WO2013172010A1 - センサ装置 - Google Patents

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WO2013172010A1
WO2013172010A1 PCT/JP2013/003031 JP2013003031W WO2013172010A1 WO 2013172010 A1 WO2013172010 A1 WO 2013172010A1 JP 2013003031 W JP2013003031 W JP 2013003031W WO 2013172010 A1 WO2013172010 A1 WO 2013172010A1
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WO
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sensor
semiconductor substrate
anchor
reference line
sensor device
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Application number
PCT/JP2013/003031
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English (en)
French (fr)
Inventor
有木 史芳
酒井 峰一
圭正 杉本
Original Assignee
株式会社デンソー
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P15/00Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
    • G01P15/02Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
    • G01P15/08Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
    • G01P15/125Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by capacitive pick-up
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5719Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
    • G01C19/5733Structural details or topology
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    • G01C19/5719Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
    • G01C19/5769Manufacturing; Mounting; Housings
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    • G01PMEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
    • G01P15/00Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
    • G01P15/18Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration in two or more dimensions

Definitions

  • the present disclosure relates to a sensor device including a semiconductor substrate and a sensor unit that is formed on one surface side of the semiconductor substrate and converts a physical quantity into an electrical signal.
  • Patent Document 1 a substrate, a support portion formed on the substrate, a movable electrode supported by the support portion in a state of floating from the substrate, and a fixed electrode formed on the substrate, A capacitive acceleration sensor has been proposed.
  • the above-described support portion, movable electrode, and fixed electrode (hereinafter collectively referred to as a sensor portion) are formed on one surface of the substrate, and this one surface is defined by the X direction and the Y direction. It is parallel to the specified plane.
  • the capacitance type acceleration sensor shown in Patent Document 1 passes through the center of itself, the first direction along the X direction, and the second direction along the Y direction through the center of itself. It has a symmetrical structure. Therefore, even if thermal distortion occurs in the substrate due to temperature changes, the distortion is expected to be symmetric with respect to each of the first direction and the second direction, and the thermal stress caused by the distortion is detected by the sensor. The anisotropic application to the part is suppressed. Thereby, it is suppressed that the detection accuracy of acceleration falls by the above-mentioned thermal stress.
  • each sensor unit is a line with respect to each of the first direction and the second direction. It is not symmetric.
  • a sensor unit that is line symmetric with respect to the first direction and asymmetric with respect to the second direction, or a sensor unit that is asymmetric with respect to the first direction and is line symmetric with respect to the second direction is 1
  • the structure is formed on one substrate. Therefore, when thermal distortion occurs in the substrate due to temperature change, the distortion becomes asymmetric with respect to each of the first direction and the second direction. As a result, the thermal stress generated due to the distortion is anisotropically applied to each sensor unit, and the detection accuracy of acceleration of each sensor unit may be reduced. Moreover, there is a possibility that a difference occurs in the detection accuracy of acceleration of each sensor unit.
  • the present disclosure has been made in view of the above points, and an object of the present disclosure is to provide a sensor device in which a decrease in physical quantity detection accuracy is suppressed.
  • the sensor device includes a semiconductor substrate and a plurality of sensor units.
  • the plurality of sensor units are disposed on one side of the semiconductor substrate and convert physical quantities into electrical signals.
  • the one surface is parallel to a prescribed plane defined by an X direction and a Y direction orthogonal to each other.
  • the semiconductor substrate has a center point that is a geometric and mass center.
  • the semiconductor substrate has a shape symmetrical with respect to a first reference line passing through the central point and parallel to the X direction and a second reference line passing through the central point and parallel to the Y direction.
  • Each of the plurality of sensor units has a shape symmetrical with respect to the first reference line and the second reference line.
  • FIG. 1 is a top view illustrating a schematic configuration of a sensor device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.
  • FIG. 4 is a top view showing a modified example of the sensor device
  • FIG. 5 is a top view showing a modified example of the sensor device
  • FIG. 6 is a top view showing a modified example of the sensor device
  • FIG. 7 is a top view showing a modified example of the sensor device
  • FIG. 8 is a top view showing a modified example of the sensor device
  • FIG. 1 is a top view illustrating a schematic configuration of a sensor device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.
  • FIG. 4 is a top view showing a modified example of the
  • FIG. 9 is a sectional view taken along line IX-IX in FIG.
  • FIG. 10 is a sectional view showing a displacement state when acceleration is applied
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing a displacement state when acceleration is applied
  • FIG. 12 is a top view showing a modified example of the sensor device
  • FIG. 13 is a cross-sectional view showing thermal strain generated in the semiconductor substrate when the lid is attached to the semiconductor substrate
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing thermal strain generated in the semiconductor substrate when the lid is not attached to the semiconductor substrate.
  • the sensor unit includes an acceleration sensor.
  • the sensor device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. In the following, two directions orthogonal to each other are indicated as an X direction and a Y direction, and a direction orthogonal to these two directions is indicated as a Z direction.
  • the sensor device 100 has a semiconductor substrate 10 with a fine structure.
  • the semiconductor substrate 10 is a silicon on insulator (SOI) substrate in which an insulating layer 13 is sandwiched between a first semiconductor layer 11 and a second semiconductor layer 12, and this semiconductor substrate Sensor portions 14 and 15 corresponding to the fine structure described above are formed in a portion close to one surface 10 a of 10. That is, the semiconductor substrate 10 includes the second semiconductor layer 12, the insulating layer 13, and the first semiconductor layer 11 in a direction from the one surface 10a toward another surface located on the opposite side. Sensor units 14 and 15 are provided.
  • the one surface 10a is parallel to a defined plane defined by the X direction and the Y direction.
  • the sensor parts 14 and 15 are formed by etching the second semiconductor layer 12 and the insulating layer 13 into a predetermined shape using a known exposure technique.
  • the sensor units 14 and 15 are not connected to the first semiconductor layer 11 via the insulating layer 13 and the floating portion 16 where the second semiconductor layer 12 is floated relative to the first semiconductor layer 11 without the insulating layer 13 interposed therebetween. And a fixing portion 17 to which the second semiconductor layer 12 is fixed. That is, the sensor units 14 and 15 are provided by the second semiconductor layer 12 of the semiconductor substrate 10.
  • the floating portion 16 includes a weight portion 18 that forms the center of mass, a movable electrode 19 formed on the weight portion 18, a fixed electrode 20 that faces the movable electrode 19, a support portion 21 that supports the fixed electrode 20, and an electrode 19. , 20 have first beam portions 22 having spring properties in a direction facing each other.
  • the fixing portion 17 includes a first anchor 23 that supports the weight portion 18 and a second anchor 24 that supports the fixed electrode 20 by supporting the supporting portion 21.
  • a first pad 25 for inputting a constant voltage is formed on the first anchor 23, and a capacitance change of a capacitor formed by the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 is applied to the second anchor 24 by an external element (
  • a second pad 26 is formed for output to an unillustrated).
  • the first sensor unit 14 and the second sensor unit 15 have different shapes. Therefore, first, the first sensor unit 14 will be described, and then the second sensor unit 15 will be described.
  • the weight portion 18 of the first sensor portion 14 has a frame portion 18a surrounding the periphery of the first anchor 23 whose longitudinal direction extends in the X direction.
  • the anchor 23 and the frame portion 18a are connected to each other via both first ends of the anchor 23 and the first beam portion 22 having a spring property in the X direction. With this configuration, the frame portion 18a can be displaced in the X direction.
  • the region surrounded by the frame portion 18 a is divided into two equal parts by the first anchor 23 and the first beam part 22. It passes through the center point that is the mass center and is symmetrically arranged with respect to the first reference line L1 parallel to the X direction.
  • a movable electrode 19, a fixed electrode 20, and a support portion 21 that supports the fixed electrode 20 are disposed in each of the bisected regions.
  • a movable electrode 19 having a longitudinal direction in the Y direction is formed in a comb shape from the inner surface of the portion along the X direction in the frame portion 18a, and a longitudinal direction in the Y direction is formed from a surface facing the frame portion 18a in the support portion 21.
  • the fixed electrode 20 is formed in a comb shape.
  • the comb-like electrodes 19 and 20 mesh with each other so as to face each other in the X direction, thereby forming a first capacitor.
  • the capacitance of the first capacitor is changed by the displacement of the frame portion 18a (movable electrode 19) in the X direction.
  • the region surrounded by the frame portion 18a is divided into two equal parts by the first anchor 23 and the first beam portion 22, but one region (hereinafter referred to as the upper region) located above the plane of the drawing.
  • the movable electrode 19 located on the left side of the paper surface relative to the opposed fixed electrode 20 and the movable electrode 19 located on the other region located below the paper surface (hereinafter referred to as a lower region) is opposed fixed.
  • the electrode 20 is located on the right side of the drawing. Therefore, when the frame portion 18a moves to the right in the drawing, the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 located in the upper region are displaced away from each other, while the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 located in the lower region are displaced. Are displaced toward each other.
  • the increase and decrease of the electrostatic capacitances of the first capacitor constituted by the upper region electrodes 19 and 20 and the first capacitor constituted by the lower region electrodes 19 and 20 are reversed.
  • the acceleration in the X direction is detected based on the difference in capacitance between these two first capacitors.
  • the first anchor 23 is positioned at the center of the semiconductor substrate 10, and is aligned in the Y direction via the second anchor 24 and a minute gap (a gap for partitioning the anchors 23, 24). It is out.
  • the weight portion 18 of the second sensor portion 15 has a frame portion 18 b that surrounds the periphery of the first sensor portion 14.
  • the first anchor 23 is disposed outside the region surrounded by the frame portion 18b, and the portion along the X direction in the frame portion 18b and the first anchor 23 form the first beam portion 22 having springiness in the Y direction. Are connected through. With this configuration, the frame portion 18b can be displaced in the X direction.
  • two rectangular regions are formed between a portion of the frame portion 18b along the Y direction and the first sensor unit 14, and these two regions are geometric shapes of the semiconductor substrate 10. They are symmetrically arranged with respect to a second reference line L2 that passes through a central point that is a geometrical and mass center and is parallel to the Y direction.
  • a movable electrode 19, a fixed electrode 20, and a support portion 21 that supports the fixed electrode 20 are disposed in each of these two regions.
  • a movable electrode 19 whose longitudinal direction extends in the X direction is formed in a comb-tooth shape from the inner surface of the portion along the Y direction in the frame portion 18b, and the longitudinal direction extends in the X direction from the surface facing the frame portion 18b in the support portion 21.
  • the fixed electrode 20 is formed in a comb shape.
  • the comb-like electrodes 19 and 20 mesh with each other so as to face each other in the Y direction, thereby forming a second capacitor.
  • the capacitance of the second capacitor is changed by the displacement of the frame portion 18b (movable electrode 19) in the Y direction.
  • two regions are formed between the portion along the Y direction in the frame portion 18b and the first sensor unit 14, but one region (hereinafter referred to as the left region) located on the left side of the paper surface.
  • the movable electrode 19 is located below the opposed fixed electrode 20 on the paper surface, and the movable electrode 19 located on the other region located on the right side of the paper (hereinafter referred to as the right region)
  • the fixed electrode 20 is positioned above the paper surface. Therefore, when the frame portion 18b moves downward in the drawing, the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 located in the left region are displaced away from each other, while the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 located in the right region are displaced. Are displaced toward each other.
  • the increase and decrease of the electrostatic capacitances of the second capacitor constituted by the electrodes 19 and 20 in the left region and the second capacitor constituted by the electrodes 19 and 20 in the right region are reversed.
  • the acceleration in the Y direction is detected based on the difference in capacitance between these two second capacitors.
  • the semiconductor substrate 10 passes through a center point that is its own geometric and mass center and is parallel to the X direction, and its own geometric and mass center. Are symmetrical with respect to each of the second reference lines L2 parallel to the Y direction.
  • Each of the sensor units 14 and 15 is also symmetrical with respect to the first reference line L1 and the second reference line L2.
  • the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 shown in the present embodiment are not symmetrical with respect to the reference lines L1 and L2.
  • the masses and numbers of the electrodes 19 and 20 are symmetric with respect to the reference lines L1 and L2, respectively, and the total mass is much smaller than that of the weight portion 18. Therefore, the thermal strain generated in the semiconductor substrate 10 to be described later is hardly affected.
  • the sensor parts 14 and 15 are arranged in a nested manner in a mode in which the first sensor part 14 is arranged in an area surrounded by the frame part 18b of the second sensor part 15. .
  • the first anchor 23 and the second anchor 24 are aligned with the first reference line L1 and the second reference line L2.
  • a plurality of sensor units 14 and 15 are formed on one semiconductor substrate 10, and the sensor units 14 and 15 and the semiconductor substrate 10 are respectively connected to the first reference line L1 and the second reference line L2. It has a line-symmetric shape.
  • the sensor unit is axisymmetric with respect to the first reference line L1, is asymmetric with respect to the second reference line L2, and is asymmetric with respect to the first reference line L1, and the second reference line L2 Unlike the configuration in which each of the sensor portions that are line-symmetric with respect to each other is formed on one semiconductor substrate, even if thermal distortion occurs in the semiconductor substrate 10 due to a temperature change, the distortion is generated between the first reference line L1 and the second reference line L1. It is expected to be symmetric with respect to each reference line L2. Therefore, the thermal stress generated due to the distortion is suppressed from being anisotropically applied to the sensor units 14 and 15, and the decrease in the detection accuracy of the physical quantity of the sensor units 14 and 15 is suppressed. The Moreover, it is suppressed that a difference arises in the detection accuracy of the physical quantity of each sensor part 14 and 15.
  • Sensor units 14 and 15 are arranged in a nested manner. According to this, an increase in the physique of the sensor device 100 is suppressed compared to a configuration in which each sensor unit is simply formed side by side on the semiconductor substrate. Moreover, since the physique of each sensor part 14 and 15 differs, the magnitude
  • the anchors 23 and 24 are aligned with the first reference line L1 and the second reference line L2. According to this, the shape of the sensor parts 14 and 15 is simplified compared with the structure in which the plurality of anchors are not located on the first reference line L1 and the second reference line L2, respectively.
  • the distortion is expected to be symmetric with respect to the first reference line L1 and the second reference line L2.
  • the increase and decrease in the capacitance of each of the two first capacitors arranged symmetrically with respect to the first reference line L1 is reversed, and the electrostatic capacitances of these two first capacitors are reversed. Based on the difference in capacitance, the acceleration in the X direction is detected. Further, the increase and decrease in the capacitance of each of the two second capacitors arranged symmetrically with respect to the second reference line L2 is reversed, and based on the difference in the capacitance between these two second capacitors, X Directional acceleration is detected. According to these, errors caused by thermal stress are canceled.
  • the first anchors 23 are aligned with the second anchors 24 in the Y direction via minute gaps. That is, in the sensor part having the smallest shape, the first anchor 23 is aligned with the second anchor 24 via a minute gap.
  • the sensor part having the smallest shape is also referred to as an inner sensor part. According to this, compared with the configuration in which the first anchor and the second anchor are separated from each other, the amount of distortion generated in each of the anchors 23 and 24 due to the thermal stress generated due to the thermal distortion of the semiconductor substrate 10 is approximately the same. can do.
  • the amount of distortion of each of the electrodes 19 and 20 suspended on the anchors 23 and 24 becomes substantially the same, and the variation in the facing area and the spacing between the electrodes 19 and 20 is suppressed. As a result, a decrease in acceleration detection accuracy is suppressed.
  • the example in which the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 are not symmetric with respect to the reference lines L1 and L2 is shown.
  • FIG. 1 an example is shown in which the second semiconductor layer 12 and the insulating layer 13 are not formed in a region away from the second sensor unit 15.
  • a surrounding portion in which the second semiconductor layer 12 is connected to the first semiconductor layer 11 by the insulating layer 13 is formed in a region away from the second sensor portion 15 and surrounds each of the sensor portions 14 and 15.
  • the configuration can also be adopted.
  • first anchor 23 that supports the frame portion 18b is arranged outside the region surrounded by the frame portion 18b of the second sensor unit 15 is shown.
  • first anchor 23 that supports the frame portion 18 b is arranged in the region surrounded by the frame portion 18 b of the second sensor portion 15 may be employed.
  • the frame portion 18 b of the second sensor portion 15 having the largest shape among the plurality of sensor portions 14 and 15 has a shape along the edge that borders the one surface 10 a of the semiconductor substrate 10. It is made.
  • the second sensor unit 15 having the largest shape is also referred to as an outer sensor unit. According to this, compared with the configuration in which the frame portion of the sensor portion having the largest shape does not follow the edge portion constituting one surface of the semiconductor substrate, the sensor portion having the largest shape in the region where the sensor portions 14 and 15 are not formed. Formation outside the region surrounded by the frame portion is suppressed. Therefore, an increase in the physique of the sensor device 100 is suppressed. Furthermore, in the modification shown in FIG.
  • the area of the region surrounded by the frame portion 18b is slightly smaller than the area of the one surface 10a. According to this, it is further effectively suppressed that the area where the sensor parts 14 and 15 are not formed is formed outside the area surrounded by the frame part of the sensor part having the largest shape. The increase is further effectively suppressed.
  • FIG. 1 an example in which the support portion 21 that supports the fixed electrode 20 is directly connected to the second anchor 24 is shown.
  • the support portion 21 is attached to the second anchor 24 via the second beam portion 27 having spring properties in a direction perpendicular to the direction in which the movable electrode 19 and the fixed electrode 20 face each other.
  • An indirectly connected configuration can also be employed. According to this, it is possible to suppress the fixed electrode 20 from being distorted by the thermal stress caused by the thermal strain of the semiconductor substrate 10. Therefore, it is suppressed that the detection accuracy of acceleration falls.
  • the second beam portion 27 is formed on the second anchor 24 of the second sensor portion 15 in the modification shown in FIG. 5, an example in which the second beam portion 27 is formed on the second anchor 24 of the second sensor portion 15 is shown.
  • a configuration in which the second beam portion 27 is formed on the second anchor 24 of the first sensor portion 14 may be employed.
  • the second beam portion 27 is connected to the surface of the second anchor 24 of the first sensor unit 14 that is opposite to the surface facing the first anchor 23.
  • the 1st anchor 23 is located in a line with the 2nd anchor 24 in the Y direction via a minute gap.
  • each second beam portion 27 is also referred to as a second sub beam portion. According to this, the distortion of the fixed electrode 20 due to the thermal stress caused by the thermal strain of the semiconductor substrate 10 is further effectively suppressed. Therefore, it is suppressed that the detection accuracy of acceleration falls.
  • FIGS. 8 and 9 an example in which the first sensor unit 14 that detects the acceleration in the X direction and the second sensor unit 15 that detects the acceleration in the Y direction are formed on the semiconductor substrate 10 is shown.
  • a configuration in which a third sensor unit 28 that detects acceleration in the Z direction is formed on the semiconductor substrate 10 in addition to the sensor units 14 and 15 described above may be employed. it can.
  • the floating portion 16 of the third sensor portion 28 includes a frame portion 18c that forms the center of mass, and a third beam portion 29 that has a spring property in the Z direction.
  • the fixing portion 17 of the third sensor unit 28 includes a third anchor 30 that supports the frame portion 18 c on the first semiconductor layer 11 via the third beam portion 29.
  • the frame portion 18c also has a function as the movable electrode 19 shown in the present embodiment, and the frame portion 18c faces the fixed electrode 20 formed in the first semiconductor layer 11 in the Z direction.
  • the semiconductor substrate 10 shown in this modification is formed by bonding a plurality of wafers, and each of the layers 11 to 13 is not a single layer.
  • the floating portion 16 has a first drive electrode 31 formed on the weight portion 18 and a second drive electrode 32 that faces the first drive electrode 31 in a direction orthogonal to the direction in which the electrodes 19 and 20 face each other. And having. A constant voltage is applied to the weight portion 18, and a voltage whose polarity is periodically reversed is applied to the second drive electrode 32. As a result, the weight portion 18 vibrates in a direction perpendicular to the direction in which the electrodes 19 and 20 face each other.
  • each of the first sensor unit 14 and the second sensor unit 15 detects an angular velocity in the Z direction, but the spring constants of the first beam units 22 included in the first sensor unit 14 and the second sensor unit 15 are different. For this reason, the detection ranges of the sensor units 14 and 15 are different.
  • an acceleration sensor and an angular velocity sensor are formed on the semiconductor substrate 10 may be employed.
  • a configuration is adopted in which a lid 33 is formed between the semiconductor substrate 10 and a storage space for storing the sensor portions 14 and 15 by being attached to one surface 10 a of the semiconductor substrate 10. You can also. According to this, since the semiconductor substrate 10 is supported by the lid portion 33, the lid portion 33 is attached to the semiconductor substrate 10 as shown in FIG. 13 and FIG. As compared with the configuration without the thermal distortion, the semiconductor substrate 10 is suppressed from being thermally strained. Therefore, it is suppressed that the thermal stress generated due to the thermal strain is applied to the sensor units 14 and 15. Note that the length indicated by the arrow in FIGS. 13 and 14 indicates the distortion of the semiconductor substrate 10 in the Z direction.
  • the lid portion 33 and the semiconductor substrate 10 are mechanically connected via an oxide film 34, and the oxide film 34 is formed on the second semiconductor layer 12 constituting the fixing portion 17.
  • the oxide film 34 is formed on the second semiconductor layer 12 constituting the fixing portion 17.
  • a conductive metal film or low-melting glass can be used to fix the lid 33 and the semiconductor substrate 10.

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Abstract

 センサ装置は、半導体基板と複数のセンサ部を有する。複数のセンサ部は、前記半導体基板の一面側に配置され、物理量を電気信号に変換する。前記一面は、互いに直交するX方向とY方向とによって規定される規定平面に平行である。前記半導体基板は、幾何学的及び質量的中心である中心点を有する。前記半導体基板は、前記中心点を通り、前記X方向に平行する第1基準線、及び、前記中心点を通り、前記Y方向に平行する第2基準線それぞれに対して線対称な形状である。前記複数のセンサ部それぞれは、前記第1基準線と前記第2基準線それぞれに対して線対称な形状である。

Description

センサ装置 関連出願の相互参照
 本開示は、2012年5月15日に出願された日本出願番号2012-111826号と2013年2月14日に出願された日本出願番号2013-026974号に基づくもので、ここにその記載内容を援用する。
 本開示は、半導体基板と、該半導体基板の一面側に形成された、物理量を電気信号に変換するセンサ部と、を有するセンサ装置に関するものである。
 従来、例えば特許文献1に示されるように、基板と、基板上に形成された支持部と、基板から浮遊した状態で支持部に支持された可動電極と、基板上に形成された固定電極と、を備える静電容量型加速度センサが提案されている。上記した支持部、可動電極、及び、固定電極(以下、これらをまとめてセンサ部と示す)は、基板の一面上に形成されており、この一面は、X方向とY方向とによって規定される規定平面に平行となっている。
 ところで、特許文献1に示される静電容量型加速度センサは、自身の中心を通り、X方向に沿う第1方向、及び、自身の中心を通り、Y方向に沿う第2方向それぞれに対して線対称な構造を成している。そのため、温度変化によって基板に熱歪みが生じたとしても、その歪みは、第1方向と第2方向それぞれに対して対称となることが期待され、その歪みに起因して生じる熱応力が、センサ部に異方的に印加されることが抑制される。これにより、上記した熱応力によって、加速度の検出精度が低下することが抑制される。
 しかしながら、上記した静電容量型加速度センサの有するセンサ部が、1つの基板に、複数形成された構成の場合、センサ部それぞれは、上記した第1方向、及び、第2方向それぞれに対して線対称とはならない。例えば、第1方向に対して線対称であり、第2方向に対して非対称なセンサ部や、第1方向に対して非対称であり、第2方向に対して線対称なセンサ部それぞれが、1つの基板に形成された構成となる。そのため、温度変化によって基板に熱歪みが生じると、その歪みは、第1方向と第2方向それぞれに対して非対称となる。この結果、その歪みに起因して生じる熱応力が、各センサ部に異方的に印加され、各センサ部の加速度の検出精度が低下する虞がある。また、各センサ部の加速度の検出精度に差が生じる虞がある。
特開2002-82127号公報
 本開示は、上記点に鑑みてなされたものであり、その目的は、物理量の検出精度の低下が抑制されたセンサ装置を提供することを目的とする。
 本開示の一態様によるセンサ装置は、半導体基板と複数のセンサ部を有する。複数のセンサ部は、前記半導体基板の一面側に配置され、物理量を電気信号に変換する。前記一面は、互いに直交するX方向とY方向とによって規定される規定平面に平行である。前記半導体基板は、幾何学的及び質量的中心である中心点を有する。前記半導体基板は、前記中心点を通り、前記X方向に平行する第1基準線、及び、前記中心点を通り、前記Y方向に平行する第2基準線それぞれに対して線対称な形状である。前記複数のセンサ部それぞれは、前記第1基準線と前記第2基準線それぞれに対して線対称な形状である。
 上記センサ装置によると、物理量の検出精度の低下が抑制される。
 本開示についての上記目的およびその他の目的、特徴や利点は、添付の図面を参照しながら下記の詳細な記述により、より明確になる。その図面は、
図1は、本開示の第1実施形態に係るセンサ装置の概略構成を示す上面図であり、 図2は、図1のII-II線に沿う断面図であり、 図3は、図1のIII-III線に沿う断面図であり、 図4は、センサ装置の変形例を示す上面図であり、 図5は、センサ装置の変形例を示す上面図であり、 図6は、センサ装置の変形例を示す上面図であり、 図7は、センサ装置の変形例を示す上面図であり、 図8は、センサ装置の変形例を示す上面図であり、 図9は、図8のIX-IX線に沿う断面図であり、 図10は、加速度が印加された際の変位状態を示す断面図であり、 図11は、加速度が印加された際の変位状態を示す断面図であり、 図12は、センサ装置の変形例を示す上面図であり、 図13は、蓋部が半導体基板に貼り付けられた場合における、半導体基板に生じる熱歪みを示す断面図であり、 図14は、蓋部が半導体基板に貼り付けられていない場合における、半導体基板に生じる熱歪みを示す断面図である。
 以下、本開示の一実施形態による半導体基板と、該半導体基板の一面に近い部位に形成された、物理量を電気信号に変換するセンサ部と、を有するセンサ装置に関して図面を参照しながら説明する。本開示において、センサ部は、加速度センサを有する。
(第1実施形態)
 図1~図3に基づいて、第1実施形態に係るセンサ装置を説明する。なお、以下においては、互いに直交の関係にある2方向をX方向、Y方向と示し、これら2つの方向に直交する方向をZ方向と示す。
 図1に示すように、センサ装置100は、半導体基板10に微細構造が形成されたものである。図2及び図3に示すように、半導体基板10は、第1半導体層11,第2半導体層12の間に絶縁層13が挟まれて成るSilicon On Insulator(SOI)基板であり、この半導体基板10の一面10aに近い部位に、上記した微細構造に相当するセンサ部14,15が形成されている。つまり、半導体基板10は、一面10aから反対側に位置するもう1つの面に向かう方向に、第2半導体層12,絶縁層13、第1半導体層11を有し、第2半導体層12により、センサ部14,15が提供されている。なお、一面10aは、X方向とY方向とによって規定される規定平面に平行となっている。
 センサ部14,15は、周知の露光技術を用いて、第2半導体層12と絶縁層13とを所定形状にエッチングすることで形成される。センサ部14,15は、絶縁層13を介さずに、第1半導体層11に対して第2半導体層12が浮いた浮遊部16と、絶縁層13を介して、第1半導体層11に対して第2半導体層12が固定された固定部17と、を有する。即ち、センサ部14,15は、半導体基板10の第2半導体層12により提供されている。
 浮遊部16は、質量中心を成す錘部18、該錘部18に形成された可動電極19、該可動電極19と対向する固定電極20、固定電極20を支持する支持部21、及び、電極19,20が互いに対向する方向にバネ性を有する第1梁部22を有する。
 固定部17は、錘部18を支持する第1アンカー23、及び、支持部21を支持することで、固定電極20を支持する第2アンカー24を有する。第1アンカー23には一定電圧を入力するための第1パッド25が形成され、第2アンカー24には、可動電極19と固定電極20とによって構成されるコンデンサの静電容量変化を外部素子(図示略)に出力するための第2パッド26が形成されている。加速度がセンサ装置100に印加されると、その印加された加速度の大きさに応じて錘部18(可動電極19)が変位し、その変位量が、上記したコンデンサの静電容量に変換される。この変換された静電容量が、物理量(加速度)の検出信号として、第2パッド26を介して外部素子に出力される。
 図1~図3に示すように、第1センサ部14と第2センサ部15とは、それぞれ形状が異なる。そのため、先ず、第1センサ部14について説明した後、第2センサ部15について説明する。
 第1センサ部14の錘部18は、X方向に長手方向が沿う第1アンカー23の周囲を囲む枠部18aを有する。アンカー23と枠部18aとは、アンカー23の両端それぞれに連結された、X方向にバネ性を有する第1梁部22を介して連結されている。この構成により、枠部18aがX方向に変位可能となっている。
 図1に示すように、第1アンカー23と第1梁部22とによって、枠部18aによって囲まれた領域が二等分され、二等分された領域は、半導体基板10の幾何学的及び質量的中心である中心点を通り、X方向に平行する第1基準線L1に対して対称配置されている。そして、二等分された領域それぞれに、可動電極19と、固定電極20と、固定電極20を支持する支持部21と、が配置されている。枠部18aにおけるX方向に沿う部位の内面から、Y方向に長手方向が沿う可動電極19が櫛歯状に形成され、支持部21における枠部18aとの対向面から、Y方向に長手方向が沿う固定電極20が櫛歯状に形成されている。そして、X方向にて互いに対向するように、櫛歯状の電極19,20が互いに噛み合わさり、第1コンデンサが構成されている。第1コンデンサの静電容量は、枠部18a(可動電極19)のX方向への変位によって変動される。
 上記したように、枠部18aによって囲まれた領域は、第1アンカー23と第1梁部22とによって二等分されているが、紙面上方に位置する一方の領域(以下、上領域と示す)に位置する可動電極19は、対向する固定電極20よりも紙面左方に位置し、紙面下方に位置する他方の領域(以下、下領域と示す)に位置する可動電極19は、対向する固定電極20よりも紙面右方に位置している。そのため、枠部18aが紙面右方向に移動した場合、上領域に位置する可動電極19と固定電極20とが、互いに離れるように変位する一方、下領域に位置する可動電極19と固定電極20とは、互いに近づくように変位する。そのため、上領域の電極19,20によって構成される第1コンデンサと、下領域の電極19,20によって構成される第1コンデンサそれぞれの静電容量の増減が逆となる。本実施形態では、これら2つの第1コンデンサの静電容量の差分に基づいて、X方向の加速度を検出している。なお、第1センサ部14では、第1アンカー23が半導体基板10の中心に位置し、第2アンカー24と微小な空隙(アンカー23,24を区画するための空隙)を介してY方向に並んでいる。
 次に、第2センサ部15について説明する。第2センサ部15の錘部18は、第1センサ部14の周囲を囲む枠部18bを有する。枠部18bによって囲まれた領域の外に、第1アンカー23が配置され、枠部18bにおけるX方向に沿う部位と第1アンカー23とが、Y方向にバネ性を有する第1梁部22を介して連結されている。この構成により、枠部18bがX方向に変位可能となっている。
 また、枠部18bにおけるY方向に沿う部位と第1センサ部14との間に矩形状の2つの領域(破線で囲まれた領域)が形成され、これら2つの領域は、半導体基板10の幾何学的及び質量的中心である中心点を通り、Y方向に平行する第2基準線L2に対して対称配置されている。そして、これら2つの領域それぞれに、可動電極19と、固定電極20と、固定電極20を支持する支持部21と、が配置されている。枠部18bにおけるY方向に沿う部位の内面から、X方向に長手方向が沿う可動電極19が櫛歯状に形成され、支持部21における枠部18bとの対向面から、X方向に長手方向が沿う固定電極20が櫛歯状に形成されている。そして、Y方向にて互いに対向するように、櫛歯状の電極19,20が互いに噛み合わさり、第2コンデンサが構成されている。第2コンデンサの静電容量は、枠部18b(可動電極19)のY方向への変位によって変動される。
 なお、上記したように、枠部18bにおけるY方向に沿う部位と第1センサ部14との間に2つの領域が形成されているが、紙面左方に位置する一方の領域(以下、左領域と示す)に位置する可動電極19は、対向する固定電極20よりも紙面下方に位置し、紙面右方に位置する他方の領域(以下、右領域と示す)に位置する可動電極19は、対向する固定電極20よりも紙面上方に位置している。そのため、枠部18bが紙面下方向に移動した場合、左領域に位置する可動電極19と固定電極20とが、互いに離れるように変位する一方、右領域に位置する可動電極19と固定電極20とは、互いに近づくように変位する。そのため、左領域の電極19,20によって構成される第2コンデンサと、右領域の電極19,20によって構成される第2コンデンサそれぞれの静電容量の増減が逆となる。本実施形態では、これら2つの第2コンデンサの静電容量の差分に基づいて、Y方向の加速度を検出している。
 次に、本実施形態に係るセンサ装置100の特徴点を説明する。図1に示すように、半導体基板10は、自身の幾何学的及び質量的中心である中心点を通り、X方向に平行する第1基準線L1、及び、自身の幾何学的及び質量的中心である中心点を通り、Y方向に平行する第2基準線L2それぞれに対して線対称な形状となっている。そして、センサ部14,15それぞれも、第1基準線L1と第2基準線L2それぞれに対して線対称な形状となっている。なお、本実施形態で示した可動電極19と固定電極20は、厳密に言えば、基準線L1,L2それぞれに対して対称とはなっていない。しかしながら、電極19,20それぞれの質量と数は、基準線L1,L2それぞれに対して対称となっており、その総質量は、錘部18と比較して、ずいぶんと小さい。そのため、後述する、半導体基板10に生じる熱歪みには、ほとんど影響を及ぼさない。
 更に、本実施形態では、第2センサ部15の枠部18bによって囲まれた領域内に、第1センサ部14が配置される態様で、センサ部14,15が、入れ子状に配置されている。また、第1アンカー23及び第2アンカー24は、第1基準線L1及び第2基準線L2に並んでいる。
 次に、本実施形態に係るセンサ装置100の作用効果を説明する。上記したように、1つの半導体基板10に複数のセンサ部14,15が形成され、これらセンサ部14,15と半導体基板10それぞれが、第1基準線L1と第2基準線L2それぞれに対して線対称な形状となっている。これによれば、第1基準線L1に対して線対称であり、第2基準線L2に対して非対称なセンサ部や、第1基準線L1に対して非対称であり、第2基準線L2に対して線対称なセンサ部それぞれが、1つの半導体基板に形成された構成とは異なり、温度変化によって半導体基板10に熱歪みが生じたとしても、その歪みは、第1基準線L1と第2基準線L2それぞれに対して対称となることが期待される。したがって、その歪みに起因して生じる熱応力が、各センサ部14,15に対して異方的に印加されることが抑制され、各センサ部14,15の物理量の検出精度の低下が抑制される。また、各センサ部14,15の物理量の検出精度に差が生じることが抑制される。
 センサ部14,15が、入れ子状に配置されている。これによれば、各センサ部が単に半導体基板に並んで形成された構成と比べて、センサ装置100の体格の増大が抑制される。また、各センサ部14,15の体格が異なるので、各センサ部14,15の構成要素の大きさも異なることとなる。そのため、各センサ部14,15の検出レンジを異ならせることもできる。
 アンカー23,24は、第1基準線L1及び第2基準線L2に並んでいる。これによれば、複数のアンカーが、第1基準線L1及び第2基準線L2それぞれに位置していない構成と比べて、センサ部14,15の形状が簡素化される。
 上記したように、温度変化によって半導体基板10に熱歪みが生じたとしても、その歪みは、第1基準線L1と第2基準線L2それぞれに対して対称となることが期待される。これに対して、本実施形態では、第1基準線L1に対して対称配置された2つの第1コンデンサそれぞれの静電容量の増減が逆となっており、これら2つの第1コンデンサの静電容量の差分に基づいて、X方向の加速度を検出している。また、第2基準線L2に対して対称配置された2つの第2コンデンサそれぞれの静電容量の増減が逆となっており、これら2つの第2コンデンサの静電容量の差分に基づいて、X方向の加速度を検出している。これらによれば、熱応力によって生じた誤差が、キャンセルされる。
 第1センサ部14では、第1アンカー23が、第2アンカー24と微小な空隙を介してY方向に並んでいる。即ち、最も形状の小さいセンサ部において、第1アンカー23が、第2アンカー24と微小な空隙を介して並んでいる。最も形状の小さいセンサ部は、内側センサ部とも称する。これによれば、第1アンカーと第2アンカーとが離れた構成と比べて、半導体基板10の熱歪みに起因して生じる熱応力による、アンカー23,24それぞれに生じる歪みの量を同程度とすることができる。これにより、アンカー23,24に懸架された電極19,20それぞれの歪み量も同程度となり、電極19,20の対向面積や対向間隔の変動が抑制される。この結果、加速度の検出精度の低下が抑制される。
 以上、本開示の好ましい実施形態について説明したが、本開示は上記した実施形態になんら制限されることなく、本開示の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
 本実施形態では、可動電極19と固定電極20は、厳密に言えば、基準線L1,L2それぞれに対して対称とはなっていない例を示した。しかしながら、可動電極19と固定電極20が、厳密に、基準線L1,L2それぞれに対して対称な構成を採用することもできる。
 本実施形態では、図1に示すように、第2センサ部15から離れた領域に、第2半導体層12と絶縁層13とが形成されていない例を示した。しかしながら、図示しないが、第2センサ部15から離れた領域に、センサ部14,15それぞれを囲む、絶縁層13によって第1半導体層11に第2半導体層12が連結された囲み部が形成された構成を採用することもできる。
 本実施形態では、第2センサ部15の枠部18bによって囲まれた領域の外に、枠部18bを支持する第1アンカー23が配置された例を示した。しかしながら、図4に示すように、第2センサ部15の枠部18bによって囲まれた領域の内に、枠部18bを支持する第1アンカー23が配置された構成を採用することもできる。
 図4に示す変形例の場合、複数のセンサ部14,15の内で、最も形状の大きい第2センサ部15の枠部18bは、半導体基板10の一面10aを縁取る縁部に沿う形状を成している。最も形状の大きい第2センサ部15は、外側センサ部とも称する。これによれば、最も形状の大きいセンサ部の枠部が、半導体基板の一面を構成する縁部に沿わない構成と比べて、センサ部14,15の形成されない領域が、最も形状の大きいセンサ部の枠部によって囲まれた領域外に形成されることが抑制される。したがって、センサ装置100の体格の増大が抑制される。更に、図4に示す変形例では、枠部18bによって囲まれた領域の面積が、一面10aの面積よりも若干小さい構成となっている。これによれば、センサ部14,15の形成されない領域が、最も形状の大きいセンサ部の枠部によって囲まれた領域外に形成されることが更に効果的に抑制され、センサ装置100の体格の増大が更に効果的に抑制される。
 本実施形態では、図1に示すように、固定電極20を支持する支持部21が、第2アンカー24に直接連結された例を示した。しかしながら、図5に示すように、支持部21が、可動電極19と固定電極20とが対向する方向とは垂直な方向にバネ性を有する第2梁部27を介して、第2アンカー24に間接的に連結された構成を採用することもできる。これによれば、半導体基板10の熱歪みに起因して生じる熱応力によって、固定電極20が歪むことが抑制される。そのため、加速度の検出精度が低下することが抑制される。
 なお、図5に示す変形例では、第2センサ部15の第2アンカー24に第2梁部27が形成された例を示した。しかしながら、図6に示すように、第1センサ部14の第2アンカー24に第2梁部27が形成された構成を採用することもできる。図6に示す変形例では、第1センサ部14が有する第2アンカー24における第1アンカー23との対向面とは反対側の面に、第2梁部27が連結されている。これにより、第1センサ部14では、第1アンカー23が、第2アンカー24と微小な空隙を介してY方向に並んでいる。これによれば、本実施形態で示したように、第1アンカーと第2アンカーとが離れた構成と比べて、アンカー23,24に懸架された電極19,20の対向面積や対向間隔の変動が抑制される。これにより、加速度の検出精度の低下が抑制される。
 図5及び図6に示す変形例では、第2アンカー24に1つの第2梁部27が形成された例を示した。しかしながら、第2梁部27の数としては、上記例に限定されず、例えば、図7に示すように、2つの第2梁部27が第2アンカー24に形成された構成を採用することもできる。複数の第2梁部27が形成された構造では、それぞれの第2梁部27は、第2サブ梁部とも称する。これによれば、半導体基板10の熱歪みに起因して生じる熱応力によって、固定電極20が歪むことが更に効果的に抑制される。そのため、加速度の検出精度が低下することが抑制される。
 本実施形態では、X方向の加速度を検出する第1センサ部14と、Y方向の加速度を検出する第2センサ部15とが、半導体基板10に形成された例を示した。しかしながら、図8及び図9に示すように、半導体基板10に、上記したセンサ部14,15の他に、Z方向の加速度を検出する第3センサ部28が形成された構成を採用することもできる。
 第3センサ部28の浮遊部16は、質量中心を成す枠部18cと、Z方向にバネ性を有する第3梁部29と、を有する。そして、第3センサ部28の固定部17は、第3梁部29を介して、枠部18cを第1半導体層11上に支持する第3アンカー30を有する。枠部18cは、本実施形態で示した可動電極19としての機能も有しており、枠部18cは、第1半導体層11に形成された固定電極20とZ方向にて対向している。以上の構成により、紙面上方に加速度が印加されると、図10に破線で示すように、枠部18cは紙面下方に変位し、枠部18cと固定電極20とは、互いに近づくように変位する。これとは反対に、紙面下方に加速度が印加されると、図11に破線で示すように、枠部18cは紙面上方に変位し、枠部18cと固定電極20とは、互いに離れるように変位する。なお、この変形例に示される半導体基板10は、複数のウェハを接合されることで形成され、各層11~13は単層ではない。
 本実施形態では、センサ部14,15がそれぞれ加速度を検出する例を示した。しかしながら、例えば、図12に示すように、センサ部14,15がそれぞれ角速度を検出する構成を採用することもできる。この場合、浮遊部16は、錘部18に形成された第1駆動電極31と、電極19,20が対向する方向とは直交する方向にて第1駆動電極31と対向する第2駆動電極32と、を有する。錘部18に、一定電圧が印加され、第2駆動電極32に、周期的に極性が反転する電圧が印加される。これにより、錘部18は電極19,20が対向する方向とは直交する方向に振動するため、Z方向に角速度が印加されると、電極19,20が対向する方向に沿うコリオリ力が錘部18に生じる。この結果、電極19,20によって構成されるコンデンサの静電容量が変動する。これにより、変動した静電容量に基づいて、角速度を検出することができる。なお、この変形例の場合、第1センサ部14と第2センサ部15それぞれは、Z方向の角速度を検出するが、それぞれが有する第1梁部22のバネ定数が異なっている。このため、各センサ部14,15の検出レンジが異なっている。
 なお、図示しないが、加速度センサと角速度センサがそれぞれ半導体基板10に形成された構成を採用することもできる。
 図13に示すように、半導体基板10の一面10aに貼り付けることで、半導体基板10との間に、センサ部14,15を収納する収納空間を形成する蓋部33を有する構成を採用することもできる。これによれば、半導体基板10が蓋部33によって支持されるので、図13及び図14に破線で熱によって歪んだ半導体基板10を示すように、半導体基板10に蓋部33が貼り付けられていない構成と比べて、半導体基板10に熱歪みが生じることが抑制される。そのため、熱歪みに起因して生じる熱応力が、各センサ部14,15に印加されることが抑制される。なお、図13及び図14にて矢印で示される長さは、半導体基板10のZ方向の歪みを示している。また、蓋部33と半導体基板10とは、酸化膜34を介して機械的に連結されており、固定部17を構成する第2半導体層12に酸化膜34が形成されている。なお、図示しないが、蓋部33と半導体基板10との固定には、絶縁性を有する酸化膜34だけではなく、導電性を有する金属膜や低融点ガラスを採用することもできる。
 本開示は、実施例に準拠して記述されたが、本開示は当該実施例や構造に限定されるものではないと理解される。本開示は、様々な変形例や均等範囲内の変形をも包含する。加えて、様々な組み合わせや形態、さらには、それらに一要素のみ、それ以上、あるいはそれ以下、を含む他の組み合わせや形態をも、本開示の範疇や思想範囲に入るものである。

Claims (10)

  1.  半導体基板(10)と、
     該半導体基板の一面(10a)側に配置された、物理量を電気信号に変換する複数のセンサ部(14,15,28)とを有するセンサ装置であって、
     前記一面は、互いに直交するX方向とY方向とによって規定される規定平面に平行であり、
     前記半導体基板は、幾何学的及び質量的中心である中心点を有し、
     前記半導体基板は、前記中心点を通り、前記X方向に平行する第1基準線(L1)、及び、前記中心点を通り、前記Y方向に平行する第2基準線(L2)それぞれに対して線対称な形状であり、
     前記複数のセンサ部それぞれは、前記第1基準線と前記第2基準線それぞれに対して線対称な形状であるセンサ装置。
  2.  前記複数のセンサ部それぞれは枠部(18a~18c)を有し、
     前記複数のセンサ部それぞれの有する枠部の大きさは各々異なっており、
     前記複数のセンサ部の1つの枠部によって囲まれた領域内に、前記複数のセンサ部の内他の少なくとも1つが配置される態様で、前記複数のセンサ部それぞれが、入れ子状に配置されている請求項1に記載のセンサ装置。
  3.  前記複数のセンサ部は、最も形状の大きい外側センサ部を有し、
     前記外側センサ部の枠部は、前記半導体基板の前記一面の縁部に沿うように配置される請求項2に記載のセンサ装置。
  4.  前記半導体基板は、前記一面の反対側に位置する他の面を有し、
     前記半導体基板は前記一面から前記他の面に向かう方向に配置された第2半導体層(12)、絶縁層(13)、第1半導体層(11)を有し、
     前記絶縁層は、前記第1半導体層と第2半導体層により挟まれ、
     前記複数のセンサ部のそれぞれは、浮遊部(16)と固定部(17)を有し、
     前記浮遊部は、前記第2半導体層の一部により提供され、前記絶縁層を介さずに、前記第1半導体層に対して浮いており、
     前記固定部は、前記第2半導体層の他の一部により提供され、前記絶縁層を介して、前記第1半導体層に対して固定され、
     前記浮遊部は、前記枠部、該枠部の所定部位から突出した可動電極(19)、該可動電極と対向する固定電極(20)、前記可動電極と前記固定電極とが対向する方向にバネ性を有する第1梁部(22)、及び、前記可動電極と前記固定電極とが対向する方向とは垂直な方向にバネ性を有する第2梁部(27)を有し、
     前記固定部は、前記枠部を支持する第1アンカー(23)、及び、前記固定電極を支持する第2アンカー(24)を有し、
     前記第1アンカーと前記枠部とは、前記第1梁部を介して連結され、
     前記第2アンカーと前記固定電極とは、前記第2梁部を介して連結されている請求項2又は請求項3に記載のセンサ装置。
  5.  前記第1アンカー及び前記第2アンカーそれぞれは、前記第1基準線及び前記第2基準線の少なくともいずれか一方に沿って並んでいる請求項4に記載のセンサ装置。
  6.  前記複数のセンサ部は、最も形状の小さい内側センサ部を有し、
     前記内側センサ部の前記第1アンカーと前記第2アンカーは、空隙を介して前記第1基準線及び前記第2基準線のいずれか一方に沿って並んでおり、
     前記内側センサ部において、前記第2梁部は、前記第2アンカーにおける前記第1アンカーとの対向面とは反対側の面に連結されている請求項4又は請求項5に記載のセンサ装置。
  7.  前記第2梁部は複数の第2サブ梁部を有し、
     前記第2アンカーと前記固定電極は、前記複数の第2サブ梁部を介して連結されている請求項4又は請求項5に記載のセンサ装置。
  8.  前記半導体基板の前記一面に配置され、前記半導体基板との間に、前記センサ部を収納する収納空間を規定する蓋部(33)をさらに有する請求項1~7いずれか1項に記載のセンサ装置。
  9.  前記複数のセンサ部は、少なくとも1つの加速度センサを有する請求項1~8いずれか1項に記載のセンサ装置。
  10.  前記複数のセンサ部は、少なくとも1つの角速度センサを有する請求項1~9いずれか1項に記載のセンサ装置。
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