に形成された、第一の樹脂ＢＭ（以下、「樹脂ＢＭ（Ａ）」）と、該樹脂ＢＭ（Ａ）の上に形成された、第二の樹脂ＢＭ（以下、「樹脂ＢＭ（Ｂ）」）と、を備え、上記樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚が、０．７μｍ以上であり、かつ、透過色度座標が、０．００１≦ｘ≦０．３００および０．００１≦y≦０．２５０の範囲にあり、上記樹脂ＢＭ（Ａ）および上記樹脂ＢＭ（Ｂ）の２層の光学濃度（以下、「ＯＤ値」）が、３．５以上である、ことを特徴とする。
　樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚は、０．７μｍ以上である必要があり、０．７～２．０μｍが好ましく、０．７～１．５μｍがより好ましい。樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚が０．７μｍ未満であると、樹脂ＢＭ（Ａ）と透明基板との界面で反射した光と、樹脂ＢＭ（Ａ）と樹脂ＢＭ（Ｂ）との界面で反射した光と、の干渉により、透明基板側からの樹脂ＢＭの視認性が悪くなる。一方で、樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚が２．０μｍを超えると、樹脂ＢＭの上のタッチパネル用透明電極等が断線する可能性がある。
　樹脂ＢＭ（Ａ）の透過色度座標は、０．００１≦ｘ≦０．３００および０．００１≦y≦０．２５０の範囲にある必要があり、０．１５０≦ｘ≦０．３００および０．０１０≦y≦０．２５０の範囲にあることが好ましい。ここで「透過色度座標」とは、Ｃ光源、２度視野で測定したＣＩＥ１９３１表色系における透過色度の座標をいう。樹脂ＢＭ（Ａ）の透過色度座標の測定は、ガラス基板の上に、樹脂ＢＭ（Ａ）形成用の感光性着色樹脂組成物の塗布膜のみを形成した状態で、顕微分光器を用いて該塗布膜を測定することにより行うことができる。樹脂ＢＭ（Ａ）の透過色度座標が上記の範囲にあることにより、透過色度を青～青紫の色調にして、透明基板側で視認される樹脂ＢＭをより深みある黒色とすることができる。なお、樹脂ＢＭ（Ａ）および樹脂ＢＭ（Ｂ）の２層からなるＢＭ（以下、「２層ＢＭ」）が形成された、本発明の樹脂ＢＭ基板について樹脂ＢＭ（Ａ）の透過色度座標を測定しようとする場合には、２層ＢＭにおいて、１層目の樹脂ＢＭ（樹脂ＢＭ（Ａ））が露出している部位（樹脂ＢＭ（Ｂ）が積層していない部位）を、顕微分光器を用いて測定することにより行うことができる。樹脂ＢＭ（Ａ）が露出している部位が存在しない場合は、樹脂ＢＭ（Ａ）の組成を分析して、樹脂ＢＭ（Ａ）の形成に用いた感光性着色樹脂組成物を再現し、ガラス基板上に、測定したい樹脂ＢＭ（Ａ）と同じ膜厚になるように、その感光性着色樹脂組成物の塗布膜のみを形成した状態で、顕微分光器を用いて該塗布膜を測定することにより、透過色度座標を求めることができる。
　２層ＢＭのＯＤ値は、３．５以上である必要があり、４．０以上であることが好ましい。２層ＢＭのＯＤ値が３．５未満であると、遮光性が不十分となり、ＢＭの上の金属配線や、タッチパネル基板背面のディスプレイからの迷光が視認されてしまう。２層ＢＭのＯＤ値は、既知の測定方法により求めることができる。具体的には、顕微分光器を用いて透明基板上に形成した２層ＢＭの入射光および透過光それぞれの強度を測定し、以下の式（１）より算出することができる。
ＯＤ値　＝　ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）　・・・　式（１）
Ｉ０：入射光強度
Ｉ：透過光強度
　樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚１μｍ当たりのＯＤ値は、０．５～２．０であることが好ましく、０．５～１．５であることがより好ましい。樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚１μｍ当たりのＯＤ値が０．２未満であると、所望の透過色度および遮光性を得るために膜厚を厚くせざるを得ず、樹脂ＢＭの上のタッチパネル用透明電極等が断線する可能性がある。一方で、樹脂ＢＭ（Ａ）の膜厚１μｍ当たりのＯＤ値が２．０を超えると、樹脂ＢＭが含有する顔料の濃度を高くする必要が生じ、樹脂ＢＭの反射率が高くなってしまう。
　樹脂ＢＭ（Ｂ）の膜厚１μｍ当たりのＯＤ値は、２．５以上であることが好ましく、３．０～６．０であることがより好ましい。樹脂ＢＭ（Ｂ）の膜厚１μｍ当たりのＯＤ値が２．５未満であると、所望の遮光性を得るために膜厚を厚くせざるを得ず、樹脂ＢＭの上のタッチパネル用透明電極等が断線する可能性がある。
　樹脂ＢＭ（Ａ）および樹脂ＢＭ（Ｂ）を形成する方法としては、例えば、樹脂ＢＭ（Ａ）および樹脂ＢＭ（Ｂ）をいずれも感光性着色樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法により形成する方法が挙げられる。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物は、着色材、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤および溶媒を含有する。
　樹脂ＢＭ（Ａ）の形成に用いる感光性着色樹脂組成物が含有する着色材、すなわち、樹脂ＢＭ（Ａ）が含有することとなる着色材としては、例えば、有機顔料、無機顔料または染料が挙げられる。耐薬品性、耐熱性および耐光性に優れる有機顔料または無機顔料が好ましく、青色顔料または紫色顔料がより好ましい。特に、青色顔料および赤色顔料の両方を含むか、または紫色顔料であることがより好ましい。青色顔料／赤色顔料の比率としては、質量比で８０／２０～３０／７０が好ましく、さらには８０／２０～４０／６０が好ましい。青色顔料の占める比率が高すぎる場合には、反射色調が青みの強い黒となり、好ましくない。また、赤色顔料の占める比率が高すぎる場合には、反射色調が赤みの強い灰色がかった黒となり好ましくない。
　青色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、１：２、９、１４、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、１９、２５、２７、２８、２９、３３、３５、３６、５６、５６：１、６０、６１、６１：１、６２、６３、６６、６７、６８、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７８または７９が挙げられるが、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６または６０が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６がより好ましい。
　紫色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１：１、２、２：２、３、３：１、３：３、５、５：１、１４、１５、１６、１９、２３、２５、２７、２９、３１、３２、３７、３９、４２、４４、４７、４９または５０が挙げられるが、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９または２３が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３がより好ましい。
　赤色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１２、１４、１５、１６、１７、２１、２２、２３、３１、３２、３７、３８、４１、４７、４８、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５２：２、５３、５３：１、５３：２、５３：３、５７、５７：１、５７：２、５８：４、６０、６３、６３：１、６３：２、６４、６４：１、６８、６９、８１、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、８３、８８、９０：１、１ ０１、１０１：１、１０４、１０８、１０８：１、１０９、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４７、１４９、１５１、１６６、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８１、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、１９３、１９４、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１４、２１６、２２０、２２１、２２４、２３０、２３１、２３２、２３３、２３５、２３６、２３７、２３８、２３９、２４２、２４３、２４５、２４７、２４９、２５０、２５１、２５３、２５４、２５５、２５６、２５７、２５８、２５９、２６０、２６２、２６３、２６４、２６５、２６６、２６７、２６８、２６９、２７０、２７１、２７２、２７３、２７４、２７５または２７６が挙げられるが、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、１２２、１６８、１７７、２０２、２０６、２０７、２０９、２２４、２４２または２５４が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２２４、２４２または２５４がより好ましい。
　樹脂ＢＭ（Ａ）は、これら青色顔料、赤色顔料および紫色顔料に加えて、反射色目をより的確に調整するために他の顔料を含有しても構わない。他の顔料としては、例えば、緑色顔料、黄色顔料またはオレンジ色顔料が挙げられる。
　緑色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、２、４、７、８、１０、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２６、３６、４５、４８、５０、５１、５４、５５または５８が挙げられるが、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６または５８が好ましい。
　黄色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、１：１、２、３、４、５、６、９、１０、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４１、４２、４３、４８、５３、５５、６１、６２、６２：１、６３、６５、７３、７４、７５，８１、８３、８７、９３、９４、９５、９７、１００、１０１、１０４、１０５、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１７、１１９、１２０、１２６、１２７、１２７：１、１２８、１２９、１３３、１３４、１３６、１３８、１３９、１４２、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１５７、１５８、１５９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８８、１８９、１９０、１９１、１９１：１、１９２、１９３、１９４、１９５、１９６、１９７、１９８、１９９、２００、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７または２０８が挙げられるが、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１１７、１２９、１３８、１３９、１５０、１５４、１５５、１８０または１８５が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１３８、１３９、１５０または１８０がより好ましい。
　オレンジ色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１、２、５、１３、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、３４、３６、３８、３９、４３、４６、４８、４９、６１、６２、６４、６５、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７７、７８または７９が挙げられるが、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８または７１が好ましい。
　樹脂ＢＭ（Ｂ）が含有する着色材としては、樹脂ＢＭ（Ｂ）の遮光性を高めるため、黒色顔料が好ましい。黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、樹脂被覆カーボンブラック、チタンブラック、酸化クロム、酸化鉄、アニリンブラック、ペリレン系顔料、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック１２３；チタン、マンガン、鉄、銅もしくはコバルトを含む複合酸化物；および赤色顔料、青色顔料、緑色顔料等の着色顔料を混合した擬似黒色顔料などが挙げられる。高い遮光性を有することから、カーボンブラックまたはチタンブラックが好ましく、カーボンブラックまたはチタン窒化物がより好ましい。これらは単独で用いても併用しても構わない。高い遮光性と高い絶縁性を両立するためには、カーボンブラックとチタン窒化物を併用することがより好ましい。カーボンブラック／チタン窒化物の混合範囲としては、質量比で１０／９０～５０／５０が好ましい。
ここでチタンブラックとは、ＴｉＮで表される窒化チタン、ＴｉｎＯ２ｎ－１（１≦ｎ≦２０）で表せる低次酸化チタン、ＴｉＮｘＯｙ（０＜ｘ＜２．０，０．１＜ｙ＜２．０）で表せる酸窒化チタンおよびチタン窒化物を指す。チタン窒化物は、主成分として窒化チタンを含み、通常、副成分として酸化チタン、低次酸化チタンおよび酸窒化チタンを含有する。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物が含有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シロキサン系樹脂またはポリイミド樹脂が挙げられる。塗膜の耐熱性や組成物の保管安定性に優れることから、アクリル樹脂またはポリイミド樹脂が好ましい。
　アクリル樹脂としては、例えば、カルボキシル基を有するアクリル樹脂が好ましく、不飽和カルボン酸とエチレン性不飽和化合物との共重合体がより好ましい。
　不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸またはビニル酢酸が挙げられる。
　共重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－プロピル、アクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ－プロピル、メタクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ－ブチル、メタクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ－ブチル、アクリル酸イソ－ブチル、メタクリル酸イソ－ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル、アクリル酸ｎ－ペンチル、メタクリル酸ｎ－ペンチル、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレートまたはベンジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸アルキルエステル；スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレンまたはα－メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；アミノエチルアクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル；アクリロニトリル、メタクリロニトリルまたはα－クロルアクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物；１，３－ブタジエンまたはイソプレン等の脂肪族共役ジエン；あるいはそれぞれ末端にアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有するポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルアクリレートまたはポリブチルメタクリレート等が挙げられる。
　より具体的には、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸メチル、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレートおよびスチレンからなる群から選ばれるモノマーの２～４元共重合体が好ましい。アルカリ現像液に対する溶解速度を適切なものとするため、重量平均分子量（Ｍｗ）が２千～１０万かつ酸価が７０～１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることがより好ましい。
　また、側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂は、露光および現像の際の感度が向上するため、好ましい。エチレン性不飽和基としては、アクリル基またはメタクリル基が好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂は、例えば、カルボキシル基を有するアクリル樹脂のカルボキシル基に、グリシジル基または脂環式エポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物を付加反応させて得ることができる。
　側鎖にエチレン性不飽和基を有するアクリル樹脂としては、例えば、市販のアクリル樹脂であるサイクロマー（登録商標）Ｐ（ダイセル化学工業（株））またはアルカリ可溶性カルド樹脂が挙げられる。エステル系溶媒やアルカリ現像液に対する溶解性を適切なものとするため、重量平均分子量（Ｍｗ）が２千～１０万かつ酸価が７０～１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であることが好ましい。ここで、重量平均分子量（Ｍｗ）は、測定試料を、テトラヒドロフランをキャリヤーとしてゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算して得られる重量平均分子量である。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物は、さらにモノマーまたはオリゴマーを含有しても構わない。モノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、多官能もしくは単官能のアクリル系モノマーまたはオリゴマーが挙げられる。多官能のアクリル系モノマーまたはオリゴマーとしては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリレートカルバメート、変性ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、アジピン酸１，６－ヘキサンジオール（メタ）アクリル酸エステル、無水フタル酸プロピレンオキサイド（メタ）アクリル酸エステル、トリメリット酸ジエチレングリコール（メタ）アクリル酸エステル、ロジン変性エポキシジ（メタ）アクリレート、アルキッド変性（メタ）アクリレート、フルオレンジアクリレート系オリゴマー、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリアクリルホルマール、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、２，２－ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］プロパン、ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］メタン、ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］スルホン、ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］エーテル、４，４’－ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］シクロヘキサン、９，９－ビス［４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［３－メチル－４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［３－クロロ－４－（３－アクリロキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート、ビスクレゾールフルオレンジアクリレートまたはビスクレゾールフルオレンジメタアクリレートが挙げられる。
　これらの多官能もしくは単官能のアクリル系モノマーまたはオリゴマーを適宜選択して組み合わせることにより、露光および現像の際の感度や加工性をコントロールすることが可能である。中でも感度を向上させるためには、官能基が３以上の化合物が好ましく、官能基が５以上の化合物がより好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物が、光架橋に有効な紫外線を吸収する黒色顔料等を含有する場合には、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートまたはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートに加えて、分子中に芳香環を多く含み撥水性が高いフルオレン環を有する（メタ）アクリレートを併用することが好ましい。この場合、フルオレン環を有する（メタ）アクリレート９０～４０質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよび／またはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート１０～６０質量部を用いることが好ましい。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物が含有する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、オキサントン系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、オキシムエステル化合物、カルバゾール系化合物、トリアジン系化合物、リン系化合物；またはチタネート等の無機系光重合開始剤が挙げられる。
　より具体的には、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’－テトラエチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α－ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２－クロロチオキサントン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－１－プロパン、イルガキュア（登録商標）３６９（２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン）、同３７９（２－（ジメチルアミノ）－２－[（４－メチルフェニル）メチル]－１－[４－（４－モルホリニル）フェニル]－１－ブタノン）、同ＯＸＥ０１（１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］）、同ＯＸＥ０２（エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム））ＣＧＩ－１１３（２－［４－メチルベンジル］－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン）もしくはＣＧＩ－２４２（エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）；以上、いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカル（株）製）、ｔ－ブチルアントラキノン、１－クロロアントラキノン、２，３－ジクロロアントラキノン、３－クロル－２－メチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン、１，４－ナフトキノン、９，１０－フェナントラキノン、１，２－ベンゾアントラキノン、１，４－ジメチルアントラキノン、２－フェニルアントラキノン、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール２量体、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、４－（ｐ－メトキシフェニル）－２，６－ジ－（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジンまたは旭電化工業（株）製のカルバゾール系化合物であるアデカ（登録商標）オプトマーＮ－１８１８、同Ｎ－１９１９もしくはアデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１が挙げられるが、イルガキュア（登録商標）３７９、同ＯＸＥ０２、アデカ（登録商標）オプトマーＮ－１９１９およびアデカクルーズＮＣＩ－８３１からなる群から選ばれる光重合開始剤を使用することが好ましい。光重合開始剤は、２種類以上を併用しても構わない。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物は、ガラス板またはシリコンウエハー等との接着性を向上させるため、密着改良剤を含有しても構わない。密着改良剤としては、例えば、シランカップリング剤またはチタンカップリング剤が挙げられる。密着改良剤の添加量は、アルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して、０．２～２０質量部程度が一般的である。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物は、着色材の分散安定性を向上させるため、高分子分散剤を含有しても構わない。高分子分散剤としては、例えば、ポリエチレンイミン系高分子分散剤、ポリウレタン系高分子分散剤またはポリアリルアミン系高分子分散剤が挙げられる。高分子分散剤の添加量は、通常、着色材１００質量部に対して１～４０質量部程度が一般的である。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物における、着色材／樹脂成分の組成比は、質量比で８０／２０～４０／６０の範囲であることが好ましく、密着性、パターン加工性およびＯＤ値のバランスをとるため、７５／２５～５０／５０の範囲であることがより好ましい。ここで樹脂成分とは、感光性着色樹脂組成物が含有するポリマー、モノマー、オリゴマーおよび高分子分散剤をいう。樹脂成分が過少だと、樹脂ＢＭと基板との密着性が不良となる。一方で、着色材が過少だと、樹脂ＢＭの光学濃度（ＯＤ値／μｍ）が低くなってしまう。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物が含有する溶媒としては、分散する着色材の分散安定性および添加する樹脂成分の溶解性に合わせて、水または有機溶剤を適宜選択することができる。有機溶剤としては、例えば、エステル類、脂肪族アルコール類、（ポリ）アルキレングリコールエーテル系溶剤、ケトン類、アミド系極性溶媒またはラクトン系極性溶媒が挙げられる。
　アルカリ可溶性樹脂としてアクリル樹脂を用いた場合の有機溶剤としては、例えば、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点２４７℃）、ベンジルアセテート（沸点２１４℃）、エチルベンゾエート（沸点２１３℃）、メチルベンゾエート（沸点２００℃）、マロン酸ジエチル（沸点１９９℃）、２－エチルヘキシルアセテート（沸点１９９℃）、２－ブトキシエチルアセテート（沸点１９２℃）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点１８８℃）、シュウ酸ジエチル（沸点１８５℃）、アセト酢酸エチル（沸点１８１℃）、シクロヘキシルアセテート（沸点１７４℃）、３－メトキシ－ブチルアセテート（沸点１７３℃）、アセト酢酸メチル（沸点１７２℃）、エチル－３－エトキシプロピオネート（沸点１７０℃）、２－エチルブチルアセテート（沸点１６２℃）、イソペンチルプロピオネート（沸点１６０℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点１６０℃）、酢酸ペンチル（沸点１５０℃）またはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）が挙げられる。
　また、上記以外の溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２４℃）、エチレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３５℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３３℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１９３℃）、モノエチルエーテル（沸点１３５℃）、メチルカルビトール（沸点１９４℃）、エチルカルビトール（２０２℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２０℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３３℃）、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル（沸点１５３℃）もしくはジプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１８８℃）等の（ポリ）アルキレングリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル（沸点７７℃）、酢酸ブチル（沸点１２６℃）もしくは酢酸イソペンチル（沸点１４２℃）等の脂肪族エステル類、ブタノール（沸点１１８℃）、３－メチル－２－ブタノール（沸点１１２℃）もしくは３－メチル－３－メトキシブタノール（沸点１７４℃）等の脂肪族アルコール類、シクロペンタノンもしくはシクロヘキサノン等のケトン類、キシレン（沸点１４４℃）、エチルベンゼン（沸点１３６℃）またはソルベントナフサ（石油留分：沸点１６５～１７８℃）が挙げられる。
　さらに、透明基板の大型化に伴いダイコーティング装置による塗布が主流になってきているところ、適度な揮発性および乾燥性を実現するため、沸点が１５０～２００℃の溶媒を３０～７５質量％含有する、混合溶媒が好ましい。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物は、塗布性および着色被膜の平滑性を確保しながらベナードセルを防止するため、界面活性剤を含有しても構わない。界面活性剤の添加量は、着色材１００質量部に対して０．００１～１０質量部が好ましく、０．０１～１質量部がより好ましい。
　界面活性剤としては、例えば、ラウリル硫酸アンモニウムもしくはポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の陰イオン界面活性剤；ステアリルアミンアセテートもしくはラウリルトリメチルアンモニウムクロライド等の陽イオン界面活性剤；ラウリルジメチルアミンオキサイドもしくはラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテルもしくはソルビタンモノステアレート等の非イオン界面活性剤；ポリジメチルシロキサン等を主骨格とするシリコーン系界面活性剤；またはフッ素系界面活性剤が挙げられる。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物における溶媒を除固形分の濃度としては、塗工性や乾燥性の観点から、２～３０質量％が好ましく、５～２０質量％がより好ましい。
　樹脂ＢＭの形成に用いる感光性着色樹脂組成物の製造方法としては、例えば、分散機を用いて樹脂溶液中に直接顔料を分散させる方法、または、分散機を用いて水もしくは有機溶媒中に顔料を分散させて顔料分散液を作製し、その後、顔料分散液と樹脂溶液とを混合する方法が挙げられる。顔料の分散方法としては、例えば、ボールミル、サンドグラインダー、３本ロールミルまたは高速度衝撃ミルが挙げられる。分散効率や微分散化の観点から、ビーズミルが好ましい。ビーズミルとしては、例えば、コボールミル、バスケットミル、ピンミルまたはダイノーミルが挙げられる。ビーズミルに用いるビーズとしては、例えば、チタニアビーズ、ジルコニアビーズまたはジルコンビーズが好ましい。分散に用いるビーズの直径としては、０．０１～５．０ｍｍが好ましく、０．０３～１．０ｍｍがより好ましい。顔料の一次粒子径または一次粒子が凝集して形成された二次粒子の粒子径が小さい場合には、分散に用いるビーズの直径としては、０．０３～０．１０ｍｍといった微小なビーズが好ましい。この場合、微小なビーズと分散液とを分離することが可能な、遠心分離方式によるセパレーターを有するビーズミルを用いて分散することが好ましい。一方で、サブミクロン程度の粗大な粒子を含有する顔料を分散させる場合には、十分な粉砕力を得るため、ビーズの直径が０．１０ｍｍ以上のビーズが好ましい。
　本発明の樹脂ＢＭ基板の製法例を以下に示す。まず、感光性着色樹脂組成物を透明基板上に塗布する。感光性着色樹脂組成物を基板上に塗布する方法としては、例えば、ディップ法、ロールコータ法、スピナー法、ダイコーティング法もしくはワイヤーバーによる方法、基板を溶液中に浸漬する方法または溶液を基板に噴霧する方法が挙げられる。なお、感光性着色樹脂組成物を基板上に塗布する場合、シランカップリング剤、アルミニウムキレート剤またはチタニウムキレート剤等の接着助剤で基板表面を処理しておくことで、塗布膜と基板との接着力を向上させることができる。
　透明基板としては、例えば、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラスもしくは表面をシリカコートしたソーダライムガラス等の無機ガラス類；または有機プラスチックのフィルムもしくはシートが挙げられる。
　感光性着色樹脂組成物を基板上に塗布した後、風乾、加熱乾燥または真空乾燥等により塗布膜の加熱乾燥および硬化をさせて、乾燥被膜を形成する。乾燥被膜を形成する際の乾燥ムラや搬送ムラを抑制するため、感光性着色樹脂組成物を塗布した基板を、加熱装置を備えた減圧乾燥機で減圧乾燥した後、加熱硬化することが好ましい。
　得られた乾燥被膜は、必要に応じて酸素遮断膜を形成した上で、フォトリソグラフィーなどの方法を用いてパターン加工される。その後、必要に応じて、酸素遮断膜を除去した後、さらに加熱乾燥および硬化をさせることで、樹脂ＢＭが得られる。熱硬化条件は、樹脂により異なるが、アクリル系樹脂を用いる場合には、２００～２５０℃で１～６０分加熱するのが好ましい。
　また、樹脂ＢＭの反射色度としては、基板側の面より測定を行い、ＪＩＳ－Ｚ８７２９の方法に従って、標準Ｃ光源に対する反射スペクトルを用いて、ＣＩＥ　Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系により計算された色度値（ａ＊、ｂ＊）を用いるのが一般的である。しかしながら、本発明の樹脂ＢＭ基板における樹脂ＢＭは多層からなるため、各層の界面で反射した光が干渉し、測定値と視認される色相とが合わない場合がある。そこで本発明においては、印刷インキにより形成した見本ＢＭを比較対象として、太陽光の下、目視による官能評価により判断を行った。反射色調としては、光沢が少なく、青みの反射色調となることが好ましい。
　本発明のタッチパネル基板は、本発明の樹脂ＢＭ基板上に、絶縁膜および透明電極が、さらに形成されたものである。
　本発明の樹脂ＢＭ基板を用いて作製されたタッチパネル基板の製造例を、図１および図２を参照しながら、以下に説明する。まず、透明基板２上に第一の樹脂ＢＭ３および第二の樹脂ＢＭ４を形成した後に、透明基板２上にＩＴＯなどの透明電極からなるジャンパ配線５を形成する。ジャンパ配線の作製方法としては、例えば、次のような方法を用いることができる。まず、スパッタリング法または真空蒸着法により、２層ＢＭを形成した透明基板２上にＩＴＯ膜を形成する。該ＩＴＯ膜上にノボラック系ポジレジストを塗布し、該ポジレジストを乾燥、露光および現像した後に、酸によりＩＴＯ膜をエッチングして、ＩＴＯ膜をパターニングする。その後、アルカリによりポジレジストを剥離することで、ジャンパ配線５が形成される。
　続いて、ジャンパ配線５上に第一の絶縁膜６を形成する。第一の絶縁膜６を形成すると同時に、樹脂ＢＭの保護を目的として、樹脂ＢＭ上に第二の絶縁膜１０を形成してもかまわない。絶縁膜としては、有機膜および無機膜共に好適に用いられる。有機膜からなる絶縁膜は、一般的なアクリル系ネガレジストを塗布、乾燥、露光、現像および熱硬化することで形成される。
　次に、樹脂ＢＭ上および／または第二の絶縁膜上に金属配線７を形成する。金属配線の形成方法としては、例えば、スパッタリング法によりＭｏ層、Ａｌ層、Ｍｏ層を順次形成した３層構造の金属膜を形成した後、該金属膜を、前記ジャンパ配線と同様にしてパターニングを行う方法が挙げられる。
　次に、透明基板２上に金属配線７と導通させる形で、前記ジャンパ配線５と同様の方法により、透明電極８を形成する。
　最後に、前記のようにして形成した各部材を被覆するように、保護膜９を形成する。保護膜９としては、有機膜、無機膜共に好適に用いられる。
　本発明のカラーフィルターは、本発明の樹脂ＢＭ基板上の２層樹脂ＢＭが形成されていない部分（以下、開口部と呼ぶ）に、赤、緑または青の画素が形成されたものである。
　本発明のカラーフィルター基板の製造方法としては、例えば、透明な基板上に２層樹脂ＢＭを形成した後に、公知の方法により赤、緑または青の画素を形成する。
　画素の材質としては、例えば、任意の光のみを透過するように膜厚制御された無機膜、または、染料もしくは顔料がバインダー樹脂に分散された着色樹脂膜が挙げられる。中でも、顔料がバインダー樹脂に分散された着色樹脂膜が好ましい。バインダー樹脂としては、例えば、アクリル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられる。耐熱性および耐薬品性の観点から、ポリイミドが好ましい。
　顔料としては、耐光性、耐熱性および耐薬品性に優れたものが好ましい。
　赤色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、４８、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９０、１９２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０または２５４が挙げられる。
　オレンジ色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５または７１が挙げられる。
　黄色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、８３、８６、９３、９４、９５、１０９、１１０、１１７、１２５、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５３、１５４、１６６、１６８、１７３、１８０または１８５が挙げられる。
　紫色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、４０または５０が挙げられる。
　青色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、６４または８０が挙げられる。
　緑色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、１０、３６または５８が挙げられる。
　これらの顔料は、必要に応じて、ロジン処理、酸性基処理、塩基性処理等の表面処理がされていても構わないまた、分散剤として顔料誘導体が添加されていても構わない。
　画素の上に必要に応じてオーバーコート膜を形成しても構わない。オーバーコート膜としては、例えば、エポキシ膜、アクリルエポキシ膜、アクリル膜、シロキサンポリマ系の膜、ポリイミド膜、ケイ素含有ポリイミド膜、ポリイミドシロキサン膜等が挙げられる。オーバーコート膜の上にさらに、透明導電膜を形成する場合もある。透明導電膜としては、例えば、膜厚０．１μｍ程度のＩＴＯ等の酸化物薄膜が挙げられる。ＩＴＯ膜の作製方法としては、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法が挙げられる。
　本発明のカラーフィルター基板と対向基板とを貼合せ、両者の間のギャップに液晶化合物を充填することにより、液晶表示装置を製造することができる。
は、固定されたスペーサーを形成しても構わない。固定されたスペーサーとは、カラーフィルター基板の特定の場所に固定され、液晶表示装置を作製した際に対向基板と接するものをいう。これにより対向基板との間に、一定のギャップが保持され、このギャップ間に液晶化合物が充填される。固定されたスペーサーを形成することにより、液晶表示装置の製造工程において球状スペーサーを散布する行程や、シール剤内にロッド状のスペーサーを混練りする工程を省略することができる。
　本発明のカラーフィルター基板と、発光素子とを貼り合わせることにより、表示デバイスを製造することができる。
　発光素子としては有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」）が好ましい。本発明の表示デバイスは、２層樹脂ＢＭ基板が高ＯＤで低反射であるという特徴を活かして、黒表示における発光素子からの余分な光を効果的に遮光するとともに、外光の反射を抑え、コントラストが高く鮮明なディスプレイを得ることができる。
　さらには、本発明の樹脂ＢＭ基板の透明基板としてポリイミド樹脂膜を用いた場合、フレキシブルなカラーフィルター基板を作製することができる。このようなフレキシブルなカラーフィルター基板と発光素子を貼り合わせることにより、フレキシブルな表示デバイスを得ることができる。発光素子として有機ＥＬ素子を用いれば、フレキシブルな有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
　以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　＜評価方法＞
　［透過色度座標］
　厚み０．７ｍｍの化学強化ガラス（Ｇｏｒｉｌｌａ；コーニング製）の上に所望の膜厚の樹脂ＢＭを形成し、顕微分光器（ＭＣＰＤ２０００；大塚電子製）を用いて、Ｃ光源、２度視野で測定したＣＩＥ１９３１表色系における透過色度座標を測定した。
　［ＯＤ値］
　２層の樹脂ＢＭのＯＤ値は、透明基板上に形成した２層の樹脂ＢＭを、顕微分光器（大塚電子製、ＭＣＰＤ３００）を用いて測定し、入射光強度と透過光強度から、以下の式（１）より算出した。
　樹脂ＢＭの膜厚１μｍ当たりのＯＤ値は、厚み０．７ｍｍの化学強化ガラスの上に膜厚１．０μｍの樹脂ＢＭを形成し、顕微分光器（大塚電子製、ＭＣＰＤ３００）を用いて樹脂ＢＭ塗膜面からの入射光および透過光それぞれの強度を測定し、以下の式（１）より算出した。
ＯＤ値　＝　ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）　・・・　式（１）
Ｉ０：入射光強度
Ｉ：透過光強度。
　［反射色度］
　厚み０．７ｍｍの化学強化ガラスの上に所望の膜厚の樹脂ＢＭを形成し、分光光時計（ＵＶ－２５００ＰＣ；島津製作所製）を用いて、ガラス面からの反射色度を測定した（測定波長領域：３００～７８０ｎｍ、サンプリングピッチ：１．０ｎｍ、スキャン速度：低速、スリット幅：２．０ｎｍ）。
　［反射色調］
　厚み０．７ｍｍの化学強化ガラスの上に黒色印刷インキ（ＧＬＳ－９１２；帝国インキ社製）を乾燥後の厚みが１０μｍとなるように２３０メッシュ版を用いて印刷した後、１５０℃で３０分間オーブン乾燥を行い、見本ＢＭを作製した。
　厚み０．７ｍｍの化学強化ガラスの上に所望の樹脂ＢＭを形成し、太陽光の下、上記の見本ＢＭと目視比較して、以下の判断基準に基づき反射色調を判断した。
Ａ　：　視認性が極めて良好（漆黒で深みのある黒）
Ｂ　：　視認性が良好（青みのある黒）
Ｃ　：　視認性が不良（灰色がかった黒）
　（アクリルポリマー（Ｐ－１）の合成）
　文献（特許第３１２０４７６号公報；実施例１）記載の方法により、メチルメタクリレート／メタクリル酸／スチレン共重合体（質量組成比３０／４０／３０）を合成後、得られた共重合体１００質量部に対して、４０質量部のグリシジルメタクリレートを付加させ、精製水で再沈した。得られた沈殿を、濾過し、乾燥することにより、平均分子量（Ｍｗ）１０，０００、酸価１１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）のアクリルポリマー（Ｐ－１）粉末を得た。
　（着色材分散液の製造）
　青色有機顔料ＰＢ１５：６（東洋インキ（株）製）を１２０ｇ、アクリルポリマー（Ｐ－１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＭＡ」）３５質量％溶液を１１４ｇ、高分子分散剤としてディスパービックＬＰＮ－２１１１６（ＤＰ－１；ビックケミー社製；ＰＭＡ４０質量％溶液）を１００ｇおよびＰＭＡ６６６ｇをタンクに仕込み、ホモミキサー（プライミクス製）で２０分撹拌し、予備分散液を得た。その後、０．０５ｍｍφジルコニアビーズ（ＹＴＺボール；ネツレン製）を７５％充填した遠心分離セパレーターを具備したウルトラアペックスミル（寿工業製）に予備分散液を供給し、回転速度８ｍ／ｓで３時間分散を行い、固形分濃度２０質量％、着色材／樹脂（質量比）＝６０／４０の着色材分散液ＤＢ－１を得た。
　着色材として青色有機顔料ＰＢ１５：６の代わりに赤色有機顔料ＰＲ２５４（ＢＡＳＦ製）を用いた以外は、着色材分散液ＤＢ－１と同様にして、着色材分散液ＤＲ－１を得た。
　着色材として青色有機顔料ＰＢ１５：６の代わりに紫色有機顔料ＰＶ２３（クラリアント製）を用いた以外は、着色材分散液ＤＢ－１と同様にして、着色材分散液ＤＶ－１を得た。
　高抵抗カーボンブラック（キャボット（株）製）を１７５ｇ、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を１７１ｇ、高分子分散剤としてディスパービックＬＰＮ－２１１１６を３８ｇおよびＰＭＡ６１６ｇをタンクに仕込み、ホモミキサーで２０分撹拌し、予備分散液を得た。その後、０．０５ｍｍφジルコニアビーズを７５％充填した遠心分離セパレーターを具備したウルトラアペックスミルに予備分散液を供給し、回転速度８ｍ／ｓで３時間分散を行い、固形分濃度２５質量％、着色材／樹脂（質量比）＝７０／３０の着色材分散液ＤＫ－１を得た。
　熱プラズマ法により製造したチタン窒化物粒子（日清エンジニアリング（株）製）を２００ｇ、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を１１４ｇ、高分子分散剤として３級アミノ基と４級アンモニウム塩基を有するディスパービックＬＰＮ－２１１１６を２５ｇおよびＰＭＡ６６１ｇをタンクに仕込み、ホモミキサーで２０分撹拌し、予備分散液を得た。その後、０．０５ｍｍφジルコニアビーズを７５％充填した遠心分離セパレーターを具備したウルトラアペックスミル（寿工業製）に予備分散液を供給し、回転速度８ｍ／ｓで３時間分散を行い、固形分濃度２５質量％、着色材／樹脂（質量比）＝８０／２０の着色材分散液ＤＫ－２を得た。
　（着色樹脂組成物Ａ－１の製造）
　ＰＭＡを５０．９３ｇに、光重合開始剤としてアデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１を１．２５ｇ添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を２４．９４ｇ、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）を６．２４ｇ、密着改良剤としてＫＢＭ５１０３（信越化学（株）製）を０．６０ｇ、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のＰＭＡ１０質量％溶液を０．４０ｇ添加し、室温にて１時間撹拌し、感光性レジストを得た。この感光性レジストに青色顔料分散液ＤＢ－１を６．２５ｇ、赤色顔料分散液ＤＲ－１を９．３８ｇ添加することで全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝１０／９０、青色顔料／赤色顔料（質量比）＝４０／６０の感光性着色樹脂組成物Ａ－１を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－２の製造）
　ＰＭＡを４２．００ｇに、光重合開始剤としてアデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１を１．０６ｇ添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を１９．０８ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）を５．２９ｇ、ＫＢＭ５１０３を０．６０ｇ、シリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のＰＭＡ１０質量％溶液を０．４０ｇ添加し、室温にて１時間撹拌して、感光性レジストを得た。この感光性レジストに青色顔料分散液ＤＢ－１を１２．６３ｇ、赤色顔料分散液ＤＲ－１を１８．９４ｇ添加することで全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、青色顔料／赤色顔料（質量比）＝４０／６０の感光性着色樹脂組成物Ａ－２を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－３の製造）
　ＰＭＡを２３．５７ｇに、 アデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１を０．６７ｇ添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を６．９８ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３．３５ｇ、ＫＢＭ５１０３を０．６０ｇ、シリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のＰＭＡ１０質量％溶液を０．４０ｇ添加し、室温にて１時間撹拌して、感光性レジストを得た。この感光性レジストに青色顔料分散液ＤＢ－１を２５．７７ｇ、赤色顔料分散液ＤＲ－１を３８．６６ｇ添加することで全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝４０／６０、青色顔料／赤色顔料（質量比）＝４０／６０の感光性着色樹脂組成物Ａ－３を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－４の製造）
　青色顔料分散液ＤＢ－１を１８．９４ｇ、赤色顔料分散液ＤＲ－１を１２．６３ｇ添加した以外は着色樹脂組成物Ａ－２と同様にして、全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、青色顔料／赤色顔料（質量比）＝６０／４０の感光性着色樹脂組成物Ａ－４を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－５の製造）
　着色顔料分散液として、青色顔料分散液ＤＢ－１および赤色顔料分散液ＤＲ－１の代わりに紫色顔料分散液ＤＶ－１を３１．５７ｇ添加した以外は着色樹脂組成物Ａ－２と同様にして、全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、紫顔料＝１００の感光性着色樹脂組成物Ａ－５を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－６の製造）
　青色顔料分散液ＤＢ－１を２５．２６ｇ、赤色顔料分散液ＤＲ－１を６．３１ｇ添加した以外は着色樹脂組成物Ａ－２と同様にして、全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、青色顔料／赤色顔料（質量比）＝８０／２０の感光性着色樹脂組成物Ａ－６を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－７の製造）
　赤色顔料分散液ＤＲ－１を添加せず、青色顔料分散液ＤＢ－１を３１．５７ｇ添加した以外は着色樹脂組成物Ａ－２と同様にして、全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、青色顔料＝１００の感光性着色樹脂組成物Ａ－７を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－８の製造）
　青色顔料分散液ＤＢ－１を６．３１ｇ、赤色顔料分散液ＤＲ－１を２５．２６ｇ添加した以外は着色樹脂組成物Ａ－２と同様にして、全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、青色顔料／赤色顔料（質量比）＝２０／８０の感光性着色樹脂組成物Ａ－８を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－９の製造）
　ＰＭＡを５０．１５ｇに、 アデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１を１．１３ｇ添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を２０．５０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５．６５ｇ、ＫＢＭ５１０３を０．６０ｇ、シリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のＰＭＡ１０質量％溶液を０．４０ｇ添加し、室温にて１時間撹拌して、感光性レジストを得た。この感光性レジストにカーボンブラック分散液ＤＫ－１を２１．５７ｇ添加することで全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、カーボンブラック＝１００の感光性着色樹脂組成物Ａ－９を調製した。
　（着色樹脂組成物Ａ－１０の製造）
　ＰＭＡを５１．０４ｇに、 アデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１を１．１４ｇ添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を２２．２６ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５．７０ｇ、ＫＢＭ５１０３を０．６０ｇ、シリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のＰＭＡ１０質量％溶液を０．４０ｇ添加し、室温にて１時間撹拌して、感光性レジストを得た。この感光性レジストにチタン窒化物分散液ＤＫ－２を１８．８６ｇ添加することで全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝２０／８０、チタン窒化物＝１００の感光性着色樹脂組成物Ａ－１０を調製した。
　（着色樹脂組成物Ｂ－１の製造）
　ＰＭＡを３７．７８ｇに、 アデカアークルズ（登録商標）ＮＣＩ－８３１（０．７３ｇ）を添加し、固形分が溶解するまで撹拌した。
　さらに、アクリルポリマー（Ｐ－１）のＰＭＡ３５質量％溶液を７．７８ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３．６３ｇ、ＫＢＭ５１０３を０．６０ｇ、シリコーン系界面活性剤ＢＹＫ３３３のＰＭＡ１０質量％溶液を０．４０ｇ添加し、室温にて１時間撹拌して、感光性レジストを得た。この感光性レジストにカーボンブラック分散液ＤＫ－１を３８．００ｇ、チタン窒化物分散液ＤＫ－２を１１．０８ｇ添加することで全固形分濃度２０％、顔料／樹脂（質量比）＝４６／５４、カーボンブラック／チタン窒化物（質量比）＝７５／２５の感光性着色樹脂組成物Ｂ－１を調製した。
　（実施例１）
　調製した感光性着色樹脂組成物Ａ－１を２μｍのテフロン（登録商標）製フィルターで濾過後、膜厚が１．５μｍ（ポストベイク後）になるように厚み０．７μｍの化学強化ガラス基板上にミカサ（株）製スピンコーティング装置１Ｈ－ＤＳで塗布した。感光性着色樹脂組成物Ａ－１を塗布した基板を９０℃のホットプレート上のピン状突起物で２分加熱処理し、さらに２分間ホットプレート上に直接基板を静置してプリベイクを行った。この塗布膜にマスクアライナー（ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学（株）製）を用い、解像度テスト用マスクを介して紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光した。
　次に、０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液のアルカリ現像液で現像し、続いて純水洗浄することにより、パターンニング基板を得た。得られたパターンニング基板を熱風オーブン中２３０℃で３０分保持し、ポストベイクを行なうことでＢＭ（Ａ）－１基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１を作製した。
　（実施例２）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－２を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２を作製した。
　（実施例３）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－２を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－３基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－３基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―３を作製した。
　（実施例４）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－２を用い、膜厚が０．７μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－４基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－４基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―４を作製した。
　（実施例５）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－３を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－５基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－５基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―６を作製した。
　（実施例６）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－３を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－６基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－６基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―６を作製した。
　（実施例７）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－３を用い、膜厚が０．７μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－７基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－７基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―７を作製した。
　（実施例８）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－４を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－８基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－８基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―８を作製した。
　（実施例９）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－４を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－９基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－９基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―９を作製した。
　（実施例１０）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－４を用い、膜厚が０．７μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１０基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１０基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１０を作製した。
　（実施例１１）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－５を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１１基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１１基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１１を作製した。
　（実施例１２）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－５を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１２基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１２基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１２を作製した。
　（実施例１３）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－５を用い、膜厚が０．７μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１３基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１３基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１３を作製した。
　（実施例１４）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－６を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１４基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１４基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１４を作製した。
　（実施例１５）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－６を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１５基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１５基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１５を作製した。
　（実施例１６）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－６を用い、膜厚が０．７μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１６基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１６基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１６を作製した。
　（実施例１７）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－７を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１７基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１７基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１７を作製した。
　（実施例１８）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－７を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１８基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１８基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１８を作製した。
　（実施例１９）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－７を用い、膜厚が０．７μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１９基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－１９基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―１９を作製した。
　（比較例１）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－１を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２０基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２０基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２０を作製した。
　（比較例２）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－２を用い、膜厚が０．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２１基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２１基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２１を作製した。
　（比較例３）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－３を用い、膜厚が０．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２２基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２２基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２２を作製した。
　（比較例４）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－４を用い、膜厚が０．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２３基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２３基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２３を作製した。
　（比較例５）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－５を用い、膜厚が０．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２４基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２４基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２４を作製した。
　（比較例６）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－６を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２５基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２５基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２５を作製した。
　（比較例７）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－６を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２６基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２６基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２６を作製した。
　（比較例８）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－７を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２７基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２７基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２７を作製した。
　（比較例９）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－７を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２８基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２８基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２８を作製した。
　（比較例１０）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－８を用い、膜厚が１．５μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２９基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－２９基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―２９を作製した。
　（比較例１１）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－８を用い、膜厚が１．０μｍとなるようにした以外はＢＭ－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－３０基板を得た。
　感光性着色樹脂組成物としてＢ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ＢＭ（Ａ）－３０基板上に膜厚が１．４μｍとなるようにＢＭ（Ｂ）－１を形成し、２層ＢＭ―３０を作製した。
　（参考例１）
　感光性着色樹脂組成物としてＡ－１を用いず、Ｂ－１を用いた以外はＢＭ（Ａ）－１と同様にして、ガラス基板上に膜厚が１．４μｍとなるように単層ＢＭ－３１を形成した。
　（参考例２）
　厚み０．７ｍｍの化学強化ガラス基板上に黒色印刷インキ（ＧＬＳ－９１２；帝国インキ社製）を乾燥後の厚みが１０μｍとなるように２３０メッシュ版で印刷した後、１５０℃で３０分間オーブン乾燥を行い、単層ＢＭ―３２を形成した。
　実施例１～１９、および比較例１～１２で使用した着色材分散液の組成を表１に、感光性着色樹脂組成物の組成を表２に示す。また、感光性着色樹脂組成物を用いて作製したＢＭ（Ａ）、ＢＭ（Ｂ）および２層ＢＭの評価結果を表３および４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　実施例にて作製した２層ＢＭは、膜厚が３．０μｍと薄く遮光性もＯＤ＝４．５以上と高いにも関わらず、反射率が低く反射の色調も良好なことが判る。また、着色材として、顔料を用いているので、染料を用いたＢＭと比較して、耐薬品性や耐熱性に優れる。
　本発明の樹脂ＢＭ基板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置またはプラズマディスプレイ表示装置等の表示デバイスのＢＭ基板および加飾用基板として好ましく用いることができ、タッチパネル用樹脂ＢＭ基板としてより好ましく用いることができ、カバーガラス一体型タッチパネル用樹脂ＢＭ基板としてさらに好ましく用いることができる。
　１　タッチパネル基板
　２　透明基板
　３　第一の樹脂ブラックマトリクス
　４　第二の樹脂ブラックマトリクス
　５　ジャンパ配線
　６　第一の絶縁膜
　７　メタル配線
　８　透明電極
　９　透明保護膜
１０　第二の絶縁膜

Claims (11)

  1. 　透明基板と、
    　該透明基板の上に形成された、第一の樹脂ブラックマトリクスと、
    　該第一の樹脂ブラックマトリクスの上に形成された、第二の樹脂ブラックマトリクスと、を備え、
    　前記第一の樹脂ブラックマトリクスの膜厚が、０．７μｍ以上であり、かつ、透過色度座標が、０．００１≦ｘ≦０．３００および０．００１≦y≦０．２５０の範囲にあり、
    　前記第一の樹脂ブラックマトリクスおよび前記第二の樹脂ブラックマトリクスからなる２層の樹脂ブラックマトリクスの光学濃度が、３．５以上である、樹脂ブラックマトリクス基板。
  2. 　前記第一の樹脂ブラックマトリクスは、青色顔料または紫色顔料を含有する、請求項１記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
  3. 　前記第一の樹脂ブラックマトリクスは、青色顔料および赤色顔料を含有するか、または紫色顔料を含有する、請求項１または２記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
  4. 　前記第一の樹脂ブラックマトリクスの膜厚１μｍ当たりの光学濃度が、０．５～２．０である、請求項１～３のいずれか一項記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
  5. 　前記第二の樹脂ブラックマトリクスは、黒色顔料を含有する、請求項１～４のいずれか一項記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
  6. 　前記黒色顔料は、カーボンブラックまたはチタン窒化物である、請求項５記載の樹脂ブラックマトリクス基板。
  7. 　請求項１～６のいずれか一項記載の樹脂ブラックマトリクス基板上に、絶縁膜および透明電極が、さらに形成されたタッチパネル。
  8. 　請求項１～６のいずれか一項記載の樹脂ブラックマトリクス基板の開口部に、赤、緑または青の画素が形成されたカラーフィルター基板。
  9. 　請求項８記載のカラーフィルター基板と、対向基板とを貼合せ、両者の間のギャップに、液晶化合物が充填された液晶表示装置。
  10. 　請求項８記載のカラーフィルター基板と、発光素子とを貼り合わせた、表示デバイス。
  11. 　前記発光素子が有機ＥＬ素子である、請求項１０記載の表示デバイス。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019026858A1 (ja) * 2017-07-31 2019-02-07 大日本印刷株式会社 表示パネルおよび表示装置
JP2019028370A (ja) * 2017-08-02 2019-02-21 大日本印刷株式会社 表示装置用前面板及び表示装置
JP2019028308A (ja) * 2017-07-31 2019-02-21 大日本印刷株式会社 表示パネル及び表示装置
JP2019066613A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 大日本印刷株式会社 表示パネルおよびタイリング表示装置
US11156918B2 (en) * 2017-03-29 2021-10-26 Toray Industries, Inc. Photosensitive composition, cured film and organic el display device

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107203300A (zh) * 2016-03-18 2017-09-26 财团法人工业技术研究院 触控显示面板
KR102109544B1 (ko) * 2019-10-16 2020-05-12 삼성에스디아이 주식회사 컬러 필터 및 이를 포함하는 액정 표시 장치

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06324207A (ja) * 1993-05-12 1994-11-25 Toppan Printing Co Ltd ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法
JPH0743519A (ja) * 1993-07-30 1995-02-14 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ
JPH0772321A (ja) * 1993-08-31 1995-03-17 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルター及びその製造方法
JPH07248412A (ja) * 1994-03-11 1995-09-26 Fujitsu Ltd カラーフィルタとカラーフィルタの製造方法
JP2000193957A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Optrex Corp 液晶表示装置
WO2010070929A1 (ja) * 2008-12-19 2010-06-24 シャープ株式会社 基板および基板を備えた表示パネル
JP2012123287A (ja) * 2010-12-10 2012-06-28 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ、横電界駆動式液晶表示装置、ブラックマトリクスの形成方法およびカラーフィルタの製造方法
WO2013018591A1 (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 シャープ株式会社 タッチパネル基板および電気光学装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07318950A (ja) * 1994-05-27 1995-12-08 Sony Corp 電気光学表示セルのスペーサ形成方法
US5780201A (en) * 1996-09-27 1998-07-14 Brewer Science, Inc. Ultra thin photolithographically imageable organic black matrix coating material
JPH1123836A (ja) * 1997-07-04 1999-01-29 Toray Ind Inc ブラックマトリクス、カラーフィルターおよび液晶表示装置
JP2005075965A (ja) 2003-09-02 2005-03-24 Toray Ind Inc 黒色被膜組成物、樹脂ブラックマトリクス、カラーフィルターおよび液晶表示装置
JP5207175B2 (ja) * 2008-03-31 2013-06-12 Ｎｌｔテクノロジー株式会社 表示装置、電子機器、光学部材、表示パネル、コントローラ、及び表示パネルの駆動制御方法
JP5157686B2 (ja) 2008-07-02 2013-03-06 東レ株式会社 黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス、カラーフィルター、および液晶表示装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06324207A (ja) * 1993-05-12 1994-11-25 Toppan Printing Co Ltd ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法
JPH0743519A (ja) * 1993-07-30 1995-02-14 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ
JPH0772321A (ja) * 1993-08-31 1995-03-17 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルター及びその製造方法
JPH07248412A (ja) * 1994-03-11 1995-09-26 Fujitsu Ltd カラーフィルタとカラーフィルタの製造方法
JP2000193957A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Optrex Corp 液晶表示装置
WO2010070929A1 (ja) * 2008-12-19 2010-06-24 シャープ株式会社 基板および基板を備えた表示パネル
JP2012123287A (ja) * 2010-12-10 2012-06-28 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ、横電界駆動式液晶表示装置、ブラックマトリクスの形成方法およびカラーフィルタの製造方法
WO2013018591A1 (ja) * 2011-07-29 2013-02-07 シャープ株式会社 タッチパネル基板および電気光学装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11156918B2 (en) * 2017-03-29 2021-10-26 Toray Industries, Inc. Photosensitive composition, cured film and organic el display device
WO2019026858A1 (ja) * 2017-07-31 2019-02-07 大日本印刷株式会社 表示パネルおよび表示装置
JP2019028308A (ja) * 2017-07-31 2019-02-21 大日本印刷株式会社 表示パネル及び表示装置
JP2019028370A (ja) * 2017-08-02 2019-02-21 大日本印刷株式会社 表示装置用前面板及び表示装置
JP2019066613A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 大日本印刷株式会社 表示パネルおよびタイリング表示装置

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